KR102156057B1 - Display Panel For Display Device - Google Patents
Display Panel For Display Device Download PDFInfo
- Publication number
- KR102156057B1 KR102156057B1 KR1020130153145A KR20130153145A KR102156057B1 KR 102156057 B1 KR102156057 B1 KR 102156057B1 KR 1020130153145 A KR1020130153145 A KR 1020130153145A KR 20130153145 A KR20130153145 A KR 20130153145A KR 102156057 B1 KR102156057 B1 KR 102156057B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- display panel
- gip
- shorting bar
- touch electrode
- unit display
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
본 발명은 표시장치용 표시패널로서, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하되, 터치 전극 쇼팅바와 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성됨으로써, 대기판 상에서의 표시패널 배치효율을 높일 수 있고, 양 표시패널 사이의 이격 공간을 최소화함으로써 불량율을 감소시키며, 단일의 스크라이브 라인만으로 절단 공정이 가능하므로 공정이 단순하다는 효과가 있다. The present invention is a display panel for a display device, comprising a GIP shorting bar of a first unit display panel and a touch electrode shorting bar of a second unit display panel disposed in a spaced space between the unit display panels, the touch electrode shorting bar and the GIP shorting bar By forming different layers, the efficiency of arranging the display panels on the standby plate can be improved, the defect rate is reduced by minimizing the space between the two display panels, and the process is simple because the cutting process is possible with only a single scribe line. There is.
Description
본 발명은 표시장치용 표시패널에 관한 것으로서, 특히 터치 전극이 패널 내부에 위치하는 터치 일체형 표시패널에 관한 것이다. The present invention relates to a display panel for a display device, and more particularly, to a touch-integrated display panel in which a touch electrode is located inside the panel.
정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기전계발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device)와 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.As the information society develops, demands for display devices for displaying images are increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic electric fields Various display devices such as an OLED (Organic Light Emitting Diode Display Device) are being used.
이러한 표시장치 중 액정 표시장치(LCD)는 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 컬러필터 및/또는 블랙매트릭스 등을 구비한 상부기판과, 그 사이에 형성되는 액정물질층을 포함하여 구성되며, 화소 영역의 양 전극 사이에 인가되는 전계에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다.Among these display devices, a liquid crystal display (LCD) includes an array substrate including a thin film transistor, an upper substrate including a color filter and/or a black matrix, and a liquid crystal material layer formed therebetween. This is a device in which an image is displayed by adjusting the arrangement state of the liquid crystal layer according to the electric field applied between both electrodes of the region and adjusting the transmittance of light accordingly.
이러한 액정 표시장치의 표시패널은 사용자에게 이미지를 제공하는 표시 영역(active area, AA)과 상기 표시영역(AA)의 주변 영역인 비표시 영역(non-active area, NA)으로 정의되며, 표시 패널은 통상 박막 트랜지스터 등이 형성되어 화소영역이 정의되는 어레이기판인 제1기판과, 블랙매트릭스 및/또는 칼라필터층 등이 형성된 상부 기판으로서의 제2기판이 합착되어 제조된다.The display panel of such a liquid crystal display is defined as an active area (AA) that provides an image to a user and a non-active area (NA) that is a peripheral area of the display area AA. Typically, a thin film transistor or the like is formed to form a first substrate as an array substrate in which a pixel region is defined, and a second substrate as an upper substrate on which a black matrix and/or a color filter layer is formed are bonded to each other.
박막 트랜지스터가 형성되는 어레이기판 또는 제1기판은 다시, 제1방향으로 연장되는 다수의 게이트 라인(GL)과, 제1방향과 수직인 제2방향으로 연장되는 다수의 데이터 라인(DL)을 포함하며, 각각의 게이트 라인과 데이터 라인에 의하여 하나의 화소영역(Pixel; P)이 정의된다. 하나의 화소영역(P) 내에는 1 이상의 박막 트랜지스터가 형성되며, 각 박막 트랜지스터의 게이트 또는 소스 전극은 각각 게이트 라인 및 데이터 라인과 연결될 수 있다.The array substrate or the first substrate on which the thin film transistor is formed again includes a plurality of gate lines GL extending in the first direction and a plurality of data lines DL extending in a second direction perpendicular to the first direction. In addition, one pixel region P is defined by each gate line and data line. One or more thin film transistors are formed in one pixel region P, and a gate or source electrode of each thin film transistor may be connected to a gate line and a data line, respectively.
또한, 각 게이트 라인과 데이터 라인에 각 화소의 구동에 필요한 게이트 신호 및 데이트 신호를 제공하기 위하여 비표시영역 또는 패널 외부의 게이트 구동부(구동회로) 또는 데이터 구동회로 등이 포함된다.In addition, a gate driver (drive circuit) or a data driver circuit outside the non-display area or the panel is included to provide gate signals and data signals necessary for driving each pixel to each gate line and data line.
이 중에서, 게이트 구동회로는 표시패널의 각종 신호라인과 화소를 형성하는 과정에서 표시패널의 비표시 영역상에 동시에 형성되어서, 결과적으로 게이트 구동회로가 패널 내부에 포함되는 게이트-인-패널(Gate-In-Panel; 이하 “GIP”라고도 함) 형태로 구현될 수도 있다.Among them, the gate driving circuit is simultaneously formed on the non-display area of the display panel in the process of forming various signal lines and pixels of the display panel, and as a result, the gate driving circuit is included in the panel. -In-Panel (hereinafter also referred to as “GIP”) may be implemented.
또한, 최근의 표시패널은 사용자의 손가락 등의 입력을 감지하는 터치 기능을 구비하는 것이 일반적이며, 터치 스크린을 별도로 제작하여 표시패널 상에 설치하는 타입과, 터치 인식에 필요한 터치 전극 등을 표시패널 제조시 표시패널 내부에 포함시키는 터치 일체형 표시패널 등이 개발되고 있다.In addition, recent display panels generally have a touch function that senses an input of a user's finger, etc., and a type of separately manufacturing and installing a touch screen on the display panel, and a touch electrode required for touch recognition are displayed on the display panel. BACKGROUND ART A touch-integrated display panel and the like that are included in the display panel during manufacturing are being developed.
이 중에서, 터치 일체형 표시패널은 소위 “인셀 터치패널(In-Cell Touch)”로 불리기도 하며, 이러한 터치 일체형 표시패널은 보통 표시패널의 화소에 공통전압을 제공하는 공통전극(Vcom)을 특정한 형태 등으로 가공하여 터치 전극으로서 사용할 수 있다.Among them, a touch-integrated display panel is also called a so-called “in-cell touch panel”, and such a touch-integrated display panel usually has a specific shape of a common electrode (Vcom) that provides a common voltage to the pixels of the display panel. It can be processed into or the like and used as a touch electrode.
한편, 이러한 표시패널은 다수가 한꺼번에 하나의 글라스 모기판 상에 형성된 후에, 각각의 개별 제품으로서의 표시패널로 절단(Cutting) 또는 스크라이브(Scribe)될 수 있다. Meanwhile, after a plurality of such display panels are formed on one glass mother substrate at a time, they may be cut or scribed into display panels as individual products.
이러한 표시패널의 경우, 다수의 제조공정에서 여러 제조장비들과 접촉하기 때문에 정전기가 발생할 수 있고, 각종 신호라인 또는 전극 들이 도전성 재질로 형성되어 있기 때문에, 발생한 정전기가 대전되어 표시패널의 일부를 손상시킬 가능성이 있다.In the case of such a display panel, static electricity may be generated because it is in contact with various manufacturing equipment in a number of manufacturing processes, and since various signal lines or electrodes are formed of a conductive material, the generated static electricity is charged and damages a part of the display panel. There is a possibility to do it.
따라서, 표시패널의 제조공정에서 발생되는 정전기를 방전 또는 해결하기 위하여 도전성 소자들을 전기적으로 연결하는 소위 쇼팅바(Shorting Bar)와 같은 정전기 방지구조가 사용될 수 있으나, 이러한 정전기 방지구조가 다수 사용되는 경우에는 그 형성위치나 구조에 있어서 중복이 발생될 수 있어서 이에 대한 해결이 필요한 실정이다. Therefore, in order to discharge or solve the static electricity generated in the manufacturing process of the display panel, an antistatic structure such as a so-called shorting bar that electrically connects the conductive elements may be used. However, when a number of such antistatic structures are used In the situation, there is a need for a solution to this, as overlapping may occur in the formation position or structure.
이러한 배경에서, 본 발명의 목적은, 정전기 방지 구조를 포함하는 터치형 표시패널을 제공하는 것이다. Against this background, an object of the present invention is to provide a touch type display panel including an antistatic structure.
본 발명의 다른 목적은 정전기 방지 등을 위하여 1 이상의 쇼팅바를 포함하는 표시패널에서 1 이상의 쇼팅바의 형성 위치 및 재료 등을 최적화함으로써 표시패널 제작시의 글래스(Glass) 효율을 유지하고 및 불량율을 최소화하는 표시패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to optimize the formation position and material of one or more shorting bars in a display panel including one or more shorting bars to prevent static electricity, etc., thereby maintaining glass efficiency and minimizing defect rates when manufacturing a display panel. It is to provide a display panel.
본 발명의 다른 목적은, 표시패널의 게이트 구동을 위한 각종 신호의 인가 배선(GIP 배선)의 쇼팅바와, 터치 일체형 표시패널 내부의 터치 전극의 쇼팅바를 서로 상이한 레이어로 형성함으로써, 글래스 효율을 유지하고, 제조공정을 간단히 할 수 있는 표시패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to maintain glass efficiency by forming a shorting bar of various signal application wiring (GIP wiring) for driving a gate of a display panel and a shorting bar of a touch electrode inside a touch-integrated display panel in different layers from each other. , To provide a display panel that can simplify the manufacturing process.
전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는, 2 이상의 단위 표시패널을 포함하는 표시장치용 표시패널로서, 각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널과, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하며, 상기 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되는 표시패널을 제공한다. In order to achieve the above object, an embodiment of the present invention is a display panel for a display device including two or more unit display panels, each comprising a plurality of touch electrodes and a GIP line, which is a signal line to a gate driver. A first unit display panel and a second unit display panel, including a GIP shorting bar of the first unit display panel and a touch electrode shorting bar of the second unit display panel disposed in a spaced space between the unit display panel, and the first unit display The touch electrode shorting bar of the panel and the GIP shorting bar of the second unit display panel provide a display panel formed of different layers.
본 발명의 다른 실시예에서는, 스크라이빙 공정에 의하여 단위별로 분리되는 표시패널로서, 다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인과, 스크라이브 공정 이전에 상기 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선 및 GIP 연결배선을 포함하며, 상기 단위 표시패널의 일측에는 상기 터치 전극 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바를 포함하고, 대향측에는 상기 GIP 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바를 포함하는 표시패널을 제공한다.In another embodiment of the present invention, as a display panel separated by a unit by a scribing process, a plurality of touch electrodes disposed in a display area in which a plurality of pixels are defined, and a non-display area to apply a signal to a gate driver And a plurality of GIP lines formed in, and a touch electrode connection wiring and a GIP connection wiring for connecting the touch electrode and the GIP line to the touch electrode shorting bar and the GIP shorting bar, respectively, before the scribing process, and one side of the unit display panel A display including the touch electrode connection wiring and the remaining GIP shorting bar of another unit display panel formed on a different layer therefrom, and the GIP connection wiring on the opposite side and the remaining touch electrode shorting bar of another unit display panel formed on a different layer therefrom. Provide a panel.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 터치 일체형 표시패널의 제조 또는 패터닝 과정에서 발생하는 정전기에 의한 표시패널 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, there is an effect of preventing damage to the display panel due to static electricity generated during the manufacturing or patterning process of the integrated touch display panel.
또한, 본 발명에 의하면, 터치형 표시패널에서 1 이상의 쇼팅바의 형성 위치, 재료 등을 최적화함으로써, 터치 일체형 표시패널의 제조과정에서의 글래스 효율을 유지하면서, 불량율을 최소화할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, by optimizing the formation position and material of one or more shorting bars in the touch-type display panel, there is an effect of minimizing the defect rate while maintaining the glass efficiency in the manufacturing process of the touch-integrated display panel. .
본 발명에 의하면, 터치형 표시패널에서 신호배선용 쇼팅바와 터치 전극용 쇼팅바의 패널상에서의 형성 위치와 레이어 등을 상이하게 함으로써, 다수의 단위 표시패널을 포함하는 대표시패널 상에서의 배치 효율을 높이고, 스크라이브(Scribe) 공정 등을 단순화할 수 있는 등의 효과가 있다. According to the present invention, in a touch-type display panel, by making the formation positions and layers of the shorting bar for signal wiring and the shorting bar for touch electrodes different on the panel, the efficiency of arrangement on a representative panel including a plurality of unit display panels is improved. , There are effects such as simplification of the scribe process.
또한, 비터치 표시패널의 제조공정에 사용되었던 포토 마스크 등을 그대로 이용할 수 있다는 효과도 있다.In addition, there is an effect that the photo mask used in the manufacturing process of the non-touch display panel can be used as it is.
도 1은 다수의 단위 표시패널이 형성되는 대표시패널의 평면도이다.
도 2는 2개의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널의 상태로로서, 도 2의 (a)는 확대 평면도, 도 2의 (b)는 양 단위 표시패널 배치 상태를 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치형 표시패널의 평면 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 표시패널의 각 화소에 대한 평면도 및 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치형 표시패널의 부분 평면도를 도시한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 부분 단면도로서, 도 6의 (a) 내지 (c)는 각각 도 5의 I-I’, II-II’, III-III’ 단면을 도시한다.
도 7은 본 발명의 여러 변형예를 도시한다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 평면도로서, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후의 단위 표시패널을 도시한다.1 is a plan view of a representative panel in which a plurality of unit display panels are formed.
FIG. 2 is a view of a display panel including two unit display panels, and FIG. 2A is an enlarged plan view, and FIG. 2B is an arrangement state of both unit display panels.
3 is an enlarged plan view of a touch-type display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is a plan view and a cross-sectional view of each pixel of a display panel to which an exemplary embodiment of the present invention is applied.
5 is a partial plan view of a touch display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
6 is a partial cross-sectional view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views of I-I', II-II', and III-III' of FIG. 5, respectively. Shows.
7 shows several variations of the present invention.
8 is a plan view of a unit display panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and illustrates the unit display panel after being cut by a scribing process.
이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, the same elements may have the same numerals as possible even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof may be omitted.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the constituent elements of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b) may be used. These terms are only for distinguishing the component from other components, and the nature, order, order, or number of the component is not limited by the term. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to that other component, but other components between each component It is to be understood that is "interposed", or that each component may be "connected", "coupled" or "connected" through other components.
도 1은 다수의 단위 표시패널이 형성되는 대표시패널의 평면도이다.1 is a plan view of a representative panel in which a plurality of unit display panels are formed.
본 발명이 적용될 수 있는 표시패널을 터치형 표시패널로서, 더 구체적으로는 터치 전극이 표시패널 내부에 포함되는 터치 일체형(In-Cell) 표시패널이다.A display panel to which the present invention can be applied is a touch-type display panel, and more specifically, it is an In-Cell display panel in which a touch electrode is included in the display panel.
또한, 이러한 표시패널은 다수가 한꺼번에 하나의 글라스 모기판 상에 형성된 후에, 각각의 개별 제품으로서의 표시패널로 절단(Cutting) 또는 스크라이브(Scribe)될 수 있다. 이 때, 대형 모기판 상에서 각각의 패널을 절단 또는 분리하기 위한 경계선을 스크라이브 라인 또는 커팅 라인이라 부를 수 있으며, 제조과정에서 다수의 표시기판이 형성된 대기판으로서의 표시패널과 구분하기 위하여, 절단되어 하나의 단일 제품으로 사용되는 표시패널을 “단위 표시패널”로 표현하기로 한다.In addition, after a plurality of such display panels are formed on one glass mother substrate at a time, they may be cut or scribed into display panels as individual products. At this time, the boundary line for cutting or separating each panel on the large mother substrate may be called a scribe line or a cutting line, and in order to distinguish it from the display panel as the standby plate on which a plurality of display substrates are formed, The display panel used as a single product of the company will be expressed as a “unit display panel”.
이러한 단위 표시패널은 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역으로 정의되되 1 이상의 박막 트랜지스터를 포함하는 화소영역이 있는 어레이기판으로서의 제1기판과, 블랙매트릭스 및/또는 칼라필터층 등이 형성된 상부 기판으로서의 제2기판이 합착되어 제조된다.The unit display panel is defined as a cross region between a gate line and a data line, and includes a first substrate as an array substrate having a pixel region including one or more thin film transistors, and a second substrate as an upper substrate on which a black matrix and/or color filter layer is formed. The substrates are bonded together and manufactured.
한편, 단위 표시패널은 표시영역내에 다수의 공통전극(Vcom)을 포함하되 이러한 공통전극은 각 화소에 공통전압을 인가하여 화소전극과의 전위차에 의하여 액정재료에 전계를 인가하도록 이용된다.Meanwhile, the unit display panel includes a plurality of common electrodes Vcom in the display area, and these common electrodes are used to apply a common voltage to each pixel to apply an electric field to the liquid crystal material by a potential difference with the pixel electrode.
일반적인 표시패널에서는 이러한 공통전극(Vcom)은 큰 평면상으로 형성될 수 있으나, 터치 일체형 표시패널에서는 이러한 공통전극이 터치 감지를 위한 터치 전극으로도 이용되기 때문에, 터치 위치별로 터치 전극이 분리되어 있어야 하므로 도 1과 같이 공통전극이 표시영역에 다수의 터치 전극으로 분리되어 형성된다.In a general display panel, such a common electrode (Vcom) may be formed on a large plane, but in a touch-integrated display panel, since this common electrode is also used as a touch electrode for touch sensing, the touch electrode must be separated for each touch position. Therefore, as shown in FIG. 1, the common electrode is formed by being separated into a plurality of touch electrodes in the display area.
도 1과 같이, GIP 방식의 터치 일체형 단위 표시패널은 다수의 터치전극(110)을 포함하고 있고, 이러한 다수의 터치 전극은 터치 구동배선(112)을 통해서 패널일측(도 1의 하부)에 있는 데이터/터치 구동부(D-IC 또는 T-IC; 120)에 연결되어 있다. As shown in FIG. 1, the GIP type touch-integrated unit display panel includes a plurality of
데이터/터치 구동부(120)는 다수의 터치 전극(110)에 특정한 신호 또는 전압을 인가한 후 터치 조작에 의한 정전용량을 감지함으로써 터치 위치를 감지하는 제어부로서의 기능을 하는 것이며, 본 명세서에서는 터치 구동부가 데이터 구동회로(D-IC)에 통합되어 데이터/터치 구동부(120)로 설명하지만 그에 한정되는 것은 아니며, 경우에 따라서 데이트 구동부와 터치 구동부는 별개로 구별될 수 있다.The data/
한편, 단위 표시패널은 패널 일측(도 1에서는 좌측)의 비표시 영역에 게이트 구동회로로서 표시패널에 직접 형성되는 GIP 방식의 GIP 구동부(130)를 포함한다.Meanwhile, the unit display panel includes a GIP
이러한 GIP 구동부(130)는 각 게이트 라인에 대응되어 각 게이트 라인에 화소를 구동하기 위한 게이트 출력신호(Vout 또는 Gout)를 생성하여 제공하는 다수의 GIP 제어블록을 포함할 수 있다. 이러한 GIP 제어블록은 시프트 레지스터의 각 스테이지 등으로 구현될 수 있지만 그에 한정되는 것은 아니다.The
한편, 이러한 GIP 구동부(130)에는 게이트 출력신호 생성에 사용되는 다수의 신호 또는 펄스가 제공되어야 하며, 이러한 신호는 전술한 데이터/터치 구동부(120) 또는 타이밍 제어장치나, 패널 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)등에서 생성되어 게이트 구동부(130)로 인가되며, 이러한 신호의 전달을 위하여 사용되는 배선을 본 명세서에서는“GIP 라인”이라고 부를 수 있다.Meanwhile, the
즉, 도 1에서 데이터/터치 구동부(130)에서 게이트 구동부(120)로 신호를 전달하기 위하여 다수의 GIP 라인(131)이 도시되어 있다.That is, in FIG. 1, a plurality of GIP lines 131 are shown in order to transmit signals from the data/
따라서, 본 명세서에서 사용하는 GIP 배선 또는 GIP 라인은 표시패널에서 게이트 구동회로 또는 게이트 구동부로 인가되는 각종 전기적 신호 또는 펄스를 전송하기 위하여 패널에 형성된 모든 종류의 배선, 도선 또는 라인을 의미하는 포괄적인 것으로 이해되어야 한다.Accordingly, the GIP wiring or GIP line used in the present specification is a comprehensive line, conductor, or line formed on the panel to transmit various electrical signals or pulses applied from the display panel to the gate driving circuit or the gate driver. It should be understood as.
한편, 이러한 GIP 라인(131)이나 터치 전극(110)은 모두 도전성 재료이며, 이러한 표시패널의 제조과정에서 다수 장비에 접촉되면서 정전기가 발생될 수 있으며, 이러한 정전기는 대전량이 커서 패널 제조과정에서 다른 소자에 손상을 일으킬 가능성이 있다.Meanwhile, these GIP lines 131 and the
따라서, 이러한 정전기로부터의 손상을 방지하기 위해서는 발생된 정전기를 외부로 방전 또는 소실시킬 필요가 있으며, 이를 위하여 각 도전성 소자들을 전기적으로 연결할 필요가 있었다. Therefore, in order to prevent such damage from static electricity, it is necessary to discharge or dissipate generated static electricity to the outside, and to this end, it is necessary to electrically connect each conductive element.
이를 위해, 도 1과 같이, 다수의 GIP 라인(131)을 전기적으로 연결하는 쇼팅바로서의 GIP 쇼팅바(140)와 다수의 터치 전극(110)을 전기적으로 연결하는 터치 전극 쇼팅바(150)를 포함할 수 있다.To this end, as shown in FIG. 1, a
물론, 이러한 쇼팅바는 반드시 정전기 방출을 위한 용도로 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 GIP 라인 또는 데이터 패드 또는 게이트 패드 등을 일체로 연결하여 어레이 테스트(Array Test; ART)와 같은 검사공정에 사용될 수도 있다.Of course, such a shorting bar is not necessarily limited to the use of static electricity discharge, and for example, it may be used for inspection processes such as array test (ART) by integrally connecting a GIP line or data pad or gate pad. have.
따라서, 본 명세서에서 사용하는 쇼팅바(Shorting Bar)라는 표현은 용도를 불문하고 동일 또는 유사한 성질의 도전성 소자 또는 부품을 전기적으로 일체로 연결하기 위하여 긴 막대 또는 선형으로 형성되는 도전성 패턴을 의미하며, 검사배선, 정전기 방출배선 등 다른 용어 또는 표현으로 사용될 수 있다.Therefore, the expression shorting bar used in the present specification refers to a conductive pattern formed in a long bar or a linear shape in order to electrically integrally connect conductive elements or parts of the same or similar properties regardless of use, It can be used in other terms or expressions such as inspection wiring and static discharge wiring.
또한, 각 GIP 라인(131)과 GIP 쇼팅바(140)를 연결하는 GIP 연결배선(142)을 포함할 수 있으며, 마찬가지로 터치 전극(110)을 터치전극 쇼팅바(150)까지 연결하는 연결배선으로서의 터치전극 연결배선(152)를 포함할 수 있다.In addition, it may include a
이 때, 전술한 바와 같이, 터치 전극(110)은 터치 구동배선(112)을 통해 패널 하부의 터치 구동부로 연결되어야 하므로 전술한 터치 전극 쇼팅바(150) 및 터치 전극연결배선(152)은 도 1을 기준으로 패널 상부로 형성된다.At this time, as described above, since the
즉, 도 1과 같이, 하나의 단위 표시패널 기준으로 GIP 쇼팅바(140)는 단위 표시패널 일측(하부)에, 터치 전극 쇼팅바(150)는 단위 표시패널의 대향측(상부)에 형성된다.That is, as shown in FIG. 1, the
도 2는 2개의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널의 상태로로서, 도 2의 (a)는 확대 평면도, 도 2의 (b)는 양 단위 표시패널 배치 상태를 도시한다. FIG. 2 is a state of a display panel including two unit display panels, and FIG. 2A is an enlarged plan view, and FIG. 2B is an arrangement state of both unit display panels.
다수의 단위 표시패널(100, 100’)이 하나의 대기판으로서의 표시패널에 한꺼번에 형성된 이후에 커팅 또는 스크라이브(Scribe) 공정에 의하여 단위 표시기판으로 절단되는 공정으로 제작되는데, 이 때 도 2의 (a)와 같이, 제1 단위 표시패널(100)의 GIP 쇼팅바(140)와 제2 단위 표시패널(100’)의 터치 전극 쇼팅바(150)가 동일한 패널간 이격 공간에 위치하게 된다.After the plurality of
또한, 특별한 조건이 없는 한 각 쇼팅바는 동일한 레이어 또는 재질, 예를 들면, 화소전극 또는 공통전극의 형성재료인 투명전극(ITO 등) 재료로 형성될 수 있다.In addition, unless there are special conditions, each shorting bar may be formed of the same layer or material, for example, a material of a transparent electrode (ITO, etc.) that is a material for forming a pixel electrode or a common electrode.
이 때, 만일 표시패널이 터치형이 아닌 비터치형 표시패널인 경우에 터치 전극 및 그를 위한 쇼팅바가 필요없으며, 따라서 제조과정에서 도 2의 (b)의 좌측과 같이 양 단위 표시패널(100, 100’) 사이의 간격을 D 만큼만 확보하면 되며, 스크라이브 라인(Scribe Line; 170) 역시 1개만 필요하다.In this case, if the display panel is a non-touch type display panel instead of a touch type, a touch electrode and a shorting bar for the same are not required. Therefore, in the manufacturing process, as shown in the left side of FIG. ') only needs to be secured as much as D, and only one Scribe Line (170) is required.
그러나, 표시패널이 터치 일체형 표시패널인 경우에는, 도 2의 (b) 우측 도면과 같이, 상부 단위 표시패널(100)의 하부에 있는 GIP 쇼팅바(140)와 하부 단위 표시패널(100’)의 상부에 있는 터치 전극 쇼팅바(150)가 동일한 이격 공간에 위치하게 되며, 양 쇼팅바가 동일한 레이어인 경우에는 중첩될 수 없기 때문에 비터치 표시패널의 경우보다 이격 거리가 D’로써 더 증가하여야 하며, 2개의 단위 표시패널을 스크라이브 하기 위하여 2개의 스크라이브 라인(170’, 170”)이 필요하게 된다. However, when the display panel is a touch-integrated display panel, the
이 경우, 비터치 표시패널의 제조공정과 비교할 때, 일정 면적의 대기판(Glass Substrate)에 에 집적할 수 있는 단위 표시기판의 개수가 감소하므로 글래스 이용 효율이 감소하게 되고, 양 표시패널 사이의 이격 거리가 커짐에 따른 불량율도 증가하게 된다.In this case, compared to the manufacturing process of the non-touch display panel, the number of unit display substrates that can be integrated on the glass substrate of a certain area decreases, so the glass use efficiency decreases, and As the separation distance increases, the defect rate also increases.
또한, 비터치 표시패널의 포토 리소그래피 공정 등에 사용하던 포토 마스크 등을 이용할 수 없으므로 별도의 터치 표시패널용 마스크를 마련하여야 할 뿐 아니라, 스크라이브 공정 역시 2배로 증가하므로 제조 효율이 감소하는 등 여러 문제점이 있을 수 있다.In addition, since the photo mask used for the photolithography process of the non-touch display panel cannot be used, a separate mask for the touch display panel must be provided, and the scribe process is also doubled, resulting in a number of problems such as decrease in manufacturing efficiency. There may be.
따라서, 본 발명의 일 실시예는 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 1 이상의 단위 표시패널을 포함하는 표시패널로서, 각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널을 포함하되, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하며, 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되고, 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 제2 단위 표시패널에 가깝게 배치됨 단일의 스크라이브 라인을 가질 수 있는 구성을 가진다. Accordingly, an embodiment of the present invention has been proposed to solve this problem, as a display panel including one or more unit display panels, each including a plurality of touch electrodes and a GIP line, which is a signal line to the gate driver. Including a 1 unit display panel and a second unit display panel, including the GIP shorting bar of the first unit display panel and the touch electrode shorting bar of the second unit display panel disposed in a spaced space between the unit display panels, and the first unit The touch electrode shorting bar of the display panel and the GIP shorting bar of the second unit display panel are formed in different layers, and the GIP shorting bar of the first unit display panel is more than the touch electrode shorting bar of the second unit display panel. It has a configuration that can have a single scribe line.
이 때, GIP 쇼팅바와 터치 전극 쇼팅바는 각각 게이트 레이어, 소스/드레인 레이어, 화소전극 레이어 및 터치전극(공통전극) 레이어 중 선택된 2개 레이어로 각각 형성될 수 있으며, 양 쇼팅바는 1 이상의 절연막에 의하여 절연 분리되어 있다.At this time, the GIP shorting bar and the touch electrode shorting bar may be formed of two layers selected from a gate layer, a source/drain layer, a pixel electrode layer, and a touch electrode (common electrode) layer, respectively, and both shorting bars are at least one insulating layer. Insulation is separated by
이하에서는 본 발명의 여러 실시예를 도면을 참고로하여 더 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be further described with reference to the drawings.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 터치형 표시패널의 평면 확대도이다.3 is an enlarged plan view of a touch-type display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
본 발명의 일실시예에 의한 표시패널은 제1 단위 표시패널(300)과 제2 단위 표시패널(300’)을 포함하고, 각 단위 표시패널은 다수의 터치 전극(310)과, 데이터/터치 구동부(320) 및 GIP 구동부(미도시)를 포함할 수 있으며, 데이터/터치 구동부에서 생성되어 GIP 구동부로 전달되는 각종 신호 또는 펄스를 전달하기 위한 GIP 라인(331)이 다수 형성되어 있다.A display panel according to an embodiment of the present invention includes a first
이 때, GIP 라인(331)은 게이트 클럭(CLK), 전원신호(Vdd, Vss), 스타트 신호(VST), 엔드신호(END) 등을 전달하기 위한 배선 등을 포함할 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. At this time, the
또한, 이러한 GIP 라인들은 통상 게이트 전극 형성과 동일한 레이어 또는 재료, 즉 저저항 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질 등으로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. In addition, these GIP lines are usually the same layer or material as the gate electrode formation, that is, a low-resistance metal material such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), copper alloy, molybdenum (Mo) and molybdenum alloy. (MoTi) may be formed of one or two or more materials, but is not limited thereto.
한편, 제1 단위표시패널(300)의 일측(도 3의 하측)에는 다수의 GIP 라인들을 쇼팅하기 위한 GIP 쇼팅바(340)가 길게 형성되어 있으며, 각 GIP 라인(331)과 GIP 쇼팅바(340)를 연결하기 위하여 GIP 연결배선(342)을 포함할 수 있다.Meanwhile, a
또한, 제2 단위 표시패널(300’)의 타측(도 3의 상측)에는 제2 단위 표시패널(300’)의 모든 터치 전극(310)을 전기적으로 연결하기 위한 터치 전극 쇼팅바(350)가 길게 형성되어 있으며, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 전기적으로 연결하기 위하여 1 이상의 터치 전극 연결배선(352, 352’)을 포함할 수 있다.In addition, a touch
본 실시예에서의 터치 전극(310)은 구동 터치 전극(Tx)과 센싱 터치 전극(Rx)로 구분되어 그 사이의 정전용량 차이를 측정하는 상호 정전용량 방식(Mutual Cap.)의 터치 전극일 수도 있고, 동일 평면상에 송수신 구분없이 격자 형태로 배치되어 자기 정전용량을 측정하는 셀프 정전용량 방식(Self Cap.)의 터치 전극일 수도 있다. In the present embodiment, the
이 때, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 서로 상이한 레이어로 형성되며, 제1 단위 표시패널(300)의 GIP 쇼팅바(340)는 제2 단위 표시패널(300’)의 터치 전극 쇼팅바(350)보다 더 제2 단위 표시패널(300’)에 가깝게 배치되고, 그 결과로 제 2 단위 표시패널(300’)의 터치 전극 쇼팅바(350)는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바(340)보다 더 제1 단위 표시패널(340)에 가깝게 배치된다.At this time, the
따라서, 제1단위 표시패널과 제2 단위 표시패널을 절단 또는 스크라이빙하는 공정에서 단일의 스크라이브 라인(370)을 통해 1회만 절단하는 것으로 충분하게 되는 것이다.Accordingly, it is sufficient to cut only once through a
이러한 본 발명의 실시예의 구성을 요약하면, 양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바를 포함하되, 터치 전극 쇼팅바와 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되며, 자신 패널을 위한 GIP 쇼팅바가 인접한 다른 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 다른 단위 표시패널에 가깝게 배치하는 것이다.To summarize the configuration of this embodiment of the present invention, including the GIP shorting bar of the first unit display panel and the touch electrode shorting bar of the second unit display panel disposed in a spaced space between the unit display panels, the touch electrode shorting bar and the GIP show. The setting bar is formed in a different layer, and the GIP shorting bar for its own panel is disposed closer to the other unit display panel than the touch electrode shorting bar of the adjacent unit display panel.
이 때, GIP 쇼팅바(340)는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 터치 전극 쇼팅바(350)는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있으며, 반대로 터치 전극 쇼팅바(350)가 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, GIP 쇼팅바(340)는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.At this time, the
즉, 아래의 도 5 이하에서 설명할 바와 같이, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 도전성 재료로서 1 이상의 절연층을 사이에 두고 서로 상이한 레이어로 형성되는 것으로 충분하며, GIP 쇼팅바(340)와 터치 전극 쇼팅바(350)는 게이트 전극 레이어, 소스/드레인 전극 레이어, 화소전극, 터치 구동배선, 터치 전극(공통전극) 레이어 중 하나로서 선택될 수 있다.That is, as will be described below in FIG. 5, it is sufficient that the
본 발명의 실시예에서의 터치 전극은 표시영역의 화소에 공통전압을 인가하기 위한 공통전극의 일부로서, 다수의 화소를 커버하는 공통전극 영역을 하나의 터치전극으로 활용하는 것이 가능하다.The touch electrode in the embodiment of the present invention is a part of a common electrode for applying a common voltage to a pixel of a display area, and it is possible to use a common electrode area covering a plurality of pixels as one touch electrode.
또한, GIP 라인(331)과 GIP 쇼팅바(340)를 연결하는 GIP 연결배선(342)은 GIP 쇼팅바(340)와 동일한 레이어 및 재료로 형성되는 것이 일반적이며, 이러한 경우 GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342)은 일체로서 하나의 구성요소로 볼 수도 있을 것이다.In addition, the
물론, GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342)은 전기적으로 연결되어 있는 한 반드시 동일한 레이어 및 재료로 형성될 필요는 없다.Of course, the
마찬가지로, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 연결하는 터치 전극 연결배선(352, 352’) 역시 터치 전극 쇼팅바(350)와 동일한 레이어 및 재료로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것을 아니다.Likewise, the touch
예를 들어, 도 3에서와 같이, 터치 전극(310)과 터치 전극 쇼팅바(350)를 연결하는 터치 전극 연결배선이 터치 전극과 동일 레이어로 터치전극에서 연장되는 제1 터치 전극 연결배선(352’)과, 터치전극 쇼팅바와 동일한 레이어 및 재료로서 일단이 터치 전극 쇼팅바(350)와 연결되어 그로부터 연장되는 제 2 터치 전극 연결배선(352)을 포함할 수 있다.For example, as shown in FIG. 3, the touch
이 경우, 제1 터치 전극 연결배선(352’) 및 제 2 터치 전극 연결배선(352)은 컨택홀(354)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다.In this case, the first touch
도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 표시패널의 각 화소에 대한 평면도 및 단면도이다.4 is a plan view and a cross-sectional view of each pixel of a display panel to which an exemplary embodiment of the present invention is applied.
본 발명의 일 실시예가 적용되는 터치형 표시패널은 제1 기판(SUBS1) 상에 형성되는 게이트 라인(G1) 및 게이트 라인(G1)으로부터 연장되는 게이트 전극(G)을 포함하며, 게이트 전극(G)을 구비하는 게이트 라인(G1)이 형성된 기판(SUBS1)상에 형성되는 게이트 절연막(GI)과, 게이트 전극(G)의 일부와 중첩되도록 게이트 절연막(GI) 상에 형성되는 반도체 패턴(A)을 포함한다. The touch-type display panel to which an exemplary embodiment of the present invention is applied includes a gate line G1 formed on a first substrate SUBS1 and a gate electrode G extending from the gate line G1, and the gate electrode G A gate insulating layer GI formed on the substrate SUBS1 on which the gate line G1 is formed, and a semiconductor pattern A formed on the gate insulating layer GI so as to overlap with a part of the gate electrode G Includes.
반도체 패턴(A)은 박막 트랜지스터(TFT)의 활성영역을 구성하며, 반도체 패턴(A)의 재료로서 비정질 실리콘(a-Si), 산화물 반도체 등이 가능하지만, 본 발명의 일실시예에서는 높은 전하이동도를 가지는 소자 특성이 좋은 산화물 반도체를 이용하는 것이 바람직하다. The semiconductor pattern (A) constitutes an active region of the thin film transistor (TFT), and amorphous silicon (a-Si), an oxide semiconductor, etc. can be used as a material of the semiconductor pattern (A), but in one embodiment of the present invention, a high charge It is preferable to use an oxide semiconductor having good mobility and excellent device characteristics.
이러한, 산화물 반도체 물질의 예로서 징크 옥사이드(ZnO) 계열의 산화물 예를들면 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZIO(Zinc Indium Oxide) 등이 포함될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.Examples of such an oxide semiconductor material include, but are not limited to, zinc oxide (ZnO)-based oxides, such as IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO (Zinc Tin Oxide), ZIO (Zinc Indium Oxide), etc. .
또한, 본 실시예에 의한 표시패널은 게이트 절연막(GI)을 사이에 두고 게이트 라인(G1)과 교차되는 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 연장된 소스 전극(S), 소스 전극(S)과 대향하는 드레인 전극(D)을 포함하는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함한다. 그리고, 게이트 라인(G1)과 데이터 라인(D1)의 교차에 의해 정의되는 영역에 형성되며, 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극과 접속되는 화소전극(P11, P12)을 포함한다.In addition, in the display panel according to the present embodiment, the data lines D1 and D2 crossing the gate line G1 with the gate insulating layer GI interposed therebetween, and the source electrode S extending from the data lines D1 and D2. , And a thin film transistor TFT including a drain electrode D facing the source electrode S. The pixel electrodes P11 and P12 are formed in a region defined by the intersection of the gate line G1 and the data line D1 and connected to the drain electrode of the thin film transistor TFT.
또한, 데이터 라인(D1, D2)과 트랜지스터(TFT) 및 화소전극(P11, P12)이 형성된 게이트 절연막(GI)의 전면 상에 형성된 층간 절연막(INS)과, 층간 절연막(INS) 상에 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 터치 구동배선으로서의 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)은 알루미늄(Al), 알루미늄-네오디뮴(AlNd), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 몰리브덴-티타늄(MoTi), 크롬(Cr) 등의 저저항 금속 또는 합금으로 형성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.In addition, an interlayer insulating layer INS formed on the entire surface of the gate insulating layer GI on which the data lines D1 and D2, transistors TFT, and pixel electrodes P11 and P12 are formed, and a data line on the interlayer insulating layer INS. A first signal line TY11 and a second signal line TY12 as touch driving wiring overlapping with the D1 and D2 may be included. Here, the first signal line TY11 and the second signal line TY12 are aluminum (Al), aluminum-neodymium (AlNd), copper (Cu), molybdenum (Mo), molybdenum-titanium (MoTi), and chromium (Cr). ) May be formed of a low-resistance metal or alloy such as, but is not limited thereto.
또한, 제1 신호라인(TY11) 및 제2 신호라인(TY12)이 형성된 층간 절연막(INS)의 전면 상에 형성된 패시베이션막(PL)과, 패시베이션막(PL) 상에 형성되는 공통전극(터치전극)(C11)을 포함한다. 공통전극(터치전극)(C11)은 패시베이션막(PL)을 관통하는 콘택홀(CH)을 통해 제2 신호라인(TY12)과 연결될 수 있다.In addition, the passivation layer PL formed on the entire surface of the interlayer insulating layer INS on which the first signal line TY11 and the second signal line TY12 are formed, and a common electrode (touch electrode) formed on the passivation layer PL. ) (C11). The common electrode (touch electrode) C11 may be connected to the second signal line TY12 through a contact hole CH penetrating through the passivation layer PL.
이 때, 게이트 라인 또는 게이트 전극의 게이트 금속층 또는 소스/드레인 금속층은 저저항 특성을 가지는 금속재료로서 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질일 수 있다.At this time, the gate metal layer or the source/drain metal layer of the gate line or the gate electrode is a metal material having low resistance characteristics, such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), copper (Cu), copper alloy, molybdenum (Mo), and molybdenum. It may be one or two or more of alloys (MoTi).
또한, 본 실시예에서 화소전극 및 공통전극(터치전극)은 투명 전극일 수 있으며, 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질, 예를 들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)과 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합으로 이루어질 수 있다.In addition, in this embodiment, the pixel electrode and the common electrode (touch electrode) may be transparent electrodes, and a transparent conductive material having a relatively large work function value, for example, indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide ( IZO), or a combination of a metal and oxide such as ZnO:Al or SnO2:Sb.
또한, 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL) 등은 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx) 등과 같은 무기절연물질로 이루어질 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니며, 전기적으로 절연된 기타 다른 재료로 형성될수도 있을 것이다.In addition, the gate insulating film GI, the interlayer insulating film INS, and the passivation film PL may be made of inorganic insulating materials such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx), but are not limited thereto, and are electrically insulated. It may also be formed from other materials that have been prepared.
또한, 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL) 각각은 단일층으로 도시하였으나, 각각 다른 재료로 이루어진 2 이상의 복수층 구조를 가질 수도 있고, 경우에 따라서 일부 레이어가 생략될 수도 있을 것이다.In addition, the gate insulating layer GI, the interlayer insulating layer INS, and the passivation layer PL are each illustrated as a single layer, but may have two or more multilayer structures made of different materials, and some layers may be omitted in some cases. Maybe.
이상에서는 설명의 편의상 본 발명의 다양한 실시예에 따른 터치형 표시장치가 액정표시장치인 것으로 일례를 들어 설명하기로 하며, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 전계 방출 표시장치, 플라즈마 디스플레이 패널, 전계발광 표시장치, 유기발광 표시장치, 전기영동 표시장치 등 다양한 표시장치에 적용될 수 있다.In the above, for convenience of description, the touch-type display device according to various embodiments of the present invention will be described as an example as a liquid crystal display device, and the present invention is not limited thereto, and the field emission display device, plasma display panel, and electroluminescence It can be applied to various display devices, such as a display device, an organic light emitting display device, and an electrophoretic display device.
또한, 도 5에서는 편의상 공통 전극 및 터치 전극의 기능을 수행하는 전극이 화소 전극과 함께 패널의 하부 기판 상에 형성된 것으로 IPS(In Plane Switching) 모드와 FFS(Fringe Field Switching) 모드와 같은 수평 전계 구동 방식을 예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, TN(Twisted Nematic) 모드와 VA(Vertical Alignment) 모드와 같이 터치 전극이 상부 기판에 형성되는 다양한 구조에도 적용할 수 있을 것이다.In addition, in FIG. 5, for convenience, an electrode that performs the function of a common electrode and a touch electrode is formed on the lower substrate of the panel together with the pixel electrode, and horizontal electric field driving such as IPS (In Plane Switching) mode and FFS (Fringe Field Switching) mode Although the method is described as an example, the present invention is not limited thereto, and may be applied to various structures in which a touch electrode is formed on an upper substrate, such as a twisted nematic (TN) mode and a vertical alignment (VA) mode.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치형 표시패널의 부분 평면도를 도시한다.5 is a partial plan view of a touch display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 3의 실시예에서는 GIP 쇼팅바(340)가 GIP 연결배선(342)을 통해 바로 GIP 라인(331)과 연결되는 것으로 예시하였으나, 도 5와 같이, 각 GIP 라인(331)과 연결되는 별도의 GIP 패드(333)를 포함하고, GIP 연결배선(342)이 이러한 GIP 패드(333)에 연결되는 것도 가능할 것이다. In the embodiment of FIG. 3, it is illustrated that the
즉, 본 발명에서의 GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)은 GIP 라인(331)과 전기적으로 연결되는 한 여하한 형태도 가능할 것이다.That is, the
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 부분 단면도로서, 도 6의 (a) 내지 (c)는 각각 도 5의 I-I’, II-II’, III-III’ 단면을 도시한다.6 is a partial cross-sectional view of a unit display panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views of I-I', II-II', and III-III' of FIG. 5, respectively. Shows.
도 6의 실시예에서는 터치 전극 쇼팅바(350) 및 터치 전극 연결배선(352) 중 일부는 게이트 금속층으로 형성되고, GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)은 화소전극과 동일한 레이어로 형성되는 예를 도시하지만, 그에 한정되는 것은 아니다.In the embodiment of FIG. 6, some of the touch
도 5의 I-I’ 단면인 도 6의 (a)와 같이, 먼저 절연 기판(380) 상에 터치 전극 연결배선(352)이 게이트 레이어로 형성되어 있고, 그 상부에 게이트 절연막(GI)가 형성되며, 게이트 절연막 상부에 화소전극 레이어로 GIP 쇼팅바(340)가 형성되도록 도시되어 있다.As shown in (a) of FIG. 6, which is a cross section of I-I' of FIG. 5, first, a touch
또한, 도 5의 II-II’ 단면인 도 6의 (b)와 같이, 터치 전극 연결배선(352) 및 GIP 연결배선(342)가 게이트 절연막(GI)를 사이에 두고 서로 평행하게 형성되어 있다. In addition, as shown in FIG. 6B, which is a section II-II' of FIG. 5, the touch
또한, 도 5의 III-III’ 단면인 도 6의 (c)에서와 같이, 절연기판(380) 상에 게이트 금속층으로 터치 전극 쇼팅바(350) 및 제2 터치전극 연결배선(352)을 형성한 후, 그 상부에 게이트 절연막(GI)이 형성되고, 게이트 절연막(GI)의 일부를 개구하여 제2 터치 전극 연결배선(352)의 일단이 노출되도록 하는 컨택홀(354)을 형성한다. 컨택홀이 형성된 패널 전면 상부에 화소전극 레이어로 제1 터치 전극 연결배선(352’) 및 그와 연결된 터치 전극(미도시)를 패터닝함으로써, 제1 및 제 2 터치 전극 연결배선이 전기적으로 연결된다.In addition, as in FIG. 6(c), which is a section III-III' of FIG. 5, a touch
세부 공정을 좀 더 상세하게 설명하면, 투명한 절연기판(380) 예를 들어 유리 또는 플라스틱으로 이루어진 기판 상에 저저항 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo) 및 몰리브덴 합금(MoTi) 중 하나 또는 둘 이상의 물질로 구성되는 게이트 금속재료를 기판 전면에 증착하여 제 1 금속층을 형성하고, 제 1 금속층을 포토레지스트의 도포, 포토 마스크를 이용한 노광, 노광된 포토레지스트의 현상, 제 1 금속층의 일부 식각 및 포토레지스트의 스트립(strip) 등의 일련의 단위 공정을 포함하는 마스크 공정 또는 포토리소그래피 공정을 진행하여 패터닝함으로써 터치 전극 쇼팅바(350) 및 제2 터치 전극 연결배선(352) 등을 형성한다. To explain the detailed process in more detail, the transparent insulating
물론, 이 과정에서 동시에 각 화소영역으로 연결되는 게이트 라인(미도시)과, 구동 TFT 또는 화소 TFT의 게이트 전극도 함께 형성될 수 있으며, 필요한 경우 GIP 라인, GIP 패드(333) 등도 이러한 게이트 레이어로 형성될 수 있다. Of course, in this process, a gate line (not shown) connected to each pixel region and a gate electrode of a driving TFT or a pixel TFT may be formed together. If necessary, a GIP line, a
다음으로, 필요한 영역에 투과영역을 갖는 마스크를 위치시킨 후, 제 1 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx) 중 어느 하나를 증착함으로써 무기절연물질로 이루어진 게이트 절연막(GI)을 형성한다. Next, after placing a mask having a transmissive region in a required region, a first inorganic insulating material, for example, silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx), is deposited to deposit a gate insulating film made of an inorganic insulating material (GI ) To form.
다음으로, 화소영역의 트랜지스터 영역에 반도체층, 소스/드레인 전극층 및 필요한 경우 반도체층과 소스/드레인의 접촉저항을 줄이기 위한 오믹접촉층 등이 형성된다. Next, a semiconductor layer, a source/drain electrode layer and, if necessary, an ohmic contact layer for reducing contact resistance between the semiconductor layer and the source/drain are formed in the transistor region of the pixel region.
이 때, 반도체층은 게이트 절연막 상부로 산화물 반도체 물질로서 징크 옥사이드(ZnO) 계열의 산화물 예를들면 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZIO(Zinc Indium Oxide) 중 어느 하나를 증착하거나 또는 도포하여 산화물 반도체 물질층을 형성하고, 산화물 반도체 물질층(미도시)을 마스크 공정을 진행하여 패터닝함으로써각 TFT의 게이트 전극 상부에 아일랜드 형태로 형성될 수 있다. At this time, the semiconductor layer is an oxide semiconductor material on the gate insulating layer, and includes any one of zinc oxide (ZnO)-based oxide, for example, IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), ZTO (Zinc Tin Oxide), and ZIO (Zinc Indium Oxide). The oxide semiconductor material layer is formed by vapor deposition or coating, and the oxide semiconductor material layer (not shown) is patterned by performing a mask process to form an island shape on the gate electrode of each TFT.
물론, 반도체층은 산화물 반도체에 한정되지 않고, 폴리실리콘 또는 순수 및 불순물 비정질 실리콘 중 하나로 구성될 수도 있다.Of course, the semiconductor layer is not limited to an oxide semiconductor, and may be made of polysilicon or one of pure and impurity amorphous silicon.
한편, 소스/드레인층의 재료 역시 저저항 특성을 가지는 구리(Cu), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴 합금(Mo alloy)등이 이용될 수 있으며, 이러한 재료의 소스/드레인 금속층을 기판 전면에 증착하여 제 2 금속층을 형성하고, 제 2 금속층을 마스크 공정 또는 포토리소그래피 공정을 진행하여 패터닝함으로써 소스/드레인 전극을 형성한다. On the other hand, the material of the source/drain layer may also be made of copper (Cu), chromium (Cr), molybdenum (Mo), titanium (Ti), tantalum (Ta), molybdenum alloy, etc., which have low resistance characteristics. In addition, a source/drain metal layer of such a material is deposited on the entire substrate to form a second metal layer, and the second metal layer is patterned by performing a mask process or a photolithography process to form a source/drain electrode.
이 과정에서 동시에 각 화소영역으로 연결되는 데이터 라인(미도시) 이 함께 형성될 수 있다.In this process, data lines (not shown) connected to each pixel area may be simultaneously formed.
다음으로, 소스/드레인 금속패턴 형성 이후에, 드레인 전극과 전기적으로 연결되는 핑거 형태의 화소전극이 형성되고, 그 상부에 층간 절연막(INS) 및/또는 패시베이션막(PL)이 형성될 수 있다. Next, after forming the source/drain metal pattern, a finger-shaped pixel electrode electrically connected to the drain electrode may be formed, and an interlayer insulating layer INS and/or a passivation layer PL may be formed thereon.
물론, 도 4등에는 화소전극이 게이트 절연막(GI)와 접촉하여 상부에 형성된 것으로 도시하였으나, 게이트 절연막 상부에 추가적인 층간 절연막이 형성되고, 그 층간 절연막의 일부를 개구하여 드레인 전극 일부를 노출하는 컨택홀을 형성한 후, 그 상부에 화소전극을 형성할 수도 있을 것이다. Of course, FIG. 4 shows that the pixel electrode is formed on top of the gate insulating layer GI, but an additional interlayer insulating layer is formed on the gate insulating layer, and a contact that opens a part of the interlayer insulating layer to expose a portion of the drain electrode. After forming the hole, a pixel electrode may be formed thereon.
화소영역에 화소전극을 형성하는 상기 과정에서, 도 6과 같은 GIP 쇼팅바(340)와 GIP 연결배선(342) 등이 동시에 형성된다. In the above process of forming the pixel electrode in the pixel region, the
이 과정에서 필요한 경우, 게이트 레이어의 GIP 패드(333) 상의 게이트 절연막(GI) 일부를 개구한 컨택홀(344)이 형성되고, 그 상부에 화소전극 레이어의 GIP 연결배선(342)이 형성됨으로써, GIP 패드(333)와 GIP 연결배선(342)이 전기적으로 연결될 수 있다. If necessary in this process, a
다음으로, 패시베이션막(PL) 상부에 공통전극(터치 전극)이 형성되며, 이러한 공통전극은 디스플레이 모드에서는 화소전극과의 사이에서 횡전계를 형성하기 위하여 공통전압을 인가하는 용도로 사용되며, 터치 센싱 모드에서는 정전용량 변화를 감지함으로써 터치 입력을 인식하기 위한 터치 전극으로 사용된다.Next, a common electrode (touch electrode) is formed on the passivation layer PL, and this common electrode is used to apply a common voltage to form a lateral electric field between the pixel electrodes in the display mode. In the sensing mode, it is used as a touch electrode to recognize a touch input by detecting a change in capacitance.
이 때, 화소전극 및 공통전극(터치 전극)은 패널 후방의 백라이트의 광이 통과하여야 하므로, 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질, 예를 들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)과 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 조합 등으로 이루어질 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.At this time, the pixel electrode and the common electrode (touch electrode) have to pass the light of the backlight behind the panel, so a transparent conductive material having a relatively large work function value, for example, indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc- It may be formed of a metal oxide such as oxide (IZO), a combination of a metal such as ZnO:Al or SnO2:Sb and an oxide, but is not limited thereto.
도 7은 본 발명의 여러 변형예를 도시한다.7 shows several variations of the present invention.
도 7과 같이 본 발명의 실시예에 의한 터치 전극 쇼팅바(350) 및 터치 전극 연결배선(352)는 반드시 게이트 금속재료로 한정되지 않으며 도 7의 (a)와 같이 소스/드레인 전극과 동일 레이어 및 재료로 형성될 수 있고, 마찬가지로 GIP 쇼팅바(340) 및 GIP 연결배선(342)는 화소전극이 아닌 터치 전극(공통전극)과 동일한 레이어 및 재료로 형성되며, 이 경우 GIP 연결배선(342) 및 터친 전극 연결배선(352)는 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)에 의하여 절연 분리되어 있다.7, the touch
또한, 도 7의 (b)에서는 터치 전극 연결배선(352) 및 터치 전극 쇼팅바(350)가 게이트 레이어로, GIP 연결배선(342) 및 GIP 쇼팅바(340)는 터치 전극(공통전극) 레이어로 형성된 예를 도시하며, 이 경우 양 쇼팅바는 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)과 같은 3개의 절연층에 의하여 절연 분리되어 있다.In (b) of FIG. 7, the touch
도 7의 (c)의 실시예는 터치 전극 연결배선(352) 및 터치 전극 쇼팅바(350)가 화소전극 레이어로, GIP 연결배선(342) 및 GIP 쇼팅바(340)는 터치 전극(공통전극) 레이어로 형성된 예를 도시하며, 이 경우 양 쇼팅바는 층간 절연막(INS) 및 패시베이션막(PL)과 같은 2개의 절연층에 의하여 절연 분리되어 있다.In the embodiment of FIG. 7C, the touch
도 8은 본 발명의 일 실시예에 의한 단위 표시패널의 평면도로서, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후의 단위 표시패널을 도시한다.8 is a plan view of a unit display panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and illustrates the unit display panel after being cut by a scribing process.
도 3, 5와 같은 실시예의 표시패널에는 다수의 단위 표시패널이 형성되며, 이들의 단위 표시패널은 스크라이브 라인 또는 커팅 라인(370, 370’)에 의하여 절단됨으로써 각각의 단위 제품으로서의 단위 표시패널로 제작된다.3 and 5, a plurality of unit display panels are formed on the display panel, and the unit display panels are cut by scribe lines or cutting
이렇게 도 5와 같은 스크라이브 라인(370)을 통해 절단된 후의 단위 표시패널은 도 8과 같이, 다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인을 포함하되, 스크라이브 공정 이전에 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바(미도시) 및 GIP 쇼팅바(미도시)로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선(352) 및 GIP 연결배선(342)을 포함하며, 단위 표시패널의 일측(도 8의 패널 상부)에는 터치 전극 연결배선(352) 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바(340’)를 포함하고, 대향측(도 8의 패널 하부)에는 GIP 연결배선(342) 및 그와 상이한 레이어에 형성된 다른 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바(350’)를 포함하게 된다.In this way, the unit display panel after being cut through the
즉, 스크라이빙 공정에 의하여 절단된 이후에는 각 단위 표시패널에는 자기 자신의 터치 전극 및 GIP 라인의 정전기 방지를 위한 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바는 포함하지 않게 되며, 대신 절단 이전에 자신의 상부에 있었던 다른 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바(340’)를 패널 상부에 포함하고, 절단 이전에 자신의 하부에 있었던 다른 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바(350’)를 패널 하부에 포함하게 된다.That is, after being cut by the scribing process, each unit display panel does not include its own touch electrode and the touch electrode shorting bar and GIP shorting bar to prevent static electricity from the GIP line. The GIP shorting bar 340' of the other unit display panel that was located on the upper part is included on the upper part of the panel, and the touch electrode shorting bar 350' of the other unit display panel that was located under the panel before cutting is included in the lower part of the panel. .
본 명세서에서는 다른 단위 표시패널을 위하여 형성되었다가 절단 이후에 남게 되는 다른 표시패널의 쇼팅바라는 의미로서 “잔존 쇼팅바”라는 표현을 사용한다.In this specification, the expression “residual shorting bar” is used as a meaning of a shorting bar of another display panel that is formed for another unit display panel and remains after cutting.
이러한 잔존 터치 전극 쇼팅바(350’) 및 GIP 쇼팅바(340’)는 스크라이빙 이전에는 각각 상하부의 다른 단위 표시패널에서 발생할 수 있었던 정전기를 방전하는데 사용되었으나, 절단 공정 이후에는 단지 더미 패턴으로서 단위 표시패널에 포함될 뿐이다.These remaining touch
이와 같은 본 발명의 실시예를 이용하면, 터치형 표시패널의 GIP 쇼팅바와 인접 표시패널의 터치 전극 쇼팅바 또는 공통전극 쇼팅바를 동일한 공간에 레이어를 달리하여 중첩 배치할 수 있으므로, 대기판 상에서의 표시패널 배치효율을 높일 수 있고, 양 표시패널 사이의 이격 공간을 최소화함으로써 불량율을 감소시킬 수 있는 것이다.According to this embodiment of the present invention, since the GIP shorting bar of the touch-type display panel and the touch electrode shorting bar or the common electrode shorting bar of an adjacent display panel can be overlapped with different layers in the same space, the display on the standby plate The panel arrangement efficiency can be increased, and the defective rate can be reduced by minimizing the spaced space between both display panels.
또한, 각 단위 표시패널의 절단 기준선인 스크라이브 라인을 이중으로 할 필요없이 단일의 절단 라인만으로 가능하므로 공정이 단순해질 수 있으며, 비터치 표시패널의 제조공정에 사용되었던 포토 마스크 등을 그대로 이용할 수 있다는 장점도 포함한다. In addition, since the scribe line, which is the cut reference line of each unit display panel, is not required to be doubled, the process can be simplified, and the photomask used in the manufacturing process of the non-touch display panel can be used as it is. It also includes advantages.
이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The description above and the accompanying drawings are merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains, combinations of configurations without departing from the essential characteristics of the present invention Various modifications and variations, such as separation, substitution, and alteration, will be possible. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
300 : 제1 단위표시패널 300’: 제2단위 표시패널
310 : 터치전극 320 : 데이터/터치 구동부
331 : GIP 라인 333 : GIP 패드
340 : GIP 쇼팅바 342 : GIP 연결배선
350 : 터치전극 쇼팅바 352, 352’: 터치전극 연결배선
344, 354 : 컨택홀300: first unit display panel 300': second unit display panel
310: touch electrode 320: data/touch driver
331: GIP line 333: GIP pad
340: GIP shorting bar 342: GIP connection wiring
350: touch
344, 354: contact hole
Claims (10)
각각 다수의 터치 전극과 게이트 구동부로의 신호 배선인 GIP 라인을 포함하는 제 1 단위 표시패널 및 제 2 단위표시 패널;
양 단위 표시패널 사이의 이격 공간에 배치되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바;를 포함하며,
상기 제1 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바와 제2 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 다른 레이어로 형성되고,
상기 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 제2 단위 표시패널에 가깝게 배치되고, 상기 제 2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바는 상기 제1 단위 표시패널 GIP 쇼팅바보다 더 제1 단위 표시패널에 가깝게 배치되며,
상기 터치 전극과 상기 터치 전극 쇼팅바를 연결하는 터치 전극 연결배선 및 상기 GIP 라인과 상기 GIP 쇼팅바를 연결하는 GIP 연결배선이 교차하는 영역에 형성된 단일의 스크라이브 라인을 절단함으로써, 상기 제1단위 표시패널 및 상기 제2단위 표시패널이 분리되는 것을 특징으로 하는 표시패널.A display panel for a display device including two or more unit display panels,
A first unit display panel and a second unit display panel each including a plurality of touch electrodes and GIP lines as signal lines to the gate driver;
And a GIP shorting bar of the first unit display panel and a touch electrode shorting bar of the second unit display panel disposed in a spaced space between the unit display panels, and
The touch electrode shorting bar of the first unit display panel and the GIP shorting bar of the second unit display panel are formed in different layers,
The GIP shorting bar of the first unit display panel is disposed closer to the second unit display panel than the touch electrode shorting bar of the second unit display panel, and the touch electrode shorting bar of the second unit display panel displays the first unit. It is arranged closer to the first unit display panel than the panel GIP shorting bar,
By cutting a single scribe line formed in a region where the touch electrode connection wire connecting the touch electrode and the touch electrode shorting bar and the GIP connection wire connecting the GIP line and the GIP shorting bar intersect, the first unit display panel and The display panel, wherein the second unit display panel is separated.
상기 GIP 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 터치 전극 쇼팅바는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 1,
The GIP shorting bar is formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the touch electrode shorting bar is formed of the same layer and material as the gate layer.
상기 터치 전극 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극과 동일 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 GIP 쇼팅바는 게이트 레이어와 동일 레이어 및 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 1,
The touch electrode shorting bar is formed of the same layer and material as the pixel electrode or the common electrode, and the GIP shorting bar is formed of the same layer and material as the gate layer.
상기 터치 전극 연결배선은 상기 터치 전극과 동일 레이어로 터치전극에서 연장되는 제1 터치 전극 연결배선과, 터치전극 쇼팅바와 동일한 레이어 및 재료로서 일단이 터치 전극 쇼팅바와 연결되어 그로부터 연장되는 제 2 터치 전극 연결배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 1,
The touch electrode connection wiring includes a first touch electrode connection wiring extending from the touch electrode in the same layer as the touch electrode, and a second touch electrode extending from one end connected to the touch electrode shorting bar as the same layer and material as the touch electrode shorting bar. A display panel comprising a connection wiring.
제1 터치 전극 연결배선은 공통전극과 동일한 레이어 및 재료로 형성되고, 상기 제2 터치 전극 연결배선은 게이트 레이어와 동일한 레이어 및 재료로 형성되며, 상기 제1 및 제2 터치 전극 연결배선은 컨택홀을 통해 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 5,
The first touch electrode connection wiring is formed of the same layer and material as the common electrode, the second touch electrode connection wiring is formed of the same layer and material as the gate layer, and the first and second touch electrode connection wirings are formed of a contact hole. The display panel, characterized in that the electrical connection through.
다수의 화소가 정의된 표시영역에 배치된 다수의 터치 전극과, 게이트 구동부로 신호를 인가하기 위하여 비표시 영역에 형성된 다수의 GIP 라인;
스크라이브 공정 이전에 상기 터치 전극 및 GIP 라인을 각각 터치 전극 쇼팅바 및 GIP 쇼팅바로 연결하기 위한 터치 전극 연결배선 및 GIP 연결배선;을 포함하며,
상기 스크라이빙 공정에 의하여 분리되는 제1 단위 표시패널의 GIP 쇼팅바는 상기 스크라이빙 공정에 의하여 분리되는 제2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바보다 더 제2 단위 표시패널에 가깝게 배치되고, 상기 제 2 단위 표시패널의 터치 전극 쇼팅바는 상기 제1 단위 표시패널 GIP 쇼팅바보다 더 제1 단위 표시패널에 가깝게 배치되어, 상기 터치 전극 연결배선 및 상기 GIP 연결배선이 교차하는 영역에 형성된 단일의 스크라이브 라인을 절단함으로써 상기 제2 단위 표시패널의 일측에는 상기 터치 전극 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 상기 제1 단위 표시패널의 잔존 GIP 쇼팅바를 포함하고, 상기 제1 단위 표시패널의 일측에는 상기 GIP 연결배선 및 그와 상이한 레이어에 형성된 상기 제2 단위 표시패널의 잔존 터치전극 쇼팅바를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널.As a display panel separated by unit by a scribing process,
A plurality of touch electrodes disposed in a display area in which a plurality of pixels are defined, and a plurality of GIP lines formed in a non-display area to apply signals to the gate driver;
Including; touch electrode connection wiring and GIP connection wiring for connecting the touch electrode and the GIP line to the touch electrode shorting bar and the GIP shorting bar, respectively, before the scribing process,
The GIP shorting bar of the first unit display panel separated by the scribing process is disposed closer to the second unit display panel than the touch electrode shorting bar of the second unit display panel separated by the scribing process, The touch electrode shorting bar of the second unit display panel is disposed closer to the first unit display panel than the first unit display panel GIP shorting bar, and is formed in a region where the touch electrode connection wiring and the GIP connection wiring intersect. By cutting the scribe line of the second unit display panel, one side of the second unit display panel includes the touch electrode connection wiring and the remaining GIP shorting bar of the first unit display panel formed on a different layer, and the first unit display panel includes And a remaining touch electrode shorting bar of the second unit display panel formed on the GIP connection wiring and a layer different therefrom.
상기 터치 전극 연결배선은 게이트 레이어이고 상기 잔존 GIP 쇼팅바는 화소전극 또는 공통전극 레이어인 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 7,
The touch electrode connection wiring is a gate layer, and the remaining GIP shorting bar is a pixel electrode or a common electrode layer.
상기 GIP 쇼팅바 및 터치 전극 쇼팅바는 1 이상의 절연막에 의하여 절연 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 7,
The GIP shorting bar and the touch electrode shorting bar are insulated and separated by at least one insulating layer.
상기 절연막은 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(INS), 패시베이션막(PL) 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 표시패널.The method of claim 9,
The insulating layer is at least one of a gate insulating layer (GI), an interlayer insulating layer (INS), and a passivation layer (PL).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130153145A KR102156057B1 (en) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | Display Panel For Display Device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130153145A KR102156057B1 (en) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | Display Panel For Display Device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150067564A KR20150067564A (en) | 2015-06-18 |
KR102156057B1 true KR102156057B1 (en) | 2020-09-15 |
Family
ID=53515350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130153145A KR102156057B1 (en) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | Display Panel For Display Device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102156057B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170080733A (en) * | 2015-12-30 | 2017-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Touch-Integrated Display Device |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105093751B (en) | 2015-08-18 | 2018-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | Prevent the GOA layout designs of ESD |
KR102504495B1 (en) * | 2015-12-31 | 2023-03-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | Touch sensor integrated type display device |
KR102601644B1 (en) * | 2016-12-30 | 2023-11-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display device and driving method using the same |
CN107561760A (en) * | 2017-09-19 | 2018-01-09 | 惠科股份有限公司 | Embedded touch display device |
KR102488208B1 (en) | 2017-11-20 | 2023-01-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | Touch panel and touch device |
CN111665990B (en) * | 2020-06-16 | 2023-10-31 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | display module |
CN114942707B (en) * | 2022-06-08 | 2024-05-10 | 福建华佳彩有限公司 | Touch display screen for improving stability of GIP (gate-in-plane) driving circuit |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008083497A (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | Manufacturing method of electrode substrate |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101157973B1 (en) * | 2005-11-01 | 2012-06-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | Thin Film Transistor Array Substrate And Method For Testing The Same |
KR101595454B1 (en) * | 2009-08-07 | 2016-02-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | Manufacturing Method for Organic Light Emitting Diode Display Device and Organic Light Emitting Diode Display Substrate for being applied in the Same |
KR101710575B1 (en) * | 2010-09-30 | 2017-02-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | Array substrate for liquid crystal display device and method of fabricating the same |
KR101323052B1 (en) * | 2010-10-01 | 2013-10-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | Electrostatic capacity type touch screen panel |
KR101695295B1 (en) * | 2011-04-21 | 2017-01-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Mother of oganic electro-luminesence display device substate and manufactucring metod of the same |
-
2013
- 2013-12-10 KR KR1020130153145A patent/KR102156057B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008083497A (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | Manufacturing method of electrode substrate |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170080733A (en) * | 2015-12-30 | 2017-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Touch-Integrated Display Device |
KR102397765B1 (en) | 2015-12-30 | 2022-05-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | Touch-Integrated Display Device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150067564A (en) | 2015-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11093061B2 (en) | Touch-type display panel and short-repair method thereof | |
KR102156057B1 (en) | Display Panel For Display Device | |
CN108255354B (en) | Embedded touch display panel | |
KR102089074B1 (en) | Array Substrate for Display Panel and Manufacturing Method for the same | |
EP2960710B1 (en) | Display device integrated with touch screen panel and method for fabricating the same | |
CN108255355B (en) | Embedded touch display panel | |
KR102468767B1 (en) | Touch-Integrated Display Panel for Display Device | |
KR102481057B1 (en) | Touch-Integrated Display Panel and Display Device having the same | |
KR102320514B1 (en) | Touch type liquid crsytal display device | |
KR102494779B1 (en) | Liquid crystal display with touch | |
US11226524B2 (en) | Display device | |
US9213433B2 (en) | Display panel for display device | |
KR20080042294A (en) | Liquid crystal display associated with touch panel | |
US10739925B2 (en) | Touch screen panel-integrated display device and method for fabricating the same | |
US20140284574A1 (en) | Display apparatus and method of manufacturing the same | |
KR102531127B1 (en) | Touch-Integrated Display Panel and Display Device having the same | |
JP6718988B2 (en) | Active matrix substrate and display device using the same | |
JP2021097126A (en) | Active matrix substrate and manufacturing method for the same | |
KR102402024B1 (en) | Display device with a built-in touch screen and method for fabricating the same | |
KR20160079980A (en) | In-Cell Touch Type Display Device and Method for Manufacturing the same | |
KR102246696B1 (en) | In-Cell Touch Type Display Device and Method for Manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |