KR101639524B1 - Multi-layer capacitor, method of manufacturing the multi-layer capacitor and capacitor package including the multi-layer capacitor - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 적층 커패시터, 이를 포함하는 커패시터 패키지 및 적층 커패시터의 제조 방법에서, 적층 커패시터는 베이스 금속층과, 베이스 금속층의 상부면에 형성된 제1 표면 유전층과, 베이스 금속층의 하부면에 형성된 제2 표면 유전층과, 제1 표면 유전층 상에 순차적으로 적층되고, 제1 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 상부 커패시터 전극들과, 상부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 상부 유전층들과, 상부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 상부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 상부 연결 전극들과, 베이스 금속층과 접촉하는 제2 표면 유전층의 일면의 반대면 상에 순차적으로 적층되고 제2 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 하부 커패시터 전극들과, 하부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 하부 유전층들과, 하부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 하부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 하부 연결 전극을 포함한다.In the laminated capacitor according to the present invention, a capacitor package including the same, and a method of manufacturing the laminated capacitor, the laminated capacitor includes a base metal layer, a first surface dielectric layer formed on the upper surface of the base metal layer, At least two upper capacitor electrodes sequentially stacked on the first surface dielectric layer and having areas equal to each other smaller than the area of the first surface dielectric layer and upper dielectric layers respectively formed between the upper capacitor electrodes, An upper electrode connected to each of the capacitor electrodes and disposed on one side of the upper capacitor electrodes and a lower electrode connected to the upper surface of the second surface dielectric layer in contact with the base metal layer, At least two lower capacitor electrodes having the same area, Connecting the sitter electrodes each formed of a lower dielectric layer in between and, and the lower capacitor electrode, respectively, and includes a lower connection electrode disposed on one side of the lower capacitor electrode.
Description
본 발명은 적층 커패시터, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 커패시터 패키지에 관한 것으로, 특히 높은 커패시터 효율이 높고 안정적인 구조를 갖는 적층 커패시터, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 커패시터 패키지에 관한 것이다.
The present invention relates to a laminated capacitor, a method of manufacturing the same, and a capacitor package including the laminated capacitor. More particularly, the present invention relates to a laminated capacitor having a high and highly stable capacitor structure, a method of manufacturing the same, and a capacitor package including the laminated capacitor.
커패시터는 기본적인 구조로서 2개의 전극들과 그 사이에 개재된 유전층을 포함한다. 커패시터에 전압이 인가되면, 양극에 유도된 양전하와 음극에 유도된 전자에 의해 전기적 인력이 발생하게 되어 전자와 양전하가 축적됨으로써 에너지가 저장된다. 최근에는 하나의 커패시터가 적어도 3개 이상의 전극들과 그들 사이에 각각 개재된 다수의 유전층을 포함하는 적층 커패시터가 소형화, 고전력 등의 수요로 인해 널리 이용되고 있다.The capacitor is a basic structure and includes two electrodes and a dielectric layer interposed therebetween. When a voltage is applied to the capacitor, an electric attraction is generated by the positive charge induced in the positive electrode and the induced electrons in the negative electrode, so that electrons and positive charges accumulate and energy is stored. In recent years, a laminated capacitor including at least three electrodes and a plurality of dielectric layers sandwiched between at least three electrodes is widely used due to the demand for miniaturization, high power, and the like.
적층 커패시터에서는 전극들을 병렬로 연결하여 전압을 인가하는데, 이를 위해 실리콘 기판 상에 형성된 하부 전극을 기준으로 상기 실리콘 기판으로부터 멀어질수록 전극의 면적을 점점 감소시켜 형성하는 것이 필연적이다. 즉, 상기 하부 전극의 면적과 비교하여, 상기 하부 전극과 가장 먼 위치에 배치된 상부 전극의 면적이 작아지고, 이러한 전극 면적의 감소로 인해 적층 커패시터의 효율이 저하되는 문제점이 있다. 이러한 구조에서 전극들을 병렬로 연결하기 위한 외부 단자를 형성하는 경우에는 외부 압력에 의한 하부 전극이 손상되는 추가적인 문제도 발생한다.
In the laminated capacitor, electrodes are connected in parallel to apply a voltage. For this purpose, it is necessary to reduce the area of the electrode gradually as the distance from the silicon substrate is increased with respect to the lower electrode formed on the silicon substrate. That is, the area of the upper electrode located farthest from the lower electrode is smaller than the area of the lower electrode, and the efficiency of the stacked capacitor is lowered due to the reduction of the electrode area. In this structure, when an external terminal for connecting electrodes in parallel is formed, there arises an additional problem that the lower electrode is damaged by external pressure.
본 발명은 위에서 언급한 문제점을 해결하기 위한 발명으로서, 본 발명의 일 목적은 커패시터 전극들의 최대 면적은 확보하면서도 외부에서 안정적으로 전압을 제공할 수 있으며 전극과 유전층의 적층 구조를 최대화하여 커패시터 효율을 향상시킨 적층 커패시터를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems. An object of the present invention is to provide a semiconductor device which can stably provide an external voltage while securing a maximum area of a capacitor electrode, maximizes a lamination structure of an electrode and a dielectric layer, And to provide an improved laminated capacitor.
또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 적층 커패시터의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the above-described laminated capacitor.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 적층 커패시터를 안정적으로 외부 단자와 연결시키는 커패시터 패키지를 제공하는 것이다.
Still another object of the present invention is to provide a capacitor package for stably connecting the laminated capacitor to an external terminal.
본 발명의 일 목적을 위한 적층 커패시터는 베이스 금속층과, 상기 베이스 금속층의 상부면에 형성된 제1 표면 유전층과, 상기 베이스 금속층의 하부면에 형성된 제2 표면 유전층과, 상기 제1 표면 유전층 상에 순차적으로 적층되고, 상기 제1 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 상부 커패시터 전극들과, 상기 상부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 상부 유전층들과, 상기 상부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 상기 상부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 상부 연결 전극들과, 상기 베이스 금속층과 접촉하는 제2 표면 유전층의 일면의 반대면 상에 순차적으로 적층되고 상기 제2 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 하부 커패시터 전극들과, 상기 하부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 하부 유전층들과, 상기 하부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 상기 하부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 하부 연결 전극을 포함한다.A laminated capacitor for one purpose of the present invention comprises a base metal layer, a first surface dielectric layer formed on an upper surface of the base metal layer, a second surface dielectric layer formed on a lower surface of the base metal layer, At least two upper capacitor electrodes laminated with the first surface dielectric layer and having an area smaller than that of the first surface dielectric layer and upper dielectric layers respectively formed between the upper capacitor electrodes and connected to the upper capacitor electrodes Wherein the first surface dielectric layer and the second surface dielectric layer are sequentially stacked on the opposite surface of one surface of the second surface dielectric layer and in contact with the base metal layer, At least two lower capacitor electrodes, and a plurality of lower capacitor electrodes Connection of the lower dielectric layer is formed and, with the bottom capacitor electrode, respectively, and includes a lower connection electrode disposed on one side of the lower capacitor electrode.
일 실시예에서, 상기 제1 표면 유전층 상에는 상기 상부 커패시터 전극들의 가장자리를 커버하는 상부 절연층이 형성되고, 상기 제2 표면 유전층 상에는 상기 하부 커패시터 전극들의 가장자리를 커버하는 하부 절연층이 형성될 수 있다.In one embodiment, an upper insulating layer covering the edges of the upper capacitor electrodes is formed on the first surface dielectric layer, and a lower insulating layer covering the edges of the lower capacitor electrodes may be formed on the second surface dielectric layer .
이때, 상기 상부 절연층은 상기 상부 연결 전극들 각각을 노출시키는 홀들을 포함하고, 상기 하부 절연층으 상기 하부 연결 전극들 각각을 노출시키는 홀들을 포함할 수 있다.The upper insulating layer may include holes for exposing the upper connecting electrodes, and the lower insulating layer may include holes for exposing the lower connecting electrodes.
일 실시예에서, 상기 상부 유전층들 각각은 그 상부 유전층의 바로 아래에 배치된 상부 커패시터 전극과 연결된 상부 연결 전극의 에지와 접촉하고, 상기 하부 유전층들 각각은 그 하부 유전층의 바로 아래에 배치된 하부 커패시터 전극과 연결된 하부 연결 전극의 에지와 접촉할 수 있다.In one embodiment, each of the upper dielectric layers is in contact with an edge of an upper connecting electrode connected to an upper capacitor electrode disposed directly below the upper dielectric layer, and each of the lower dielectric layers includes a lower And may contact the edge of the lower connecting electrode connected to the capacitor electrode.
일 실시예에서, 상기 상부 연결 전극들은 상기 제1 표면 유전층 상에 일렬로 이격되어 배치되고, 상기 하부 연결 전극들은 상기 제2 표면 유전층 상에 일렬로 이격되어 배치될 수 있다.In one embodiment, the upper connection electrodes are arranged in a line spaced on the first surface dielectric layer, and the lower connection electrodes may be arranged in a line spaced on the second surface dielectric layer.
일 실시예에서, 상기 상부 연결 전극들과 상기 하부 연결 전극들은 상기 베이스 금속층을 중심으로 서로 대칭으로 형성될 수 있다.In one embodiment, the upper connection electrodes and the lower connection electrodes may be formed symmetrically with respect to the base metal layer.
일 실시예에서, 상기 상부 연결 전극들 중 2개 이상이 상하로 중첩되어 배치되고, 상기 하부 연결 전극들 중 2개 이상이 상하로 중첩되어 배치될 수 있다.In one embodiment, two or more of the upper connection electrodes are arranged so as to overlap with each other, and two or more of the lower connection electrodes may be arranged so as to overlap with each other.
일 실시예에서, 상기 상부 연결 전극들은 적어도 2개의 그룹으로 나뉘어져 상하로 서로 중첩되도록 배치되고, 상기 하부 연결 전극들은 적어도 2개의 그룹으로 나뉘어져 상하로 서로 중첩되도록 배치될 수 있다.In one embodiment, the upper connection electrodes are divided into at least two groups and arranged so as to overlap with each other, and the lower connection electrodes are divided into at least two groups and arranged so as to overlap each other vertically.
이때, 서로 중첩되도록 배치된 1개의 그룹에서의 상부 연결 전극들을 관통하는 관통홀이 형성되고, 서로 중첩되도록 배치된 1개의 그룹에서의 하부 연결 전극들을 관통하는 관통홀이 형성될 수 있다.At this time, through holes may be formed through the upper connecting electrodes in one group arranged to overlap with each other, and through holes may be formed through the lower connecting electrodes in one group arranged to overlap with each other.
일 실시예에서, 상기 베이스 금속층은 알루미늄을 포함하고, 상기 제1 표면 유전층 및 상기 제2 표면 유전층 각각은 산화알루미늄을 포함할 수 있다.In one embodiment, the base metal layer comprises aluminum, and each of the first surface dielectric layer and the second surface dielectric layer may comprise aluminum oxide.
본 발명의 다른 목적을 위한 적층 커패시터의 제조 방법은 알루미늄박의 양면을 제1 양극 산화시키는 단계, 제1 양극 산화 공정을 통해 알루미늄박의 제1 면에 형성된 제1 표면 유전층 상에 제1 상부 금속층 및 상기 제1 상부 금속층과 연결된 제1 상부 연결 전극을 형성하는 단계, 제1 양극 산화 공정을 통해 알루미늄박의 제2 면에 형성된 제2 표면 유전층 상에 제1 하부 금속층 및 상기 제1 하부 금속층과 연결된 제1 하부 연결 전극을 형성하는 단계, 상기 제1 상부 및 하부 연결 전극들이 마스킹된 상태에서, 상기 제1 상부 및 하부 금속층들을 양극 산화시켜, 제1 상부 커패시터 전극, 제1 상부 유전층, 제1 하부 커패시터 전극 및 제1 하부 유전층을 형성하는 단계, 제2 양극 산화 공정을 통해 형성된 상기 제1 상부 유전층 상에 제2 상부 금속층 및 상기 제2 상부 금속층과 연결된 제2 상부 연결 전극을 형성하는 단계, 제2 양극 산화 공정을 통해 형성된 상기 제1 하부 유전층 상에 제2 하부 금속층 및 상기 제2 하부 금속층과 연결된 제2 하부 연결 전극을 형성하는 단계 및 상기 제2 상부 및 하부 연결 전극들이 마스킹된 상태에서, 상기 제2 상부 및 하부 금속층들을 제3 양극 산화시켜, 제2 상부 커패시터 전극, 제2 상부 유전층, 제2 하부 커패시터 전극 및 제2 하부 유전층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a laminated capacitor for another purpose of the present invention includes the steps of: a first anodizing both sides of an aluminum foil; a first anodizing step of forming a first upper metal layer on the first surface dielectric layer formed on the first surface of the aluminum foil, And forming a first upper connection electrode connected to the first upper metal layer, forming a first lower metal layer and a first lower metal layer on the second surface dielectric layer formed on the second surface of the aluminum foil through a first anodization process, Forming an upper first connection electrode, a first upper connection electrode, and a second upper connection electrode, wherein the first upper connection electrode and the second connection electrode are connected to each other; Forming a lower capacitor electrode and a first lower dielectric layer, forming a second upper metal layer and a second upper metal layer on the first upper dielectric layer formed through a second anodization process, Forming a second lower connection electrode connected to the second lower metal layer and the second lower metal layer on the first lower dielectric layer formed through the second anodization process; The second upper and lower connection electrodes are masked and the second upper and lower metal layers are third anodized to form a second upper capacitor electrode, a second upper dielectric layer, a second lower capacitor electrode, .
일 실시예에서, 상기 제1 양극 산화 공정은 상기 알루미늄박을 전해액에 침지시켜 상기 알루미늄박의 양면을 동시에 양극 산화시켜 알루미늄으로 이루어진 베이스 금속층 및 상기 베이스 금속층의 양면에 각각 배치된 상기 제1 표면 유전층 및 상기 제2 표면 유전층을 형성하고, 상기 제2 양극 산화 공정은 상기 제1 상부 및 하부 금속층들이 형성된 베이스 금속층을 전해액에 침지시켜 상기 제1 상부 및 하부 금속층들을 동시에 양극 산화시키며, 상기 제3 양극 산화 공정은 상기 제2 상부 및 하부 금속층들이 형성된 베이스 금속층을 전해액에 침지시켜 상기 제2 상부 및 하부 금속층들을 동시에 양극 산화시킬 수 있다.In one embodiment, the first anodizing process comprises dipping the aluminum foil in an electrolytic solution to simultaneously anodize both sides of the aluminum foil to form a base metal layer made of aluminum, and a second surface dielectric layer And forming the second surface dielectric layer, wherein the second anodizing process simultaneously anodically oxidizes the first upper and lower metal layers by immersing the base metal layer in which the first upper and lower metal layers are formed in the electrolyte, The oxidation process can simultaneously anodize the second upper and lower metal layers by immersing the base metal layer in which the second upper and lower metal layers are formed in the electrolyte solution.
본 발명의 또 다른 목적을 위한 커패시터 패키지는 상기에서 설명한 적층 커패시터와, 바닥부 및 상기 바닥부와 연결된 측면부들이 형성하는 내부 공간에 상기 적층 커패시터를 수용하고, 상기 내부 공간에 형성되어 제1 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들과 연결된 제1 내부 전극 및 상기 제1 내부 전극과 이격되고 제2 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들과 연결된 제2 내부 전극을 포함하는 패키지 하우징을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a capacitor package comprising: the laminated capacitor described above; and a laminated capacitor including the laminated capacitor in an inner space formed by a bottom portion and side portions connected to the bottom portion, A first inner electrode connected to the upper connection electrodes and the lower connection electrodes, and a second inner electrode separated from the first inner electrode and connected to the upper and lower connection electrodes of the second group do.
일 실시예에서, 상기 제1 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들은 상하로 서로 중첩되어 배치되고, 상기 제2 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들도 상기 제1 그룹과 다른 영역에 상하로 서로 중첩되어 배치되며, 상기 패키지 하우징은 상기 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들을 관통하고, 하단부가 상기 제1 내부 전극과 접촉하는 제1 관통 전극과, 상기 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들을 관통하고, 하단부가 상기 제2 내부 전극과 접촉하는 제2 관통 전극을 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the upper and lower connection electrodes of the first group are vertically overlapped with each other, and the upper connection electrodes and the lower connection electrodes of the second group are also arranged in a region other than the first group Wherein the package housing comprises a first penetrating electrode penetrating the upper and lower connecting electrodes of the first group and having a lower end in contact with the first inner electrode, And a second penetrating electrode penetrating the connecting electrodes and having a lower end in contact with the second internal electrode.
일 실시예에서, 상기 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들과 상기 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들은 동일 측면에서 외부로 노출되어 상기 패키지 하우징의 측면부와 마주할 수 있다.In one embodiment, the upper and lower connection electrodes of the first group and the upper and lower connection electrodes of the second group may be exposed to the outside on the same side to face the side of the package housing.
일 실시예에서, 상기 제1 내부 전극 및 상기 제2 내부 전극 각각은 상부 및 하부 연결 전극들의 노출된 측면과 직접 접촉하며 상기 패키지 하우징의 측면부에 형성된 제1 전극부와, 상기 제1 전극부와 연결되어 상기 패키지 하우징의 바닥부에 형성된 제2 전극부를 포함할 수 있다.In one embodiment, the first internal electrode and the second internal electrode each include a first electrode portion directly contacting the exposed side surfaces of the upper and lower connection electrodes and formed on a side surface of the package housing, And a second electrode part connected to the bottom of the package housing.
일 실시예에서, 상기 커패시터 패키지는 상기 제1 내부 전극과 연결되고 상기 패키지 하우징의 바닥부를 관통하여 외부로 연결된 제1 외부 단자 및 상기 제2 내부 전극과 연결되고 상기 하우징 패키지의 바닥부를 관통하여 외부로 연결된 제2 외부 단자를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the capacitor package includes a first external terminal connected to the first internal electrode and connected to the outside through a bottom portion of the package housing, and a second external terminal connected to the second internal electrode, And a second external terminal connected to the second external terminal.
일 실시예에서, 상기 제1 내부 전극 및 상기 제2 내부 전극은 상기 패키지 하우징의 바닥부에 서로 이격되어 배치될 수 있다.
In one embodiment, the first inner electrode and the second inner electrode may be spaced apart from each other at the bottom of the package housing.
본 발명의 적층 커패시터, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 커패시터 패키지에 따르면, 커패시터 전극으로부터 연장된 연결 전극을 커패시터 영역의 주변부에 형성함으로써 커패시터 전극들의 최대 면적은 확보하면서도 커패시터 전극들 및 유전층의 적층 구조 또한 최대화할 수 있어 적층 커패시터의 효율을 최대화시킬 수 있다. 또한, 이와 같은 적층 커패시터는 1번의 양극산화공정에서 동시에 2개의 유전층 및 2개의 전극이 만들어지는 결과를 가져오므로 단순한 공정을 통해서 제조할 수 있다.According to the laminated capacitor of the present invention, the method of manufacturing the same, and the capacitor package including the capacitor electrode, a connecting electrode extending from the capacitor electrode is formed at the periphery of the capacitor region to secure the maximum area of the capacitor electrodes, So that the efficiency of the laminated capacitor can be maximized. In addition, since such a laminated capacitor results in two dielectric layers and two electrodes formed simultaneously in one anodization process, it can be manufactured through a simple process.
뿐만 아니라, 외부에서 안정적으로 전압을 제공할 수 있는 구조의 패키지 하우징과 상기 적층 커패시터를 포함하는 안정적인 구조의 커패시터 패키지를 제공할 수 있다.
In addition, it is possible to provide a package housing of a structure capable of stably supplying a voltage from the outside and a capacitor package of a stable structure including the laminated capacitor.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층 커패시터를 설명하기 위한 평면도이다.
도 2는 도 1의 I-I'라인 및 II-II'라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 3 내지 도 9는 도 1 및 도 2에 도시된 적층 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 10는 본 발명의 다른 실시예에 따른 적층 커패시터를 설명하기 위한 평면도이다.
도 11은 도 10의 III-III'라인 및 IV-IV'라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 패키지 하우징을 설명하기 위한 도면이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 커패시터 패키지를 설명하기 위한 평면도이다.
도 14는 도 13의 V-V'라인 및 VI-VI'라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 커패시터 패키지를 설명하기 위한 평면도이다.
도 16은 도 15의 패키지 하우징을 설명하기 위한 평면도이다.
도 17은 도 15의 VII-VII'라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 18은 도 15의 VIII-VIII'라인을 따라 절단한 단면도이다.1 is a plan view for explaining a laminated capacitor according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along the line I-I 'and II-II' of FIG.
FIGS. 3 to 9 are views for explaining a method of manufacturing the laminated capacitor shown in FIGS. 1 and 2. FIG.
10 is a plan view for explaining a laminated capacitor according to another embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view taken along lines III-III 'and IV-IV' of FIG.
12 is a view for explaining a package housing according to an embodiment of the present invention.
13 is a plan view for explaining a capacitor package according to an embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view taken along lines V-V 'and VI-VI' of FIG.
15 is a plan view for explaining a capacitor package according to another embodiment of the present invention.
16 is a plan view for explaining the package housing of Fig. 15;
17 is a cross-sectional view taken along line VII-VII 'of FIG.
FIG. 18 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII 'of FIG. 15; FIG.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들에 대해서만 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and similarities. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 구성요소 등이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 구성요소 등이 존재하지 않거나 부가될 수 없음을 의미하는 것은 아니다. The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the term "comprises" or "having" is intended to designate the presence of stated features, elements, etc., and not one or more other features, It does not mean that there is none.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적층 커패시터를 설명하기 위한 평면이고, 도 2는 도 1의 I-I'라인 및 II-II'라인을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 1 is a plan view for explaining a laminated capacitor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line I-I 'and II-II' of FIG.
도 1 및 도 2를 참조하면, 적층 커패시터(501)는 베이스 금속층(110), 제1 표면 유전층(120), 제2 표면 유전층(130), 다수의 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a), 다수의 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b), 다수의 상부 유전층들(214a, 224a, 234a), 다수의 하부 유전층들(214b, 224b, 234b), 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)을 포함한다.1 and 2, a stacked
베이스 금속층(110)은 알루미늄으로 이루어진 금속층일 수 있다. 베이스 금속층(110)은 알루미늄으로 이루어진 고순도 알루미늄이거나, 다른 금속이 부분적으로 함유된 알루미늄 합금일 수 있다.The
제1 표면 유전층(120)이 베이스 금속층(110)의 제1 면에 형성되고, 제2 표면 유전층(130)이 상기 제1 면의 반대면인 제2 면에 형성된다. 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130) 각각은 산화알루미늄으로 이루어진 다공성층일 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130) 각각에서 베이스 금속층(110)과 접촉하는 부분의 반대부분에 미세한 요철이 형성될 수 있다. 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130) 각각은 베이스 금속층(110)의 표면적과 실질적으로 동일한 면적으로 형성될 수 있다.A first
이하에서는, 설명의 편의를 위해서 베이스 금속층(110)을 기준으로 상기 제1 면을 상부면으로 하고, 상기 제2 면을 하부면으로 하여 설명한다. 또한, "제2 면의 상부"는 지면에서 위를 향하는 방향이 아니라 베이스 금속층(110)의 제2 면으로부터 멀어지는 방향을 의미하는 것으로, 지면을 기준으로 아래를 향하는 방향과 동일한 방향을 의미한다. 또한, 제2 면에 배치된 구성 요소들의 "하부"는 베이스 금속층(110)의 제2 면과 가까운 부분을 의미한 것으로 한다.Hereinafter, the first surface will be referred to as the upper surface and the second surface will be referred to as the lower surface with reference to the
다수의 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a) 및 다수의 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b) 각각은 알루미늄 전극일 수 있다. 이때, 알루미늄 전극은 알루미늄으로 이루어진 고순도 알루미늄이거나, 다른 금속이 부분적으로 함유된 알루미늄 합금일 수 있다.Each of the plurality of
상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a)은 베이스 금속층(110)의 상기 제1 면을 향하는 측의 일 영역 상에 형성되고, 서로 중첩되어 적층된다. 또한, 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)은 베이스 금속층(110)의 상기 제2 면을 향하는 측의 일 영역 상에 형성되고, 서로 중첩되어 적층된다. 베이스 금속층(110)의 상하 방향으로, 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a)과 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)이 모두 서로 중첩되어 적층된 구조를 가질 수 있다. 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a)은 제1 표면 유전층(120)으로부터 순차적으로 적층된 제1, 제2, 제3 및 제4 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a)을 포함한다. 또한, 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)은 제2 표면 유전층(130)으로부터 순차적으로 적층된 제1, 제2, 제3 및 제4 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)을 포함한다.The
이하에서는 설명의 편의상 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a) 및 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)이 형성된 영역을, "커패시터 영역"으로 지칭하고, 상기 커패시터 영역을 제외한 다른 영역은 "주변부"로 지칭하며, 상기 주변부 중에서도 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)이 형성된 영역을 "전극 형성부"로 지칭하여 설명한다. 적층 커패시터(501)에서, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)은 전극 형성부에 베이스 금속층(110)의 상하 방향으로 서로 중첩되어 적층되도록 배치된다.Hereinafter, a region where the
상부 유전층들(214a, 224a, 234a)은 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a) 사이에 배치된다. 제1 및 제2 상부 커패시터 전극들(212a, 222a) 사이에 제1 상부 유전층(214a)이 배치되고, 제2 및 제3 상부 커패시터 전극들(222a, 232a) 사이에 제2 상부 유전층(224a)이 배치되며, 제3 및 제4 상부 커패시터 전극들(232a, 300a) 사이에 제3 상부 유전층(234a)이 배치된다. 해당 상부 유전층의 바로 하부에 형성된 상부 커패시터 전극을 전체적으로 커버할 수 있다. 실질적으로는, 상부 유전층들(214a, 224a, 234a)은 해당 상부 유전층의 바로 하부에 형성된 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a)과 일체로 형성된다. 즉, 1개의 금속층의 표면을 양극 산화시켜 잔류하는 금속층은 커패시터 전극이 되고, 양극 산화된 부분은 유전층이 된다.The
하부 유전층들(214b, 224b, 234b)은 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b) 사이에 배치되고, 해당 상부 유전층의 바로 하부에 형성된 하부 커패시터 전극을 전체적으로 커버할 수 있다. 하부 유전층들(214b, 224b, 234b)도 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b)과 일체로 형성된다. 제1 및 제2 하부 커패시터 전극들(212b, 222b) 사이에 제1 하부 유전층(214b)이 배치되고, 제2 및 제3 하부 커패시터 전극들(222b, 232b) 사이에 제2 하부 유전층(224b)이 배치되며, 제3 및 제4 하부 커패시터 전극들(232b, 300b) 사이에 제3 하부 유전층(234b)이 배치된다. The lower
제1 상부 연결 전극(CE11)은 제1 상부 커패시터 전극(212a)과 연결되고, 제2 상부 연결 전극(CE21)은 제2 상부 커패시터 전극(222a)과 연결되며, 제3 상부 연결 전극(CE31)은 제3 상부 커패시터 전극(232a)과 연결된다. 또한, 제4 상부 연결 전극(CE41)은 제4 상부 커패시터 전극(242a)과 연결된다. 이때, 제1 상부 연결 전극(CE11)은 제1 상부 유전층(214a)의 에지와 접촉하고, 제2 상부 연결 전극(CE21)은 제2 상부 유전층(224a)의 에지와 접촉한다. 또한, 제3 상부 연결 전극(CE31)은 제3 상부 유전층(234a)의 에지와 접촉한다. 이는, 제조 공정에서, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41)은 양극 산화되지 않고, 그 두께를 계속하여 유지하기 때문에 양극 산화되어 형성되는 제1 내지 제3 상부 유전층들(214a, 224a, 234a)의 에지가 그들과 접촉하는 구조를 갖게 된다.The first upper connection electrode CE11 is connected to the first
제1 하부 연결 전극(CE12)은 제1 하부 커패시터 전극(212b)과 연결되고, 제2 하부 연결 전극(CE22)은 제2 하부 커패시터 전극(222b)과 연결된다. 또한, 제3 하부 연결 전극(CE32)은 제3 하부 커패시터 전극(232b)과 연결되고, 제4 하부 연결 전극(CE42)은 제4 하부 커패시터 전극(234b)과 연결된다. 이때, 제1 하부 연결 전극(CE12)은 제1 하부 유전층(214b)의 에지와 접촉하고, 제2 하부 연결 전극(CE22)은 제2 하부 유전층(224b)의 에지와 접촉한다. 또한, 제3 하부 연결 전극(CE32)은 제3 하부 유전층(234b)의 에지와 접촉한다. The first lower connection electrode CE12 is connected to the first
상기 커패시터 영역과 상기 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 상부 절연층(IL1) 하부 절연층(IL2)이 형성된다. 상부 절연층(IL1)은 제1 표면 유전층(120) 상에 형성되고, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41)은 상기 제1 면의 상기 주변부에 일렬로 서로 이격되어 배치되되, 이들 중 적어도 어느 하나는 상부 절연층(IL1) 상에 형성된다. 하부 절연층(IL2)은 제2 표면 유전층(130) 상에 형성되고, 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)도 상기 제2 면의 상기 주변부에 일렬로 서로 이격되어 배치되도, 이들 중 적어도 어느 하나는 하부 절연층(IL2) 상에 형성된다. 상부 및 하부 절연층들(IL1, IL2) 각각은 절연 물질을 포함하고, 예를 들어 폴리이미드(polyimide)로 형성될 수 있다. 상부 및 하부 절연층들(IL1, IL2) 각각은 다수의 절연층들(FL, SL, TL, FOL 도 4 내지 9 참조)이 적층되어 구성될 수 있다.A lower insulating layer IL2 is formed on the peripheral portion except for the capacitor region and the electrode forming portion. The upper insulating layer IL1 is formed on the first
상부 절연층(IL1)은 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 각각을 노출시키는 전극 노출부들(EP)을 포함한다. 또한, 하부 절연층(IL2)도 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42) 각각을 노출시키는 전극 노출부들을 포함한다. 상부 및 하부 절연층들(IL1, IL2)의 전극 노출부들(EP)을 통해서, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)은 외부로부터 전압을 인가받을 수 있다. 전극 노출부들(EP)에는 외부 전극과 연결되는 전극 물질이 충진될 수 있다.The upper insulating layer IL1 includes electrode exposures EP exposing the first through fourth upper connection electrodes CE11, CE21, CE31, and CE41, respectively. The lower insulating layer IL2 also includes electrode exposed portions that expose the first through fourth lower connection electrodes CE12, CE22, CE32, and CE42, respectively. The first to fourth upper connection electrodes CE11, CE21, CE31 and CE41 and the first to fourth lower connection electrodes CE1, CE2, CE3, and CE41 through the electrode exposed portions EP of the upper and lower insulating layers IL1, IL2 CE12, CE22, CE32, and CE42 can receive a voltage from the outside. The electrode exposed portions EP may be filled with an electrode material connected to the external electrode.
일 실시예에서, 제1 상부 연결 전극(CE11)은 제1 표면 유전층(120) 상에 형성되고, 제2, 제3 및 제4 상부 연결 전극들(CE21, CE31, CE41)은 상부 절연층(IL1) 상에 형성될 수 있다. 이때, 제2 상부 연결 전극(CE21) 하부의 상부 절연층(IL1)의 두께는, 제3 상부 연결 전극(CE31)과 제4 상부 연결 전극(CE41) 하부의 상부 절연층(IL1)의 두께보다 얇을 수 있다. 상기 커패시터 영역에 형성된 제1 내지 제4 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a), 제1 내지 제3 상부 유전층들(214a, 224a, 234a)의 가장자리는 상부 절연층(IL1)에 의해 둘러싸일 수 있다.In one embodiment, the first upper connecting electrode CE11 is formed on the first
제1 상부 커패시터 전극(212a)과 제1 상부 유전층(214a)을 형성한 후, 제2 상부 연결 전극(CE21)을 형성하기 때문에 제1 표면 유전층(120)과의 단차가 발생한다. 또한, 제2 상부 커패시터 전극(222a)과 제2 상부 유전층(224a)을 형성한 후에, 제3 상부 연결 전극(CE31)을 형성하기 때문에 제1 표면 유전층(120)과의 단차네느 더욱 커지며 점차적으로 전극을 더 형성할수록 연결 전극을 형성하는 공정 중에서 전극이 끊어지는 등의 불량이 발생할 수 있으나, 상부 절연층(IL1)을 형성함으로써 이러한 단차를 최소화시킬 수 있다.Since the first
하부 절연층(IL2)도 제1 내지 제4 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 242b)와 제1 내지 제4 하부 유전층들(214b, 224b, 234b, 244b), 그리고 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)을 형성하는 공정에서 제2 표면 유전층(130)과의 단차를 최소화시킬 수 있다.The lower insulating layer IL2 is also formed on the first to fourth
도 2에서는, 제1 상부 연결 전극(CE11)이 제4 하부 연결 전극(CE42)과 마주하여 배치되고, 제2, 제3 및 제4 상부 연결 전극들(CE21, CE31, CE41)이 제3, 제2 및 제1 하부 연결 전극들(CE32, CE22, C12)과 마주하여 배치된 것을 일례로 도시하여 설명하였으나, 제1 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE12)이 서로 마주하고, 제2 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE22)이 서로 마주하도록 배치될 수 있다.2, the first upper connection electrode CE11 is arranged to face the fourth lower connection electrode CE42, and the second, third and fourth upper connection electrodes CE21, CE31 and CE41 are arranged in the third, The first upper and lower connection electrodes CE11 and CE12 are opposed to each other and the second upper connection electrodes CE11 and CE12 are disposed opposite to each other. And the lower connection electrodes CE21 and CE22 may face each other.
도 3 내지 도 9는 도 1 및 도 2에 도시된 적층 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.FIGS. 3 to 9 are views for explaining a method of manufacturing the laminated capacitor shown in FIGS. 1 and 2. FIG.
도 3 및 도 4를 도 1 및 도 2와 함께 참조하면, 먼저 알루미늄박을 준비하고, 이를 제1 양극 산화시켜 베이스 금속층(110), 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)을 형성한다. 제1 양극 산화 공정은, 알루미늄박을 전체적으로 전해액이 수용된 반응용기에 담그고 전압을 인가함으로써 수행할 수 있다. 알루미늄박의 양면이 각각 양극 산화되고, 잔류하는 알루미늄으로 이루어진 부분이 베이스 금속층(110)이 되고, 양극 산화된 부분이 각각 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)이 된다.Referring to FIGS. 3 and 4 together with FIGS. 1 and 2, first an aluminum foil is prepared and first anodized to form a
제1 양극 산화 공정은 2번의 양극 산화 단계를 수행할 수 있다. 2번의 양극 산화 단계에서는 서로 다른 종류의 전해액을 이용할 수 있다. 1차로는 황산, 인산, 옥살산 등을 포함하는 제1 전해액을 이용하고, 2차로는 붕산, 구연산 등을 포함하는 제2 전해액을 이용할 수 있다. 제1 전해액을 이용하는 공정에서 기공을 포함하는 기공층과 치밀층이 형성되고, 제2 전해액을 이용하는 공정에서 기공층의 기공의 크기가 작아지며 치밀층의 두께가 두꺼워진다.The first anodizing step may be carried out in two anodizing steps. In the two anodizing steps, different types of electrolytes can be used. A first electrolyte containing sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or the like may be used as the first liquid, and a second electrolyte containing boric acid, citric acid, or the like may be used as the second liquid. The pore layer containing the pores and the dense layer are formed in the step of using the first electrolyte and the pore size of the pore layer is reduced and the thickness of the dense layer is thickened in the step of using the second electrolyte.
한편, 제1 및 제2 표면 유전층(120, 130)을 형성하기 전에, 알루미늄박의 표면에 요철 구조를 형성하는 공정을 더 수행할 수 있다. 예를 들어, 알루미늄박의 양면에 각각 샌딩(sanding), 폴리싱(polishing), 임프린팅(imprinting) 등의 물리적 방법으로 요철 구조를 형성하거나, 표면 에칭 등의 화학적 방법으로 요철 구조를 형성할 수 있다. 상기 요청 구조가 형성됨에 따라, 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)의 유효 표면적이 증가할 수 있다.On the other hand, before the first and second surface dielectric layers 120 and 130 are formed, a step of forming a concave-convex structure on the surface of the aluminum foil can be further performed. For example, a concavo-convex structure may be formed on both sides of an aluminum foil by physical methods such as sanding, polishing, and imprinting, or a concavo-convex structure may be formed by a chemical method such as surface etching . As the request structure is formed, the effective surface area of the first and second surface dielectric layers 120, 130 can be increased.
제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)이 형성된 베이스 금속층(110) 상에, 제1 절연층(FL)을 형성한다. 제1 절연층(FL)은 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130) 각각에 형성한다. 제1 절연층(FL)은 상기 커패시터 영역과 상기 주변부 중에서 제1 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE12)이 형성될 영역을 제외한 영역에 형성될 수 있다.A first insulating layer FL is formed on the
도 5, 도 6 및 도 7을 참조하면, 제1 절연층(FL)이 형성된 베이스 금속층(110) 상에, 제1 상부 및 하부 커패시터 전극(212a, 212b), 제1 하부 및 상부 유전층(214a, 214b), 제1 상부 및 하부 연결 전극(CE11, CE12)을 형성한다.Referring to FIGS. 5, 6 and 7, first and second lower and
상기 커패시터 영역의 제1 면에 제1 상부 금속층(210a)을 형성하고, 제2 면에 제2 하부 금속층(미도시)을 형성하며, 상기 전극 형성부에는 상기 제1 상부 금속층(210a)과 연결된 제1 상부 연결 전극(CE11)과 상기 하부 금속층과 연결된 제1 하부 연결 전극(CE12)을 형성한다. 상기 제1 상부 금속층(210a)과 상기 제1 하부 금속층 각각은 베이스 금속층(110)의 평면적보다 좁게 형성될 수 있다.A first
이어서, 도 7에 도시한 것과 같이 제1 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE12)을 보호하기 위해서 마스킹한 상태에서 전해액(ASOL)에 침지시켜 제2 양극 산화 공정을 수행한다. 마스킹은 마스킹 수지(REL)를 이용하여 전해액(ASOL)이 제1 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE12)과 접촉하지 못하도록 차단함으로써 수행할 수 있다.Next, as shown in FIG. 7, in order to protect the first upper and lower connection electrodes CE11 and CE12, the second anodization process is performed by immersing the first and the upper connection electrodes CE11 and CE12 in the electrolyte ASOL in a masked state. The masking can be performed by blocking the electrolyte ASOL from contacting the first upper and lower connection electrodes CE11 and CE12 using the masking resin REL.
제2 양극 산화 공정에 의해서, 제1 상부 금속층(210a)의 일부가 양극 산화되어 제1 상부 유전층(214a)과 제1 상부 커패시터 전극(212a)을 형성하고, 상기 제1 하부 금속층에 의해서 제1 하부 유전층(214b)과 제2 하부 커패시터 전극(214a)이 형성된다. 제2 양극 산화 공정은 도 3 및 도 4에서 설명한 제1 양극 산화 공정과 실질적으로 동일하고, 제2 양극 산화 공정도 양극 산화를 1단계 또는 2 단계로 수행할 수 있다.A part of the first
제1 상부 및 하부 유전층들(214a, 214b)을 형성한 후, 제2 절연층(SL)을 제1 상부 유전층(214a)과 제1 하부 유전층(214b) 상에 각각 형성한다. 제2 절연층(SL)은 제1 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE12)과 제2 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE22)의 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 형성된다. 제2 절연층(SL)에 의해서 제1 상부 연결 전극(CE11)과 제1 상부 유전층(214a)의 표면이 노출될 수 있고, 제1 하부 연결 전극(CE12)과 제1 하부 유전층(214b)의 표면이 노출될 수 있다. 또한, 제2 절연층(SL)에 의해서 제2 상부 연결 전극(CE21)과 제2 하부 연결 전극(CE22)의 전극 형성부의 제1 절연층(FL)이 노출될 수 있다. 제2 절연층(SL)은 제1 절연층(FL)과 동일한 재료로 형성될 수 있다.After the first upper and lower
도 8을 참조하면, 제2 절연층(SL)이 형성된 베이스 금속층(110) 상에 제2 상부 및 하부 커패시터 전극들(222a, 222b), 제2 상부 및 하부 유전층들(224a, 224b), 제2 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE22)을 형성한다.Referring to FIG. 8, second upper and
상기 커패시터 영역의 제1 면에는 제2 상부 금속층(미도시)을 형성하고, 제2 면에는 제2 하부 금속층(미도시)을 형성한다. 또한, 상기 전극 형성부에는 상기 제2 상부 금속층과 연결된 제2 상부 연결 전극(CE21)과 상기 제2 하부 금속층과 연결된 제2 하부 연결 전극(CE22)을 형성한다.A second upper metal layer (not shown) is formed on the first surface of the capacitor region, and a second lower metal layer (not shown) is formed on the second surface. In addition, a second upper connection electrode CE21 connected to the second upper metal layer and a second lower connection electrode CE22 connected to the second lower metal layer are formed in the electrode formation portion.
이어서, 제2 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE22)을 보호한 상태에서, 상기 제2 상부 및 하부 금속층들을 제3 양극 산화시켜 제2 상부 및 하부 커패시터 전극들(222a, 222b), 제2 상부 및 하부 유전층들(224a, 224b)을 형성한다. 제3 양극 산화 공정은 상기에서 설명한 제1 및 제2 양극 산화 공정들 중 적어도 어느 하나와 동일한 공정이므로, 중복되는 상세한 설명은 생략한다.Next, while the second upper and lower connection electrodes CE21 and CE22 are protected, the second upper and lower metal layers are subjected to a third anodization to form second upper and
제2 상부 및 하부 유전층들(224a, 224b)을 형성한 후에, 제3 절연층(TL)을 형성한다. 제3 절연층(TL)은 제1 및 제2 절연층들(FL, SL)과 동일한 재료로 형성될 수 있다.After forming the second upper and lower
제3 절연층(TL)은 제1 면에서는 제1 내지 제3 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31)의 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 형성되고 제2 면에서는 제1 내지 제3 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32)의 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 형성된다. 제3 절연층(TL)에 의해서, 제1 내지 제3 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31)의 표면과 제2 상부 유전층(224a)의 표면이 노출될 수 있고, 제1 내지 제3 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32) 및 제2 하부 유전층(224b)의 표면이 노출될 수 있다. 또한, 제3 절연층(TL)에 의해서 제3 상부 및 하부 연결 전극(CE31, CE32)의 전극 형성부의 제2 절연층(SL)이 노출될 수 있다.The third insulating layer TL is formed on the first surface except the electrode forming portions of the first to third upper connection electrodes CE11, CE21, and CE31, and on the second surface, CE12, CE22, and CE32, except for the electrode forming portion. The surface of the first to third upper connection electrodes CE11, CE21, CE31 and the surface of the second
도 9를 참조하면, 제3 절연층(TL)이 형성된 베이스 금속층(110) 상에 제3 상부 및 하부 커패시터 전극(232a, 232b), 제3 상부 및 하부 유전층(234a, 234b), 제3 상부 및 하부 연결 전극(CE31, CE32)을 형성한 후 제1 면 및 제2 면 각각에 제4 절연층(FOL)을 형성한다.Referring to FIG. 9, the third upper and
제4 절연층(FOL)은 제1 면에서는 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41)의 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 형성되고, 제2 면에서는 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)의 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 형성된다. 제4 절연층(FOL)에 의해서, 제1 면에서는 제1 내지 제3 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31)의 표면과 제3 상부 유전층(234a)의 표면이 노출될 수 있다. 제4 절연층(FOL)에 의해서, 제2 면에서는 제1 내지 제3 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32)의 표면과 제3 하부 유전층(234b)의 표면이 노출될 수 있다. 또한, 제4 절연층(FOL)에 의해서, 제4 상부 및 하부 연결 전극(CE41, CE42)의 전극 형성부의 제3 절연층(TL)이 노출될 수 있다.The fourth insulating layer FOL is formed on the first surface except for the electrode forming portions of the first through fourth upper connecting electrodes CE11, CE21, CE31 and CE41, and on the second surface, the first through fourth CE22, CE32, and CE42, except for the electrode forming portions. The surface of the first to third upper connection electrodes CE11, CE21, CE31 and the surface of the third
도 9를 도 2와 함께 참조하면, 제4 절연층(FOL)이 형성된 베이스 금속층(110)의 제1 면에 제4 상부 커패시터 전극(300a)을 형성하고 제2 면에 제4 하부 커패시터 전극(300b)을 형성한다. 이때, 제4 상부 커패시터 전극(300a)과 연결된 제4 상부 연결 전극(CE41)과 제4 하부 커패시터 전극(300b)과 연결된 제4 하부 연결 전극(CE42)을 형성한다. 제4 상부 및 하부 연결 전극들(CE41, CE42) 각각의 하부에는 제1 내지 제3 절연층들(FL, SL, TL)이 적층된 구조가 배치된다. 제3 상부 및 하부 연결 전극(CE31, CE32)의 하부에는 제1 및 제2 절연층들(FL, SL)이 배치되고, 제2 상부 및 하부 연결 전극(CE21, CE22)의 하부에는 제1 절연층(FL)이 배치되기 때문에, 전체적으로는 제4 상부 및 하부 연결 전극(CE41, CE42)의 하부에 배치된 절연층(IL)의 두께가 제2 상부 및 하부 연결 전극(CE21, CE22) 및 제3 상부 및 하부 연결 전극(CE31, CE32) 각각의 하부에 배치된 절연층(IL)의 두께보다 두껍고, 제3 상부 및 하부 연결 전극(CE31, CE32)의 하부에 배치된 절연층(IL)의 두께는 제2 상부 및 하부 연결 전극(CE21, CE22)의 하부에 배치된 절연층(IL)의 두께보다 두껍다.Referring to FIG. 9 together with FIG. 2, a fourth
상기에서 설명한 바에 따르면, 1단계 또는 2단계로 수행되는 1회의 양극 산화 공정을 수행하여 금속층의 양면에 각각 커패시터 전극과 유전층을 형성할 수 있으므로 커패시터 효율이 높은 적층 커패시터를 제공하고, 이는 용이하게 제조할 수 있다.
According to the above description, since the capacitor electrode and the dielectric layer can be formed on both sides of the metal layer by performing the one-step anodic oxidation process performed in the first or second step, a laminated capacitor having a high capacitor efficiency is provided, can do.
도 10는 본 발명의 다른 실시예에 따른 적층 커패시터를 설명하기 위한 평면도이고, 도 11은 도 10의 III-III'라인 및 IV-IV'라인을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 10 is a plan view for explaining a laminated capacitor according to another embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line III-III 'and IV-IV' of FIG.
도 10 및 도 11을 참조하면, 적층 커패시터(502)는 베이스 금속층(110), 제1 표면 유전층(120), 제2 표면 유전층(130), 다수의 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a), 다수의 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b), 다수의 상부 유전층들(214a, 224a, 234a), 다수의 하부 유전층들(214b, 224b, 234b), 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)을 포함한다. 도 10 및 도 11의 적층 커패시터(502)에서는, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)의 적층 구조를 제외하고는 도 1 및 도 2에서 설명한 적층 커패시터(501)와 실질적으로 동일하다. 따라서 중복되는 설명은 생략한다. 또한, 이하에서는, 베이스 금속층(110)의 제1 면에 배치된 제1 표면 유전층(120), 상부 커패시터 전극들(212a, 222a, 232a, 300a), 상부 유전층들(214a, 224a, 234a), 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 사이의 위치 및 구조 관계는, 제2 면에 배치된 제2 표면 유전층(130), 하부 커패시터 전극들(212b, 222b, 232b, 300b), 하부 유전층들(214b, 224b, 234b), 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)과 실질적으로 동일하므로, 제1 면에서의 구조를 설명하고 제2 면에서의 구조에 대한 설명은 생략한다.10 and 11, a
도 11에서와 같이, 제1 상부 연결 전극(CE11)과 제3 상부 연결 전극(CE31)이 상하로 마주보도록 배치되어 제1 그룹으로 구분되고, 제2 상부 연결 전극(CE21)과 제4 상부 연결 전극(CE41)이 상하로 마주보도록 배치되어 제2 그룹으로 구분된다. 또한, 제1 및 제3 상부 연결 전극들(CE11, CE31)은 제2 및 제4 상부 연결 전극들(CE21, CE41)과 소정 간격이 좌우방향으로 이격되어 배치된다. 즉, 제1 그룹의 상부 연결 전극들(CE11, CE31)과 제2 그룹의 상부 연결 전극들(CE21, CE41)은 동일 평면 상에서 서로 이격되어 배치된다. 동일하게, 제1 그룹의 하부 연결 전극들(CE22, CE42)과 제2 그룹의 하부 연결 전극들(CE12, CE32)은 동일 평면 상에서 서로 이격되어 배치된다.11, the first upper connection electrode CE11 and the third upper connection electrode CE31 are arranged so as to face each other and are divided into a first group, and the second upper connection electrode CE21 and the fourth upper connection electrode CE31 are divided into a first group, The electrodes CE41 are arranged so as to face up and down and are divided into a second group. In addition, the first and third upper connection electrodes CE11 and CE31 are spaced apart from the second and fourth upper connection electrodes CE21 and CE41 by a predetermined distance in the left-right direction. That is, the first group of upper connection electrodes CE11 and CE31 and the second group of upper connection electrodes CE21 and CE41 are spaced apart from each other on the same plane. Likewise, the lower connection electrodes CE22 and CE42 of the first group and the lower connection electrodes CE12 and CE32 of the second group are disposed apart from each other on the same plane.
제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE31, CE22, CE42)은 제1 홀(H1)에 의해 관통되고, 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE41, CE12, CE32)은 제2 홀(H2)에 의해 관통된다. 이때, 제1 홀(H1) 및 제2 홀(H2) 각각은 베이스 금속층(110), 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)도 관통하여 형성된다. 제1 홀(H1)에 제1 관통 전극(IE1)이 배치되고, 제2 홀(H2)에 제2 관통 전극(IE2)이 배치된다. 이에 따라, 제1 관통 전극(IE1)에 의해서 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE31, CE22, CE42)이 연결될 수 있고, 제2 관통 전극(IE2)에 의해서 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE41, CE12, CE32)이 연결될 수 있다. 제1 그룹에는 제1 극성의 전압이 인가되고, 제2 그룹에는 제1 극성의 반대 극성인 제2 전압이 인가된다. The upper and lower connecting electrodes CE11, CE31, CE22 and CE42 of the first group are penetrated by the first hole H1 and the upper and lower connecting electrodes CE21, Is penetrated by the second hole (H2). The first hole H1 and the second hole H2 are formed through the
한편, 상기 전극 형성부를 제외한 나머지 주변부에 상부 절연층(IL1)이 형성된다. 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 중 적어도 어느 하나는 절연층(IL) 상에 형성될 수 있고, 상부 절연층(IL1)은 상기 전극 형성부를 부분적으로 커버한다. 상부 절연층(IL1)은 상기 전극 형성부의 가장자리를 덮도록 형성될 수 있다. 동시에, 상부 절연층(IL1)은 제1 상부 연결 전극(CE11)과 제3 상부 연결 전극(CE31) 사이와, 제2 상부 연결 전극(CE21)과 제4 상부 연결 전극(CE41) 사이에 개재될 수 있다.On the other hand, the upper insulating layer IL1 is formed in the peripheral portion excluding the electrode forming portion. At least one of the first to fourth upper connection electrodes CE11, CE21, CE31 and CE41 may be formed on the insulating layer IL and the upper insulating layer IL1 may partially cover the electrode forming portion . The upper insulating layer IL1 may be formed to cover the edge of the electrode forming portion. At the same time, the upper insulating layer IL1 is interposed between the first upper connecting electrode CE11 and the third upper connecting electrode CE31, and between the second upper connecting electrode CE21 and the fourth upper connecting electrode CE41 .
도 10 및 도 11에서 설명한 적층 커패시터(501)도 1단계 또는 2단계로 수행되는 1회의 양극 산화 공정을 수행하여 금속층의 양면에 각각 커패시터 전극과 유전층을 형성할 수 있으므로 커패시터 효율이 높은 적층 커패시터를 제공하고, 이는 용이하게 제조할 수 있다.The
이와 같은 적층 커패시터(501)는 외부 단자와 연결되어 용이하게 전압을 인가할 수 있는데, 이를 위한 패키지 하우징 및 패키지 하우징에 실장된 구조를 도 12 내지 도 14를 참조하여 설명한다.The
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 패키지 하우징을 설명하기 위한 도면이다.12 is a view for explaining a package housing according to an embodiment of the present invention.
도 12의 (a)는 평면도이고, (b)는 도 10의 IV-IV'라인과 실질적으로 동일한 라인을 따라 절단한 단면도로서, 이를 참조하면 패키지 하우징(401)은 적층 커패시터(501)의 외측 벽면을 감싸는 측면부들(410), 이들과 연결되어 적층 커패시터(501)의 바닥면과 마주하는 바닥부(420), 제1 내부 전극(OE1) 및 제2 내부 전극(OE2)을 포함한다.Sectional view taken along a line substantially the same as the line IV-IV 'of FIG. 10. Referring to FIG. 12, the
측면부들(410)이 바닥부(420)와 연결되어 내부 공간을 형성하고, 상기 내부 공간에 도 10 및 도 11에서 설명한 적층 커패시터(502)가 수용될 수 있다. 바닥부(420) 상에 한 쌍의 제1 및 제2 내부 전극들(OE1, OE2)이 서로 이격되어 배치되고, 제1 내부 전극(OE1)와 연결된 제1 외부 단자(SE1)가 바닥부(420)를 관통하여 외부와 연결된다. 또한, 제2 내부 전극(OE2)와 연결된 제2 외부 단자(SE2)가 바닥부(420)를 관통하여 외부와 연결된다. 제1 및 제2 외부 단자들(SE1, SE2)에 서로 반대 극성의 전압이 인가된다.The
제1 내부 전극(OE1) 및 제2 내부 전극(OE2)은 전해 도금 또는 무전해 도금법을 통해서 패키지 하우징(401) 내부에 형성될 수 있다.The first internal electrode OE1 and the second internal electrode OE2 may be formed inside the
제1 내부 전극(OE1)은 바닥부(420)의 일 방향을 따라 연장되고, 제2 내부 전극(OE2)도 동일한 방향으로 연장되되 제1 내부 전극(OE1)와 이격되어 배치된다. 제1 내부 전극(OE1)이 적층 커패시터(502)의 제1 관통 전극(IE1)과 직접 접촉하여 전기적으로 연결되고, 제2 내부 전극(OE2)이 제2 관통 전극(IE2)과 직접 접촉하여 전기적으로 연결된다.The first internal electrode OE1 extends along one direction of the
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 커패시터 패키지를 설명하기 위한 평면도이고, 도 14는 도 13의 V-V'라인 및 VI-VI'라인을 따라 절단한 단면도이며, 도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 커패시터 패키지를 설명하기 위한 평면도이다.FIG. 13 is a plan view for explaining a capacitor package according to an embodiment of the present invention, FIG. 14 is a cross-sectional view taken along line V-V 'and VI-VI' of FIG. 13, FIG. 7 is a plan view for explaining a capacitor package according to another embodiment. FIG.
도 13의 커패시터 패키지(701)는 도 12에서 설명한 패키지 하우징(401)에 도 10 및 도 11에서 설명한 적층 커패시터(502)가 실장된 상태를 나타내는 평면도로서, 도 13을 도 14 및 도 15와 함께 참조하면, 적층 커패시터(502)는 제1 및 제2 관통 전극들(IE1, IE2)을 통해서 패키지 하우징(401)의 내부 전극들(OE1, OE2)과 전기적으로 연결되고, 패키지 하우징(401)의 내부 전극들(OE1, OE2)은 외부 단자들(SE1, SE2)과 전기적으로 연결된다. 이에 따라, 적층 커패시터(502)는 외부로부터 전압을 공급받을 수 있다. 적층 커패시터(502)가 패키지 하우징(401) 내에 실장되는 경우, 적층 커패시터(502)의 상부에는 고정 부재(CAP)가 배치되어 적층 커패시터(502)가 안정적으로 패키지 하우징(401)의 내부 공간에 배치되도록 한다.The
다만, 이때, 제4 하부 커패시터 전극(300b)이 제1 및 제2 내부 전극들(OE1, OE2)과 모두 접촉하여 전기적인 문제가 생기는 것을 방지하기 위해서 적층 커패시터(502)와 제1 및 제2 내부 전극들(OE1, OE2) 사이에는 절연 부재(ISP)가 배치될 수 있고, 절연 부재(ISP)에는 제1 및 제2 내부 전극들(OE1, OE2)과 제1 및 제2 관통 전극들(IE1, IE2)과 연결시키는 홀이 형성될 수 있다.At this time, in order to prevent the fourth
상기에서 설명한 바에 의하면, 적층 커패시터(502)를 패키지 하우징(401)에 삽입하고 제1 및 제2 관통 전극들(IE1, IE2)을 형성함으로써 제1 및 제2 외부 단자들(SE1, SE2)과 용이하게 접속시킬 수 있다. 고정 부재(CAP)로 적층 커패시터(502)를 패키지 하우징(401) 내에 안정적으로 고정시킬 수 있다. 이와 같은 적층 커패시터 패키지(701)는 용이하게 조립할 수 있고, 구조 안정성을 향상시킬 수 있다.
The
도 16은 도 15의 패키지 하우징을 설명하기 위한 평면도이고, 도 17은 도 15의 VII-VII'라인을 따라 절단한 단면도이며, 도 18은 도 15의 VIII-VIII'라인을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 16 is a plan view for explaining the package housing of FIG. 15, FIG. 17 is a sectional view taken along the line VII-VII 'of FIG. 15, and FIG. 18 is a sectional view taken along the line VIII-VIII' .
도 16 내지 도 18을 참조하면, 적층 커패시터 패키지(702)는 패키지 하우징(402) 및 적층 커패시터(503)를 포함한다. 도 16 및 도 18에 도시된 적층 커패시터(503)는 주변부의 구조와 패키지 하우징(402)과 적층 커패시터(503)의 연결 관계를 제외하고는 도 10 및 도 11에서 설명한 적층 커패시터(502)와 실질적으로 동일하므로 중복되는 상세한 설명은 생략한다.16 to 18, the stacked
적층 커패시터(503)의 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)은 측면 노출된다. 이들은 패키지 하우징(402)의 제1 및 제2 내부 전극들(OE1, OE2)을 통해 제1 및 제2 외부 단자들(SE1, SE2)과 전기적으로 연결된다. 이러한 적층 커패시터(503)는 별도의 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)을 관통하는 홀을 형성할 필요 없이 간단한 공정으로 적층 커패시터를 제조할 수 있다.The first to fourth upper connection electrodes CE11, CE21, CE31 and CE41 and the first to fourth lower connection electrodes CE12, CE22, CE32 and CE42 of the
측면 노출은, 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42)을 형성한 후에 전극 형성부와, 상기 전극 형성부와 인접한 베이스 금속층(110), 제1 및 제2 표면 유전층들(120, 130)의 가장자리 사이에 형성된 상부 및 하부 절연층들(IL1, IL2)을 제거하여 제1 내지 제4 상부 연결 전극들(CE11, CE21, CE31, CE41) 및 제1 내지 제4 하부 연결 전극들(CE12, CE22, CE32, CE42) 각각의 에지를 노출시킴으로써 수행할 수 있다.Side exposure is performed by forming the first to fourth upper connection electrodes CE11, CE21, CE31, CE41 and the first to fourth lower connection electrodes CE12, CE22, CE32, CE42, The upper and lower insulating layers IL1 and IL2 formed between the edge portions of the
적층 커패시터 패키지(702)는 고정부재(CAP)를 더 포함할 수 있고, 고정부재(CAP)가 패키지 하우징(402) 내에 적층 커패시터(503)가 안정적으로 고정될 수 있도록 한다.The
제1 내부 전극(OE1)는 패키지 하우징(402)의 바닥부(420) 상에 배치된 제1 전극부(BE)와, 제1 전극부(BE)와 연결되어 패키지 하우징(402)의 측면부(410)와 나란히 구비되는 제2 전극부(WE)를 포함한다. 제1 내부 전극(OE1)의 제2 전극부(WE)가 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE11, CE31, CE22, CE42)을 연결할 수 있고, 제1 전극부(BE)가 제1 외부 단자(SE1)와 연결된다. 예를 들어, 제1 내부 전극(OE1)는 L-자형일 수 있다. The first internal electrode OE1 includes a first electrode portion BE disposed on the
제1 내부 전극(OE1) 및 제2 내부 전극(OE2)는 전해 도금 또는 무전해 도금법을 통해서 패키지 하우징(402) 내부에 형성될 수 있다.The first internal electrode OE1 and the second internal electrode OE2 may be formed inside the
도면으로 도시하지 않았으나, 제2 내부 전극(OE2)도 제1 내부 전극(OE1)와 실질적으로 동일한 구조를 갖고, 제2 내부 전극(OE2)의 제2 전극부가 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들(CE21, CE41, CE12, CE32)과 직접 콘택함으로써 제2 내부 전극(OE2)가 제2 외부 단자(SE2)와 연결된다.The second inner electrode OE2 has substantially the same structure as the first inner electrode OE1 and the second electrode portion of the second inner electrode OE2 has the same structure as the first inner electrode OE1, The second internal electrode OE2 is connected to the second external terminal SE2 by direct contact with the electrodes CE21, CE41, CE12, and CE32.
도 10 내지 도 18에서는, 상부 연결 전극들과 하부 연결 전극들의 전체 개수가 총 8개인 경우를 일례로 하여 도시하였으나, 제4 상부 및 하부 커패시터 전극(300a, 300b)을 형성하기 전에, 추가적으로 더 많은 커패시터 전극 및 유전층을 적층시키고 이와 연결된 연결 전극을 도 14, 도 17 및 도 18과 같은 형태로 패키지 하우징과 결합시킬 수 있다.10 to 18 illustrate the case where the total number of the upper connection electrodes and the lower connection electrodes is eight in total. However, before forming the fourth upper and
또한, 도 10 내지 도 18에서는 연결 전극들을 2개의 그룹으로 구분하여 연결한 것을 일례로 들어 설명하였으나, 5개 이상의 커패시터 전극들 및 연결 전극들을 포함하도록 적층 커패시터를 구성할 수 있고 연결 전극들은 3개 이상의 그룹으로 나누어 설계할 수도 있다.10 to 18, the connection electrodes are divided into two groups. However, a laminated capacitor may be formed to include five or more capacitor electrodes and connection electrodes, and three connection electrodes may be formed It is also possible to divide the design into groups.
제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.
The description of the disclosed embodiments is provided to enable any person skilled in the art to make or use the present invention. Various modifications to these embodiments will be readily apparent to those skilled in the art, and the generic principles defined herein may be applied to other embodiments without departing from the scope of the invention. Thus, the present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features presented herein.
501, 502, 503: 적층 커패시터
401, 402: 패키지 하우징
701, 702: 커패시터 패키지
110: 베이스 금속층
120, 130: 제1, 제2 표면 유전층
212a, 222a, 232a, 300a: 제1, 제2, 제3, 제4 상부 커패시터 전극
212b, 222b, 232b, 300b: 제1, 제2, 제3, 제4 하부 커패시터 전극
214a, 224a, 234a: 제1, 제2, 제3 상부 유전층
214b, 224b, 234b: 제1, 제2, 제3 하부 유전층
CE11, CE21, CE31, CE41: 제1, 제2, 제3, 제4 상부 연결 전극
CE12, CE22, CE32, CE42: 제1, 제2, 제3, 제4 하부 연결 전극
IL: 절연층
FL, SL, TL, FOL: 제1, 제2, 제3, 제4 절연층
IE1, IE2: 제1, 제2 관통 전극
OE1, OE2: 제1, 제2 내부 전극
SE1, SE2: 제1, 제2 외부 단자501, 502, 503: stacked capacitors
401, 402: package housing
701, 702: Capacitor package
110: base metal layer
120, 130: first and second surface dielectric layers
212a, 222a, 232a, and 300a: first, second, third, and fourth upper capacitor electrodes
212b, 222b, 232b, and 300b: first, second, third, and fourth lower capacitor electrodes
214a, 224a, 234a: first, second and third top dielectric layers
214b, 224b, 234b: first, second, and third bottom dielectric layers
CE11, CE21, CE31, CE41: First, second, third, and fourth upper connecting electrodes
CE12, CE22, CE32, CE42: first, second, third, and fourth lower connecting electrodes
IL: insulation layer
FL, SL, TL, FOL: first, second, third and fourth insulating layers
IE1, IE2: first and second penetrating electrodes
OE1, OE2: first and second internal electrodes
SE1, SE2: first and second external terminals
Claims (18)
상기 베이스 금속층의 상부면에 형성된 제1 표면 유전층;
상기 베이스 금속층의 하부면에 형성된 제2 표면 유전층;
상기 제1 표면 유전층 상에 순차적으로 적층되고, 상기 제1 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 상부 커패시터 전극들;
상기 상부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 상부 유전층들;
상기 상부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 상기 상부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 상부 연결 전극들;
상기 베이스 금속층과 접촉하는 제2 표면 유전층의 일면의 반대면 상에 순차적으로 적층되고 상기 제2 표면 유전층의 면적보다는 작게 서로 동일한 면적을 갖는 적어도 2개의 하부 커패시터 전극들;
상기 하부 커패시터 전극들 사이에 각각 형성된 하부 유전층들; 및
상기 하부 커패시터 전극들과 각각 연결되고 상기 하부 커패시터 전극들의 일측에 배치된 하부 연결 전극들을 포함하는,
적층 커패시터.
A base metal layer;
A first surface dielectric layer formed on an upper surface of the base metal layer;
A second surface dielectric layer formed on a lower surface of the base metal layer;
At least two upper capacitor electrodes sequentially stacked on the first surface dielectric layer and having an area smaller than an area of the first surface dielectric layer;
Upper dielectric layers formed between the upper capacitor electrodes;
Upper connection electrodes respectively connected to the upper capacitor electrodes and disposed on one side of the upper capacitor electrodes;
At least two lower capacitor electrodes sequentially stacked on the opposite surface of one surface of the second surface dielectric layer in contact with the base metal layer and having an area smaller than that of the second surface dielectric layer;
Lower dielectric layers formed between the lower capacitor electrodes; And
And lower connection electrodes connected to the lower capacitor electrodes and disposed on one side of the lower capacitor electrodes,
Laminated capacitor.
상기 제1 표면 유전층 상에는 상기 상부 커패시터 전극들의 가장자리를 커버하는 상부 절연층이 형성되고,
상기 제2 표면 유전층 상에는 상기 하부 커패시터 전극들의 가장자리를 커버하는 하부 절연층이 형성된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
An upper insulating layer covering an edge of the upper capacitor electrodes is formed on the first surface dielectric layer,
And a lower insulating layer covering an edge of the lower capacitor electrodes is formed on the second surface dielectric layer.
Laminated capacitor.
상기 상부 절연층은 상기 상부 연결 전극들 각각을 노출시키는 홀들을 포함하고,
상기 하부 절연층으 상기 하부 연결 전극들 각각을 노출시키는 홀들을 포함하는 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
3. The method of claim 2,
Wherein the upper insulating layer includes holes for exposing each of the upper connection electrodes,
And the lower insulating layer includes holes for exposing each of the lower connection electrodes.
Laminated capacitor.
상기 상부 유전층들 각각은 그 상부 유전층의 바로 아래에 배치된 상부 커패시터 전극과 연결된 상부 연결 전극의 에지와 접촉하고,
상기 하부 유전층들 각각은 그 하부 유전층의 바로 아래에 배치된 하부 커패시터 전극과 연결된 하부 연결 전극의 에지와 접촉하는 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
Each of the upper dielectric layers being in contact with an edge of an upper connecting electrode connected to an upper capacitor electrode disposed directly below the upper dielectric layer,
Wherein each of the lower dielectric layers is in contact with an edge of a lower connection electrode connected to a lower capacitor electrode disposed directly below the lower dielectric layer.
Laminated capacitor.
상기 상부 연결 전극들은 상기 제1 표면 유전층 상에 일렬로 이격되어 배치되고,
상기 하부 연결 전극들은 상기 제2 표면 유전층 상에 일렬로 이격되어 배치된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
Wherein the upper connection electrodes are arranged in a line on the first surface dielectric layer,
And the lower connection electrodes are arranged in a line spaced on the second surface dielectric layer.
Laminated capacitor.
상기 상부 연결 전극들과 상기 하부 연결 전극들은
상기 베이스 금속층을 중심으로 서로 대칭으로 형성된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
The upper connection electrodes and the lower connection electrodes
Wherein the base metal layer is formed symmetrically with respect to the base metal layer.
Laminated capacitor.
상기 상부 연결 전극들 중 2개 이상이 상하로 중첩되어 배치되고,
상기 하부 연결 전극들 중 2개 이상이 상하로 중첩되어 배치된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
Two or more of the upper connection electrodes are arranged so as to overlap each other,
Wherein at least two of the lower connection electrodes are disposed so as to overlap with each other.
Laminated capacitor.
상기 상부 연결 전극들은 적어도 2개의 그룹으로 나뉘어져 상하로 서로 중첩되도록 배치되고,
상기 하부 연결 전극들은 적어도 2개의 그룹으로 나뉘어져 상하로 서로 중첩되도록 배치된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
Wherein the upper connection electrodes are divided into at least two groups,
Wherein the lower connection electrodes are divided into at least two groups and are arranged so as to overlap with each other in the upper and lower directions.
Laminated capacitor.
서로 중첩되도록 배치된 1개의 그룹에서의 상부 연결 전극들을 관통하는 관통홀이 형성되고,
서로 중첩되도록 배치된 1개의 그룹에서의 하부 연결 전극들을 관통하는 관통홀이 형성된 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
9. The method of claim 8,
A through hole is formed through the upper connecting electrodes in one group arranged to overlap with each other,
Wherein a through hole is formed through the lower connection electrodes in one group arranged so as to overlap with each other,
Laminated capacitor.
상기 베이스 금속층은 알루미늄을 포함하고,
상기 제1 표면 유전층 및 상기 제2 표면 유전층 각각은 산화알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터.
The method according to claim 1,
Wherein the base metal layer comprises aluminum,
Wherein each of the first surface dielectric layer and the second surface dielectric layer comprises aluminum oxide.
Laminated capacitor.
바닥부 및 상기 바닥부와 연결된 측면부들이 형성하는 내부 공간에 상기 적층 커패시터를 수용하고, 상기 내부 공간에 형성되어 제1 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들과 연결된 제1 내부 전극 및 상기 제1 내부 전극과 이격되고 제2 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들과 연결된 제2 내부 전극을 포함하는 패키지 하우징을 포함하는,
커패시터 패키지.
A laminated capacitor according to any one of claims 1 to 10; And
A first inner electrode formed in the inner space and connected to the first and second upper connection electrodes and the lower connection electrodes, and a second inner electrode formed in the inner space, And a second internal electrode spaced from the first internal electrode and connected to the second group of upper connection electrodes and the lower connection electrodes.
Capacitor package.
상기 제1 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들은 상하로 서로 중첩되어 배치되고, 상기 제2 그룹의 상부 연결 전극들 및 하부 연결 전극들도 상기 제1 그룹과 다른 영역에 상하로 서로 중첩되어 배치되며,
상기 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들을 관통하고, 하단부가 상기 제1 내부 전극과 접촉하는 제1 관통 전극; 및
상기 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들을 관통하고, 하단부가 상기 제2 내부 전극과 접촉하는 제2 관통 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
커패시터 패키지.
12. The method of claim 11,
The first group of upper connection electrodes and the lower connection electrodes are arranged so as to overlap with each other in the vertical direction and the upper and lower connection electrodes of the second group are also vertically overlapped with each other in the region different from the first group Lt; / RTI &
A first penetrating electrode penetrating the upper and lower connecting electrodes of the first group and having a lower end in contact with the first inner electrode; And
And a second penetrating electrode penetrating the upper and lower connecting electrodes of the second group and having a lower end in contact with the second inner electrode.
Capacitor package.
상기 제1 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들과 상기 제2 그룹의 상부 및 하부 연결 전극들은
동일 측면에서 외부로 노출되어 상기 패키지 하우징의 측면부와 마주하는 것을 특징으로 하는,
커패시터 패키지.
13. The method of claim 12,
The upper and lower connection electrodes of the first group and the upper and lower connection electrodes of the second group
And the package housing is exposed to the outside at the same side to face a side portion of the package housing.
Capacitor package.
상기 제1 내부 전극 및 상기 제2 내부 전극 각각은
상부 및 하부 연결 전극들의 노출된 측면과 직접 접촉하며 상기 패키지 하우징의 측면부에 형성된 제1 전극부; 및
상기 제1 전극부와 연결되어 상기 패키지 하우징의 바닥부에 형성된 제2 전극부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
커패시터 패키지.
13. The method of claim 12,
The first and second internal electrodes
A first electrode part formed on a side surface of the package housing in direct contact with exposed side surfaces of the upper and lower connection electrodes; And
And a second electrode part connected to the first electrode part and formed on the bottom of the package housing.
Capacitor package.
상기 제1 내부 전극과 연결되고 상기 패키지 하우징의 바닥부를 관통하여 외부로 연결된 제1 외부 단자; 및
상기 제2 내부 전극과 연결되고 상기 패키지 하우징의 바닥부를 관통하여 외부로 연결된 제2 외부 단자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
커패시터 패키지.
12. The method of claim 11,
A first external terminal connected to the first internal electrode and connected to the outside through a bottom portion of the package housing; And
And a second external terminal connected to the second internal electrode and connected to the outside through a bottom portion of the package housing.
Capacitor package.
상기 제1 내부 전극 및 상기 제2 내부 전극은
상기 패키지 하우징의 바닥부에 서로 이격되어 배치된 것을 특징으로 하는,
커패시터 패키지.
12. The method of claim 11,
The first inner electrode and the second inner electrode
Wherein the package housing is disposed at a bottom portion of the package housing,
Capacitor package.
제1 양극 산화 공정을 통해 알루미늄박의 제1 면에 형성된 제1 표면 유전층 상에 제1 상부 금속층 및 상기 제1 상부 금속층과 연결된 제1 상부 연결 전극을 형성하는 단계;
제1 양극 산화 공정을 통해 알루미늄박의 제2 면에 형성된 제2 표면 유전층 상에 제1 하부 금속층 및 상기 제1 하부 금속층과 연결된 제1 하부 연결 전극을 형성하는 단계;
상기 제1 상부 및 하부 연결 전극들이 마스킹된 상태에서, 상기 제1 상부 및 하부 금속층들을 양극 산화시켜, 제1 상부 커패시터 전극, 제1 상부 유전층, 제1 하부 커패시터 전극 및 제1 하부 유전층을 형성하는 단계;
제2 양극 산화 공정을 통해 형성된 상기 제1 상부 유전층 상에 제2 상부 금속층 및 상기 제2 상부 금속층과 연결된 제2 상부 연결 전극을 형성하는 단계;
제2 양극 산화 공정을 통해 형성된 상기 제1 하부 유전층 상에 제2 하부 금속층 및 상기 제2 하부 금속층과 연결된 제2 하부 연결 전극을 형성하는 단계; 및
상기 제2 상부 및 하부 연결 전극들이 마스킹된 상태에서, 상기 제2 상부 및 하부 금속층들을 제3 양극 산화시켜, 제2 상부 커패시터 전극, 제2 상부 유전층, 제2 하부 커패시터 전극 및 제2 하부 유전층을 형성하는 단계를 포함하는,
적층 커패시터의 제조 방법.
A first anodizing both sides of the aluminum foil;
Forming a first upper metal layer and a first upper connection electrode connected to the first upper metal layer on a first surface dielectric layer formed on a first surface of the aluminum foil through a first anodization process;
Forming a first lower metal layer and a first lower connection electrode connected to the first lower metal layer on a second surface dielectric layer formed on a second surface of the aluminum foil through a first anodic oxidation process;
The first upper and lower metal layers are anodized to form a first upper capacitor electrode, a first upper dielectric layer, a first lower capacitor electrode, and a first lower dielectric layer in a state where the first upper and lower connection electrodes are masked step;
Forming a second upper metal layer on the first upper dielectric layer formed through a second anodization process and a second upper connection electrode connected to the second upper metal layer;
Forming a second lower metal layer on the first lower dielectric layer formed through a second anodic oxidation process and a second lower connection electrode connected to the second lower metal layer; And
The second upper and lower connection electrodes are masked and the second upper and lower metal layers are third anodized to form a second upper capacitor electrode, a second upper dielectric layer, a second lower capacitor electrode, ≪ / RTI >
A method for manufacturing a laminated capacitor.
상기 제1 양극 산화 공정은 상기 알루미늄박을 전해액에 침지시켜 상기 알루미늄박의 양면을 동시에 양극 산화시켜 알루미늄으로 이루어진 베이스 금속층 및 상기 베이스 금속층의 양면에 각각 배치된 상기 제1 표면 유전층 및 상기 제2 표면 유전층을 형성하고,
상기 제2 양극 산화 공정은 상기 제1 상부 및 하부 금속층들이 형성된 베이스 금속층을 전해액에 침지시켜 상기 제1 상부 및 하부 금속층들을 동시에 양극 산화시키며,
상기 제3 양극 산화 공정은 상기 제2 상부 및 하부 금속층들이 형성된 베이스 금속층을 전해액에 침지시켜 상기 제2 상부 및 하부 금속층들을 동시에 양극 산화시키는 것을 특징으로 하는,
적층 커패시터의 제조 방법.18. The method of claim 17,
Wherein the first anodizing step comprises dipping the aluminum foil in an electrolytic solution to anodically oxidize both surfaces of the aluminum foil at the same time to form a base metal layer made of aluminum and a second metal layer formed on the first surface dielectric layer and the second surface Forming a dielectric layer,
The second anodic oxidation process is a process of anodizing the first upper and lower metal layers by simultaneously anchoring the base metal layer formed with the first upper and lower metal layers into the electrolyte,
Wherein the third anodic oxidation process comprises dipping a base metal layer on which the second upper and lower metal layers are formed in an electrolyte to anodically oxidize the second upper and lower metal layers simultaneously,
A method for manufacturing a laminated capacitor.
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