KR101888361B1 - 인레이/온레이 모델 디자인 방법, 장치 및 그 방법을 실행하기 위한 프로그램이 기록된 기록매체 - Google Patents

Abstract

마진 라인을 자동으로 생성하여 인레이/온레이 모델을 디자인하는 장치가 개시된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델을 디자인하는 장치는 프로세서를 포함하고, 프로세서는 치아 모델 라이브러리로부터 인레이/온레이 모델을 디자인하기 위한 치아 모델을 불러와 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 배치할 수 있다. 그리고, 프로세서는 배치된 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시켜 치아 모델의 표면에서 곡률 변화가 큰 부분과 지대치 모델이 맞닿는 경계를 마진 라인으로 결정할 수 있다. 또한, 프로세서는 결정된 마진 라인을 이용하여 인레이/온레이 모델의 내면 모델 및 외면 모델을 결정함으로써 크라운 모델을 디자인할 수 있다.

Description

인레이/온레이 모델 디자인 방법, 장치 및 그 방법을 실행하기 위한 프로그램이 기록된 기록매체{METHOD AND DEVICE FOR DESIGNING A INLAY/ONLAY MODEL, AND RECORDING MEDIUM RECORDED PROGRAM FOR IMPLEMENT THEREOF}

본 발명은 인레이/온레이(Inlay/Onlay) 모델의 디자인 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 사용자의 입력에 의한 마진 라인(Margin Line)의 생성 없이, 지대치 모델 및 치아 모델을 이용하여 자동으로 마진 라인을 생성하여 인레이/온레이 모델을 디자인 하는 방법에 관한 것이다.

최근 치과 치료를 위한 치아 보철물 디자인은 치과 기공사에 의한 수작업이 아닌 Dental CAD 소프트웨어를 이용한 치아 보철물 디자인이 활발이 이루어 지고 있다. Dental CAD 소프트웨어를 이용하여 치아 보철물을 제작하면 치과 기공사의 수작업보다 정확하고 빠르게 보철물을 디자인할 수 있는 장점이 있다.

그러나 Dental CAD 소프트웨어를 이용하여 치아 보철물을 디자인하기 위해서는 치아 보철물 모델 디자인에 앞서 마진 라인을 결정해야 한다.

종래에는 마진 라인을 결정하기 위하여 사용자가 마우스 등의 입력 장치를 이용하여 입력한 지점을 기초로 하여 마진 라인을 생성하는 방법을 이용하고 있다. 그러나, 이 경우 사용자가 입력하는 지점에 따라 마진 라인의 위치나 형태가 달라져 오차가 발생할 수 있고, 경우에 따라서는 사용자가 생성된 마진 라인을 수작업을 통해 편집 및 수정해야 하는 과정을 거쳐야 하는 불편함이 발생하였다.

본 발명은 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델을 사용자 치아로부터 획득한 지대치 모델에 배치하고, 치아 모델을 지대치 모델이 중첩시킴으로써 자동으로 마진 라인을 생성할 수 있는 방법 및 장치를 제공할 수 있다.

본 발명은 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델, 사용자 치아로부터 획득한 지대치 모델 및 지대치 모델에 배치된 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시켜 자동으로 생성된 마진 라인을 이용함으로써 인레이/온레이 모델을 디자인하는 방법 및 장치를 제공할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 방법은, 치아 모델 라이브러리로부터 인레이(Inlay)/온레이(Onlay) 모델을 디자인 하기 위한 치아 모델을 식별하는 단계; 상기 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 상기 치아 모델을 배치하는 단계; 상기 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시켜 마진 라인(Margin Line)을 결정하는 단계; 상기 결정된 마진 라인 및 상기 지대치 모델을 이용하여 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정하는 단계; 및 상기 치아 모델 및 상기 내면 모델을 이용하여 상기 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 마진 라인을 결정하는 단계는, 상기 치아 모델을 상기 지대치 모델에 중첩시키는 단계; 상기 지대치 모델에 중첩되는 치아 모델에서 곡률의 변화가 미리 설정된 값 이상인 지점을 결정하는 단계; 및 상기 결정된 지점을 이용하여 마진 라인을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 내면 모델을 결정하는 단계는, 상기 지대치 모델을 상기 마진 라인을 따라서 절단하는 단계; 및 상기 인레이/온레이 모델과 상기 절단된 지대치 모델의 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋(Offset)만큼 상기 절단된 지대치 모델의 크기 또는 상기 치아 모델의 크기 중 적어도 하나를 조절하는 단계를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 외면 모델을 결정하는 단계는, 상기 내면 모델의 엣지에 맞추어 상기 치아 모델의 엣지를 변형하는 단계; 및 사용자의 입력에 기초하여 상기 엣지가 변형된 치아 모델의 형태를 결정하는 단계를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 장치에 있어서, 프로세서를 포함하고, 상기 프로세서는, 치아 모델 라이브러리로부터 인레이(Inlay)/온레이(Onlay) 모델을 디자인 하기 위한 치아 모델을 식별하고, 상기 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 상기 치아 모델을 배치하고, 상기 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시켜 마진 라인(Margin Line)을 결정하고, 상기 결정된 마진 라인 및 상기 지대치 모델을 이용하여 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정하고, 상기 치아 모델 및 상기 내면 모델을 이용하여 상기 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 프로세서는, 상기 치아 모델을 상기 지대치 모델에 중첩시키고, 상기 지대치 모델에 중첩되는 치아 모델에서 곡률의 변화가 미리 설정된 값 이상인 지점을 결정하고, 상기 결정된 지점을 이용하여 마진 라인을 결정할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 프로세서는, 상기 지대치 모델을 상기 마진 라인을 따라서 절단하고, 상기 인레이/온레이 모델과 상기 절단된 지대치 모델의 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋(Offset)만큼 상기 절단된 지대치 모델의 크기 또는 상기 치아 모델의 크기 중 적어도 하나를 조절할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 상기 프로세서는, 상기 내면 모델의 엣지에 맞추어 상기 치아 모델의 엣지를 변형하고, 사용자의 입력에 기초하여 상기 엣지가 변형된 치아 모델의 형태를 결정할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델을 사용자 치아로부터 획득한 지대치 모델에 배치하고, 치아 모델의 크기를 조절함으로써 자동으로 마진 라인을 생성할 수 있다.

본 발명은 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델, 사용자 치아로부터 획득한 지대치 모델 및 지대치 모델에 배치된 치아 모델의 크기를 조절하여 자동으로 생성된 마진 라인을 이용함으로써 인레이/온레이 모델을 디자인할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델, 인레이/온레이 모델 및 마진 라인을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델에 치아 모델을 배치하는 것을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시키는 것을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델을 마진 라인을 따라서 절단하는 것을 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델의 크기를 조절하는 것을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 내면 모델 및 치아 모델을 병합하는 것을 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델의 형태를 결정하는 것을 도시한 도면이다.

본 발명은 Dental CAD 소프트웨어를 이용한 보철물의 디자인 특히, 인레이/온레이를 디자인하기 위한 발명이다.

본 발명에서의 인레이는 치아 내부의 국소부위에 충치가 발생한 경우, 치아를 수복하기 위해 사용되는 충전물이다. 그리고, 온레이는 전체 치아의 60% 이상 우식이 발생한 경우, 치아를 수복하기 위해 사용되는 충전물이다.

본 발명에서의 내면 모델은 사용자의 지대치와 인레이/온레이가 맞닿는 부분에 대한 모델이다.

본 발명에서의 외면 모델은 사용자의 지대치에 인레이/온레이를 결합하였을 때, 인레이/온레이의 외부로 보이는 부분에 대한 모델이다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 장치를 도시한 도면이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 장치는 프로세서를 포함하고, 프로세서는 중앙 처리 장치(CPU) 또는 메모리 및/또는 스토리지에 저장된 명령어들에 대한 처리를 실행하는 반도체 장치일 수 있다. 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 사용자의 치아로부터 획득한 지대치 모델과 치아 라이브러리에서 불러온 치아 모델을 이용하여 마진 라인(Margin Line)을 결정하고, 결정된 마진 라인을 이용하여 사용자의 지대치에 결합될 인레이/온레이를 디자인할 수 있다.

이 때, 지대치 모델은 인레이/온레이가 결합될 사용자 치아의 3차원 디지털 모델로서, 구강 스캐너 또는 모델 스캐너 등의 디지털 장비를 통해 사용자의 치아로부터 획득될 수 있다. 그리고, 치아 모델은 표준화된 치아 형태의 3차원 디지털 모델이다. 또한, 마진 라인은 지대치와 인레이/온레이가 맞닿아 형성되는 선(Line)이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델 디자인 방법을 나타내는 플로우 차트이다.

단계(200)에서 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 지대치 모델에 결합될 인레이/온레이 모델을 디자인하기 위하여 치아 라이브러리로부터 치아 모델을 불러올 수 있다.

단계(201)에서 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델을 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 배치할 수 있다. 이 때, 배치하는 방법으로는, 지대치 모델의 크기, 방향 등을 고려한 사용자의 입력에 기초하여 치아 모델을 지대치 모델에 배치하거나, 미리 설정된 알고리즘 등을 이용하여 자동으로 치아 모델을 지대치 모델에 배치할 수 있다.

단계(202)에서 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시켜 마진 라인을 결정할 수 있다. 보다 구체적으로는, 프로세서는 지대치 모델에 배치된 치아 모델을 지대치 모델에 접근시켜 동일면을 형성하게 할 수 있다. 이 과정에서 프로세서는 치아 모델의 표면에서 곡률이 미리 설정된 값 이상으로 급격하게 변하는 지점을 검출하고, 해당 지점에 대해서는 더 이상의 중첩이 일어나지 않도록 할 수 있다. 그리고, 중첩을 마친 치아 모델과 지대치 모델의 경계를 마진 라인으로 결정할 수 있다.

그리고, 프로세서는 결정된 마진 라인에 절단된 부분이 있는 경우 즉, 마진 라인이 생성되지 않은 부분이 있는 경우 주변의 곡률을 이용하여 마진 라인이 생성되지 않은 부분을 보완함으로써 최종적인 마진 라인을 결정할 수 있다.

단계(203)에서 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 단계(202)에서 결정된 최종적인 마진 라인 및 지대치 모델을 이용하여 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 지대치 모델을 결정된 마진 라인을 따라서 절단할 수 있다. 그리고, 프로세서는 인레이/온레이 모델과 절단된 지대치 모델 간의 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋(Offset)만큼 절단된 지대치 모델의 크기 또는 치아 모델의 크기 중 어느 하나를 조절할 수 있고, 크기가 조절된 절단된 지대치 모델이 인레이/온레이 모델의 내면 모델이될 수 있다.

단계(204)에서 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 단계(203)에서 결정된 인레이/온레이 모델의 내면 모델 및 치아 모델을 이용하여 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 내면 모델의 엣지(Edge)에 맞추어 치아 모델의 엣지를 변형하여 내면 모델과 치아 모델을 하나의 메쉬 모델(Mesh Model)로 병합할 수 있다. 그리고, 프로세서는 사용자의 입력에 기초하여 치아 모델의 형태를 다듬고 정리하는 디포메이션(Deformation) 작업을 거쳐 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정함으로써, 최종적인 인레이/온레이 모델을 결정할 수 있다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델, 인레이/온레이 모델 및 마진 라인을 도시한 도면이다.

도 3을 참고하면, 지대치 모델(300)에 인레이/온레이 모델(301)이 결합되어 있다. 이 때, 인레이/온레이 모델(301)과 지대치 모델(300)이 맞닿아 형성되는 선이 마진 라인(302)일 수 있다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델에 치아 모델을 배치하는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 지대치 모델(401)에 치아 라이브러리로부터 불러온 치아 모델(400)을 배치할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 지대치 모델(401)의 크기, 방향 등을 고려한 사용자의 입력에 기초하여 치아 모델(400)을 지대치 모델(401)에 배치하거나 또는 지대치 모델의 Buccal 축, Occlusal 축, Mesial 축 등을 이용한 미리 설정된 알고리즘을 이용하여 치아 모델(400)을 지대치 모델에 자동으로 배치할 수 있다. 이 때, 프로세서가 이용하는 알고리즘은 특정 알고리즘에 한정되지 않을 수 있다.

여기서, 지대치 모델(401)은 인레이/온레이 모델이 결합될 치아에 대한 모델로서, 사용자의 치아로부터 구강 스캐너 등의 디지털 장비를 이용하여 획득할 수 있다. 특히, 지대치 모델(401)은 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 디자인하기 위하여 사용될 수 있다. 또한, 지대치 모델(401)에 배치된 치아 모델(400)은 표준화된 치아 형태의 3차원 디지털 모델로서, 인레이/온레이 모델을 디자인하기 위하여 사용될 수 있다. 특히, 치아 모델(400)은 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 디자인하기 위하여 사용될 수 있다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시키는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 지대치 모델(401)에 배치된 치아 모델(400)을 지대치 모델(401)에 중첩시켜 마진 라인을 결정할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 도 4에서 지대치 모델(401)보다 큰 치아 모델(400)을 도 5와 같이 지대치 모델(401)에 중첩시킬 수 있다. 이 때, 치아 모델(400)의 표면에서 곡률이 급격하게 변하는 지점이 생기게 되는데, 프로세서는 이 지점을 검출하여 해당 지점에서는 더 이상의 중첩이 일어나지 않도록 할 수 있다. 그리고, 프로세서는 지대치 모델(401)에 치아 모델(400)의 중첩이 완료되면 지대치 모델(401)과 치아 모델(400)의 경계 지점을 마진 라인으로 결정할 수 있다.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델을 마진 라인을 따라서 절단하는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 디자인하기 위하여 지대치 모델(401) 및 지대치 모델(401)에 치아 모델(400)을 중첩시켜 결정된 마진 라인(500)을 이용할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 결정된 마진 라인(500)을 따라서 지대치 모델(401)을 절단함으로써 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 디자인 하기 위한 지대치 모델(600)을 결정할 수 있다.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 지대치 모델의 크기를 조절하는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델의 내면 모델을 지대치 모델(600)과 동일하게 디자인하는 경우, 인레이/온레이 모델을 기반으로 제작된 인레이/온레이가 사용자의 치아에 결합될 때, 접착제를 위한 공간이 없을 수 있다. 따라서, 인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 인레이/온레이 모델과 지대치 모델(600) 간의 접착제를 위한 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋만큼 지대치 모델(600)의 크기를 조절함으로써, 인레이/온레이 모델의 내면 모델(700)을 결정할 수 있다. 이 때, 오프셋은 보철물을 좀 더 안정적으로 고정하기 위하여 지대치 모델(600)의 부분마다 다르게 설정될 수 있다.

또한, 프로세서는 인레이/온레이 모델과 지대치 모델(600) 간의 접착제를 위한 접착 공간을 확보하기 위하여 지대치 모델(600)의 크기를 조절하는 것 대신에, 미리 설정된 오프셋만큼 치아 모델의 크기를 조절함으로써, 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정할 수도 있다.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 내면 모델 및 치아 모델을 병합하는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 인레이/온레이 모델의 내면 모델(700)과 치아 모델(400)을 하나의 메쉬 모델로 병합하여 이면 모델을 결정함으로써, 인레이/온레이 모델(800)을 결정할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 내면 모델(700)의 엣지와 치아 모델(400)의 엣지에 대하여 커팅(Cutting)작업을 거친 후 내면 모델(700)의 엣지 부분에 기초하여 치아 모델(400)의 엣지 부분을 연장함으로써 인레이/온레이 모델(800)의 외면 모델을 결정할 수 있다. 여기서, 치아 모델(400)의 엣지는 치아 모델(400)과 마진 라인이 접촉되는 지점이고, 내면 모델(700)의 엣지는 인레이/온레이 모델(800)의 위치와 치아 모델(400)의 엣지 부분이 접촉되는 지점이다.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 인레이/온레이 모델의 형태를 결정하는 것을 도시한 도면이다.

인레이/온레이 모델 디자인 장치(100)의 프로세서는 디포메이션 작업을 거쳐 인레이/온레이 모델(800)로부터 최종적인 인레이/온레이 모델(900)을 결정할 수 있다.

보다 구체적으로, 프로세서는 인레이/온레이 모델(800)의 외면 모델에서 사용자가 지정한 특정 부분에 대하여 사용자의 입력에 기초하여 형태를 다듬고 정리하는 디포메이션 작업을 수행함으로써, 최종적인 크라운 모델(900)을 결정할 수 있다.

한편, 본 발명에 따른 장치 및 방법은 컴퓨터에서 실행될 수 있는 프로그램으로 작성되어 마그네틱 저장매체, 광학적 판독매체, 디지털 저장매체 등 다양한 기록 매체로도 구현될 수 있다.

본 명세서에 설명된 각종 기술들의 구현들은 디지털 전자 회로조직으로, 또는 컴퓨터 하드웨어, 펌웨어, 소프트웨어로, 또는 그들의 조합들로 구현될 수 있다. 구현들은 데이터 처리 장치, 예를 들어 프로그램가능 프로세서, 컴퓨터, 또는 다수의 컴퓨터들의 동작에 의한 처리를 위해, 또는 이 동작을 제어하기 위해, 컴퓨터 프로그램 제품, 예를 들어 기계 판독가능 저장 장치(컴퓨터 판독가능 매체)로 구현될 수 있다. 상술한 컴퓨터 프로그램(들)과 같은 컴퓨터 프로그램은 컴파일된 또는 인터프리트된 언어들을 포함하는 임의의 형태의 프로그래밍 언어로 기록될 수 있고, 독립형 프로그램으로서 또는 모듈, 구성요소, 서브루틴, 또는 컴퓨팅 환경에서의 사용에 적절한 다른 유닛으로서 포함하는 임의의 형태로 전개될 수 있다. 컴퓨터 프로그램은 하나의 사이트에서 하나의 컴퓨터 또는 다수의 컴퓨터들 상에서 처리되도록 또는 다수의 사이트들에 걸쳐 분배되고 통신 네트워크에 의해 상호 연결되도록 전개될 수 있다.

컴퓨터 프로그램의 처리에 적절한 프로세서들은 예로서, 범용 및 특수 목적 마이크로프로세서들 둘 다, 및 임의의 종류의 디지털 컴퓨터의 임의의 하나 이상의 프로세서들을 포함한다. 일반적으로, 프로세서는 판독 전용 메모리 또는 랜덤 액세스 메모리 또는 둘 다로부터 명령어들 및 데이터를 수신할 것이다. 컴퓨터의 요소들은 명령어들을 실행하는 적어도 하나의 프로세서 및 명령어들 및 데이터를 저장하는 하나 이상의 메모리 장치들을 포함할 수 있다. 일반적으로, 컴퓨터는 데이터를 저장하는 하나 이상의 대량 저장 장치들, 예를 들어 자기, 자기-광 디스크들, 또는 광 디스크들을 포함할 수 있거나, 이것들로부터 데이터를 수신하거나 이것들에 데이터를 송신하거나 또는 양쪽으로 되도록 결합될 수도 있다. 컴퓨터 프로그램 명령어들 및 데이터를 구체화하는데 적절한 정보 캐리어들은 예로서 반도체 메모리 장치들, 예를 들어, 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(Magnetic Media), CD-ROM(Compact Disk Read Only Memory), DVD(Digital Video Disk)와 같은 광 기록 매체(Optical Media), 플롭티컬 디스크(Floptical Disk)와 같은 자기-광 매체(Magneto-Optical Media), 롬(ROM, Read Only Memory), 램(RAM, Random Access Memory), 플래시 메모리, EPROM(Erasable Programmable ROM), EEPROM(Electrically Erasable Programmable ROM) 등을 포함한다. 프로세서 및 메모리는 특수 목적 논리 회로조직에 의해 보충되거나, 이에 포함될 수 있다.

삭제

본 명세서는 다수의 특정한 구현물의 세부사항들을 포함하지만, 이들은 어떠한 발명이나 청구 가능한 것의 범위에 대해서도 제한적인 것으로서 이해되어서는 안되며, 오히려 특정한 발명의 특정한 실시형태에 특유할 수 있는 특징들에 대한 설명으로서 이해되어야 한다. 개별적인 실시형태의 문맥에서 본 명세서에 기술된 특정한 특징들은 단일 실시형태에서 조합하여 구현될 수도 있다. 반대로, 단일 실시형태의 문맥에서 기술한 다양한 특징들 역시 개별적으로 혹은 어떠한 적절한 하위 조합으로도 복수의 실시형태에서 구현 가능하다. 나아가, 특징들이 특정한 조합으로 동작하고 초기에 그와 같이 청구된 바와 같이 묘사될 수 있지만, 청구된 조합으로부터의 하나 이상의 특징들은 일부 경우에 그 조합으로부터 배제될 수 있으며, 그 청구된 조합은 하위 조합이나 하위 조합의 변형물로 변경될 수 있다.

마찬가지로, 특정한 순서로 도면에서 동작들을 묘사하고 있지만, 이는 바람직한 결과를 얻기 위하여 도시된 그 특정한 순서나 순차적인 순서대로 그러한 동작들을 수행하여야 한다거나 모든 도시된 동작들이 수행되어야 하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 특정한 경우, 멀티태스킹과 병렬 프로세싱이 유리할 수 있다. 또한, 상술한 실시형태의 다양한 장치 컴포넌트의 분리는 그러한 분리를 모든 실시형태에서 요구하는 것으로 이해되어서는 안되며, 설명한 프로그램 컴포넌트와 장치들은 일반적으로 단일의 소프트웨어 제품으로 함께 통합되거나 다중 소프트웨어 제품에 패키징 될 수 있다는 점을 이해하여야 한다.

한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.

100: 인레이/온레이 모델 디자인 장치

Claims (9)

1. 프로세서를 포함하는 인레이/온레이 모델 디자인 장치가 수행하는 인레이/온레이 모델 디자인 방법에 있어서,
   상기 프로세서가 치아 모델 라이브러리로부터 인레이(Inlay)/온레이(Onlay) 모델의 외부 모델을 디자인 하기 위한 치아 모델을 식별하는 단계;
   상기 프로세서가 상기 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 상기 치아 모델을 배치하는 단계-상기 지대치 모델은 사용자의 치아로부터 디지털 장비를 통해 획득되고, 인레이/온레이 모델의 내부 모델을 디자인 하기 위한 모델임-;
   상기 프로세서가 상기 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시키고, 지대치 모델에 중첩되는 치아 모델에서 곡률의 변화가 미리 설정된 값 이상인 지점을 결정한 후, 결정된 지점을 이용하여 마진 라인(Margin Line)을 결정하는 단계;
   상기 프로세서가 상기 지대치 모델을 상기 마진 라인에 따라 절단하여 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정하는 단계; 및
   상기 프로세서가 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델의 엣지(Edge)에 맞추어 치아 모델의 엣지를 변형하고, 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델과 엣지가 변형된 치아 모델을 하나의 메쉬 모델로 병합하여 상기 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정하는 단계
   를 포함하는 인레이/온레이 모델 디자인 방법.
2. 삭제
3. 제1항에 있어서,
   상기 내면 모델을 결정하는 단계는,
   상기 인레이/온레이 모델과 상기 절단된 지대치 모델의 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋(Offset)만큼 상기 절단된 지대치 모델의 크기 또는 상기 치아 모델의 크기 중 적어도 하나를 조절하는 단계
   를 포함하는 인레이/온레이 모델 디자인 방법.
4. 제1항에 있어서,
   상기 외면 모델을 결정하는 단계는,
   사용자의 입력에 기초하여 상기 엣지가 변형된 치아 모델의 형태를 결정하는 단계
   를 포함하는 인레이/온레이 모델 디자인 방법.
5. 인레이/온레이 모델 디자인 장치에 있어서,
   프로세서를 포함하고,
   상기 프로세서는,
   치아 모델 라이브러리로부터 인레이(Inlay)/온레이(Onlay) 모델의 외부 모델을 디자인 하기 위한 치아 모델을 식별하고,
   상기 인레이/온레이 모델이 결합될 지대치 모델에 상기 치아 모델을 배치하고-상기 지대치 모델은 사용자의 치아로부터 디지털 장비를 통해 획득되고, 인레이/온레이 모델의 내부 모델을 디자인 하기 위한 모델임-,
   상기 치아 모델을 지대치 모델에 중첩시키고, 지대치 모델에 중첩되는 치아 모델에서 곡률의 변화가 미리 설정된 값 이상인 지점을 결정한 후, 결정된 지점을 이용하여 마진 라인(Margin Line)을 결정하고,
   상기 지대치 모델을 상기 마진 라인에 따라 절단하여 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델을 결정하고,
   상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델의 엣지(Edge)에 맞추어 치아 모델의 엣지를 변형하고, 상기 인레이/온레이 모델의 내면 모델과 엣지가 변형된 치아 모델을 하나의 메쉬 모델로 병합하여 상기 인레이/온레이 모델의 외면 모델을 결정하는 인레이/온레이 모델 디자인 장치.
6. 삭제
7. 제5항에 있어서,
   상기 프로세서는,
   상기 인레이/온레이 모델과 상기 절단된 지대치 모델의 접착 공간을 확보하기 위하여 미리 설정된 오프셋(Offset)만큼 상기 절단된 지대치 모델의 크기 또는 상기 치아 모델의 크기 중 적어도 하나를 조절하는
   인레이/온레이 모델 디자인 장치.
8. 제5항에 있어서,
   상기 프로세서는,
   사용자의 입력에 기초하여 상기 엣지가 변형된 치아 모델의 형태를 결정하는
   인레이/온레이 모델 디자인 장치.
9. 제1항, 제3항 및 제4항 중 어느 한 항의 방법을 실행하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터에서 판독 가능한 기록 매체.

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