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KR101935430B1 - A Gas Purification Device - Google Patents

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KR101935430B1
KR101935430B1 KR1020180049730A KR20180049730A KR101935430B1 KR 101935430 B1 KR101935430 B1 KR 101935430B1 KR 1020180049730 A KR1020180049730 A KR 1020180049730A KR 20180049730 A KR20180049730 A KR 20180049730A KR 101935430 B1 KR101935430 B1 KR 101935430B1
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KR
South Korea
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vortex
gas
purifying
helical
tube
Prior art date
Application number
KR1020180049730A
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Korean (ko)
Inventor
이진용
Original Assignee
이진용
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Publication date
Application filed by 이진용 filed Critical 이진용
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for purifying exhaust gas containing harmful substances. More particularly, a purifying solution is stored in a lower side of the inside of a hollow reaction vessel body. A vortex inducing body is installed which supplies exhaust gas containing harmful substances supplied into the body to the inside of the purifying solution and causes the purifying solution to generate a vortex flow. The harmful gas supplied to the inside of the body is mixed and purified by causing a vortex (swirling) from the lower side of the inside of the body by the vortex inducing body together with the purifying solution. Only the harmful gas rises to an upper side of the body and the harmful gas below the regulation level is exhausted through an exhaust passage provided at the upper end.

Description

유해 배기가스 정화장치{A Gas Purification Device}[0001] The present invention relates to a harmful exhaust gas purifying device,

본 발명은 유해물질이 함유된 배기가스 정화장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 중공의 반응 용기 몸통 내부의 하부측에 정화용액을 수납 저장하고 몸통 내부로 공급되는 유해물질이 함유된 배기가스를 정화용액 내부로 공급하면서 정화용액이 와류(渦流)를 일으키도록 하는 와류유도체를 설치하여, 몸통 내부로 공급되는 유해가스가 정화용액과 함께 와류유도체에 의해 몸통 내부의 하부측에서 와류(소용돌이)를 일으키면서 혼합 정화된 후 유해가스만 몸통의 상부측으로 상승하여 상단부에 구비된 배기통로를 통해 외부로 규정 이하의 유해가스를 배출 처리하는 유해 배기가스 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas purifying apparatus containing harmful substances, and more particularly, to a purifying apparatus for purifying exhaust gas containing harmful substances supplied to the inside of a body by storing and storing a purifying solution in a lower side of a hollow reaction vessel body A vortex derivative is provided to supply the cleaning solution to the inside of the solution so that the cleaning solution causes vortex flow so that the harmful gas supplied to the inside of the body causes a vortex from the lower side of the inside of the body by the vortex derivative together with the cleaning solution And then the noxious gas only rises to the upper side of the body and exhausts the noxious gas below the regulation level through the exhaust passage provided at the upper end.

급속한 산업의 발달과 인구의 폭발적인 증가로 인하여, 천혜의 자원인 물과 공기, 그리고 산림자원들은 날로 심각한 상태로 훼손 오염되고 있는 상황이며, 이러한, 자연자원의 훼손과 오염의 원인으로 인해, 인류의 생존마저 위협받고 있음이 오늘날의 현실이다.Due to the rapid development of industry and the explosive increase in population, water, air, and forest resources, which are natural resources, are being damaged and severely damaged in serious condition. Such natural resources are damaged and pollution causes humanity It is a reality today that even survival is being threatened.

따라서, 이러한 환경오염은, 어느 특정지역이나 국가에 의해 해결될 문제가 아니기 때문에, 전 세계적으로, 이에 대한 공동대응이 시급하게 논의되고 있으며, 그러한 결과로 인해 오늘날에 있어서는 모든 지역과 국가가 상호 연대하여 환경보존을 위한 노력에 힘을 기울이고 있는 실정이다.Therefore, since such environmental pollution is not a problem to be solved by any specific region or country, a global response to this problem is being urgently discussed, and as a result, It is a fact that we are making efforts to preserve the environment.

하지만, 이러한 노력에도 불구하고 산성비의 원인이 되는 아황산가스(So2 ), 각종 성인병과 암, 기타 희귀 불치병 등의 주요 원인이 되고 있는 질소화합물, 및 환경호르몬 등의 유해물질 등이 각종 산업현장의 굴뚝 등을 통해 지속적으로 배출되고 있는 실정이며, 그 배출량 또한 해마다 증가하고 있는 추세로서, 이는 국민의 건강에 심각한 유해요인으로 작용되고 있음을 알 수 있다.Despite these efforts, however, it has been found that sulfur dioxide (So2), which causes acid rain, and nitrogen compounds, which are major causes of various adult diseases, cancer, and other rare diseases, and harmful substances such as environmental hormones, And the amount of emissions is increasing year after year. This shows that this is a serious harmful factor to the health of the people.

이에, 근래에는 각종 산업현장 내에 배기가스 정화장치를 필수 구성요소로 마련되게 한 후, 이러한 설비를 통해 각종 배기가스를 환경기준치 범위내로 정화 처리하여 배출토록 하고 있는 실정이며, 이러한 용도로 설치되는 배기가스 정화장치의 종류로는, 크게 유수식, 가압수식, 회전수식 반응장치 등으로 구분되어 있음이 일반적이다.In recent years, exhaust gas purification apparatuses have been provided as essential components in various industrial sites, and various exhaust gases are purified and discharged to a range of environmental standard values through such facilities. Types of gas purifying apparatuses are generally classified into water-purifying, pressurizing, and rotary-type reactors.

상기 유수식 반응장치는, 반응실 내에 일정한 양의 액체를 채워 넣고, 오염된 가스의 유입에 의해 다량의 액적, 액막, 기포를 형성시켜 세정시킬 수 있도록 한 것으로, 이는 S형, Impera형, Rota형, 분수형, 나선Guide vane형 타입 등으로 구성됨을 알 수 있고;The water-pumped reaction device can be cleaned by filling a certain amount of liquid into the reaction chamber and forming a large amount of droplets, liquid film, and bubbles by the inflow of contaminated gas. The S-type, Impera type, Rota type , Fraction type, spiral guide vane type, etc .;

상기 가압수식 반응장치는, 세정액을 가압 공급하여 오염된 가스를 세정하는 방식으로, 이는 벤튜리 스크라버(Venturi Scrubber), 제트 스크라버(Jet Scrubber), 사이클론 스크라버(Cyclone Scrubber), 충전탑 등으로 구성되는 것이며;The pressurized water reaction apparatus is a system in which a contaminated gas is cleaned by pressurizing and supplying a cleaning liquid. This is a Venturi Scrubber, a Jet Scrubber, a Cyclone Scrubber, ≪ / RTI >

상기 회전수식 반응장치는, 송풍기의 회전을 이용하여 물방울, 수막, 기포를 형성시켜 오염기체를 세정시키는 것으로, 이는 다이센 와셔(Theisen Washer), 임펄스 스크라버(Impulse Scrubber) 등으로 구성됨을 알 수 있다The rotary-type reaction apparatus forms water droplets, water film, and air bubbles using the rotation of the blower to clean the contaminated gas, and it can be seen that it is composed of a Diisen Washer and an Impulse Scrubber

하지만, 전술한 바와 같은, 종래 배기가스 정화장치에 있어,However, in the conventional exhaust gas purifying apparatus as described above,

유수식 반응장치는, 용액 속에 노즐을 설치하고, 그 노즐로 부터 오염가스를 일정한 압력으로 분사되게 하여 용액과 오염가스를 혼합되게 하는 것이나, 이는 분사되는 가스에 의해 기포가 발생하고, 그 발생된 기포가 용액의 수면위로 부유하여 용액과 반응되지 못한 채, 그대로 누출되는 문제점을 초래하는 것이었으며, 또한 지속적 사용에 따른 슬러지 발생으로 노즐 구멍이 막힘 되어, 효율성을 극히 저하되게 하는 문제점을 주는 것이었다.In the pumping reaction device, a nozzle is provided in a solution, and the polluted gas is injected at a constant pressure from the nozzle to mix the solution with the polluting gas. However, this is because bubbles are generated by the gas to be injected, Which is not reacted with the solution, is leaked. In addition, the nozzle holes are clogged due to the generation of sludge due to continuous use, and the efficiency is extremely lowered.

또한 가압수식 및 회전수식 반응장치 등은, 상부에 설치된 노즐로부터 용액을 사방으로 분산시키고, 재차, 하부에 설치된 유입구로부터 오염가스를 공급되게 하여, 상기 분산 낙하하는 용액에 의해 오염가스를 정화처리되게 하는 것인바, 따라서, 이와 같은, 장치는 분산되는 용액의 낙하 특성상, 오염가스 전체를 온전히 커버 하지 못하게 되는 것으로, 이에 일부 오염가스를 그대로 통과시켜 대기오염의 원인으로 작용하게 되는 반응 효율 저하의 문제점을 상존되게 하는 것이었다In addition, the pressurized water and rotary reaction apparatuses and the like allow the solution to be dispersed in four directions from the nozzles provided in the upper part, and to supply the polluted gas again from the inflow port provided at the lower part to purify the polluted gas by the dispersed solution Therefore, the apparatus can not completely cover the entire polluted gas due to the falling nature of the solution to be dispersed. Therefore, the apparatus can not completely cover the polluted gas, To remain

따라서, 근래에는 전술한 바와 같은, 종래 배기가스 정화장치들의 문제점을 일부 해결한 것으로서, 본원 발명자에 의해 선출원 등록된 "급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치(특허 제0789719 호)"가 창안된 바 있다.Therefore, in recent years, there has been proposed a "rapid-impact impingement type pollution gas purifier (patent No. 0789719) ", which was previously solved by the inventors of the present invention, which partially solves the problems of the conventional exhaust gas purifying apparatuses .

그러나, 이러한, 선등록 기술로서의 "급속 회전 충돌식 오염가스 정화장치"는, 오염된 가스와, 이를, 정화시키기 위한 정화용액의 공급이, 개별구조로 분리된, 배관라인을 통해 이루어지고, 그와 같이, 개별적으로 공급되는 오염가스와, 정화용액이, 반응실 내에서 합류된 상태하에, 반응작용(정화처리)을 행하게 되는 것인바, 따라서, 정화효율의 증대 효과가 매우 미미할 수밖에 없는 기능상의 문제점을 그대로 내포(內包)하게 되는 것이다However, the "Rapid Rotational Impact Type Pollution Gas Purifier" as the line registration technique is such that the contaminated gas and the supply of the purifying solution for purifying the contaminated gas are made through piping lines separated into individual structures, (Purifying treatment) is performed under the condition that the polluting gas supplied individually and the purifying solution are joined together in the reaction chamber as in the case of the present invention, and thus the effect of increasing the purifying efficiency is very small. The problem is inherent

또한, 종래의 상기 문제를 해결하기 위해, 본원 출원인에 의해 선출원 등록된 "산업용 유해 배기가스 정화장치(특허 제10-1087253 호)"가 공지되어 있다.Further, in order to solve the above-mentioned conventional problem, "Industrial Harmful Exhaust Gas Purifier (Patent No. 10-1087253)" previously registered by the present applicant is known.

상기 "산업용 유해 배기가스 정화장치"는 정화용액을 하나의 배관라인을 통해 합류되게 하여, 반응실 내에 동시 공급되게 하고, 이와 같이, 공급되는 혼합물질(반응물질)을, 재차, 분산유도격판과, 분산유도블럭, 그리고, 분산유도면에 의해 강제 혼합 처리되게 함으로써, 오염가스와 정화용액의 반응시간과 혼합률을 극히 증대되도록 하고, 그에 따라, 보다 안정적이고, 신속하게, 오염가스 정화처리 작업을 행할 수 있도록 한 것이다.The "industrial harmful exhaust gas purification device" is a device for purifying harmful exhaust gases, which allows the purifying solution to join together through one piping line and simultaneously supplied into the reaction chamber, , The dispersion induction block and the dispersion inducing surface, the reaction time and the mixing ratio of the polluting gas and the purifying solution are extremely increased, and as a result, the pollution gas purification treatment operation And the like.

그러나 상기 배기가스 정화장치는 오염가스와 정화용액을 하나의 라인을 통해 공급하도록 되어 있어 구성이 복잡하고 정화용액이 펌핑되면서 유동되는 과정 중에 오염가스가 혼합됨으로써 오염가스 정화 효율이 다소 떨어지는 문제가 있다.However, the exhaust gas purifying apparatus is configured to supply the polluted gas and the purifying solution through a single line, which is complicated in structure, and the contaminated gas is mixed during the process of flowing the purifying solution while being pumped, .

따라서 환경오염 규제가 날로 엄격해지는 현실을 감안하면 유해 가스 정화 효율을 획기적으로 향상시키는 장치가 절실히 요구되는 실정이다.Therefore, considering the fact that the regulation of environmental pollution becomes severe day by day, a device for drastically improving the harmful gas purification efficiency is desperately required.

KR 10-0789719 (등록번호) 2007.12.21.KR 10-0789719 (registration number) 2007.12.21. KR 10-1087253 (등록번호) 2011.11.21.KR 10-1087253 (registration number) 2011.11.21. KR 20-0187104 (등록번호) 2000.04.14.KR 20-0187104 (registration number) 2000.04.14.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로,SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art,

중공의 몸통 내부의 하부측에 정화용액을 수납 저장하고 몸통 내부로 공급되는 유해물질이 함유된 배기가스의 공급력에 의해 정화용액이 와류(渦流)를 일으키도록 하는 삿갓형상의 와류유도체를 설치하여, 몸통 내부로 공급되는 유해가스가 정화용액과 함께 와류유도체에 의해 몸통 내부의 하부측에서 신속하고 강하게 와류(소용돌이)를 일으키면서 혼합 정화된 후 유해가스만 몸통의 상부측으로 상승하여 상단부에 구비된 배기통로를 통해 외부로 규정 이하의 유해가스를 배출 처리하는 유해 배기가스 정화장치를 제공하는데 그 목적이 있다.A vortex-type vortex induction device for storing and storing a cleaning solution in a lower side of a hollow body and generating a vortex flow of the cleaning solution by a supply force of an exhaust gas containing a harmful substance supplied to the inside of the body, The harmful gas supplied to the inside of the body is mixed and purified with the vortex derivative together with the purifying solution causing swift and strong vortex in the lower part of the inside of the body so that only the harmful gas rises to the upper side of the body, The present invention is directed to a harmful exhaust gas purifying apparatus that exhausts harmful gas of a predetermined amount or less to the outside through a furnace.

본 발명의 다른 목적은 중공의 몸통 상부측에 정화용액을 분사하는 분사장치를 구비하여 몸통 하부측에서 정화된 유해 배기가스가 상승되는 도중에 분사장치에서 분사되는 정화 용액의 분무액에 의해 추가로 정화되면서 상승 배출할 수 있도록 하여 유해 배기가스의 정화 효율을 배가시키도록 하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an injection device for injecting a cleaning solution on the side of an upper portion of a hollow body and further purifying the sprayed solution of the cleaning solution injected from the injection device during the rising of the harmful exhaust gas, So that the purification efficiency of the harmful exhaust gas is doubled.

또한 본 발명의 다른 목적은 몸체 내부에 삿갓형상의 와류유도체를 설치하되 그 외부에 나선형상의 베인을 구비하여 유해가스와 혼합된 정화용액의 소용돌이를 더욱 크게 발생되도록 함으로써 유해가스가 정화용액에 보다 많이 접촉될 수 있도록 유도하여 정화 효율을 더욱 향상시키는데 있다.Another object of the present invention is to provide a vortex-type vortex generator in the form of a spiral vane in the inside of the body, and a vortex in the form of a spiral vane, So that the cleaning efficiency can be further improved.

본 발명의 또 다른 목적은 베인이 형성되는 삿갓형상의 와류유도체와 일정 거리 이격되면서 다수의 나선관이 구비되는 제2와류유도체를 이중으로 구비하여 와류유도체와 제2와류유도체를 통해 정화용액이 더욱 강력한 와류가 발생되도록 유도함으로써 유해가스의 분말이 정화용액에 더욱 많이 접촉되어 정화 효율을 획기적으로 향상시키는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a double vortex flowmeter having a vortex-shaped vortex flow tube and a second vortex flow tube having a plurality of helical tubes spaced apart from the vortex flow tube, A strong vortex is generated so that the harmful gas powder comes into contact with the cleaning solution more greatly, thereby remarkably improving the purification efficiency.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 중공의 몸체부(111)로 형성되고 그 내부의 하부측에 정화용액이 저장되며 상단부에 배기가스가 배출되도록 배기관(112)이 설치되는 반응용기(110)와; 상기 반응용기(110)의 내부로 유해가스가 공급되도록 설치되는 가스공급관(120); 상기 반응용기(110)의 내부에 설치되되 상기 가스공급관(120)의 끝단부에 구비되어 상기 가스공급관(120)으로 공급되는 유해가스가 인입되면서 1차와류를 일으키도록 하는 와류유도체(130);를 포함하며, 상기 와류유도체(130)는 상단부에서 하단부로 갈수록 직경이 커지는 삿갓형상의 유도몸체(131)로 형성되며, 상기 유도몸체(131)의 외부면에는 공급되는 유체가 유동되면서 와류가 발생되도록 원주 방향을 따라 나선형상으로 된 다수개의 베인(132)이 설치 구비된다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a method of manufacturing an exhaust gas purifying apparatus, comprising: a reaction vessel (110) formed with a hollow body part (111), a purifying solution stored in a lower side thereof, and an exhaust pipe ; A gas supply pipe 120 installed to supply noxious gas into the reaction vessel 110; A vortex inducing unit 130 installed inside the reaction vessel 110 and provided at an end of the gas supplying pipe 120 to cause a primary vortex while the noxious gas supplied to the gas supplying pipe 120 is drawn in; And the vortex derivative 130 is formed as a guiding body 131 having a larger diameter as it goes from the upper end to the lower end. The fluid supplied to the outer surface of the guiding body 131 flows, A plurality of vanes 132 having a spiral shape along the circumferential direction are installed.

또한 본 발명은 상기 와류유도체(130)의 외측으로 이격되면서 유체에 와류를 발생시키도록 하는 제2와류유도체(140)가 더 설치되며, 상기 제2와류유도체(140)는 상기 와류유도체(130)에서 유동되는 유해가스가 부딪히는 원통몸체(141)와, 상기 원통몸체(141)의 원주면을 따라 다수 개가 구비되되 시계방향 또는 반시계방향으로 경사지면서 하향으로도 경사지게 구비되어 상기 와류유도체(130)에서 유동된 유해가스가 통과하면서 정화용액과 혼합되며 2차 와류를 일으키는 나선관(142)으로 구성된다.The second vortex flowmeter 140 may further include a second vortex flowmeter 140 for generating a vortex in the fluid while being spaced apart from the vortex flowmeter 130. The second vortex flowmeter 140 may further include a vortex flow- The cylindrical body 141 has a cylindrical body 141 and a plurality of circular cylindrical bodies 141 facing the cylindrical body 141. The cylindrical body 141 is obliquely inclined clockwise or counterclockwise to be inclined downward, And a spiral tube 142 which mixes with the cleaning solution while passing the noxious gas flowing in the first and second vortices and generates a secondary vortex.

또한 본 발명의 상기 나선관(142)의 단부에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져 나오는 혼합용액이 와류를 일으키도록 하는 일자형 슬롯(142a)이 형성된다.In addition, a straight slot 142a is formed at an end of the spiral tube 142 of the present invention to cause vortex flow of the mixed solution exiting through the spiral tube 142.

또한 본 발명의 상기 와류유도체(130)의 외부면에 형성되는 상기 베인(132)은 상기 유도몸체(131)의 상부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 상부베인부와 상기 유도몸체(131)의 하부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 하부베인부로 구비되며, 상부베인부와 하부베인부에 형성되는 상기 베인(132)은 상하부에서 서로 엇갈리게 설치 구비되고, 또한 상기 나선관(142)은 상기 원통몸체(141)의 상부측에 원주면을 따라 1단으로 구비되고 그 하부측에 2단으로 구비되며, 상부측에 구비되는 1단의 나선관 길이가 하부측에 구비되는 2단의 나선관 길이보다 길게 구비된다.The vane 132 formed on the outer surface of the vortex derivative 130 of the present invention includes an upper vane portion having a plurality of vanes formed along the upper outer surface of the induction body 131, And the vanes 132 formed in the upper vane portion and the lower vane portion are staggered from each other at the upper and lower portions and the helical tube 142 is provided at the lower portion of the cylinder Two spiral tubes having a length of one spiral tube provided on the upper side and two spiral tubes having a length of one spiral tube provided on the lower side are provided on the upper side of the body 141 in one step along the circumferential surface, .

또한 본 발명의 상기 나선관(142)의 단부측에는 이들을 서로 연결하여 고정 지지하는 나선관지지브라케트(143)가 구비되고, 상기 나선관지지브라케트(143)에는 이동 및 설치시 견인바를 걸어주는 견인고리(144)가 구비된다.The helical tube 142 is provided with a helical knurled zebra cartridge 143 for connecting and fixing the helical tube 142 to the helical tube 142. The helical cylindrical zebra cartridge 143 is provided with a pulling ring (Not shown).

또한 본 발명의 상기 반응용기(110의 상기 몸체부(111) 내벽 하부측에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져나오는 혼합용액이 부딪혀 와류를 일으키도록 상기 몸체부(111)의 길이 방향으로 수직하게 설치된 와류플레이트(113)가 원주 방향으로 다수 개 구비되고, 또한 상기 와류플레이트(113)의 상부측에는 상기 몸체부(111)의 원주 방향으로 와류돌기(114)가 형성 구비된다.The reaction vessel 110 is installed vertically in the longitudinal direction of the body 111 so as to generate a vortex due to a mixed solution bouncing through the spiral tube 142 against the bottom of the inner wall of the body 111 of the reaction vessel 110 A plurality of vortex plates 113 are provided in the circumferential direction and vortex protrusions 114 are formed on the upper side of the vortex plate 113 in the circumferential direction of the body portion 111.

또한 본 발명의 상기 몸체부(111)의 내부 상부측에는 하부측에서 상승하는 유해가스에 정화용액을 분사하여 정화시키는 분사장치(150)가 더 구비되고, 상기 분사장치(150)의 하부측에는 상승하는 유해가스를 정화시키도록 무수한 여과관통공이 각각 형성되는 다층의 폴링여재층(160)이 구비되며, 상층의 폴링여재층(160)에 형성되는 여과관통공과 하층의 폴링여재층(160)에 형성되는 여과관통공은 서로 엇갈리도록 구비된다.In addition, the upper part of the body part 111 of the present invention is further provided with an injecting device 150 for injecting and purifying the cleaning solution to the noxious gas rising from the lower side, and on the lower side of the injecting device 150, And a plurality of filtering through holes 160 are formed in the upper and lower polling filter media 160 and the lower filtering filter media 160, respectively, so as to clean the noxious gas. The filtration through holes are provided so as to be offset from each other.

또한 본 발명의 상기 나선관(142)의 단부에는 상기 일자형 슬롯(142a)과 어긋나게 측면 슬롯(142b)이 더 구비되며, 상기 측면 슬롯(142b)의 길이가 상기 일자형 슬롯의 길이보다 짧다.Also, the end of the helical tube 142 of the present invention is further provided with a side slot 142b which is shifted from the linear slot 142a, and the length of the side slot 142b is shorter than the length of the slot.

또한 본 발명의 상기 나선관(142)의 끝단에는 나선관을 가로지르는 가름막이 더 구비된다.In addition, the spiral tube 142 of the present invention further includes a spiral wound across the spiral tube.

본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치는 몸통 내부로 공급되는 유해물질이 함유된 배기가스의 공급력에 의해 정화용액이 와류(渦流)를 일으키도록 하는 삿갓형상의 와류유도체를 설치하여, 몸통 내부로 공급되는 유해가스가 정화용액과 함께 와류유도체에 의해 몸통 내부의 하부측에서 신속하고 강하게 와류(소용돌이)를 일으키면서 혼합 정화된 후 유해가스만 몸통의 상부측으로 상승하여 상단부에 구비된 배기통로를 통해 외부로 규정 이하의 유해가스를 배출 처리함으로써 오염을 최소화하는 장점이 있다.The apparatus for purifying harmful exhaust gases according to the present invention is provided with a vortex-shaped vortex-shaped vortex for causing vortex flow of the purifying solution by the supply force of the exhaust gas containing harmful substances supplied into the inside of the body, The harmful gas is mixed and purified by the vortex derivative together with the purifying solution causing the vortex to swiftly and strongly sweep from the lower side of the inside of the body, and then only the harmful gas rises to the upper side of the body, The pollution is minimized by discharging the harmful gas below the specified level.

또한 본 발명은 중공의 몸통 상부측에 정화용액을 분사하는 분사장치를 구비하여 몸통 하부측에서 정화된 유해 배기가스가 상승되는 도중에 분사장치에서 분사되는 정화 용액의 분무액에 의해 추가로 정화되면서 상승 배출할 수 있도록 하여 유해 배기가스의 정화 효율을 높이는 효과도 있다.In addition, the present invention provides an injection device for injecting a cleaning solution on the upper side of a hollow body, wherein the purified harmful exhaust gas from the lower part of the body is raised while being further purified by the spray solution of the cleaning solution injected from the injection device So that the purification efficiency of the harmful exhaust gas can be enhanced.

또한 본 발명은 몸체 내부에 삿갓형상의 와류유도체를 설치하되 그 외부에 나선형상의 베인을 구비하고 유해가스와 혼합된 정화용액의 소용돌이를 더욱 크게하여 유해 배기가스가 정화용액에 보다 많이 접촉되도록 유도하여 정화 효율이 더욱 향상되는 장점도 있다.In addition, the present invention provides a vortex-type vortex-type bulb in the inside of the body, and has a spiral vane on the outside thereof. The vortex of the cleaning solution mixed with the noxious gas is further increased to induce the harmful exhaust gas to be more contacted with the cleaning solution There is also an advantage that purification efficiency is further improved.

또한 본 발명은 베인이 형성되는 삿갓형상의 와류유도체와 일정 거리 이격되면서 다수의 나선관이 구비되는 제2와류유도체를 이중으로 구비하여 와류유도체와 제2와류유도체를 통해 정화용액이 더욱 강력한 와류가 발생되도록 유도함으로써 유해가스의 분말이 정화용액에 더욱 많이 접촉되어 정화 효율이 획기적으로 향상되는 장점이 있다.In addition, the present invention provides a double vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex-type vortex- So that the harmful gas powder is more contacted with the cleaning solution and the purification efficiency is remarkably improved.

도 1은 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 대한 개략적인 상태단면도이고,
도 2는 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 대한 평면 상태단면도이고,
도 3은 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 구비되는 와류유도체에 대한 개략적인 사시상태도이고,
도 4는 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 구비되는 와류유도체와 제2와류유도체가 서로 분리된 사시상태도이고,
도 5는 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 구비되는 와류유도체에 대한 상태단면도이고,
도 6은 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치에 구비되는 분사장치의 평면상태도이고,
도 7은 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치를 통해 유해 배기가스가 정화되어 배출되는 상태를 나타내는 배기가스 배출흐름도이다.
FIG. 1 is a schematic sectional view of a harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention,
FIG. 2 is a plan view of a harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention,
3 is a schematic perspective view of a vortex derivative provided in the apparatus for purifying harmful exhaust gases according to the present invention,
FIG. 4 is a perspective view of a harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention in which a vortex derivative and a second vortex derivative are separated from each other,
5 is a state sectional view of a vortex derivative provided in the harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention,
FIG. 6 is a plan view of an injector provided in the harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention,
FIG. 7 is a flow chart of an exhaust gas discharge showing a state in which harmful exhaust gas is purified and discharged through the harmful exhaust gas purifying apparatus according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치(100)는 도 1 내지 7에 도시되어 있는 바와 같이, As shown in FIGS. 1 to 7, the harmful exhaust gas purifying apparatus 100 according to the present invention includes:

중공의 몸체부(111)로 형성되고 그 내부의 하부측에 정화용액이 저장되며 상단부에 배기가스가 배출되도록 배기관(112)이 설치되는 반응용기(110)와;A reaction vessel 110 formed with a hollow body portion 111 and storing a purifying solution at a lower side of the hollow body portion 111 and having an exhaust pipe 112 to exhaust exhaust gas at an upper end thereof;

상기 반응용기(110)의 내부로 유해 배기가스(이하 '유해가스'라고 함)가 공급되도록 설치되는 가스공급관(120);A gas supply pipe 120 installed to supply a harmful exhaust gas (hereinafter referred to as "noxious gas") into the reaction vessel 110;

상기 반응용기(110)의 내부에 설치되되 상기 가스공급관(120)의 끝단부에 구비되어 상기 가스공급관(120)으로 공급되는 유해가스가 인입되면서 1차 와류를 일으키도록 하는 와류유도체(130);를 포함하며,A vortex inducing unit 130 installed inside the reaction vessel 110 and provided at an end of the gas supplying pipe 120 to cause a primary vortex while the noxious gas supplied to the gas supplying pipe 120 is drawn in; / RTI >

상기 와류유도체(130)는 상단부에서 하단부로 갈수록 직경이 커지는 삿갓형상의 유도몸체(131)로 형성되며, 상기 유도몸체(131)의 외부면에는 공급되는 유체가 유동되면서 와류가 발생되도록 원주 방향을 따라 나선형상으로 된 다수개의 베인(132)이 설치 구비되어 있다.The vortex derivative 130 is formed by a guiding body 131 having a larger diameter from the upper end to the lower end of the guiding body 131. A fluid supplied to the outer surface of the guiding body 131 flows in a circumferential direction A plurality of vanes 132 having a helical shape are installed.

근래에 이르러 각종 산업현장 내에서는 유해한 배기가스를 정화하여 배출하도록 하는 장치를 반드시 설치하고 이를 통해 유해한 배기가스를 환경기준치 범위내로 정화 처리하여 배출토록 하는 의무 규정이 적용되고 있다.In recent years, various industrial sites have installed mandatory equipment to purify harmful exhaust gas, and through this, mandatory regulations have been applied to purify harmful exhaust gas within the range of environmental standard and discharge it.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 유해 배기가스 정화장치(100)는 유해가스가 상기 가스공급관(120)을 통해 상기 반응용기(110)의 내부로 공급되면서 상기 와류유도체(130)에 형성되는 상기 베인(132)에 의해 1차 와류가 발생되면서 유해가스의 속도와 방향의 변화시키게 된다.The harmful exhaust gas purifying apparatus 100 according to the present invention configured as described above is configured such that noxious gas is supplied into the reaction vessel 110 through the gas supply pipe 120, The primary vortex is generated by the primary vortex 132 to change the speed and direction of the noxious gas.

이와 같이 정화된 유해가스는 정화용액이 구비된 가스공급관 밖으로 나와 상기 반응용기(130)의 상단부로 상승하고 상기 배기관(112)을 통해 외부로 배출 처리된다.The purified noxious gas is discharged from the gas supply pipe provided with the purifying solution to the upper end of the reaction vessel 130 and discharged to the outside through the exhaust pipe 112.

본 발명은 상기 와류유도체(130)의 외측으로 이격되면서 유체를 회전시킬 수 있도록 하는 제2와류유도체(140)가 더 설치되어 있다.The present invention further includes a second vortex derivative (140) that can rotate the fluid while being separated from the vortex derivative (130).

상기 제2와류유도체(140)는 상기 와류유도체(130)에서 유동되는 혼합용액(유해가스와 정화용액이 혼합된 용액)이 부딪히는 원통몸체(141)와 상기 원통몸체(141)의 원주면을 따라 다수 개가 구비되되 시계방향 또는 반시계방향으로 경사지면서 하향으로도 경사지게 구비되어 상기 와류유도체(130)에서 유동된 혼합용액이 통과하면서 2차 와류를 일으키는 나선관(142)으로 구성되어 있다.The second vortex derivative 140 includes a cylindrical body 141 against which a mixed solution flowing from the vortex derivative 130 collides with a harmful gas mixed with a cleaning solution, And a spiral tube 142 inclined downwardly and inclined clockwise or counterclockwise to generate a secondary vortex while passing through the mixed solution flowing from the vortex current collector 130.

따라서 상기 와류유도체(130)를 통해 유동되는 유해가스는 상기 제2와류유도체(140)에 구비되는 상기 나선관(142)을 통해 빠져 나가면서 2차적으로 와류가 발생되고 이로 인해 유해가스와 정화용액이 서로 충돌하는 기회가 많아져 정화 효율이 좋아지게 된다.Accordingly, noxious gas flowing through the vortex derivative 130 is vortexed through the spiral tube 142 provided in the second vortex derivative 140, thereby generating a secondary vortex. As a result, The chance of collision with each other is increased and the purification efficiency is improved.

본 발명에 따른 정화용액은 제공되는 양에 따라 유해가스와 만나는 위치가 달라질 수 있다. 도 7과 같이 와류유도체(130)의 상부까지 정화용액이 제공될 수도 있고, 후술하는 와류플레이트(113)까지 정화용액이 제공될 수도 있다. 정화용액이 상기 와류유도체(130)의 상부까지 제공되는 경우에는 유해가스가 상기 와류유도체(130)에서 정화용액과 접촉하며 와류유도체에서 발생되는 1차 와류가 혼합용액이 된다. 이러한 혼합용액 또는 유해가스는 정화용액의 높이에 따라 달라지므로 이후부터는 서로 혼용하여 사용한다.The position of the cleaning solution according to the present invention may vary depending on the amount of the cleaning solution. As shown in FIG. 7, a purifying solution may be provided to the upper portion of the vortex derivative 130, and a purifying solution may be provided to the vortex plate 113 described later. When the purifying solution is provided up to the upper portion of the vortex flowmeter 130, noxious gas contacts the purifying solution in the vortex flowmeter 130 and the primary vortex generated in the vortex flowmeter is a mixed solution. These mixed solutions or noxious gases vary depending on the height of the purifying solution, so they are used in combination with each other.

또한 상기 나선관(142)의 단부에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져 나오는 혼합용액이 와류를 일으키도록 하는 일자형 슬롯(142a) 또는 측면 슬롯(142b)이 더 형성되어 있다. 이때 일자형 슬롯과 측면 슬롯은 그 길이가 서로 다르며, 측면 슬롯(142b)의 길이가 상기 일자형 슬롯의 길이보다 짧게 한다. 또한, 나선관(142)의 끝단에는 나선관(142)의 끝단을 가로지르는 가름막(미도시)이 더 구비될 수 있다. 이러한 가름막은 혼합용액(구체적으로는 유해가스)의 흐름을 방해하며 유해가스를 절단한다.In addition, a straight slot 142a or a side slot 142b is formed at the end of the helical tube 142 so that the mixed solution exiting through the helical tube 142 causes a vortex. In this case, the linear slot and the side slot are different in length, and the length of the side slot 142b is shorter than the length of the slot. Further, the end of the spiral tube 142 may be further provided with a separating membrane (not shown) which traverses the end of the spiral tube 142. These membranes interfere with the flow of the mixed solution (specifically, noxious gas) and cut noxious gas.

따라서 상기 나선관(142)의 단부를 통해 혼합용액이 빠져 나올 때 상기 나선관의 끝단으로 나오는 유해가스는 일부가 가름막에 의하여 절단되고, 일부는 일자형 슬롯으로, 일부는 측면 슬롯으로 인출되면서 그 크기가 서로 다르게 된다.Therefore, when the mixed solution is discharged through the end of the helical tube 142, the harmful gas discharged to the end of the helical tube is partially cut off by the separator, partly drawn into the straight slot, The sizes are different.

상기 일자형 슬롯(142a), 측면 슬롯(143b) 또는 가름막에 의해 2차 발생된 와류는 그 속도와 방향이 더욱 다양하게 되어 유해가스의 정화 효율이 더욱 향상될 수 있게 된다.The vortex generated secondarily by the straight slot 142a, the side slot 143b, or the separating membrane can be further diversified in speed and direction, so that the purification efficiency of the noxious gas can be further improved.

상기 와류유도체(130)와 상기 제2와류유도체(140)의 하부면에는 상기 몸체부의 바닥면에 지지되도록 설치되는 지지브라케트(130a,140a)가 각각 구비되어 있다.Support brackets 130a and 140a are installed on the lower surfaces of the vortex derivatives 130 and the second vortex derivatives 140 so as to be supported on the bottom surface of the body.

상기 와류유도체(130)의 외부면에 형성되는 상기 베인(132)은 상기 유도몸체(131)의 상부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 상부베인부와 상기 유도몸체(131)의 하부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 하부베인부로 구비될 수 있으며, 이 경우 상부베인부와 하부베인부에 형성되는 상기 베인(132)은 유동되는 혼합용액이 와류를 크게 일으키도록 서로 엇갈리게 설치 구비된다.The vane 132 formed on the outer surface of the vortex derivative 130 includes an upper vane portion having a plurality of vanes formed along an upper outer surface of the induction body 131, In this case, the vanes 132 formed in the upper vane portion and the lower vane portion are installed in a staggered manner so that the flowing mixed solution causes vortex to increase greatly.

또한 본 발명의 상기 나선관(142)은 상기 원통몸체(141)의 상부측에 원주면을 따라 1단으로 구비되고 그 하부측에 2단으로 구비될 수 있으며 상부측에 구비되는 1단의 나선관 길이가 하부측에 구비되는 2단의 나선관 길이보다 길게 구비되는 것이 바람직하다.In addition, the spiral tube 142 of the present invention may be provided at one end along the circumferential surface on the upper side of the cylindrical body 141 and at two stages below the cylindrical body 141, It is preferable that the tube length is longer than the length of the two-stage helical tube provided on the lower side.

상기 나선관(142)의 단부측에는 이들을 서로 연결하여 고정 지지하는 나선관지지브라케트(143)가 구비되어 있고 상기 나선관지지브라케트(143)에는 이동 및 설치시 견인바 (미도시)를 걸어주는 견인고리(144)가 더 구비되어 있다. The helical tube 142 is provided at its end with a helical knurled zebra cartridge 143 for connecting and fixing the helical tube 142 to the helical tube 142. The helical tube zebra cartridge 143 is provided with a traction rod (not shown) The ring 144 is further provided.

따라서 상기 제2와류유도체(140)를 이동 및 설치시 상기 나선관지지브라케트(143)에 의해 상기 나선관(142)이 안전하게 지지되면서 상기 견인고리(144)에 견인바 등을 걸어 용이하게 이동 견인하여 설치할 수가 있다.Therefore, when the second vortex derivative 140 is moved and installed, the spiral tube 142 is securely supported by the spiral zebra kettle 143, and the tow bar or the like is hooked on the pull ring 144, .

한편, 상기 반응용기(110의 상기 몸체부(111) 내벽 하부측에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져나오는 혼합용액이 부딪혀 와류를 일으키도록 상기 몸체부(111)의 길이 방향으로 수직하게 설치된 와류플레이트(113)가 원주 방향으로 다수 개 구비되어 있고, 또한 상기 와류플레이트(113)의 상부측에는 상기 몸체부(111)의 원주 방향으로 형성된 와류돌기(114)가 더 구비되어 있다.On the other hand, a vortex plate (not shown) installed perpendicularly to the longitudinal direction of the body part 111 is provided on the lower side of the inner wall of the body part 111 of the reaction vessel 110 so as to cause a mixed solution, A plurality of vortex protrusions 114 are formed on the upper side of the vortex plate 113 in the circumferential direction of the body portion 111. The vortex protrusion 114 is formed on the upper surface of the vortex plate 113 in the circumferential direction.

따라서 상기 나선관(142)을 통해 빠져나오는 혼합용액이 상기 와류플레이트(113)와 상기 와류돌기(114)에 부딪히면서 유해가스가 정화용액에 더욱 많이 충돌하면서 정화 효율이 더욱 좋아지게 된다.Therefore, the mixed solution coming out through the helical tube 142 collides with the vortex plate 113 and the vortex protrusion 114, so that the harmful gas collides with the cleaning solution more and the purification efficiency is improved.

상기 몸체부(111)의 내부 상부측에는 하부측에서 상승하는 유해가스에 정화용액을 분사하여 정화시키는 분사장치(150)가 더 구비되어 있다.The upper portion of the body portion 111 is further provided with a spray device 150 for injecting a cleaning solution to the noxious gas rising from the lower side to purify the cleaning solution.

상기 분사장치(150)는 상기 몸체부(111)에 저장된 정화용액을 펌핑할 수 있도록 설치된 펌프(151)와, 상기 펌프(151)에서 펌핑되는 정화용액을 상기 몸체부(111)의 내측 상부로 공급하는 용액공급관(152), 상기 몸체부(111)의 내부 상부측에 구비되어 상기 펌프(151)에 의해 펌핑되는 정화용액이 공급되면서 하향 분무되도록 다수의 분사구(153a)가 형성되는 다수의 분사파이프(153)로 구성되어 있다.The injector 150 includes a pump 151 installed to pump the purifying solution stored in the body 111 and a purge solution pumped by the pump 151 into the upper portion of the body 111 A plurality of nozzles 153a are provided on the upper side of the body 111 to supply a purifying solution to be pumped by the pump 151, And a pipe 153.

이러한 상기 분사장치(150)는 상기 펌프(151)의 구동으로 상기 몸체부(111)에 저장된 정화용액이 상기 용액공급관(152)을 통해 상기 분사파이프(153)로 공급되고 상기 분사구(153a)를 통해 상기 몸체부(111)의 상부측에서 하부측을 향해 분사되면서 상승하는 유해가스와 접촉되도록 하여 정화효율을 더욱 높여 준다.The injection device 150 is operated such that the cleaning solution stored in the body part 111 is supplied to the injection pipe 153 through the solution supply pipe 152 by driving the pump 151, To the lower side of the body portion 111, thereby increasing the purification efficiency.

또한 상기 분사장치(150)의 하부측에는 다층의 폴링여재층(160)이 구비되어 있으며, 상기 폴링여재층(160)에는 유해가스가 통과하여 상승하는 다수의 관통공(161)이 형성되어 있다. 여기서 상기 폴링여재층(160)이 다층으로 구성되는 경우에는 상층의 관통공(161)과 하층의 관통공(161)이 서로 엇갈리도록 형성하여 적층된다.A plurality of through holes 161 are formed in the polling material layer 160 so that noxious gas passes through the polling material layer 160. When the polling material layer 160 is formed of a plurality of layers, the upper and lower through-holes 161 and 161 are formed to be offset from each other.

이는, 상기 몸체부(111)의 하부측에서 정화된 유해가스가 상승하면서 하층의 관통공(161)과 상층의 관통공(161)을 서로 엇갈려서 통과하여 상승함으로써 유해가스의 상승 시간이 지면되고 이 지연되는 시간만큼 상부측에서 분무되는 분사용액과의 접촉 시간도 많아져 유해가스의 정화 효율이 더욱 좋아지게 된다.This is because as the purified noxious gas rises from the lower side of the body portion 111, the through hole 161 of the lower layer and the through hole 161 of the upper layer pass through each other, The contact time with the use liquid sprayed from the upper side is increased by the time delayed, and the cleaning efficiency of the noxious gas is further improved.

이상과 같이 본 발명에 따른 유해 배기가스 정화장치는 중공의 반응 용기 몸통 내부의 하부측에 정화용액을 수납 저장하고 몸통 내부로 공급되는 유해물질이 함유된 배기가스를 정화용액 내부로 공급하면서 정화용액이 와류(渦流)를 일으키도록 하는 와류유도체를 설치하여, 몸통 내부로 공급되는 유해가스가 정화용액과 함께 와류유도체에 의해 몸통 내부의 하부측에서 와류(소용돌이)를 일으키면서 혼합 정화된 후 유해가스만 몸통의 상부측으로 상승하여 상단부에 구비된 배기통로를 통해 외부로 규정 이하의 유해가스를 배출 처리하게 된다.As described above, the apparatus for purifying harmful exhaust gases according to the present invention stores and stores the purification solution in the lower side of the inside of the hollow reaction vessel body, while supplying the exhaust gas containing the harmful substances supplied into the body into the purification solution, The vortex gas is supplied to the inside of the body by a vortex derivative together with the cleaning solution to cause a vortex in the lower part of the inside of the body, Only the upper portion of the body is raised and the exhaust gas of a predetermined or lower amount is discharged to the outside through the exhaust passage provided in the upper portion.

100:유해 배기가스 정화장치
110:반응용기
111:몸체부 112:배기관 113:와류플레이트 114:와류돌기
120:가스공급관
130:와류유도체
131:유도몸체 132:베인
140:제2유도와류체
141:원통몸체 142:나선관 142a:일자형 슬롯 142b:측면 슬롯
143:나선관지지브라케트 144:견인고리
150:분사장치
151:펌프 152:공급관 153:분사파이프 153a:분사구
160:폴링여재층 161:관통공
100: Harmful exhaust gas purifying device
110: reaction vessel
111: body portion 112: exhaust pipe 113: vortex plate 114: vortex projection
120: gas supply pipe
130: vortex derivative
131: induction body 132: vane
140: second induced eddy current
141: cylindrical body 142: helical tube 142a: straight slot 142b: side slot
143: Spiral Jibraket 144: Traction ring
150: Injection device
151: pump 152: supply pipe 153: injection pipe 153a:
160: Polling material layer 161: Through-hole

Claims (9)

중공의 몸체부(111)로 형성되고 그 내부의 하부측에 정화용액이 저장되며 상단부에 배기가스가 배출되도록 배기관(112)이 설치되는 반응용기(110)와;
상기 반응용기(110)의 내부로 유해가스가 공급되도록 설치되는 가스공급관(120);
상기 반응용기(110)의 내부에 설치되되 상기 가스공급관(120)의 끝단부에 구비되어 상기 가스공급관(120)으로 공급되는 유해가스가 인입되면서 1차와류를 일으키도록 하는 와류유도체(130);를 포함하며,
상기 와류유도체(130)는 상단부에서 하단부로 갈수록 직경이 커지는 삿갓형상의 유도몸체(131)로 형성되며, 상기 유도몸체(131)의 외부면에는 공급되는 유체가 유동되면서 와류가 발생되도록 원주 방향을 따라 나선형상으로 된 다수개의 베인(132)이 설치 구비되고,
상기 와류유도체(130)의 외측으로 이격되면서 유체에 와류를 발생시키도록 하는 제2와류유도체(140)가 더 설치되며,
상기 제2와류유도체(140)는 상기 와류유도체(130)에서 유동되는 유해가스가 부딪히는 원통몸체(141)와, 상기 원통몸체(141)의 원주면을 따라 다수 개가 구비되되 시계방향 또는 반시계방향으로 경사지면서 하향으로도 경사지게 구비되어 상기 와류유도체(130)에서 유동된 유해가스가 통과하면서 정화용액과 혼합되며 2차 와류를 일으키는 나선관(142)으로 구성되는 유해 배기가스 정화장치.
A reaction vessel 110 formed with a hollow body portion 111 and storing a purifying solution at a lower side of the hollow body portion 111 and having an exhaust pipe 112 to exhaust exhaust gas at an upper end thereof;
A gas supply pipe 120 installed to supply noxious gas into the reaction vessel 110;
A vortex inducing unit 130 installed inside the reaction vessel 110 and provided at an end of the gas supplying pipe 120 to cause a primary vortex while the noxious gas supplied to the gas supplying pipe 120 is drawn in; / RTI >
The vortex derivative 130 is formed by a guiding body 131 having a larger diameter from the upper end to the lower end of the guiding body 131. A fluid supplied to the outer surface of the guiding body 131 flows in a circumferential direction A plurality of vanes 132 having a helical shape are installed,
And a second vortex derivative (140) for generating a vortex in the fluid while being spaced apart from the vortex derivative (130)
The second vortex derivative 140 includes a cylindrical body 141 against which noxious gas flowing from the vortex derivative 130 strikes and a plurality of the second vortex derivatives 140 along the circumferential surface of the cylindrical body 141, And a spiral tube (142) inclined downwardly and inclined downward to mix with the cleaning solution while passing noxious gas flowing from the vortex conductor (130) to generate a secondary vortex.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 나선관(142)의 단부에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져 나오는 혼합용액이 와류를 일으키도록 하는 일자형 슬롯(142a)이 형성되는 유해 배기가스 정화장치.
The method according to claim 1,
And a linear slot (142a) is formed at an end of the helical tube (142) to cause vortex flow of mixed solution exiting through the helical tube (142).
제3항에 있어서,
상기 와류유도체(130)의 외부면에 형성되는 상기 베인(132)은 상기 유도몸체(131)의 상부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 상부베인부와 상기 유도몸체(131)의 하부측 외부면을 따라 다수개가 형성되는 하부베인부로 구비되며, 상부베인부와 하부베인부에 형성되는 상기 베인(132)은 상하부에서 서로 엇갈리게 설치 구비되고,
또한 상기 나선관(142)은 상기 원통몸체(141)의 상부측에 원주면을 따라 1단으로 구비되고 그 하부측에 2단으로 구비되며, 상부측에 구비되는 1단의 나선관 길이가 하부측에 구비되는 2단의 나선관 길이보다 길게 구비되는 유해 배기가스 정화장치.
The method of claim 3,
The vane 132 formed on the outer surface of the vortex derivative 130 includes an upper vane portion having a plurality of vanes formed along an upper outer surface of the induction body 131, And the vanes 132 formed in the upper vane portion and the lower vane portion are installed to be offset from each other in the upper and lower portions,
Further, the helical tube 142 is provided at one end along the circumferential surface on the upper side of the cylindrical body 141 and at two stages below the helical tube 142, and the length of one helical tube provided at the upper side is lower And the length of the helical tube is longer than the length of the helical tube of the two stages provided on the side of the exhaust pipe.
제1항에 있어서,
상기 나선관(142)의 단부측에는 이들을 서로 연결하여 고정 지지하는 나선관지지브라케트(143)가 구비되고, 상기 나선관지지브라케트(143)에는 이동 및 설치시 견인바를 걸어주는 견인고리(144)가 구비되는 유해 배기가스 정화장치.
The method according to claim 1,
The helical tube 142 is provided with a helical knurled zebra cartridge 143 for connecting and fixing the helical tube 142. The helical flange zebra cartridge 143 is provided with a pulling ring 144 for hanging a pull bar Wherein the harmful exhaust gas purifying apparatus comprises:
제1항에 있어서,
상기 반응용기(110의 상기 몸체부(111) 내벽 하부측에는 상기 나선관(142)을 통해 빠져나오는 혼합용액이 부딪혀 와류를 일으키도록 상기 몸체부(111)의 길이 방향으로 수직하게 설치된 와류플레이트(113)가 원주 방향으로 다수 개 구비되고, 또한 상기 와류플레이트(113)의 상부측에는 상기 몸체부(111)의 원주 방향으로 와류돌기(114)가 형성 구비되는 유해 배기가스 정화장치.
The method according to claim 1,
A vortex plate 113 installed vertically in the longitudinal direction of the body part 111 to generate a vortex due to a mixed solution bouncing through the spiral tube 142 against the bottom of the inner wall of the body part 111 of the reaction vessel 110, And vortex protrusions 114 are formed on the upper side of the vortex plate 113 in a circumferential direction of the body 111. The vortex protrusion 114 is formed in the circumferential direction of the body 111 in the circumferential direction.
제6항에 있어서,
상기 몸체부(111)의 내부 상부측에는 하부측에서 상승하는 유해가스에 정화용액을 분사하여 정화시키는 분사장치(150)가 더 구비되고,
상기 분사장치(150)의 하부측에는 상승하는 유해가스를 정화시키도록 무수한 여과관통공이 각각 형성되는 다층의 폴링여재층(160)이 구비되며, 상층의 폴링여재층(160)에 형성되는 여과관통공과 하층의 폴링여재층(160)에 형성되는 여과관통공은 서로 엇갈리도록 구비되는 유해 배기가스 정화장치.
The method according to claim 6,
And an injection device 150 for injecting a cleaning solution to the upper side of the body part 111 to purify the noxious gas rising from the lower side,
In the lower portion of the injector 150, there is provided a multi-layered polling material layer 160 having a number of filtration through holes formed therein for purifying the rising noxious gas, and a filtration hole formed in the upper layer of the polling material layer 160 And the filtering through holes formed in the lower polling filter media layer (160) are arranged to be offset from each other.
제3항에 있어서,
상기 나선관(142)의 단부에는 상기 일자형 슬롯(142a)과 어긋나게 측면 슬롯(142b)이 더 구비되며, 상기 측면 슬롯(142b)의 길이가 상기 일자형 슬롯의 길이보다 짧은 유해 배기가스 정화장치.
The method of claim 3,
The helical tube 142 further includes a side slot 142b which is offset from the flat slot 142a and the length of the side slot 142b is shorter than the length of the flat slot.
제3항에 있어서,
상기 나선관(142)의 끝단에는 나선관을 가로지르는 가름막이 더 구비되는 유해 배기가스 정화장치.
The method of claim 3,
Wherein the spiral tube (142) further comprises a separating membrane across the spiral tube at an end of the spiral tube (142).
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