KR102009477B1 - Method for manufacturing Liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 컬러 필터가 TFT 어레이 기판에 형성된 COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터들 간의 단차에 의한 빛샘을 방지한 액정 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은, 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1 컬러 필터 및 제2 컬러 필터를 형성하는 단계; 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터를 덮도록 제3 컬러 필터를 형성하는 단계; 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 동일 높이로 평탄화 시키는 단계; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 성하는 단계; 및 상기 화소 전극을 덮도록 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device which prevents light leakage due to steps between color filters in a color filter on TFT (COT) structure in which a color filter is formed on a TFT array substrate.
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes forming a thin film transistor in a plurality of pixel areas defined by a plurality of gate lines and a plurality of data lines; Forming a first color filter and a second color filter to cover the thin film transistor; Forming a third color filter to cover the first color filter and the second color filter; Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter and the third color filter to the same height; Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter; And a protective layer covering the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer.
Description
본 발명은 컬러 필터가 TFT 어레이 기판에 형성된 구조에서 컬러 필터들 간의 단차에 의한 빛샘을 방지한 액정 디스플레이 장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device in which light leakage due to a step between color filters is prevented in a structure in which a color filter is formed on a TFT array substrate.
액정 디스플레이 장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Liquid crystal display devices have a wide range of applications from notebook computers, monitors, spacecrafts, aircrafts, etc. to the advantages of low power consumption and low power consumption.
액정 디스플레이 장치는 상부 기판, 하부 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다. The liquid crystal display device includes an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the two substrates, and the arrangement state of the liquid crystal layer is adjusted according to whether an electric field is applied, and accordingly, the light transmittance is adjusted to display an image. to be.
이하, 도면을 참조로 하여 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a liquid crystal display device according to the related art will be described with reference to the drawings.
도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다. 도 1 및 도 2에서는 액정 디스플레이 장치의 상부 기판, 액정층 및 구동 회로부의 도시는 생략하였다.1 and 2 are schematic cross-sectional views of a liquid crystal display device according to the prior art. 1 and 2, illustration of an upper substrate, a liquid crystal layer, and a driving circuit part of the liquid crystal display device is omitted.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래 기술의 액정 디스플레이 장치는 상부 기판(미도시), 하부 기판(1)과 상기 상부 기판과 하부 기판(1) 사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하여 구성된다.1 and 2, the liquid crystal display device according to the related art includes an upper substrate (not shown), a
하부 기판(1)의 글래스 기판(10) 상에는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(40)이 교차하도록 형성되어 복수의 화소 영역을 정의하고, 각 화소마다 스위칭 소자로써 TFT(30, thin film transistor)가 형성되어 있다.On the
그리고, 각 화소에는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(20)가 형성되어 있고, 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(BM: Black matrix)가 형성되어 있다. 또한, 블랙 매트릭스(BM) 상에는 상부 기판과의 셀갭을 형성시키기 위한 컬럼 스페이서(CS: column spacer)가 형성되어 있다.In each pixel,
TFT(30)를 덮도록 컬러 필터(20)가 형성되어 있고, 컬러 필터(20) 위에 화소 전극(50)이 형성되어 있다. 화소 전극(50)을 덮도록 보호층(60)이 형성되어 있고, 보호층(60) 상에 공통 전극(70)이 형성되어 있다.The
상술한 구성을 포함하는 종래 기수에 따른 액정 디스플레이 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 안료를 오버랩시켜 컬러 필터(20)를 형성하여 데이터 라인(40)이 형성된 영역에서의 빛샘을 방지하고 있다.In the conventional liquid crystal display device having the above-described configuration, as shown in FIG. 1, the
도 2에 도시된 바와 같이, 하부 기판(1)을 제조할 때 공통 전극(70)을 형성한 후, 액정의 초기 배향을 위해 러빙포(80)를 이용하여 러빙 공정을 진행하게 된다. 여기서, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(20)가 오버랩되어 있어 컬러 필터(20)의 간에 단차가 발생하고, 특히 데이터 라인(40)과 중첩된 영역에서는 컬러 필터의 단차가 심화되어 러빙이 원활이 이루어지지 않아 빛샘이 발생되는 문제점이 있다.As illustrated in FIG. 2, after forming the
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 컬러 필터들 간의 단차로 인해 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있는 액정 디스플레이 장치의 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. Disclosure of Invention The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of preventing light leakage caused by a step between color filters.
위에서 언급된 본 발명의 기술적 과제 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the technical task of the present invention mentioned above, other features and advantages of the present invention will be described below, or from such description and description will be clearly understood by those skilled in the art.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은, 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1 컬러 필터 및 제2 컬러 필터를 형성하는 단계; 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터를 덮도록 제3 컬러 필터를 형성하는 단계; 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 동일 높이로 평탄화 시키는 단계; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 성하는 단계; 및 상기 화소 전극을 덮도록 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, including: forming a thin film transistor in a plurality of pixel areas defined by a plurality of gate lines and a plurality of data lines; Forming a first color filter and a second color filter to cover the thin film transistor; Forming a third color filter to cover the first color filter and the second color filter; Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter and the third color filter to the same height; Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter; And forming a protective layer to cover the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는, 하부 기판 상에 교차하도록 형성된 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인; 상기 복수의 게이트 라인과 복수의 데이터 라인에 의해 정의된 복수의 화소 영역에 형성된 복수의 박막트랜지스터; 상기 복수의 박막트랜지스터의 상부에 형성된 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터; 상기 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 형성됨과 아울러 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접속된 화소 전극; 상기 화소 전극을 덮도록 형성된 보호층; 및 상기 보호층 상에 형성된 공통 전극;을 포함하고, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터가 동일 높이로 평탄하게 형성된 것을 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes: a plurality of gate lines and a plurality of data lines formed to cross on a lower substrate; A plurality of thin film transistors formed in the plurality of pixel areas defined by the plurality of gate lines and the plurality of data lines; A first color filter, a second color filter, and a third color filter formed on the plurality of thin film transistors; A pixel electrode formed on the first color filter, the second color filter, and the third color filter and connected to the drain electrode of the thin film transistor; A protective layer formed to cover the pixel electrode; And a common electrode formed on the protective layer, wherein the first color filter, the second color filter, and the third color filter are formed to have the same height.
본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법은 컬러 필터들을 평탄화시켜 COT 구조에서 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The manufacturing method of the liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention can flatten the color filters to prevent generation of light leakage in the COT structure.
본 발명에 따르면, 하부 기판 상에 박막 트랜지스터, 화소 전극, 공통 전극, 컬러 필터 및 컬럼 스페이서가 함께 형성되어 있기 때문에, 상기 하부 기판과 마주하는 상부 기판을 위한 공정 라인을 생략하거나 또는 간소화할 수 있다. According to the present invention, since the thin film transistor, the pixel electrode, the common electrode, the color filter, and the column spacer are formed together on the lower substrate, the process line for the upper substrate facing the lower substrate can be omitted or simplified. .
이 밖에도, 본 발명의 실시 예들을 통해 본 발명의 또 다른 특징 및 이점들이 새롭게 파악될 수도 있을 것이다.In addition, other features and advantages of the present invention may be newly understood through the embodiments of the present invention.
도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 단면도이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법으로, COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터를 형성하는 제조방법을 나타내는 도면이다.1 and 2 are schematic cross-sectional views of a liquid crystal display device according to the prior art.
3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 and 5 illustrate a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which forms a color filter in a color filter on TFT (COT) structure.
본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. In the present specification, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components have the same number as much as possible even though they are displayed on different drawings.
한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. On the other hand, the meaning of the terms described herein will be understood as follows.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.Singular expressions should be understood to include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise, and the terms “first”, “second”, etc. are used to distinguish one component from another. The scope of the rights shall not be limited by these terms.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.It is to be understood that the term "comprises" or "having" does not preclude the existence or addition of one or more other features or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.The term "at least one" should be understood to include all combinations which can be presented from one or more related items. For example, the meaning of "at least one of the first item, the second item, and the third item" means two items of the first item, the second item, and the third item, as well as two items of the first item, the second item, and the third item, respectively. A combination of all items that can be presented from more than one.
본 발명의 실시 예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물 '상에 또는 상부에' 및 '아래에 또는 하부에' 형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing embodiments of the present invention, when a structure is described as being formed 'on or on top' and 'under or under' another structure, these descriptions may be used to describe these structures as well as the structures in contact with each other. It should be interpreted as including even if a third structure is interposed between them.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는 상부 기판(미도시), 하부 기판(100)과 상기 상부 기판과 하부 기판(100) 사이에 형성된 액정층(미도시)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 3, a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes an upper substrate (not shown), a
하부 기판(100)의 글래스 기판(110) 상에는 복수의 게이트 라인(미도시)과 복수의 데이터 라인(140)이 교차하도록 형성되어 복수의 화소 영역을 정의하고, 각 화소마다 스위칭 소자로써 TFT(130)가 형성되어 있다.On the
그리고, 각 화소에는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)가 형성되어 있고, 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(BM: Black matrix)가 형성되어 있다. 또한, 블랙 매트릭스(BM) 상에는 상부 기판과의 셀갭을 형성시키기 위한 컬럼 스페이서(미도시, column spacer)가 형성되어 있다.Each pixel is formed with a
TFT(130)를 덮도록 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)가 형성되어 있고, 컬러 필터(120) 위에 화소 전극(150)이 형성되어 있다. 화소 전극(150)을 덮도록 보호층(160)이 형성되어 있고, 보호층(160) 상에 공통 전극(170)이 형성되어 있다.Red (R), green (G), and blue (B)
게이트 라인과 데이터 라인은 곧은 직선으로 배열될 수도 있고, 굽은 직선의 형태로 배열될 수도 있다. TFT(130)는 스위칭 소자로서 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 영역에 형성된다. The gate line and the data line may be arranged in a straight straight line, or may be arranged in the form of a curved straight line. The TFT 130 is formed in a region where the gate line and the data line intersect as switching elements.
상기 박막 트랜지스터(T)는 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하여 이루어진다. 상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인에서 분기되고, 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인에서 분기되고, 상기 드레인 전극은 상기 소스 전극과 마주하도록 형성된다. 도 3에서는 게이트 전극이 반도체층의 아래쪽에 위치하는 바텀 게이트(bottom gate) 방식의 TFT를 일 예로 나타내고 있으나, 이에 한정되지 않고 게이트 전극이 반도체층 위쪽에 위치하는 탑 게이트(top gate) 방식으로 TFT가 형성될 수 있다.The thin film transistor T includes a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode, and a drain electrode. The gate electrode is branched from the gate line, the source electrode is branched from the data line, and the drain electrode is formed to face the source electrode. In FIG. 3, a bottom gate type TFT in which a gate electrode is positioned below the semiconductor layer is illustrated as an example. However, the present invention is not limited thereto, and the TFT is formed in a top gate type manner in which the gate electrode is positioned above the semiconductor layer. Can be formed.
상기 화소 전극(150)은 상기 화소 각각에 형성되어 있으며, 이와 같은 화소 전극(150)은 상기 TFT(130) 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있다. 특히, 상기 화소 전극(150)은 소정의 컨택홀을 통해서 상기 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다. The
상기 공통 전극(170)은 상기 화소 전극(150)과 서로 다른 레이어에 배열되어 있으며, 이와 같이 배열된 화소 전극(150) 및 공통 전극(170) 사이에 발생하는 프린지 필드(fringe field)를 통해서 액정층의 배열방향이 조절될 수 있다. The
상기 공통 전극(170)은 상기 게이트 라인(11)과 평행하게 배열된 공통 라인에 연결되어 있어, 상기 공통 라인을 통해 상기 공통 전극(170)에 공통 전압이 인가될 수 있다.The
여기서, 기존의 COT 구조에서는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터들이 서로 오버랩 되도록 형성되어 있었으나, 본 발명에서는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)들이 서로 오버랩되지 않고 평탄하게 형성되어 있다. 즉, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)의 높이가 동일하도록 형성되어, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(120)의 경계부분에서 단차가 발생되지 않는다.Here, in the conventional COT structure, red (R), green (G), and blue (B) color filters are formed to overlap each other, but in the present invention, red (R), green (G), and blue (B). )
또한, 데이터 라인(140)이 형성된 영역의 컬러 필터(120)도 다른 영역과 동일한 높이로 평탄하게 형성되어 컬러 필터의 단차로 인해 발생되었던 빛샘 불량을 방지할 수 있다.In addition, the
도 4 및 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법으로, COT(color filter on TFT) 구조에서 컬러 필터를 형성하는 제조방법을 나타내는 도면이다.4 and 5 illustrate a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, which forms a color filter in a color filter on TFT (COT) structure.
도 3에 도 4 및 도 5를 결부하여 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치의 제조방법을 설명한다.A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 5.
글래스 기판(110) 상에 게이트 전극(131)을 형성하고, 상기 게이트 전극(131) 상에 게이트 절연막(132)을 형성한다. 이후, 상기 게이트 절연막(132) 상에 반도체층(133)을 형성하고, 상기 반도체층(133)의 상부 일측에 소스 전극(134)을 형성하고, 상기 반도체층(133)의 상부 타측에 드레인 전극(135)을 형성한다. 이를 통해, 각 화소마다 TFT(130)를 형성할 수 있다.A
이어서, 도 4을 참조하면, TFT(130)를 덮도록 컬러 필터(120)를 형성한다.4, the
먼저, 적색 안료로 적색 컬러 필터(120R)을 형성하고, 이후, 녹색 안료로 녹색 컬러 필터(120G)를 형성한다. 이때, 녹색 안료가 적색 컬러 필터(120R)의 경계 부분에 오버랩되어 적색 컬러 필터(120R)와 녹색 컬러 필터(120G)가 중첩된 영역에서는 단차가 생긴다.First, a
이어서, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 안료가 형성한다. 이를 통해, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B)가 두껍게 형성된다.Subsequently, a blue pigment is formed to cover the
적색 안료와 녹색 안료를 코팅(coating)하여 상기 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 형성한 후, 청색 안료를 기판 전면에 코팅하여 상기 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B)를 형성한다.After coating the red pigment and the green pigment (coating) to form the red color filter (120R) and green color filter (120G), the blue pigment is coated on the entire surface of the substrate to the red color filter (120R) and green color filter ( The
이어서, 도 5를 참조하면, 적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮도록 청색 컬러 필터(120B) 상에 드라이 에치(dry etch) 공정을 수행한다.Subsequently, referring to FIG. 5, a dry etch process is performed on the
적색 컬러 필터(120R) 및 녹색 컬러 필터(120G)를 덮고 있던 청색 컬러 필터(120B)의 높이를 낮추고, 이후, 적색 컬러 필터(120R)의 경계부분에 오버랩되어 돌출된 녹색 컬러 필터(120G)이 일부분을 제거한다.The height of the
이와 같이, 드라이 에치 공정을 수행하여 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)가 동일 높이를 가지도록 평탄화시킨다.As such, the dry etch process is performed to flatten the
이를 통해, 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)의 높이가 모두 동일하게 형성되고, 각 컬러 필터의 경계부분에서 오버랩된 부분을 제거할 수 있다. As a result, the heights of the
다시, 도 3을 참조하면, 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)의 높이가 평탄하도록 컬러 필터(120)를 형성한 후, 컬러 필터(120) 위에 화소 전극(150)을 형성한다.Referring again to FIG. 3, after the
여기서, TFT(130)의 드레인과 중첩된 부분의 컬러 필터(120)를 식각하여 컨택홀을 형성하고, 컬러 필터(120) 상부와 상기 컨택홀 내부에 ITO와 같은 투명 전도성 물질을 증착하여 화소 전극(150)을 형성한다.The contact hole is formed by etching the
이어서, 화소 전극(150)을 덮도록 보호층(160)을 형성하고, 상기 보호층(160) 상에 공통 전극(170)을 형성한다. 이후, 러빙포를 이용한 러빙 공정을 수행한다.Next, the
상술한 제조방법을 통해 제조되는 본 발명의 실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치는 하부 기판(100)에 형성된 적색 컬러 필터(120R), 녹색 컬러 필터(120G) 및 청색 컬러 필터(120B)가 단차 없이 동일한 높이로 평탄하게 형성되어 러빙포를 이용한 러빙 공정이 원활이 이루어지도록 할 수 있다. 하부 기판(100) 전면에서 균일하게 러빙이 이루어져 빛샘이 발생되는 것을 방지할 수 있다.In the liquid crystal display device according to the exemplary embodiment of the present invention manufactured by the above-described manufacturing method, the
100: 하부 기판 110: 글래스 기판
120: 컬러 필터 120R: 적색 컬러 필터
120G: 녹색 컬러 필터 120B: 청색 컬러 필터
130: TFT 140: 데이터 라인
150: 화소 전극 160: 보호층
170: 공통 전극 BM: 블랙 매트릭스100: lower substrate 110: glass substrate
120:
120G:
130: TFT 140: data line
150: pixel electrode 160: protective layer
170: common electrode BM: black matrix
Claims (8)
상기 복수의 화소 영역 중 일부에 대응하고 상기 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮는 제1 컬러 필터를 형성하며, 상기 복수의 화소 영역 중 다른 일부에 대응하고 상기 다른 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮으며 상기 제1 컬러 필터의 경계부분과 오버랩되는 제2 컬러 필터를 형성하는 단계;
상기 복수의 화소 영역 중 또 다른 일부에 대응하고 상기 또 다른 일부의 화소 영역에 대응한 상기 박막트랜지스터를 덮으며 상기 제 1 및 제 2 컬러 필터를 더 덮는 제3 컬러 필터를 형성하는 단계;
드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 상호 동일 높이로 평탄화 시키는 단계;
상기 상호 동일 높이로 평탄화된 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터 상에 화소 전극을 형성하는 단계; 및
상기 화소 전극을 덮는 보호층을 형성하고, 상기 보호층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 드라이 에치 공정을 수행하여 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터를 상호 동일 높이로 평탄화 시키는 단계에서, 상기 드라이 에치를 통해 상기 제1 컬러 필터와 상기 제2 컬러 필터 사이의 오버랩된 부분, 및 상기 제1 및 제2 컬러 필터 각각과 상기 제3 컬러 필터 사이의 오버랩된 부분을 제거하는 액정 디스플레이 장치의 제조방법.Forming a thin film transistor in each of the plurality of pixel regions defined by the plurality of gate lines and the plurality of data lines;
Forming a first color filter corresponding to a part of the plurality of pixel areas and covering the thin film transistor corresponding to the part of the pixel area, corresponding to another part of the plurality of pixel areas, and corresponding to the other part of the pixel area Forming a second color filter covering the thin film transistor and overlapping a boundary of the first color filter;
Forming a third color filter covering the thin film transistor corresponding to another part of the plurality of pixel areas and corresponding to the other part of the pixel area and further covering the first and second color filters;
Performing a dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter, and the third color filter to the same height;
Forming a pixel electrode on the first color filter, the second color filter, and the third color filter flattened to the same height; And
Forming a protective layer covering the pixel electrode, and forming a common electrode on the protective layer;
Performing the dry etch process to planarize the first color filter, the second color filter, and the third color filter to the same height, and through the dry etch, the first color filter and the second color filter. A method of manufacturing a liquid crystal display device which removes an overlapped portion between and an overlapped portion between each of the first and second color filters and the third color filter.
상기 제1 컬러 필터는 적색 컬러 필터이고,
상기 제2 컬러 필터는 녹색 컬러 필터이고,
상기 제3 컬러 필터는 청색 컬러 필터인 액정 디스플레이 장치의 제조방법.According to claim 1,
The first color filter is a red color filter,
The second color filter is a green color filter,
And the third color filter is a blue color filter.
상기 제1 컬러 필터를 형성하고 상기 제2 컬러 필터를 형성하는 단계에서, 제1 안료를 코팅하여 상기 제1 컬러 필터를 형성하고, 제2 안료를 코팅하여 상기 제2 컬러 필터를 형성하며,
상기 제3 컬러 필터를 형성하는 단계에서, 상기 제1 및 제2 컬러 필터를 포함한 전면에 제3 안료를 코팅하여 상기 제3 컬러 필터를 형성하는 액정 디스플레이 장치의 제조방법.According to claim 1,
Forming the first color filter and forming the second color filter, coating a first pigment to form the first color filter, coating a second pigment to form the second color filter,
And forming the third color filter by coating a third pigment on the entire surface including the first and second color filters in the forming of the third color filter.
상기 제1 안료는 적색 안료이고,
상기 제2 안료는 녹색 안료이고,
상기 제3 안료는 청색 안료인 액정 디스플레이 장치의 제조방법.The method of claim 4, wherein
The first pigment is a red pigment,
The second pigment is a green pigment,
The third pigment is a blue pigment manufacturing method of a liquid crystal display device.
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