Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR102009477B1 - Method for manufacturing Liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing Liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
KR102009477B1
KR102009477B1 KR1020120156826A KR20120156826A KR102009477B1 KR 102009477 B1 KR102009477 B1 KR 102009477B1 KR 1020120156826 A KR1020120156826 A KR 1020120156826A KR 20120156826 A KR20120156826 A KR 20120156826A KR 102009477 B1 KR102009477 B1 KR 102009477B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
forming
liquid crystal
pigment
crystal display
Prior art date
Application number
KR1020120156826A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20140086395A (en
Inventor
김상엽
황태웅
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020120156826A priority Critical patent/KR102009477B1/en
Publication of KR20140086395A publication Critical patent/KR20140086395A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102009477B1 publication Critical patent/KR102009477B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336Illuminating devices
    • G02F1/133621Illuminating devices providing coloured light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

본 발명은 컬러 필터가 TFT 어레이 기판에 형성된 COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터들 간의 단차에 의한 빛샘을 방지한 액정 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은, 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1 컬러 필터 및 제2 컬러 필터를 형성하는 단계; 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터를 덮도록 제3 컬러 필터를 형성하는 단계; 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 동일 높이로 평탄화 시키는 단계; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 성하는 단계; 및 상기 화소 전극을 덮도록 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성한다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device which prevents light leakage due to steps between color filters in a color filter on TFT (COT) structure in which a color filter is formed on a TFT array substrate.
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes forming a thin film transistor in a plurality of pixel areas defined by a plurality of gate lines and a plurality of data lines; Forming a first color filter and a second color filter to cover the thin film transistor; Forming a third color filter to cover the first color filter and the second color filter; Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter and the third color filter to the same height; Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter; And a protective layer covering the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer.

Description

액정 디스플레이 장치의 제조방법{Method for manufacturing Liquid crystal display device}Method for manufacturing liquid crystal display device

본 발명은 컬러 필터가 TFT 어레이 기판에 형성된 구조에서 컬러 필터들 간의 단차에 의한 빛샘을 방지한 액정 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device in which light leakage due to a step between color filters is prevented in a structure in which a color filter is formed on a TFT array substrate.

액정 디스플레이 장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Liquid crystal display devices have a wide range of applications from notebook computers, monitors, spacecrafts, aircrafts, etc. to the advantages of low power consumption and low power consumption.

액정 디스플레이 장치는 상부 기판, 하부 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다. The liquid crystal display device includes an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and the arrangement state of the liquid crystal layer is adjusted according to whether an electric field is applied, and accordingly, the light transmittance is adjusted to display an image. to be.

이하, 도면을 참조로 하여 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a liquid crystal display device according to the related art will be described with reference to the drawings.

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다. 도 1 및 도 2에서는 액정 디스플레이 장치의 상부 기판, 액정층 및 구동 회로부의 도시는 생략하였다.1 and 2 are schematic cross-sectional views of a liquid crystal display device according to the prior art. 1 and 2, illustration of an upper substrate, a liquid crystal layer, and a driving circuit part of the liquid crystal display device is omitted.

도 1 및 도 2를 참조하면, 종래 기술의 액정 디스플레이 장치는 상부 기판(미도시), 하부 기판(1)과 상기 상부 기판과 하부 기판(1) 사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하여 구성된다.1 and 2, the liquid crystal display device according to the related art includes an upper substrate (not shown), a lower substrate 1, and a liquid crystal layer (not shown) formed between the upper substrate and the lower substrate 1. It is composed.

하부 기판(1)의 글래스 기판(10) 상에는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(40)이 교차하도록 형성되어 복수의 화소 영역을 정의하고, 각 화소마다 스위칭 소자로써 TFT(30, thin film transistor)가 형성되어 있다.On the glass substrate 10 of the lower substrate 1, a plurality of gate lines (not shown) and a plurality of data lines 40 are formed to cross each other to define a plurality of pixel regions, and each pixel is a TFT 30 as a switching element. thin film transistor).

그리고, 각 화소에는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(20)가 형성되어 있고, 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(BM: Black matrix)가 형성되어 있다. 또한, 블랙 매트릭스(BM) 상에는 상부 기판과의 셀갭을 형성시키기 위한 컬럼 스페이서(CS: column spacer)가 형성되어 있다.In each pixel, color filters 20 of red (R), green (G), and blue (B) are formed, and a black matrix (BM: Black matrix) for preventing light leakage is formed. In addition, a column spacer (CS) for forming a cell gap with the upper substrate is formed on the black matrix BM.

TFT(30)를 덮도록 컬러 필터(20)가 형성되어 있고, 컬러 필터(20) 위에 화소 전극(50)이 형성되어 있다. 화소 전극(50)을 덮도록 보호층(60)이 형성되어 있고, 보호층(60) 상에 공통 전극(70)이 형성되어 있다.The color filter 20 is formed to cover the TFT 30, and the pixel electrode 50 is formed on the color filter 20. The protective layer 60 is formed to cover the pixel electrode 50, and the common electrode 70 is formed on the protective layer 60.

상술한 구성을 포함하는 종래 기수에 따른 액정 디스플레이 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 안료를 오버랩시켜 컬러 필터(20)를 형성하여 데이터 라인(40)이 형성된 영역에서의 빛샘을 방지하고 있다.In the conventional liquid crystal display device having the above-described configuration, as shown in FIG. 1, the color filter 20 is formed by overlapping pigments to prevent light leakage in an area in which the data line 40 is formed.

도 2에 도시된 바와 같이, 하부 기판(1)을 제조할 때 공통 전극(70)을 형성한 후, 액정의 초기 배향을 위해 러빙포(80)를 이용하여 러빙 공정을 진행하게 된다. 여기서, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(20)가 오버랩되어 있어 컬러 필터(20)의 간에 단차가 발생하고, 특히 데이터 라인(40)과 중첩된 영역에서는 컬러 필터의 단차가 심화되어 러빙이 원활이 이루어지지 않아 빛샘이 발생되는 문제점이 있다.As illustrated in FIG. 2, after forming the common electrode 70 when manufacturing the lower substrate 1, a rubbing process is performed using the rubbing cloth 80 for the initial alignment of the liquid crystal. Here, the red (R), the green (G), and the blue (B) color filters 20 overlap, and a step occurs between the color filters 20, and particularly in an area overlapping the data line 40. Since the step of the color filter is deepened rubbing is not performed smoothly, there is a problem that light leakage occurs.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 컬러 필터들 간의 단차로 인해 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있는 액정 디스플레이 장치의 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. Disclosure of Invention The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of preventing light leakage caused by a step between color filters.

위에서 언급된 본 발명의 기술적 과제 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the technical task of the present invention mentioned above, other features and advantages of the present invention will be described below, or from such description and description will be clearly understood by those skilled in the art.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은, 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1 컬러 필터 및 제2 컬러 필터를 형성하는 단계; 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터를 덮도록 제3 컬러 필터를 형성하는 단계; 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 동일 높이로 평탄화 시키는 단계; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 성하는 단계; 및 상기 화소 전극을 덮도록 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, including: forming a thin film transistor in a plurality of pixel areas defined by a plurality of gate lines and a plurality of data lines; Forming a first color filter and a second color filter to cover the thin film transistor; Forming a third color filter to cover the first color filter and the second color filter; Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter and the third color filter to the same height; Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter; And forming a protective layer to cover the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는, 하부 기판 상에 교차하도록 형성된 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인; 상기 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 형성된 복수의 박막트랜지스터; 상기 복수의 박막트랜지스터의 상부에 형성된 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 형성됨과 아울러 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접속된 화소 전극; 상기 화소 전극을 덮도록 형성된 보호층; 및 상기 보호층 상에 형성된 공통 전극;을 포함하고, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터가 동일 높이로 평탄하게 형성된 것을 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes: a plurality of gate lines and a plurality of data lines formed to cross on a lower substrate; A plurality of thin film transistors formed in the plurality of pixel areas defined by the plurality of gate lines and the plurality of data lines; A first color filter, a second color filter, and a third color filter formed on the plurality of thin film transistors; A pixel electrode formed on the first color filter, the second color filter, and the third color filter and connected to the drain electrode of the thin film transistor; A protective layer formed to cover the pixel electrode; And a common electrode formed on the protective layer, wherein the first color filter, the second color filter, and the third color filter are formed to have the same height.

본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은 컬러 필터들을 평탄화시켜 COT 구조에서 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The manufacturing method of the liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention can flatten the color filters to prevent generation of light leakage in the COT structure.

본 발명에 따르면, 하부 기판 상에 박막 트랜지스터, 화소 전극, 공통 전극, 컬러 필터 및 컬럼 스페이서가 함께 형성되어 있기 때문에, 상기 하부 기판과 마주하는 상부 기판을 위한 공정 라인을 생략하거나 또는 간소화할 수 있다. According to the present invention, since the thin film transistor, the pixel electrode, the common electrode, the color filter, and the column spacer are formed together on the lower substrate, the process line for the upper substrate facing the lower substrate can be omitted or simplified. .

이 밖에도, 본 발명의 실시 예들을 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 이점들이 새롭게 파악될 수도 있을 것이다.In addition, other features and advantages of the present invention may be newly understood through the embodiments of the present invention.

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 단면도이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법으로, COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터를 형성하는 제조방법을 나타내는 도면이다.
1 and 2 are schematic cross-sectional views of a liquid crystal display device according to the prior art.
3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 and 5 illustrate a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which forms a color filter in a color filter on TFT (COT) structure.

본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. In the present specification, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components have the same number as much as possible even though they are displayed on different drawings.

한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. On the other hand, the meaning of the terms described herein will be understood as follows.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.Singular expressions should be understood to include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise, and the terms “first”, “second”, etc. are used to distinguish one component from another. The scope of the rights shall not be limited by these terms.

"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.It is to be understood that the term "comprises" or "having" does not preclude the existence or addition of one or more other features or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.The term "at least one" should be understood to include all combinations which can be presented from one or more related items. For example, the meaning of "at least one of the first item, the second item, and the third item" means two items of the first item, the second item, and the third item, as well as two items of the first item, the second item, and the third item, respectively. A combination of all items that can be presented from more than one.

본 발명의 실시 예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물 '상에 또는 상부에' 및 '아래에 또는 하부에' 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing embodiments of the present invention, when a structure is described as being formed 'on or on top' and 'under or under' another structure, these descriptions may be used to describe these structures as well as the structures in contact with each other. It should be interpreted as including even if a third structure is interposed between them.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는 상부 기판(미도시), 하부 기판(100)과 상기 상부 기판과 하부 기판(100) 사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 3, a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes an upper substrate (not shown), a lower substrate 100, and a liquid crystal layer (not shown) formed between the upper substrate and the lower substrate 100. It is configured by.

하부 기판(100)의 글래스 기판(110) 상에는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(140)이 교차하도록 형성되어 복수의 화소 영역을 정의하고, 각 화소마다 스위칭 소자로써 TFT(130)가 형성되어 있다.On the glass substrate 110 of the lower substrate 100, a plurality of gate lines (not shown) and a plurality of data lines 140 intersect to define a plurality of pixel regions, and the TFT 130 is a switching element for each pixel. ) Is formed.

그리고, 각 화소에는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)가 형성되어 있고, 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(BM: Black matrix)가 형성되어 있다. 또한, 블랙 매트릭스(BM) 상에는 상부 기판과의 셀갭을 형성시키기 위한 컬럼 스페이서(미도시, column spacer)가 형성되어 있다.Each pixel is formed with a color filter 120 of red (R), green (G), and blue (B), and a black matrix (BM: Black matrix) is formed to prevent light leakage. In addition, a column spacer (not shown) is formed on the black matrix BM to form a cell gap with the upper substrate.

TFT(130)를 덮도록 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)가 형성되어 있고, 컬러 필터(120) 위에 화소 전극(150)이 형성되어 있다. 화소 전극(150)을 덮도록 보호층(160)이 형성되어 있고, 보호층(160) 상에 공통 전극(170)이 형성되어 있다.Red (R), green (G), and blue (B) color filters 120 are formed to cover the TFTs 130, and pixel electrodes 150 are formed on the color filters 120. The passivation layer 160 is formed to cover the pixel electrode 150, and the common electrode 170 is formed on the passivation layer 160.

게이트 라인과 데이터 라인은 곧은 직선으로 배열될 수도 있고, 굽은 직선의 형태로 배열될 수도 있다. TFT(130)는 스위칭 소자로서 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 영역에 형성된다. The gate line and the data line may be arranged in a straight straight line, or may be arranged in the form of a curved straight line. The TFT 130 is formed in a region where the gate line and the data line intersect as switching elements.

상기 박막 트랜지스터(T)는 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하여 이루어진다. 상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인에서 분기되고, 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인에서 분기되고, 상기 드레인 전극은 상기 소스 전극과 마주하도록 형성된다. 도 3에서는 게이트 전극이 반도체층의 아래쪽에 위치하는 바텀 게이트(bottom gate) 방식의 TFT를 일 예로 나타내고 있으나, 이에 한정되지 않고 게이트 전극이 반도체층 위쪽에 위치하는 탑 게이트(top gate) 방식으로 TFT가 형성될 수 있다.The thin film transistor T includes a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode, and a drain electrode. The gate electrode is branched from the gate line, the source electrode is branched from the data line, and the drain electrode is formed to face the source electrode. In FIG. 3, a bottom gate type TFT in which a gate electrode is positioned below the semiconductor layer is illustrated as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the TFT is formed in a top gate type manner in which the gate electrode is positioned above the semiconductor layer. Can be formed.

상기 화소 전극(150)은 상기 화소 각각에 형성되어 있으며, 이와 같은 화소 전극(150)은 상기 TFT(130) 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있다. 특히, 상기 화소 전극(150)은 소정의 컨택홀을 통해서 상기 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다. The pixel electrode 150 is formed in each of the pixels, and the pixel electrode 150 is electrically connected to the drain electrode of the TFT 130. In particular, the pixel electrode 150 may be electrically connected to the drain electrode of the thin film transistor T through a predetermined contact hole.

상기 공통 전극(170)은 상기 화소 전극(150)과 서로 다른 레이어에 배열되어 있으며, 이와 같이 배열된 화소 전극(150) 및 공통 전극(170) 사이에 발생하는 프린지 필드(fringe field)를 통해서 액정층의 배열방향이 조절될 수 있다. The common electrode 170 is arranged on a different layer from the pixel electrode 150, and the liquid crystal is formed through a fringe field generated between the pixel electrode 150 and the common electrode 170 arranged as described above. The arrangement direction of the layers can be controlled.

상기 공통 전극(170)은 상기 게이트 라인(11)과 평행하게 배열된 공통 라인에 연결되어 있어, 상기 공통 라인을 통해 상기 공통 전극(170)에 공통 전압이 인가될 수 있다.The common electrode 170 is connected to a common line arranged in parallel with the gate line 11, so that a common voltage may be applied to the common electrode 170 through the common line.

여기서, 기존의 COT 구조에서는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터들이 서로 오버랩 되도록 형성되어 있었으나, 본 발명에서는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)들이 서로 오버랩되지 않고 평탄하게 형성되어 있다. 즉, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)의 높이가 동일하도록 형성되어, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)의 경계부분에서 단차가 발생되지 않는다.Here, in the conventional COT structure, red (R), green (G), and blue (B) color filters are formed to overlap each other, but in the present invention, red (R), green (G), and blue (B). ) Color filters 120 are formed flat without overlapping each other. That is, the heights of the color filters 120 of red (R), green (G), and blue (B) are formed to be the same, and the color filters of red (R), green (G), and blue (B) ( Steps do not occur at the boundary of 120).

또한, 데이터 라인(140)이 형성된 영역의 컬러 필터(120)도 다른 영역과 동일한 높이로 평탄하게 형성되어 컬러 필터의 단차로 인해 발생되었던 빛샘 불량을 방지할 수 있다.In addition, the color filter 120 in the region where the data line 140 is formed may also be formed to have the same height as other regions to prevent light leakage defects caused by the step of the color filter.

도 4 및 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법으로, COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터를 형성하는 제조방법을 나타내는 도면이다.4 and 5 illustrate a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which forms a color filter in a color filter on TFT (COT) structure.

도 3에 도 4 및 도 5를 결부하여 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법을 설명한다.A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 5.

글래스 기판(110) 상에 게이트 전극(131)을 형성하고, 상기 게이트 전극(131) 상에 게이트 절연막(132)을 형성한다. 이후, 상기 게이트 절연막(132) 상에 반도체층(133)을 형성하고, 상기 반도체층(133)의 상부 일측에 소스 전극(134)을 형성하고, 상기 반도체층(133)의 상부 타측에 드레인 전극(135)을 형성한다. 이를 통해, 각 화소마다 TFT(130)를 형성할 수 있다.A gate electrode 131 is formed on the glass substrate 110, and a gate insulating layer 132 is formed on the gate electrode 131. Thereafter, a semiconductor layer 133 is formed on the gate insulating layer 132, a source electrode 134 is formed on one side of the semiconductor layer 133, and a drain electrode is formed on the other side of the semiconductor layer 133. And form 135. As a result, the TFT 130 may be formed for each pixel.

이어서, 도 4을 참조하면, TFT(130)를 덮도록 컬러 필터(120)를 형성한다.4, the color filter 120 is formed to cover the TFT 130.

먼저, 적색 안료로 적색 컬러 필터(120R)을 형성하고, 이후, 녹색 안료로 녹색 컬러 필터(120G)를 형성한다. 이때, 녹색 안료가 적색 컬러 필터(120R)의 경계 부분에 오버랩되어 적색 컬러 필터(120R)와 녹색 컬러 필터(120G)가 중첩된 영역에서는 단차가 생긴다.First, a red color filter 120R is formed of a red pigment, and a green color filter 120G is then formed of a green pigment. At this time, the green pigment overlaps the boundary portion of the red color filter 120R, and a step occurs in the region where the red color filter 120R and the green color filter 120G overlap.

이어서, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 안료가 형성한다. 이를 통해, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B)가 두껍게 형성된다.Subsequently, a blue pigment is formed to cover the red color filter 120R and the green color filter 120G. As a result, the blue color filter 120B is thickly formed to cover the red color filter 120R and the green color filter 120G.

적색 안료와 녹색 안료를 코팅(coating)하여 상기 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 형성한 후, 청색 안료를 기판 전면에 코팅하여 상기 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B)를 형성한다.After coating the red pigment and the green pigment (coating) to form the red color filter (120R) and green color filter (120G), the blue pigment is coated on the entire surface of the substrate to the red color filter (120R) and green color filter ( The blue color filter 120B is formed so as to cover 120G).

이어서, 도 5를 참조하면, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B) 상에 드라이 에치(dry etch) 공정을 수행한다.Subsequently, referring to FIG. 5, a dry etch process is performed on the blue color filter 120B to cover the red color filter 120R and the green color filter 120G.

적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮고 있던 청색 컬러 필터(120B)의 높이를 낮추고, 이후, 적색 컬러 필터(120R)의 경계부분에 오버랩되어 돌출된 녹색 컬러 필터(120G)이 일부분을 제거한다.The height of the blue color filter 120B covering the red color filter 120R and the green color filter 120G is lowered. Then, the green color filter 120G protruding by overlapping the boundary of the red color filter 120R is formed. Remove part of it.

이와 같이, 드라이 에치 공정을 수행하여 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)가 동일 높이를 가지도록 평탄화시킨다.As such, the dry etch process is performed to flatten the red color filter 120R, the green color filter 120G, and the blue color filter 120B to have the same height.

이를 통해, 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)의 높이가 모두 동일하게 형성되고, 각 컬러 필터의 경계부분에서 오버랩된 부분을 제거할 수 있다. As a result, the heights of the red color filter 120R, the green color filter 120G, and the blue color filter 120B are all the same, and the overlapped portions can be removed from the boundary of each color filter.

다시, 도 3을 참조하면, 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)의 높이가 평탄하도록 컬러 필터(120)를 형성한 후, 컬러 필터(120) 위에 화소 전극(150)을 형성한다.Referring again to FIG. 3, after the color filter 120 is formed such that the heights of the red color filter 120R, the green color filter 120G, and the blue color filter 120B are flat, the pixel on the color filter 120 is formed. An electrode 150 is formed.

여기서, TFT(130)의 드레인과 중첩된 부분의 컬러 필터(120)를 식각하여 컨택홀을 형성하고, 컬러 필터(120) 상부와 상기 컨택홀 내부에 ITO와 같은 투명 전도성 물질을 증착하여 화소 전극(150)을 형성한다.The contact hole is formed by etching the color filter 120 overlapping the drain of the TFT 130, and a transparent conductive material such as ITO is deposited on the color filter 120 and the contact hole to form a pixel electrode. 150 is formed.

이어서, 화소 전극(150)을 덮도록 보호층(160)을 형성하고, 상기 보호층(160) 상에 공통 전극(170)을 형성한다. 이후, 러빙포를 이용한 러빙 공정을 수행한다.Next, the protective layer 160 is formed to cover the pixel electrode 150, and the common electrode 170 is formed on the protective layer 160. Thereafter, a rubbing process using a rubbing cloth is performed.

상술한 제조방법을 통해 제조되는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는 하부 기판(100)에 형성된 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)가 단차 없이 동일한 높이로 평탄하게 형성되어 러빙포를 이용한 러빙 공정이 원활이 이루어지도록 할 수 있다. 하부 기판(100) 전면에서 균일하게 러빙이 이루어져 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있다.In the liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention manufactured by the above-described manufacturing method, the red color filter 120R, the green color filter 120G, and the blue color filter 120B formed on the lower substrate 100 are identical to each other without any step difference. It is formed to be flat at a height to facilitate the rubbing process using a rubbing cloth. Rubbing is uniformly performed on the entire lower substrate 100 to prevent light leakage.

100: 하부 기판 110: 글래스 기판
120: 컬러 필터 120R: 적색 컬러 필터
120G: 녹색 컬러 필터 120B: 청색 컬러 필터
130: TFT 140: 데이터 라인
150: 화소 전극 160: 보호층
170: 공통 전극 BM: 블랙 매트릭스
100: lower substrate 110: glass substrate
120: color filter 120R: red color filter
120G: green color filter 120B: blue color filter
130: TFT 140: data line
150: pixel electrode 160: protective layer
170: common electrode BM: black matrix

Claims (8)

복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역 각각에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 복수의 화소 영역 중 일부에 대응하고 상기 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮는 제1 컬러 필터를 형성하며, 상기 복수의 화소 영역 중 다른 일부에 대응하고 상기 다른 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮으며 상기 제1 컬러 필터의 경계부분과 오버랩되는 제2 컬러 필터를 형성하는 단계;
상기 복수의 화소 영역 중 또 다른 일부에 대응하고 상기 또 다른 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮으며 상기 제 1 및 제 2 컬러 필터를 더 덮는 제3 컬러 필터를 형성하는 단계;
드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 상호 동일 높이로 평탄화 시키는 단계;
상기 상호 동일 높이로 평탄화된 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 형성하는 단계; 및
상기 화소 전극을 덮는 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 상호 동일 높이로 평탄화 시키는 단계에서, 상기 드라이 에치를 통해 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터 사이의 오버랩된 부분, 및 상기 제1 및 제2 컬러 필터 각각과 상기 제3 컬러 필터 사이의 오버랩된 부분을 제거하는 액정 디스플레이 장치의 제조방법.
Forming a thin film transistor in each of the plurality of pixel regions defined by the plurality of gate lines and the plurality of data lines;
Forming a first color filter corresponding to a part of the plurality of pixel areas and covering the thin film transistor corresponding to the part of the pixel area, corresponding to another part of the plurality of pixel areas, and corresponding to the other part of the pixel area Forming a second color filter covering the thin film transistor and overlapping a boundary of the first color filter;
Forming a third color filter covering the thin film transistor corresponding to another part of the plurality of pixel areas and corresponding to the other part of the pixel area and further covering the first and second color filters;
Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter, and the third color filter to the same height;
Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter flattened to the same height; And
Forming a protective layer covering the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer;
Performing the dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter, and the third color filter to the same height, and through the dry etch, the first color filter and the second color filter. A method of manufacturing a liquid crystal display device which removes an overlapped portion between and an overlapped portion between each of the first and second color filters and the third color filter.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제1 컬러 필터는 적색 컬러 필터이고,
상기 제2 컬러 필터는 녹색 컬러 필터이고,
상기 제3 컬러 필터는 청색 컬러 필터인 액정 디스플레이 장치의 제조방법.
According to claim 1,
The first color filter is a red color filter,
The second color filter is a green color filter,
And the third color filter is a blue color filter.
제1 항에 있어서,
상기 제1 컬러 필터를 형성하고 상기 제2 컬러 필터를 형성하는 단계에서, 제1 안료를 코팅하여 상기 제1 컬러 필터를 형성하고, 제2 안료를 코팅하여 상기 제2 컬러 필터를 형성하며,
상기 제3 컬러 필터를 형성하는 단계에서, 상기 제1 및 제2 컬러 필터를 포함한 전면에 제3 안료를 코팅하여 상기 제3 컬러 필터를 형성하는 액정 디스플레이 장치의 제조방법.
According to claim 1,
Forming the first color filter and forming the second color filter, coating a first pigment to form the first color filter, coating a second pigment to form the second color filter,
And forming the third color filter by coating a third pigment on the entire surface including the first and second color filters in the forming of the third color filter.
제4 항에 있어서,
상기 제1 안료는 적색 안료이고,
상기 제2 안료는 녹색 안료이고,
상기 제3 안료는 청색 안료인 액정 디스플레이 장치의 제조방법.
The method of claim 4, wherein
The first pigment is a red pigment,
The second pigment is a green pigment,
The third pigment is a blue pigment manufacturing method of a liquid crystal display device.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020120156826A 2012-12-28 2012-12-28 Method for manufacturing Liquid crystal display device KR102009477B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120156826A KR102009477B1 (en) 2012-12-28 2012-12-28 Method for manufacturing Liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120156826A KR102009477B1 (en) 2012-12-28 2012-12-28 Method for manufacturing Liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140086395A KR20140086395A (en) 2014-07-08
KR102009477B1 true KR102009477B1 (en) 2019-08-09

Family

ID=51735696

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120156826A KR102009477B1 (en) 2012-12-28 2012-12-28 Method for manufacturing Liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102009477B1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102281844B1 (en) 2015-01-02 2021-07-26 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal display and method for manufacturing the same
KR102260872B1 (en) 2015-01-09 2021-06-04 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal display
KR101875695B1 (en) * 2015-11-30 2018-07-06 엘지디스플레이 주식회사 Array Substrate For Liquid Crystal Display Device And Method Of Fabricating The Same
KR102589859B1 (en) 2016-03-22 2023-10-16 삼성디스플레이 주식회사 Color filter panel and display device including the same
CN109656056B (en) * 2019-02-28 2021-07-16 上海天马微电子有限公司 Reflective display panel and reflective display device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106602A (en) * 2004-10-08 2006-04-20 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Method for manufacturing liquid crystal display device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101027900B1 (en) * 2004-06-04 2011-04-08 엘지디스플레이 주식회사 Color filter array substrate and its manufacturing method
KR101631620B1 (en) * 2009-10-13 2016-06-17 엘지디스플레이 주식회사 Fringe field switching liquid crystal display device and method of fabricating the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106602A (en) * 2004-10-08 2006-04-20 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Method for manufacturing liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140086395A (en) 2014-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101325916B1 (en) Liquid Crystal Display Device
US10108055B2 (en) Curved liquid crystal display
JP5437971B2 (en) Liquid crystal display
JP6621284B2 (en) Display device
CN102629606B (en) Array substrate and preparation method thereof and display device
US9519194B2 (en) Liquid crystal display
TWI522704B (en) Display panel
US9766506B2 (en) Array substrate and liquid crystal display device including the same
WO2016106842A1 (en) Thin-film transistor array substrate, liquid crystal panel and liquid crystal display
US9291841B2 (en) Display device and method of manufacturing the same
TWI752954B (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
CN105278190B (en) Liquid crystal display device
KR102009477B1 (en) Method for manufacturing Liquid crystal display device
US8665413B2 (en) Thin film transistor array panel, liquid crystal display, and manufacturing method thereof
KR102000648B1 (en) Array substrate, display device and manufacturing method of the array substrate
US9915846B2 (en) Array substrate and display device
WO2016058330A1 (en) Array substrate and manufacturing method therefor, and display device
KR102178887B1 (en) Array substrate and liquid crystal display device inluding the same
KR102043862B1 (en) Liquid Crystal Display Device and Method of manufacturing the sames
KR102136638B1 (en) Liquid crystal display apparatus
KR20140018576A (en) Display device
US20160195743A1 (en) Liquid crystal display
JP2013057704A (en) Liquid crystal display device
KR101874789B1 (en) Liquid Crystal Display Device
KR101974513B1 (en) Liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20121228

PG1501 Laying open of application
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20171215

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20121228

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20180928

Patent event code: PE09021S01D

AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20190521

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20180928

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

AMND Amendment
PX0901 Re-examination

Patent event code: PX09011S01I

Patent event date: 20190521

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PX09012R01I

Patent event date: 20181228

Comment text: Amendment to Specification, etc.

PX0701 Decision of registration after re-examination

Patent event date: 20190711

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PX07013S01D

Patent event date: 20190614

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

Patent event date: 20190521

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PX07011S01I

Patent event date: 20181228

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20190805

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20190805

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220715

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20230801

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20240715

Start annual number: 6

End annual number: 6