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KR101870665B1 - 포토 마스크 반송 장치 - Google Patents

포토 마스크 반송 장치 Download PDF

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KR101870665B1
KR101870665B1 KR1020110084044A KR20110084044A KR101870665B1 KR 101870665 B1 KR101870665 B1 KR 101870665B1 KR 1020110084044 A KR1020110084044 A KR 1020110084044A KR 20110084044 A KR20110084044 A KR 20110084044A KR 101870665 B1 KR101870665 B1 KR 101870665B1
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KR
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photomask
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hand
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unit
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KR1020110084044A
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주윤종
강병철
장동혁
이수연
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 포토 마스크 세정 공정에서 고온으로 가열된 포토 마스크를 냉각시키는 포토 마스크 세정용 냉각 장치에 관한 것으로서, 포토 마스크 세정 설비의 냉각 장치는 챔버; 챔버의 내부공간에 설치되는 냉각 모듈을 포함하되; 냉각 모듈은 서로 이격되어 설치되는 제1지지 프레임과 제2지지 프레임; 제1,2 지지프레임 안쪽에 설치되고, 포토 마스크가 놓여지는 냉각 플레이트; 냉각 플레이트 아래에 위치되는 리프트 핀들; 및 제1,2지지프레임의 바깥쪽에 설치되고, 리프트 핀들을 업다운시키기 위한 구동부를 포함한다.

Description

포토 마스크 반송 장치{photomask transfer apparatus}
본 발명은 포토 마스크 반송 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포토 마스크를 안정적으로 반송할 수 있는 포토 마스크 반송 장치에 관한 것이다.
포토마스크(photomask)는 석영이나 유리 포토 마스크 위에 반도체의 미세 회로를 형상화한 것으로서, 예를 들면 투명한 석영 포토 마스크의 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각한 것이다. 포토마스크의 미세 패턴은 포토리소그래피 공정을 통해 포토 마스크 위에 형성된다. 포토리소그래피 공정은, 포토레지스트를 포토 마스크 위에 균일하게 도포하고, 스테퍼와 같은 노광장비를 이용하여 포토마스크 상의 패턴을 축소 투영 노광시킨 후, 현상 과정을 거쳐 2차원의 포토레지스트 패턴을 형성하기까지의 전 과정을 말한다.
포토리소그래피 공정에 사용되는 포토 마스크는 한국공개특허공보 2009-68059의 도 1에 도시된 바와 같은 포토 마스크 반송 장치에 의해 반송된다. 그러나, 기존 반송 장치는 포토 마스크의 그립이 불안전하여 반송중 포토 마스크 추락 위험이 있고, 포토 마스크가 틀어진 상태로 반송되는 문제점이 있다.
[문헌1] 한국공개특허 공보 10-2009-0068059
본 발명은 포토 마스크를 안정적으로 반송할 수 있는 포토 마스크 반송 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 포토 마스크를 정렬한 상태로 반송할 수 있는 포토 마스크 반송 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 포토 마스크의 위치 틀어짐을 감지할 수 있는 포토 마스크 반송 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 포토 마스크 반송 장치는 베이스; 포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드; 및 상기 적어도 하나의 핸드가 상기 픽업 위치에서 홈 위치로 복귀할 때 포토 마스크의 위치를 정렬시키는 정렬부를 포함한다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 포토 마스크 반송 장치는 상기 베이스의 상면으로부터 이격되어 설치되고, 상기 정렬부가 설치되는 갠트리를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 갠트리는 상기 베이스의 상면으로부터 이격되어 위치되는 수평빔; 및 상기 수평빔 양단을 지지하고, 상기 베이스 양측에 고정 설치되는 지지대를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 정렬부는 상기 제1핸드 및 상기 제2핸드에 놓여지는 포토 마스크와 동일 높이에 위치되고, 포토 마스크의 양측면을 가이드하기 위해 서로 이격되어 배치되는 한 쌍의 정렬 가이드를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 한 쌍의 정렬 가이드부는 포토 마스크가 진입하는 선단쪽의 폭이 넓어지도록 외측으로 경사진 경사면을 가질 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 갠트리에 설치되고, 홈 위치에 있는 포토 마스크의 상방향 이탈을 차단하는 그립부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 그립부는 홈 위치에 있는 포토 마스크를 감지하는 유무센서를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 갠트리에 설치되고, 홈 위치에서 포토 마스크의 위치 틀어짐을 감지하는 위치 틀어짐 감지부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 위치 틀어짐 감지부는 발광부와 수광부를 포함할 수 있다.
본 발명에 의하면, 포토 마스크를 안정적으로 반송할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 포토 마스크를 정렬한 상태로 반송할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 포토 마스크의 위치 틀어짐을 감지할 수 있다.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크 세정 설비를 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 포토 마스크 세정 설비의 1층 레이아웃을 보여주는 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 포토 마스크 세정 설비의 2층 레이아웃을 보여주는 도면이다.
도 4는 도 2에 도시된 제1반송 장치의 사시도이다.
도 5a 및 도 5b는 제1반송 장치의 평면도이다.
도 6은 제1반송 장치의 베이스에 설치된 구동부를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 제1반송 장치의 요부 확대도이다.
도 8은 제1반송 장치의 정면도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 반송 장치가 구비된 포토 마스크 세정 설비를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
( 실시 예 )
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크 세정 설비를 보여주는 구성도이다. 도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 포토 마스크 세정 설비의 1층과 2층의 레이아웃을 보여주는 도면들이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 포토 마스크 세정 설비(1)는 인덱스부(1000), 제1처리부(2000), 제2처리부(3000) 및 반전 버퍼부(4000)를 포함한다.
인덱스부(1000)는 포토 마스크가 담겨진 용기가 놓여지는 4개의 포트(1100)들과, 포토 마스크 이송을 위한 인덱스 로봇(1200)을 포함한다. 포토 마스크는 패턴면이 아래로 향하도록 뒤집힌 상태로 용기에 담겨져 포트(1100)에 놓여진다. 따라서, 포토 마스크의 패턴면이 오염되는 것을 최소화할 수 있다. 포토 마스크는 제1처리부(2000) 또는 제2처리부(3000)로 반입되기 전, 반전 버퍼부(4000)에서 패턴면이 상부를 향하도록 반전된 후 제공된다.
제1처리부(2000)에서는 포토 마스크의 습식 세정이 이루어진다. 제1처리부(2000)는 반전 버퍼부(4000)와 연결되고, 포토 마스크 반송을 위한 제1반송 장치(2200)를 갖는 제1이송(2100)로 및 제1이송로(2100)를 따라 배치되는 글루 제거용 처리모듈(HSU,GSU)(2300,2400) 3개와, 포토 마스크 냉각 장치(CPU;2500) 2개를 포함한다.
글루 제거용 처리모듈(HSU,GSU)들은 SPM 용액을 포토 마스크 전면에 도포하여 글루를 제거하는 전면 처리모듈(HSU)(2300) 및 SPM 용액을 포토 마스크 가장자리 부분적으로 도포하여 글루를 제거하는 부분 처리모듈(HSU)(2400)을 포함할 수 있다. 포토 마스크 냉각 장치(2500)는 자외선/가열 처리모듈(3300)에서 열처리된 포토 마스크의 온도를 상온으로 낮추기 위한 냉각처리 장치이다.
제2처리부(3000)는 제1처리부(2000)와는 층으로 구획되도록 배치된다. 제2처리부(3000)에서는 포토 마스크의 건식 및 기능수 세정이 이루어진다. 제2처리부(3000)는 포토 마스크 반송을 위한 제2반송 장치(3200)를 갖는 제2이송로(3100) 및 제2이송로(3100)를 따라 배치되는 자외선/가열 처리모듈(HPU)(3300) 2개와, 기능수 처리모듈(SCU)(3400) 2개를 포함한다.
반전 버퍼부(4000)는 제1처리부(2000)와 인덱스부(1000) 사이에 배치된다. 도시하지 않았지만, 반전 버퍼부(4000)는 제2처리부(3000)와 인덱스부(1000) 사이에 배치될 수 있다. 반전 버퍼부(4000)는 포토 마스크를 반전시킨다.
본 발명의 포토 마스크 세정 설비(1)를 보면, 1층은 습식 세정을 위한 모듈들로 구성되고, 2층은 건식 세정을 위한 모듈들로 구성된다. 즉, 약액을 이용한 습식 세정은 1층에 배치하여 다운 플로우에 의한 이온 오염이 건식처리한 포토마스크에 영향을 주지 않도록 배치하였다. 예컨대, 본 발명의 포토 마스크 세정 설비(1)는 습식 세정을 위한 모듈들과 건식 세정을 위한 모듈들이 단일층에 모두 배치되도록 구성할 수 있다.
포토 마스크 세정 설비는 최대 5매의 포토 마스크를 동시에 처리할 수 있어 높은 생산성을 기대할 수 있다.
포토 마스크는 패턴면이 Cr성분으로 이루어져 있어 정전기에 매우 취약하다, 따라서, 본 발명의 포토 마스크 세정 설비는 정전기에 의한 데미지를 최소화하기 위해 이동 경로상(제1이송로, 제2이송로, 각각의 처리 모듈 내부)에 이오나이져(ionizer)가 설치될 수 있다.
제1반송 장치(2200)와 제2반송 장치(3200)는 동일한 구성으로, 본 실시예에서는 제1반송 장치(2200)에 대해서만 상세히 설명하기로 한다.
도 4는 도 2에 도시된 제1반송 장치의 사시도이고, 도 5a 및 도 5b는 제1반송 장치의 평면도이며, 도 6은 제1반송 장치의 베이스에 설치된 구동부를 설명하기 위한 도면이다. 도 7은 제1반송 장치의 요부 확대도이다. 도 8은 제1반송 장치의 정면도이다.
도 4 내지 도 8을 참조하면, 제1반송 장치(2200)는 본체(2210), 본체(2210) 상부에 설치되는 베이스(2220), 베이스(2220)에 전후 방향으로 이동되는 제1핸드(2230a)와 제2핸드(2230b), 베이스(2220)에 설치되는 갠트리(2250), 갠트리(2250)에 설치되어 포토 마스크를 정렬하는 한 쌍의 정렬 가이드(2260), 갠트리(2250)에 설치되는 그립부(2270) 그리고 갠트리(2250)에 설치되어 포토 마스크의 틀어짐을 감지하는 틀어짐 감지부(2280)를 포함한다.
예컨대, 베이스(2220)는 본체(2210) 상에서 회전과 높이 조절이 가능하다.
본 발명의 제1반송 장치(2200)는 포토 마스크(P)의 교체 작업을 위해 2개의 핸드를 구비한다. 예컨대, 2개의 핸드 중 어느 하나는 공정처리가 완료된 포토 마스크를 처리모듈로부터 가져오는 작업을 수행하며, 나머지 하나는 공정처리가 안 된 포토 마스크를 처리 모듈에 갖다 놓는 작업을 수행하게 된다.
제1핸드(2230a)와 제2핸드(2230b)는 서로 다른 높이에서 독립적으로 전후 이동될 수 있다. 본 실시예에서 제1핸드(2230a)는 제2핸드(2230b) 상부에 위치된다. 제1,2핸드(2230a,2230b) 각각은 포토 마스크(P)가 올려지는 포켓부(2232)와, 포켓부(2232)의 일측으로부터 연장되어 형성되고 베이스(2220)의 내부에 설치되는 구동부(2224)와 연결되는 연결암(2236)을 갖는다. 포켓부(2232)의 형상은 다양한 형태로 변경 가능하다.
제1반송 장치(2200)는 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 전방으로 이동된 상태(픽업 위치)에서 포토 마스크(P) 픽업이 이루어지고, 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 후방으로 이동된 상태(홈 위치)에서 포토 마스크(P) 반송이 이루어진다. 도 5b를 참조하면, 제1핸드(2230a)는 픽업 위치로 이동되어 있고, 제2핸드(2230b)는 홈 위치에 이동되어 있음을 알 수 있다.
도 6에서와 같이, 제1핸드(2230a)와 제2핸드(2230b)의 이동은 베이스(2220) 내부에 설치되는 2개의 구동부(2224)들에 의해 이루어진다. 구동부(2224)는 모터(2224a), 모터(2224a)의 동력을 제1핸드(2230a)(또는 제2핸드)에 전달하기 위한 벨트 풀리(2224b), 그리고 제1핸드(또는 제2핸드)의 전후 이동을 안내하는 가이드레일(2224c) 등을 포함할 수 있으며, 도면 편의상 이들은 도 6에서 간략하게 표시되어 있다. 물론, 상기 구동부는 실린더와 같은 다른 직선 구동 장치가 사용될 수 있다.
갠트리(2250)는 베이스(2220)의 상면으로부터 이격되어 위치되는 수평빔(2252)과, 수평빔(2252) 양단을 지지하고, 베이스(2252) 양측에 고정 설치되는 지지대(2254)를 포함한다.
한 쌍의 정렬 가이드(2260)는 갠트리(2250)의 수평빔(2252)에 설치된다. 한 쌍의 정렬 가이드(2260)는 제1핸드(2230a) 및 제2핸드(2230b)에 놓여지는 포토 마스크(P)와 동일 높이에 위치된다. 한 쌍의 정렬 가이드(2260)는 서로 이격되게 위치되며 포토 마스크(P)의 양측면을 가이드한다. 한 쌍의 정렬 가이드(2260)는 선단쪽의 폭이 넓어지도록 외측으로 경사진 경사면(2262)을 가짐으로써, 포토 마스크(P)가 틀어진 상태에서도 한 쌍의 정렬 가이드(2260) 사이로의 진입이 용이하다.
포토 마스크(P)는 픽업 위치에서 홈 위치로 이동시 한 쌍의 정렬 가이드(2260)에 의해 정렬되어 위치 틀어짐이 방지된다. 즉, 포토 마스크(P)가 픽업 위치에서 틀어진 상태로 제1핸드(2230a)(또는 제2핸드)에 올려지더라도 홈 위치로 이동시 한 쌍의 정렬 가이드(2260)에 의해 정렬된다.
그립부(2270)는 수평빔(2252)의 정면에 설치된다. 그립부(2270)는 상단에 방지턱(2272)을 갖는다. 방지턱(2272)은 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 픽업 위치에서 홈 위치로 복귀하였을 때, 포켓부(2232)에 올려진 포토 마스크의 상방향 이탈을 차단한다. 또한, 그립부(2270)는 포토 마스크를 감지하는 유무센서(2274)를 갖는다. 유무 센서(2274)는 포토 마스크(P)가 정상적으로 제1핸드(2230a)(또는 제2핸드)에 놓여진 후 홈 위치로 이동되면, 포토 마스크에 의해 눌려져 포토 마스크의 유무를 감지한다.
위치 틀어짐 감지부(2280)는 갠트리(2250)에 설치된다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 홈 위치에서 포토 마스크(P)의 틀어짐을 감지하기 위한 것이다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 수직 방향으로 포토 마스크(P)를 센싱한다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 발광부(2282)와 수광부(2284)가 위 아래에 배치되며, 그 위치는 포토 마스크(P)의 선단 양측에 형성된 센싱홀(P1)을 통과할 수 있도록 위치된다. 만약, 포토 마스크(P)가 포켓부(2232) 위로 올라타거나 한쪽으로 치우쳐서 놓여지는 경우, 위치 틀어짐 감지부(2280)의 수광부(2284)가 발광부(2282)의 신호를 받지 못하게 된다. 이 경우 포토 마스크(P)의 위치가 틀어진 상태로 판단하여 알람을 울리고 진행을 중단하게 된다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
2200 : 제1반송 장치 2210 : 본체
2220 : 베이스 2230a : 제1핸드
2230b : 제2핸드 2250 : 갠트리
2260 : 정렬 가이드 2270 : 그립부
2280 : 틀어짐 감지부

Claims (9)

  1. 포토 마스크 반송 장치에 있어서:
    베이스;
    포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드;
    상기 적어도 하나의 핸드가 상기 픽업 위치에서 홈 위치로 복귀할 때 포토 마스크의 위치를 정렬시키는 정렬부; 및
    상기 베이스의 상면으로부터 이격되어 설치되고, 상기 정렬부가 설치되는 갠트리를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 갠트리는
    상기 베이스의 상면으로부터 이격되어 위치되는 수평빔; 및 상기 수평빔 양단을 지지하고, 상기 베이스 양측에 고정 설치되는 지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  4. 포토 마스크 반송 장치에 있어서:
    베이스;
    포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드; 및
    상기 적어도 하나의 핸드가 상기 픽업 위치에서 홈 위치로 복귀할 때 포토 마스크의 위치를 정렬시키는 정렬부를 포함하되;
    상기 정렬부는
    상기 적어도 하나의 핸드에 놓여지는 포토 마스크와 동일 높이에 위치되고, 포토 마스크의 양측면을 가이드하기 위해 서로 이격되어 배치되는 한 쌍의 정렬 가이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 한 쌍의 정렬 가이드부는 포토 마스크가 진입하는 선단쪽의 폭이 넓어지도록 외측으로 경사진 경사면을 가지는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 갠트리에 설치되고, 홈 위치에 있는 포토 마스크의 상방향 이탈을 차단하는 그립부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 그립부는 홈 위치에 있는 포토 마스크를 감지하는 유무센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 갠트리에 설치되고, 홈 위치에서 포토 마스크의 위치 틀어짐을 감지하는 위치 틀어짐 감지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 위치 틀어짐 감지부는 발광부와 수광부를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 반송 장치.
KR1020110084044A 2011-08-23 2011-08-23 포토 마스크 반송 장치 KR101870665B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101968961B1 (ko) * 2017-11-17 2019-04-15 김광석 포토마스크 표면 이물질 세정장비용 마스크 얼라인 장치
KR101968960B1 (ko) * 2017-11-17 2019-04-15 김광석 포토마스크 표면 이물질 세정장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032808A (ja) 2004-07-21 2006-02-02 Nikon Corp 位置ずれ検出装置、マスク搬送システム及び露光装置
JP4242949B2 (ja) 1997-12-08 2009-03-25 三星電子株式会社 半導体ウェーハ整列システムおよびこれを利用したウェーハ整列方法
JP2010040804A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Hitachi High-Technologies Corp 試料搬送機構

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08316284A (ja) * 1995-05-15 1996-11-29 Sony Corp フォトマスクの搬送装置
KR20090068059A (ko) 2007-12-22 2009-06-25 주식회사 동부하이텍 레티클 이송장치 및 이송방법
KR101021980B1 (ko) * 2008-10-16 2011-03-17 세메스 주식회사 기판 이송 장치, 이를 갖는 기판 처리 장치 및 이를 이용한기판 이송 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4242949B2 (ja) 1997-12-08 2009-03-25 三星電子株式会社 半導体ウェーハ整列システムおよびこれを利用したウェーハ整列方法
JP2006032808A (ja) 2004-07-21 2006-02-02 Nikon Corp 位置ずれ検出装置、マスク搬送システム及び露光装置
JP2010040804A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Hitachi High-Technologies Corp 試料搬送機構
JP5111285B2 (ja) 2008-08-06 2013-01-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料搬送機構

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