KR101811508B1 - Method of making glass substrate, glass substrate and bundle of glass substrates - Google Patents
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Abstract
유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 하는 유리 기판의 제조 방법은, 용융 유리의 도입에 의해 기상 공간이 형성되는, 벽의 적어도 일부가 백금족 금속제인 유리 처리 장치에서 용융 유리를 처리할 때, 기상 공간에 존재하는 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 혼입되는 용융 유리 처리 공정과, 이 용융 유리 처리 공정에서 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 응집물의 크기를 작게 하는 응집물 처리 공정을 구비한다. 유리 기판 적층체의 유리 기판의 체적 합계는 0.1㎥ 이상이며, 유리 기판이 포함하는 전체 백금족 금속 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율은, 70% 이상이다. A method of manufacturing a glass substrate which makes it difficult for the glass substrate to be deformed and makes it difficult to form irregularities on the main surface of the glass substrate is characterized in that at least a part of the wall in which the vapor phase space is formed by the introduction of the molten glass is made of a platinum group metal A molten glass treatment step in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from a wall existing in the vapor phase space is mixed as a foreign material when the molten glass is treated and a step of removing the aggregate of the platinum group metal volatilized from the molten glass in the molten glass treatment step And an aggregate treatment step of reducing the size of the aggregate so that the ratio of the number of aggregates of 50 mu m or less is 70% or more. The total volume of the glass substrate of the glass substrate laminate is 0.1 m 3 or more and the ratio of the number of the aggregates having the maximum length of 50 m or less among all the platinum group metal flocculates contained in the glass substrate is 70%
Description
본 발명은, 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 및 유리 기판 적층체에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate, a glass substrate and a glass substrate laminate.
유리 기판은, 일반적으로, 유리 원료로부터 용융 유리를 생성시킨 후, 청징 공정, 균질화 공정을 얻은 후, 용융 유리를 유리 기판으로 성형하는 공정을 거쳐서 제조된다. 그런데, 고온의 용융 유리로부터 품위가 높은 유리 기판을 양산하기 위해서는, 유리 기판의 결함의 요인이 되는 이물질 등이, 유리 기판을 제조하는 어느 쪽의 유리 처리 장치로부터도 용융 유리에 혼입되지 않도록 고려하는 것이 요망된다. 이로 인해, 유리 기판의 제조 과정에 있어서 용융 유리에 접하는 부재의 벽은, 그 부재에 접하는 용융 유리의 온도, 요구되는 유리 기판의 품질 등에 따라, 적절한 재료에 의해 구성할 필요가 있다. The glass substrate is generally produced through a step of producing a molten glass from a glass raw material, obtaining a refining step and a homogenizing step, and then molding the molten glass into a glass substrate. In order to mass-produce a glass substrate having a high quality from a molten glass at a high temperature, consideration is made so that foreign matter or the like which causes defects in the glass substrate is not mixed into the molten glass from any of the glass processing apparatuses for manufacturing the glass substrate Lt; / RTI > Therefore, the wall of the member in contact with the molten glass in the manufacturing process of the glass substrate needs to be made of a suitable material in accordance with the temperature of the molten glass in contact with the member, the quality of the required glass substrate, and the like.
예를 들어, 용융 유리를 생성한 후 성형 공정에 공급할 때까지의 동안의 용융 유리는 매우 고온 상태가 되므로, 용융, 청징, 공급, 교반을 행하는 장치는, 내열성이 높은 백금족 금속인 백금을 함유하는 부재가 사용된다(예를 들어, 특허문헌 1). For example, since the molten glass from the generation of the molten glass to the supply of the molten glass to the forming step becomes a very high temperature state, the apparatus for melting, refining, supplying, and agitating the molten glass contains platinum, which is a platinum group metal having high heat resistance Member is used (for example, Patent Document 1).
그러나, 백금족 금속은, 고온으로 됨에 따라서 휘발하기 쉬워진다. 그리고 백금족 금속의 휘발물이 응집되면, 이 응집물인 결정의 일부가 이물질로서 용융 유리 중에 혼입되어, 유리 기판의 품질 저하를 초래할 우려가 있었다. 특히, 청징 공정은, 용해 공정으로부터 성형 공정에 이르기까지의 동안에 용융 유리의 온도가 가장 높아지는 공정이므로, 청징 공정을 주로 행하는 청징관은, 매우 높은 온도로 가열된다. 이로 인해, 청징 공정 후의 용융 유리에는, 청징관으로부터 휘발한 백금족 금속이 응집됨으로써 얻어지는 응집물의 일부가 이물질이 되어 혼입되기 쉽다. However, the platinum group metal becomes volatile as the temperature becomes high. When the volatiles of the platinum group metal coagulate, a part of the crystals as the aggregate is mixed into the molten glass as a foreign substance, which may cause deterioration of the quality of the glass substrate. Particularly, the cleaning process is a process in which the temperature of the molten glass is highest during the period from the dissolving process to the forming process, so that the cleaning tube, which mainly performs the cleaning process, is heated to a very high temperature. As a result, some of the aggregates obtained by flocculating the platinum group metal volatilized from the clarifying tube into the molten glass after the refining process are liable to become foreign substances and to be mixed.
유리 기판 제조 과정에서 백금족 금속의 이물질이 혼입되면, 백금족 금속의 이물질과 유리의 열팽창 계수의 차에 기인해서 유리 기판에 변형이 생기고, 이 변형에 의해 디스플레이의 표시 불량을 야기하는 문제나, 백금족 금속이 유리 기판의 주표면 부근에 존재해서 유리 기판의 주표면에 요철을 형성하고, 주표면 상에 설치하는 박막 트랜지스터(TFT)의 형성을 균일하게 행할 수 없는 것에 기인하는 디스플레이의 표시 불량의 문제가 생긴다. 최근, 화상 표시 장치의 화면 표시의 고정밀화에 수반하여 디스플레이에 사용하는 유리 기판에서는, 유리 기판 내에 혼입되는 백금족 금속의 이물질의 저감이 더욱 강하게 요구되고 있다. When a foreign substance of the platinum group metal is mixed in the process of manufacturing the glass substrate, the glass substrate is deformed due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the foreign substance of the platinum group metal and the glass, There is a problem of poor display of the display due to the fact that it exists in the vicinity of the main surface of the glass substrate to form irregularities on the main surface of the glass substrate and that the thin film transistor (TFT) provided on the main surface can not be uniformly formed It happens. In recent years, with the high definition of the screen display of the image display apparatus, in the glass substrate used for the display, the reduction of the foreign substances of the platinum group metal incorporated in the glass substrate is strongly demanded.
이와 같이, 유리 기판에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물)의 양을 저감하는 것이 바람직하다. 그러나, 성형 전의 용융 유리의 온도는 매우 높고, 특히, 청징 공정을 행하는 청징관에서는, 백금족 금속의 휘발을 유발하는 원인인 산소를 청징관의 기상(氣相) 공간 분위기로부터 배제할 수는 없어, 백금족 금속의 휘발을 완전히 없앨 수는 없다. 또한, 청징관에 있어서, 백금족 금속의 휘발물의 응집을 발생시키는 원인인 장치 내벽면의 온도차를 0으로 할 수도 없어, 백금족 금속의 휘발을 완전히 없앨 수는 없다. 이로 인해, 제조 과정에서 용융 유리 중에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되는 것을 완전히 저지하는 것은 어렵다. Thus, it is preferable to reduce the amount of foreign substances (aggregates) of the platinum group metal incorporated into the glass substrate. However, the temperature of the molten glass before molding is very high, and in particular, in the purifying tube for performing the refining step, oxygen which is a cause of volatilization of the platinum group metal can not be excluded from the gas phase space atmosphere of the purifying tube, The volatilization of platinum group metals can not be completely eliminated. Further, in the purifying tube, the temperature difference of the inner wall surface of the apparatus, which causes the volatiles of the platinum group metal to occur, can not be zero, and the volatilization of the platinum group metal can not be completely eliminated. Therefore, it is difficult to completely prevent the incorporation of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal in the molten glass during the manufacturing process.
따라서, 본 발명은, 유리 기판에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되어도, 상기 문제를 발생시키기 어려운 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 및 유리 기판 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a glass substrate production method, a glass substrate, and a glass substrate laminate which are difficult to cause the aforementioned problems even when foreign substances (agglomerates) of a platinum group metal are mixed in the glass substrate.
본원 발명자는, 상술한 바와 같이, 유리 기판의 제조 과정에서 용융 유리 중에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되는 것을 완전히 저지하는 것은 어렵기 때문에, 용융 유리 중에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되어도, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 하는 이물질의 형태를 모색했다. 그 결과, 백금족 금속의 최대 길이가 50㎛ 이하인 것이, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 하는 데 있어서 유효하고, 또한, 유리 기판에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물) 중 백금족 금속의 최대 길이가 50㎛ 이하인 백금족 금속의 이물질(응집물) 개수의 비율이 70% 이상인 것이 유효하다고 하는 지견을 얻었다. 특히, 유리 기판을 제조할 때, 용융 유리에 혼입된 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감시키는 것이, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 하는 데 있어서 유효하다고 하는 지견을 얻었다. 이것은, 표시 불량의 발생을 억제하기 위해서는, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 절대수를 저감시키기 위한 종래 기술로부터는 용이하게 상도할 수 없는 지견이다. As described above, the inventors of the present invention have found that it is difficult to completely prevent foreign matter (agglomerates) of a platinum group metal from being mixed into the molten glass during the manufacturing process of the glass substrate, so that even when foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal are mixed in the molten glass , It is difficult for the glass substrate to be deformed, and the shape of the foreign material which makes it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate is sought. As a result, it is found that a maximum length of the platinum group metal of 50 탆 or less is less likely to cause deformation of the glass substrate, which makes it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate. Further, (Agglomerates) of the platinum group metal having a maximum length of the platinum group metal of 50 m or less is 70% or more. Particularly, when the glass substrate is manufactured, it is effective to reduce the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal incorporated in the molten glass, since it is difficult for the glass substrate to be deformed and it is difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate . This is an idea that can not be easily overcome from the prior art for reducing the absolute number of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal in order to suppress the occurrence of defective display.
즉, 본 발명의 일 형태는, 유리 기판의 제조 방법이다. 그 유리 기판의 제조 방법은, 이하의 형태를 포함한다. That is, one mode of the present invention is a method for manufacturing a glass substrate. The method of manufacturing the glass substrate includes the following modes.
(제1 형태) (First Embodiment)
유리 기판의 제조 방법은, A method of manufacturing a glass substrate,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에 있어서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정을 구비하고, Wherein the molten glass has a space in which a surface of the molten glass and a vapor space surrounded by the wall are formed and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, And a molten glass treatment step in which an aggregate of volatile substances of the platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 응집물 처리 공정을 구비한다. And a flocculation treatment step of reducing the size of the flocculant mixed in the molten glass so that the ratio of the number of flocculants having a maximum length of 50 m or less among the flocculants mixed into the molten glass is 70% or more.
(제2 형태) (Second Embodiment)
유리 기판의 제조 방법은, A method of manufacturing a glass substrate,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
상기 용융 유리로 이루어지는 액상과, 상기 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 상기 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에 있어서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과, Wherein said molten glass has a liquid phase composed of said molten glass and a vapor phase space formed from a wall of said molten glass and at least a part of a wall surrounding said vapor phase is made of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from the wall present in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리 처리 공정에서 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 응집물 처리 공정을 구비한다. And a step of reducing the size of the agglomerates mixed in the molten glass so that the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 탆 or less among the agglomerates mixed into the molten glass in the molten glass treatment step is 70% .
(제3 형태) (Third Embodiment)
유리 기판의 제조 방법은, A method of manufacturing a glass substrate,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에 있어서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정을 구비하고, Wherein the molten glass has a space in which a surface of the molten glass and a vapor space surrounded by the wall are formed and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, And a molten glass treatment step in which an aggregate of volatile substances of the platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기가 작아지도록, 상기 용융 유리에 있어서의 상기 응집물의 용해도를 조정하는 응집물 처리 공정을 구비한다. And an aggregate treatment step of adjusting the solubility of the aggregate in the molten glass so that the size of the aggregate mixed into the molten glass becomes small.
(제4 형태) (Fourth Embodiment)
유리 기판의 제조 방법은, A method of manufacturing a glass substrate,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
상기 용융 유리로 이루어지는 액상과, 상기 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 상기 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에 있어서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정을 구비하고, Wherein said molten glass has a liquid phase composed of said molten glass and a vapor phase space formed from a wall of said molten glass and at least a part of a wall surrounding said vapor phase is made of a material containing a platinum group metal, And a molten glass treatment step in which the aggregate of volatile substances of the platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
상기 응집물에 부여하는 열량이, 상기 용융 유리에 혼입된 상기 응집물의 크기를 작게 할 수 있는 최소 열량 이상이 되도록, 상기 응집물에 부여하는 열량을 제어하는 응집물 처리 공정을 더 구비한다. Further comprising an aggregate treatment step of controlling the amount of heat given to the aggregate so that the amount of heat imparted to the aggregate is equal to or greater than a minimum amount of heat that can reduce the size of the aggregate incorporated in the molten glass.
(제5 형태) (Fifth Embodiment)
상기 유리 기판의 제조 방법에 있어서, 상기 기상 공간과 접하는 상기 벽의 최고 온도와 최저 온도의 차를 5℃ 이상으로 하고, 상기 기상 공간은 산소를 포함하는, 제1 형태 내지 제4 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein a difference between a maximum temperature and a minimum temperature of the wall in contact with the vapor phase space is set to 5 DEG C or more and the vapor phase space is made of any one of the first to fourth forms Of the glass substrate.
(제6 형태) (Sixth embodiment)
상기 응집물 처리 공정은, 상기 응집물을 포함하는 상기 용융 유리의 온도를, 상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 용융 유리의 온도와 비교하여 높아지도록 승온시키는, 상기 제1 형태 내지 상기 제5 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. 혹은, 상기 응집물 처리 공정에 있어서, 상기 용융 유리의 온도는 최고 온도가 된다. Wherein the aggregate treatment step raises the temperature of the molten glass including the aggregate to be higher than the temperature of the molten glass in a region where the aggregate is mixed with the molten glass in the molten glass treatment step, And the method of manufacturing a glass substrate according to any one of the fifth to fifth aspects. Alternatively, in the aggregate treatment step, the temperature of the molten glass becomes the maximum temperature.
(제7 형태) (Seventh Embodiment)
상기 응집물 처리 공정에서는, 상기 응집물의 용융 유리에의 용해도를, 상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 상기 용해도에 비교하여 높게 하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제6 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. 혹은, 상기 응집물 처리 공정은, 상기 응집물의 용융 유리에의 용해도를 높임으로써, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제6 형태 중 어느 하나의 형태의 유리 기판의 제조 방법. 상세하게는, 상기 응집물 처리 공정은, 상기 응집물의 용융 유리에의 용해도를 높이도록 용융 유리를 가열 제어함으로써, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제6 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein in the aggregate treatment step, the solubility of the aggregate in the molten glass is made higher than the solubility in the region in which the aggregate is mixed in the molten glass in the molten glass treatment step, A method of manufacturing a glass substrate according to any one of the preceding claims. Alternatively, the flocculation treatment step may be a step of increasing the solubility of the aggregate in the molten glass so as to reduce the size of the aggregate mixed in the molten glass. In the glass substrate of any one of the first to sixth aspects, Gt; Specifically, the flocculating material processing step is a step of reducing the size of the flocculated material mixed in the molten glass by heating and controlling the molten glass so as to increase the solubility of the flocculated material in the molten glass. A method of manufacturing a glass substrate according to any one of the preceding claims.
(제8 형태) (Embodiment 8)
상기 유리 처리 장치는, 청징관을 갖는 청징 장치이며, The glass processing apparatus is a purifying apparatus having a purifying tube,
상기 용융 유리는, 상기 청징관에 흐르고, The molten glass flows in the purifying tube,
상기 청징관 내의 상기 기상 공간은, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 형성되고, 상기 응집물 처리 공정은, 상기 청징관에서 행해지는, 상기 제1 형태 내지 상기 제7 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein the vapor phase space in the purifying tube is formed along the flow direction of the molten glass and the aggregate processing step is carried out in the glass tube described in any one of the first to seventh aspects, / RTI >
(제9 형태) (Ninth embodiment)
상기 용융 유리 처리 공정에서는, 상기 용융 유리에 포함되는 산화주석을 사용해서 상기 용융 유리 중의 기포수를 저감하는 청징 처리를 행하고, 상기 용융 유리는, 상기 유리 처리 장치에 흐르고, 상기 기상 공간과 접하는 상기 벽에는, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 온도 분포를 형성시키고, 상기 기상 공간에는, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 산소 농도 분포를 형성시키는, 상기 제1 형태 내지 상기 제8 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein in the molten glass treatment step, a fining treatment for reducing the number of bubbles in the molten glass is performed using tin oxide contained in the molten glass, the molten glass flows in the glass processing apparatus, The wall is formed with a temperature distribution along the flow direction of the molten glass and an oxygen concentration distribution is formed in the vapor space along the flow direction of the molten glass. Wherein the glass substrate is a glass substrate.
(제10 형태) (Tenth Embodiment)
상기 응집물 처리 공정은, 상기 유리 처리 장치에서 행해지고, 상기 용융 유리는, 상기 유리 처리 장치에 흐르고, 상기 유리 처리 장치에 흐르는 용융 유리 중, 상기 기상 공간에서의 용융 유리의 흐름 방향에 있어서, 산소 농도가 가장 높아지는 영역과 대응하는 위치에 흐르는 용융 유리에 대해 행해지는, 상기 제1 형태 내지 상기 제9 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein the flocculation treatment step is carried out in the glass treatment apparatus and the molten glass flows in the glass treatment apparatus and flows in the molten glass flowing in the glass treatment apparatus in the flow direction of the molten glass in the vapor phase, Is carried out with respect to the molten glass flowing at a position corresponding to the highest region of the glass substrate.
(제11 형태) (11th form)
상기 기상 공간 중의 산소 농도를, 0% 초과이며, 1.0% 이하로 하고, 상기 기상 공간과 접하는 상기 벽의 최고 온도와 최저 온도의 차를, 5℃ 이상이며, 100℃ 이하로 하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제10 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein the oxygen concentration in the vapor phase space is set to more than 0% and not more than 1.0%, and a difference between a maximum temperature and a minimum temperature of the wall in contact with the vapor space is 5 ° C or more and 100 ° C or less, To (10), wherein the glass substrate is a glass substrate.
(제12 형태) (Twelfth Mode)
상기 응집물 처리 공정에 있어서의 상기 용융 유리의 온도를, 1670℃ 내지 1730℃의 온도 범위로 하도록 용융 유리의 온도를 제어하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제11 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. The glass substrate according to any one of the first to eleventh aspects, wherein the temperature of the molten glass is controlled so that the temperature of the molten glass in the aggregate treatment step is in the range of 1670 캜 to 1730 캜 ≪ / RTI >
(제13 형태) (Thirteenth Aspect)
상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 상기 용융 유리의 온도를, 1580℃ 내지 1660℃의 온도 범위로 하도록 용융 유리의 온도를 제어하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제12 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. Wherein the temperature of the molten glass is controlled so that the temperature of the molten glass in the region where the aggregate is mixed into the molten glass in the molten glass treatment step is in the range of 1580 캜 to 1660 캜. Wherein the glass substrate is a glass substrate.
(제14 형태) (Fourteenth Aspect)
상기 용융 유리 처리 공정은, 상기 응집물 처리 공정을 포함하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제13 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. The method of manufacturing a glass substrate according to any one of the first to thirteenth aspects, wherein the molten glass treatment step includes the aggregate treatment step.
(제15 형태) (15th form)
상기 유리 기판은, 디스플레이용 유리 기판인, 상기 제1 형태 내지 상기 제14 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of the first to fourteenth aspects, wherein the glass substrate is a glass substrate for display.
(제16 형태) (Sixteenth Aspect)
상기 응집물 처리 공정 개시 시의 상기 용융 유리 중에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도를, 0.05 내지 20ppm으로 하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제15 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. The method for producing a glass substrate according to any one of the first to fifteenth aspects, wherein the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process is 0.05 to 20 ppm.
(제17 형태)(17th form)
상기 응집물 처리 공정에서는, 유리 기판의 [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])가 0.2 내지 0.5가 되는 범위에서 상기 용융 유리의 상기 백금족 금속의 포화 용해도를 조정하는, 상기 제1 형태 내지 상기 제16 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. In the flocculation treatment step, the saturation solubility of the platinum group metal in the molten glass is adjusted in the range of [Fe 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]) A method for manufacturing a glass substrate according to any one of the first to sixteenth aspects.
(제18 형태) (18th form)
상기 유리 기판은, 알칼리 금속 산화물의 함유량이 0 내지 0.5질량%인, 상기 제1 형태 내지 상기 제17 형태 중 어느 하나의 형태에 기재된 유리 기판의 제조 방법. The glass substrate according to any one of the first to seventeenth aspects, wherein the content of the alkali metal oxide is 0 to 0.5% by mass.
(제19 형태) (19th form)
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에 있어서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과, Wherein the molten glass has a space in which a surface of the molten glass and a vapor space surrounded by the wall are formed and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from the wall present in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리 처리 공정에 있어서, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 적어도 일부를 상기 용융 유리에 용해시키는 응집물 처리 공정을 구비하고, And an aggregate treatment step of dissolving at least a part of the agglomerates mixed in the molten glass in the molten glass in the molten glass treatment step,
상기 응집물 처리 공정 개시 시의 상기 용융 유리 중에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도를, 0.05 내지 20ppm으로 하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. Wherein the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the flocculation treatment process is set to 0.05 to 20 ppm.
(제20 형태) (Twentieth Embodiment)
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 만드는 용해 공정과, A dissolving step of dissolving a glass raw material to produce a molten glass,
상기 용융 유리의 도입에 의해 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되고, 상기 기상 공간에 접하는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치를 사용해서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과, Wherein a vapor phase space surrounded by the surface and the wall of the molten glass is formed by the introduction of the molten glass and at least a part of the wall contacting the vapor phase is formed of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리 처리 공정에서 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 적어도 일부를 상기 용융 유리에 용해시키는 응집물 처리 공정을 구비하고, And an aggregate treatment step of dissolving at least a part of the agglomerates mixed in the molten glass in the molten glass treatment step in the molten glass,
상기 응집물 처리 공정에서는, 새롭게 제작되는 유리 기판에 포함되는 상기 응집물의 결함 개수가 허용 레벨이 되도록, 상기 유리 처리 장치를 사용해서 제작한 유리 기판에 있어서 검출된 상기 응집물의 결함 개수에 기초하여 상기 용융 유리의 온도를 조정함으로써 상기 응집물 백금족 금속의 포화 용해도를 조정하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. In the aggregate treatment step, the number of defects of the aggregate contained in the glass substrate to be newly manufactured is set to an allowable level, and the number of defects of the aggregate detected on the glass substrate produced by using the glass treatment apparatus Wherein the saturation solubility of the aggregated platinum group metal is adjusted by adjusting the temperature of the glass.
여기서, 상기 응집물 처리 공정에서는, 상기 응집물의 포화 용해도를 조정하기 위해, 상기 용융 유리의 온도를 1660 내지 1750℃의 범위로 조정하는 것이 바람직하다. Here, in the flocculation treatment step, the temperature of the molten glass is preferably adjusted to be in the range of 1660 to 1750 DEG C in order to adjust saturation solubility of the flocculated product.
(제21 형태) (Twenty-first Embodiment)
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 만드는 용해 공정과, A dissolving step of dissolving a glass raw material to produce a molten glass,
상기 용융 유리의 도입에 의해 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되고, 상기 기상 공간에 접하는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치를 사용해서 상기 용융 유리를 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과, Wherein a vapor phase space surrounded by the surface and the wall of the molten glass is formed by the introduction of the molten glass and at least a part of the wall contacting the vapor phase is formed of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass during the treatment of the molten glass,
상기 용융 유리 처리 공정에서 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 적어도 일부를 상기 용융 유리에 용해시키는 응집물 처리 공정을 구비하고, And an aggregate treatment step of dissolving at least a part of the agglomerates mixed in the molten glass in the molten glass treatment step in the molten glass,
상기 응집물 처리 공정에서는, 유리 기판에 포함되는 상기 응집물의 결함 개수가 허용 레벨이 되도록, 유리 기판의 [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])를 0.2 내지 0.5의 범위로 조정함으로써, 상기 용융 유리의 상기 백금족 금속의 포화 용해도를 조정하는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. [Fe 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]) of the glass substrate is adjusted in the range of 0.2 to 0.5 in the aggregate treatment step so that the number of defects of the aggregate contained in the glass substrate is at an allowable level To adjust the saturation solubility of the platinum group metal in the molten glass.
여기서, 상기 [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])는, 상기 유리 기판이 함유하는 산화주석의 함유량 및 유리 원료에 포함되는 산화물의 함유량 중 적어도 어느 하나를 조절함으로써 조정되는 것이 바람직하다. Here, the [Fe 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]) may be adjusted by adjusting at least one of the content of tin oxide contained in the glass substrate and the content of the oxide contained in the glass raw material Is preferably adjusted.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 복수매의 유리 기판이 적층된 유리 기판 적층체이다. 이때, 이하의 제22 형태를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a glass substrate laminate comprising a plurality of glass substrates laminated. At this time, the following twenty-second embodiment is included.
(제22 형태) (Twenty-second Mode)
상기 유리 기판 적층체 중의 유리 기판의 체적 합계는 0.1㎥ 이상이며, 상기 유리 기판이 포함하는 전체 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율은, 70% 이상인 것을 특징으로 하는 유리 기판 적층체. Wherein the total volume of the glass substrates in the glass substrate laminate is 0.1 m 3 or more and the ratio of the number of the aggregates having a maximum length of 50 m or less among all the aggregates of the platinum group metal contained in the glass substrate is 70% Glass substrate laminate.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 유리 기판이며, 이하의 제23 형태를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a glass substrate comprising the following 23rd mode.
(제23 형태) (23rd form)
유리 기판이 포함하는 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율은, 70% 이상인 것을 특징으로 하는 유리 기판. Wherein the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 탆 or less among the agglomerates of the platinum group metal contained in the glass substrate is 70% or more.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 유리 기판 제조 장치이다. 그 유리 기판 제조 장치는, 이하의 형태를 포함한다. Still another aspect of the present invention is a glass substrate manufacturing apparatus. The glass substrate manufacturing apparatus includes the following modes.
(제24 형태) (Twenty-fourth Aspect)
유리 기판 제조 장치는, In the glass substrate manufacturing apparatus,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 장치와, A melting apparatus for melting glass raw materials to produce molten glass,
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된, 상기 용융 유리를 처리하는 장치이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 유리 처리 장치와, And a space in which a vapor phase space surrounded by the surface and the wall of the molten glass is formed by the introduction of the molten glass, wherein at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, A glass processing device in which an aggregate of volatiles of a platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed into the molten glass as a foreign substance when the molten glass is processed,
상기 용융 유리 처리 공정에서 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 처리 수단을 구비한다. And processing means for reducing the size of the agglomerates mixed in the molten glass so that the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 μm or less among the agglomerates incorporated into the molten glass in the molten glass processing step is 70% or more.
또한, 본 발명의 다른 일 형태도, 유리 기판 제조 장치이다. 그 유리 기판 제조 장치는, 이하의 형태를 포함한다. Another aspect of the present invention is a glass substrate manufacturing apparatus. The glass substrate manufacturing apparatus includes the following modes.
(제25 형태) (Twenty-fifth Aspect)
유리 기판 제조 장치는, In the glass substrate manufacturing apparatus,
유리의 원료를 용해해서 용융 유리를 생성하는 용해 장치와, A melting apparatus for melting glass raw materials to produce molten glass,
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된, 상기 용융 유리를 처리하는 장치이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 유리 처리 장치를 구비하고, And a space in which a vapor phase space surrounded by the surface and the wall of the molten glass is formed by the introduction of the molten glass, wherein at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, And a glass processing apparatus in which an aggregate of volatile substances of the platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed into the molten glass as a foreign substance when the molten glass is processed,
상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기가 작아지도록, 상기 용융 유리에 있어서의 상기 응집물의 용해도를 조정하는 수단을 구비한다. And means for adjusting the solubility of the aggregate in the molten glass so that the size of the aggregate mixed into the molten glass becomes smaller.
(제26 형태) (26th form)
상기 제1 형태 내지 상기 제21 형태의 유리 기판의 제조 방법, 상기 제22 형태의 유리 기판 적층체, 상기 제23 형태의 유리 기판 및 상기 제24, 제25 형태의 유리 기판 제조 장치 중 어느 하나의 형태에 있어서의 상기 유리 기판은, 650℃ 이상의 변형점을 더 갖는 유리 기판이다. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of the first to fifteenth aspects, the glass substrate laminate according to the twenty-second aspect, the glass substrate according to the twenty-third aspect, and the glass substrate producing apparatus according to the twenty- Type glass substrate is a glass substrate having a strain point of 650 DEG C or more.
상기 제1 형태 내지 상기 제21 형태의 유리 기판의 제조 방법, 상기 제22 형태의 유리 기판 적층체, 상기 제23 형태의 유리 기판 및 상기 제24, 제25 형태의 유리 기판 제조 장치 중 어느 하나의 형태에 있어서의 상기 유리 기판은, 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, 혹은 LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용된다. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of the first to fifteenth aspects, the glass substrate laminate according to the twenty-second aspect, the glass substrate according to the twenty-third aspect, and the glass substrate producing apparatus according to the twenty- Is used as a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for an organic EL (Electro-Luminescence) display, or a glass substrate for a display using an LTPS (Low Temperature Poly-silicon) thin film semiconductor.
상술한 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판, 유리 기판 적층체 및 유리 기판 제조 장치에 의하면, 유리 기판에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되어도, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. 이에 의해, 유리 기판의 제조 시의 수율이 향상된다. According to the glass substrate manufacturing method, the glass substrate, the glass substrate laminate and the glass substrate manufacturing apparatus described above, even if foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal are mixed into the glass substrate, the glass substrate is hardly deformed, It is possible to make it difficult to form the concave / As a result, the yield during the production of the glass substrate is improved.
도 1은 실시 형태에 관한 유리 기판의 제조 방법의 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 실시 형태에 관한 유리 기판 제조 장치의 구성을 도시하는 모식도이다.
도 3은 실시 형태에 관한 청징관을 주로 나타낸 외관도이다.
도 4는 실시 형태에 관한 청징관의 내부를 나타내는 단면도와 청징관의 온도 프로파일의 일례를 나타내는 도면이다.
도 5는 용융 유리의 최고 온도와 이물질의 비율과의 관계를 나타내는 그래프도이다. BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a flowchart showing a process of a method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment.
2 is a schematic diagram showing a configuration of a glass substrate manufacturing apparatus according to the embodiment.
3 is an external view mainly showing a purifying pipe according to the embodiment.
4 is a cross-sectional view showing the inside of the purifying tube according to the embodiment and an example of the temperature profile of the purifying tube.
5 is a graph showing the relationship between the maximum temperature of the molten glass and the ratio of the foreign material.
본 실시 형태의 유리 기판의 제조 방법은, 용융 유리의 도입에 의해, 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치, 예를 들어, 용융 유리로 이루어지는 액상과, 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치에서 용융 유리를 처리한다(용융 유리 처리 공정). 이 용융 유리의 처리 시, 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 용융 유리에 혼입된다. 용융 유리에 혼입된 상기 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 처리를 행한다(응집물 처리 공정). 혹은, 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기가 작아지도록, 용융 유리에 있어서의 이물질(응집물)의 용해도를 조정한다. 예를 들어, 이물질(응집물)에 부여하는 열량이, 용융 유리에 혼입된 이물질(응집물)의 크기를 작게 할 수 있는 최소 열량 이상이 되도록, 이물질(응집물)에 부여하는 열량을 제어한다(응집물 처리 공정). The method of manufacturing a glass substrate of the present embodiment is a method of manufacturing a glass substrate having a space in which a surface of a molten glass and a vapor space enclosed by a wall are formed by the introduction of molten glass and at least a part of the wall is composed of a glass A glass processing apparatus comprising a processing apparatus, for example, a liquid phase made of molten glass, a vapor phase space formed from the liquid surface and the wall of the molten glass, and at least a part of a wall surrounding the vapor phase is made of a material containing a platinum group metal The molten glass is treated (molten glass processing step). During the processing of the molten glass, aggregates of volatiles of the platinum group metal which are present in the vapor phase space and volatilized from the wall are mixed into the molten glass as foreign matter. A process of reducing the size of the agglomerates mixed in the molten glass is performed so that the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 탆 or less among the agglomerates incorporated into the molten glass is 70% or more (agglomerate processing step). Alternatively, the solubility of the foreign matter (agglomerate) in the molten glass is adjusted so that the size of the agglomerates mixed into the molten glass becomes small. For example, the amount of heat given to a foreign substance (agglomerate) is controlled so that the amount of heat given to the foreign substance (agglomerate) is equal to or more than a minimum amount of heat that can reduce the size of the foreign substance (agglomerate) fair).
이와 같이, 유리 기판에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 작게 함으로써, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. 이로 인해, 종래의 문제를 개선하여, 유리 기판의 제조 수율을 개선한다. By reducing the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal incorporated into the glass substrate in this way, it is difficult for the glass substrate to be deformed, making it difficult to form the irregularities on the main surface of the glass substrate. This improves the conventional problems and improves the production yield of the glass substrate.
이후의 설명에서는, 응집물의 용융 유리에 대한 용해도가, 응집물이 용융 유리에 용해되어 크기를 작게 할 수 있는 최소 용해도 이상이 되도록, 용해도를 조정하는 조건을 제어하는 예로서, 응집물에 부여하는 열량이, 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 할 수 있는 최소 열량 이상이 되도록, 응집물에 부여하는 열량을 제어하는 예를 들어 설명한다. In the following description, an example of controlling the conditions for adjusting the solubility so that the solubility of the aggregate in the molten glass is at least the minimum solubility that allows the aggregate to dissolve in the molten glass to reduce the size thereof, And the amount of heat applied to the agglomerates is controlled so as to be equal to or more than the minimum heat amount capable of reducing the size of the agglomerates incorporated into the molten glass.
(유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치) (Manufacturing Method of Glass Substrate and Glass Substrate Manufacturing Apparatus)
도 1은, 본 실시 형태에 관한 유리 기판의 제조 방법의 공정의 일례를 나타내는 흐름도이다. 유리 기판의 제조 방법은, 도 1에 도시되는 바와 같이, 주로, 용해 공정 S1과, 청징 공정 S2와, 교반 공정 S3과, 성형 공정 S4와, 서냉 공정 S5와, 절단 공정 S6을 구비한다. Fig. 1 is a flow chart showing an example of a process of a manufacturing method of a glass substrate according to the present embodiment. As shown in Fig. 1, a method of manufacturing a glass substrate mainly includes a melting step S1, a clarifying step S2, a stirring step S3, a molding step S4, a slow cooling step S5, and a cutting step S6.
도 2는, 본 실시 형태에 관한 유리 기판 제조 장치(200)의 구성의 일례를 도시하는 모식도이다. 유리 기판 제조 장치(200)는, 용해조(40)와, 청징관(41)과, 교반 장치(100)와, 성형 장치(42)와, 이송관(43a, 43b, 43c)을 구비한다. 이송관(43a)은 용해조(40)와 청징관(41)을 접속한다. 이송관(43b)은 청징관(41)과 교반 장치(100)를 접속한다. 이송관(43c)은 교반 장치(100)와 성형 장치(42)를 접속한다. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the glass substrate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment. The glass substrate manufacturing apparatus 200 includes a melting vessel 40, a clarifying tube 41, a stirring device 100, a molding device 42, and transfer tubes 43a, 43b and 43c. The transfer pipe (43a) connects the melting tank (40) and the cleaning pipe (41). The transfer pipe 43b connects the purifying pipe 41 and the agitation device 100. The transfer pipe 43c connects the agitation apparatus 100 and the molding apparatus 42.
용해 공정 S1에서는, 유리의 원료를 용해해서 용융 유리가 생성된다. 용융 유리는 용해조(40)에 저류되고, 원하는 온도를 갖도록 가열된다. 용융 유리는 청징제를 함유한다. 환경 부하 저감의 관점에서, 청징제로서 산화주석이 적절하게 사용된다. In the melting step S1, molten glass is produced by melting the glass raw material. The molten glass is stored in the melting tank 40 and heated to have a desired temperature. The molten glass contains a refining agent. From the viewpoint of environmental load reduction, tin oxide is suitably used as a fining agent.
용해조(40)에서는, 유리 원료는, 그 조성 등에 따른 온도로 가열되어 용해된다. 이에 의해, 용해조(40)에서는, 예를 들어, 1500℃ 내지 1620℃의 고온의 용융 유리 G가 얻어진다. 또한, 용해조(40)에서는, 적어도 한 쌍의 전극간에 전류를 흘림으로써, 전극간의 용융 유리 G가 통전 가열되어도 좋고, 또한, 통전 가열 외에 버너에 의한 화염을 보조적으로 부여함으로써, 유리 원료가 가열되어도 좋다. In the melting tank 40, the glass raw material is heated and melted at a temperature according to the composition and the like. Thus, in the melting tank 40, for example, a molten glass G having a high temperature of 1500 to 1620 占 폚 is obtained. Further, in the melting tank 40, the molten glass G between the electrodes may be heated by conduction of electric current between at least one pair of electrodes, and the flame by the burner is additionally provided in addition to the conduction heating, good.
청징 공정 S2는, 용융 유리가 흐르는 이송관(43a) 및 청징관(41)의 내부에서 행해진다. 최초에, 용융 유리의 온도를 상승시킨다. 청징제는, 승온에 의해 환원 반응을 일으켜서 산소를 방출한다. 용융 유리 중에 포함되는 기포는, 방출된 산소를 흡수해서 확대하고, 용융 유리가 기상 공간과 접하는 표면에 부상하고, 파포되어 소멸된다. 즉, 탈포 처리 공정 S2A가 행해진다. 또한, 탈포 처리 공정 S2A의 도중으로부터, 혹은, 탈포 처리 공정 S2A의 종료 후, 용융 유리의 온도를 높게 하여, 탈포 처리에 있어서 혼입된 백금족 금속의 응집물의 크기를 저감하는 응집물 처리 공정 S2B가 행해진다. 그 후, 용융 유리의 온도를 저하시킨다. 이에 의해, 환원된 청징제는 산화 반응을 일으켜서, 용융 유리 중에 잔존하고 있는 산소 등의 가스 성분을 흡수한다. 즉, 흡수 처리 공정 S2C가 행해진다. The fining step S2 is performed inside the transfer pipe 43a and the cleaning pipe 41 through which the molten glass flows. Initially, the temperature of the molten glass is raised. The refining agent causes a reduction reaction by raising the temperature to release oxygen. The bubbles contained in the molten glass absorb the released oxygen and expand, and the molten glass floats on the surface in contact with the vapor phase, and is poured and disappears. That is, the defoaming process S2A is performed. Further, the temperature of the molten glass is raised from the middle of the defoaming process S2A or after the defoaming process S2A, and the flocculating process S2B for reducing the size of the aggregate of the platinum group metal incorporated in the defoaming process is performed . Thereafter, the temperature of the molten glass is lowered. As a result, the reduced refining agent causes an oxidation reaction to absorb gas components such as oxygen remaining in the molten glass. That is, the absorption processing step S2C is performed.
구체적으로는, 용해조(40)에서 얻어진 용융 유리 G는, 용해조(40)로부터 이송관(43a)을 통과해서 청징관(41)에 유입된다. 청징관(41)은 용융 유리 G의 도입에 의해, 용융 유리 G의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 이 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성되어 있다. 예를 들어, 용융 유리가 흐르는 액상과, 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성되어 있다. 이송관(43a, 43b, 43c)은 백금족 금속제의 관이다. 또한, 백금족 금속은, 단일의 백금족 원소로 이루어지는 금속 및 백금족 원소로 이루어지는 금속의 합금을 의미한다. 백금족 원소는, 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 오스뮴(Os) 및 이리듐(Ir)의 6원소이다. 본 실시 형태에서는, 예를 들어, 백금 함유량이 70% 이상인 백금과 로듐의 합금이 적절하게 사용된다. 백금족 금속은 융점이 높고, 용융 유리에 대한 내식성이 우수하다. 청징관(41)에는 용해조(40)와 마찬가지로 가열 수단이 설치되어 있다. 또한, 적어도 이송관(43a)에도 가열 수단이 설치되어 있다. Concretely, the molten glass G obtained in the melting tank 40 flows from the melting tank 40 through the transfer pipe 43a and into the cleaning pipe 41. The purifying pipe 41 has a space in which a vapor space surrounded by the surface and the wall of the molten glass G is formed by the introduction of the molten glass G and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal. For example, at least a part of the liquid phase through which the molten glass flows, the vapor phase space formed from the liquid surface and the wall of the molten glass, and at least a part of the wall surrounding the vapor phase space is made of a material containing a platinum group metal. The transfer pipes 43a, 43b and 43c are pipes made of a platinum group metal. The platinum group metal means an alloy of a metal composed of a single platinum group element and a metal composed of a platinum group element. Platinum group elements are six elements of platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os) and iridium (Ir). In the present embodiment, for example, an alloy of platinum and rhodium having a platinum content of 70% or more is suitably used. Platinum group metals have a high melting point and are excellent in corrosion resistance to molten glass. A heating means is provided in the purifying tube 41 in the same manner as the melting vessel 40. Also, at least the transfer pipe 43a is provided with a heating means.
청징 공정 S2에서는, 용융 유리 G를 승온함으로써 탈포하는 탈포 처리 공정과, 용융 유리에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물)에 부여하는 열량을 조정함으로써, 백금족 금속의 이물질(응집물)을 분단, 혹은 용해해서 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감하는 응집물 처리 공정과, 용융 유리를 강온함으로써, 용융 유리 중의 기포를 용융 유리가 흡수하는 흡수 처리 공정을 행한다. 응집물 처리 공정에서는, 용융 유리에 혼입된 이물질(응집물)을 분단하거나, 혹은 용해해서 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 작게 하기 위해서는, 이물질(응집물)에 부여하는 열량을, 소정의 열량(최소 열량) 이상으로 할 필요가 있다. 이 경우, 이물질(응집물)에 부여하는 열량이, 이 최소 열량 이상이 되도록, 용융 유리 중의 이물질(응집물)에 부여하는 열량을 제어한다. 상기 최소 열량은, 미리 실험 등에 의해 미리 조사할 수 있다. 최소 열량을 용융 유리 G의 온도로 제어하는 경우, 예를 들어, 청징관(41)에 있어서의 용융 유리 G의 온도를, 1580℃ 내지 1730℃의 범위, 바람직하게는 1670℃ 내지 1730℃의 범위로 제어한다. In the refining step S2, the depletion treatment step of degassing by elevating the temperature of the molten glass G and the amount of heat imparted to foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal incorporated into the molten glass are adjusted to separate or dissolve foreign substances (agglomerates) An aggregate treatment step of reducing the size of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal, and an absorption treatment step in which the molten glass is absorbed by the molten glass by lowering the temperature of the molten glass. In order to separate or dissolve foreign matters (agglomerates) mixed in the molten glass in the agglomerate treatment step to reduce the size of foreign substances (agglomerates) of platinum group metals, the amount of heat given to the foreign matter (agglomerates) Calories) or more. In this case, the amount of heat given to the foreign matter (agglomerate) in the molten glass is controlled so that the amount of heat given to the foreign matter (agglomerate) is equal to or more than the minimum amount of heat. The minimum amount of heat can be inspected in advance by experiment or the like. In the case where the minimum amount of heat is controlled to the temperature of the molten glass G, for example, the temperature of the molten glass G in the purifying pipe 41 is controlled within the range of 1580 캜 to 1730 캜, preferably in the range of 1670 캜 to 1730 캜 .
청징 공정 S2에서는, 용융 유리 G의 청징을 충분히 행한다고 하는 관점에서는, 이송관(43a)의 내부에 흐르는 용융 유리 G의 온도는, 강온되는 일 없이, 순차 승온되는 것이 바람직하다. 용해 공정 S1의 후, 용융 유리 G는 1630℃ 이상까지 3℃/분 이상의 속도로 승온되는 것이 바람직하다. In the firing step S2, it is preferable that the temperature of the molten glass G flowing inside the transfer pipe 43a is gradually raised without lowering the temperature, from the viewpoint of sufficiently purifying the molten glass G. After the melting step S1, the molten glass G is preferably heated at a rate of 3 DEG C / min or more to 1630 DEG C or higher.
이송관(43a)에 흐르는 용융 유리 G의 최고 온도는 1620℃ 내지 1690℃이고, 1640℃ 내지 1670℃인 것이 바람직하다. 또한, 이송관(43a)과 청징관(41)을 접속하는 영역인 청징관 입구에서의 용융 유리 G의 온도는, 1610℃ 내지 1680℃이고, 1630℃ 내지 1660℃인 것이 바람직하다. 또한, 청징관(41)과 이송관(43b)을 접속하는 영역인 청징관 출구에서의 용융 유리 G의 온도는, 1530℃ 내지 1600℃이고, 1540℃ 내지 1580℃인 것이 바람직하다. The maximum temperature of the molten glass G flowing through the transfer pipe 43a is preferably 1620 to 1690 캜 and preferably 1640 to 1670 캜. It is preferable that the temperature of the molten glass G at the inlet of the purifying tube which is the area where the transfer pipe 43a and the purifying pipe 41 are connected is 1610 캜 to 1680 캜 and 1630 캜 to 1660 캜. It is preferable that the temperature of the molten glass G at the outlet of the purifying tube which is the area connecting the purifying pipe 41 and the transfer pipe 43b is 1530 캜 to 1600 캜 and 1540 캜 to 1580 캜.
청징관(41)에 있어서 청징된 용융 유리 G는, 청징관(41)으로부터 이송관(43b)을 통과해서 교반 장치(100)에 유입된다. 용융 유리 G는, 이송관(43b)을 통과할 때에 냉각된다. The refined molten glass G in the purifying pipe 41 flows from the purifying pipe 41 to the stirring device 100 through the transfer pipe 43b. The molten glass G is cooled when it passes through the transfer pipe 43b.
교반 공정 S3에서는, 청징된 용융 유리가 교반되어, 용융 유리의 성분이 균질화된다. 이에 의해, 유리 기판의 맥리 등의 원인인 용융 유리의 조성 불균일이 저감된다. 균질화된 용융 유리는, 성형 공정 S4로 보내진다. In the stirring step S3, the refined molten glass is stirred to homogenize the components of the molten glass. As a result, the unevenness of the composition of the molten glass, which is a cause of spalling of the glass substrate, is reduced. The homogenized molten glass is sent to the molding step S4.
구체적으로는, 교반 장치(100)에서는, 청징관(41)을 통과하는 용융 유리 G의 온도보다도 낮은 온도로, 용융 유리 G가 교반된다. 예를 들어, 교반 장치(100)에 있어서, 용융 유리 G의 온도는, 1250℃ 내지 1450℃이다. 예를 들어, 교반 장치(100)에 있어서, 용융 유리 G의 점도는, 500푸아즈 내지 1300푸아즈이다. 용융 유리 G는, 교반 장치(100)에 있어서 교반되어 균질화된다. Specifically, in the stirring apparatus 100, the molten glass G is agitated at a temperature lower than the temperature of the molten glass G passing through the purifying pipe 41. For example, in the stirring apparatus 100, the temperature of the molten glass G is 1250 캜 to 1450 캜. For example, in the stirring apparatus 100, the viscosity of the molten glass G is 500 poise to 1,300 poise. The molten glass G is stirred and homogenized in the stirring apparatus 100.
교반 장치(100)에서 균질화된 용융 유리 G는, 교반 장치(100)로부터 이송관(43c)을 통과해서 성형 장치(42)에 유입된다. 용융 유리 G는, 이송관(43c)을 통과할 때에 용융 유리 G의 성형에 적합한 점도가 되도록 냉각된다. 예를 들어, 용융 유리 G는, 1100 내지 1300℃까지 냉각된다. The molten glass G homogenized in the stirring apparatus 100 is introduced into the molding apparatus 42 from the stirring apparatus 100 through the transfer pipe 43c. The molten glass G is cooled so as to have a viscosity suitable for molding the molten glass G when it passes through the transfer pipe 43c. For example, the molten glass G is cooled to 1100 to 1300 占 폚.
또한, 본 실시 형태의 교반 공정 S3은, 청징 공정 S2의 후에 행해지지만, 교반 공정 S3은, 청징 공정 S2 전에 행해져도 좋다. 이 경우, 교반 공정 S3 시의 용융 유리 G의 온도는, 청징관(41) 내의 용융 유리 G의 온도와 동등하거나 높아도 좋다. The stirring step S3 of the present embodiment is performed after the fining step S2, but the stirring step S3 may be performed before the fining step S2. In this case, the temperature of the molten glass G in the stirring step S3 may be equal to or higher than the temperature of the molten glass G in the purifying pipe 41. [
성형 공정 S4에서는, 오버플로우 다운드로법 또는 플로트법에 의해, 용융 유리로부터 시트 유리가 연속적으로 성형된다. In the molding step S4, the sheet glass is continuously formed from the molten glass by the overflow down-draw method or the float method.
구체적으로는, 성형 장치(42)에 유입된 용융 유리 G는, 성형로(도시하지 않음)의 내부에 설치되어 있는 성형체(52)에 공급된다. 성형체(52)의 상면에는, 성형체(52)의 길이 방향을 따라서 홈이 형성되어 있다. 용융 유리 G는, 성형체(52)의 상면 홈에 공급된다. 홈으로부터 넘친 용융 유리 G는, 성형체(52)의 한 쌍의 측면을 타고 하방으로 유하한다. 성형체(52)의 측면을 유하한 한 쌍의 용융 유리 G는, 성형체(52)의 하단부에서 합류하여, 시트 유리 GR이 연속적으로 성형된다. Specifically, the molten glass G introduced into the molding apparatus 42 is supplied to a molded body 52 provided inside a molding furnace (not shown). On the upper surface of the molded body 52, a groove is formed along the longitudinal direction of the molded body 52. The molten glass G is supplied to the upper surface grooves of the molded body 52. The molten glass G overflowing from the groove flows downward along a pair of side surfaces of the molded body 52. The pair of molten glass G having the side surface of the molded body 52 lowered merges at the lower end of the molded body 52, and the sheet glass GR is continuously molded.
서냉 공정 S5에서는, 성형 공정 S4에서 연속적으로 성형된 시트 유리가 원하는 두께를 갖고, 또한, 변형 및 휨이 생기지 않도록 서서히 냉각된다. In the slow cooling step S5, the sheet glass continuously formed in the molding step S4 has a desired thickness and is gradually cooled so as to prevent deformation and warping.
절단 공정 S6에서는, 서냉 공정 S5에서 서냉된 시트 유리가 소정의 길이로 절단되어, 유리 시트가 얻어진다. 유리 시트는, 또한, 소정의 크기로 절단되어, 유리 기판이 얻어진다. In the cutting step S6, the sheet glass that has been slowly cooled in the gradual cooling step S5 is cut to a predetermined length, and a glass sheet is obtained. The glass sheet is further cut to a predetermined size to obtain a glass substrate.
(유리 기판 적층체 및 유리 기판) (Glass substrate laminate and glass substrate)
본 실시 형태는, 복수매의 유리 기판을 적층해서 형성된 유리 기판 적층체 및 유리 기판을 제공한다. This embodiment provides a glass substrate laminate formed by laminating a plurality of glass substrates and a glass substrate.
본 실시 형태의 유리 기판 적층체는, 그 체적의 합계는 0.1㎥ 이상이며, 이 유리 기판 적층체가 포함하는 전체 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율은, 70% 이상인 것을 특징으로 한다. 이와 같은 유리 기판 적층체는, 후술하는 바와 같이, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. 이로 인해, 상기 적층체의 각 유리 기판은 디스플레이용 유리 기판에 적합하고, 특히, 화면 표시에서 고정밀이 요구되는 디스플레이 패널용 유리 기판에 있어서 유효하다. The total volume of the glass substrate laminate of the present embodiment is 0.1 m 3 or more and the ratio of the number of aggregates having a maximum length of 50 탆 or less among aggregate platinum group metals contained in the glass substrate laminate is 70% . Such a glass substrate laminate can hardly cause deformation on the glass substrate as described later, making it difficult to form irregularities on the main surface of the glass substrate. Therefore, each of the glass substrates of the laminate is suitable for a glass substrate for a display, and is particularly effective for a glass substrate for a display panel which requires high precision in screen display.
또한, 본 실시 형태의 유리 기판은, 유리 기판이 포함하는 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율은, 70% 이상인 것을 특징으로 한다. 이와 같은 구성의 유리 기판에 의해, 후술하는 바와 같이, 유리 기판에 변형이 보다 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 보다 만들기 어렵게 할 수 있다. The glass substrate of the present embodiment is characterized in that the ratio of the number of aggregates having a maximum length of 50 m or less among the aggregates of the platinum group metal contained in the glass substrate is 70% or more. With the glass substrate having such a constitution, deformation of the glass substrate is less likely to occur as described later, and it is possible to make the unevenness of the main surface of the glass substrate harder to be formed.
또한, 유리 기판 적층체 및 유리 기판은, 함유하는 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 90% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 유리 기판 적층체 및 유리 기판은, 함유하는 백금족 금속의 응집물 중, 최대 길이가 30㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 90% 이상인 것이 보다 바람직하다. It is more preferable that the glass substrate laminate and the glass substrate have a ratio of the number of aggregates having a maximum length of 50 탆 or less among the contained platinum group metal aggregates of 90% or more. It is more preferable that the glass substrate laminate and the glass substrate have a ratio of the number of aggregates having a maximum length of 30 m or less among the aggregates of the platinum group metal contained therein to 90% or more.
유리 기판에 사용하는 유리는, 변형점이 600℃ 이상인 유리가, 후술하는 유리 기판의 제조 방법에 적합하다. 상기 변형점은 650℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 690℃ 이상인 것이 보다 한층 바람직하고, 730℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. As the glass used for the glass substrate, glass having a strain point of 600 캜 or higher is suitable for a glass substrate production method described later. More preferably, the strain point is 650 ° C or higher, more preferably 690 ° C or higher, and particularly preferably 730 ° C or higher.
(유리 기판의 적용예) (Application example of glass substrate)
본 실시 형태의 유리 기판의 제조 방법에 의해 제조되는 유리 기판은, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 디스플레이용 유리 기판이나 디스플레이를 보호하는 커버 유리로서, 특히 적합하다. 디스플레이용 유리 기판을 사용하는 디스플레이에는, 디스플레이 표면이 편평한 플랫 패널 디스플레이 외에, 유기 EL 디스플레이, 액정 디스플레이이며, 디스플레이 표면이 만곡된 곡면 디스플레이가 포함된다. 유리 기판은, 고정밀 디스플레이용 유리 기판으로서, 예를 들어 액정 디스플레이용 유리 기판, 유기 EL(Electro-Luminescence) 디스플레이용 유리 기판, LTPS(Low Temperature Poly-silicon) 박막 반도체, 혹은 IGZO(Indium, Gallium, Zinc, Oxide) 등의 산화물 반도체를 사용한 디스플레이용 유리 기판으로서 사용하는 것이 바람직하다. The glass substrate produced by the glass substrate manufacturing method of the present embodiment is particularly suitable as a glass substrate for a display such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display or the like and a cover glass for protecting a display. A display using a glass substrate for a display includes an organic EL display, a liquid crystal display, and a curved display in which a display surface is curved, in addition to a flat panel display having a flat display surface. The glass substrate is a glass substrate for a high-precision display, for example, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for an organic EL (Electro-Luminescence) display, a low temperature polysilicon (LTPS) thin film semiconductor, or an IGZO (Indium, Gallium, Zinc, Oxide) or the like is preferably used as a glass substrate for display using an oxide semiconductor.
디스플레이용 유리 기판으로서는, 무알칼리 유리, 또는, 알칼리 미량 함유 유리가 사용된다. 디스플레이용 유리 기판은, 고온 시에서의 점성이 높다. 예를 들어, 102. 5푸아즈의 점성을 갖는 용융 유리의 온도는, 1500℃ 이상이다. 또한, 무알칼리 유리는, 알칼리 금속 산화물(R2O)을 실질적으로 포함하지 않는 조성의 유리이다. 알칼리 금속 산화물을 실질적으로 포함하지 않는다고 함은, 원료 등으로부터 혼입되는 불순물을 제외하고, 유리 원료로서 알칼리 금속 산화물을 첨가하지 않는 조성의 유리이며, 예를 들어, 알칼리 금속 산화물의 함유량은 0.1질량% 미만이다. As the glass substrate for display, an alkali-free glass or an alkali-small-content glass is used. The glass substrate for display has high viscosity at high temperature. For example, the temperature of the molten glass having a viscosity of 10 2 5 poise is 1500 ° C or higher. Further, the alkali-free glass is a glass having a composition substantially not containing an alkali metal oxide (R 2 O). The phrase "substantially free of alkali metal oxide" means that the alkali metal oxide is not added as a glass raw material except for impurities incorporated from raw materials and the like. For example, the content of alkali metal oxide is 0.1 mass% .
(유리 조성) (Glass composition)
용해조(40)에서는, 도시되지 않는 가열 수단에 의해 유리 원료가 용해되어, 용융 유리 G가 생성된다. 유리 원료는, 원하는 조성의 유리를 실질적으로 얻을 수 있도록 조제된다. 유리 조성의 일례로서, 플랫 패널 디스플레이(FPD)용 유리 기판 등의 디스플레이용 유리 기판으로서 적합한 무알칼리 유리는, SiO2 50질량% 내지 70질량%, Al2O3 0질량% 내지 25질량%, B2O3 0질량% 내지 15질량%, MgO 0질량% 내지 10질량%, CaO 0질량% 내지 20질량%, SrO 0질량% 내지 20질량%, BaO 0질량% 내지 10질량%를 함유한다. 또한, BaO 0질량% 내지 10질량% 대신에, BaO 0질량% 내지 20질량%로 해도 좋다. 여기서, MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합계의 함유량은, 5질량% 내지 30질량%이다. In the melting tank 40, the glass raw material is dissolved by a heating means (not shown), and a molten glass G is produced. The glass raw material is prepared so as to substantially obtain a glass having a desired composition. The alkali-free glass is suitable as a glass substrate for a display of an example of the glass composition, such as a glass substrate for a flat panel display (FPD) is, SiO 2 50 mass% to 70 mass%, Al 2 O 3 0% by mass to 25% by weight, B 2 O 3 0 mass% to 15 mass% of MgO, 0 mass% to 10 mass% of MgO, 0 mass% to 20 mass% of CaO, 0 mass% to 20 mass% of SrO, and 0 mass% to 10 mass% of BaO. Further, instead of 0% by mass to 10% by mass of BaO, 0% by mass to 20% by mass of BaO may be used. Here, the total content of MgO, CaO, SrO, and BaO is 5% by mass to 30% by mass.
또한, 디스플레이용 유리 기판으로서, 알칼리 금속 산화물을 미량 포함하는 알칼리 미량 함유 유리를 사용해도 좋다. 알칼리 미량 함유 유리는 성분으로서, 0.1질량% 내지 0.5질량%의 R'2O를 포함하고, 바람직하게는 0.2질량% 내지 0.5질량%의 R'2O를 포함한다. 여기서, R'는, Li, Na 및 K로부터 선택되는 적어도 1종이며, R'2O는, Li2O, Na2O, K2O의 함유량의 합계이다. 또한, R'2O의 함유량의 합계는, 0.1질량% 미만이어도 좋다. 따라서, 본 실시 형태의 유리 기판은 무알칼리 유리를 포함하고, 알칼리 금속 산화물(R'2O)의 함유량이 0 내지 0.5질량%인 유리가 적절하게 사용된다. As the glass substrate for display, an alkali-containing glass containing a slight amount of an alkali metal oxide may be used. The alkali-small-content glass contains R ' 2 O in an amount of 0.1 mass% to 0.5 mass%, preferably 0.2 mass% to 0.5 mass% of R' 2 O as a component. Here, R 'is at least one kind selected from Li, Na and K, and R' 2 O is the sum of the contents of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. The total content of R ' 2 O may be less than 0.1% by mass. Therefore, the glass substrate of the present embodiment contains an alkali-free glass, and a glass having an alkali metal oxide (R ' 2 O) content of 0 to 0.5% by mass is appropriately used.
본 실시 형태에 의해 제조되는 유리는, 상기 성분 외에, SnO2 0.01질량% 내지 1질량%(바람직하게는, 0.01질량% 내지 0.5질량%), Fe2O3 0질량% 내지 0.2질량%(바람직하게는, 0.01질량% 내지 0.08질량%)를 더 함유해도 좋다. 또한, 본 발명에 의해 제조되는 유리는, 환경 부하를 고려하여, As2O3, Sb2O3 및 PbO를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 환경 부하 저감을 위해, 바람직하게는 산화주석(SnO2)이 청징제로서 사용된다. In addition to the above components, the glass produced by this embodiment may contain SnO 2 (Preferably 0.01% by mass to 0.5% by mass) and 0% by mass to 0.2% by mass (preferably 0.01% by mass to 0.08% by mass) of Fe 2 O 3 . Further, it is preferable that the glass produced by the present invention does not substantially contain As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and PbO in consideration of environmental load. For reducing the environmental load, tin oxide (SnO 2 ) is preferably used as a fining agent.
본 실시 형태는, 용융 유리 처리 공정을 청징 공정으로 하고, 용융 유리 처리 장치를, 청징관(41)을 포함한 청징 장치로 하는 형태를 예로 들어 설명하고 있지만, 용융 유리 처리 공정을 행하는 장치는 용해조(40)와 성형 장치(42) 사이에 설치되고, 용융 유리에 소정의 처리를 하는 장치인 한에서, 특별히 제한되지 않는다. 유리 처리 장치는, 청징 장치 외에, 예를 들어 교반 장치, 혹은 용융 유리를 이송하는 이송관으로 할 수도 있다. 따라서, 용융 유리의 처리는, 용융 유리를 청징하는 처리 외에, 용융 유리를 균질화하는 처리, 용융 유리를 이송하는 처리 등을 포함한다. 또한, 응집물 처리 공정 S2B도, 청징 공정 S2에서 행해지는 예를 들어 설명했지만, 예를 들어, 교반 공정 S3, 이송관에 의해 용융 유리 G를 이송하는 공정에서 행해져도 좋다. 또한, 응집물 처리 공정 S2B가 청징 공정 S2에서 행해지는 경우라도, 응집물 처리 공정 S2B는, 상술한 바와 같이, 흡수 처리 공정 S2C 전에 행해질 필요는 없고, 흡수 처리 공정 S2C 후에 행해져도 좋다. In the present embodiment, the melting glass treatment step is referred to as a fining step and the molten glass treatment device is used as a cleaning device including the cleaning tube 41. However, the apparatus for performing the molten glass treatment step is not limited to the melting pot 40 and the molding apparatus 42 and is a device for performing a predetermined treatment on the molten glass. The glass processing apparatus may be, for example, a stirring apparatus or a transfer tube for transferring the molten glass in addition to the refining apparatus. Therefore, the treatment of the molten glass includes, besides the treatment for purifying the molten glass, a treatment for homogenizing the molten glass, a treatment for transporting the molten glass, and the like. Also, the aggregate treatment step S2B has been described by way of example in the cleaning step S2, but may be carried out, for example, in a stirring step S3 and a step of conveying the molten glass G by a transfer pipe. Also, even when the aggregate treatment step S2B is performed in the firing step S2, the aggregate treatment step S2B need not be performed before the absorption treatment step S2C as described above, but may be performed after the absorption treatment step S2C.
(청징관의 구성) (Composition of the ceremony hall)
다음에, 본 실시 형태에 있어서의 청징 장치의 청징관(41)의 구성에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 청징 장치는, 청징관(41) 외에, 통기관(41a), 가열 전극(41b) 및 청징관(41)의 외주를 둘러싸는 도시되지 않은 내화물 보호층 및 내화물 벽돌을 포함한다. 도 3은 청징관(41)을 주로 나타내는 외관도이다. 도 4는 청징관(41)의 내부를 나타내는 단면도와 청징관의 온도 프로파일의 일례를 나타내는 도면이다. Next, the configuration of the cleaning tube 41 of the cleaning apparatus in this embodiment will be described in detail. The refining apparatus further includes a refractory brick and a refractory protective layer (not shown) surrounding the outer periphery of the vent pipe 41a, the heating electrode 41b and the purifying pipe 41 in addition to the purifying pipe 41. [ Fig. 3 is an external view showing mainly the cleaning tube 41. Fig. 4 is a cross-sectional view showing the inside of the purifying pipe 41 and an example of the temperature profile of the purifying pipe.
청징관(41)에는 통기관(41a) 및 한 쌍의 가열 전극(41b)이 설치되어 있다. 청징관(41)은, 그 내부에, 용융 유리 G의 도입에 의해, 용융 유리 G의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간(41c)이 형성되는 공간을 갖는다. 예를 들어, 청징관(41)은, 그 내부에, 용융 유리 G가 흐르는 액상과, 용융 유리 G의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖는다. 기상 공간(41c)은 용융 유리 G의 흐름 방향을 따라서 형성되어 있다. 기상 공간(41c)을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성되어 있다. 본 실시 형태에서는, 기상 공간(41c)을 둘러싸는 벽 전체가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성되어 있다. The purifying pipe 41 is provided with a vent pipe 41a and a pair of heating electrodes 41b. The purifying pipe (41) has a space in which a vapor space (41c) surrounded by the surface of the molten glass (G) and the wall is formed by introduction of the molten glass (G). For example, the cleaning tube 41 has therein a liquid phase in which the molten glass G flows, and a vapor phase space formed from the liquid surface and the wall of the molten glass G. The vapor space 41c is formed along the flow direction of the molten glass G. At least a part of the wall surrounding the vapor space 41c is made of a material containing a platinum group metal. In the present embodiment, the entire wall surrounding the vapor space 41c is made of a material containing a platinum group metal.
통기관(41a)은 용융 유리 G가 흐르는 방향의 도중이며, 기상 공간(41c)과 접하는 벽에 설치되고, 기상 공간(41c)과 청징관(41)의 외측의 대기를 연통시킨다. 통기관(41a)은 청징관(41)과 마찬가지로, 백금족 금속으로 성형되는 것이 바람직하다. 통기관(41a)은 방열 기능에 의해, 통기관(41a)의 온도가 저하되기 쉬우므로, 통기관(41a)을 가열하기 위한 가열 기구를 설치해도 좋다. The vent pipe 41a is located in the middle of the direction in which the molten glass G flows and is provided in a wall in contact with the vapor space 41c to communicate the atmosphere outside the vapor pipe 41c with the outside of the cleaning pipe 41. [ Like the purifying pipe 41, the vent pipe 41a is preferably formed of a platinum group metal. Since the temperature of the vent pipe 41a is easily lowered by the heat radiation function of the vent pipe 41a, a heating mechanism for heating the vent pipe 41a may be provided.
한 쌍의 가열 전극(41b)은 청징관(41a)의 양단에 설치된 플랜지 형상의 전극판이다. 가열 전극(41b)은, 도시되지 않는 전원으로부터 공급되는 전류를 청징관(41)에 흘리고, 이 전류에 의해, 청징관(41)은 통전 가열된다. 청징제로서 산화주석을 사용하는 경우, 예를 들어 청징관(41)의 벽은 최고 온도가 1670℃ 내지 1750℃, 보다 바람직하게는 1690℃ 내지 1750℃가 되도록 가열된다. 청징관(41)의 벽의 최고 온도와 최저 온도의 차분은 5℃ 이상이고, 기상 공간은 산소를 갖는다. 용융 유리 G의 온도는, 산화주석의 환원 반응이 촉진되는 온도까지 가열된다. 또한, 용융 유리 G는, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 분단 혹은 용해되는 온도, 예를 들어 1670℃ 이상으로 가열되는 것이 바람직하고, 1680℃ 이상으로 가열되는 것이 보다 바람직하다. 보다 구체적으로는, 1670℃ 내지 1730℃로 가열되는 것이 바람직하고, 1680℃ 내지 1700℃로 가열되는 것이 보다 바람직하다. 용융 유리 G의 최고 온도가 1730℃를 초과하면, 청징관(41a)을 구성하는 백금족 금속으로 이루어지는 관이 용손되기 쉬워진다. 또한, 용융 유리 G의 최고 온도는, 청징관(41)에 설치된 도시되지 않는 열전대의 계측값으로부터 산출할 수 있다. The pair of heating electrodes 41b are flange-shaped electrode plates provided at both ends of the cleaning pipe 41a. The heating electrode 41b flows a current supplied from a power source (not shown) to the cleaning tube 41, and the cleaning tube 41 is energized and heated by this current. In the case of using tin oxide as the fining agent, for example, the wall of the cleaning tube 41 is heated so that the maximum temperature is 1670 캜 to 1750 캜, more preferably 1690 캜 to 1750 캜. The difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the wall of the purifying pipe 41 is 5 DEG C or more, and the vapor phase space has oxygen. The temperature of the molten glass G is heated to a temperature at which the reduction reaction of tin oxide is promoted. The molten glass G is preferably heated to a temperature at which foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal are divided or dissolved, for example, 1670 DEG C or more, and more preferably 1680 DEG C or more. More specifically, it is preferable to be heated to 1670 캜 to 1730 캜, and more preferably to 1680 캜 to 1700 캜. If the maximum temperature of the molten glass G exceeds 1730 DEG C, the tube made of the platinum group metal constituting the cleaning tube 41a is likely to be damaged by the spallation. Further, the maximum temperature of the molten glass G can be calculated from the measured value of a thermocouple (not shown) installed in the cleaning tube 41.
이와 같은 청징관(41)의 내부에 흐르는 용융 유리 G의 온도는, 청징관(41)에 흐르는 전류를 제어함으로써 제어할 수 있다. The temperature of the molten glass G flowing in the inside of the purifying pipe 41 can be controlled by controlling the current flowing through the purifying pipe 41.
가열 전극(41b)은 청징관(41)에 한 쌍이 설치되지만, 가열 전극(41b)의 수는 특별히 제한되지 않는다. 가열 전극(41b)의 전류량을 제어함으로써, 청징관(41)의 기상 공간(41c)과 접하는 벽의 온도는, 예를 들어 1500 내지 1750℃의 범위로 제어된다. A pair of the heating electrodes 41b are provided in the cleaning tube 41, but the number of the heating electrodes 41b is not particularly limited. By controlling the amount of electric current of the heating electrode 41b, the temperature of the wall in contact with the vapor space 41c of the cleaning tube 41 is controlled in the range of, for example, 1500 to 1750 占 폚.
청징관(41)의 내부에서는, 용융 유리 G에 함유하는 청징제, 예를 들어 산화주석의 산화환원 반응에 의해, 용융 유리 G에 포함되는 CO2 또는 SO2를 포함하는 기포가 제거된다. 구체적으로는, 최초에, 용융 유리 G의 온도를 올려, 청징제를 환원시킴으로써, 산소의 기포를 용융 유리 G 중에 발생시킨다. 용융 유리 G 중에 포함되는 CO2, N2, SO2 등의 기체 성분을 포함하는 기포는, 청징제의 환원 반응에 의해 생긴 산소 기포와 합체된다. 산소 기포와 합체된 기포는, 기상 공간과 접하는 용융 유리 G의 표면에 부상하여 기포를 방출하는, 즉 파포되어 소멸된다(탈포 처리). 이 탈포 처리에 있어서의 용융 유리 G의 온도는, 1610℃ 내지 1730℃이며, 바람직하게는 1640℃ 내지 1710℃이다. 상기 범위의 온도일 때, 청징관(41)의 벽으로부터 백금족 금속은 왕성하게 휘발한다. 탈포에 의해 기상 공간에 산소가 방출되므로, 탈포 처리가 행해지는 기상 공간의 부분에서는, 산소 농도가 높아지고, 이 결과, 백금족 금속의 휘발은 보다 한층 왕성해진다. 이에 수반하여, 기상 공간에 포함되는 백금족 금속의 휘발물의 농도가 높아지므로, 기상 공간에 포함되는 백금족 금속의 휘발물의 응집이 생기기 쉬워진다. 특히, 벽의 부분적으로 차가워진 위치, 예를 들어, 청징관(41)의 입구 근방의 벽에서 백금족 금속의 휘발물은 응집되기 쉬워진다. 따라서, 청징관(41)의 벽에 부착된 백금족 금속의 응집물의 일부가 탈락하여, 용융 유리 G 내에 이물질로서 혼입되기 쉽다. 예를 들어, 용융 유리가 청징관(41)에 유입된 후, 용융 유리 G의 온도가 1580℃ 내지 1660℃가 되는 영역에서, 기상 공간에 포함되는 백금족 금속의 휘발물의 응집 및 응집물의 용융 유리 G에의 혼입이 생기기 쉽다. In the inside of the purifying pipe 41, bubbles containing CO 2 or SO 2 contained in the molten glass G are removed by a redox reaction of a fining agent contained in the molten glass G, for example, tin oxide. Specifically, at first, the temperature of the molten glass G is raised and the refining agent is reduced, thereby generating bubbles of oxygen in the molten glass G. Bubbles containing gas components such as CO 2 , N 2 and SO 2 contained in the molten glass G are combined with the oxygen bubbles generated by the reduction reaction of the fining agent. The bubbles incorporated with the oxygen bubbles float on the surface of the molten glass G in contact with the vapor phase space to release the bubbles, that is, puff and disappear (defoaming treatment). The temperature of the molten glass G in this degassing treatment is 1610 캜 to 1730 캜, preferably 1640 캜 to 1710 캜. When the temperature is within the above range, the platinum group metal is vigorously volatilized from the wall of the cleaning tube 41. Since oxygen is released into the vapor phase space by defoaming, the oxygen concentration becomes high at the portion of the vapor phase space where the defoaming treatment is performed, and as a result, the volatilization of the platinum group metal is further enhanced. Along with this, since the concentration of the volatile matter of the platinum group metal contained in the vapor phase space becomes high, the volatilization of the platinum group metal contained in the vapor phase space tends to occur. Particularly, the volatiles of the platinum group metal at the position where the wall is partially cooled, for example, in the vicinity of the inlet of the purifying pipe 41, tend to agglomerate. Therefore, a part of the aggregate of the platinum group metal adhered to the wall of the cleaning tube 41 is dropped off, and is liable to be mixed into the molten glass G as foreign matter. For example, after the molten glass is introduced into the cleaning tube 41, the molten glass G is agglomerated and agglomerates of volatiles of the platinum group metal contained in the gaseous phase in the region where the temperature of the molten glass G is in the range of 1580 캜 to 1660 캜 Is likely to be incorporated.
이로 인해, 탈포 처리의 도중으로부터, 혹은 탈포 처리의 종료 후로부터, 용융 유리 G에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감시키는 응집물 처리 공정을 행한다. Thus, an agglomerate treatment step for reducing the size of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal incorporated in the molten glass G is performed from the middle of the degassing treatment or after the completion of the degassing treatment.
탈포 처리의 종료 후로부터 응집물 처리 공정을 행하는 경우, 백금족 금속의 이물질(응집물)을 포함하는 용융 유리 G의 온도를, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리 G에 혼입되는 영역에서의 용융 유리의 온도와 비교하여 높아지도록 용융 유리 G를 승온시키는 것이 바람직하다. The temperature of the molten glass G containing the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal is set so that the temperature of the molten glass in the region where the foreign substance (aggregate) of the platinum group metal is mixed into the molten glass G It is preferable to raise the temperature of the molten glass G so as to be higher than the temperature.
또한, 탈포 처리 공정의 도중으로부터 응집물 처리 공정을 행하는 경우, 탈포 처리 공정과 응집물 처리 공정이 동시에 행해진다. 탈포 처리 공정의 도중으로부터 응집물 처리 공정을 행하는 경우, 탈포 처리 공정과 응집물 처리 공정이 동시에 행해지는 경우가 있다. 탈포 처리 공정의 도중으로부터 응집물 처리 공정을 행하는 경우, 응집물 처리 공정에 있어서 용융 유리가 최고 온도가 된다. 즉, 탈포 처리 공정(용융 유리 처리 공정)은 응집물 처리 공정을 포함해도 좋다. Further, in the case where the aggregate treatment step is performed from the middle of the defoaming treatment step, the defoaming treatment step and the aggregate treatment step are performed at the same time. In the case where the aggregate treatment step is performed from the middle of the defoaming treatment step, the defoaming treatment step and the aggregate treatment step may be performed at the same time. When the aggregate treatment step is performed from the middle of the defoaming treatment step, the molten glass reaches the maximum temperature in the aggregate treatment step. That is, the defoaming treatment step (molten glass treatment step) may include an aggregate treatment step.
응집물 처리 공정은 용융 유리에 혼입된 백금족 금속의 이물질(응집물)에 가해지는 열량을 제어함으로써, 구체적으로는, 용융 유리 G의 온도를 1670℃ 이상으로 함으로써, 백금족 금속의 이물질(응집물)을 분단, 용해시키는 것이 바람직하다. 이때, 용융 유리 G에 혼입되는 백금족 금속의 이물질(응집물) 중, 최대 길이가 50㎛ 이하의 크기의 이물질 개수의 비율이 70% 이상이 되도록 응집물 처리 공정을 행함으로써, 유리 기판의 발생하는 변형은 작고, 유리 기판의 주표면에 요철을 형성하는 것도 적어진다. 이와 같은 크기의 이물질로 하기 위해서는, 용융 유리 G의 온도가 1670℃ 이상의 상태를 10분 이상, 바람직하게는 30분 이상 유지하는 것이 바람직하다. 즉, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감하는 응집물 저감 처리는, 1670℃ 이상의 온도로, 10분 이상 유지함으로써, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 작게 할 수 있다. Specifically, the temperature of the molten glass G is set to 1670 占 폚 or higher to control the amount of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal by dividing the molten glass G by controlling the amount of heat applied to foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal incorporated into the molten glass, It is preferable to dissolve it. At this time, by performing the aggregate treatment process so that the ratio of the number of foreign substances having a maximum length of 50 mu m or less among the foreign substances (aggregates) of the platinum group metal incorporated into the molten glass G is 70% or more, And it is also possible to reduce the formation of irregularities on the main surface of the glass substrate. In order to obtain a foreign substance of such a size, it is preferable that the temperature of the molten glass G is maintained at 1670 占 폚 or more for 10 minutes or more, preferably 30 minutes or more. That is, the aggregate abatement treatment for reducing the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal can reduce the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal by maintaining the agglomerate abatement treatment at a temperature of 1670 캜 or higher for 10 minutes or longer.
또한, 본 실시 형태에서는, 상기 응집물 처리 공정에 있어서, 용융 유리에 혼입된 백금족 금속의 이물질(응집물)의 용융 유리에의 용해도를, 용융 유리 처리 공정에 있어서 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 용해도에 비교하여 높아지도록 용해도를 제어하는 것도 바람직하다. 이물질(응집물)의 용융 유리 G에의 용해도를 높게 하는 경우, 용융 유리 G의 온도를 상승시킴으로써, 응집물의 용융 유리에의 용해도를 높이거나, 혹은, 용융 유리 G의 온도를 상승시키거나 및/또는 처리 시간을 길게 함으로써, 이물질(응집물)의 용융 유리 G에의 용해량을 높일 수 있다. In the present embodiment, the degree of solubility of the platinum group metal (coagulated material) mixed in the molten glass into the molten glass is controlled so that the molten glass is treated with a foreign substance (aggregate) of the platinum group metal in the molten glass It is also preferable to control the solubility so as to be higher than the solubility in the region to be incorporated. When the solubility of the foreign substance (agglomerate) in the molten glass G is increased, the temperature of the molten glass G is raised to increase the solubility of the agglomerate in the molten glass, or to raise the temperature of the molten glass G and / The amount of foreign matter (agglomerates) dissolved in the molten glass G can be increased.
또한, 백금족 금속의 이물질(응집물)은, 일방향으로 가늘고 긴 선 형상물이다. 이로 인해, 백금족 금속의 응집물(이물질)의 최대 길이란, 백금족 금속의 이물질(응집물)을 촬영했을 때의 이물질의 상(像)에 외접하는 외접 직사각형의 긴 변의 길이를 말한다. In addition, the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal is linear and long in one direction. Therefore, the maximum length of the aggregate (foreign matter) of the platinum group metal refers to the length of the long side of the circumscribed rectangle circumscribing the foreign substance image when the foreign substance (aggregate) of the platinum group metal is photographed.
응집물 처리 공정 전은, 최대 길이가 100㎛ 이상인 백금족 금속의 이물질(응집물)의 비율이 80%를 초과한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 응집물 처리 공정 전의 백금족 금속의 이물질(응집물)이란, 최대 길이의 최소 길이에 대한 비인 애스펙트비가 100을 초과하는 백금족 금속의 이물질을 가리킨다. 예를 들어, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 최대 길이가 50㎛ 내지 300㎛, 최소 길이가 0.5㎛ 내지 2㎛이다. Before the flocculation treatment process, the proportion of foreign substances (aggregates) of the platinum group metal having a maximum length of 100 탆 or more exceeds 80%. In the present embodiment, the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal before the agglomerate treatment step refers to a foreign substance of the platinum group metal having an aspect ratio of more than 100 that is the ratio to the minimum length of the maximum length. For example, the maximum length of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal is 50 탆 to 300 탆, and the minimum length is 0.5 탆 to 2 탆.
이 후, 용융 유리 G의 온도를 낮추어, 환원된 청징제를 산화시킨다. 이에 의해, 용융 유리 G 중에 잔류하는 기포의 산소가 용융 유리 G에 흡수된다(흡수 처리). 이렇게 하여, 잔존하는 기포는 작아져 소멸된다. 이와 같이, 청징제의 산화환원 반응에 의해, 용융 유리 G에 포함되는 기포가 제거된다. 또한, 흡수 처리 공정 S2C에서는, 용융 유리 G의 온도 및 청징관(41)의 벽의 온도는 1580℃ 이하로 저하되어 있고, 탈포 처리 공정 S2A와 비교해서 기상 공간에 포함되는 산소 농도가 저하되어 있으므로, 백금족 금속의 휘발 및 응집은 행해지기 어려워진다. 이로 인해, 흡수 처리 공정 S2C에서는 탈포 처리 공정 S2A와 비교해서 새로운 백금족 금속의 응집물이 이물질이 되어 용융 유리 G에 혼입될 가능성은 훨씬 낮다. Thereafter, the temperature of the molten glass G is lowered to oxidize the reduced refining agent. Thereby, the oxygen of the bubbles remaining in the molten glass G is absorbed into the molten glass G (absorption process). In this way, the remaining bubbles become smaller and disappear. Thus, the bubbles contained in the molten glass G are removed by the redox reaction of the cleaning agent. Further, in the absorption treatment step S2C, the temperature of the molten glass G and the temperature of the wall of the cleaning tube 41 are lowered to 1580 DEG C or lower, and the oxygen concentration contained in the vapor space is lowered compared with the defoaming step S2A , The volatilization and agglomeration of the platinum group metal becomes difficult to be performed. As a result, in the absorption treatment step S2C, the possibility that a new platinum group metal aggregate becomes a foreign matter and is incorporated into the molten glass G is much lower than in the defoaming treatment step S2A.
도시되어 있지 않지만, 청징관(41)의 외벽면에는 내화물 보호층이 형성된다. 내화물 보호층의 외측에는, 또한, 내화물 벽돌이 설치된다. 내화물 벽돌은, 베이스(도시하지 않음)에 적재되어 있다. 또한, 내화물 보호층 및/또는 내화물 벽돌에 의해 청징관(41)으로부터의 방열량을 조정함으로써, 청징관(41)의 기상 공간(41c)과 접하는 벽의 온도 및/또는 청징관(41) 내에 흐르는 용융 유리의 온도는 제어되어도 좋다. Although not shown, a refractory protective layer is formed on the outer wall surface of the cleaning tube 41. A refractory brick is further provided on the outside of the refractory protective layer. The refractory bricks are mounted on a base (not shown). The amount of heat released from the purifying pipe 41 by the refractory protection layer and / or the refractory brick can be adjusted so that the temperature of the wall contacting the vapor space 41c of the purifying pipe 41 and / The temperature of the molten glass may be controlled.
도 4는 청징관(41)의 X방향의 위치에 맞춰서 나타낸 청징관(41)의 온도 프로파일[청징관(41)의 기상 공간(41c)과 접하는 벽의 X방향의 온도 프로파일]의 일례를 나타내고 있다. 온도 프로파일에서는, 청징관(41)의 용융 유리 G가 유입되는 측의 단부(41d)(입구)와 통기관(41a) 사이에서, 온도가 최고 온도 Tmax로 되어 있다. 이 최고 온도 Tmax의 위치 P로부터, 청징관(41)의 단부(41d)를 향해 온도가 저하되는 온도 구배가 형성되어 있다. 마찬가지로, 최고 온도 Tmax의 위치 P로부터, 통기관(41a)의 X방향의 위치를 향해 온도가 저하되는 온도 구배가 형성되어 있다. 또한, 온도 구배 영역은, 도시되지 않지만, 상기 이외에, 통기관(41a)의 X방향의 위치와 청징관(41)의 용융 유리 G가 유출되는 측의 단부(41e)(출구) 사이에도 형성되어 있다. 이와 같은 온도 구배 영역에 있어서, 어느 쪽의 온도 구배 영역에서도 온도 구배 영역에 있어서의 최고 온도와 최저 온도의 온도차가 0℃ 초과, 150℃ 이하, 보다 바람직하게는 0℃ 초과, 100℃ 이하로 되어 있다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 벽의 온도가 최고 온도 Tmax가 될 때까지 계속해서 이어지는 온도 상승 구간의 전반 부분에서, 탈포 처리가 개시되고, 적어도 최고 온도 Tmax까지 계속된다. 또한, 최고 온도 Tmax를 포함하는, 온도 상승 구간의 후반 부분에서 응집물 처리 공정이 개시되고, 적어도 최고 온도 Tmax까지 계속된다. 응집물 처리 공정은, 예를 들어, 용융 유리 G의 온도가 1670℃ 이상에서 개시된다. 또한, 탈포 처리 공정의 종료와 응집물 처리 공정의 종료 시점은, 어느 쪽을 우선하여도 되지만, 용융 유리에 혼입되는 모든 백금족 금속의 이물질을 응집물 처리 공정의 대상으로 하는 점에서, 응집물 처리 공정의 종료는, 탈포 처리 공정의 종료와 동시 혹은 그 이후인 것이 바람직하다. 4 shows an example of the temperature profile of the cleaning pipe 41 (the temperature profile in the X direction of the wall in contact with the vapor space 41c of the cleaning pipe 41) in accordance with the position of the cleaning pipe 41 in the X direction have. In the temperature profile, the temperature is the maximum temperature T max between the end portion 41d (inlet) of the purifying pipe 41 on the side where the molten glass G flows and the vent pipe 41a. A temperature gradient is formed in which the temperature decreases from the position P of the maximum temperature T max toward the end portion 41d of the cleaning tube 41. [ Similarly, a temperature gradient is formed such that the temperature decreases toward the position in the X direction of the vent pipe 41a from the position P of the maximum temperature T max . The temperature gradient region is also formed between the position of the vent pipe 41a in the X direction and the end portion 41e (outlet) of the purifying pipe 41 on the side from which the molten glass G flows out . In such a temperature gradient range, the temperature difference between the maximum temperature and the minimum temperature in the temperature gradient range is more than 0 deg. C and not more than 150 deg. C, more preferably more than 0 deg. C and not more than 100 deg. have. As shown in Fig. 4, the defoaming process is started in the first half of the succeeding temperature rise period until the temperature of the wall reaches the maximum temperature T max , and continues to at least the maximum temperature T max . In addition, the agglomeration process is disclosed in the latter part of the temperature raising section including a maximum temperature T max, continue at least until the maximum temperature T max. The flocculation treatment process is started, for example, at a temperature of the molten glass G of 1670 DEG C or higher. Either the end of the defoaming treatment step or the end of the flocculating agent treatment step may be prioritized. However, from the viewpoint of the foreign matter of all the platinum group metals incorporated in the molten glass to be subjected to the flocculation treatment step, Is preferably at the same time as or after the end of the defoaming treatment step.
이와 같이, 본 실시 형태에서는, 용융 유리 G 중의 기포를 탈포하는 처리를 행하지만, 이때, 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 용융 유리 G에 혼입된다. 용융 유리 G에 혼입된 이물질(응집물) 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질(응집물)의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 용융 유리 G에 혼입된 응집물의 크기를 작게 한다. 혹은, 혼입된 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감시키도록, 백금족 금속의 이물질에 가해지는 열량을 제어한다. 이에 의해, 유리 기판에 백금족 금속의 이물질이 혼입되어도, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. As described above, in this embodiment, the bubbles in the molten glass G are defoamed, but at this time, the aggregates of the volatiles of the platinum group metal volatilized from the walls are mixed into the molten glass G as foreign matter. The size of the agglomerates incorporated in the molten glass G is reduced so that the ratio of the number of foreign substances (agglomerates) having a maximum length of 50 μm or less among the foreign substances (agglomerates) mixed in the molten glass G is 70% or more. Alternatively, the amount of heat applied to the foreign substance of the platinum group metal is controlled so as to reduce the size of the impurity of the platinum group metal incorporated therein. Thus, even if a foreign substance of a platinum group metal is mixed into the glass substrate, deformation of the glass substrate is less likely to occur, making it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate.
또한, 상술한 청징관(41)에 있어서의 기상 공간과 접하는 벽의 온도의 최고 온도와 최저 온도의 차를 5℃ 이상이고, 기상 공간은 산소를 포함하는 분위기이어도, 즉, 백금족 금속의 응집물이 생기기 쉬운 조건이어도, 용융 유리에 포함되는 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감할 수 있거나, 혹은, 최대 길이가 50㎛ 이하인 백금족 금속의 이물질 개수의 비율을 70% 이상이 되도록 할 수 있다. 따라서, 유리 기판에 백금족 금속의 이물질이 혼입되어도, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. The difference in temperature between the maximum temperature and the minimum temperature of the wall in contact with the vapor phase space in the above-described cleaning tube 41 is 5 占 폚 or more, and even if the vapor phase space contains oxygen, that is, The size of the foreign substance of the platinum group metal contained in the molten glass can be reduced or the ratio of the number of foreign substances of the platinum group metal having the maximum length of 50 m or less can be 70% or more. Therefore, even if a foreign substance of a platinum group metal is mixed into the glass substrate, the glass substrate is less likely to be deformed, and it is possible to make it difficult to form irregularities on the main surface of the glass substrate.
또한, 응집물 처리 공정을 행할 때, 응집물을 포함하는 용융 유리 G의 온도를, 용융 유리 처리 공정에 있어서 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리 G에 혼입되는 영역에서의 용융 유리의 온도와 비교하여 높아지도록 승온시키는 것이 바람직하다. 이에 의해, 백금족 금속의 이물질(응집물)을 열에 의해 분단하거나, 혹은 용해시킬 수 있어, 확실하게 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감할 수 있다. When the aggregate treatment process is performed, the temperature of the molten glass G containing the aggregate is compared with the temperature of the molten glass in the region where the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal is incorporated into the molten glass G in the molten glass treatment step It is preferable to raise the temperature to a high temperature. As a result, it is possible to separate or dissolve the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal by heat, and to surely reduce the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal.
또한, 유리 처리 장치는, 청징관(41)을 갖는 청징 장치이며, 청징관(41) 내의 기상 공간은 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 형성되고, 응집물 처리 공정은 청징관(41)에서 행해지는 것이 바람직하다. 청징관(41)에 있어서의 용융 유리 G의 온도는 성형 공정까지의 사이에서 최고 온도가 되므로, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 열에 의한 분단 혹은 용해를 용이하게 행할 수 있다. The glass processing apparatus is a purifying apparatus having a purifying pipe 41. The vaporizing space in the purifying pipe 41 is formed along the flow direction of the molten glass and the condensing process is performed in the purifying pipe 41 desirable. Since the temperature of the molten glass G in the cleaning tube 41 reaches the maximum temperature up to the molding step, it is possible to easily separate or dissolve the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal by heat.
본 실시 형태의 유리 처리 공정에서는, 용융 유리 G에 포함되는 산화주석을 사용해서 용융 유리 G 중의 기포수를 저감하는 청징 처리를 행하고, 유리 처리 장치에 있어서의 기상 공간과 접하는 벽에는, 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 온도 분포를 형성시키고, 기상 공간에는 용융 유리 G의 흐름 방향을 따라서 산소 농도 분포를 형성시키고 있다. 이와 같은 장치에 있어서, 백금족 금속의 휘발에 영향을 주는 산소 농도 분포가 있음으로써, 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 생기기 쉬워, 이 응집물이 이물질로서 용융 유리에 혼입되기 쉽다. 이와 같은 경우에서도, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감시키는 것을 용이하게 할 수 있으므로, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다. In the glass treatment step of the present embodiment, the fining treatment for reducing the number of bubbles in the molten glass G is carried out by using the tin oxide contained in the molten glass G. In the wall contacting the vapor phase space in the glass processing apparatus, A temperature distribution is formed along the flow direction, and an oxygen concentration distribution is formed in the vapor phase space along the flow direction of the molten glass G. In such an apparatus, since there is an oxygen concentration distribution that affects the volatilization of the platinum group metal, aggregates of volatiles of the platinum group metal are likely to be formed, and the aggregates are liable to be incorporated into the molten glass as foreign matter. Even in such a case, since it is easy to reduce the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal, the glass substrate is hardly deformed, and it is possible to make it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate.
응집물 처리 공정은, 유리 처리 장치에서 행해지고, 이 유리 처리 장치에 흐르는 용융 유리 중, 기상 공간에 있어서 산소 농도가 가장 높아지는 영역과 대응하는 흐름 방향의 위치에 흐르는 용융 유리를 포함하도록 행해지는 것이 바람직하다. 도 4에 도시하는 온도 프로파일에서는, 최고 온도 Tmax에 있어서 용융 유리 G의 탈포 처리는 가장 활발히 행해진다. 이에 의해, 기포로부터 방출된 산소에 의해, 최고 온도 Tmax 부근의 기상 공간 내의 영역에서는, 산소 농도가 가장 높아진다. 예를 들어, 응집물 처리 공정은, 이 산소 농도가 가장 높아지는 기상 공간 내의 영역과 대응하는 흐름 방향의 위치를 통과하는 용융 유리에 대해 행한다. 이로 인해, 백금족 금속이 최대 산소 농도에 기인해서 백금족 금속의 휘발이 활발히 행해지고, 그 결과, 백금족 금속의 응집물이 생기기 쉬워, 백금족 금속의 응집물이 이물질로서 용융 유리에 혼입되어도, 이 이물질의 크기를 효율적으로 저감시킬 수 있다. The agglomerate treatment step is preferably carried out in a glass treatment apparatus so as to include molten glass flowing in the molten glass flowing in the glass treatment apparatus at a position in the flow direction corresponding to the region where the oxygen concentration is highest in the vapor phase space . In the temperature profile shown in Fig. 4, defoaming treatment of the molten glass G at the maximum temperature T max is performed most actively. Owing to the oxygen released from the bubbles, the oxygen concentration becomes the highest in the region in the vapor phase space near the maximum temperature T max . For example, the agglomerate treatment process is performed on the molten glass passing through the position in the flow direction corresponding to the region in the vapor phase space where the oxygen concentration becomes the highest. As a result, the platinum group metal is volatilized actively due to the maximum oxygen concentration of the platinum group metal, and as a result, aggregates of the platinum group metal are liable to be generated. As a result, even if the platinum group metal aggregate is mixed into the molten glass as a foreign substance, .
청징관(41)의 기상 공간 중의 산소 농도를, 0% 초과이며, 1.0% 이하로 하고, 청징관(41)의 벽 최고 온도와 최저 온도의 차를, 5℃ 이상이며, 100℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 백금족 금속의 휘발을 억제하고, 용융 유리 G에 혼입되는 백금족 금속의 이물질을 억제할 수 있다. 그러나, 이 경우에서도, 백금족 금속의 이물질을 완전히 제로로 할 수는 없다. 이로 인해, 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감시킴으로써, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 하는 본 실시 형태의 효과는, 한층 더 현저해진다. 또한, 백금족 금속의 휘발을 억제할 수 있으므로, 청징관(41) 등의 백금족 금속으로 구성된 장치의 수명을 향상시킬 수 있다. The oxygen concentration in the vapor phase space of the purifying pipe 41 is set to more than 0% and not more than 1.0% and the difference between the maximum wall temperature and the minimum temperature of the purifying pipe 41 is set to 5 ° C or more and 100 ° C or less . Thereby, the volatilization of the platinum group metal can be suppressed and foreign substances of the platinum group metal incorporated into the molten glass G can be suppressed. However, even in this case, the foreign substance of the platinum group metal can not be completely zero. Thus, by reducing the size of the foreign substance of the platinum group metal, the glass substrate is hardly deformed, and the effect of the present embodiment, which makes it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate, becomes even more remarkable. Further, since the volatilization of the platinum group metal can be suppressed, the lifetime of the apparatus composed of the platinum group metal such as the cleaning tube 41 can be improved.
또한, 용융 유리 처리 공정의 적어도 일부에 있어서 용융 유리 G의 온도가 1580℃ 내지 1660℃의 온도 범위가 되도록 제어하고, 응집물 처리 공정 시의 용융 유리 G의 온도를, 1670℃ 내지 1730℃가 되도록 제어함으로써, 탈포 처리를 확실하게 행하고, 또한, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 확실하게 저감할 수 있다. 즉, 유리 기판에 포함되는 기포수의 저감과 최대 길이가 50㎛ 이상인 백금족 금속의 이물질의 저감을 양립할 수 있다. 또한, 청징관(41)의 기상 공간의 산소 농도가 장소에 의한 분포를 갖는 경우, 산소 농도가 소정의 값보다 높은 영역에서는, 용융 유리 G에 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되기 쉬워지므로, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 혼입되었다고 해도, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 크기를 저감시킬 수 있는 정도의 온도, 예를 들어 1680℃ 이상의 온도로 용융 유리 G의 온도를 조정하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 기상 공간의 산소 농도 분포를 따라서, 용융 유리의 온도 분포를 형성하도록 용융 유리의 온도를 제어하는 것이 바람직하다. The temperature of the molten glass G is controlled to be in the range of 1580 ° C to 1660 ° C in at least part of the molten glass treatment step so that the temperature of the molten glass G in the agglomerate treatment step is controlled to be 1670 ° C to 1730 ° C The defoaming treatment can be reliably performed and the size of the foreign substance (agglomerate) of the platinum group metal can be reliably reduced. That is, it is possible to reduce both the number of bubbles contained in the glass substrate and the reduction of the foreign substance of the platinum group metal having a maximum length of 50 mu m or more. In addition, when the oxygen concentration in the vapor-phase space of the cleaning tube 41 has a distribution depending on the place, foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal are easily mixed into the molten glass G in the region where the oxygen concentration is higher than the predetermined value, It is preferable to adjust the temperature of the molten glass G to a temperature at which the size of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal can be reduced, for example, a temperature of 1680 캜 or more, even if foreign substances (agglomerates) More preferably, it is preferable to control the temperature of the molten glass so as to form the temperature distribution of the molten glass along the oxygen concentration distribution in the vapor phase space.
상술한 실시 형태에서는, 용융 유리에 있어서의 응집물의 용해도를 조정하는 조건을 제어하는 예로서, 응집물에 부여하는 열량을 제어하는 예를 들어 설명했다. 그러나, 용해도가, 상기 최소 용해도 이상이 되도록, 용해도를 조정하는 조건은, 상기 열량의 제어를 포함하는, 이하의 조건을 들 수 있다. 이들 조건을 제어함으로써, 혹은 이들 조건을 조합해서 제어함으로써 용해도를 조정할 수 있다. In the above-described embodiment, as an example of controlling the conditions for adjusting the solubility of the aggregate in the molten glass, an example has been described in which the amount of heat given to the aggregate is controlled. However, the conditions for adjusting the solubility such that the solubility is equal to or higher than the minimum solubility may be the following conditions including the control of the heat quantity. The solubility can be adjusted by controlling these conditions or by controlling these conditions in combination.
(응집물의 용해도를 조정하는 조건) (Conditions for adjusting the solubility of the agglomerates)
응집물의 용해도를 조정하기 위한 조건으로서는, 예를 들어, As conditions for adjusting the solubility of the agglomerates, for example,
(a) 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도, (a) the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass,
(b) 용융 유리의 온도 혹은 온도 분포(응집물에 부여하는 열량), (b) the temperature or temperature distribution of the molten glass (the amount of heat given to the aggregate)
(c) 기상 공간의 압력, (c) the pressure of the meteorological space,
(d) 용융 유리의 산소활량을 들 수 있다. (d) oxygen activity of the molten glass.
(a) 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도 (a) the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass
응집 처리 공정 개시 시의 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도가 낮을수록, 백금 처리 공정에 있어서, 용융 유리 중의 백금족 금속의 이물질이 용해되는 용해도는 상승한다. 용융 유리의 백금족 금속의 농도는, 예를 들어, 청징관 내의 용융 유리를 샘플링하고, 냉각 후 분쇄해서 ICP 정량 분석을 사용한 측정에 의해 구할 수 있다. The lower the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the coagulation treatment process, the higher the solubility in which the platinum group metal in the molten glass dissolves in the platinum treatment process. The concentration of the platinum group metal in the molten glass can be determined by, for example, sampling the molten glass in the purifying pipe, cooling it, pulverizing it, and measuring using ICP quantitative analysis.
백금족 금속의 농도를 지나치게 낮게 하면, 백금족 금속의 응집물의 용해도가 커지는 반면, 용융 유리와 접하는 청징관의 벽으로부터 용융 유리에 백금족 금속이 용출되어, 청징관의 용손을 일으키는 경우가 있다. If the concentration of the platinum group metal is excessively low, the solubility of the aggregate of the platinum group metal increases, while the platinum group metal is eluted from the wall of the cleaning tube in contact with the molten glass to cause the melting of the cleaning tube.
이와 같은 단점의 발생을 억제하는 관점에서, 백금족 금속의 농도는 조정되어 있다. From the viewpoint of suppressing the occurrence of such disadvantages, the concentration of the platinum group metal is adjusted.
또한, 청징관(41)에 있어서의 응집물 처리 공정 개시 시의 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속은, 청징관(41)이나 이송관(43a) 등의 용융 유리와 접하는 벽면으로부터 용출되는 백금족 금속에서 주로 유래한다. 이 벽면으로부터 백금족 금속이 용출되는 양은, 이송관(43a), 응집물 처리 공정 개시 전의 탈포 처리 공정에 있어서의 용융 유리의 온도 혹은 용융 유리와 접하는 청징관(41)의 벽면의 온도에 의존한다. 따라서, 이송관(43a), 청징관(41)의 벽면의 온도 혹은 온도 분포를 조정함으로써, 응집물 처리 공정 개시 시의 용융 유리의 백금족 금속의 농도를 조정할 수 있다. 예를 들어, 청징관(41)에 흐르는 전류의 조정, 청징관(41)의 주위에 배치된 히터에 공급되는 전류 조정, 혹은 이들 조합에 의해 행할 수 있다. 응집물 처리 공정 개시 시의 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도를 낮게 함으로써, 응집물 처리 공정 개시 시에서의, 용융 유리 중의 백금족 금속의 이물질이 용해되는 용해도는 상승한다. 이 점으로부터, 응집물 처리 공정 개시 시의 용융 유리에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도는, 0.05 내지 20ppm으로 조정되는 것이 바람직하다. The platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the flocculation treatment process in the cleaning pipe 41 is a platinum group metal which is eluted from the wall surface in contact with the molten glass such as the cleaning pipe 41 or the transfer pipe 43a It mainly comes from. The amount of the platinum group metal eluted from the wall surface depends on the temperature of the molten glass in the degassing treatment process before the transfer pipe 43a, the agglomeration treatment process, or the temperature of the wall surface of the cleaning pipe 41 in contact with the molten glass. Therefore, the concentration of the platinum group metal in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process can be adjusted by adjusting the temperature or the temperature distribution of the wall surface of the transfer pipe 43a and the cleaning pipe 41. [ For example, by adjusting the current flowing through the cleaning tube 41, adjusting the current supplied to the heater disposed around the cleaning tube 41, or a combination thereof. By lowering the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process, the solubility of dissolving the platinum group metal in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process is increased. From this point, it is preferable that the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process is adjusted to 0.05 to 20 ppm.
이에 의해, 유리 기판의 제조 공정 중, 백금족 금속의 응집물이 용융 유리에 혼입되어도, 백금족 금속의 응집물의 결함 개수를 허용 레벨로 한 유리 기판을 제조할 수 있다. Thus, even when the platinum group metal aggregate is mixed into the molten glass during the manufacturing process of the glass substrate, a glass substrate can be manufactured in which the number of defects of the platinum group metal aggregate is set at an allowable level.
(b) 용융 유리의 온도 혹은 온도 분포 (b) Temperature or temperature distribution of the molten glass
청징관(41)에 있어서, 용융 유리에 혼입된 백금족 금속의 응집물의 용해도는, 용융 유리의 온도를 높게 함으로써 증가시킬 수 있다. 용융 유리의 온도 혹은 온도 분포에 대해서는, 상술하고 있으므로 설명을 생략한다. In the purifying pipe 41, the solubility of the aggregate of the platinum group metal mixed in the molten glass can be increased by increasing the temperature of the molten glass. The temperature or temperature distribution of the molten glass has been described in detail above, so that the description is omitted.
용융 유리의 온도를 지나치게 높게 하면, 백금족 금속의 응집물의 용해량이 커지는 반면, 다음의 단점을 발생시킨다. If the temperature of the molten glass is excessively increased, the amount of aggregation of the platinum group metal increases, while the following disadvantages arise.
ㆍ리보일 기포의 증가 ㆍ Increase of reboil bubble
청징관(41)에 있어서 용융 유리의 온도를 지나치게 높게 하면, 탈포 처리 공정에 있어서 과잉으로 탈포되므로, 용융 유리의 산소활량은 낮아지고, 그 결과, 용융 유리는 환원 상태가 된다. 이 상태에서, 흡수 처리 공정이 행해지면, 이하의 메커니즘에 따라서, 용융 유리 중에 리보일 기포가 과잉으로 발생하여, 유리 기판에 리보일 기포의 기포가 존재하는 경우가 있다. 리보일 기포는, 구체적으로는, 용융 유리에 불순물로서 포함되는 황이나 탄소에 기인해서 발생한 SO2 혹은 CO2 등을 포함하는 기포이다. 용융 유리의 환원 상태가 시간적으로 길어지는 경우, 용융 유리에 용존하고 있는 SO3, CO3이 용이하게 환원됨으로써 SO2, CO2가 생성되기 쉽다. 이 SO2, CO2는 SO3, CO3에 비해 용융 유리에 용해되기 어렵기 때문에 기포가 되기 쉽다. 이와 같은 리보일 기포가 많이 발생하면, 유리 기판에 기포 결함으로서 남아, 유리 기판의 품질을 저하시키는 경우가 있다. 또한, 유리 기판에 잔존한 기포는, 예를 들어, 레이저 현미경 또는 육안에 의해 검출된다. If the temperature of the molten glass in the purifying pipe 41 is excessively high, defoaming is excessively performed in the defoaming process, so that the oxygen activity amount of the molten glass is lowered, and as a result, the molten glass is in a reduced state. In this state, when the absorption treatment process is carried out, excessive bubbles are generated in the molten glass in accordance with the following mechanism, and bubbles of the rebubbed bubbles may be present on the glass substrate. Specifically, the reboiler bubble is a bubble containing SO 2 or CO 2 generated due to sulfur or carbon contained as an impurity in the molten glass. When the reduction state of the molten glass becomes longer in time, SO 3 and CO 3 dissolved in the molten glass are easily reduced, so that SO 2 and CO 2 are likely to be produced. Since SO 2 and CO 2 are less soluble in molten glass than SO 3 and CO 3 , they tend to become bubbles. If such reoil bubbles are generated in a large amount, they may remain as bubble defects on the glass substrate, thereby deteriorating the quality of the glass substrate. The bubbles remaining on the glass substrate are detected by, for example, a laser microscope or naked eyes.
ㆍ유리 성분의 휘발량의 증가 ㆍ Increase of volatile amount of glass component
청징관(41)에 있어서 용융 유리의 온도를 지나치게 높게 하면, 용융 유리의 성분, 예를 들어 B2O3이 기상 공간에 많이 휘발한다. 이 결과, 유리 조성이 국부적으로 변화해서 유리의 열팽창 계수나 점도 등의 유리 특성이 국소적으로 변하고, 맥리 등의 줄무늬를 유리 기판에 발생시킨다. When the temperature of the molten glass in the cleaning tube 41 is excessively increased, the component of the molten glass, for example, B 2 O 3, is volatilized to a large extent in the vapor phase space. As a result, the glass composition locally changes, and the glass characteristics such as the coefficient of thermal expansion and the viscosity of the glass are locally changed, and streaks such as spots are generated on the glass substrate.
ㆍ백금족 금속의 휘발량의 증가 Increased volatility of platinum group metals
청징관(41)에 있어서, 용융 유리의 온도를 지나치게 높게 하면, 용융 유리에 접하는 기상 공간의 온도도 높아지고, 나아가서는, 용융 유리의 탈포 처리에 의해 기상 공간에 방출된 산소의 양이 많아지고, 그 결과, 기상 공간을 둘러싸는 청징관의 벽으로부터 백금족 금속이 휘발하기 쉬워진다. 백금족 금속의 휘발량이 증가하면, 기상 공간의 백금족 금속의 농도가 높아져, 응집 및 응집물의 용융 유리에의 혼입이 일어나기 쉬워진다. When the temperature of the molten glass in the cleaning tube 41 is excessively increased, the temperature of the vapor phase space in contact with the molten glass also increases. In addition, the amount of oxygen released into the gas phase by the defoaming treatment of the molten glass increases, As a result, the platinum group metal is easily volatilized from the wall of the purifying tube surrounding the vapor space. When the volatilization amount of the platinum group metal is increased, the concentration of the platinum group metal in the vapor phase is increased, and coagulation and mixing of the aggregate into the molten glass are apt to occur.
ㆍ청징관의 용손 ㆍ Wrong loss of purifying pipe
청징관(41)에 있어서, 용융 유리의 온도를 지나치게 높게 하면, 용융 유리에 접하는 청징관(41)의 벽이 용손되어 버리는 경우가 있다. If the temperature of the molten glass in the cleaning pipe 41 is excessively high, the wall of the cleaning pipe 41 contacting the molten glass may be damaged.
이와 같은 단점의 발생을 억제하는 관점에서, 청징관(41)에 있어서의 용융 유리의 온도 혹은 온도 분포의 조정이 행해진다. Adjustment of the temperature or temperature distribution of the molten glass in the cleaning tube 41 is performed from the viewpoint of suppressing the occurrence of such disadvantages.
(c) 기상 공간의 압력 (c) the pressure of the meteorological space
백금족 금속 응집물의 용해도는, 청징관(41)의 기상 공간(41c)의 압력을 높게 함으로써 증가시킬 수 있다. 기상 공간의 압력이란, 기상 공간에 포함되는 기체의 전압을 의미한다. The solubility of the platinum group metal aggregate can be increased by increasing the pressure in the gas phase space 41c of the cleaning tube 41. [ The pressure of the vapor space means the voltage of the gas contained in the vapor space.
기상 공간(41c)의 압력의 조정은, 예를 들어, 기상 공간(41c) 내의 기체가 통기관(41a)을 통해서 청징관(41)의 외측에 흡인되는 양(흡인량)이나, 청징관(41) 내에의 가스, 예를 들어 불활성 가스의 공급량, 용융 유리로부터 방출되는 가스의 방출량을 조정함으로써 행할 수 있다. 흡인량은, 예를 들어, 청징관(41)의 통기관(41a)의 출구를 흡인 장치와 접속하거나, 상기 출구를 좁히거나 하여, 기상 공간(41c)과 청징관(41)의 외측의 대기와의 압력차의 크기를 조절함으로써 조정할 수 있다. 용융 유리로부터 방출되는 가스의 방출량은, 예를 들어, 용융 유리에 포함되는 청징제의 양, 유리 성분의 배합비를 조정함으로써 조정할 수 있다. 또한, 기상 공간(41c)의 압력이, 청징관(41)의 외측의 대기압보다 높은 또는 낮은 것은, 예를 들어, 통기관(41a)으로부터 방출되는 가스량에 의해 구할 수 있다. The adjustment of the pressure in the vapor space 41c can be performed by adjusting the amount of the gas in the vapor space 41c to be sucked to the outside of the purifying pipe 41 through the vent pipe 41a, For example, the amount of the inert gas supplied and the amount of the gas released from the molten glass. The amount of suction can be adjusted by connecting the outlet of the vent pipe 41a of the purifying pipe 41 to the suction device or by narrowing the outlet so that the atmosphere outside the vapor phase space 41c and the purifying pipe 41 By adjusting the magnitude of the pressure difference of the pressure difference. The emission amount of the gas emitted from the molten glass can be adjusted, for example, by adjusting the amount of the refining agent contained in the molten glass and the blending ratio of the glass component. The pressure in the gas phase space 41c is higher or lower than the atmospheric pressure outside the purifying pipe 41 can be obtained by the amount of gas discharged from the vent pipe 41a, for example.
용융 유리 중의 이물질을 용융 유리에 용해시키기 위해, 기상 공간(41c)의 압력을 높게 하는 방법은, 상술한 바와 같이, 청징관(41) 내에의 가스의 공급량, 예를 들어 불활성 가스의 공급량, 혹은 용융 유리로부터 방출되는 가스의 방출량을 조정함으로써 행할 수 있다. 기상 공간(41c)의 압력은 예를 들어 0.8 내지 1.2atm의 범위로 조정되는 것이 바람직하다. The method of increasing the pressure of the gas phase space 41c in order to dissolve the foreign matter in the molten glass in the molten glass is not particularly limited as long as the amount of gas supplied into the cleaning tube 41, And adjusting the discharge amount of the gas emitted from the molten glass. The pressure in the vapor space 41c is preferably adjusted to a range of, for example, 0.8 to 1.2 atm.
기상 공간(41c)의 압력을 지나치게 높게 하면, 백금족 금속의 응집물의 용해량이 커지는 반면, 다음의 단점을 발생시킨다. When the pressure in the gas phase space 41c is excessively increased, the amount of platinum group metal aggregate dissolved increases, while the following disadvantages arise.
ㆍ청징 불량 ㆍ Poor quality
기상 공간(41c) 내의 압력을 지나치게 높게 하면, 탈포 처리 공정에 있어서, 용융 유리 중에 발생한 기포가 용융 유리의 표면으로부터 방출되기 어려워져, 청징 불량을 초래하는 경우가 있다. If the pressure in the gas phase space 41c is excessively high, the bubbles generated in the molten glass in the defoaming process may be difficult to be released from the surface of the molten glass, resulting in poor purging.
ㆍ백금족 금속의 휘발량의 증가 Increased volatility of platinum group metals
기상 공간(41c) 내의 압력을 지나치게 높게 하면, 청징관(41)의 외측의 대기와의 압력차가 커져, 기상 공간(41) 내의 기류의 유속이 상승한다. 이로 인해, 기상 공간(41c ) 내의 백금족 금속의 농도가 상승하지 않고 포화 상태가 되기 어려우므로, 청징관(41)의 벽으로부터의 백금족 금속의 휘발량이 증가한다. When the pressure in the vapor space 41c is excessively high, the pressure difference between the air outside the cleaning tube 41 and the atmosphere increases, and the flow velocity of the airflow in the vapor space 41 increases. Because of this, the concentration of the platinum group metal in the vapor space 41c is not increased and it is difficult to be saturated, so that the volatilization amount of the platinum group metal from the wall of the cleaning tube 41 increases.
이와 같은 단점의 발생을 억제하는 관점에서, 기상 공간의 압력 조정이 행해진다. From the viewpoint of suppressing the occurrence of such disadvantages, pressure adjustment of the gas phase space is performed.
(d) 용융 유리의 산소활량 (d) Oxygen activity of the molten glass
청징관(41)에 있어서, 백금족 금속의 응집물의 용해도는 용융 유리의 산소활량을 상승시킴으로써, 증가시킬 수 있다. 용융 유리의 산소활량이란, 용융 유리에 용존하는 산소량(기포로서 용융 유리 중에 존재하는 것을 제외함)을 의미한다. 본 실시 형태에서는, 산소활량의 지표로서, [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])가 사용된다. 여기서, [Fe2 +] 및 [Fe3 +]는, 용융 유리에 포함되는 Fe2 + 및 Fe3 +의 활량이며, 구체적으로는, 질량 백분율 표시 함유량이며, 분광 광도법을 사용해서 계측할 수 있다. In the purifying pipe 41, the solubility of the aggregate of the platinum group metal can be increased by raising the oxygen activity amount of the molten glass. The oxygen activity amount of the molten glass means the amount of oxygen dissolved in the molten glass (excluding bubbles present in the molten glass). In the present embodiment, [Fe 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]) is used as an index of oxygen activity. Here, [Fe 2 + ] and [Fe 3 + ] are the activity values of Fe 2 + and Fe 3 + contained in the molten glass, specifically, the content is expressed as a percentage of mass and can be measured using a spectrophotometric method .
예를 들어, 청징 공정에 있어서의 탈포 처리 공정에서는, 용융 유리의 온도가 높아져, 용융 유리에 용존하는 산소가 기포가 되어 탈포되므로, 용융 유리의 산소활량은 저하된다. 한편, 청징 공정에 있어서, 용융 유리의 온도가 낮아지면, 청징제가 산소를 끌어들이므로, 산소활량은 증대한다. For example, in the defoaming step in the refining process, the temperature of the molten glass is increased, and oxygen dissolved in the molten glass is defoamed as bubbles, so that the oxygen activity amount of the molten glass is lowered. On the other hand, when the temperature of the molten glass is lowered in the refining step, the refining agent attracts oxygen, so the oxygen activity increases.
용융 유리의 산소활량은, 예를 들어, 용해 공정에 있어서, 용융 유리에 포함되는 청징제, 산화물의 양을 조정하는 것 외에, 용융 유리에 포함되는 청징제 혹은 유리 원료의 산화물의 양을 조정하는 것 외에, 청징 공정에 있어서, 응집물 처리 공정 개시 전의 용융 유리의 온도를 조정하는 것, 혹은 응집물 처리 공정 개시 전에 용융 유리 내에 산소 함유 가스를 버블링함으로써 조정할 수 있다. The oxygen activity of the molten glass can be adjusted, for example, by adjusting the amount of the refining agent or the glass raw material contained in the molten glass, in addition to adjusting the amount of the refining agent and the oxide contained in the molten glass in the melting step In addition to this, it is possible to adjust the temperature of the molten glass before the start of the agglomerate treatment process in the refining process, or to bubble the oxygen-containing gas in the molten glass before the agglomerate treatment process starts.
용융 유리 중의 산소활량의 조정은, 용융 유리의 온도 혹은 온도 분포의 조정과 함께 행해져도 좋다. 또한, 용융 유리 중의 산소활량의 조정은, 기상 공간(41c)의 압력의 조정과 함께 행해져도 좋다. 용융 유리 중의 산소활량의 조정은, 상술한 바와 같이, 용융 유리에 포함되는 청징제 혹은 유리 원료의 산화물 양을 조정하는 것 외에, 청징 공정에 있어서, 응집물 처리 공정 개시 전의 용융 유리의 온도를 조정하는 것, 혹은, 응집물 처리 공정 개시 전에 용융 유리 내에 산소 함유 가스를 버블링함으로써 조정할 수 있다. 응집물 처리 공정 중, 산소활량의 지표인 [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])를 예를 들어 0.2 내지 0.5의 범위로 조정하는 것이 바람직하다. The adjustment of the oxygen activity amount in the molten glass may be performed together with the adjustment of the temperature or the temperature distribution of the molten glass. The adjustment of the oxygen activity amount in the molten glass may be performed together with the adjustment of the pressure in the gas phase space 41c. The adjustment of the oxygen activity amount in the molten glass is carried out by adjusting the amount of the fining agent contained in the molten glass or the amount of the oxide of the glass raw material as described above and also adjusting the temperature of the molten glass before the start of the agglomerate treatment process in the refining step Or by bubbling an oxygen-containing gas into the molten glass before the start of the agglomerate treatment process. It is preferable to adjust [Fe 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]), which is an index of oxygen activity, in the range of, for example, 0.2 to 0.5 in the aggregate treatment process.
용융 유리의 산소활량의 조정 시, 용융 유리의 산소활량을 지나치게 높게 하면, 백금족 금속의 응집물의 용해량이 커지는 반면, 다음의 단점을 발생시킨다. When the oxygen activity amount of the molten glass is excessively increased at the time of adjusting the oxygen activity amount of the molten glass, the amount of the aggregate of the platinum group metal increases, while the following disadvantages arise.
ㆍ백금족 금속의 휘발량의 증가 Increased volatility of platinum group metals
용융 유리의 산소활량을 지나치게 크게 하면, 탈포 처리 공정에 있어서 용융 유리로부터 기상 공간에 방출되는 산소량이 증가하고, 기상 공간의 산소 농도가 상승하므로, 백금족 금속이 용이하게 산화되어 휘발하기 쉬워진다. 백금족 금속이 휘발하기 쉬워지면, 백금족 금속의 응집물이 생성되기 쉬워, 용융 유리에 혼입되기 쉬워진다. If the oxygen activity amount of the molten glass is excessively increased, the amount of oxygen released from the molten glass to the vapor phase increases in the defoaming process, and the oxygen concentration in the vapor phase rises, so that the platinum group metal is easily oxidized and volatilized easily. If the platinum group metal is liable to volatilize, an aggregate of platinum group metal tends to be generated, and it is likely to be incorporated into the molten glass.
ㆍ산소 기포의 용융 유리 중의 잔존 The remaining oxygen bubbles in the molten glass
용융 유리의 산소활량을 지나치게 크게 하면, 흡수 처리 공정에 있어서, 환원된 청징제가 산소를 끌어들일 수 없게 되어, 산소를 포함한 기포(산소 기포)가 용융 유리 중에 생성되어, 유리 기판에서 기포로서 남으므로, 유리 기판의 품질을 저하시키기 쉬워진다. If the oxygen activity amount of the molten glass is excessively increased, the reduced refining agent can not attract oxygen, and oxygen bubbles (oxygen bubbles) are generated in the molten glass and remain as bubbles in the glass substrate, And the quality of the substrate is easily deteriorated.
이와 같은 단점의 발생을 억제하는 관점에서, 용융 유리의 산소활량의 조정에 의해 백금족 금속의 응집물의 용해량을 크게 할 때에는, 적절히 조건 파라미터(용융 유리의 온도 등)를 조합해서 조정하는 것이 바람직하다. From the viewpoint of suppressing the occurrence of such disadvantages, when the amount of platinum group metal aggregate is increased by adjusting the oxygen activity amount of the molten glass, it is preferable to suitably adjust the combination of the condition parameters (the temperature of the molten glass, etc.) .
혹은, 용융 유리의 온도 조정을, 응집물의 결함 개수에 기초하여 피드백 조정해도 좋다. 조정의 대상이 되는 용융 유리의 온도는 응집물 처리 공정 개시 시점의 온도이어도 좋고, 응집물 처리 공정의 도중의 온도이어도 좋다. Alternatively, the temperature adjustment of the molten glass may be feedback-adjusted based on the number of defects in the aggregate. The temperature of the molten glass to be adjusted may be the temperature at the start of the flocculation treatment process or may be the temperature in the middle of the flocculation treatment process.
유리 기판 중의 백금족 금속의 응집물의 결함은, 유리 기판의 표면에 경사 방향으로부터 레이저광 등의 광을 입사시키고, 그 반사광을 수광하는 것을, 유리 기판의 각 위치에서 행하고, 수광에 의해 얻어진 화상으로부터 백금족 금속의 응집물의 형상에 합치하는 영역을 특정함으로써, 검출할 수 있다. 응집물의 결함은, 이와 같이 장치를 사용해서 행하는 대신에 육안에 의해 검출해도 좋다. 이 응집물의 결함 개수의 허용 레벨은 단위 질량으로 나타냈을 때, 예를 들어 0.02개/㎏ 이하이다. 상기 허용 레벨은, 유리 기판의 유저가 요구하는, 변형이나 주표면의 요철에 관한 스펙에 따라서 변화된다. The defect of the aggregate of the platinum group metal in the glass substrate is caused by causing light such as laser light to be incident on the surface of the glass substrate from the oblique direction and receiving the reflected light at each position of the glass substrate, Can be detected by specifying an area that matches the shape of the agglomerate of the metal. The defects of the agglomerates may be visually detected instead of using the apparatus. The allowable level of the number of defects of this aggregate is, for example, 0.02 pieces / kg or less when expressed in unit mass. The allowable level is changed in accordance with the specification of the deformation and the unevenness of the main surface required by the user of the glass substrate.
예를 들어, 유리 기판에 있어서 검출된 결함 개수가 허용 레벨을 초과한 경우는, 용융 유리의 온도를 높게 하여, 용융 유리에 있어서의 백금족 금속의 포화 용해도를 높게 하고, 이에 의해, 용융 유리에 혼입된 응집물의 용해를 촉진시킨다. 한편, 유리 기판에 있어서 검출된 결함 개수가 허용 레벨에 있는 경우는, 허용 레벨에 있는 결함 개수의 상한값과 대응하는 용융 유리의 온도보다 높은 범위 내에서 낮게 할 수 있다. 이와 같이 용융 유리의 온도를 조정함으로써, 백금족 금속의 포화 용해도를 적정한 범위로 조정할 수 있고, 이에 의해, 유리 기판에 포함되는 응집물의 결함 개수를 허용 레벨로 하면서, 리보일 기포의 증가 등에 기인해서 발생하는 유리 기판의 품질 저하를 억제할 수 있다. For example, when the number of defects detected in the glass substrate exceeds the allowable level, the temperature of the molten glass is increased to increase the saturation solubility of the platinum group metal in the molten glass, Thereby accelerating the dissolution of the agglomerates. On the other hand, when the number of defects detected in the glass substrate is at the permissible level, it can be made lower within the range higher than the upper limit value of the number of defects at the tolerance level and the temperature of the corresponding molten glass. By adjusting the temperature of the molten glass in this manner, the saturation solubility of the platinum group metal can be adjusted to an appropriate range, thereby causing the number of defects in the aggregate contained in the glass substrate to be at an allowable level, It is possible to suppress deterioration of the quality of the glass substrate.
용융 유리의 온도 조정은, 구체적으로, 유리 처리 장치가 청징관을 포함하는 청징 장치인 경우는, 청징관에 전류를 흘려서 통전 가열함으로써 행할 수 있다. 전류량은, 가열 전극에 인가되는 전압의 크기에 의해 조정할 수 있다. 또한, 용융 유리의 온도 조정은 통전 가열 대신에 또는 통전 가열과 조합하여, 청징관의 주위에 배치한 도시되지 않는 히터에 의해 간접적으로 조정되어도 좋다. 히터는, 예를 들어, 내화물 보호층이나 내화물 벽돌의 내부 또는 외측에 배치된다. 또한, 용융 유리의 온도 조정은 내화물 보호층이나 내화물 벽돌을 사용해서 청징관으로부터의 방열량을 조정함으로써 행해져도 좋다. Specifically, in the case where the glass processing apparatus is a clarifying apparatus including a purifying tube, the temperature adjustment of the molten glass can be carried out by supplying electric current to the purifying tube and energizing and heating it. The amount of current can be adjusted by the magnitude of the voltage applied to the heating electrode. The temperature adjustment of the molten glass may be indirectly adjusted by a heater (not shown) disposed around the cleaning tube in place of or in combination with energization heating. The heater is disposed, for example, inside or outside the refractory protective layer or the refractory brick. The temperature of the molten glass may be adjusted by adjusting the amount of heat released from the purifying pipe by using the refractory protection layer or the refractory brick.
응집물 처리 공정에서는, 유리 기판에 포함되는 응집물의 결함 개수가 허용 레벨이 되도록, 용융 유리의 온도 조정 대신에, 또는 온도 조정 외에, 상술한 용융 유리의 산소활량의 지표인 유리 기판의 [Fe3 +]/([Fe2 +]+[Fe3 +])를 0.2 내지 0.5의 범위로 조정함으로써 상기 백금족 금속의 포화 용해도를 조정하는 것이 바람직하다. The aggregate process, [Fe of the agglomerate glass substrate in addition to instead of the temperature adjustment of the molten glass so that the defect count is acceptable level, or temperature regulation, an indicator of oxygen hwalryang of the above-mentioned molten glass contained in the glass substrate 3 + ] / ([Fe 2 + ] + [Fe 3 + ]) in the range of 0.2 to 0.5 to adjust the saturation solubility of the platinum group metal.
(응집물 처리 공정 후의 백금족 금속의 응집물) (Aggregate of platinum group metal after the aggregate treatment process)
응집물 처리 공정 후에 용융 유리, 유리 기판, 또는 유리 기판 적층체에 포함되는 백금족 금속의 이물질(응집물) 중, 최대 길이가 50㎛ 초과인 이물질(응집물) 개수의 비율은 30% 미만으로 감소한다. The ratio of the number of foreign substances (agglomerates) having a maximum length of more than 50 μm among the platinum group metal foreign substances (agglomerates) contained in the molten glass, the glass substrate, or the glass substrate laminate after the agglomerate treatment process is reduced to less than 30%.
본 실시 형태에서는, 용융 유리 G의 온도를 높게 하기 위해, 청징관(41)의 온도를 높게 하는 경우, 본 실시 형태의 상술한 효과를 유효하게 발휘할 수 있다. In the present embodiment, when the temperature of the cleaning tube 41 is increased to raise the temperature of the molten glass G, the above-described effects of the present embodiment can be effectively exhibited.
예를 들어, 환경 부하 저감을 위해, 용융 유리의 청징제로서 산화주석이 사용되는 것이 바람직하지만, 산화주석은 As2O3이나 Sb2O3과 비교하여, 청징 효과(산화 반응)가 얻어지는 온도가 높다. 이로 인해, 산화주석을 청징제로 한 경우, As2O3이나 Sb2O3을 청징제로 한 경우와 비교해서 청징관(41)의 온도를 높게 하여, 용융 유리 G의 온도를 높게 할 필요가 있다. 즉, 청징제로서 산화주석을 사용하기 위해, 종래보다도 청징관(41)의 휘발(산화)이 생기기 쉬워져, 백금족 금속의 휘발 및 응집의 문제가 생기기 쉽다. 이와 같이, 청징제로서 산화주석을 사용함으로써, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리에 혼입되는 양이 증가했다고 해도, 본 실시 형태와 같이, 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감할 수 있으므로, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다고 하는 효과가 현저해진다. 즉, 표시 불량을 일으키는 이물질(응집물)의 양을 충분히 저감할 수 있다. For example, tin oxide is preferably used as the fining agent of the molten glass for reducing the environmental load. However, tin oxide is inferior to As 2 O 3 or Sb 2 O 3 at a temperature at which the fining effect (oxidation reaction) high. Therefore, when tin oxide is used as the fining agent, it is necessary to raise the temperature of the cleaning tube 41 and increase the temperature of the fused glass G as compared with the case where As 2 O 3 or Sb 2 O 3 is used as the fining agent . That is, since tin oxide is used as the refining agent, the purifying tube 41 is more likely to be volatilized (oxidized) than in the prior art, and the problem of volatilization and agglomeration of the platinum group metal tends to occur. Thus, even if the amount of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal incorporated into the molten glass is increased by using tin oxide as the fining agent, the size of the foreign substance of the platinum group metal can be reduced as in the present embodiment, It is difficult for the substrate to be deformed, and the effect of making it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate becomes remarkable. That is, it is possible to sufficiently reduce the amount of foreign matter (aggregate) causing display failure.
또한, 점성이 높은 용융 유리는, 청징 공정에 있어서 기포의 부상 속도가 느려, 청징하는 것이 어렵다. 또한, 교반 장치(100)에서 행하는 교반 공정에 있어서도, 점성이 높은 용융 유리를 균질하게 교반하는 것은 어렵다. 따라서, 청징 효과 혹은 용융 유리의 균질화를 충분히 얻기 위해서는, 용융 유리의 온도를 높게 할 필요가 있다. 이로 인해, 온도가 높은 용융 유리로 하기 위해 유리 처리 장치의 온도도 상승시키면, 유리 처리 공정에서, 백금족 금속의 휘발이 심하게 되어 이물질(응집물)이 용융 유리에 혼입되는 양이 증가하기 쉽다. 즉, 백금족 금속의 휘발 및 응집의 문제가 생기기 쉽다. Further, in a molten glass having a high viscosity, the rising speed of bubbles is slow in the refining process, and it is difficult to purify the molten glass. In addition, even in the stirring step performed in the stirring apparatus 100, it is difficult to homogeneously stir molten glass having a high viscosity. Therefore, in order to sufficiently obtain the refining effect or homogenization of the molten glass, it is necessary to raise the temperature of the molten glass. Therefore, if the temperature of the glass processing apparatus is elevated in order to obtain a molten glass having a high temperature, the volatilization of the platinum group metal becomes severe in the glass processing step, and the amount of foreign matter (agglomerate) incorporated into the molten glass tends to increase. That is, the problem of volatilization and agglomeration of the platinum group metal tends to occur.
예를 들어, 디스플레이 패널에 사용하는 유리 기판에는, 박막 트랜지스터가 형성되는데, 박막 트랜지스터의 동작에 악영향을 주지 않도록, 유리 기판에는 무알칼리 유리 혹은 알칼리 미량 함유 유리를 사용하는 것이 바람직하다. 무알칼리 유리 혹은 알칼리 미량 함유 유리는 소다 유리 등의 알칼리 함유 유리와 비교하여, 점성이 높으므로, 청징 공정에 있어서 기포의 부상 속도가 느려, 청징하는 것이 어렵다. 이로 인해, 청징 효과를 충분히 얻기 위해서는, 청징관(41)의 온도를 높게 하여, 용융 유리 G의 온도를 높게 할 필요가 있다. 즉, 제조하는 대상이 무알칼리 유리 혹은 알칼리 미량 함유 유리이므로, 알칼리 유리보다도 청징관(41)의 휘발(산화)이 생기기 쉬워지고 있어, 백금족 금속의 휘발 및 응집의 문제가 생기기 쉽다. 이와 같이, 무알칼리 유리 혹은 알칼리 미량 함유 유리를 사용하기 위해, 청징관(41)의 온도를 높게 하여, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리에 혼입되는 양이 증가했다고 해도, 본 실시 형태와 같이, 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감할 수 있으므로, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다고 하는 효과가 현저해진다. 즉, 표시 불량을 일으키는 이물질(응집물)의 양을 충분히 저감할 수 있다. For example, a thin film transistor is formed on a glass substrate used for a display panel. In order not to adversely affect the operation of the thin film transistor, it is preferable to use an alkali-free glass or a glass containing a small amount of alkali for the glass substrate. Since the alkali-free glass or alkali-containing glass has a high viscosity as compared with an alkali-containing glass such as soda glass, the rising speed of the bubbles is slow in the refining process and it is difficult to purify the glass. For this reason, in order to sufficiently obtain the purifying effect, it is necessary to raise the temperature of the cleaning tube 41 and increase the temperature of the molten glass G. That is, since the object to be produced is an alkali-free glass or a glass containing a small amount of alkali, volatilization (oxidation) of the cleaning tube 41 is more likely to occur than alkali glass, and the problem of volatilization and agglomeration of the platinum group metal tends to occur. Even if the temperature of the cleaning tube 41 is increased to use an alkali-free glass or an alkali-containing glass as described above and the amount of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal incorporated in the molten glass increases, Likewise, since the size of the foreign substance of the platinum group metal can be reduced, the glass substrate is hardly deformed, and the effect of making it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate becomes remarkable. That is, it is possible to sufficiently reduce the amount of foreign matter (aggregate) causing display failure.
상술한 무알칼리 유리 혹은 알칼리 미량 함유 유리는, 변형점이 높은 유리이다. 변형점이 높은 유리는 변형점이 낮은 유리와 비교하여, 점성이 높으므로, 청징 공정에 있어서 기포의 부상 속도가 느려, 청징하는 것이 어렵다. 이로 인해, 청징 효과를 충분히 얻기 위해서는, 청징관(41)의 온도를 높게 하여, 용융 유리 G의 온도를 높게 할 필요가 있다. 즉, 변형점이 높은 유리를 제조하는 경우, 변형점이 낮은 유리를 제조하는 경우보다도 청징관의 휘발(산화)이 생기기 쉬워지고 있어, 백금족 금속의 휘발 및 응집의 문제가 생기기 쉽다. 이와 같이, 변형점이 높은 유리를 사용하기 위해, 청징관(41)의 온도를 높게 하여, 백금족 금속의 이물질(응집물)이 용융 유리에 혼입되는 양이 증가했다고 해도, 본 실시 형태와 같이, 백금족 금속의 이물질의 크기를 저감할 수 있으므로, 유리 기판에 변형이 생기기 어려워, 유리 기판의 주표면의 요철을 만들기 어렵게 할 수 있다고 하는 효과가 현저해진다. 즉, 표시 불량을 일으키는 이물질(응집물)의 양을 충분히 저감할 수 있다. The above-mentioned alkali-free glass or alkali-alkali-containing glass is a glass having a high strain point. Since the glass having a high strain point has a higher viscosity than a glass having a low strain point, the rising speed of bubbles in the cleaning process is slow and it is difficult to purify the glass. For this reason, in order to sufficiently obtain the purifying effect, it is necessary to raise the temperature of the cleaning tube 41 and increase the temperature of the molten glass G. That is, in the case of producing a glass having a high strain point, volatilization (oxidation) of the cleaning tube is more likely to occur than in the case of producing a glass having a low strain point, and the problem of volatilization and agglomeration of the platinum group metal tends to occur. Thus, even if the temperature of the cleaning tube 41 is increased to use a glass having a high strain point and the amount of foreign substances (agglomerates) of the platinum group metal in the molten glass increases, the platinum group metal The deformation of the glass substrate is less likely to occur, and the effect of making it difficult to make irregularities on the main surface of the glass substrate becomes remarkable. That is, it is possible to sufficiently reduce the amount of foreign matter (aggregate) causing display failure.
또한, 디스플레이용 유리 기판에는, 유리 기판의 변형점이 600℃ 이상, 보다 바람직하게는 650℃ 이상인 것이 요구되지만, 유리 기판의 변형점이 600℃ 이상이면, 표시 불량을 야기하는 크기의 이물질(응집물)의 양을 충분히 저감할 수 있는 본 실시 형태의 효과가 현저해진다. 또한, 고정밀 디스플레이용 유리 기판에는, 보다 변형점이 높은 것이 요구되고, 변형점이 690℃ 이상인 것이 바람직하고, 730℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 이와 같이 변형점이 690℃ 이상, 730℃ 이상이면, 본 실시 형태의 상술한 효과가 보다 현저해진다. The glass substrate for display is required to have a strain point of 600 DEG C or higher, more preferably 650 DEG C or higher. However, if the strain point of the glass substrate is 600 DEG C or higher, it is preferable that the strain of the foreign substance (agglomerate) The effect of the present embodiment capable of sufficiently reducing the amount of the catalyst is remarkable. The glass substrate for a high-precision display is required to have a higher strain point, and the strain point is preferably 690 캜 or higher, and more preferably 730 캜 or higher. When the strain point is 690 DEG C or more and 730 DEG C or more as described above, the above-described effect of the present embodiment becomes more remarkable.
또한, 본 실시 형태에서 사용되는 산화주석을 포함하는 용융 유리의 점도는, 1500℃ 이상의 온도, 예를 들어 1500℃ 내지 1700℃, 혹은 1550℃ 내지 1650℃의 온도에 있어서, 점도가 102. 5푸아즈인 것이 바람직하다. 이 경우, 본 실시 형태의 상술한 효과가 보다 현저해진다. Further, the viscosity of molten glass comprising a tin oxide used in the present embodiment, more than 1500 ℃ temperature, for example at a temperature of 1700 to 1500 ℃ ℃, or 1550 to 1650 ℃ ℃, the viscosity 10 2.5 It is preferable that it is Poisson. In this case, the above-described effect of the present embodiment becomes more remarkable.
또한, 본 실시 형태에서 제조되는 유리 기판의 판 두께를 0.005㎜ 내지 0.8㎜, 바람직하게는 0.01㎜ 내지 0.5㎜, 보다 바람직하게는 0.01㎜ 내지 0.2㎜로 하는 경우, 본 실시 형태의 상술한 효과가 보다 현저해진다. 이와 같은 판 두께가 얇은 유리 기판을 제조하면, 이물질(응집물)이 유리 표면에 나타나서 표면 요철을 형성하기 쉬워진다. 본 실시 형태에서는, 이와 같은 판 두께에 기인하는 문제를 상술한 효과에 의해 해소할 수 있다. When the thickness of the glass substrate produced in the present embodiment is 0.005 mm to 0.8 mm, preferably 0.01 mm to 0.5 mm, and more preferably 0.01 mm to 0.2 mm, the above-described effects of the present embodiment Lt; / RTI > When such a glass substrate having a thin thickness is produced, foreign matter (aggregated material) appears on the glass surface, and surface irregularities are easily formed. In the present embodiment, the problem caused by such a plate thickness can be solved by the above-mentioned effects.
[실험예] [Experimental Example]
본 실시 형태의 효과를 확인하기 위해, 도 1에 도시하는 응집물 처리 공정 S2B를 포함한 제조 공정에서 유리 기판을 제작했다(실시예). 응집물 처리 공정 S2B에서는, 응집물에 부여하는 열량의 제어를 행했다. In order to confirm the effect of the present embodiment, a glass substrate was manufactured in a manufacturing step including the aggregate treatment step S2B shown in Fig. 1 (Example). In the aggregate treatment step S2B, the amount of heat given to the aggregate was controlled.
유리 기판의 제작 조건은 하기와 같다. The production conditions of the glass substrate are as follows.
유리 기판의 유리 조성은, SiO2 60.7질량%, Al2O3 17질량%, B2O3 11.5질량%, MgO 2질량%, CaO 5.6질량%, SrO 3질량%, SnO2 0.2질량%이며, 변형점은 660℃이고, 판 두께는 0.4㎜이었다. The glass composition of the glass substrate was SiO 2 60.7% by weight, Al 2 O 3 17% by mass, B 2 O 3 11.5 mass%, MgO 2% by mass, 5.6% by weight CaO, SrO 3% by weight, SnO 2 0.2% by mass, a strain point of 660 캜, and a plate thickness of 0.4 mm.
또한, 도 1에 도시하는 응집물 처리 공정 S2B를 행하지 않고, 탈포 처리 공정 S2A 후, 흡수 처리 공정 S2C를 행한 종래의 제조 공정으로 유리 기판을 상술한 제작 조건에 의해 제작했다. 구체적으로는, 하기 표 1에 나타내는 예1 내지 예5에서는, 청징관(41)에 있어서의 용융 유리 G의 최고 온도를 1670℃ 내지 1720℃로 하고, 용융 유리 G의 온도가 1670℃ 이상으로 되는 시간을 40분으로 했다. 한편, 예6, 예7에서는, 용융 유리 G의 최고 온도를 1670℃ 미만으로 하고, 용융 유리 G의 온도가 1670℃ 이상으로 되는 시간을 0분으로 했다. Further, without performing the aggregate treatment step S2B shown in Fig. 1, a glass substrate was produced under the above-described production conditions in the conventional manufacturing step in which the absorption treatment step S2C was performed after the defoaming treatment step S2A. Specifically, in Examples 1 to 5 shown in the following Table 1, the maximum temperature of the molten glass G in the purifying pipe 41 is 1670 to 1720 캜, and the temperature of the molten glass G is 1670 캜 or higher I set the time to 40 minutes. On the other hand, in Examples 6 and 7, the maximum temperature of the molten glass G was set to be lower than 1670 캜, and the time when the temperature of the molten glass G became 1670 캜 or higher was set to 0 min.
이렇게 하여 제작한 0.1㎥의 복수매의 유리 기판에 있어서의 백금족 금속의 이물질(응집물)을, 광학 현미경을 사용해서 그 수를 카운트함과 함께, 백금족 금속의 이물질(응집물)의 최대 길이를 계측했다. 그리고, 유리 기판에 혼입되는 전체 백금족 금속의 이물질(응집물) 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질 개수의 비율을 구했다. 구한 비율을, 하기 표 1에 최고 온도와 함께 나타낸다. 예1 내지 예5의 이물질 비율은, 어느 쪽의 유리 기판에 있어서도 70% 이상이었지만, 예6, 예7의 이물질 비율은, 어느 쪽의 유리 기판도 35% 이하이었다. 도 5는 용융 유리의 최고 온도와 이물질의 비율과의 관계를 나타내는 그래프도이다. 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질의 비율은, 용융 유리의 최고 온도를 1660℃ 내지 1670℃ 이상으로 함으로써, 급격하게 상승하여 1670℃ 이상의 온도에서 70% 이상으로 되었다. 1690℃ 이상에서는, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질의 비율이 92% 이상으로 되고, 특히, 1700℃ 이상에서는, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질의 비율이 100%로 되었다. 이에 의해, 본 실험예의 조건에 있어서, 이물질에 부여하는 열량을 제어하는 경우, 용융 유리의 최고 온도를 1670℃ 이상, 바람직하게는 1690℃ 이상, 보다 바람직하게는 1700℃ 이상으로 함으로써 이물질에 열량을 부여하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다. 본 실험예의 조건에서는, 최고 온도 1670℃가, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질의 비율을 70%로 하는 최고 온도의 하한 온도이지만, 최고 온도를 1670℃ 이상으로 하는 것은 반드시 필수가 아니며, 다른 방법에 의해 응집물(이물질)의 용해도를 조정함으로써도, 최대 길이가 50㎛ 이하인 이물질의 비율을 70%로 하는 것을 실현할 수 있다. The number of foreign substances (agglomerates) of platinum group metals in a plurality of 0.1 m 3 glass substrates produced in this manner was counted using an optical microscope and the maximum length of foreign substances (agglomerates) of platinum group metals was measured . Then, the ratio of the number of foreign substances having a maximum length of 50 占 퐉 or less among all the platinum group metal foreign substances (aggregates) mixed in the glass substrate was determined. The obtained ratio is shown in Table 1 together with the maximum temperature. The foreign matter ratios of Examples 1 to 5 were 70% or more in any of the glass substrates, and the foreign matter ratios in Examples 6 and 7 were 35% or less for both glass substrates. 5 is a graph showing the relationship between the maximum temperature of the molten glass and the ratio of the foreign material. As can be seen from Fig. 5, the proportion of foreign matter having a maximum length of 50 mu m or less rapidly increased by setting the maximum temperature of the molten glass at 1660 DEG C to 1670 DEG C or more, and became 70% or more at a temperature of 1670 DEG C or more. At 1690 占 폚 or more, the ratio of foreign matter having a maximum length of 50 占 퐉 or less becomes 92% or more, and particularly, at 1700 占 폚 or more, the ratio of foreign matter having a maximum length of 50 占 퐉 or less is 100%. Thus, in the case of controlling the amount of heat applied to the foreign substance under the conditions of this experimental example, by setting the maximum temperature of the molten glass to 1670 DEG C or higher, preferably 1690 DEG C or higher, more preferably 1700 DEG C or higher, It is preferable to give the information. Under the conditions of this experimental example, the maximum temperature of 1670 占 폚 is the lower limit temperature of the maximum temperature at which the ratio of the foreign substance having the maximum length of 50 占 퐉 or less is 70%, but it is not necessarily essential that the maximum temperature is 1670 占 폚 or higher. It is possible to realize the ratio of the foreign matter having the maximum length of 50 탆 or less to 70% even by adjusting the solubility of the aggregate (foreign matter).
이상, 본 발명의 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 및 유리 기판 적층체에 대해 상세하게 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되지 않고, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에서, 다양한 개량이나 변경을 해도 좋은 것은 물론이다. Although the present invention has been described in detail with respect to the method for producing a glass substrate, the glass substrate and the glass substrate laminate according to the present invention, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, it is good to change.
40 : 용해조
41 : 청징관
41a : 통기관
41b : 가열 전극
41c : 기상 공간
42 : 성형 장치
52 : 성형체
43a, 43b, 43c : 이송관
100 : 교반 장치
200 : 유리 기판 제조 장치 40: Melting bath
41: Purification Hall
41a: vent pipe
41b: heating electrode
41c: weather space
42: Molding device
52: molded article
43a, 43b, and 43c:
100: stirring device
200: glass substrate manufacturing apparatus
Claims (19)
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상(氣相) 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치의 관에 있어서 상기 용융 유리를 흐르게 하면서 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과,
상기 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 상기 유리 처리 장치의 상기 관에서, 상기 용융 유리의 온도를 1670℃ 이상으로 하여, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 응집물 처리 공정을 구비하고,
상기 유리 처리 장치의 상기 관에는, 상기 기상 공간과 상기 유리 처리 장치의 외측의 대기를 연통시키는 통기관이 설치되고, 상기 유리 처리 장치의 상기 관을 흐르는 상기 용융 유리가 최고 온도가 되는 흐름 방향의 최고 온도 위치는 상기 용융 유리가 상기 유리 처리 장치의 상기 관에 도입되는 입구와 상기 통기관의 상기 용융 유리의 흐름 방향의 위치 사이에 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
Wherein the molten glass is introduced into the tube of the glass processing apparatus having a space in which a surface of the molten glass and a space surrounded by the wall are formed and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal Wherein the molten glass is subjected to a treatment while flowing the molten glass, wherein the molten glass treatment step in which the aggregate of the volatile substances of the platinum group metal volatilized from the wall present in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance and,
The temperature of the molten glass in the tube of the glass processing apparatus is set to 1670 占 폚 or higher so that the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 占 퐉 or less among the agglomerates mixed in the molten glass is 70% And an agglomerate treatment step for reducing the size of agglomerates incorporated into the glass,
Wherein the pipe of the glass processing apparatus is provided with a vent pipe for communicating the gas phase space with the atmosphere outside the glass processing apparatus, and wherein the molten glass flowing through the pipe of the glass processing apparatus has a maximum Wherein the temperature position is located between an inlet where the molten glass is introduced into the pipe of the glass processing apparatus and a position of the vent pipe in the flow direction of the molten glass.
상기 용융 유리로 이루어지는 액상과, 상기 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 상기 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치의 관에 있어서 상기 용융 유리를 흐르게 하면서 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과,
상기 용융 유리 처리 공정에서 용융 유리에 혼입된 응집물 중, 최대 길이가 50㎛ 이하인 응집물의 개수의 비율이 70% 이상이 되도록, 상기 유리 처리 장치의 상기 관에서, 상기 용융 유리의 온도를 1670℃ 이상으로 하여, 상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기를 작게 하는 응집물 처리 공정을 구비하고,
상기 유리 처리 장치의 상기 관에는, 상기 기상 공간과 상기 유리 처리 장치의 외측의 대기를 연통시키는 통기관이 설치되고, 상기 유리 처리 장치의 상기 관을 흐르는 상기 용융 유리가 최고 온도가 되는 흐름 방향의 최고 온도 위치는 상기 용융 유리가 상기 유리 처리 장치의 상기 관에 도입되는 입구와 상기 통기관의 상기 용융 유리의 흐름 방향의 위치 사이에 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
In a tube of a glass processing apparatus having a liquid phase made of the molten glass and a vapor phase space formed from the liquid surface and the wall of the molten glass and at least a part of the wall surrounding the vapor phase is made of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which the aggregate of volatiles of the platinum group metal volatilized from the wall present in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
The temperature of the molten glass in the tube of the glass processing apparatus is set to 1670 DEG C or more so that the ratio of the number of agglomerates having a maximum length of 50 mu m or less among the agglomerates mixed in the molten glass in the molten glass processing step is 70% And an agglomerate treatment step of reducing the size of agglomerates mixed in the molten glass,
Wherein the pipe of the glass processing apparatus is provided with a vent pipe for communicating the gas phase space with the atmosphere outside the glass processing apparatus, and wherein the molten glass flowing through the pipe of the glass processing apparatus has a maximum Wherein the temperature position is located between an inlet where the molten glass is introduced into the pipe of the glass processing apparatus and a position of the vent pipe in the flow direction of the molten glass.
상기 용융 유리의 도입에 의해, 상기 용융 유리의 표면과 벽에 둘러싸인 기상 공간이 형성되는 공간을 갖고, 상기 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치의 관에 있어서 상기 용융 유리를 흐르게 하면서 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과,
상기 용융 유리에 혼입된 응집물의 크기가 작아지도록, 상기 유리 처리 장치의 상기 관에서, 상기 용융 유리의 온도를 1670℃ 이상으로 하여, 상기 용융 유리에 있어서의 상기 응집물의 용해도를 조정하는 응집물 처리 공정을 구비하고,
상기 유리 처리 장치의 상기 관에는, 상기 기상 공간과 상기 유리 처리 장치의 외측의 대기를 연통시키는 통기관이 설치되고, 상기 유리 처리 장치의 상기 관을 흐르는 상기 용융 유리가 최고 온도가 되는 흐름 방향의 최고 온도 위치는 상기 용융 유리가 상기 유리 처리 장치의 상기 관에 도입되는 입구와 상기 통기관의 상기 용융 유리의 흐름 방향의 위치 사이에 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
Wherein the molten glass has a space in which a surface of the molten glass and a vapor space surrounded by the wall are formed and at least a part of the wall is made of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which an aggregate of volatile products of the platinum group metal volatilized from the wall existing in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
An agglomerate treatment step of adjusting the solubility of the agglomerate in the molten glass so that the temperature of the molten glass in the tube of the glass processing apparatus is set to 1670 DEG C or higher so as to reduce the size of agglomerates mixed in the molten glass; And,
Wherein the pipe of the glass processing apparatus is provided with a vent pipe for communicating the gas phase space with the atmosphere outside the glass processing apparatus, and wherein the molten glass flowing through the pipe of the glass processing apparatus has a maximum Wherein the temperature position is located between an inlet where the molten glass is introduced into the pipe of the glass processing apparatus and a position of the vent pipe in the flow direction of the molten glass.
상기 용융 유리로 이루어지는 액상과, 상기 용융 유리의 액면과 벽으로부터 형성되는 기상 공간을 갖고, 상기 기상 공간을 둘러싸는 벽의 적어도 일부가 백금족 금속을 포함하는 재료로 구성된 유리 처리 장치의 관에 있어서 상기 용융 유리를 흐르게 하면서 처리하는 공정이며, 상기 용융 유리의 처리 시, 상기 기상 공간에 존재하는, 상기 벽으로부터 휘발한 백금족 금속의 휘발물의 응집물이 이물질로서 상기 용융 유리에 혼입되는 용융 유리 처리 공정과,
상기 응집물에 부여하는 열량이, 상기 용융 유리에 혼입된 상기 응집물의 크기를 작게 할 수 있는 최소 열량 이상이 되도록, 상기 유리 처리 장치의 상기 관에서, 상기 용융 유리의 온도를 1670℃ 이상으로 하여, 상기 응집물에 부여하는 열량을 제어하는 응집물 처리 공정을 구비하고,
상기 유리 처리 장치의 상기 관에는, 상기 기상 공간과 상기 유리 처리 장치의 외측의 대기를 연통시키는 통기관이 설치되고, 상기 유리 처리 장치의 상기 관을 흐르는 상기 용융 유리가 최고 온도가 되는 흐름 방향의 최고 온도 위치는 상기 용융 유리가 상기 유리 처리 장치의 상기 관에 도입되는 입구와 상기 통기관의 상기 용융 유리의 흐름 방향의 위치 사이에 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법. A melting step of melting a glass raw material to produce a molten glass;
In a tube of a glass processing apparatus having a liquid phase made of the molten glass and a vapor phase space formed from the liquid surface and the wall of the molten glass and at least a part of the wall surrounding the vapor phase is made of a material containing a platinum group metal, A molten glass treatment step in which the aggregate of volatiles of the platinum group metal volatilized from the wall present in the vapor phase space is mixed with the molten glass as a foreign substance during the treatment of the molten glass,
The temperature of the molten glass in the tube of the glass processing apparatus is set to 1670 占 폚 or more so that the amount of heat given to the aggregate is equal to or more than a minimum amount of heat capable of reducing the size of the agglomerate incorporated in the molten glass, And an aggregate treatment step of controlling the amount of heat applied to the aggregate,
Wherein the pipe of the glass processing apparatus is provided with a vent pipe for communicating the gas phase space with the atmosphere outside the glass processing apparatus, and wherein the molten glass flowing through the pipe of the glass processing apparatus has a maximum Wherein the temperature position is located between an inlet where the molten glass is introduced into the pipe of the glass processing apparatus and a position of the vent pipe in the flow direction of the molten glass.
상기 기상 공간과 접하는 상기 벽의 최고 온도와 최저 온도의 차를 5℃ 이상으로 하고,
상기 기상 공간은 산소를 포함하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the wall in contact with the vapor space is set to 5 DEG C or more,
Wherein the vapor phase space contains oxygen.
상기 응집물 처리 공정에서는, 상기 응집물을 포함하는 상기 용융 유리의 온도를, 상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 용융 유리의 온도와 비교하여 높아지도록 승온시키는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
In the aggregate treatment step, the temperature of the molten glass containing the aggregate is raised so as to be higher than the temperature of the molten glass in the region where the aggregate is mixed in the molten glass in the molten glass treatment step Way.
상기 응집물 처리 공정에서는, 상기 응집물의 용융 유리에의 용해도를, 상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 상기 용해도에 비교하여 높게 하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the solubility of the agglomerate in the molten glass is higher than the solubility of the agglomerate in the molten glass in the molten glass treatment step.
상기 유리 처리 장치는, 청징관을 갖는 청징 장치이며,
상기 청징관 내의 상기 기상 공간은, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 형성되고,
상기 응집물 처리 공정은, 상기 청징관에서 행해지는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The glass processing apparatus is a purifying apparatus having a purifying tube,
Wherein the vapor phase space in the purifying tube is formed along the flow direction of the molten glass,
Wherein the flocculation treatment is performed in the clarifying tube.
상기 용융 유리 처리 공정에서는, 상기 용융 유리에 포함되는 산화주석을 사용해서 상기 용융 유리 중의 기포수를 저감하는 청징 처리를 행하고,
상기 기상 공간과 접하는 상기 벽에는, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 온도 분포를 형성시키고,
상기 기상 공간에는, 상기 용융 유리의 흐름 방향을 따라서 산소 농도 분포를 형성시키는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
In the above-mentioned molten glass treatment step, a fining treatment for reducing the number of bubbles in the molten glass is performed using tin oxide contained in the molten glass,
Wherein a temperature distribution is formed in the wall in contact with the vapor space along the flow direction of the molten glass,
Wherein an oxygen concentration distribution is formed in the vapor phase space along the flow direction of the molten glass.
상기 응집물 처리 공정은, 상기 유리 처리 장치에서 행해지고, 상기 유리 처리 장치에 흐르는 용융 유리 중, 상기 기상 공간에서의 용융 유리의 흐름 방향에 있어서, 산소 농도가 가장 높아지는 영역과 대응하는 위치에 흐르는 용융 유리에 대해 행해지는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the flocculation treatment step is carried out in the glass treatment apparatus and the molten glass flowing in a position corresponding to the region where the oxygen concentration is the highest in the flow direction of the molten glass in the vapor phase among the molten glass flowing in the glass treatment apparatus Is performed on the glass substrate.
상기 기상 공간 중의 산소 농도를, 0% 초과이며, 1.0% 이하로 하고, 상기 기상 공간과 접하는 상기 벽의 최고 온도와 최저 온도의 차를, 5℃ 이상이며, 150℃ 이하로 하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the oxygen concentration in the vapor phase space is set to more than 0% and not more than 1.0%, and a difference between a maximum temperature and a minimum temperature of the wall in contact with the vapor phase is 5 ° C or more and 150 ° C or less Way.
상기 응집물 처리 공정에 있어서의 상기 용융 유리의 온도를, 1670℃ 내지 1730℃의 온도 범위로 하도록 용융 유리의 온도를 제어하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the temperature of the molten glass is controlled so that the temperature of the molten glass in the aggregate treatment step is in the range of 1670 캜 to 1730 캜.
상기 용융 유리 처리 공정에 있어서 응집물이 용융 유리에 혼입되는 영역에서의 상기 용융 유리의 온도를, 1580℃ 내지 1660℃의 온도 범위로 하도록 용융 유리의 온도를 제어하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the temperature of the molten glass is controlled so that the temperature of the molten glass in the region where the aggregate is mixed into the molten glass in the molten glass treatment step is in the range of 1580 캜 to 1660 캜.
상기 용융 유리 처리 공정은, 상기 응집물 처리 공정을 포함하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the molten glass treatment step includes the aggregate treatment step.
상기 유리 기판은, 디스플레이용 유리 기판인 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the glass substrate is a glass substrate for display.
상기 응집물 처리 공정 개시 시의 상기 용융 유리 중에 용해되어 있는 백금족 금속의 농도를, 0.05 내지 20ppm으로 하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the concentration of the platinum group metal dissolved in the molten glass at the start of the agglomerate treatment process is set to 0.05 to 20 ppm.
상기 응집물 처리 공정에서는, 유리 기판의 [Fe3+]/([Fe2+]+[Fe3+])가 0.2 내지 0.5가 되는 범위에서 상기 용융 유리의 상기 백금족 금속의 포화 용해도를 조정하는 유리 기판의 제조 방법. 5. The method according to any one of claims 1 to 4,
In the flocculation treatment step, a glass for adjusting the saturation solubility of the platinum group metal in the molten glass in the range of [Fe 3+ ] / ([Fe 2+ ] + [Fe 3+ ] / RTI >
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Citations (1)
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---|---|---|---|---|
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---|---|---|---|---|
JP3986070B2 (en) * | 2003-08-08 | 2007-10-03 | Hoya株式会社 | Method for producing molten glass and method for producing glass molded body |
US20060242996A1 (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Gilbert Deangelis | System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system |
US8925353B2 (en) * | 2007-11-08 | 2015-01-06 | Corning Incorporated | Process and system for fining glass |
US20090217708A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | Gilbert Deangelis | Methods and apparatus for reducing platinum-group defects in sheet glass |
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US8177114B2 (en) * | 2010-08-30 | 2012-05-15 | Corning Incorporated | Method for eliminating carbon contamination of platinum-containing components for a glass making apparatus |
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US20140123710A1 (en) * | 2012-11-02 | 2014-05-08 | David Myron Lineman | Apparatus and method for minimizing platinum group metal particulate inclusion in molten glass |
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