Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR101825608B1 - Liquid crystal display device and method for fabrciating the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for fabrciating the same Download PDF

Info

Publication number
KR101825608B1
KR101825608B1 KR1020110095475A KR20110095475A KR101825608B1 KR 101825608 B1 KR101825608 B1 KR 101825608B1 KR 1020110095475 A KR1020110095475 A KR 1020110095475A KR 20110095475 A KR20110095475 A KR 20110095475A KR 101825608 B1 KR101825608 B1 KR 101825608B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
dummy column
exposure
crystal panel
Prior art date
Application number
KR1020110095475A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130031738A (en
Inventor
박정환
조석호
이성근
김태하
김세환
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110095475A priority Critical patent/KR101825608B1/en
Publication of KR20130031738A publication Critical patent/KR20130031738A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101825608B1 publication Critical patent/KR101825608B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0102—Constructional details, not otherwise provided for in this subclass
    • G02F1/0107—Gaskets, spacers or sealing of cells; Filling and closing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133377—Cells with plural compartments or having plurality of liquid crystal microcells partitioned by walls, e.g. one microcell per pixel

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 비대응되는 제1 노광패턴과 제2 노광패턴을 구비한 노광마스크를 이용한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 개시된 발명은 표시부와 주변부로 구성된 다수의 액정패널 영역이 정의된 제 1 기판과 제2 기판을 준비하는 단계; 상기 제1 기판상에 감광막을 형성하는 단계; 상기 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 1차 노광하는 단계; 상기 액정패널 영역과 인접한 다른 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 2차 노광하는 단계; 상기 1차 및 2차 노광된 감광막을 현상하여, 상기 액정패널 영역들의 좌, 우측 주변부에 서로 비대응하는 다수의 제1 및 2 더미 컬럼스페이서를 형성하는 단계; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 씨일재를 형성하는 단계;를 포함하여 구성된다. The present invention relates to a liquid crystal display device using an exposure mask having a first exposure pattern and a second exposure pattern which are not corresponding to each other and a method of manufacturing the same, Preparing a first substrate and a second substrate; Forming a photoresist film on the first substrate; Exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of the liquid crystal panel region; Secondarily exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of another liquid crystal panel region adjacent to the liquid crystal panel region; Forming a plurality of first and second dummy column spacers on the left and right peripheral portions of the liquid crystal panel regions, the first and second dummy column spacers not corresponding to each other, by developing the first and second exposed photoresist layers; Forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate; And forming a sealant on an outer portion of the dummy column spacer between the first substrate and the second substrate.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRCIATING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a liquid crystal display (LCD)

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시영역의 좌, 우측 주변부에 서로 대응하지 않는 지그재그형 노광패턴들이 구비된 노광 마스크를 적용한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device employing an exposure mask having zigzag-like exposure patterns that do not correspond to left and right peripheral portions of a display area, and a method of manufacturing the same.

최근 들어, 다량의 데이터를 단시간 내에 처리하는 것이 가능한 정보처리장치의 기술 개발과 함께 정보처리장치에서 처리된 결과 데이터를 영상으로 표시하는 표시장치의 기술 개발이 급속히 진행되고 있다.Description of the Related Art [0004] In recent years, technology development of an information processing apparatus capable of processing a large amount of data in a short time and development of a display device for displaying result data processed by an information processing apparatus as an image is rapidly proceeding.

표시장치 중 액정표시장치는 구동 수단의 용이성, 고화질의 구현이 가능하며, 휴대성이 양호하고 부가 가치가 높은 차세대 디스플레이로서 각광받고 있다.Among the display devices, the liquid crystal display device has been attracting attention as a next generation display capable of realizing the ease of driving means, high image quality, good portability and high added value.

액정표시장치는 액정패널, 구동회로부 및 백라이트를 포함하는데, 상기 액정패널은 컬러필터가 형성된 제1 기판, 박막트랜지스터가 형성된 제2 기판 및, 상기 제1 및 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다.The liquid crystal display includes a liquid crystal panel, a driving circuit, and a backlight. The liquid crystal panel includes a first substrate on which a color filter is formed, a second substrate on which a thin film transistor is formed, and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates. do.

상기 구동회로부는 상기 액정패널을 구동시키기 위한 드라이브 및 각종 회로소자를 포함한다. 또한, 상기 백라이트는 상기 액정패널의 배면에 배치되어 상기 액정패널로 광을 제공한다.The driving circuit includes a drive for driving the liquid crystal panel and various circuit elements. The backlight is disposed on the back surface of the liquid crystal panel to provide light to the liquid crystal panel.

상기 액정패널은 화면에 영상을 표시하는 직접적인 구성요소가 되는데, 상기 액정패널은 고속 응답속도, 고 콘트라스트비 및 넓은 시야각 등이 요구되어지고 있다. 특히, 액정패널의 콘트라스트비는 액정층의 셀갭과 밀접한 관계가 있다. 예를 들어, 상기 액정층의 셀갭이 일정하게 유지될수록 높은 콘트라스트비를 얻을 수 있다. The liquid crystal panel is a direct component for displaying an image on a screen. The liquid crystal panel is required to have a high response speed, a high contrast ratio, and a wide viewing angle. In particular, the contrast ratio of the liquid crystal panel is closely related to the cell gap of the liquid crystal layer. For example, as the cell gap of the liquid crystal layer is kept constant, a higher contrast ratio can be obtained.

이와 같이, 높은 콘트라스트비를 얻기 위해, 상기 액정패널의 내부에 컬럼 스페이서를 배치하여 상기 제1 및 2 기판 간의 셀갭을 일정하게 유지한다. In this way, in order to obtain a high contrast ratio, a column spacer is disposed inside the liquid crystal panel to maintain a constant cell gap between the first and second substrates.

또한, 제1 및 제2 기판의 합착시에 이들 제1 및 2 기판의 외곽부를 밀봉하는 씨일재 (sealant)의 갭 발생 문제를 해결하기 위해, 상기 제1 및 2 기판의 표시영역의 외곽부에 더미 컬럼스페이서 패턴을 형성해 주게 된다.Further, in order to solve the problem of gap generation of the sealant sealing the outer frame of the first and second substrates when the first and second substrates are attached together, it is preferable that the outer periphery of the display region of the first and second substrates Thereby forming a dummy column spacer pattern.

이러한 더미 컬럼스페이서 패턴을 형성하는 종래기술에 따른 액정표시장치 제조방법에 대해 도 1 내지 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a liquid crystal display device according to a conventional technique for forming such a dummy column spacer pattern will now be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG.

도면에 도시하지 않았지만, 종래기술에 따른 액정표시장치는, 영상을 표시하는 표시부(D)와 상기 표시부(D)의 주변을 따라 배치된 주변부(ND)를 포함하는 제1 기판(미도시, 도 3a의 부호 21 참조)과; 상기 제1 기판(21)과 합착되는 제2 기판(미도시)과; 상기 표시부(D)와 대응된 제1 기판(21) 및 제2 기판(미도시) 사이에 개재된 액정층(미도시)을 포함하여 구성된다.Although not shown in the drawings, a liquid crystal display device according to the related art includes a first substrate (not shown) including a display portion D for displaying an image and a peripheral portion ND disposed along the periphery of the display portion D Reference numeral 21 of 3a); A second substrate (not shown) attached to the first substrate 21; And a liquid crystal layer (not shown) interposed between the first substrate 21 and the second substrate (not shown) corresponding to the display portion D, as shown in FIG.

또한, 상기 제1 기판(21)과 제2 기판(미도시)의 주변부(ND)의 외곽을 따라 씨일재(미도시)가 배치되어 제1 기판(21)과 제2 기판(미도시)이 서로 합착된다.A first substrate 21 and a second substrate (not shown) are disposed on the outer periphery of the first substrate 21 and a peripheral portion ND of the second substrate (not shown) Respectively.

그리고, 상기 제1 기판(21)과 제2 기판(미도시)의 주변부(ND)에는 상기 씨일재(미도시)로 인한 갭(gap)을 유지하기 위해 다수의 더미 컬럼스페이서(미도시, 도 4c의 31a 참조)가 형성된다.A plurality of dummy column spacers (not shown) are formed on the peripheral portion ND of the first substrate 21 and the second substrate (not shown) to maintain a gap due to the sealant (not shown) 4a and 31a) are formed.

이러한 다수의 더미 컬럼스페이서(미도시, 도 4c의 31a 참조)들을 형성하는 방법에 대해 도 1 내지 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A method of forming a plurality of such dummy column spacers (see 31a in FIG. 4C) will be described with reference to FIGS. 1 to 4 as follows.

도 1은 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 더미 컬럼스페이서패턴을 형성하기 위해 사용되는 노광마스크를 개략적으로 나타낸 평면도이다.FIG. 1 is a plan view schematically showing an exposure mask used for forming a dummy column spacer pattern in a conventional method of manufacturing a liquid crystal display device.

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 단면도로서, 표시부의 좌, 우측 주변부에 다수의 노광 패턴들이 대칭되게 형성된 노광마스크의 개략적인 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line II-II in FIG. 1, and is a schematic cross-sectional view of an exposure mask in which a plurality of exposure patterns are symmetrically formed on left and right peripheral portions of a display portion.

도 3a 내지 3c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 평면도들로서, 다수의 더미 컬럼스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미컬럼스페이서를 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.3A to 3C are plan views for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art. In the drawings, a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are schematically shown in plan views.

도 4a 내지 4c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 단면도들로서, 다수의 더미 컬럼 스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미 컬럼 스페이서들을 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다. FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art, wherein a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are plan views schematically showing the processes.

종래기술에 따른 액정표시장치 제조용 대면적의 유리기판(미도시, 도 3a의 부호 21 참조)에 다수의 액정패널 영역을 정의해 준 다음, 상기 대면적의 유리기판 (21)의 표시부(D) 상에 블랙매트릭스와 다양한 색상의 칼라필터층을 형성한 다음, 이 칼라필터층을 포함한 기판 전면에 공통전극(미도시)을 형성한다.A large number of liquid crystal panel regions are defined on a large-area glass substrate (see reference numeral 21 in FIG. 3A) for manufacturing a liquid crystal display according to the related art, and then the display portion D of the large- And a common electrode (not shown) is formed on the entire surface of the substrate including the color filter layer.

그 다음, 대면적의 유리기판(21)의 주변부(ND) 상에 씨일재(미도시)로 인한 갭(gap)을 유지하기 위해 다수의 더미 컬럼스페이서(미도시, 도 4c의 31a 참조)를 형성하게 된다.A plurality of dummy column spacers (not shown, see 31a in FIG. 4c) are then formed on the peripheral portion ND of the large-area glass substrate 21 to maintain a gap due to the sealant (not shown) Respectively.

이때, 대면적의 유리기판(21)상에 상기 다수의 컬럼 스페이서(미도시, 도 4c의 31a 참조)를 형성하기 위해서는 도 1에 도시된 노광마스크(10)가 이용된다.At this time, the exposure mask 10 shown in Fig. 1 is used to form the plurality of column spacers (not shown in Fig. 4C, 31a) on the glass substrate 21 having a large area.

도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 종래기술에 따른 노광마스크(10)의 좌, 우측 주변부(ND)에는 다수의 더미 컬러스페이서패턴 형성용 노광패턴(10a)들이 형성되어 있으며, 중앙부에는 액정패널의 표시부(D)에 대응하는 표시영역(10b)이 정의되어 있다. 이때, 상기 노광마스크(10)의 노광패턴(10a)으로는 광이 투과되지만, 상기 표시영역(10b)로는 광이 투과되지 않는다.As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of dummy color spacer pattern forming exposure patterns 10a are formed on the left and right peripheral portions ND of the exposure mask 10 according to the related art, A display region 10b corresponding to the display portion D of the display portion 10 is defined. At this time, light is transmitted through the exposure pattern 10a of the exposure mask 10, but light is not transmitted through the display area 10b.

또한, 상기 노광마스크(10)의 좌측 주변부(ND)에 형성된 노광패턴(10a)들과 상기 우측 주변부(ND)에 형성된 노광패턴(10a)들은 상기 표시부(N)의 중앙부를 중심으로 서로 대칭되게 형성되어 있다. 즉, 상기 노광마스크(10)를 제1 액정패널 영역(P1) 상에서 이동시켜 인접한 제2 액정패널 영역(P2) 상에 위치시켜 노광시키는 경우에, 이들 제1 액정패널 영역(P1)과 제2 액정패널 영역(P2)의 중첩부(OND)에는 동일한 위치에 노광패턴들(100a)이 위치하게 되어, 이중 노광이 이루어지게 된다.The exposure patterns 10a formed on the left peripheral portion ND of the exposure mask 10 and the exposure patterns 10a formed on the right peripheral portion ND are symmetrical with respect to the central portion of the display portion N Respectively. That is, when the exposure mask 10 is moved on the first liquid crystal panel area P1 and positioned on the adjacent second liquid crystal panel area P2 to expose the first liquid crystal panel area P1, The exposure patterns 100a are located at the same position in the overlapped portion OND of the liquid crystal panel area P2 so that double exposure is performed.

그리고, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 노광마스크(10)의 상, 하측 주변부(미도시)에도 상기 노광패턴 (10a)들이 형성되어 있다. Although not shown in the drawings, the exposure patterns 10a are also formed on the upper and lower peripheral portions (not shown) of the exposure mask 10.

이와 같이 구성된 노광마스크(10)를 이용하여 다수의 액정패널 영역(P1, P2)이 정의된 대면적의 유리기판(21) 상에 다수의 더미 컬럼스페이서를 형성하기 위해 노광공정을 진행하게 되는데, 이에 대해 도 3 및 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.The exposure process is performed to form a plurality of dummy column spacers on the large-area glass substrate 21 having a large number of liquid crystal panel regions P1 and P2 defined using the exposure mask 10 having the above- This will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG.

도 3a 내지 3c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 평면도들로서, 다수의 더미 컬럼스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미컬럼스페이서를 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.3A to 3C are plan views for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art. In the drawings, a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are schematically shown in plan views.

도 4a 내지 4c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 단면도들로서, 다수의 더미 컬럼 스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미 컬럼 스페이서들을 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다. FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art, wherein a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are plan views schematically showing the processes.

도 3a에 도시된 바와 같이, 다수의 액정패널 영역(P1, P2)의 표시부(D1, D2)가 정의된 대면적의 유리기판, 즉 제1 기판(21)을 준비한다. 3A, a large-sized glass substrate, that is, a first substrate 21, in which the display portions D1 and D2 of a plurality of liquid crystal panel regions P1 and P2 are defined, is prepared.

이때, 상기 제1 기판(21)에 정의된 다수의 액정패널(P1, P2)의 표시부(D1, D2)에 블랙매트릭스층과 칼라필터층 및 공통전극을 형성하는 공정에 대해 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a process of forming the black matrix layer, the color filter layer, and the common electrode on the display portions D1 and D2 of the plurality of liquid crystal panels P1 and P2 defined on the first substrate 21 will be described.

도 4a에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(21) 상에 비 표시 지역으로 광이 투과되는 것을 차단하기 위한 블랙매트릭스층(23)을 형성한다.As shown in FIG. 4A, a black matrix layer 23 is formed on the first substrate 21 to block light from being transmitted to a non-display area.

그 다음, 상기 블랙매트리스층(23) 사이의 공간에 다양한 색상, 즉 적색 (Red), 녹색(green) 및 청색(blue) 칼라필터층(25)을 차례로 형성한다. Red, green, and blue color filter layers 25 are then sequentially formed in the space between the black mattress layers 23.

이어서, 상기 칼라필터층(25)을 포함한 기판 전면에 공통전극(27)을 형성한다.Next, a common electrode 27 is formed on the entire surface of the substrate including the color filter layer 25.

이어서, 상기 대면적의 제1 기판(21) 상에 마련된 제1 액정패널 영역(P1)의 제1 표시부(D1)에 블랙매트릭스층(23), 적색(Red), 녹색(green), 청색(blue) 칼라필터층(25) 및 공통전극(27)을 형성한 이후에, 상기 기판 전면에 네거티브 (negative) 형 포토레지스트(photoresist)를 도포하여 감광막(29)을 형성한다.Next, a black matrix layer 23, red, green, and blue (hereinafter, referred to as " blue ") layers are formed on the first display portion D1 of the first liquid crystal panel region P1 provided on the large- blue color filter layer 25 and the common electrode 27 are formed on the entire surface of the substrate to form a photoresist 29 by applying a negative photoresist to the entire surface of the substrate.

그 다음, 도 3b 및 4a에 도시된 바와 같이, 노광마스크(10)를 이용한 1차 노광 공정을 통해, 상기 감광막(29)에 광을 투과시켜 1차 노광시킨다. 이때, 상기 노광마스크(10)에 형성된 다수의 노광패턴(10a)을 통해 광이 투과되어져 이 다수의 노광패턴(10a)과 대응하는 상기 감광막(29)의 노광부(29a)들이 노광되고, 상기 표시영역(10b)에 대응하는 감광막(29)의 광차단부(29b)를 통해서는 광이 차단된다.Then, as shown in FIGS. 3B and 4A, light is transmitted through the photoresist film 29 through a primary exposure process using the exposure mask 10, and primary exposure is performed. At this time, light is transmitted through a plurality of exposure patterns 10a formed on the exposure mask 10 to expose the exposed portions 29a of the photoresist 29 corresponding to the plurality of exposure patterns 10a, The light is blocked through the light shielding portion 29b of the photoresist film 29 corresponding to the display region 10b.

이어서, 도 3c 및 4b에 도시된 바와 같이, 2차 노광 공정을 진행하기 위해, 상기 노광마스크(10)를 상기 제1 액정패널 영역(P1)과 인접한 제2 액정패널 영역 (P2)의 제2 표시부(D2) 쪽으로 이동시킨다.Next, as shown in Figs. 3C and 4B, in order to proceed with the secondary exposure process, the exposure mask 10 is exposed to the second liquid crystal panel area P2, which is adjacent to the first liquid crystal panel area P1, And moves toward the display portion D2.

그 다음, 상기 노광마스크(10)를 이용한 2차 노광 공정을 통해, 상기 감광막 (29)에 광을 투과시켜 2차 노광시킨다. 이때, 상기 노광마스크(10)에 에 형성된 다수의 노광패턴(10a)을 통해 광이 투과되어져 이 다수의 노광패턴(10a)과 대응하는 상기 감광막(29)의 노광부(29a)들이 노광되고, 상기 표시영역(10b)와 대응하는 광차단부(29b)를 통해서는 광이 차단된다. 이때, 상기 2차 노광시에, 상기 1차 노광된 감광막(29)의 상기 노광부(29a)들이 2중으로 노광된다. 그러나, 이때 상기 2중으로 노광되는 감광막(29)의 노광부(29b) 부분은 1차 노광시에 노광되는 감광막 부분과 일치하지 않고 약간 벗어나는 경우(29c)가 발생하게 된다.Then, light is transmitted through the photoresist film 29 through a secondary exposure process using the exposure mask 10 to secondary exposure. At this time, light is transmitted through a plurality of exposure patterns 10a formed on the exposure mask 10 to expose the exposed portions 29a of the photosensitive film 29 corresponding to the plurality of exposure patterns 10a, The light is blocked through the light blocking portion 29b corresponding to the display region 10b. At this time, at the time of the secondary exposure, the exposed portions 29a of the primary exposed photoresist 29 are exposed twice. However, at this time, the portion of the exposed portion 29b of the double-exposed photoresist 29 does not coincide with the portion of the photoresist exposed at the time of the first-time exposure, and the portion 29c is slightly deviated.

이어서, 도 4c에 도시된 바와 같이, 상기 1차 및 2차 노광 공정 이후에 현상 공정을 통해 상기 감광막(29)을 선택적으로 제거하여, 상기 제1 기판(21)의 제1 액정패널 영역(P1)의 제1 표시부(D1)의 좌, 우측 주변부(ND)와 제2 액정패널 영역 (P2)의 제2 표시부(D2)의 좌, 우측 주변부(ND)에 다수개의 더미 컬럼스페이서(31a)를 형성한다. 이때, 상기 제1 표시부(D1)와 제2 표시부(D2) 사이의 중첩부(OND)에는 이중 노광이 이루어지게 된다. 4C, the photoresist layer 29 is selectively removed through a developing process after the primary and secondary exposures to form the first liquid crystal panel area P1 (P1) of the first substrate 21, A plurality of dummy column spacers 31a are formed on the left and right peripheral portions ND of the first display portion D1 of the first liquid crystal panel region P2 and the left and right peripheral portions ND of the second display portion D2 of the second liquid crystal panel region P2 . At this time, double exposure is performed on the overlapped portion (OND) between the first display portion D1 and the second display portion D2.

그러나, 감광막의 1차 노광된 부위에 2차 노광이 정확하게 이루어지지 않게 되는 경우, 1차 노광된 부위 이외의 부위가 노광됨으로 인해 이 부분도 현상 공정시에 제거되지 않고 남아 있게 됨으로써, 높이가 서로 다른 더미 컬럼스페이서 (31a)들이 형성되게 된다.However, when the secondary exposure is not precisely performed on the primary exposed area of the photoresist film, since the area other than the primary exposed area is exposed, this part is not removed in the developing process, And other dummy column spacers 31a are formed.

이와 같이, 액정패널들 사이의 유효 공간의 제약으로 인해, 이중 노광 영역인 중첩부(OND)에 더미 컬럼스페이서들의 배치가 비대칭이 되면, 제1 및 2 기판을 합착시키는 씨일재로 인한 갭 불량을 발생시키게 된다.If the arrangement of the dummy column spacers is asymmetric in the overlapped portion OND, which is the double exposure region, due to the restriction of the effective space between the liquid crystal panels, the gap defect due to the sealant for attaching the first and second substrates .

또한, 액정패널 내의 좌우 셀 갭 편차에 의해 표시부의 셀 갭 산포 및 백라이트 휘도 산포에 의한 화이트 색좌표 불량으로 인한 엷은 색조(Yellow tinge) 불량을 발생시키게 된다.Further, due to the deviation of the cell gap between the left and right sides of the liquid crystal panel, the cell gap dispersion of the display portion and the poor tint of yellow ting due to defective white color coordinates due to backlight luminance scattering are caused.

이에 본 발명은 상기 종래기술의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 표시영역의 좌, 우측 주변부 각각에 서로 대응되지 않는 제1 노광패턴들과 제2 노광패턴들을 구비한 노광마스크를 이용하여, 대면적의 유리기판의 복수의 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부와 중첩부에 서로 대응되지 않는 다수의 제1 및 2 더미 컬럼스페이서를 형성하여 대칭 구조를 이루도록 함으로써, 유리기판의 최외곽 열의 씨일재 갭 불량을 개선시킬 수 있고, 액정패널 내의 좌우 셀의 갭 편차에 의한 엷은 색조(yellow tinge) 불량을 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a lithographic apparatus and a lithographic apparatus using the same, A plurality of first and second dummy column spacers that do not correspond to the left and right peripheral portions of the plurality of liquid crystal panel regions of the large area glass substrate and the overlapped portions are formed to have a symmetrical structure, A liquid crystal display device capable of improving defective gap between adjacent cells in a liquid crystal panel and reducing a defective yellow tinge due to a gap deviation of left and right cells in a liquid crystal panel, and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 제1 기판과 제2 기판; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 표시부의 좌, 우측 주변부에 서로 비대응되게 형성된 다수의 더미 컬럼스페이서; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 형성된 씨일재: 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including a first substrate and a second substrate; A plurality of dummy column spacers formed on the left and right peripheral portions of the display portion between the first substrate and the second substrate so as not to correspond to each other; And a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, wherein the sealant is formed on an outer portion of the dummy column spacer between the first substrate and the second substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치 제조방법은, 표시부와 주변부로 구성된 다수의 액정패널지역이 정의된 제 1 기판과 제2 기판을 준비하는 단계; 상기 제1 기판상에 감광막을 형성하는 단계; 상기 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 1차 노광하는 단계; 상기 액정패널 영역과 인접한 다른 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 2차 노광하는 단계; 상기 노광된 감광막을 현상하여, 상기 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 서로 비대응하는 다수의 더미 컬럼스페이서를 형성하는 단계; 상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 상기 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 씨일재를 형성하는 단계; 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: preparing a first substrate and a second substrate on which a plurality of liquid crystal panel regions defined by a display portion and a peripheral portion are defined; Forming a photoresist film on the first substrate; Exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of the liquid crystal panel region; Secondarily exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of another liquid crystal panel region adjacent to the liquid crystal panel region; Developing the exposed photoresist to form a plurality of dummy column spacers that do not correspond to left and right peripheral portions of the liquid crystal panel region; Forming a sealant on an outer portion of the dummy column spacer between the first substrate and the second substrate; And forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate.

본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display device and the method of manufacturing the same according to the present invention have the following effects.

본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 따르면, 표시영역의 좌, 우측 주변부 각각에 서로 대응되지 않는 제1 노광패턴들과 제2 노광패턴들을 구비한 노광마스크를 이용하여, 대면적의 유리기판의 복수의 액정패널지역의 좌, 우측 주변부와 중첩부에 서로 대응되지 않는 다수의 더미 컬럼스페이서를 형성하여 대칭 구조를 이루도록 함으로써, 유리기판의 최외곽 열의 씨일재 갭 불량을 개선시킬 수 있고, 액정패널 내의 좌우 셀의 갭 편차에 의한 엷은 색조 (yellow tinge) 불량을 감소시킬 수 있다. According to the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention, by using the exposure mask having the first exposure patterns and the second exposure patterns which do not correspond to the left and right peripheral portions of the display area, A plurality of dummy column spacers that do not correspond to the left and right peripheral portions of the plurality of liquid crystal panel regions of the substrate are formed so as to have a symmetrical structure to improve the defect of the sealant gap of the outermost row of the glass substrate, It is possible to reduce the defective yellow tinge due to the gap deviation of the left and right cells in the liquid crystal panel.

도 1은 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 더미 컬럼스페이서패턴을 형성하기 위해 사용되는 노광마스크를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 단면도로서, 표시부의 좌, 우측 주변부에 다수의 노광 패턴들이 대칭되게 형성된 노광마스크의 개략적인 단면도이다.
도 3a 내지 3c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 평면도들로서, 다수의 더미 컬럼스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미컬럼스페이서를 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.
도 4a 내지 4c는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 단면도들로서, 다수의 더미 컬럼 스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미 컬럼 스페이서들을 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.
도 5는 본 발명에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도로서, 표시부의 좌, 우측 주변부에 서로 대응되지 않은 지그 재그 형태의 더미 컬럼스페이서들이 구비된 액정표시장치의 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서, 더미 컬럼스페이서를 형성하기 위해 사용되는 노광마스크를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선에 따른 단면도로서, 좌우측 주변부 각각에 다수의 노광패턴들이 비 대응되게 형성된 노광마스크의 개략적인 단면도이다.
도 8a 내지 8c는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 평면도들로서, 다수의 더미 컬럼스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미 컬럼스페이서를 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.
도 9a 내지 9d는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 단면도들로서, 다수의 더미 컬럼 스페이서 형성용 노광패턴이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 다수의 더미 컬럼 스페이서를 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 단면도들이다.FIG. 1 is a plan view schematically showing an exposure mask used for forming a dummy column spacer pattern in a conventional method of manufacturing a liquid crystal display device.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line II-II in FIG. 1, and is a schematic cross-sectional view of an exposure mask in which a plurality of exposure patterns are symmetrically formed on left and right peripheral portions of a display portion.
3A to 3C are plan views for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art. In the drawings, a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are schematically shown in plan views.
FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to a related art, wherein a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are plan views schematically showing the processes.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the present invention, and is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device having dummy column spacers in a zigzag shape not corresponding to left and right peripheral portions of a display portion.
6 is a plan view schematically showing an exposure mask used for forming a dummy column spacer in a liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. 6, and is a schematic cross-sectional view of an exposure mask in which a plurality of exposure patterns are non-correspondingly formed on left and right peripheral portions, respectively.
8A to 8C are plan views for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention and show a process of forming a plurality of dummy column spacers on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming a plurality of dummy column spacers Are schematically shown in plan views.
9A to 9D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. Referring to FIGS. 9A to 9D, a plurality of dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having an exposure pattern for forming a plurality of dummy column spacers Sectional views schematically illustrating the steps.

이하, 본 발명에 따른 액정표시장치에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a liquid crystal display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도로서, 표시부의 좌, 우측 주변부에 서로 대응되지 않은 지그 재그 형태의 더미 컬럼스페이서들이 구비된 액정표시장치의 개략적인 단면도이다. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the present invention, and is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device having dummy column spacers in a zigzag shape not corresponding to left and right peripheral portions of a display portion.

본 발명에 따른 액정표시장치는, 도 5에 도시된 바와 같이, 영상을 표시하는 표시부(D)와 상기 표시부(D)의 주변을 따라 배치된 주변부(ND)를 포함하는 제1 기판(101)과; 상기 제1 기판(101)과 합착되는 제2 기판(141)과; 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이의 표시부(D)를 중심으로 좌측 주변부(ND)에 형성된 제1 더미 컬럼스페이서들(129a)과; 상기 표시부(D)를 중심으로 우측 주변부(ND)에 형성되고, 상기 제1 더미 컬럼스페이서들(129a)과 비대칭적인 제2 더미 컬럼스페이서들 (129b)과; 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이에 형성된 액정층(151) 및; 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이의 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서(129a, 129b)의 외곽부에 형성된 씨일재(161)를 포함하여 구성된다.5, a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate 101 including a display portion D for displaying an image and a peripheral portion ND disposed along the periphery of the display portion D, and; A second substrate 141 bonded to the first substrate 101; First dummy column spacers 129a formed on the left peripheral portion ND around the display portion D between the first substrate 101 and the second substrate 141; Second dummy column spacers 129b formed on the right peripheral portion ND around the display portion D and asymmetrical with the first dummy column spacers 129a; A liquid crystal layer 151 formed between the first substrate 101 and the second substrate 141; And a seed material 161 formed on the outer portions of the first and second dummy column spacers 129a and 129b between the first substrate 101 and the second substrate 141. [

여기서, 상기 제1 기판(101) 상에는 적색, 녹색 및 청색 칼라필터층(105)과 이들 칼라필터층(105) 사이에 배치되어 광의 투과를 차단하기 위한 블랙매트릭스(103)가 적층된다. Here, on the first substrate 101, red, green, and blue color filter layers 105 and a black matrix 103 disposed between the color filter layers 105 for blocking transmission of light are stacked.

또한, 상기 블랙매트릭스(103) 및 칼라필터층(105)을 포함한 기판 전면에 공통전극(107)이 형성된다. 이때, 상기 공통전극(107)은 제1 기판(101)에 형성되는 경우로 한정되지 않으며, 구동 방식, 예를 들어 IPS(In-Plane Switching) 또는 FFS(Fringe Field Switching) 방식의 경우에는 하부기판, 즉 제2 기판(141)에 형성될 수도 있다. 본 발명에서는 상기 제1 기판(101) 상에 공통전극(107)이 형성되는 경우에 대해 설명하기로 한다.A common electrode 107 is formed on the entire surface of the substrate including the black matrix 103 and the color filter layer 105. In this case, the common electrode 107 is not limited to the case where the common electrode 107 is formed on the first substrate 101. For example, in the case of a driving method such as IPS (In-Plane Switching) or FFS (Fringe Field Switching) That is, on the second substrate 141. In the present invention, the case where the common electrode 107 is formed on the first substrate 101 will be described.

상기 칼라필터층(105)과 공통전극(107) 사이에는 오버코트층(미도시)이 추가로 형성될 수 있고, 또한 상기 공통전극(107) 상부에 형성되는 컬럼스페이서(미도시)를 포함한 제1 기판(101)과 제2 기판(141)상에는 배향막(미도시)이 형성된다.An overcoat layer (not shown) may be additionally formed between the color filter layer 105 and the common electrode 107, and a column spacer (not shown) may be formed on the common electrode 107. [ (Not shown) is formed on the first substrate 101 and the second substrate 141.

한편, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제2 기판(141) 상에는 일면에 일 방향으로 형성된 게이트 배선과; 상기 게이트 배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 데이터배선과; 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차 지점에 형성된 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터 상부에 위치하고, 상기 박막트랜지스터를 노출시키는 패시베이션막과; 상기 노출된 박막트랜지스터와 직접 접속하는 화소전극이 형성된다.On the other hand, although not shown in the drawing, a gate wiring formed on one surface of the second substrate 141 in one direction; A data line crossing the gate line and defining a pixel region; A thin film transistor formed at a point of intersection of the gate line and the data line; A passivation film disposed on the thin film transistor and exposing the thin film transistor; A pixel electrode directly connected to the exposed thin film transistor is formed.

여기서, 상기 박막트랜지스터는, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 게이트배선으로부터 연장된 게이트전극과, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스전극 및 드레인전극 및 패시베이션막으로 이루어진다.The thin film transistor includes a gate electrode extending from the gate wiring, a gate insulating film, a semiconductor layer, an ohmic contact layer, a source electrode and a drain electrode, and a passivation film, though not shown in the figure.

또한, 상기 화소전극(미도시)은 상기 게이트 배선과 데이터배선이 교차하여 이루는 화소영역 전면에 형성된다.The pixel electrode (not shown) is formed on the entire surface of the pixel region formed by intersecting the gate line and the data line.

상기 구성을 통해, 상기 공통전극(127)은 액정 구동을 위한 기준 전압, 즉 공통전압을 각 화소에 공급한다. Through the above-described configuration, the common electrode 127 supplies a reference voltage for driving the liquid crystal, that is, a common voltage to each pixel.

상기 공통전극(129)은 각 화소영역에서 패시베이션막(미도시)을 사이에 두고 상기 다수의 화소전극(미도시)과 중첩되어 전계(field)를 형성한다. The common electrode 129 overlaps the plurality of pixel electrodes (not shown) with a passivation film (not shown) interposed therebetween in each pixel region to form an electric field.

이렇게 하여, 상기 박막트랜지스터(미도시)를 통해 화소전극(미도시)에 데이터 신호가 공급되면, 공통전압이 공급된 공통전극(127)이 전계를 형성하여 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이에서 수평 방향으로 배열된 액정분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 됨으로써, 액정분자들이 회전 정도에 따라 화소영역을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 계조를 구현하게 된다.When a data signal is supplied to the pixel electrode (not shown) through the thin film transistor (not shown), the common electrode 127 to which the common voltage is supplied forms an electric field, The liquid crystal molecules arranged in the horizontal direction between the liquid crystal molecules 141 are rotated by the dielectric anisotropy so that the light transmittance of the liquid crystal molecules passing through the pixel region changes according to the degree of rotation,

한편, 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이의 표시부에는 일정한 셀 갭을 유지하기 위해 다수의 컬럼 페이서(미도시)가 형성되어 있다.A plurality of column paceers (not shown) are formed on the display portion between the first substrate 101 and the second substrate 141 to maintain a constant cell gap.

또한, 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서(129a, 129b)들은 상기 표시부(D)를 기준으로 서로 대칭되지 않는 위치, 즉 서로 다른 거리에 위치하는 좌, 우측 주변부(ND)에 형성된다. 이때, 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서(129a, 129b)들은 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이의 최외곽부에 형성되는 씨일재(161)의 갭의 불량을 개선해 준다.The first and second dummy column spacers 129a and 129b are formed at left and right peripheral portions ND located at positions that are not symmetrical with respect to the display portion D, that is, at different distances. At this time, the first and second dummy column spacers 129a and 129b improve the gap of the gap between the first substrate 101 and the second substrate 141, .

이때, 대면적의 유리기판(101)상에 정의된 액정패널 영역의 주변부(ND)에 상기 서로 대응하지 않는 제1 및 2 더미 컬럼 스페이서들(129a, 129b)을 형성하기 위해서는 도 6 및 7에 도시된 노광마스크(100)가 사용된다.In order to form the first and second dummy column spacers 129a and 129b which do not correspond to each other in the peripheral portion ND of the liquid crystal panel region defined on the large-area glass substrate 101, The illustrated exposure mask 100 is used.

도 6은 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서, 더미 컬럼스페이서들을 형성하기 위해 사용되는 노광마스크를 개략적으로 나타낸 평면도이다.6 is a plan view schematically showing an exposure mask used for forming dummy column spacers in the liquid crystal display device according to the present invention.

도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선에 따른 단면도로서, 좌우측 주변부 각각에 다수의 노광패턴들이 비 대응되게 형성된 노광마스크의 개략적인 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. 6, and is a schematic cross-sectional view of an exposure mask in which a plurality of exposure patterns are non-correspondingly formed on left and right peripheral portions, respectively.

도 6 및 7에 도시된 바와 같이, 노광마스크(100)의 좌,우측 주변부(ND)에는 다수의 더미 컬러스페이서 형성용 제1 노광패턴들(100a)과 제2 노광패턴들(100b)들이 형성되어 있으며, 중앙부에는 액정패널의 표시영역(100c)가 정의되어 있다.6 and 7, a plurality of first exposure patterns 100a and second exposure patterns 100b for forming dummy color spacers are formed on the left and right peripheral portions ND of the exposure mask 100 And a display area 100c of the liquid crystal panel is defined at the center.

이때, 상기 제1 노광패턴들(100a)은 상기 노광마스크(100)의 좌측 주변부 (ND)에 형성되어 있으며, 상기 제2 노광패턴들(10b)은 상기 노광마스크(100)의 우측 주변부(ND)에 형성되어 있다. 또한, 상기 제 1 노광패턴들(100a)과 제2 노광패턴들(100b)은 서로 대응하지 않은 위치, 즉 겹쳐지지 않는 위치에 형성된다.The first exposure patterns 100a are formed on the left peripheral portion ND of the exposure mask 100 and the second exposure patterns 10b are formed on the right peripheral portion ND of the exposure mask 100 As shown in Fig. In addition, the first exposure patterns 100a and the second exposure patterns 100b are formed at positions that do not correspond to each other, that is, positions that do not overlap.

특히, 상기 노광마스크(100)의 좌측 주변부(ND)에 형성된 제1 노광패턴 (100a)들과 상기 우측 주변부(ND)에 형성된 제2 노광패턴(100b)들은 상기 표시부 (D)의 중앙부를 중심으로 서로 비대칭되게 형성되어 있다. 즉, 상기 노광마스크 (100)의 좌측 주변부(ND)에 형성된 제1 노광패턴(100a)들과 상기 우측 주변부 (ND)에 형성된 제2 노광패턴(100b)들은 지그 재그(zigzag) 배열 형태로 구성된다. Particularly, the first exposure patterns 100a formed on the left peripheral portion ND of the exposure mask 100 and the second exposure patterns 100b formed on the right peripheral portion ND correspond to the center of the display portion D, Asymmetrically with respect to each other. That is, the first exposure patterns 100a formed on the left peripheral portion ND of the exposure mask 100 and the second exposure patterns 100b formed on the right peripheral portion ND are formed in a zigzag arrangement do.

따라서, 이러한 구성의 노광마스크(100)를 대면적의 유리기판(101)에 정의된 액정패널 영역마다 이동하면서 노광 공정을 진행하여, 상기 액정패널 영역의 좌,우측 주변부에 서로 대응하지 않는 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들(미도시, 도 9c의 부호 129a, 129b 참조)을 형성하게 된다. Accordingly, the exposure process is performed while moving the exposure mask 100 having such a configuration every region of the liquid crystal panel defined on the large-area glass substrate 101, and the first and second regions, which do not correspond to the left and right peripheral portions of the liquid crystal panel region, And two dummy column spacers (not shown, refer to 129a and 129b in FIG. 9c).

이때, 상기 노광마스크(100)의 제1 및 2 노광패턴들(100a, 100b)로는 광이 투과되지만, 상기 표시영역(100c)로는 광이 투과되지 않는다. At this time, light is transmitted through the first and second exposure patterns 100a and 100b of the exposure mask 100, but light is not transmitted through the display region 100c.

한편, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 노광마스크(100)의 상, 하측 주변부(미도시)에도 상기 제1 및 2 노광패턴(100a, 100b)들이 형성되어 있다. Although not shown in the drawing, the first and second exposure patterns 100a and 100b are formed on the upper and lower peripheral portions (not shown) of the exposure mask 100. [

이와 같이 구성된 노광마스크(100)를 이용하여 다수의 액정패널 영역(P1, P2)이 정의된 대면적의 유리기판(101) 상에 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들을 형성하기 위해 노광공정을 진행하게 되는데, 이에 대해 도 8 및 9를 참조하여 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.The exposure process is performed to form the first and second dummy column spacers on the glass substrate 101 having a large area defined by the plurality of liquid crystal panel areas P1 and P2 using the exposure mask 100 constructed as described above This will be described in more detail with reference to FIGS. 8 and 9 as follows.

도 8a 내지 8c는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 평면도들로서, 제1 및 2 더미 컬럼스페이서 형성용 노광패턴들이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들을 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 평면도들이다.8A to 8C are plan views for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. First and second dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having exposure patterns for forming first and second dummy column spacers, Are schematically shown in plan views.

도 9a 내지 9d는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 단면도들로서, 다수의 더미 컬럼 스페이서 형성용 노광패턴이 형성된 노광마스크를 이용하여 유리기판상에 제1 및 2 더미 컬럼 스페이서들을 형성하는 공정들을 개략적으로 나타낸 단면도들이다. 9A to 9D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIGS. 9A to 9D, first and second dummy column spacers are formed on a glass substrate using an exposure mask having a plurality of dummy column spacer- Are schematic cross-sectional views illustrating steps for forming the substrate.

도 8a에 도시된 바와 같이, 다수의 액정패널 영역(P1, P2)의 표시부(D1, D2)가 정의된 대면적의 유리기판, 즉 제1 기판(101)을 준비한다. 여기서는 액정패널 d영역(P1, P2)의 표시부(D1, D2)에 대해서만 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니며 유리기판의 면적 또는 액정패널 크기에 따라 액정패널 영역(P1, P2)의 수도 변경될 수 있다.8A, a large-sized glass substrate, that is, the first substrate 101, in which the display portions D1 and D2 of the plurality of liquid crystal panel regions P1 and P2 are defined, is prepared. Although only the display portions D1 and D2 of the liquid crystal panel d regions P1 and P2 are described here, the number of the liquid crystal panel regions P1 and P2 may be changed depending on the area of the glass substrate or the size of the liquid crystal panel have.

이때, 상기 제1 기판(101)에 정의된 다수의 액정패널 영역(P1, P2)의 표시부(D1, D2)에 블랙매트릭스층과 칼라필터층 및 공통전극을 형성하는 공정에 대해 설명하면 다음과 같다.A process of forming the black matrix layer, the color filter layer, and the common electrode on the display portions D1 and D2 of the plurality of liquid crystal panel regions P1 and P2 defined on the first substrate 101 will be described as follows .

도 8a에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(101) 상에 비 표시 지역으로 광이 투과되는 것을 차단하기 위한 블랙매트릭스층(103)을 형성한다.As shown in FIG. 8A, a black matrix layer 103 is formed on the first substrate 101 to block light from being transmitted to a non-display area.

그 다음, 상기 블랙매트리스층(103) 사이의 공간에 다양한 색상, 즉 적색 (Red), 녹색(green) 및 청색(blue) 칼라필터층(105)을 차례로 형성한다. Red, green and blue color filter layers 105 are sequentially formed in the space between the black mattress layers 103.

이어서, 상기 칼라필터층(105)을 포함한 기판 전면에 공통전극(107)을 형성한다. Next, a common electrode 107 is formed on the entire surface of the substrate including the color filter layer 105.

그 다음, 상기 대면적의 제1 기판(101) 상에 마련된 제1 액정패널 영역(P1)의 제1 표시부(D1)에 블랙매트릭스층(103), 적색(Red), 녹색(green), 청색(blue) 칼라필터층(105) 및 공통전극(107)을 형성한 이후에, 상기 기판 전면에 네거티브 (negative) 형 포토레지스트(photoresist)를 도포하여 감광막(109)을 형성한다. Next, a black matrix layer 103, red, green, and blue are formed on the first display portion D1 of the first liquid crystal panel region P1 provided on the large-area first substrate 101, a negative type photoresist is applied to the entire surface of the substrate to form a photoresist layer 109 after the blue color filter layer 105 and the common electrode 107 are formed.

이어서, 도 8b 및 9a에 도시된 바와 같이, 노광마스크(100)를 이용한 1차 노광 공정을 통해, 상기 감광막(109)에 광을 투과시켜 1차 노광시킨다. 이때, 상기 노광마스크(100)에 형성된 제1 및 2 노광패턴들(100a, 100b)을 통해 광이 투과되어져 이 제1, 2 노광패턴(100a, 100b)들과 대응하는 상기 감광막(109)의 제1 노광부 (109a) 및 제2 노광부(109b)가 노광되고, 상기 표시영역(100c)과 대응하는 광차단부 (109c)를 통해서는 광이 차단된다. Subsequently, as shown in Figs. 8B and 9A, light is transmitted through the photoresist film 109 through a primary exposure process using the exposure mask 100 to perform primary exposure. At this time, light is transmitted through the first and second exposure patterns 100a and 100b formed on the exposure mask 100, and the light is transmitted through the first and second exposure patterns 100a and 100b, The first exposure portion 109a and the second exposure portion 109b are exposed and the light is blocked through the light blocking portion 109c corresponding to the display region 100c.

그 다음, 1차 노광 공정을 진행한 이후에, 2차 노광 공정을 진행하기 위해, 상기 노광마스크(100)를 상기 제1 액정패널 영역(P1)과 인접한 제2 액정패널 영역 (P2)의 제2 표시부(D2) 쪽으로 이동시킨다.Next, after the first exposure process, the exposure mask 100 is exposed to the first liquid crystal panel area (P1) and the second liquid crystal panel area (P2) adjacent to the first liquid crystal panel area (P1) 2 to the display portion D2.

이어서, 도 8c 및 9b에 도시된 바와 같이, 상기 노광마스크(100)를 이용한 2차 노광 공정을 통해, 상기 감광막 (109)에 광을 투과시켜 2차 노광시킨다. 이때, 상기 노광마스크(100)에 에 형성된 다수의 제1 및 2 노광패턴(100a, 100b)을 통해 광이 투과되어져 상기 제1 노광패턴 (100a)과 대응하는 상기 감광막(109)의 제3 노광부(109d)가 노광되고, 상기 제2 노광패턴(100b)과 대응하는 상기 감광막(109)의 제4 노광부(109e)가 노광되며, 상기 광차단부(109c)을 통해서는 광이 차단된다. Next, as shown in FIGS. 8C and 9B, light is transmitted through the photoresist film 109 through a secondary exposure process using the exposure mask 100 to expose the photoresist film 109 by secondary exposure. At this time, light is transmitted through a plurality of first and second exposure patterns 100a and 100b formed on the exposure mask 100, and the third exposure of the photoresist film 109 corresponding to the first exposure pattern 100a The light portion 109d is exposed and the fourth exposure portion 109e of the photoresist 109 corresponding to the second exposure pattern 100b is exposed and the light is blocked through the light interception portion 109c .

이때, 상기 노광마스크(100)를 이용한 2차 노광시에, 상기 제1 액정패널 영역(P1)과 제2 액정패널 영역(P2) 사이의 중첩부(OND)에 있는 제2 노광부(109b)들은 이중으로 노광되지 않고, 이들 제2 노광부(109b) 사이의 제3 노광부(109d)에 광이 투과되어져 노광된다.At the time of the second exposure using the exposure mask 100, the second exposure unit 109b at the overlapping portion (OND) between the first liquid crystal panel area P1 and the second liquid crystal panel area P2, And the light is transmitted through the third exposure section 109d between these second exposure sections 109b to be exposed.

이는 기존과 달리, 본 발명에서의 노광마스크(100)는 서로 대응되지 않는 위치에 형성된 제1 노광패턴(100a)들과 제2 노광패턴(100b)들을 구비하고 있기 때문에, 상기 노광마스크(100)를 상기 제1 및 2 액정패널 영역(P1, P2)마다 이동하면서 노광 공정을 수행하더라도 한번 노광된 감광막 지역은 절대 2중 노광이 일어나지 않게 된다. This is because the exposure mask 100 of the present invention has the first exposure patterns 100a and the second exposure patterns 100b formed at positions not corresponding to each other, Even if the exposure process is performed while moving the first and second liquid crystal panel regions P1 and P2 in the first and second liquid crystal panel regions P1 and P2, absolute double exposure does not occur in the exposed photoresist region.

그 다음, 도 9c에 도시된 바와 같이, 상기 1차 및 2차 노광 공정 이후에 현상 공정을 통해 상기 감광막(109)을 선택적으로 제거하여, 상기 제1 기판(101)의 제1 액정패널 영역(P1)의 제1 표시부(D1)의 좌, 우측 주변부(ND)와 제2 액정패널 영역(D2)의 제2 표시부(D2)의 좌, 우측 주변부(ND)에 각각 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들(129a, 129b)을 형성한다. 이때, 상기 제1 액정패널 영역(P1)과 제2 액정패널 영역(P2) 사이의 중첩부(OND)에는 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들(129a, 129b)이 형성된다. 또한, 상기 현상 공정시에, 노광된 부분, 즉 제1, 2, 3, 4 노광부(109a, 109b, 109d, 109e)들은 남게 되고, 비 노광된 부분, 즉 광차단부(109c)만 제거된다. 이는 상기 감광막(109)이 네거티브 형 감광물질로 구성되어 있는데, 이 네거티브형 감광물질은 현상 공정시에 노광된 부분은 잔류하고, 노광되지 않은 부분은 제거되는 특성을 지니고 있기 때문이다. 9C, the photoresist layer 109 is selectively removed through a development process after the primary and secondary exposure processes, thereby forming a first liquid crystal panel area (not shown) of the first substrate 101 The first and second dummy column spacers D3 and D4 are formed on the left and right peripheral portions ND of the first display portion D1 of the first liquid crystal display panel P1 and the left and right peripheral portions ND of the second display portion D2 of the second liquid crystal panel region D2, 129a and 129b. At this time, first and second dummy column spacers 129a and 129b are formed on the overlapped portion OND between the first liquid crystal panel region P1 and the second liquid crystal panel region P2. In the development process, the exposed portions, that is, the first, second, third, and fourth exposure units 109a, 109b, 109d, and 109e are left and only the unexposed portions, do. This is because the photosensitive film 109 is composed of a negative type photosensitive material, and the negative type photosensitive material has characteristics such that the exposed portion remains in the developing process and the unexposed portion is removed.

이렇게 하여, 제1 및 2 액정패널 영역(P1, P2)의 좌, 우측 주변부(ND)에 이중 노광없이 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들(129a, 129b)을 형성하게 된다. 이때, 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서(129a, 129b)들은 상기 표시부(D)를 기준으로 서로 대칭되지 않는 위치, 즉 서로 다른 거리에 위치하는 좌, 우측 주변부(ND)에 형성된다.The first and second dummy column spacers 129a and 129b are thus formed on the left and right peripheral portions ND of the first and second liquid crystal panel regions P1 and P2 without double exposure. At this time, the first and second dummy column spacers 129a and 129b are formed at left and right peripheral portions ND located at positions which are not symmetrical with respect to the display portion D, that is, at different distances.

이후에, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 유리기판(101), 즉 제1 기판과 합착되는 제2 기판(141) 상에 게이트배선, 이 게이트배선과 교차하여 화소영역을 이루는 데이터배선과 함께, 이들 배선이 교차하는 지점에 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스전극 및 드레인전극으로 이루어지는 박막트랜지스터를 형성하고, 이어 상기 게이트배선과 데이터배선이 교차하여 이루는 화소영역에 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 접속하는 화소전극을 형성하는 공정을 차례로 수행한다.Although not shown in the drawing, a gate wiring, a data wiring intersecting the gate wiring and constituting a pixel region, and a gate wiring are formed on the glass substrate 101, that is, the second substrate 141 bonded to the first substrate, A thin film transistor composed of a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, an ohmic contact layer, a source electrode and a drain electrode is formed at a crossing point of the wiring, and then a thin film transistor is formed in a pixel region crossing the gate wiring and the data wiring. And a step of forming a pixel electrode to be electrically connected are sequentially performed.

그 다음, 도 9d에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141) 사이에 액정층(151)을 개재한 다음, 상기 제1 기판(101)과 제2 기판(141)의 외곽부를 씨일재(161)로 밀봉함으로써 액정표시장치 제조공정을 완료하게 된다.9D, a liquid crystal layer 151 is interposed between the first substrate 101 and the second substrate 141, and then the first substrate 101 and the second substrate 141 Is sealed with the sealant 161 to complete the liquid crystal display device manufacturing process.

이상에서와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 따르면, 표시영역의 좌, 우측 주변부 각각에 서로 대응되지 않는 제1 노광패턴들과 제2 노광패턴들을 구비한 노광마스크를 이용하여, 대면적의 유리기판의 복수의 액정패널영역의 좌, 우측 주변부와 중첩부에 서로 대응되지 않는 다수의 더미 컬럼스페이서를 형성하여 대칭 구조를 이루도록 함으로써, 유리기판의 최외곽 열의 씨일재 갭 불량을 개선시킬 수 있고, 액정패널 내의 좌우 셀의 갭 편차에 의한 엷은 색조 (yellow tinge) 불량을 감소시킬 수 있다. As described above, according to the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof according to the present invention, by using the exposure mask having the first exposure patterns and the second exposure patterns which do not correspond to the left and right peripheral portions of the display region A plurality of dummy column spacers that do not correspond to the left and right peripheral portions of the plurality of liquid crystal panel regions of the large-area glass substrate and the overlapped portions are formed to have a symmetrical structure, whereby the defect of the sealant gap of the outermost row of the glass substrate And it is possible to reduce defects of the yellow tinge due to the gap deviation of the left and right cells in the liquid crystal panel.

100: 노광마스크 100a: 제1 노광패턴
100b: 제2 노광패턴 100c: 표시영역
101: 유리기판(제1 기판) 103: 블랙매트릭스
105: 칼라필터층 107: 공통전극
109: 감광막 109a: 제1 노광부
109b: 제2 노광부 109c: 광차단부
109d: 제3 노광부 109e: 제4 노광부
129a: 제1 더미 컬럼스페이서 129b: 제2 더미 컬럼스페이서
D, D1, D2: 표시부 ND: 주변부
P, P1, P2: 액정패널 영역 100: exposure mask 100a: first exposure pattern
100b: second exposure pattern 100c: display area
101: glass substrate (first substrate) 103: black matrix
105: color filter layer 107: common electrode
109: photosensitive film 109a: first exposure section
109b: second exposure section 109c: light blocking section
109d: third exposure section 109e: fourth exposure section
129a: first dummy column spacer 129b: second dummy column spacer
D, D1, D2: Display portion ND: Peripheral portion
P, P1, P2: liquid crystal panel area

Claims (10)

제1 기판과 제2 기판;
상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 표시부의 좌측 주변부에 형성된 다수의 제1 더미 컬럼스페이서;
상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 표시부의 우측 주변부에 형성되고, 상기 제1 더미 컬럼스페이서와 서로 비 대응되는 다수의 제2 더미 컬럼스페이서;
상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 형성된 액정층; 및
상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 형성된 씨일재:를 포함하여 구성되는 액정표시장치.A first substrate and a second substrate;
A plurality of first dummy column spacers formed on the left periphery of the display portion between the first substrate and the second substrate;
A plurality of second dummy column spacers formed on a right peripheral portion of the display portion between the first substrate and the second substrate, wherein the second dummy column spacers are not coincident with the first dummy column spacers;
A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; And
And a sealant formed on an outer portion of the first and second dummy column spacers between the first substrate and the second substrate. 제1 항에 있어서, 상기 제1 더미 컬럼스페이서와 제2 더미 컬럼스페이서는 상기 표시부 중앙을 기준으로 서로 다른 거리에 있는 좌, 우측 표시부에 각각 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The liquid crystal display of claim 1, wherein the first dummy column spacer and the second dummy column spacer are formed on left and right display portions at different distances with respect to the center of the display portion. 제1 항에 있어서, 상기 제1 더미 컬럼스페이서와 제2 더미 컬럼스페이서는 서로 비대칭되게 지그재그(zigzag) 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The liquid crystal display of claim 1, wherein the first dummy column spacer and the second dummy column spacer are asymmetrically formed in a zigzag shape. 표시부와 주변부로 구성된 다수의 액정패널 영역이 정의된 제 1 기판과 제2 기판을 준비하는 단계;
상기 제1 기판상에 감광막을 형성하는 단계;
상기 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 1차 노광하는 단계;
상기 액정패널 영역과 인접한 다른 액정패널 영역의 좌, 우측 주변부에 위치하는 감광막을 2차 노광하는 단계;
상기 1차 및 2차 노광된 감광막을 현상하여, 상기 액정패널 영역들의 좌, 우측 주변부에 서로 비대응하는 다수의 제1 및 2 더미 컬럼스페이서를 형성하는 단계;
상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계; 및
상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 상기 제1 및 2 더미 컬럼스페이서의 외곽부에 씨일재를 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 액정표시장치 제조방법.Preparing a first substrate and a second substrate on which a plurality of liquid crystal panel regions including a display portion and a peripheral portion are defined;
Forming a photoresist film on the first substrate;
Exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of the liquid crystal panel region;
Secondarily exposing a photoresist layer located on left and right peripheral portions of another liquid crystal panel region adjacent to the liquid crystal panel region;
Forming a plurality of first and second dummy column spacers on the left and right peripheral portions of the liquid crystal panel regions, the first and second dummy column spacers not corresponding to each other, by developing the first and second exposed photoresist layers;
Forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate; And
And forming a sealant on an outer portion of the first and second dummy column spacers between the first substrate and the second substrate. 제4 항에 있어서,
상기 다수의 제1 더미 컬럼스페이서와 제2 더미 컬럼스페이서에 대응하는 다수의 제1 노광패턴과 제2 노광패턴이 구비된 노광마스크를 이용하여 상기 감광막을 1차 및 2차 노광하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.5. The method of claim 4,
Wherein the photosensitive film is subjected to primary and secondary exposures using an exposure mask having a plurality of first exposure patterns and a plurality of second exposure patterns corresponding to the plurality of first dummy column spacers and second dummy column spacers, A method of manufacturing a liquid crystal display device. 제5 항에 있어서,
상기 노광마스크는 상기 다수의 액정패널 영역을 이동하면서 1차 및 2차 노광 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. 6. The method of claim 5,
Wherein the exposure mask performs a first and a second exposure process while moving the plurality of liquid crystal panel areas. 제4 항에 있어서,
상기 다수의 제1 노광패턴과 제2 노광패턴은 지그재그 형태로 비 대응하는 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. 5. The method of claim 4,
Wherein the plurality of first exposure patterns and the plurality of second exposure patterns are formed in positions that do not correspond to each other in a zigzag pattern. 제4 항에 있어서,
상기 1차 및 2차 노광 공정시에 상기 제1 기판의 서로 인접하는 액정패널 영역들의 중첩부에 위치하는 감광막 부분은 서로 다른 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. 5. The method of claim 4,
Wherein portions of the photoresist film located in the overlapping portions of the adjacent liquid crystal panel regions of the first substrate in the first and second exposure processes are different from each other. 제8 항에 있어서,
상기 액정패널 영역들의 중첩부에 서로 비대응되는 제1 및 2 더미 컬럼스페이서들이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. 9. The method of claim 8,
Wherein the first and second dummy column spacers are formed on the overlapping portions of the liquid crystal panel regions. 제4 항에 있어서,
상기 감광막은 네거티브형 감광물질로 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.5. The method of claim 4,
Wherein the photosensitive film is made of a negative photosensitive material.
KR1020110095475A 2011-09-21 2011-09-21 Liquid crystal display device and method for fabrciating the same KR101825608B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110095475A KR101825608B1 (en) 2011-09-21 2011-09-21 Liquid crystal display device and method for fabrciating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110095475A KR101825608B1 (en) 2011-09-21 2011-09-21 Liquid crystal display device and method for fabrciating the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130031738A KR20130031738A (en) 2013-03-29
KR101825608B1 true KR101825608B1 (en) 2018-03-22

Family

ID=48180820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110095475A KR101825608B1 (en) 2011-09-21 2011-09-21 Liquid crystal display device and method for fabrciating the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101825608B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11406034B2 (en) 2018-10-05 2022-08-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and method for manufacturing thereof

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102626921B1 (en) 2018-08-10 2024-01-19 삼성전자주식회사 Sulfide solid electrolyte for lithium battery, a preparing method thereof, and lithium battery including the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11406034B2 (en) 2018-10-05 2022-08-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and method for manufacturing thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130031738A (en) 2013-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6542986B2 (en) VA type COA liquid crystal display panel
KR100422567B1 (en) Liquid crystal display device
US9589834B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, and display device
JP5623230B2 (en) Manufacturing method of display device
WO2015188394A1 (en) Thin film transistor array substrate and manufacturing method thereof
JP2004354553A (en) Liquid crystal display device
JP2004151459A (en) Substrate for liquid crystal display and liquid crystal display equipped with the same
JP2005107504A (en) Exposure mask, exposure apparatus comprising the same, and method for manufacturing display plate for display apparatus using the same
JP2007240711A (en) Manufacturing method for color filter for liquid crystal display device, and color filter for liquid crystal display device
KR20100122404A (en) Fringe field switching liquid crystal display device and method of fabricating the same
WO2022199192A1 (en) Coa type array substrate and measurement method therefor, and liquid crystal display panel
KR101825608B1 (en) Liquid crystal display device and method for fabrciating the same
KR101356171B1 (en) Fringe field switching liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR101068285B1 (en) Lcd exposure mask pattern and method for exposure
US20070211200A1 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP5292594B2 (en) LCD panel
KR20150137278A (en) Array substrate and liquid crystal display device inluding the same
JP2002333628A (en) Liquid crystal display, color filter substrate, and array substrate
KR20150136339A (en) Array substrate and liquid crystal display device inluding the same
KR100484948B1 (en) In-Plane Switching mode Liquid Crystal Display Device
JP2010211136A (en) Liquid crystal display device
US20200050036A1 (en) Display device
WO2006059693A1 (en) Method for manufacturing display and display
KR102272422B1 (en) Thin film transistor substrate and method of fabricating the same
JP2002182242A (en) Method for producing liquid crystal display

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right