KR101846474B1 - Electrically conductive sheet and process for producing same, and electronic component - Google Patents
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Abstract
프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서, 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는, 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법 등을 제공한다. 본 발명의 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)를 적어도 포함하는 도전층을 구비한다. 도전층의 두께가 (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30~95의 범위가 될 것, 및 (ii) 덴드라이트 모양 전도성 입자(B)의 평균 입자 지름 D90가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다. Provided is a conductive sheet having a good processability and capable of minimizing unevenness of a conductive layer in a heat press step in which a conductive sheet is attached to an adherend such as a printed wiring board. The conductive sheet of the present invention has a conductive layer containing at least the thermosetting resin (A) and the dendritic conductive particles (B). (I) the thickness after heat pressing under the conditions of 150 DEG C and 2 MPa for 30 minutes is in the range of 30 to 95 when the thickness of the conductive layer before the hot pressing is 100, and (ii) And the average particle diameter D 90 of the dendrite-shaped conductive particles (B) is at least 0.5 times and not more than 3 times the thickness of the conductive layer, and the dendrite-shaped conductive fine particles (B ) Of the conductive fine particles (B) is not less than 3 μm and not more than 50 μm, and the dendritic conductive fine particles (B) are contained in the conductive layer in an amount of not less than 50% by weight and not more than 90% by weight.
Description
본 발명은, 예를 들면, 프린트 배선판 등의 피착체에 첩착(貼着, 맞붙여 접착함)도전성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또 상기 도전성 시트를 포함하는 전자 부품에 관한 것이다.
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive sheet (for example, to be adhered, adhered and adhered) to an adherend such as a printed wiring board and a method for manufacturing the conductive sheet. The present invention also relates to an electronic component including the conductive sheet.
최근 전자 기기가 가볍고, 얇고 작아짐에 따라 프린트 배선판의 소형화에 더해, 플렉시블 프린트 배선 판이 많이 사용되고 있다. 이들 배선 판에는, 고기능화를 실현할 수 있도록 여러 가지 도전성 시트가 사용되고 있다.In recent years, flexible printed wiring boards have been widely used in addition to downsizing of printed wiring boards as electronic devices have become lighter, thinner, and smaller. In these wiring boards, various kinds of conductive sheets are used so as to realize high functionality.
예를 들면, 특허 문헌 1에는, 도전층이 열 경화성 접착제의 접착층에 끼워진 3층 구조의 열 경화형 도전성 접착 시트가 기재되어 있다. 이 시트를 구성하는 도전층은 표면 쪽으로 융기한 돌기 부를 가진다. 이 도전층의 돌기 부는, 피착체에 접착층을 가열 압착하는 것에 의해 접착층을 관통하여 피착체와 전기적으로 직접 접촉한다. 이로써, 도전성 접착성 시트로 기능을 하도록 되어 있다.For example,
또 특허 문헌 2에서, 유리 전이 온도가 -10℃ 이상, 50℃ 이하의 열 가소성 수지 및 은 분말을 함유하는 도전성 접착 필름이 기재되어 있다. 은 분말로는 보통 아토마이저 은 분말, 구(球) 모양, 미세 구 모양, 플레이크 모양 중 적어도 2종 이상을 조합해 이용하는 것이 기재되어 있다.
특허 문헌 3에는, 폴리우레탄 폴리우레아 수지와 2개 이상의 에폭시기를 가진 에폭시 수지와 도전성 충전을 함유하는 전자파 차폐성 접착 필름이 표시되어 있다.
그러나, 특허 문헌 1에 기재되어 있는 도전성 접착 시트는 구리, 철, 알루미늄 등의 금속 박으로 이루어지는 도전층을 접착제 층에 의해 끼우는 구조를 채용하고 있으므로, 프린트 배선 판의 두께를 얇게 하는 경우에는 적당하지 않다는 문제가 있었다. 또 금속 박은 굴곡성이 약하기 때문에, 도전성 접착 시트를 반복 굴곡 하는 플렉시블 프린트 배선 판에 사용하는 것이 어려웠다.However, the conductive adhesive sheet described in
또, 특허 문헌 2에 기재되어 있는 도전성 접착 필름은 열 가소성 수지의 내열성이 낮아 고온 환경에서의 사용에 적합하지 않았다.In addition, the conductive adhesive film described in
또, 도전성 시트를 프린트 배선 판 등에 붙이는 경우, 도전층이 얼룩이 지면 전자 장치의 전기적 특성에 큰 영향을 준다. 이 때문에, 시장에서는, 도전성 시트의 얼룩에 대한 요구가 엄격하고, 특허 문헌 2나 특허 문헌 3등의 기존 도전성의 시트에 대해, 도전층의 얼룩에 대해 한층 더 개량이 요구되고 있었다.When the conductive sheet is attached to a printed wiring board or the like, if the conductive layer is stained, the electrical characteristics of the electronic device are greatly affected. For this reason, on the market, there is a strict demand for the stain of the conductive sheet, and further improvement has been required for the unevenness of the conductive layer in existing conductive sheets such as
본 발명은 상기 배경에 따라 이루어진 것이며, 그 목적은 프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법, 및 전자 부품의 제공하는 것이다.The object of the present invention is to provide a conductive sheet having a good processability in which unevenness of the conductive layer can be minimized in a heat press process in which a conductive sheet is attached to an adherend such as a printed wiring board, , And an electronic component.
본 발명에 관한 도전성 시트는 열 경화성 수지(A)와, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를, 적어도 포함하는 도전층을 구비하고, 상기 도전층의 두께가, (i) 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 피착체와 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때 30 이상 95 이하의 범위가 될 것, 및 (ii) 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90가 해당 도전층의 두께에 대해 0.5배 이상, 3배 이하의 범위가 될 것, 중 적어도 한쪽을 충족시키고, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50가 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상 90중량% 이하의 범위로 함유하는 것이다. The conductive sheet according to the present invention comprises a conductive layer containing at least a thermosetting resin (A) and dendritic conductive fine particles (B), wherein the conductive layer has a thickness of (i) 150 ° C, 2 MPa, 30 (Ii) the thickness after the hot pressing with the adherend under the condition of (a) to (d) is in the range of 30 to 95 when the thickness of the conductive layer before the hot pressing is 100, and The average particle diameter D 90 is at least 0.5 times and not more than 3 times the thickness of the conductive layer, and the average particle diameter D 50 of the dendritic conductive fine particles (B) is 3 Mu m or more and 50 mu m or less and the dendrite-like conductive fine particles (B) are contained in the conductive layer in a range of 50 wt% or more and 90 wt% or less.
본 발명에 대한 전자 부품은 위 상태의 도전성 시트가 첩착된 것이다.The electronic component according to the present invention is one in which the conductive sheet in the above state is adhered.
본 발명에 관한 도전성 시트의 제조 방법은 평균 입자 지름 D50이 3㎛ 이상, 50㎛ 이하의 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)와 열 경화성 수지(A)를 포함하는 도전성 수지 조성물을 박리성 시트에 코팅하여, 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 50중량% 이상 90중량% 이하의 범위로 함유한 도전층을 형성하고, 상기 도전층에 2.5MPa 이상 50MPa 이하의 압력을 가하는 공정을 포함하는 것이다.The method for producing a conductive sheet according to the present invention is characterized in that a conductive resin composition comprising a dendritic conductive fine particle (B) having an average particle diameter D 50 of not less than 3 μm and not more than 50 μm and a thermosetting resin (A) And forming a conductive layer containing the dendritic conductive fine particles (B) in an amount of 50 wt% or more and 90 wt% or less, and applying a pressure of 2.5 MPa or more and 50 MPa or less to the conductive layer .
본 발명에 따르면 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 이용함으로써, 가열 프레스 전에 공극을 많이 포함한 도전층을 형성하고 있으므로, 예를 들면, 프린트 배선 판에 도전성 시트를 가열 프레스 할 때에 유동하는 열 경화성 수지 등을 그 공극에서 흡수할 수 있게 된다. 이것에 의해, 도전층의 얼룩을 방지하고, 가공성을 개선한다. 그 결과, 해당 도전성 시트를 사용한 프린트 배선 판 등의 전자 부품은 얼룩으로 인한 불량품이 대폭 감소해 제품 수율이 양호하다. 또 프린트 배선 판 등의 전자 부품 회로의 단락이나 이온 영동을 크게 줄일 수 있었다.According to the present invention, by using the dendrite-shaped conductive fine particles, a conductive layer containing a lot of voids is formed before the hot pressing. For example, a thermosetting resin or the like that flows when a conductive sheet is heated- And can be absorbed in the pores. As a result, unevenness of the conductive layer is prevented, and workability is improved. As a result, in electronic parts such as printed wiring boards using the conductive sheet, defective products due to stains are largely reduced, resulting in good product yield. In addition, short circuit and ion migration of electronic circuit components such as printed wiring boards can be greatly reduced.
본 발명에 의하면, 프린트 배선 판 등의 피착체에 도전성 시트를 첩착하는 가열 프레스 공정에서 도전층의 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있는 가공성이 양호한 도전성 시트 및 그 제조 방법, 및 전자 부품을 제공한다는 뛰어난 효과가 있다.
According to the present invention, there is provided a conductive sheet having a good processability that can minimize the unevenness of a conductive layer in a heat press step in which a conductive sheet is bonded to an adherend such as a printed wiring board, a method for producing the conductive sheet, It is effective.
[도 1A] 덴드라이트 모양 도전성 미립자의 한 예를 나타내는 SEM 이미지.
[도 1B] 플레이크 모양 도전성 미립자의 한 예를 나타내는 SEM 이미지.
[도 2A] 접속 저항치 A를 측정하기 위한 회로의 설명 도이고, 커버 필름이 적층된 플렉시블 프린트 배선 판의 모식적 평면도.
[도 2B] 도 2A의 IIB-IIB 절단부 단면도.
[도 2C] 도 2A의 IIC-IIC 절단부 단면도.
[도 2D] 접속 저항치 A를 측정하기 위한 회로의 설명 도이고, 도전성 시트와 스테인리스 판을 겹쳐, 가열 프레스 한 후의 플렉시블 프린트 배선 판의 모식적 평면도.
[도 2E] 도 2D의 IIE-IIE 절단부 단면도.
[도 2F] 도 2D의 IIF-IIF 절단부 단면도.
[도 3A] 접속 저항치 B를 측정하기 위한 회로의 설명 도이고, 커버 필름이 적층된 플렉시블 프린트 배선 판의 모식적 평면도.
[도 3B] 도 3A의 IIIB-IIIB 절단부 단면도.
[도 3C] 도 3A의 IIIC-IIIC 절단부 단면도.
[도 3D] 접속 저항치 B를 측정하기 위한 회로의 설명 도이고, 도전성 시트와 스테인리스 판을 겹쳐, 가열 프레스 한 후의 모식적 평면도.
[도 3E] 도 3D의 IIIE-IIIE 절단부 단면도.
[도 3F] 도 3D의 IIIF-IIIF 절단부 단면도.1A is an SEM image showing an example of dendritic conductive fine particles.
[FIG. 1B] An SEM image showing an example of flaky conductive fine particles.
Fig. 2A is an explanatory diagram of a circuit for measuring the connection resistance value A, and is a schematic plan view of a flexible printed wiring board in which a cover film is laminated. Fig.
FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line IIB-IIB of FIG. 2A.
FIG. 2C is a sectional view of the IIC-IIC cut-out portion of FIG. 2A. FIG.
Fig. 2D is an explanatory diagram of a circuit for measuring the connection resistance value A, and is a schematic plan view of a flexible printed wiring board after a conductive sheet and a stainless steel plate are stacked and subjected to hot pressing.
FIG. 2E is a cross-sectional view of the IIE-IIE cut section of FIG. 2D;
[Figure 2F] Cross-sectional view of IIF-IIF cut section of Figure 2D.
3A is an explanatory diagram of a circuit for measuring a connection resistance value B and is a schematic plan view of a flexible printed wiring board in which a cover film is laminated.
FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line IIIB-IIIB of FIG. 3A.
Figure 3C is a cross-sectional view of the IIIC-IIIC cut section of Figure 3A;
Fig. 3D is an explanatory diagram of a circuit for measuring the connection resistance value B, and is a schematic plan view after a conductive sheet and a stainless steel plate are stacked and subjected to hot pressing.
FIG. 3E is a cross-sectional view of a IIIE-IIIE cut section of FIG. 3D;
FIG. 3F is a cross-sectional view of the IIIF-IIIF cut section of FIG. 3D.
이하, 본 발명의 실시의 형태를 상세히 설명한다. 또, 본 발명의 취지에 합치하는 한, 다른 실시형태도 이 발명의 범주에 속하다. 또, 이하의 실시형태는 서로 알맞게 조합할 수 있으며 본 명세서에서 "임의의 수 A~임의의 수 B"라는 기재는 수 A 및 수 A보다 큰 범위이며, 수 B 및 수 B보다 작은 범위를 의미한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. Other embodiments are also within the scope of the present invention as long as they are consistent with the purport of the present invention. Further, the following embodiments can be appropriately combined with each other and the description "any number A to arbitrary number B" in this specification means a range that is larger than the number A and the number A and smaller than the number B and the number B do.
본 발명의 도전성 시트는, 적어도 도전층을 가지는 것이다. 도전성 시트는 1층의 도전층으로 이루어지는 것도, 복수의 도전층이 적층된 것이라도 좋고, 또 도전층 이외의 층(예를 들면, 지지층, 절연층, 보호층, 접착층)등이 적층 된 것이라도 좋다. 또, 본 명세서 말하는 도전성 시트는 시트 전체에서 도전 특성을 가질 필요는 없고, 적어도 도전층에서 도전 특성이 있으면 좋다. 도전층의 도전 특성은 용도와 요구에 따라 적절하게 설정할 수 있으며, 특히 한정되는 것은 아니다.The conductive sheet of the present invention has at least a conductive layer. The conductive sheet may be composed of one conductive layer, a plurality of conductive layers stacked, or a layer other than the conductive layer (for example, a supporting layer, an insulating layer, a protective layer, and an adhesive layer) good. The conductive sheet described in this specification does not need to have the conductive property in the whole sheet, and it is sufficient that at least the conductive layer has the conductive property. The conductive property of the conductive layer can be appropriately set in accordance with the use and demand, and is not particularly limited.
[제 1 실시형태][First Embodiment]
제 1 실시형태에서는, 도전성 시트의 실시형태로서, 1층의 도전층으로 구성되는 예에 대해 설명한다. 제 1 실시형태의 도전성 시트의 도전층은 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 필수 구성으로서 포함하는 것이다. 도전층의 두께가, 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 피착체와 가열 프레스 한 경우에, 가열 프레스 전의 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 가열 프레스 후의 두께가 30 이상 95 이하의 범위가 되는 것이다. 또한, "가열 프레스 전의 도전층"이란 프린트 배선 판 등의 피착체에 붙이기 직전의 도전층을 말한다. 또 피착체는 도전성 시트를 붙이는 대상물 전반이며, 가령 프린트 배선기판, 플렉시블 기판 등이 있다.In the first embodiment, as an embodiment of the conductive sheet, an example constituted by one conductive layer will be described. The conductive layer of the conductive sheet of the first embodiment contains the thermosetting resin (A) and the dendritic conductive fine particles (B) as essential constituents. When the thickness of the conductive layer is 150 ° C and 2 MPa for 30 minutes and the object is hot pressed with the adherend, when the thickness of the conductive layer before hot pressing is 100, the thickness after the hot pressing is 30 to 95 will be. The "conductive layer before hot pressing" refers to a conductive layer just before being adhered to an adherend such as a printed wiring board. Further, the adherend is a general object to which a conductive sheet is adhered, and examples thereof include a printed wiring board, a flexible substrate, and the like.
도전성 시트의 도전층의 상기 조건 하에서 가열 프레스 후의 도전층의 두께는, 40 이상이 보다 바람직하고 45 이상인 것이 더 바람직하다. 또한, 해당 가열 프레스 후의 도전층의 두께는, 90 이하인 것이 더 바람직하고 85 이하인 것이 더 바람직하다. 특히 바람직하게는 60~80의 범위이다. 가열 프레스 후의 두께가 95보다 클 경우, 가열 프레스 전의 도전층에 공극이 적은 것으로 상정되므로, 가열 프레스 전후로 두께 변화가 적고, 가열 프레스 시 수평방향으로의 열 경화성 수지(A)의 얼룩이 커질 수 있다. 한편, 가열 프레스 후의 두께가 30보다 작을 경우, 도전층에 공극이 너무 많은 것으로 상정되기 때문에 가열 프레스 전후의 두께 변화가 크고 가열 프레스에 의해서도 공극이 남아 필요한 도전성을 달성하기 어려운 경향이 있다. 또, 본 명세서의 「얼룩」은 저 분자량 성분이 흐르는 것 및 도전층이 유동하여 비어져 나온 것을 포함한다.The thickness of the conductive layer after the heat pressing under the above conditions of the conductive layer of the conductive sheet is more preferably 40 or more, and still more preferably 45 or more. Further, the thickness of the conductive layer after the hot pressing is more preferably 90 or less, and still more preferably 85 or less. And particularly preferably in the range of 60 to 80. When the thickness after the hot pressing is more than 95, it is assumed that the air gap is small in the conductive layer before the hot press, so that the thickness change is small before and after the hot press and the unevenness of the thermosetting resin (A) in the horizontal direction upon heating press can be large. On the other hand, when the thickness after the hot pressing is less than 30, since the voids are assumed to be too much in the conductive layer, there is a tendency that the thickness change before and after the heating press is large and the porosity remains necessary by the hot pressing. In the present specification, the term " smudge " includes low-molecular-weight components that flow, and conductive layers that flow and become hollow.
제 1 실시형태의 도전성 시트는, 도전층에 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 이용함으로써 형성시킨 공극을 온도 150℃, 시간 30분, 압력 2MPa의 조건에서 가열 프레스 하는 것으로 메울 수 있는 것이다. 또한, 제 1 실시형태의 도전성 시트를 프린트 배선 판 등의 피착체에 첩착할 때의 조건은 상기 가열 프레스 조건으로 실시하는 예를 설명하지만, 다른 가열 프레스 공정을 채용하고 도전성 시트를 형성해도 좋다. 예를 들면, 이용하는 열 경화성 수지의 종류에 따라 가열 조건, 프레스 조건 등을 조정할 수 있다.The conductive sheet of the first embodiment can be filled with a gap formed by using dendritic conductive fine particles (B) in a conductive layer by heat pressing under conditions of a temperature of 150 DEG C for 30 minutes and a pressure of 2 MPa. In addition, although the example in which the conductive sheet of the first embodiment is applied to an adherend such as a printed wiring board is described under the above-described hot pressing condition, another conductive sheet may be formed by employing another heating press step. For example, heating conditions, press conditions, and the like can be adjusted depending on the type of thermosetting resin used.
제 1 실시형태의 도전성 시트는 인쇄 배선 판 등의 피착체에 제 1 실시형태의 도전성 시트의 도전층 측이 접하도록 적층 하고, 상기 가열 프레스 공정을 거침으로써, 피착체에 도전성 시트를 첩착하여 붙일 수 있다. 제 1 실시형태의 도전성 시트에 따르면 열 경화성 수지를 함유시키기 때문에 피착체와 접착성을 잘 유지할 수 있다. 또, 도전층을 피착체에 접합하는 예를 설명했으나, 용도와 요구에 따라 도전성 시트에 도전층과는 별도의 접착제 층을 마련해 접착제 층과 피착체를 접합하는 형태로 하여도 좋다.The conductive sheet of the first embodiment is formed by laminating an adherend such as a printed wiring board such that the conductive layer side of the conductive sheet of the first embodiment is in contact with the adherend and by passing the hot press step, . According to the conductive sheet of the first embodiment, since the thermosetting resin is contained, adhesion with an adherend can be maintained well. Although an example in which the conductive layer is bonded to an adherend has been described, an adhesive layer separate from the conductive layer may be provided on the conductive sheet in accordance with applications and requirements, and the adhesive layer and the adherend may be joined together.
제 1 실시형태에서 사용되는 열 경화성 수지(A)는 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 특히 한정되지 않지만 아크릴계, 페놀계, 에폭시계, 우레탄계, 멜라민계, 알키드계 등의 수지가 좋다. 또한, 플렉시블 프린트 배선 판처럼 가열 프레스 공정에서 접착하고, 붙인 후에 구부려 사용할 경우에는 내열성과 굴곡성을 겸비한 아크릴계 수지, 우레탄계 수지가 더 좋으며 열 경화성 수지(A)는 1종류를 이용해서도 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.The thermosetting resin (A) used in the first embodiment is not particularly limited within the scope of the present invention, but acrylic, phenol-based, epoxy-based, urethane-based, melamine-based or alkyd-based resins are preferable. In addition, acrylic resin or urethane-based resin having heat resistance and bending property is more preferable when bonding in a hot press process like a flexible printed wiring board and bending after use, and more than two kinds of thermosetting resin (A) They may be mixed and used.
도전층에는, 열 경화성 수지(A)와 병용하여 경화제를 이용하는 것이 바람직하다. 경화제는 사용 수지의 작용기에 대응한 공지의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 수지가 카르복실기를 함유하는 경우는 에폭시 경화제, 아지리딘 경화제 등이 바람직하다. 또 수지가 수산기를 함유하는 경우는 이소시아네이트 경화제나 산 무수물기 함유 화합물 등이 바람직하다.As the conductive layer, it is preferable to use a curing agent in combination with the thermosetting resin (A). As the curing agent, a known compound corresponding to the functional group of the resin to be used may be used. For example, when the resin contains a carboxyl group, an epoxy curing agent, an aziridine curing agent and the like are preferable. When the resin contains a hydroxyl group, an isocyanate curing agent or an acid anhydride group-containing compound is preferable.
도 1A에 제 1 실시형태의 도전층에 알맞은 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 일례의 SEM 이미지를 나타낸다. 덴드라이트 모양은 일반적으로 수지(樹枝) 모양이라고 하고, 나무의 가지 같은 형상을 의미한다. 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 소재는, 금, 은, 동, 니켈, 아연 또는 철 등의 도전성 금속이나 그 합금, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리아세틸렌 등의 도전성 유기 화합물, 혹은 이들을 복합한 도전성 화합물을 예시할 수 있다. 또는 금속, 유기 화합물이나 무기 화합물을 핵으로 하고, 그 핵의 표면을 도전성 소재로 코팅한 도전성 미립자도 바람직한 경우로 꼽힌다.1A shows an SEM image of an example of dendritic conductive fine particles (B) suitable for the conductive layer of the first embodiment. The dendritic shape is generally called a dendritic shape, which means a tree-like shape. The material of the dendritic conductive fine particles (B) is preferably a conductive metal such as gold, silver, copper, nickel, zinc or iron or an alloy thereof, a conductive organic compound such as polyaniline, polythiophene or polyacetylene, Compounds can be exemplified. Or a conductive fine particle in which a metal, an organic compound or an inorganic compound is used as a nucleus and the surface of the nucleus is coated with a conductive material is also preferable.
도전성 코팅층을 가진 도전성 미립자는, 코어가 되는 핵에 대해, 표면에 코팅층이 형성된 입자가 바람직한 경우로 꼽힌다. 핵은 구리, 니켈, 카드뮴 등의 금속, 그 합금, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리아세틸렌 등의 도전성 유기 화합물, 혹은 통상의 비 도전성 유기 화합물 등이 꼽힌다. 또, 코팅층으로는 금, 은, 구리 등의 도전성이 뛰어난 금속을 들 수 있다. 또, 구리를 핵으로 하여 은으로 코팅층을 형성한 도전성 미립자가 보다 바람직한 경우로 꼽힌다. 또한, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 단일 종류를 이용해도 좋고 여러 종류를 혼합하여 사용해도 좋다.The conductive fine particles having a conductive coating layer are considered to be particles in which a coating layer is formed on the surface of a nucleus serving as a core. The core may be a metal such as copper, nickel or cadmium, an alloy thereof, a conductive organic compound such as polyaniline, polythiophene or polyacetylene, or a general nonconductive organic compound. Examples of the coating layer include metals having excellent conductivity such as gold, silver and copper. In addition, the conductive fine particles in which a coating layer is formed of silver with copper as nuclei are more preferable. The dendrite-shaped conductive fine particles (B) may be used singly or in combination.
도전성 코팅층을 가진 도전성 미립자에 있어서, 코팅층의 비율은 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B) 100중량% 중 1중량%~40중량%가 바람직하고, 5중량%~20중량%가 더 바람직하다. 코팅된 도전성 미립자를 사용함으로써 비싼 은의 사용량을 줄여 비용을 절감할 수 있고, 구리 도전성 미립자를 사용했을 경우의 구리의 산화에 의한 도전성 저하를 억제할 수 있다.In the conductive fine particles having a conductive coating layer, the proportion of the coating layer is preferably 1% by weight to 40% by weight, more preferably 5% by weight to 20% by weight, based on 100% by weight of the dendritic conductive fine particles (B). By using the coated conductive fine particles, it is possible to reduce the amount of expensive silver used to reduce the cost, and it is possible to suppress the deterioration of conductivity due to the oxidation of copper when the copper conductive fine particles are used.
가열 프레스 전후로 도전성 시트의 두께가 변하는 것은, 주로 부피가 큰 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 존재에 의해 도전층에 공극이 존재하기 쉽고, 가열 프레스에 의해 열 경화성 수지(A)가 유동하여 그 공극을 메우는 것으로 추측하고 있다. 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 공극은 사용하는 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50과 평균 입자 지름 D90의 관계에 따라, 보다 영향을 받기 쉽다. 그리고 가열 프레스 전의 도전층에 공극이 많을수록 두께 변화가 커진다. 즉, 가열 프레스 전의 두께를 100으로 한 경우에, 가열 프레스 후의 두께의 값이 작아질수록 도전층에 공극이 많다고 생각된다.The reason that the thickness of the conductive sheet changes before and after the heating press is because the presence of the bulky dendritic conductive fine particles (B) mainly causes the voids to exist in the conductive layer and the thermosetting resin (A) It is supposed to fill the gap. The voids of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) are more affected by the relationship between the average particle diameter D 50 and the average particle diameter D 90 of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) used. The more the voids are present in the conductive layer before the hot pressing, the larger the thickness variation becomes. That is, in the case where the thickness before the hot pressing is 100, it is considered that the smaller the value of the thickness after the hot press is, the more voids are formed in the conductive layer.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 평균 입자 지름 D50이 3㎛~50㎛이며 평균 입자 지름 D90이 평균 입자 지름 D50의 1.5~5배인 것이 바람직하다. 또, 평균 입자 지름 D50은 3㎛~40㎛가 더 바람직하고 5㎛~25㎛가 더 바람직하다. 평균 입자 지름 D50이 3㎛ 이상이 됨으로써 도전층에 공극이 생기기 쉬워지고 얼룩을 줄일 수 있다. 한편, 평균 입자 지름 D50이 50㎛ 이하가 됨으로써 적절한 두께의 도전층을 형성하기 쉬워 진다.The dendrite-shaped conductive fine particles (B) preferably have an average particle diameter D 50 of 3 to 50 μm and an average particle diameter D 90 of 1.5 to 5 times the average particle diameter D 50 . The average particle diameter D 50 is more preferably 3 탆 to 40 탆, and more preferably 5 탆 to 25 탆. When the average particle diameter D 50 is 3 탆 or more, voids are likely to be formed in the conductive layer and the unevenness can be reduced. On the other hand, when the average particle diameter D 50 is 50 탆 or less, it is easy to form a conductive layer having an appropriate thickness.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90은 평균 입자 지름 D50의 1.5배~5배가 좋고 2배~3.5배가 더 바람직하다. 평균 입자 지름 D90의 값은 평균 입자 지름 D50의 평균 입자 지름에 의존하는 경향에 있지만, 4.5㎛~250㎛이 바람직하다. 평균 입자 지름 D90이 평균 입자 지름 D50의 1.5배 이상인데, 입자 지름 분포의 폭이 넓어지기 때문에 도전성 층 중에 공극이 생기기 쉬운 경향이 있다. 한편, 평균 입자 지름 D90이 평균 입자 지름 D50의 5배 이하가 되는 것이고, 입자 지름 분포의 폭이 지나치게 넓어지지 않고, 도전층 중의 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 충전이 적절하게 되는 경향이 있다. 또한, 거대한 수지상 입자의 존재에 의해 가열 프레스 후에 그 거대한 수지상 입자가 도전층에서 돌출하는 현상이 일어나기 어려워진다.The average particle diameter D 90 of the dendritic conductive fine particles (B) is preferably 1.5 to 5 times the average particle diameter D 50 , more preferably 2 to 3.5 times. The value of the average particle diameter D 90 tends to depend on the average particle diameter of the average particle diameter D 50 , but it is preferably 4.5 탆 to 250 탆. The average particle diameter D 90 is 1.5 times or more the average particle diameter D 50. Since the width of the particle diameter distribution is wider, voids tend to be formed in the conductive layer. On the other hand, the average particle diameter D 90 is 5 times or less the average particle diameter D 50 , the width of the particle diameter distribution is not excessively widened, and the tendency that the charging of the dendritic conductive fine particles (B) . Further, the presence of the large dendritic particles makes it difficult for the giant dendritic particles to protrude from the conductive layer after the hot pressing.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 탭 밀도(이하, "TD"이라고도 함)가 0.8g/㎤~2.5g/㎤인 것이 좋다. TD가 0.8g/㎤이상이 됨으로써 도전층 중의 도전성 미립자의 충전을 더욱 조밀하게 할 수 있다. 한편, TD가 2.5g/㎤이하가 되는 것으로, 도전층 중의 도전성 미립자의 충전이 과밀이 되기 어렵고, 가열 프레스 전후의 막 두께 변화가 큰 상태를 유지할 수 있는 경향이 있으므로, 얼룩을 줄일 수 있다.The dendrite type conductive fine particles (B) preferably have a tap density (hereinafter also referred to as "TD") of 0.8 g / cm3 to 2.5 g / cm3. When the TD is 0.8 g /
또 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 겉보기 밀도(이하, "AD"이라고도 함)가 0.4g/㎤~1.5g/㎤인 것이 좋다. AD가 0.4g/㎤이상이 됨으로써 도전층 중의 도전성 미립자의 충전을 더욱 조밀하게 할 수 있다. 한편, TD가 1.5g/㎤이하가 되는 것으로, 도전층 중의 도전성 미립자의 충전이 과밀이 되기 어렵고, 가열 프레스 전후의 막 두께 변화가 큰 상태를 유지할 수 있는 경향이 있으므로, 얼룩을 더 줄일 수 있다.The dendritic conductive fine particles (B) preferably have an apparent density (hereinafter also referred to as "AD") of 0.4 g /
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 겉보기 밀도 AD와 탭 밀도 TD 값을 적절히 함으로써 보다 적절하게 도전층에 공극을 형성할 수 있다. 즉, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 AD와 TD의 비율(AD/TD)이 0.3~0.9인 것이 더 바람직하다. AD/TD를 0.3 이상으로 하는 것으로, AD와 TD 수치가 보다 적절하게 되어, 가열 프레스 후의 막 두께 변화가 지나치게 크게 되지 않는 경향이 있다. 한편, AD/TD를 0.9 이하로 하는 것으로, AD와 TD 수치가 보다 적절하게 되어, 가열 프레스 후의 막 두께 변화가 너무 작아지지 않는 경향이 있다.By appropriately adjusting the apparent density AD and the tap density TD value of the dendritic conductive fine particles (B), voids can be formed more appropriately in the conductive layer. That is, it is more preferable that the ratio (AD / TD) of AD to TD of the dendritic conductive fine particles (B) is 0.3 to 0.9. When AD / TD is set to 0.3 or more, the AD and TD values become more appropriate, and the film thickness change after the hot press tends not to become excessively large. On the other hand, when AD / TD is set to 0.9 or less, the AD and TD values become more appropriate, and the film thickness change after the hot press tends not to become too small.
도전층 중에 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 사용하는 비율은, 도전층 100중량% 중 50중량%~90중량%가 바람직하고, 60중량%~80중량%가 더 바람직하다. 사용량이 50중량% 이상이 되는 것으로, 필요한 도전성을 얻기 쉬운 경향이 있다. 한편, 90중량% 이하가 되는 것으로, 시트화하기 위한 수지량이 확보하기 쉬운 경향이 있다.The proportion of using the dendritic conductive fine particles (B) in the conductive layer is preferably 50% by weight to 90% by weight and more preferably 60% by weight to 80% by weight in 100% by weight of the conductive layer. When the amount is 50 wt% or more, necessary conductivity tends to be easily obtained. On the other hand, when the content is less than 90% by weight, the amount of resin for forming a sheet tends to be easily ensured.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 구 모양 도전성 미립자나 플레이크 모양 도전성 입자(도 1B 참조)와 비교하면, 나무 가지 같은 형상을 하기 때문에 1개 1개의 입자 간에 공극을 형성하기 쉽다. 그래서 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 사용하여 도전층을 형성하면 공극이 생기기 쉽다. 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 이용하는 것으로, 구 모양 도전성 입자나 플레이크 모양 도전성 미립자를 주성분으로 사용한 도전성 시트를 동일 조건으로 가열 프레스 하는 경우와 비교해 가로 방향으로의 얼룩을 줄일 수 있다.Compared with the spherical conductive fine particles and the flaky conductive particles (see Fig. 1B), the dendrite-shaped conductive fine particles (B) have a tree-like shape, so that voids are easily formed between one particle. Therefore, when the conductive layer is formed using the dendrite-shaped conductive fine particles (B), voids are easily formed. By using the dendrite-shaped conductive fine particles (B), unevenness in the transverse direction can be reduced as compared with the case where conductive sheets using spherical conductive particles or flaky conductive fine particles as a main component are heat-pressed under the same conditions.
도전층에는 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B) 외에 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다른 첨가제를 더할 수 있다. 예를 들면, 실란 커플링제, 산화 방지제, 안료, 물감, 점착(粘着) 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제, 충전제, 발화 지연제 등을 포함할 수 있다.In addition to the thermosetting resin (A) and the dendritic conductive fine particles (B), other additives may be added to the conductive layer within the range not deviating from the object of the present invention. For example, a silane coupling agent, an antioxidant, a pigment, a paint, an adhesive resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoaming agent, a leveling agent, a filler, a fire retardant and the like.
이어서, 제 1 실시형태의 도전성 시트의 제조 방법에 대해 설명한다. 우선, 적어도 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 혼합함으로써 도전성 수지 조성물(C)을 조합한다. 혼합 방법은 특히 한정되지 않지만 바람직한 예로서 믹서, 디솔버, 후버 말러, 3-롤 밀, 샌드 밀 등을 사용하는 방법이 있다.Next, a method of manufacturing the conductive sheet of the first embodiment will be described. First, the conductive resin composition (C) is combined by mixing at least the thermosetting resin (A) and the dendritic conductive fine particles (B). The mixing method is not particularly limited, but a preferable example is a mixer, a dissolver, a Hoover mullion, a 3-roll mill, a sand mill or the like.
도전성 수지 조성물(C)을 이용해서, 예를 들면, 박리 시트 상에 코팅하고 도전층의 도막을 형성한다. 코팅 방법은 특히 국한되지 않고, 종래 공지의 방법을 제한 없이 이용할 수 있다. 예를 들면, 그라비아 코트 방식, 키스 코트 방식, 다이 코트 방식, 립 코트 방식, 콤마 코트 방식, 블레이드 코트 방식, 롤 코트 방식, 나이프 코트 방식, 스프레이 코트 방식, 바 코트 방식, 스핀 코팅 방식, 딥 코트 방식 등에 의해 도막을 형성한다.For example, the conductive resin composition (C) is coated on a release sheet to form a coating film of a conductive layer. The coating method is not particularly limited, and conventionally known methods can be used without limitation. For example, a gravure coat method, a kiss coat method, a die coat method, a lip coat method, a comma coat method, a blade coat method, a roll coat method, a knife coat method, a spray coat method, a bar coat method, A coating film is formed by a method or the like.
도전층의 가열 프레스를 하기 전의 두께는, 용도에 따라 적절하게 설정할 수 있는데 5㎛~100㎛가 바람직하다. 또, 두께는 JISB7503(다이얼 게이지)에 따라 측정한 값이다.The thickness of the conductive layer prior to the heat press can be suitably set in accordance with the application, and is preferably from 5 탆 to 100 탆. The thickness is a value measured according to JIS B7503 (dial gauge).
제 1 실시형태의 도전성 시트의 가열 프레스 후의 막 두께는 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50의 0.25배~10배인 것이 바람직하고, 0.5배~5배가 더 바람직하다.The thickness of the conductive sheet of the first embodiment after heat pressing is preferably 0.25 to 10 times, more preferably 0.5 to 5 times the average particle diameter D 50 of the dendritic conductive fine particles (B).
제 1 실시형태의 도전성 시트의 용도는 특히 국한되지 않고, 도전성 시트를 붙여 사용하고 싶은 용도 전반에 대해 이용할 수 있다. 가령 프린트 배선 판에 붙여 전자파 차폐를 하는 목적으로 이용하거나 프린트 배선 판에 형성한 회로의 접지를 얻기 위해 사용할 수 있으며 전자 레인지 등 가전을 비롯한 각종 전자 기기 등에 붙여 사용할 수 있다.The use of the conductive sheet of the first embodiment is not particularly limited, and the conductive sheet can be used for all applications in which a conductive sheet is desired to be used. For example, it can be used for the purpose of shielding electromagnetic waves by being attached to a printed wiring board or for obtaining grounding of a circuit formed on a printed wiring board, and it can be attached to various electronic apparatuses such as a microwave oven and the like.
제 1 실시형태의 도전성 시트에 따르면 특허 문헌 1처럼 3층 구조 없이 1층만으로도, 열 경화성 수지를 이용함으로써 피착체에 대한 접착력을 발현시킬 수 있다. 그 결과, 박막 용도에도 이용할 수 있다는 훌륭한 장점이 있다. 또 특허 문헌 1처럼 금속 박을 이용하지 않고, 열 경화성 수지와 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 필수 구성 성분으로 하는 도전층을 이용하고 있으므로, 유연성이 뛰어나다. 따라서, 플렉시블 프린트 배선 판 등에 알맞게 적용할 수 있다. 또 도전성 미립자로서 덴드라이트 모양의 도전성 미립자를 이용함으로써 도전층 사이에 공극 등을 형성하고 가열 프레스 시 얼룩을 공극에 의해 흡수할 수 있다. 그 결과, 도전층의 얼룩을 최소한으로 억제할 수 있다. 또, 고온 환경에서 사용이 어려운 내열성이 낮은 수지 등에서도 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 이용함으로써 도전층의 얼룩을 효과적으로 억제할 수 있다. 본 발명의 도전성 시트에 따르면 고온·고습 등의 가혹한 조건하에서 사용되는 용도로도 알맞게 이용할 수 있다.According to the conductive sheet of the first embodiment, even if only one layer is used without a three-layer structure as in
[제 2 실시형태][Second Embodiment]
다음에 상기 제 1 실시형태와 다른 도전성 리스트의 예에 대해 설명한다. 제 2 실시형태와 관련한 도전성 시트는 절연층과 상기 제 1 실시형태의 도전층이 적층된, 절연층 부착 도전성 시트이다.Next, an example of the conductive list different from the above-described first embodiment will be described. The conductive sheet according to the second embodiment is an insulating sheet-attached conductive sheet in which an insulating layer and the conductive layer of the first embodiment are laminated.
제 2 실시형태의 도전성 시트에 이용되는 절연층은 이 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 특히 한정되지 않는다. 절연층의 소재는, 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 도전층에서 사용할 수 있는 열 경화성 수지(A) 등 절연성을 가진 수지를 사용하는 것이 좋다. 또, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드 등의 플라스틱 필름을 사용할 수도 있다.The insulating layer used in the conductive sheet of the second embodiment is not particularly limited within the scope of the present invention. The material of the insulating layer is not particularly limited. For example, it is preferable to use an insulating resin such as a thermosetting resin (A) usable in a conductive layer. In addition, plastic films such as polyester, polycarbonate, polyimide, and polyphenylene sulfide may be used.
또, 절연층에는 필요에 따라 실란 커플링제, 산화 방지제, 안료, 염료, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제, 충전제, 발화 지연제 등을 포함하는 것도 있다.The insulating layer may contain a silane coupling agent, an antioxidant, a pigment, a dye, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoamer, a leveling regulator, a filler, and a fire retardant if necessary.
제 2 실시형태의 도전성 시트의 용도는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 도전층 쪽을 프린트 배선 판의 바깥쪽 면에 첩착시켜 전자파 차폐 필름으로 사용할 수 있다.The use of the conductive sheet of the second embodiment is not particularly limited, but it can be used, for example, as an electromagnetic wave shielding film by attaching the conductive layer side to the outer surface of the printed wiring board.
제 2 실시형태의 도전성 시트의 절연층의 형성 방법 및 도전층과 절연층의 적층 방법은 공지의 방법을 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 미리 형성되어 있는 절연층 위에 도전층을 형성하거나 제 1 실시형태로 설명한 도전층과 같은 제조 방법에 의하여 절연층으로 형성할 수 있다. 절연층의 두께는 용도에 따라 다르지만, 예를 들면, 5㎛~50㎛가 바람직하다.The method of forming the insulating layer of the conductive sheet of the second embodiment and the method of laminating the conductive layer and the insulating layer may be any known method. For example, the conductive layer may be formed on a previously formed insulating layer or may be formed as an insulating layer by a manufacturing method such as the conductive layer described in the first embodiment. The thickness of the insulating layer varies depending on the use, but is preferably 5 占 퐉 to 50 占 퐉, for example.
제 2 실시형태에 따르면 제 1 실시형태와 같은 도전층을 가지므로, 제 1 실시형태와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 또 절연층과 적층체로 함으로써, 도전성 시트의 기계적 강도를 높이거나 표면에 절연 특성을 부여할 수 있다.Since the second embodiment has the same conductive layer as that of the first embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, by forming the insulating layer and the laminate, the mechanical strength of the conductive sheet can be increased or the insulating property can be imparted to the surface.
또한, 제 2 실시형태에서는 절연층과 도전층을 적층하는 도전성 시트의 예를 설명했지만 도전층과 적층하는 층은 특히 국한되지 않고 목적에 따라 여러 가지 기능을 가진 층을 적층 할 수 있다. 예를 들면, 지지층이나 반도체 층, 보호막, 반사 방지 필름 등의 광학 필름 등을 적층한 도전성 시트라도 좋다.In the second embodiment, an example of the conductive sheet for laminating the insulating layer and the conductive layer is described. However, the layer to be laminated with the conductive layer is not particularly limited, and layers having various functions can be stacked according to the purpose. For example, a conductive sheet obtained by laminating an optical film such as a support layer or a semiconductor layer, a protective film, or an antireflection film may be used.
[제 3 실시형태][Third embodiment]
다음에 상기 제 1 실시형태와는 다른 제조 방법에 의해 제조한 도전성 시트의 예에 대해 설명한다. 제 3 실시형태의 도전성 시트의 제조 방법은 제 1 실시형태로 설명한 가열 프레스 전에, 프레스 공정을 포함하는 점에서 제 1 실시형태의 도전성 시트의 제조 방법과 다르다. 그 이외의 점에 대해서는 제 1 실시형태로 설명한 공정과 마찬가지이고, 이용하는 도전층의 구성도 동일하다.Next, an example of the conductive sheet produced by a manufacturing method different from that of the first embodiment will be described. The method of manufacturing the conductive sheet of the third embodiment differs from the method of manufacturing the conductive sheet of the first embodiment in that it includes a pressing step before the heating press described in the first embodiment. Other points are the same as the steps described in the first embodiment, and the conductive layers used are the same.
제 3 실시형태의 도전성 시트는, 코팅하여 도전층을 형성한 후에 피착체와 접착할 때에, 가열 프레스를 하기 전에 가압 공정(이하, 피착체와 도전성 시트를 가열 프레스하는 공정과 구별하기 위해 "예비 가압 공정"이라 한다)을 행하는 것에 의해 제조한 것이다. 예비 가압 공정은 용도에 따라 적절히 변경할 수 있지만 2.5MPa~50MPa(25kg/㎠~510kg/㎠)의 압력을 가하는 것이 바람직하다. 온도는 가열하는 것을 배제하는 것은 아니지만 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 변형이나 구부러짐을 유도하고, 열 경화성 수지의 유동을 재촉하는 목적은 아니어서 가열하지 않거나, 혹은, 열 경화성 수지의 유동을 촉진하는 온도 이하의 가열로 하는 것이 바람직하다.The conductive sheet of the third embodiment is subjected to a pressing step (hereinafter, referred to as "preliminary step " to distinguish it from the step of hot pressing the adherend and the conductive sheet) Pressurizing step "). The preliminary pressurizing step may suitably be changed depending on the application, but it is preferable to apply a pressure of 2.5 MPa to 50 MPa (25 kg / cm2 to 510 kg / cm2). The temperature does not exclude heating, but it is not intended to induce deformation or bending of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) and to promote the flow of the thermosetting resin, so that it is not heated or promotes the flow of the thermosetting resin It is preferable to conduct heating at a temperature equal to or lower than the above-mentioned temperature.
피착체와 도전성 시트를 접합하기 전에 미리 도전성 시트에 압력을 가해 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 변형시키거나 수지상 입자를 구부러지게 하는 것으로, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B) 간의 접촉이 조밀하게 되어 상기 도전층의 도전 특성을 보다 향상시킬 수 있다.The dendritic conductive fine particles (B) are deformed by applying pressure to the conductive sheet in advance before bonding the adherend and the conductive sheet, or the dendritic conductive fine particles (B) are densely contacted The conductive property of the conductive layer can be further improved.
도전성 시트에 압력을 가하는 방법으로는 평판 프레스기, 롤 프레스기 등을 이용하는 방법이 있다. 이들 중에서도 압력을 높이기 쉬운(선압(線壓)을 높일 수 있는)롤 프레스기가 좋다. 사용하는 롤은 금속 롤 및 수지 롤 등의 표면 경도가 다른 롤을 사용할 수 있다. 이 가압 후의 도전성 시트를 사용하여 프린트 배선 판 등의 피착체와 접합하여 가열 프레스를 하는 것으로 도전층의 얼룩을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.As a method of applying pressure to the conductive sheet, there is a method using a flat plate press, a roll press, or the like. Among them, a roll press machine which can easily increase the pressure (which can increase line pressure) is preferable. As the rolls to be used, rolls having different surface hardness such as metal rolls and resin rolls can be used. By using the conductive sheet after the pressing, the conductive sheet is bonded to an adherend such as a printed wiring board and subjected to a heating press, whereby the unevenness of the conductive layer can be suppressed more effectively.
제 3 실시형태의 도전층은 예비 가압 공정을 실시하는 것이지만, 피착체와 도전성 시트를 접합할 때에는 제 1 실시형태에서 말한 것처럼 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30 이상 95 이하의 범위가 되는 것이어야 한다. 즉, 예비 가압 공정을 거친 후의 피착체와 접합 전의 도전층의 두께에 대해, 상기 조건에서 가열 프레스(150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스)를 한 경우의 두께 변화가 상기 범위(도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30 이상 95 이하의 범위)에 포함되는 것이어야 한다. 또, 상기 조건을 충족시키는 것이면 좋고, 예비 가압 공정에서 막 두께가 변화하는 것이라도 좋다. 예비 가압 공정에서 막 두께가 변화하는 것이라 하더라도 열 경화성 수지 조성물과 흘러나온 저 분자량 성분의 이동을 흡수하기 위한 공극이 존재하면 피착체와 도전성 시트를 접합할 때 가열 프레스 해도 도전층의 얼룩을 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.The conductive layer of the third embodiment is subjected to the preliminary pressing step. However, when the adherend is bonded to the conductive sheet, the thickness after the hot pressing at 150 DEG C and 2 MPa for 30 minutes as described in the first embodiment, The thickness of the conductive layer is not less than 30 and not more than 95 when the thickness of the conductive layer is 100. That is, the thickness change of the adherend after the preliminary pressurizing process and the thickness of the conductive layer before the bonding, when a heating press (heating press at 150 DEG C, 2 MPa for 30 minutes under the above conditions) And a range from 30 to 95 when the thickness of the layer is 100). The film may be one satisfying the above conditions, or the film thickness may be changed in the preliminary pressurizing step. Even if the film thickness changes in the preliminary pressurizing step, if there is a gap for absorbing the movement of the low-molecular-weight component flowing out from the thermosetting resin composition, it is possible to suppress effectively the unevenness of the conductive layer even when hot- I can do it.
제 3 실시형태에 따르면 제 1 실시형태와 같은 도전층을 가진 도전성 시트를 이용하고 있으므로 제 1 실시형태와 같은 효과를 얻는다. 또, 프린트 배선 판 등과 도전성 시트를 가열 프레스 하기 전에 미리 도전층을 프레스 하여 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 부서지게 하여 도전 특성을 효과적으로 이끌어 낼 수 있다는 장점이 있다.According to the third embodiment, since the conductive sheet having the same conductive layer as that of the first embodiment is used, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. In addition, there is an advantage that the conductive layer can be pressed before the printed wiring board or the like and the conductive sheet are pressed to bend the dendrite-shaped conductive fine particles (B) in advance, thereby effectively deriving the conductive characteristics.
또한, 제 3 실시형태에서는 도전층을 1층 가지는 도전성 시트의 예에 대해 설명했지만 제 2 실시형태처럼 절연층이 부착된 도전성 시트나, 다른 층이 적층된 도전성 시트에서도 제 3 실시형태의 예비 가압 공정을 알맞게 부가할 수 있다. 도전성 시트를 절연층 부착 도전성 시트라고 할 경우 예비 가압 공정을 하는 시기는 제한되지 않지만, 절연층을 적층 하기 전에 예비 가압 공정을 실시하는 것이 더 바람직하다. 도전층에 예비 가압 공정을 실시하면 도전층의 표면이 더 평평해지므로, 더욱 절연층을 적층 하는 경우는, 절연층의 두께 정밀도가 향상하므로, 절연층의 두께가 얇아도 필요로 하는 절연 특성이 얻기 쉬워 진다.In the third embodiment, an example of the conductive sheet having one conductive layer is described. However, in the conductive sheet having the insulating layer or the conductive sheet having the other layers stacked as in the second embodiment, The process can be properly added. When the conductive sheet is referred to as the conductive sheet with an insulating layer, the timing of performing the preliminary pressing step is not limited, but it is more preferable to carry out the preliminary pressing step before the insulating layer is laminated. When the conductive layer is subjected to the preliminary pressing process, the surface of the conductive layer is flattened. Therefore, when the insulating layer is further laminated, the thickness precision of the insulating layer is improved. Therefore, even if the thickness of the insulating layer is thin, It becomes easy to obtain.
[제 4 실시형태][Fourth Embodiment]
다음에 상기 제 1 실시형태와 다른 도전성 시트의 예에 대해 설명한다. 제 4 실시형태와 관련한 도전성 시트는 1층의 도전층으로 이루어진다. 제 4 실시형태의 도전성 시트의 도전층은 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 필수 구성으로서 포함하는 것이고, 도전층 중의 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90이 도전층의 막 두께에 대해 0.5~3배의 범위 내에 있는 것이다.Next, an example of the conductive sheet which is different from that of the first embodiment will be described. The conductive sheet according to the fourth embodiment is composed of one conductive layer. The conductive layer of the conductive sheet according to the fourth embodiment contains the thermosetting resin (A) and the dendrite-like conductive fine particles (B) as essential constituents, and the average particle diameter D of the dendritic conductive fine particles (B) 90 is in the range of 0.5 to 3 times the film thickness of the conductive layer.
또한, 제 1 실시형태에서 특정한 도전층의 두께가, 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가, 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30 이상 95 이하의 범위가 되는 것은 반드시 필요하지는 않다. 이는 도전층의 막 두께에 대해 덴드라이트 모양 도전 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90을 3배 이하로 하는 것으로, 미립자의 선단이 가열 프레스를 걸 때 도전층에서 돌출하기 어렵게 되기 때문이다. 또, 평균 입자 지름 D90을 0.5배 이상함으로써 도전층에 공극이 과잉으로 발생하기 어려워지기 때문이다. 단, 도전층 얼룩을 보다 효과적으로 방지하는 관점에서는, 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30 이상 95 이하의 범위에 있어야 한다는 조건을 만족하는 것이 더 바람직하다.When the thickness of the conductive layer specified in the first embodiment is 150 占 폚 and 2 MPa for 30 minutes and the thickness after the hot pressing is 30 to 95 Is not necessarily required. This is because the average particle diameter D 90 of the dendritic conductive fine particles (B) is set to be not more than 3 times the film thickness of the conductive layer, so that the tips of the fine particles hardly protrude from the conductive layer when a heating press is applied. Also, when the average particle diameter D 90 is 0.5 times or more, excess voids are unlikely to occur in the conductive layer. However, from the viewpoint of more effectively preventing the conductive layer unevenness, the thickness after hot pressing under the conditions of 150 占 폚 and 2 MPa for 30 minutes should be within the range of 30 to 95 when the thickness of the conductive layer before heating press is taken as 100 Is satisfied.
제 4 실시형태의 도전성 시트는 인쇄 배선 판 등의 피착체에 제 4 실시형태의 도전성 시트의 도전층 측이 접하도록 적층 하고, 제 1 실시형태에서 설명한 가열 프레스 공정을 거침으로써, 피착체에 도전성 시트를 접착하여 붙일 수 있다. 제 4 실시형태의 도전성 시트에 따르면 도전층에 열 경화성 수지를 함유시키기 때문에 피착체와 접착성을 잘 유지할 수 있으며 가열 프레스의 조건은 도전층의 용도와 요구에 따라(예를 들면, 요구되는 도전 특성 및 공극의 비율 등에 따라)임의로 설정할 수 있다.The conductive sheet of the fourth embodiment is obtained by laminating an adherend such as a printed wiring board such that the conductive layer side of the conductive sheet of the fourth embodiment is in contact with the adherend and by performing the hot press step described in the first embodiment, The sheet can be glued and attached. According to the conductive sheet of the fourth embodiment, since the conductive layer contains a thermosetting resin, it is possible to maintain adhesiveness with the adherend well, and the conditions of the hot press may be changed according to the use and requirements of the conductive layer (for example, Characteristics and ratio of voids, etc.).
제 4 실시형태의 도전성 시트는 도전층에 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 공극을 가열 프레스로 메우는 것이 바람직하지만, 채우지 않고 공극으로 이용할 수도 있다. 예를 들어, 가열 프레스 공정을 하지 않고, 예를 들어 접착제 층을 통해 피착체와 도전성 시트를 접합해도 좋다. 접착제 층을 통하는 방법은 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 도전층과는 다른 별도의 접착제 층을 도전성 시트에 설치, 혹은 피착체 측에 접착제 층을 마련하여 접착제 층을 통해 피착체를 접합하는 방법이 있다.In the conductive sheet of the fourth embodiment, it is preferable to fill a gap of the dendritic conductive fine particles (B) with a heat press in the conductive layer, but it may be used as a gap without filling. For example, the adherend and the conductive sheet may be bonded to each other through, for example, an adhesive layer without performing a hot pressing step. The method of passing through the adhesive layer is not particularly limited. For example, a method in which a separate adhesive layer different from the conductive layer is provided on the conductive sheet, or an adhesive layer is provided on the side of the adherend to bond the adherend through the adhesive layer .
도전층을 구성하는 열 경화성 수지(A)의 바람직한 예는 제 1 실시형태에서 말한 대로이다. 또 도전층에는 열 경화성 수지(A)와 병용하여 경화제를 이용하는 것이 바람직하다. 경화제의 예에 대해서도 제 1 실시형태에서 말한 대로이다.Preferable examples of the thermosetting resin (A) constituting the conductive layer are as described in the first embodiment. It is preferable to use a curing agent in combination with the thermosetting resin (A) for the conductive layer. Examples of the curing agent are as described in the first embodiment.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 바람직한 양태, 소재는 제 1 실시형태에서 기술했던 것을 바람직하게 적용할 수 있다.Preferred embodiments and materials of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) can be suitably applied to those described in the first embodiment.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 평균 입자 지름 D50이 3㎛~50㎛이며 평균 입자 지름 D90이 평균 입자 지름 D50의 1.5~5배인 것이 바람직하다. 또, 평균 입자 지름 D50은 3㎛~40㎛이 더 바람직하고 5㎛~25㎛이 더 바람직하다. 평균 입자 지름 D50이 3㎛ 이상이 됨으로써 도전층에 공극이 생기기 쉬워지고 얼룩을 줄일 수 있다. 한편, 평균 입자 지름 D50이 50㎛ 이하가 됨으로써 적절한 두께의 도전층을 형성하기 쉬워 진다.The dendrite-shaped conductive fine particles (B) preferably have an average particle diameter D 50 of 3 to 50 μm and an average particle diameter D 90 of 1.5 to 5 times an average particle diameter D 50 . The average particle diameter D 50 is more preferably 3 탆 to 40 탆, and more preferably 5 탆 to 25 탆. When the average particle diameter D 50 is 3 탆 or more, voids are likely to be formed in the conductive layer and the unevenness can be reduced. On the other hand, when the average particle diameter D 50 is 50 탆 or less, it is easy to form a conductive layer having an appropriate thickness.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90은 평균 입자 지름 D50의 1.5배~5배가 좋고 2배~3.5배가 더 바람직하다. 평균 입자 지름 D90의 값은 평균 입자 지름 D50의 평균 입자 지름에 의존하는 경향에 있지만, 4.5㎛~250㎛이 바람직하다. 그 이유는 제 1 실시형태에서 말한 대로이다.The average particle diameter D 90 of the dendritic conductive fine particles (B) is preferably 1.5 to 5 times the average particle diameter D 50 , more preferably 2 to 3.5 times. The value of the average particle diameter D 90 tends to depend on the average particle diameter of the average particle diameter D 50 , but it is preferably 4.5 탆 to 250 탆. The reason for this is as described in the first embodiment.
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 탭 밀도(이하, "TD"이라고도 함)가 0.8g/㎤~2.5g/㎤인 것이 좋다. 또 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 겉보기 밀도(이하, "AD"이라고도 함)가 0.4g/㎤~1.5g/㎤인 것이 바람직하다. 또한, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는 AD와 TD의 비율(AD/TD)이 0.3~0.9인 것이 더 바람직하다. 이러한 이유는 제 1 실시형태에서 말한 대로이다.The dendrite type conductive fine particles (B) preferably have a tap density (hereinafter also referred to as "TD") of 0.8 g / cm3 to 2.5 g / cm3. The dendritic conductive fine particles (B) preferably have an apparent density (hereinafter also referred to as "AD") of 0.4 g /
제 4 실시형태의 도전성 시트의 두께는 특히 한정되지 않지만, 5㎛~100㎛이 바람직하다, 10㎛~50㎛이 더 바람직하다. 또, 두께는 JISB7503(다이얼 게이지)에 따라 측정한 값이다. 도전층의 두께가 5㎛ 이상이 되면 도전성이 얻기 쉬워 진다. 또 100㎛ 이하가 되는 것으로 굴곡성의 균형이 쉬워 진다.The thickness of the conductive sheet of the fourth embodiment is not particularly limited, but is preferably 5 탆 to 100 탆, more preferably 10 탆 to 50 탆. The thickness is a value measured according to JIS B7503 (dial gauge). When the thickness of the conductive layer is 5 mu m or more, conductivity is easily obtained. Further, the thickness becomes 100 mu m or less, so that the balance of flexibility is easy.
도전층 중에 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 사용하는 비율은, 도전층 100중량% 중 50중량%~90중량%가 바람직하고, 60중량%~80중량%가 더 바람직하다. 그 이유는 제 1 실시형태에서 말한 대로이다. 또, 제 4 실시형태의 도전층에도 필요에 따라 첨가제를 부가할 수 있고, 그 일례로서 제 1 실시형태에서 말한 첨가제를 들 수 있으며, 도전성 시트의 제조 방법은 제 1 실시형태에서 말한 대로이다.The proportion of using the dendritic conductive fine particles (B) in the conductive layer is preferably 50% by weight to 90% by weight and more preferably 60% by weight to 80% by weight in 100% by weight of the conductive layer. The reason for this is as described in the first embodiment. An additive may be added to the conductive layer of the fourth embodiment as required. Examples of the additives include the additives described in the first embodiment. The conductive sheet is produced as described in the first embodiment.
제 4 실시형태에 따르면 상기 제 1 실시형태와 같은 효과를 얻는다. 또 도전층의 두께로서 도전층 중의 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90이 도전층의 막 두께에 대해 0.5~3배의 범위 내에 있는 것을 이용하는 것으로, 도전층의 막 두께와 평균 입자 지름 D90을 설계함으로써, 도전층 얼룩을 최소화할 수 있는 신뢰성이 높은 도전성 시트를 제공할 수 있다는 장점이 있다.According to the fourth embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained. The average thickness D 90 of the dendrite-like conductive fine particles (B) in the conductive layer is in the range of 0.5 to 3 times the thickness of the conductive layer as the thickness of the conductive layer. By designing the particle diameter D 90 , it is possible to provide a highly reliable conductive sheet capable of minimizing conductive layer unevenness.
[제 5 실시형태][Fifth Embodiment]
다음으로, 제 5 실시형태의 도전성 시트로 전자파 차폐 필름에 적용한 예에 대해 설명한다. 제 5 실시형태의 도전성 시트는 절연층과 제 4 실시형태의 도전층이 적층 된 것이다. 용도로서, 가령 프린트 배선 판 등의 전자 부품에 첩착시키는 전자파 차폐 필름으로 이용할 수 있으며 전자파 차폐 필름은 절연층과 도전층 이외의 다른 층(예를 들면, 보호층, 접착층)이 적층되어 있어도 좋다.Next, an example in which the conductive sheet of the fifth embodiment is applied to an electromagnetic wave shielding film will be described. The conductive sheet of the fifth embodiment is obtained by laminating the insulating layer and the conductive layer of the fourth embodiment. For example, the electromagnetic wave shielding film can be used as an electromagnetic wave shielding film to be adhered to an electronic component such as a printed wiring board. The electromagnetic wave shielding film may have an insulating layer and another layer (for example, a protective layer and an adhesive layer) other than the conductive layer.
절연층에 이용하는 재료는 특히 한정되지 않지만 바람직한 예로는 제 2 실시형태에서 말한 것을 들 수 있다. 또, 절연층에는 필요에 따라, 실란 커플링제, 산화 방지제, 안료, 물감, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제, 충전제, 발화 지연제 등을 포함할 수 있다. 절연층의 형성 방법에 대해서는 제 2 실시형태에서 말한 대로이다.The material used for the insulating layer is not particularly limited, but preferred examples include those described in the second embodiment. The insulating layer may contain a silane coupling agent, an antioxidant, a pigment, a paint, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoamer, a leveling regulator, a filler, a fire retardant and the like, if necessary. The method of forming the insulating layer is as described in the second embodiment.
또, 절연층의 두께는 도전층의 두께를 100으로 할 때, 50~200의 비율이 바람직하다. 상기 범위 내의 두께로 하는 것으로 전자파 차폐 필름의 물성 균형을 잡기 쉽다. 또한, 제 5 실시형태의 도전성 시트의 도전층은 반드시 가열 과정을 거칠 필요는 없고, 상기 도전층의 막 두께는 실제로 이용할 때의 막 두께를 나타내는 것이며, 가열 과정 전의 것이어도, 가열 과정 후라도 좋다.The thickness of the insulating layer is preferably in the range of 50 to 200 when the thickness of the conductive layer is 100. By setting the thickness within the above range, it is easy to balance the physical properties of the electromagnetic wave shielding film. The conductive layer of the conductive sheet of the fifth embodiment does not necessarily need to undergo a heating process. The thickness of the conductive layer indicates the thickness of the conductive layer in actual use, and may be either before or after the heating process.
전자파 차폐 필름을 첩착할 수 있는 피착체는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면 반복적으로 구부려지는 플렉시블 프린트 배선 판을 대표적인 예로 들 수 있다. 물론, 경성 프린트 배선 판을 비롯한 각종 폴리이미드, 전자파 차폐가 요구되는 전자 레인지 등 가전이나 전자 기기 전반, 전자파를 차폐하고 싶은 부재 전반에 적용할 수 있다.The adherend capable of adhering the electromagnetic wave shielding film is not particularly limited, but a flexible printed wiring board which is repeatedly bent can be given as a representative example. Of course, the present invention can be applied to various types of polyimide including a hard printed wiring board, a microwave oven requiring electromagnetic shielding, and the like in general of all appliances and electronic appliances and members that want to shield electromagnetic waves.
제 5 실시형태와 관련한 전자파 차폐 필름에 의하면, 상기 실시형태와 같은 효과를 얻는다.
According to the electromagnetic wave shielding film of the fifth embodiment, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained.
실시 예Example
이하, 실시 예, 비교 예를 들어 본 발명을 상세히 설명하지만, 이 발명은 이하의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 또, 이하의 "부" 및 "%"는 각각 "중량부"및 "중량%"에 근거한 값이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. The following "parts" and "%" are based on "parts by weight" and "% by weight", respectively.
평균 입자 지름 D50 및 평균 입자 지름 D90은 닛키소사제의 마이크로 트럭 MT 3300을 사용하여 측정했다. 겉보기 밀도는 JIS Z 2504:2000에 규정된 금속 분말의 겉보기 밀도 시험 방법을 통해 산출하였다. 탭 밀도는 JIS Z 2512:금속 분말―탭 밀도 측정 방법에 의해 구했다.Average particle diameter D 50 And average particle diameter D 90 were measured using a Microtruck MT 3300 manufactured by Nikkiso Corporation. Apparent density was calculated by the apparent density test method of the metal powder specified in JIS Z 2504: 2000. The tap density was determined according to JIS Z 2512: Metal powder-tap density measurement method.
<실시 예 1~5>≪ Examples 1 to 5 >
덴드라이트 모양 도전성 미립자로 표 1A의 재료를 사용하고, 열 경화성 수지로는 우레탄 수지(토요켐사제)를 이용해 도전성 시트를 제작했다. 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)와 열 경화성 수지(A)의 비율은 수지 고형물 100중량부에 대해 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 250중량부로 했다. 그리고 건조 막 두께가 10㎛이 되도록, 표면을 박리 처리한 두께 100㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 위에 바 코터를 이용해 코팅하고, 100℃에서 3분 건조시켜 도전성 시트를 얻었다.A conductive sheet was prepared using the material shown in Table 1A as the dendrite-shaped conductive fine particles and a urethane resin (Toyochem Co., Ltd.) as the thermosetting resin. The ratio of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) to the thermosetting resin (A) was 250 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solids and the dendritic conductive fine particles (B). The film was coated on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 占 퐉, the surface of which was peeled off, with a bar coater so that the dried film thickness was 10 占 퐉, and dried at 100 占 폚 for 3 minutes to obtain a conductive sheet.
<실시 예 6~10>≪ Examples 6 to 10 &
실시 예 1~5에서 얻어진 도전성 시트의 한쪽 면 위에 절연층으로 우레탄 수지(토요켐사제)를 사용하여 건조 막 두께가 10㎛이 되도록 코팅·건조하고 총 두께 20㎛의 절연층 부착 도전성 시트를 얻었다.On one side of the conductive sheets obtained in Examples 1 to 5, a urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used as an insulating layer, followed by coating and drying so as to have a dry film thickness of 10 탆 to obtain a conductive sheet with an insulating layer having a total thickness of 20 탆 .
<실시 예 11>≪ Example 11 >
실시 예 2에서 얻어진 도전성 시트 표면을 롤 프레스기를 사용하여 3MPa의 압력이 걸리도록 예비 가압했다. 그 후 예비 가압한 도전성 시트 면에 절연층으로 우레탄 수지(토요켐사제)를 건조 막 두께가 10㎛이 되도록 코팅·건조함으로써 총 두께 20㎛의 절연층 부착 도전성 시트를 얻었다.The surface of the conductive sheet obtained in Example 2 was preliminarily pressed using a roll press to apply a pressure of 3 MPa. Thereafter, urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was coated on the surface of the electrically conductive sheet preliminarily pressed so as to have a dry film thickness of 10 占 퐉 and dried to obtain a conductive sheet with an insulating layer having a total thickness of 20 占 퐉.
<실시 예 12, 13>≪ Examples 12 and 13 >
예비 가압하는 압력을 각각 10MPa, 40MPa로 변경한 외에는 실시 예 11과 마찬가지로 하여 절연층 부착 도전성 시트를 얻었다.The conductive sheet with an insulating layer was obtained in the same manner as in Example 11 except that the preliminary pressure was changed to 10 MPa and 40 MPa, respectively.
<비교 예 1~2>≪ Comparative Examples 1 and 2 &
표 1B에 나타내는 도전성 미립자를 이용하여 실시 예 1~5와 같은 방법으로, 도전성 시트를 얻었다.Using the conductive fine particles shown in Table 1B, conductive sheets were obtained in the same manner as in Examples 1 to 5.
<비교 예 3~4>≪ Comparative Examples 3 and 4 &
표 1B에 나타내는 도전성 미립자를 이용해 실시 예 6~10과 같은 방법으로 절연층 부착 도전성 시트를 얻었다.Using the conductive fine particles shown in Table 1B, the conductive sheet with an insulating layer was obtained in the same manner as in Examples 6 to 10.
< 얼룩성 평가>≪ Evaluation of staininess &
두께가 50㎛의 폴리이미드 필름(토레이·듀퐁사제 "카프톤 200EN")의 한쪽 면에 각 실시 예 및 각 비교 예의 도전성 시트를 라미네이트로 첨부하고, 드릴기로 직경 5mm의 구멍을 관통시켰다.A conductive sheet of each example and each comparative example was laminated to one side of a polyimide film having a thickness of 50 占 퐉 ("CATPON 200EN" manufactured by Toray Dupont Co., Ltd.), and a hole having a diameter of 5 mm was passed therethrough.
별도로, 두께가 50㎛의 폴리이미드 필름(토레이·듀퐁사제 "카프톤 200EN")을 준비하고, 전술한 도전성 시트와 150℃, 30분, 2.0MPa의 조건에서 가열 프레스 처리함으로써, 폴리이미드 필름에 의해 끼워진 도전성 시트의 샘플을 얻었다. 가열 프레스 처리 후, 도전성 시트의 구멍 부분을 돋보기를 이용해 관찰하고 얼룩 양을 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.Separately, a polyimide film having a thickness of 50 占 퐉 ("CATPON 200EN" manufactured by Toray DuPont) was prepared and subjected to hot pressing treatment at 150 ° C for 30 minutes under the condition of 2.0 MPa with the above-mentioned conductive sheet to obtain a polyimide film Thereby obtaining a sample of the conductive sheet sandwiched by the conductive sheet. After the hot press treatment, the hole portion of the conductive sheet was observed using a magnifying glass and the amount of stain was measured. The evaluation criteria are as follows.
○:도전성 시트의 얼룩 양이 0.01mm 미만?: The amount of stain of the conductive sheet was less than 0.01 mm
△:도전성 시트의 얼룩 양이 0.01mm 이상 0.05mm 미만DELTA: The amount of stain of the conductive sheet was 0.01 mm or more and less than 0.05 mm
×:도전성 시트의 얼룩 양이 0.05mm 이상X: The amount of stain of the conductive sheet is 0.05 mm or more
<접속 저항치 A의 측정>≪ Measurement of connection resistance value A &
실시 예 1~5 및 비교 예 1, 2의 도전성 시트에 대해 폭 20mm, 길이 50mm의 샘플을 준비해 따로 제작한 플렉시블 프린트 배선 판을 이용해 접속 저항치 A를 측정했다. 구체적으로는 도 2A~도 2F와 같이, 두께 12.5㎛의 폴리이미드 필름(1) 위에, 두께 18㎛의 동박으로 이루어지고, 전기적으로 접속되어 있지 않은 회로(2)가 형성되고, 회로(2) 위에, 접착제가 부착된, 두께 37.5㎛, 지름 0.8mm의 관통구멍(4)을 가진 커버 필름(3)이 적층되어 있는 연성 배선 판을 준비했다. 그리고, 커버 필름(3) 위에 도전성 시트(5)를 놓고, 이 도전성 시트(5) 위에 표면이 두께 0.1㎛의 니켈로 처리된 두께 200㎛의 스테인리스 판(6)을 놓고 150℃, 30분, 2.0MPa의 조건에서 가열 프레스 한 후, 회로(2)와 스테인리스 판(6) 사이의 세로 방향의 저항값을 미쓰비시 화학사제 "로레스터 GP"의 4 탐침 프로브를 사용하여 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.Samples having a width of 20 mm and a length of 50 mm were prepared for the conductive sheets of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, and the connection resistance value A was measured using a separately prepared flexible printed wiring board. Specifically, as shown in Figs. 2A to 2F, a
○: 200mΩ 미만○: Less than 200mΩ
△: 200mΩ 이상, 500mΩ 미만?: 200 m? Or more, less than 500 m?
×: 500mΩ 이상×: 500 mΩ or more
<접속 저항치 B의 측정>≪ Measurement of connection resistance value B &
실시 예 6~13 및 비교 예 3, 4의 절연층 부착 도전성 시트에 대해 폭 20mm, 길이 50mm의 샘플을 준비해 따로 제작한 플렉시블 프린트 배선 판을 이용해 접속 저항치 B를 측정했다. 구체적으로는 도 3A~도 3F와 같이, 두께 12.5㎛의 폴리이미드 필름(1) 위에, 두께 18㎛의 동박으로 이루어지고 전기적으로 접속되지 않는 회로(2A), 회로(2B)가 형성되어 있고, 회로(2A) 위에 접착제가 부착된, 두께 37.5㎛, 지름 0.8mm의 관통구멍(4)을 가진 커버 필름(3)이 적층된 연성 배선 판을 준비했다. 그리고, 커버 필름(3) 위에 도전성 시트(5)를 놓고, 이 도전성 시트(5) 위에 표면이 두께 0.1㎛의 니켈로 처리된 두께 200㎛의 절연층(7)을 놓고, 150℃, 30분, 2.0MPa의 조건에서 가열 프레스 하여 회로(2A)와 회로(2B) 사이의 저항값을 미쓰비시 화학사제 "로레스터 GP" 4 탐침 프로브를 사용해 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.Samples having a width of 20 mm and a length of 50 mm were prepared for the conductive sheets with insulating layers of Examples 6 to 13 and Comparative Examples 3 and 4, and the connection resistance value B was measured using a separately prepared flexible printed wiring board. More specifically, as shown in Figs. 3A to 3F, a
○: 300mΩ 미만○: Less than 300mΩ
△: 300mΩ 이상, 500mΩ 미만?: 300 m? Or more, less than 500 m?
×: 500mΩ 이상×: 500 mΩ or more
<굴곡성><Flexibility>
폭 6mm, 길이 120mm의 실시 예 및 비교 예의 도전성 시트를, 따로 제작한 플렉시블 프린트 배선판(두께 25㎛의 폴리이미드 필름 위에 두께 12㎛의 동박의 회로 패턴이 형성돼 있고, 회로 패턴 위에, 접착제가 부착된, 두께 40㎛의 커버 필름이 적층된 배선 판)의 커버 필름 면에, 150℃, 30분, 2.0MPa의 조건으로 압착했다. 그리고, 곡률 반경 0.38mm, 하중 500g, 속도 180회/분의 조건으로 MIT 굴곡 시험기에 걸어 회로 패턴이 단선할 때까지의 횟수에 의해 내굴곡성을 평가했다. 평가 기준은 다음과 같다.A conductive printed circuit board of Examples and Comparative Examples having a width of 6 mm and a length of 120 mm was formed on a flexible printed wiring board (a circuit pattern of a copper foil having a thickness of 12 탆 was formed on a polyimide film having a thickness of 25 탆) And a cover film having a thickness of 40 mu m laminated thereon) at 150 DEG C for 30 minutes under 2.0 MPa. Then, the flexural resistance was evaluated by the number of times until the circuit pattern was broken by being hooked to the MIT flexural tester under the conditions of a radius of curvature of 0.38 mm, a load of 500 g, and a speed of 180 times / minute. The evaluation criteria are as follows.
○: 3000회 이상○: 3000 times or more
△: 2500회 이상, 3000회 미만?: 2500 times or more, less than 3000 times
×: 2500회 미만×: less than 2500 times
[표 1A][Table 1A]
[표 1B][Table 1B]
표 1A, 표 1B의 결과로부터 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 사용함으로써 기존 형상의 도전성 미립자보다 가열 프레스 후의 가로 방향으로 얼룩이 적은 것을 알 수 있다. 또, 세로 방향으로 접속 저항 A가 기존 형상의 도전성 입자와 비해 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 이용함으로써 특성이 뛰어난 것이 분명하다. 또한, 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 사용한 도전성 시트는 굴곡성이 뛰어난 것을 확인했다.From the results of Tables 1A and 1B, it can be seen that the use of the dendrite-shaped conductive fine particles results in less unevenness in the transverse direction after the heat pressing than the conventional conductive fine particles. It is also clear that the connection resistance A in the longitudinal direction is superior to that of conventional conductive particles by using dendritic conductive fine particles. Further, it was confirmed that the conductive sheet using the dendrite-shaped conductive fine particles had excellent flexibility.
<실시 예 14>≪ Example 14 >
덴드라이트 모양 도전성 미립자로서 평균 입자 지름 D90이 25㎛, 평균 입자 지름 D50이 13㎛의 은을 이용해 도전층을 제작했다. 열 경화성 수지로서는 우레탄 수지(토요켐사제)를 사용하고, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)와 열 경화성 수지 비율은 수지 100중량부에 대해 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 250중량부로 하고, 건조 막 두께가 10㎛이 되도록, 두께 100㎛의 표면을 박리 처리한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 위에 바 코터를 이용해 코팅하고, 100℃에서 3분 건조시켜 도전층을 얻었다. 상기의 도전층의 한쪽 면에 절연층으로 우레탄 수지(토요 켐사제)를 사용하여 건조 막 두께가 15㎛이 되도록 코팅·건조해서 총 두께 25㎛의 절연층을 가진 전자파 차폐 필름을 얻었다.The mean particle size D90 25㎛, the mean particle size D 50 using the 13㎛ is a dendrite shape conductive fine particles to prepare a conductive layer. As the thermosetting resin, a urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used, and the ratio of the thermosetting resin to the dendrite-shaped conductive fine particles (B) was 250 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin and dendritic- A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 mu m was peeled off to a thickness of 10 mu m using a bar coater and dried at 100 DEG C for 3 minutes to obtain a conductive layer. An urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used as an insulating layer on one side of the above conductive layer, followed by coating and drying to a dry film thickness of 15 탆 to obtain an electromagnetic wave shielding film having an insulating layer with a total thickness of 25 탆.
<실시 예 15~17>≪ Examples 15 to 17 >
실시 예 15~17은 도전성 입자와 평균 입자 지름 D90과 평균 입자 지름 D50 부분을 표 2A에 나타내는 원료로 바꾼 외에는 실시 예 1과 마찬가지로 하여, 전자파 차폐 필름을 얻었다.In Examples 15 to 17, electromagnetic wave shielding films were obtained in the same manner as in Example 1, except that the conductive particles, the average particle diameter D 90 and the average particle diameter D 50 were replaced by the raw materials shown in Table 2A.
<실시 예 18>≪ Example 18 >
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)로서, 표 2A의 재료를 사용하여, 열 경화성 수지(A)로서, 우레탄 수지(토요켐사제)를 이용해 도전층을 제작했다. 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)와 열 경화성 수지(A)의 비율은 수지 100중량부에 대해 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 250중량부로 하고, 건조 막 두께가 10㎛이 되도록, 두께 100㎛의 표면을 박리 처리한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 위에 바 코터를 이용해 코팅하고, 100℃ 3분 건조시켜 도전성 시트를 얻었다. 상기의 도전성 시트의 한쪽 면에 절연층으로 우레탄 수지(토요켐사제)를 사용하여 건조 막 두께가 8㎛이 되도록 코팅·건조해서 총 두께 18㎛의 절연층을 가진 전자파 차폐 필름을 얻었다.As the dendrite-shaped conductive fine particles (B), the conductive layer was prepared using the material shown in Table 2A, using a urethane resin (Toyochem) as the thermosetting resin (A). The ratio of the dendrite-shaped conductive fine particles (B) to the thermosetting resin (A) was 250 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin, dendrite-shaped conductive fine particles, and the surface with a thickness of 100 mu m The polyethylene terephthalate film thus peeled was coated with a bar coater and dried at 100 DEG C for 3 minutes to obtain a conductive sheet. An urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used as an insulating layer on one side of the above conductive sheet, followed by coating and drying to a dry film thickness of 8 탆 to obtain an electromagnetic wave shielding film having an insulating layer with a total thickness of 18 탆.
<실시 예 19>≪ Example 19 >
덴드라이트 모양 도전성 미립자로서 표 2A의 재료를 이용해 도전성 시트를 제작했다. 열 경화성 수지로서는 우레탄 수지(토요켐사제)를 사용하고, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)와 열 경화성 수지 비율은 수지 100중량부에 대해 덴드라이트 모양 도전성 미립자를 250중량부로 하여, 건조 막 두께가 10㎛이 되도록, 두께 100㎛의 표면을 박리 처리한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 위에 바 코터를 이용해 코팅하고, 100℃에서 3분 건조시켜 도전성 시트를 얻었다. 상기의 도전성 시트의 한쪽 면에 절연층으로 우레탄 수지(토요켐사제)를 사용하여 건조 막 두께가 25㎛이 되게 설치하여, 총 두께 35㎛의 절연층을 가진 전자파 차폐 필름을 얻었다.A conductive sheet was produced using the material shown in Table 2A as the dendrite-shaped conductive fine particles. As the thermosetting resin, a urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used. The ratio of the thermosetting resin to the dendrite-shaped conductive fine particles (B) was 250 parts by weight of dendritic conductive fine particles per 100 parts by weight of the resin, A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 mu m was peeled off to a thickness of 10 mu m using a bar coater and dried at 100 DEG C for 3 minutes to obtain a conductive sheet. An urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was used as an insulating layer on one side of the conductive sheet to provide a dry film thickness of 25 mu m to obtain an electromagnetic wave shielding film having an insulating layer with a total thickness of 35 mu m.
<실시 예 20>≪ Example 20 >
실시 예 18에서 얻어진 도전성 시트 표면을 롤 프레스기를 사용하여 3MPa의 압력이 걸리도록 예비 가압했다. 그 뒤 예비 가압한 도전성 시트 면에 절연층으로 우레탄 수지(토요켐사제)를 건조 막 두께가 8㎛이 되도록 코팅·건조함으로써 총 두께 20㎛의 절연층을 가지는 전자파 차폐 필름을 얻었다.The surface of the conductive sheet obtained in Example 18 was preliminarily pressed using a roll press to apply a pressure of 3 MPa. Thereafter, a urethane resin (manufactured by Toyochem Co.) as an insulating layer was coated on the surface of the electrically conductive sheet preliminarily pressed so as to have a dry film thickness of 8 탆 and dried to obtain an electromagnetic wave shielding film having an insulating layer with a total thickness of 20 탆.
<실시 예 21, 22>≪ Examples 21 and 22 >
예비 가압하는 압력을 각각 10MPa, 40MPa로 변경한 외에는 실시 예 20과 마찬가지로 하여 절연층을 가지는 전자파 차폐 필름을 얻었다.An electromagnetic wave shielding film having an insulating layer was obtained in the same manner as in Example 20 except that the preliminary pressure was changed to 10 MPa and 40 MPa, respectively.
<비교 예 11~15>≪ Comparative Examples 11 to 15 &
표 2B에 나타내는 상기 도전성 미립자를 이용하여 실시 예 14~18과 같은 방법으로 도전층과 절연층을 가진 전자파 차폐 필름을 얻었다.Using the conductive fine particles shown in Table 2B, an electromagnetic wave shielding film having a conductive layer and an insulating layer was obtained in the same manner as in Examples 14 to 18.
표 2A, 표 2B의 덴드라이트 은 코팅 구리 분말, 플레이크 모양 은, 구 모양 은(銀)은, 후쿠다 금속박분공업사제를 사용했다. The dendrites in Table 2A and Table 2B were coated with copper powder, flake-like silver, and silver-silver, manufactured by Fukuda Metal Powder Co., Ltd. were used.
표 2A, 표 2B의 덴드라이트 은 코팅 구리 분말은 후쿠다 금속박분공업사제제의 덴드라이트 구리 분말을 사용하여 이하의 조건에서 은 코팅 처리를 실시함으로써, 구리의 핵 90중량%, 은 코팅층 10중량%의 덴드라이트 은 코팅 구리 분말을 얻었다.The dendrites of Tables 2A and 2B were obtained by coating a silver coated copper powder with a dendritic copper powder of Fukuda Metal Powder Industry Co., Ltd. under the following conditions to obtain a copper core of 90 wt%, a silver coating layer of 10 wt% The dendrite gave a coated copper powder.
< 얼룩성 평가>≪ Evaluation of staininess &
각 실시 예 및 각 비교 예의 전자파 차폐 필름을 실시 예 1~13, 비교 예 1~4와 동일한 방법으로 얼룩 양을 측정했다. 평가 기준은 전술한 기준과 동일했다.The amount of smudges was measured in the same manner as in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4, using the electromagnetic wave shielding films of the respective Examples and Comparative Examples. The evaluation criteria were the same as the above-mentioned criteria.
<굴곡성><Flexibility>
폭 6mm, 길이 120mm의 실시 예 및 비교적 전자파 차폐 필름을 실시 예 1~13, 비교 예 1~4에서 설명한 굴곡성 평가와 같은 방법으로 평가했다. 평가 기준은 전술한 기준과 동일하게 했다. 이하와 같다.The width and the width of the film were measured in the same manner as in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4. The evaluation criteria were the same as the above-mentioned criteria. As follows.
<절연 신뢰성><Insulation reliability>
폭 100mm, 길이 100mm의 실시 예 14~22 및 비교 예 11~15의 전자파 차폐 필름을 준비해 150℃, 30분, 2.0MPa의 조건에서 가열 프레스 처리했다. 절연층으로, 미츠비시화학사제 Hiresta-UP(MCP-HT450)이라는 표면 저항 시험기의 TYPE URS를 사용하여, 인쇄전압이 100V의 조건 하에서 1분을 접촉시켰을 때의 1분 후의 절연 신뢰성을 평가했다. 평가 기준은 다음과 같다.The electromagnetic wave shielding films of Examples 14 to 22 and Comparative Examples 11 to 15 having a width of 100 mm and a length of 100 mm were prepared and subjected to a hot press treatment at 150 DEG C for 30 minutes under 2.0 MPa. The insulating reliability after 1 minute when a printed voltage was brought into contact with a test piece under the condition of a voltage of 100 V for 1 minute was evaluated using a TYPE URS of a surface resistance tester called Hiresta-UP (MCP-HT450) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation as an insulating layer. The evaluation criteria are as follows.
◎: 1×107Ω/□ 이상&Amp; cir &: 1 x 10 < 7 >
○: 1×107Ω/□ 미만, 1×104Ω/□ 이상 ○: 1 × 10 7 Ω / □ under, 1 × 10 4 Ω / □ or more
×: 1×104Ω/□ 미만×: less than 1 × 10 4 Ω / □
[표 2A] [Table 2A]
[표 2B][Table 2B]
표 2A, 표 2B의 결과로부터 덴드라이트 모양 도전성 미립자의 평균 입자 지름 D90을 도전층의 막 두께에 대해 0.5~3배의 범위 내로 정함으로써, 기존 형상의 도전성 미립자보다 가열 프레스 후의 횡방향으로의 도전층의 얼룩이 적은 것을 알 수 있다. 또 뛰어난 굴곡성을 나타내고 있는 동시에 높은 절연 신뢰성도 실현된 것으로 확인됐다.From the results shown in Tables 2A and 2B, the average particle diameter D 90 of the dendrite-shaped conductive fine particles was set within the range of 0.5 to 3 times the film thickness of the conductive layer, so that the conductive fine particles in the laterally- It can be seen that the conductive layer has less unevenness. In addition, it has been confirmed that it exhibits excellent flexibility and high insulation reliability.
이상의 실시 예를 포함한 실시형태에 관한 다음의 부기를 개시한다.The following appendices relating to the embodiment including the above embodiment will be disclosed.
(부기 1)(Annex 1)
적어도 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 포함한 도전층을 가진 도전성 시트에 있어서, 상기 도전성 시트를 150℃, 2Mpa, 30분간의 조건에서 가열 프레스 한 후의 두께가 가열 프레스 전의 두께를 100으로 했을 때에 30~95임을 특징으로 하는 도전성 시트.A conductive sheet having a conductive layer containing at least a thermosetting resin (A) and dendritic conductive fine particles (B), wherein the conductive sheet has a thickness after hot pressing under the conditions of 150 占 폚, 2 Mpa, 30 minutes, And the thickness is 30 to 95 when the thickness is 100.
(부기 2)(Annex 2)
적어도 절연층과 도전층을 가진 전자파 차폐 필름에 있어서, 상기 도전층이 적어도 열 경화성 수지(A)와 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 포함하고, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90이 도전층의 막 두께에 대해 0.5~3배의 범위에 있음을 특징으로 하는 전자파 차폐 필름(EN) An electromagnetic wave shielding film having at least an insulating layer and a conductive layer, wherein the conductive layer includes at least a thermosetting resin (A) and dendritic conductive fine particles (B) D 90 is in the range of 0.5 to 3 times the film thickness of the conductive layer.
(부기 3)(Annex 3)
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50이 3~50㎛임을 특징으로 하는 부기 2에 기재된 전자파 차폐 필름The electromagnetic wave shielding film according to
(부기 4)(Note 4)
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)가 구리를 포함하는 핵과 은 코팅층을 포함하고, 상기 은 코팅층이 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B) 100중량% 중 1~40중량%의 비율임을 특징으로 하는 부기 2 또는 3 기재의 전자파 차폐 필름Characterized in that the dendrite-shaped conductive fine particles (B) comprise a core and a silver coating layer containing copper and the silver coating layer is a proportion of 1 to 40% by weight of 100% by weight of the dendritic conductive fine particles (B) 3 electromagnetic wave shielding film
(부기 5)(Note 5)
도전층의 두께를 100으로 할 때, 절연층의 두께가 50~200임을 특징으로 하는 부기 2~4의 하나에 기재된 전자파 차폐 필름.The electromagnetic wave shielding film according to any one of
이 출원은 2011년 5월 31일에 출원된 일본 출원 특허 출원 2011-121188 및 2011년 10월 25일에 출원된 일본 출원 특허 출원 2011-233528을 기초로 하는 우선권을 주장했고 그 공개의 모든 것을 여기에 포함한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2011-121188 filed on May 31, 2011 and Japanese Patent Application No. 2011-233528 filed on October 25, 2011, and discloses all of the disclosure herein .
<산업상의 이용 가능성>≪ Industrial Availability >
본 발명에 관한 도전성 시트는 가열 과정 등의 프로세스에서 도전층 얼룩을 최소한으로 줄일 수 있어서, 프린트 배선 판과 플렉시블 프린트 판을 시작으로 하는 기판 등의 피착체 전반에 첩착시켜 이용하는 용도에 바람직하게 적용할 수 있다. 특히, 도전성 시트의 얼룩이 문제가 되는 전자 부품 용도로의 첩착에 특히 위력을 발휘한다. 본 발명에 관한 도전성 시트는 절연층, 지지층, 접착층 혹은 다른 기능을 가진 필름 등과 적층 해 이용할 수도 있다.
The conductive sheet according to the present invention can minimize the unevenness of the conductive layer in a process such as a heating process and can be suitably applied to applications such as printed wiring boards and flexible printed boards which are adhered to an adherend such as a substrate . Particularly, the electroconductive sheet is especially effective for adhesion to electronic parts in which unevenness of the conductive sheet is a problem. The conductive sheet according to the present invention may be laminated with an insulating layer, a support layer, an adhesive layer, a film having other functions, or the like.
1: 폴리이미드 필름
2: 동박 회로
3: 커버 필름
4: 관통구멍
5: 도전성 시트
6: 스테인리스
7: 절연층1: polyimide film
2: Copper circuit
3: Cover film
4: Through hole
5: Conductive sheet
6: Stainless steel
7: Insulation layer
Claims (14)
덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 적어도 포함하며, 또한 공극을 갖는 도전층을 구비하고,
상기 도전층의 두께는, 150℃, 2MPa, 30분간의 조건에서 피착체와 가열 프레스한 경우에, 가열 프레스 전의 해당 도전층의 두께를 100으로 했을 때에 30 이상, 95 이하의 범위이고,
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D50이 3㎛ 이상, 50㎛ 이하이며, 또한 상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)를 상기 도전층 중에 50중량% 이상, 90중량% 이하의 범위로 함유하는 가열 프레스 첩착(貼着)용의 도전성 시트.The thermosetting resin (A)
And at least a dendritic conductive fine particle (B), further comprising a conductive layer having a void,
The thickness of the conductive layer is in the range of 30 to 95 when the thickness of the conductive layer before heat pressing is 100 when the adherend is hot pressed under the conditions of 150 占 폚 and 2 MPa for 30 minutes,
Wherein the average particle size D 50 of the dendritic conductive fine particles (B) is 3 탆 or more and 50 탆 or less and the dendritic conductive fine particles (B) are contained in the conductive layer in an amount of 50% by weight or more and 90% In a range of from 10% to 30% by weight.
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 평균 입자 지름 D90은 상기 평균입자 지름 D50의 1.5배이상, 5배이하인 도전성 시트.The method according to claim 1,
Wherein the average particle diameter D 90 of the dendritic conductive fine particles (B) is 1.5 times or more and 5 times or less the average particle diameter D 50 .
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 탭 밀도가 0.8g/㎤ 이상, 2.5g/㎤ 이하인 것을 특징으로 하는 도전성 시트. The method according to claim 1,
Wherein the dendritic conductive fine particles (B) have a tap density of 0.8 g / cm 3 or more and 2.5 g / cm 3 or less.
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)의 겉보기 밀도가 0.4g/㎤ 이상, 1.5g/㎤ 이하인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.The method according to claim 1,
Wherein the dendritic conductive fine particles (B) have an apparent density of 0.4 g / cm 3 or more and 1.5 g / cm 3 or less.
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는, 겉보기 밀도 AD와 탭 밀도 TD의 비율이 AD/TD=0.3~0.9인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.The method according to claim 1,
Wherein the dendritic conductive fine particles (B) have a ratio of an apparent density AD to a tap density TD of AD / TD = 0.3 to 0.9.
상기 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B)는, 핵이 구리이고, 그 표면에 은 코팅층을 가지고,
상기 은 코팅층이, 덴드라이트 모양 도전성 미립자(B) 100중량% 중 1중량% 이상, 40중량% 이하의 비율인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.The method according to claim 1,
The dendrite-shaped conductive fine particles (B) have a core of copper, a silver coating layer on the surface thereof,
Wherein the silver coating layer has a ratio of 1 wt% or more to 40 wt% or less of 100 wt% of the dendritic conductive fine particles (B).
상기 도전층 위에, 절연층이 적층되어 있는 도전성 시트.The method according to claim 1,
And an insulating layer is laminated on the conductive layer.
상기 도전층의 두께를 100으로 할 때에 상기 절연층의 두께가 50~200인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.8. The method of claim 7,
And the thickness of the insulating layer is 50 to 200 when the thickness of the conductive layer is 100. The conductive sheet according to claim 1,
상기 도전층의 가열 프레스 전의 두께는, JISB7503에 따라 측정한 경우, 5㎛~100㎛인 도전성 시트.The method according to claim 1,
The thickness of the conductive layer before heat pressing is 5 占 퐉 to 100 占 퐉 when measured according to JIS B7503.
두께 50㎛의 폴리이미드 필름 위에 상기 도전층을 라미네이트에 의해 적층하고, 얻어진 적층체에 드릴기로 직경 5mm의 구멍을 관통시키고, 별도로 두께 50㎛의 폴리이미드 필름을 준비하여, 상기 도전층을 2장의 상기 폴리이미드 필름 사이에 끼우도록 배치하여, 150℃, 30분간, 2MPa의 조건에서 가열 프레스 한 경우에, 상기 도전층의 얼룩의 양이 0.5mm 미만인 도전성 시트.The method according to claim 1,
The conductive layer was laminated on a polyimide film having a thickness of 50 占 퐉 by using a laminate. A hole having a diameter of 5 mm was passed through a drill machine to prepare a polyimide film having a thickness of 50 占 퐉. Wherein the amount of unevenness of the conductive layer is less than 0.5 mm in a case where the conductive layer is sandwiched between the polyimide films and hot-pressed at 150 DEG C for 30 minutes under 2 MPa.
상기 피착체가 프린트 배선기판이며, 상기 도전성 시트가 전자파 차폐 필름으로서 이용되는 전자 부품. 13. The method of claim 12,
Wherein the adherend is a printed wiring board, and the conductive sheet is used as an electromagnetic wave shielding film.
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