KR101691353B1 - 보르테조밉의 제조방법 및 그의 신규 중간체 - Google Patents
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Abstract
본 출원은 보르테조밉 및 그의 중간체의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 신규 중간체를 사용하여 단순한 제조공정을 통해 고수율 및 고순도의 보르테조밉을 제조할 수 있어 산업적으로 매우 적합한 제조방법을 제공한다.
Description
본 출원은 보르테조밉의 제조방법 및 그의 유용한 중간체에 관한 것이다.
보르테조밉(Bortezomib, 화학식 I)은 화학명이 [(1R)-3-메틸-1[[(2S)-1-옥소-3-페닐-2-[(피라지닐카르보닐)아미노]프로필]아미노]부틸]보론 산인 항암 활성을 갖는 물질이다.
상품명은 벨케이드(Velcade®)이며, 다발성 골수종(relapsed multiple myeloma) 또는 외투층 세포 림프종(mantle cell lymphoma) 치료에 승인된 프로테아좀 억제제이며, 주사제 형태의 바이알 당 3.5mg의 멸균 동결 건조된 보르테조밉을 함유한다.
일반적으로 보르테조밉은 고체 상태의 삼합체 보록신(boroxine)으로서 존재하며, 물에 노출되면, 이 보록신은 단량체성 보론산 PS-341로 가수분해된다.
미국특허 5,780,454호는 보르테조밉, 그의 약학적으로 허용되는 염, 약학적 조성물 및 포유동물에서 프로테오좀 작용을 억제하기 위한 용도를 개시하고 있다. 또한 이것은 보르테조밉(특허상에서 MG-341 화합물) 및 그의 유사체의 제조 방법을 하기 반응식 1과 같이 개시하고 있다.
[반응식 1]
상기 반응식에서, PG=아민 보호기, Boc=t-부틸 카보네이트, Cbz= 카르복시벤질, Fmoc= 플루오레닐메틸옥시카르보닐 이다.
보다 구체적으로 참조 문헌 Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters 8 (1998) 333~338 (Julian Adams et al .)에 보르테조밉의 제조 방법을 개시하고 있다.
또한, 국제특허공개 WO 05/097809에서는 보르테조밉의 대규모 합성 방법에 대해서 기술하고 있으며, 하기 화학식 (g)의 화합물과 상기 화학식 (b)의 화합물 [(R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3COOH, CAS No. 179324-87-9]을 축합 반응하는 것을 포함하고 있으며, 산성 및 염기성 조건하에서 유기 용매를 사용하여 추출한 후 생성물을 단리(isolate)하여 재결정화 과정을 통해 향상된 순도의 보르테조밉을 약 48%의 수율로 얻는 것을 포함하고 있다.
하지만, 상기 화학식 (g)의 화합물의 아미노기 보호부분을 제거하기 위해 염산 가스를 사용하고 있지만, 산업적인 생산에서는 특별한 반응 장치와 보호 장비를 요구하는 것으로 대량 생산에 큰 위험요소이다. 또한 보르테조밉은 염기성 수용액에 장기간 노출되면 순도가 감소하는 현상이 있어, 대규모 생산에서 문제가 발생할 수 있다.
국제특허공개 WO 09/036281에서는 실시예를 통해 R1이 알킬기로 치환된 하기 화학식 (h)의 화합물을 중간체로 제조한 후 가수분해를 하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 보르테조밉의 제조방법을 개시하고 있다. 하지만, 상기 화학식 (b)의 화합물 [(R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3COOH, CAS No. 179324-87-9]과 축합 반응을 위해 보호화된 치환기를 탈보호화를 해야하는 단점이 있다. 또한 2-피라진카르복실산을 알킬 또는 아릴 클로로포르메이트 존재 하에서 L-페닐알라닌과 반응시켜 R1이 OH인 하기 화학식 (h)의 화합물을 중간체로 하는 보르테조밉의 제조방법을 개시하고 있다. 하지만 중간체의 제조 수율이 약 25%이므로 산업적인 생산에는 비효율적이다.
이에, 보르테조밉을 대량 생산할 수 있는 효율적인 제조방법에 대한 기술의 개발이 절실히 요구되고 있다
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고자 한 것으로, 더욱 상세하게는 신규 중간체를 사용하여 단순한 제조공정을 통해 고수율 및 고순도로 보르테조밉을 제조할 수 있는 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
본 발명은 하기 화학식 Ⅲ의 화합물과 하기 화학식 Ⅶ의 화합물을 반응시켜 하기 화학식 Ⅱ의 보론산 에스테르 화합물을 제조하는 단계 및 하기 화학식 Ⅱ의 화합물을 보론산 탈보호화 반응하여 보르테조밉을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 Ⅰ의 보르테조밉의 제조방법에 대한 것이다.
[화학식 Ⅲ]
[화학식 Ⅶ]
[화학식 Ⅱ]
[화학식 Ⅰ]
상기 화학식 Ⅲ의 화합물은 하기 화학식 Ⅳ의 화합물을 하기 화학식 Ⅵ의 화합물과 축합 반응하여 제조한다.
[화학식 Ⅳ]
[화학식 Ⅵ]
그리고, 상기 화학식 Ⅳ의 화합물은 하기 화학식 Ⅴ로 표기되는 Boc-L-페닐알라닌 4-니트로페닐 에스테르 화합물을 산성 조건에서 탈보호 반응하여 제조한다.
[화학식 Ⅴ]
상기 화학식 Ⅱ의 제조단계에서 반응온도는 15~25℃ 범위임을 특징으로 하며;
상기 화학식 Ⅲ의 제조를 위한 축합 반응은 TBTU, DMTMM, DIC 및 EDC로부터 선택되는 1종 이상의 축합제 존재 하에서 진행되며;
화학식 Ⅳ의 제조 단계에서 산성 조건은 염산을 사용하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 신규한 중간체로서
하기 화학식 Ⅲ의 화합물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 제조방법은 신규 중간체를 이용하는 단순한 공정을 통해 고수율 및 고순도의 보르테조밉을 제조할 수 있는바, 연속 반응을 통해 제조시간 및 제조비용이 절감되어 산업적 대량 생산에 매우 적합하다. 또한 본 발명에 따라 제조된 보르테조밉은 간단한 정제 공정을 통해 최종적으로 높은 순도의 보르테조밉을 제공할 수 있다.
본 발명은 L-페닐알라닌 4-니트로페닐 에스테르(화학식 Ⅳ)과 2-피라진카르복실산(화학식 Ⅵ)을 축합 반응하여 하기 화학식 Ⅲ의 화합물을 제조하고, 얻어진 화학식 Ⅲ의 화합물을 중간체로 (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ)을 반응하여 보론산 에스테르(boronate ester, 화학식 Ⅱ) 화합물을 제조한 다음, 보론산 탈보호화 반응하여 보르테조밉(화학식 I)을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 있어서, 신규 중간체인 화학식 Ⅲ의 화합물은 하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이 화학식 Ⅴ의 화합물을 출발물질로 하여 탈보호화된 화학식 Ⅳ를 거쳐 화학식 Ⅲ을 얻을 수 있다.
따라서, 본 발명의 바람직한 구체예는 하기 반응식 2와 같이,
(a) 화학식 V로 표기되는 Boc-L-페닐알라닌 4-니트로페닐 에스테르 화합물을 산성 매질의 존재하에서 탈보호 반응하여 화학식 Ⅳ로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; (b) 상기 (a) 단계에서 얻어진 화학식 Ⅳ의 화합물과 2-피라진카르복실산(화학식 Ⅵ) 화합물을 축합 반응하여 화학식 Ⅲ의 화합물을 제조하는 단계; (c) 상기 (b) 단계에서 얻어진 화학식 Ⅲ의 화합물과 (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ) 화합물을 반응시켜 화학식 Ⅱ의 보론산 에스테르 화합물을 제조하는 단계; 및 (d) 상기 (c) 단계에서 얻어진 화학식 Ⅱ의 화합물을 보론산 탈보호화 반응하여 보르테조밉 조생성물을 제조하는 단계를 포함한다.
[반응식 2]
이하에서는, 상기와 같은 본 발명의 보르테조밉의 바람직한 제조방법을 단계별로 더욱 상세히 설명한다.
(a)단계: 화학식 Ⅳ로 표시되는 L-페닐알라닌 4-
니트로페닐
에스테르 화합물의 제조
본 단계는 Boc-L- 페닐알라닌 4- 니트로페닐 에스테르 화합물(상기 화학식 V)의 탈보호화 반응이며, 당업계에 통상적으로 알려진 산성 매질 하에서 탈보호화 반응으로 쉽게 제조할 수 있다. 사용되는 산성 매질은 염산을 사용하는 것이 바람직 하다. 본 단계의 탈보호화 반응에 있어서 사용되는 염산의 사용량은 출발물질을 기준으로 1 ~ 10 당량, 보다 바람직하게는 4~7 당량의 양으로 사용하는 것이 바람직하다. 진한 염산을 사용할 경우 원하는 결과물이 소량의 물에 녹아 손실이 많아, 수분을 진공 농축해야 하는 문제점이 있다. 다른 한편 유기 용매에 포화된 염산을 사용하면 반응 후에 생성된 침전물을 간단하게 여과하여 원하는 목적화합물을 얻을 수 있으며, 바람직하게는 다이에틸에테르, 다이옥산 또는 에틸 아세테이트에 포화된 염산을 사용하는 것이다.
본 단계의 반응에 사용 가능한 용매로는 에틸 아세테이트, 디클로로메탄, 톨루엔, 다이옥산, tert-부틸 메틸 에테르 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는 수율을 고려하여 에틸 아세테이트, 다이에틸에테르 또는 다이옥산 그리고 이들의 혼합용액이다.
본 단계의 반응 온도는 0 ~ 40℃, 보다 바람직하게는 20 ~ 30℃이다. 반응 시간은 1 ~ 3시간이다.
반응이 종결되면 흰색의 고체가 석출이 되며, 수율을 고려하여 0 ~ 10℃로 냉각 교반한 후 여과하면 95% 이상의 수율로 목적 화합물을 얻을 수 있다.
(b)단계: 화학식 Ⅲ의 화합물 제조
본 단계는 L- 페닐알라닌 4- 니트로페닐 에스테르와 2- 피라진카르복실산의 축합 반응이며, 공지된 방법을 이용하여 염기와 축합제를 사용하여 쉽게 제조할 수 있다. 일반적으로 알려진 축합반응제인 TBTU(O-(벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로니움 테트라플루오로보레이트), DMTMM(4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-4-메틸모르폴리늄 클로라이드), DIC(N, N'-디이소프로필 카르보디이미드) 또는 EDC(1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드)를 사용하여 제조할 수 있다. 바람직하게는 축합제는 TBTU를 1.0~1.2 당량을 사용하고, 3~4 당량의 다이아이소프로필 아민(DIPEA) 또는 트리에틸 아민(TEA)을 사용하는 것이다. 사용되는 용매는 디클로로메탄을 사용하는 것이 바람직하다. 반응 온도는 0 ~ 30℃, 보다 바람직하게는 15 ~ 25℃에서 1 시간 이내에 반응을 종결한다. 간단한 추출과정을 통해 얻은 고체는 결정화를 통하여 흰색의 고체로 80% 이상의 수율로 목적 화합물을 얻을 수 있다. 결정화 용매는 아세톤, 에틸아세테이트, 디클로로메탄, tert-부틸 메틸 에테르, 헥산 그리고 헵탄으로부터 선택되는 1종 이상의 용매를 사용할 수 있다.
본 발명에서 주장하는 신규 중간체(화학식 Ⅲ) 화합물은 국제특허공개 WO 09/036281에서 사용하고 있는 상기 화학식 (h)의 화합물과 비교했을 때, 보호화된 치환기를 탈보호화하는 공정을 하지 않고 연속 공정(in-situ)을 통해 화학식 Ⅱ의 화합물을 제조할 수 있는 큰 장점이 있다.
(c)단계: 화학식 Ⅱ로 표시되는
보론산
에스테르 화합물의 제조
본 단계는 (b)단계에서 얻어진 화학식 Ⅲ의 화합물을 염기 조건에서 (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ)을 첨가하면 쉽게 제조할 수 있다 (참고 문헌 Tetrahedron Letters 43 (2002) 7717~7719, Jeffrey W. Keillor et al.). 사용되는 염기는 다이아이소프로필 아민, 트리에틸 아민, 4-메틸-몰폴린(4-메틸옥소피라지닐카르보닐아미노아미노프로필류의 염기를 사용할 수 있다. 반응 온도는 0 ~ 40℃에서 진행할 수 있으며, 바람직하게는 15 ~ 25℃에서 1시간 이내에 출발 물질이 사라지는 것을 확인할 수 있다. 또한 화학식 Ⅶ의 화합물의 탈염산화 통해 얻어진 상태에서는 염기를 사용하지 않아도 유기 용매상에서 반응이 진행함을 확인할 수 있다.
또한, (b)단계에서 반응 종결을 확인한 후에 분리정제를 하지 않고, (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ)을 1.0~1.2 당량을 투입하면 연속적인 반응을 통해서 화학식 Ⅱ의 화합물이 제조되는 것을 확인할 수 있다. 연속적인 반응 역시 반응 온도는 0 ~ 40℃에서 진행할 수 있으며, 바람직하게는 15 ~ 25℃에서 1시간 이내에 출발 물질이 사라지는 것을 확인할 수 있다.
본 발명에 있어 신규 중간체 화학식 Ⅲ의 중간체로 화학식 Ⅱ를 제조하는 것은 기존에 당업계에 알려진 축합 반응과 비교했을 때 축합제(예를 들면 TBTU 또는 EDC 등)를 사용하지 않고 상온에서 단기간에 반응을 할 수 있어 매우 효율적이고 반응 시간을 단축할 수 있는 큰 장점이 있다.
(d)단계:
보르테조밉
조생생물의
제조
본 단계는 (c)단계에서 얻어진 액상의 보론산 에스테르를 공지된 방법에 따라 보론산 보호기를 제거하여 보론산 형태로 전환하는 탈보호화 반응을 통해 보르테조밉 조생성물을 제조할 수 있다.
산성 조건에서 헵탄/메탄올 용매 조건에서 아이소부틸 보론산(CAS No. 84110-40-7)을 넣고 반응을 진행한다. 산성 조건이라면 하면 10~20% 염산 수용액을 투입할 수 있으며, 염산 수용액의 농도에 따라 반응 시간을 조절할 수 있다. 바람직하게는 2N 염산 수용액을 적가한 후 15 ~ 25℃에서 1~3시간에 반응을 종결한다.
반응 종결 후에 헵탄 층을 분리 제거하고 아래 메탄올 수층을 수산화나트륨 수용액으로 pH 5~6이 되도록 조절한 후에 디클로로메탄과 같은 유기 용매로 추출하여, 염기성 수용액에 장기간 노출시 순도가 감소하는 현상을 방지하였다.
유기층을 무수 황산 마그네슘으로 탈수, 여과하고 진공 농축하여 보르테조밉 조생성물을 HPLC 순도 95% 이상으로 얻을 수 있다. 추가적인 정제 과정을 통해 99.9% 이상의 고순도 및 62%의 향상된 수율로 보르테조밉을 제조할 수 있다.
또한, 국제특허공개 WO 05/097809에 개시되어 있는 실시예 2의 방법으로 보르테조밉을 제조하여 본 발명과 비교하였다. 개시된 실시예에 따라 보르테조밉을 제조하였으며, 출발물질 100g을 사용하여 6일 동안 작업을 하였으며 HPLC 순도 99.8%의 순도로 수율은 약 41%로 수득하였다.
본 발명을 이용하여 제조에 필요한 작업 일수는 4일이며, 고순도 및 고수율로 보르테조밉을 제조할 수 있었다.
본 발명은 신규한 중간체를 사용하여 연속 공정을 이용하여 수율 향상을 할 수 있으며, 고순도의 보르테조밉을 제조할 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐 어떠한 의미로든 본 발명의 범위가 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
실시예 1: 화학식 Ⅳ의 화합물의 제조
반응기에 Boc-L-페닐알라닌 4-니트로페닐 에스테르 화합물(화학식 V) 100 g을 에틸 아세테이트 1 L에 용해하고, 디옥산 300mL 중의 4M HCl을 0 ~ 10℃를 유지하면서 적가하였다. 반응액을 상온에서 약 1시간 정도 교반하면 흰색의 고체가 석출되며, 0 ~ 10℃로 냉각하여 추가적으로 2시간 교반하였다. 석출된 흰색의 고체를 여과하고 에틸아세테이트 200 mL로 세척하였다. 질소를 퍼징하여 2시간 여과하여 흰색의 고체로 목적화합물 80 g을 수득하였다. (수율: 95.8%)
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) : δ 9.13 (s, 3H), 8.33 (dd, J=2.0, 2.0 Hz, 2H) 7.40~7.31 (m, 7H), 4.55 (dd, J=4.0, 4.0, 1H), 3.46~3.23 (m, 2H)
실시예 2: 화학식 Ⅲ의 화합물의 제조
반응기에 화학식 Ⅳ의 화합물 80 g, 2-피라진카르복실산 32 g, TBTU 80 g 그리고 디클로로메탄 800 mL을 투입하였다. 내부온도 0 ~ 10℃를 유지하면서 DIPEA 103 g을 천천히 적가하였다. 내부 온도 15 ~ 25℃에서 1시간 반응 후에 유기층을 정제수 800 mL, 1% 인산 수용액 800 mL, 2% 탄산칼륨 수용액 800 mL, 10% 소금물 800 mL로 세척하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 탈수, 여과한 후 진공 농축하였다. 얻어진 농축물에 에틸 아세테이트/헥산을 투입하여 상온에서 2시간 교반한 후 흰색의 고체를 여과하고 에틸아세테이트로 세척하였다. 질소를 퍼징하여 2시간 여과하여 흰색의 고체로 목적화합물 79 g을 수득하였다. (수율: 81.2%)
1H NMR (400 MHz, CDCl3) : δ 9.33 (d, J=0.7, 1H), 8.72 (d, J=1.2 Hz, 1H), 8.49 (d, J=2.0 Hz, 1H), 8.24 (d, J=3.9 Hz, 1H), 8.18 (m, 2H), 7.32~7.19 (m, 5H), 7.10~7.06 (m, 2H), 5.23~5.18 (m, 1H), 3.38~3.28 (m, 2H)
실시예 3: 화학식 Ⅲ을 이용한 보르테조밉의 제조
반응기에 화학식 Ⅲ의 화합물 50 g을 DMF 250 mL에 투입한 후 DIPEA 2 당량을 투입한 후, 15 ~ 25℃에서 (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ) 1 당량 투입하고 반응 혼합액을 1시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후에 에틸아세테이트 500 mL으로 희석하고 정제수 350 mL, 1% 인산 수용액 350 mL, 2% 탄산칼륨 수용액 350 mL, 10% 소금물 350 mL로 세척하였다. 얻어진 유기층을 진공 농축하여 오일성의 중간체 화학식 Ⅱ를 수득하였다. 얻어진 화학식 2의 화합물에 메탄올 350 mL, 헵탄 350 mL, 아이소부틸 보론산 15.7 g을 투입한 후, 내부 온도를 0 ~ 10℃로 냉각하였다. 2N 염산 수용액 200 mL을 천천히 투입한 후 20 ~ 25℃에서 2시간 교반하였다.
반응 종결 후 윗부분의 헵탄 층을 제거하고, 헵탄 300 mL로 2회 세척하였다. 아래 부분의 메탄올/정제수 혼합액에 2N 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 5~6으로 보정하였다. 디클로로메탄 300 mL을 투입하여 2회 추출하고, 아래 유기층을 분리하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 탈수, 여과한 후 진공 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세톤 200 mL으로 용해한 후, 15 ~ 25℃에서 9시간 동안 교반하였다. 생성된 흰색의 고체를 여과하고, 질소를 퍼징하여 2시간 여과하여 흰색의 고체로 목적화합물 41 g을 수득하였다 (수율: 83.7%, 하기 HPLC 순도-1 분석법에 따라 측정 시 순도 97.4%).
에틸 아세테이트 600 mL를 50 ~ 60℃로 가열한 후, 얻어진 보르테조밉 조생성물 40 g을 투입하여 용해하였다. 맑은 색의 용액을 여과한 후 15 ~ 25℃에서 2시간 동안 교반하고, 추가적으로 0 ~ 10℃에서 1시간 동안 교반하였다. 생성된 흰색의 고체를 여과하고, 질소를 퍼징하여 2시간 여과한 후 50℃에서 4시간 동안 진공 건조하여 흰색의 고체로 목적화합물 35 g을 수득하였다 (수율 71.5%).
전체 수율 약 54% (화학식 V의 화합물을 출발물질로 계산 시)
하기 순도-1 (유연물질) 분석법에 따라 측정 시 순도 99.9% 이상, 개개유연물질 0.1% 미만
하기 순도-2 (거울상이성질체) 분석법에 따라 측정 시 거울상 이성질체 0.05% 이하
실시예 4: 화학식 Ⅳ의 화합물에서 연속 반응을 통한 보르테조밉의 제조
반응기에 화학식 Ⅳ의 화합물 80 g, 2-피라진카르복실산 32 g, TBTU 80 g 그리고 디클로로메탄 800 mL을 투입하였다. 내부온도 0 ~ 10℃를 유지하면서 DIPEA 103 g을 천천히 적가하였다. 내부 온도 15 ~ 25℃에서 1시간 반응하여 반응 종결을 얇은 막 크로마토그래피 (박층 크로마토그래피, TLC, 에틸아세테이트/헥산=1/1, v/v, 화학식 Ⅲ의 화합물 Rf=0.5)로 확인한 후, DMF 400 mL과 (R)-BoroLeu-(+)-Pinanediol-CF3CO2H(화학식 Ⅶ) 1 당량을 투입하였다. 내부 온도 10 ~ 20℃에서 DIPEA 35 g을 천천히 투입한 후 1시간 동안 교반하였다. 반응 종결을 TLC(에틸 아세테이트/헥산=1/1, v/v, 화학식 Ⅱ의 화합물 Rf=0.4)로 확인한 후, 디클로로메탄을 진공 농축(batch 온도 30℃ 이하)하고 에틸아세테이트 1 L로 희석하였다. 유기층을 정제수 800 mL, 1% 인산 수용액 800 mL, 2% 탄산칼륨 수용액 800 mL, 10% 소금물 800 mL로 세척하였다. 유기층을 진공 농축하여 오일성의 중간체(화학식 Ⅱ)를 수득하였다.
얻어진 화학식 Ⅱ의 화합물에 메탄올 700 mL, 헵탄 700 mL, 아이소부틸 보론산 31.3 g을 투입한 후, 내부 온도를 0 ~ 10℃로 냉각하였다. 2N 염산 수용액 400 mL을 천천히 투입한 후 20 ~ 25℃에서 2시간 동안 교반하였다.
반응 종결 후 윗부분의 헵탄 층을 제거하고, 헵탄 700 mL로 2회 세척하였다. 아래부분의 메탄올/정제수 혼합액에 2N 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 5~6으로 보정하였다. 디클로로메탄 700 mL을 투입하여 2회 추출하고, 아래 유기층을 분리하였다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 탈수, 여과한 후 진공 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세톤 450 mL로 용해한 후, 15 ~ 25℃에서 9시간 동안 교반하였다. 생성된 흰색의 고체를 여과하고, 질소를 퍼징하여 3시간 여과하여 흰색의 고체로 목적화합물 74 g을 수득하였다. (수율: 77.7%, 하기 HPLC 순도-1 분석법에 따라 측정 시 순도 96.8%)
에틸 아세에이트 1.2 L를 50 ~ 60℃로 가열한 후, 얻어진 보르테조밉 조생성물 74 g을 투입하여 용해하였다. 맑은 색의 용액을 여과한 후 15 ~ 25℃에서 3시간 동안 교반하고, 추가적으로 0 ~ 10℃에서 1시간 동안 교반하였다. 생성된 흰색의 고체를 여과하고, 질소를 퍼징하여 2시간 여과한 후 50℃에서 4시간 동안 진공 건조하여 흰색의 고체로 목적화합물 63 g을 수득하였다 (수율 66.1%).
전체 수율 약 62% (화학식 V의 화합물을 출발물질로 계산 시)
하기 순도-1 (유연물질) 분석법에 따라 측정 시 순도 99.9% 이상, 개개유연물질 0.1% 미만
하기 순도-2 (거울상이성질체) 분석법에 따라 측정 시 거울상 이성질체 0.05% 이하
1H NMR (400 MHz, CDCl3) : δ 9.27 (d, J=1.2Hz, 1H), 8.70 (d, J=2.4Hz, 1H), 8.45 (dd, J=1.6, 2.4 Hz, 1H), 8.34 (d, J=8.8Hz, 1H), 7.30~7.19 (m, 5H), 6.92 (s, 1H), 4.98 (dd, J=7.2, 15.6 Hz, 1H), 3.28~3.17 (m, 2H), 2.92 (s, 1H), 1.50~1.42 (m, 2H), 1.33~1.24 (m, 1H), 0.87~0.81 (m, 6H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) : δ 172.7, 163.0, 147.7, 144.3, 143.8, 142.9, 135.8, 129.6, 128.8, 127.3, 52.6, 43.4, 40.1, 38.5, 25.9, 23.1, 22.7
순도-1 (유연물질) 분석법
고성능액체크로마토그래피(HPLC) 분석 조건 및 분석법은 다음과 같다.
순도-2 (거울상이성질체) 분석법
Claims (7)
- 하기 화학식 Ⅲ의 화합물과 하기 화학식 Ⅶ의 화합물을 반응시켜 하기 화학식 Ⅱ의 보론산 에스테르 화합물을 제조하는 단계 및 하기 화학식 Ⅱ의 화합물을 보론산 탈보호화 반응하여 보르테조밉을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 Ⅰ의 보르테조밉의 제조방법.
[화학식 Ⅲ]
[화학식 Ⅶ]
(TFA=트리플루오로아세트산)
[화학식 Ⅱ]
[화학식 Ⅰ]
- 제 1항에 있어서, 화학식 Ⅲ의 화합물은 하기 화학식 Ⅳ의 화합물을 하기 화학식 Ⅵ의 화합물과 축합 반응하여 제조하는 것인 보르테조밉의 제조방법.
[화학식 Ⅳ]
[화학식 Ⅵ]
- 제 2항에 있어서, 화학식 Ⅳ의 화합물은 하기 화학식 Ⅴ로 표기되는 Boc-L-페닐알라닌 4-니트로페닐 에스테르 화합물을 산성 조건에서 탈보호 반응하여 제조하는 것인 보르테조밉의 제조방법.
[화학식 Ⅴ]
- 제1항에 있어서, 화학식 Ⅱ의 제조 단계에서 반응온도가 15~25℃ 범위임을 특징으로 하는 보르테조밉의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 축합 반응이 TBTU, DMTMM, DIC 및 EDC로부터 선택되는 1종 이상의 축합제 존재 하에서 진행되는 것을 특징으로 하는 보르테조밉의 제조방법.
- 제3항에 있어서, 산성 조건은 염산을 사용하는 것을 특징으로 하는 보르테조밉의 제조방법.
- 하기 화학식 Ⅲ의 화합물.
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