KR101567309B1 - 광학 시트용 몰드, 이의 제조 방법 및 광학 시트용 몰드를 이용한 광학 시트의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

광학 시트용 몰드, 이의 제조 방법 및 광학 시트용 몰드를 이용한 광학 시트의 제조 방법이 제공된다. 광학 시트용 몰드는 기재, 및 기재 상에 형성되며, 패턴화된 전사면을 포함하는 패턴 전사부를 포함하되, 패턴 전사부는 내부에 복수의 기공을 포함하고, 패턴화된 전사면 표면에 형성된 음각 엠보 패턴을 포함한다.

Description

광학 시트용 몰드, 이의 제조 방법 및 광학 시트용 몰드를 이용한 광학 시트의 제조 방법{Mold for optical film, method of fabricating the same and method of fabricating optical film using Mold for optical film}

본 발명은 광학 시트용 몰드, 이의 제조 방법 및 광학 시트용 몰드를 이용한 광학 시트의 제조 방법에 관한 것이다.

액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 두 개의 유리판 사이에 액정을 주입해 상하 유리판 전극에 전원을 인가하여 각 화소에 액정 분자배열이 변화함으로써 영상을 표시하는 장치이다. 음극선관 표시 장치(Cathode Ray Tube; CRT), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel; PDP) 등과는 달리 액정 표시 장치에 의한 표시는 그 자체가 비발광성이기 때문에 빛이 없는 곳에서는 사용이 불가능하다. 이러한 단점을 보완하여 어두운 곳에서의 사용이 가능하게 할 목적으로 정보 표시면에 균일하게 조사되는 광원 어셈블리를 장착한다.

액정 표시 장치에 사용되는 광원 어셈블리는 크게 2종류로 구분된다. 첫째는 액정 표시 장치의 측면에서 빛을 제공하는 에지형 광원 어셈블리고 둘째는 액정 표시 장치의 후면에서 빛을 직접 제공하는 직하형 광원 어셈블리다. 몇몇 에지형 광원 어셈블리의 경우, 광원으로부터 출사된 빛이 상측으로 조사되도록 하기 위해 도광판을 구비하며, 도광판을 통과한 빛의 광학적 특성을 조절하기 위해 도광판 위쪽에 적어도 하나의 광학 시트를 구비한다. 몇몇 직하형 광원 어셈블리의 경우에는 광원으로부터 출사된 빛의 휘선을 감소시키기 위해 확산판을 구비하며, 확산판을 통과한 빛의 광학적 특성을 조절하기 위해 적어도 하나의 광학 시트를 구비한다.

광학 시트는 집광이나 확산을 위한 패턴들을 포함한다. 이들은 바이트를 이용하여 특정한 형태로 가공된 몰드를 이용하여 제조될 수 있다. 보다 다양한 광변조 특성을 구현하기 위해 패턴의 형상이 복잡해질 것이 요구된다. 예를 들어 기본 패턴을 포함하면서 패턴의 표면에 산란 패턴이 형성된 형상 등이 요구될 수 있다. 그러나, 이와 같은 복잡한 패턴을 형성하기 위해서는 몰드의 패턴도 그에 상응하도록 제작되어야 한다. 그런데, 복잡한 패턴의 몰드는 일반적인 프리즘 패턴이나 마이크로 렌즈 패턴과 같은 광학 시트보다 패턴의 제조가 쉽지 않다. 예컨대, 광학 시트를 형성하는 몰드는 바이트 가공으로 형성한 금속 몰드를 이용하여 제작되는데, 금속 몰드를 복잡하게 성형하기는 더욱 어렵다. 금속 몰드는 통상 바이트 가공으로 성형되는데, 정형적인 패턴이 아닌 경우에는 바이트 가공 회수가 증가하거나, 레이저 방식이나 샌드 블라스트 방식의 가공 처리가 추가로 요구되어 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 원하는 치수로 자유롭게 가공하는데에 한계가 있다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 표면에 엠보 패턴을 포함하는 광학 시트용 몰드를 제공하고자 하는 것이다.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 표면에 엠보 패턴을 포함하는 광학 시트용 몰드의 단순화된 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 표면에 엠보 패턴을 포함하는 광학 시트용 몰드를 이용한 광학 시트의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트용 몰드는 기재, 및 상기 기재 상에 형성되며, 패턴화된 전사면을 포함하는 패턴 전사부를 포함하되, 상기 패턴 전사부는 내부에 복수의 기공을 포함하고, 상기 패턴화된 전사면 표면에 형성된 음각 엠보 패턴을 포함한다.

상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트용 몰드의 제조 방법은 패턴화된 전사면을 포함하는 원시 몰드를 준비하는 단계, 상기 원시 몰드 상에 경화성 수지 및 발포제를 포함하는 몰드용 조성물을 제공하여 몰드용 조성물층을 형성하는 단계, 및 발포 공정을 수행하여 상기 몰드용 조성물층 내부에 기공을 형성하고, 상기 몰드용 조성물층 표면에 음각 엠보 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법은 상술한 바와 같은 광학 시트용 몰드를 준비하는 단계, 광학 기재 상에 형성된 광학 패턴용 조성물층에 상기 광학 시트용 몰드의 패턴 전사부를 전사시키는 단계, 및 상기 광학 시트용 몰드를 분리하고, 상기 광학 패턴용 조성물을 완전 경화하는 단계를 포함한다.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법은 상술한 바와 같은 광학 시트용 몰드를 준비하는 단계, 상기 광학 시트용 몰드 상에 광학 패턴용 조성물을 제공하는 단계, 상기 광학 패턴용 조성물 상부에 광학 기재를 적층하고 상기 광학 패턴용 조성물을 반경화하는 단계, 및 상기 광학 시트용 몰드를 분리하고, 상기 광학 패턴용 조성물을 완전 경화하는 단계를 포함한다.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.

즉, 광학 시트용 몰드의 표면에 랜덤하게 패턴화된 음각 엠보 패턴을 용이하게 형성할 수 있다. 따라서, 다양한 형상의 광학 시트를 용이하게 제조할 수 있다.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트용 몰드의 단면도이다.
도 2는 도 1의 광학 시트용 몰드의 제조 방법의 예시적인 순서도이다.
도 3 내지 도 6은 도 1의 광학 시트용 몰드의 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
도 7은 도 1의 광학 시트용 몰드를 이용한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
도 11은 도 1의 광학 시트용 몰드를 이용한 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 용어인 "~필름"은 "~시트", "~판"의 의미로 사용될 수 있다. 또, 본 명세서에서, "광학 시트용 몰드"라 함은 광학 시트의 광학 패턴을 성형하는데 사용되는 성형 몰드를 의미할 수 있다.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트용 몰드의 단면도이다.

도 1을 참조하면, 광학 시트용 몰드(100)는 패턴 전사부(120)를 포함한다. 패턴 전사부(120)는 표면에 패턴화된 전사면(125)을 포함한다. 패턴화된 전사면(125)은 광학 시트에 전사시켜 형성하기를 소망하는 패턴에 대하여 음각 패턴(또는 오프셋 패턴)을 가질 수 있다. 본 실시예에서는 소망하는 패턴이 프리즘 패턴인 경우를 예시한다. 패턴화된 전사면(125)은 프리즘 산부에 대응되는 골부(125a), 프리즘 골부에 대응되는 산부(125b), 프리즘 경사면에 대응되는 경사부(125c)를 포함한다. 또한, 패턴 전사부(120)는 각 골부(125a)로부터 하부로 연장된 완화부(123)를 더 포함할 수 있다.

패턴 전사부(120) 하부에는 기재(110)가 배치될 수 있다. 광학 시트용 몰드(100)는 기재(110) 상에 패턴 전사부(120)가 형성된 소프트 몰드일 수 있다.

기재(110)는 휘어질 수 있는 플라스틱 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 기재(110)는 폴리카보네이트(poly carbonate) 계열, 폴리술폰(poly sulfone) 계열, 폴리아크릴레이트(poly acrylate) 계열, 폴리스티렌(poly styrene) 계열, 폴리비닐클로라이드(poly vinyl chloride) 계열, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol) 계열, 폴리노르보넨(poly norbornene) 계열, 폴리에스테르(poly ester) 계열의 물질을 포함하여 이루어질 수 있다. 예시적인 몇몇 실시예에서, 기재(110)는 PET(Polyethylene phthalate)로 이루어질 수 있다.

패턴 전사부(120)는 UV 경화성 수지나 열 경화성 수지 등과 같은 경화성 수지로 형성될 수 있다. 경화성 수지는 예를 들어, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등으로 이루어질 수 있고, 구체적으로 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄아크릴레이트계 수지, 실리콘아크릴레이트계 수지, 폴리아크릴레이트계 수지 등의 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 패턴 전사부(120)는 발포 과정을 거치고 잔류한 발포제(도 4의 '131' 참조)를 더 포함할 수 있다.

패턴 전사부(120)는 내부에 복수의 기공(121)을 포함할 수 있다. 기공(121)은 발포제(도 4의 '131' 참조)에 의해 발포된 것일 수 있다. 패턴 전사부(120) 내부에서 기공(121)은 랜덤하게 배치될 수 있다. 기공(121)의 형상은 구형, 타원형이거나 무정형일 수 있다. 각 기공(121)의 평균 크기는 약 100nm 내지 5㎛일 수 있다. 패턴 전사부(120) 전체 체적에 대한 기공(121)의 총부피는 약 3% 내지 60%이거나, 약 5% 내지 20%일 수 있다.

기공(121)이 패턴 전사부(120)의 표면에서 형성되는 경우, 패턴 전사부(120) 표면에 소정의 표면 거칠기를 부여하는 음각 엠보 패턴(122)으로 잔류할 수 있다. 즉, 패턴 전사부(120)의 표면은 음각 엠보 패턴(122)을 포함할 수 있다. 각 음각 엠보 패턴(122)은 기공(121)이 절단된 형상일 것이다. 음각 엠보 패턴(122)의 배열 또한 랜덤할 수 있다. 음각 엠보 패턴(122)은 패턴 전사부(120)의 경사부(125c) 뿐만 아니라, 산부(125b)와 골부(125a)에도 형성될 수 있다. 이처럼, 음각 엠보 패턴(122)이 랜덤하게 배열되면, 전사되어 형성되는 광학 시트 표면에 양각 엠보 패턴(도 10의 '322' 참조)이 랜덤하게 배치될 수 있다. 이들은 산란 패턴으로 작용하여 다양한 광 변조 특성을 구현할 수 있다.

더 나아가 음각 엠보 패턴(122)은 기재(110)와 맞닿는 패턴 전사부(120)의 하면에도 형성될 수 있다. 이 경우, 음각 엠보 패턴(122)은 패턴 전사부(120)의 하면과 기재(110) 사이에서 실질적인 기공을 형성할 수 있다. 음각 엠보 패턴(122)은 패턴 전사부(120)의 측면에도 형성될 수 있다.

도 2는 도 1의 광학 시트용 몰드의 제조 방법의 예시적인 순서도이다. 도 3 내지 도 6은 도 1의 광학 시트용 몰드의 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 먼저, 패턴화된 전사면(125)을 포함하는 원시 몰드(200)를 준비한다(S11). 원시 몰드(200)는 금속으로 이루어진 금속 몰드일 수 있다. 원시 몰드(200)의 패턴화된 전사면(250)은 광학 시트에 형성하기를 소망하는 패턴과 실질적으로 동일한 패턴을 가질 수 있다. 예를 들어, 원시 몰드(200)의 패턴화된 전사면(250)은 프리즘 패턴을 포함할 수 있다. 상기 프리즘 패턴의 표면은 매끈할 수 있다. 원시 몰드(200)는 바이트 가공을 통해 제조될 수 있다.

도 2 및 도 4를 참조하면, 원시 몰드(200) 상에 몰드용 조성물을 제공하여 몰드용 조성물층(130)을 형성한다(S12). 몰드용 조성물은 예를 들어, UV 경화성 수지 및 발포제(131)를 포함할 수 있다. 적용 가능한 경화성 수지와 발포제(131)는 도 1을 참고하여 설명하였으므로, 중복 설명은 생략한다. 발포제(131)의 함량은 고형분의 기준으로 0.5 내지 10중량%, 또는 3 내지 7 중량%일 수 있다. 예시적인 실시예에서, AIBN 발포제(131)가 고형분 대비 4.5중량% 함유된 몰드용 조성물이 사용될 수 있다. 몰드용 조성물 내에서 UV 경화성 수지와 발포제(131)는 균일하게 혼합되어 있거나, UV 경화성 수지 내에 발포제(131)가 균일하게 분산되어 있을 수 있다. 그러나, 이에 제한되지 않음은 물론이다.

몰드용 조성물을 제공할 때, 원시 몰드(200)의 패턴화된 전사면(250) 모두를 덮도록 충분한 양으로 제공할 수 있다. 몰드용 조성물은 원시 몰드(200)의 최상단인 프리즘 산부로부터 소정 두께를 갖도록 제공될 수 있다. 몰드용 조성물층(130)의 상면은 평탄할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.

도 2 및 도 5를 참조하면, 이어서, 발포 공정을 수행한다(S13). 발포 공정은 약 70° 내지 100°의 온도에서 약 10분 내지 60분 동안 진행될 수 있다. 발포 공정 동안 발포제(131)가 끓어 올라 그 부근을 중심으로 기공(121)이 생성될 수 있다. 따라서, 발포 공정이 완료되면, 몰드용 조성물층(130)은 내부에 기공(121)이 생성될 수 있다. 뿐만 아니라, 몰드용 조성물층(130)의 표면 부근에도 발포제(131)가 위치한 경우, 발포되면서 표면에 음각 엠보 패턴(122)을 형성할 수 있다. 음각 엠보 패턴(122)의 배열이나 갯수 등은 발포제(131)의 함량, 발포제(131)의 분산 정도 등에 따라 쉽게 제어될 수 있다. 음각 엠보 패턴(122)은 원시 몰드(200)의 패턴화된 전사면(250)과 마주하는 표면 뿐만 아니라, 그 반대면, 즉 몰드용 조성물층(130)의 상부 표면이나 몰드용 조성물층(130)의 측부 표면에도 형성될 수 있다.

도 2 및 도 6을 참조하면, 몰드용 조성물층(130)의 상부에 기재(110)를 적층하고, 몰드용 조성물층(130)을 반경화한다(S14). 예를 들어, 저광량(예컨대, 30mJ 내지 100mJ)의 UV를 조사하여 몰드용 조성물층(130)을 반경화할 수 있다. 반경화 과정을 거치면서, 몰드용 조성물층(130)과 기재(110)가 더욱 공고히 결합될 수 있다.

도 2 및 도 1을 참조하면, 이어서, 몰드용 조성물층(130)으로부터 원시 몰드(200)를 분리하고, 몰드용 조성물층(130)을 완전경화한다(S14). 완전 경화는 고광량(예컨대, 150mJ 내지 1,000mJ)의 UV를 조사하는 것에 의해 수행될 수 있다. 완전 경화가 이루어짐에 따라 몰드용 조성물층(130)이 더욱 견고해지고 기공(121) 및 표면의 음각 엠보 패턴(122) 또한 기구적 안정성을 가질 수 있다. 그 결과 도 1에 도시된 바와 같이 패턴 전사부(120)를 포함하는 광학 시트용 몰드(100)가 완성될 수 있다.

도시된 예와는 달리, 기재에 몰드용 조성물을 제공하여 몰드용 조성물층을 형성한 다음, 또는 그와 동시에, 몰드용 조성물층의 상부로부터 원시 몰드를 배치하고 가압하여 패턴을 전사한 후, 발포 공정을 수행할 수도 있다. 발포 공정 후에 몰드용 조성물층을 반경화하고, 원시 몰드를 분리한 후 완전 경화하는 것은 도 2의 실시예와 동일하다.

이하, 상기한 바와 같은 광학 시트용 몰드(100)를 이용하여 광학 시트를 제조하는 방법에 대해 설명한다.

도 7은 도 1의 광학 시트용 몰드를 이용한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.

도 7을 참조하면, 내부에 기공을 포함하고 표면에 음각 엠보 패턴을 포함하는 패턴 전사부를 포함하는 광학 시트용 몰드를 준비한다(S21). 이러한 광학 시트용 몰드(100)를 제조하는 방법에 대해서는 도 1 내지 도 6을 참조하여 설명하였으므로, 중복 설명은 생략한다.

도 7 및 도 8을 참조하면, 이어서, 광학 기재(310) 상에 형성된 광학 패턴용 조성물층(330)에 광학 시트용 몰드(100)의 패턴 전사부(120)를 전사시킨다(S22).

구체적으로 설명하면, 광학 기재(110) 상에 광학 패턴용 조성물을 코팅한다. 광학 패턴용 조성물은 UV 경화성 수지로 이루어질 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 이후, 광학 시트용 몰드(100)의 패턴 전사부(120)를 광학 패턴용 조성물층(330)으로 향하도록 배치한다.

도 8 및 도 9를 참조하면, 이후, 광학 패턴용 조성물층이 광학 시트용 몰드(100)의 패턴 전사부(120)와 맞닿도록 가압한다. 이때, 광학 패턴용 조성물층(330)이 광학 시트용 몰드(100) 패턴 전사부(120) 표면의 음각 엠보 패턴(122)에까지 충진되도록 한다. 도면에서는 광학 패턴용 조성물층(330) 전체에 대하여 패턴 전사부(120)의 표면 형상이 동시에 전사되는 경우를 예시하였지만, 영역 별로 순차 전사될 수도 있다.

이어, 저광량의 UV를 조사하여 광학 패턴용 조성물층(330)을 반경화한다(S23). 반경화 공정은 생략될 수도 있다.

도 7 및 도 10을 참조하면, 이어, 광학 시트용 몰드(100)를 분리하고, 광학 패턴용 조성물층(330)을 완전 경화한다(S24). 완전 경화를 위해 고광량의 UV를 조사할 수 있다. 그 결과, 도 10에 도시된 바와 같은 광학 시트(300)가 완성될 수 있다.

제조된 광학 시트(300)는 광학 기재(310) 및 광학 기재(310) 상에 형성된 프리즘 패턴(320)을 포함한다. 프리즘 패턴(320)은 프리즘 산부(325a), 프리즘 골부(325b), 및 프리즘 경사면(325c)을 포함할 수 있다. 프리즘 패턴(320)의 표면에는 양각 엠보 패턴(322)이 형성될 수 있다. 양각 엠보 패턴(322)은 광학 시트용 몰드(100) 표면의 음각 엠보 패턴(122)으로부터 전사되어 형성된 것일 수 있다. 따라서, 광학 시트용 몰드(100) 표면에 음각 엠보 패턴(122)이 랜덤하게 형성되어 있는 경우, 프리즘 패턴(320)의 양각 엠보 패턴(322)도 랜덤하게 배치될 것이다.

광학 시트(300)는 프리즘 패턴(320)을 포함함으로써 집광 효과를 나타낼 수 있고, 액정표시장치에 사용되는 백라이트 유닛에 적용시 상방 휘도 상승 효과를 나타낼 수 있다. 더 나아가, 프리즘 패턴(320)의 표면에 양각 엠보 패턴(322)이 형성되어 있어, 여기에 도달하는 빛들을 산란시킬 수 있다. 따라서, 시야각을 개선할 수 있다.

도 11은 도 1의 광학 시트용 몰드를 이용한 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 도 12 및 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.

도 11을 참조하면, 내부에 기공을 포함하고 표면에 음각 엠보 패턴을 포함하는 패턴 전사부를 포함하는 광학 시트용 몰드를 준비한다(S31). 이러한 광학 시트용 몰드(100)를 제조하는 방법에 대해서는 도 1 내지 도 6을 참조하여 설명하였으므로, 중복 설명은 생략한다.

도 11 및 도 12를 참조하면, 이어서, 광학 시트용 몰드(100) 상에 광학 패턴용 조성물(340)을 제공한다(S32). 광학 패턴용 조성물(340)은 도 8에서 설명한 것과 실질적으로 동일할 수 있다.

도 11 및 도 13을 참조하면, 이어, 광학 패턴용 조성물 상부에 광학 기재(310)를 적층하고, 광학 패턴용 조성물(340)을 반경화한다(S33). 예를 들어, 저광량(예컨대, 30mJ 내지 100mJ)의 UV를 조사하여 광학 패턴용 조성물(340)을 반경화할 수 있다. 반경화 과정을 거치면서, 광학 패턴용 조성물(340)과 광학 기재(310)가 더욱 공고히 결합될 수 있다.

도 11을 참조하면, 이어서, 광학 패턴용 조성물층(340)으로부터 광학 시트용 몰드(100)를 분리하고, 광학 패턴용 조성물층(340)을 완전 경화한다(S34). 완전 경화는 고광량(예컨대, 150mJ 내지 1,000mJ)의 UV를 조사하는 것에 의해 수행될 수 있다. 그 결과 도 10에 도시된 바와 같은 광학 시트(300)가 완성될 수 있다.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

10: 광원 어셈블리
100: 수납 용기
130: 광원
200: 복합 광학 시트

Claims (13)

1. 기재; 및
   상기 기재 상에 형성되며, 패턴화된 전사면을 포함하는 패턴 전사부를 포함하되,
   상기 패턴 전사부는 내부에 복수의 기공을 포함하고,
   상기 패턴화된 전사면 표면에 형성된 음각 엠보 패턴을 포함하는 광학 시트용 몰드.
2. 제1 항에 있어서,
   상기 기재에 맞닿는 상기 패턴 전사부의 저면에 형성된 복수의 음각 엠보 패턴을 더 포함하는 광학 시트용 몰드.
3. 제1 항에 있어서,
   상기 패턴 전사부의 측면에 형성된 복수의 음각 패턴을 더 포함하는 광학 시트용 몰드.
4. 제1 항에 있어서,
   상기 패턴 전사부 전체 체적에 대한 상기 기공의 총부피는 3% 내지 60%인 광학 시트용 몰드.
5. 제1 항에 있어서,
   상기 음각 엠보 패턴 및 상기 기공은 랜덤하게 배치되어 있는 광학 시트용 몰드.
6. 제1 항에 있어서,
   상기 패턴 전사부는 경화성 수지 및 잔류 발포제를 포함하는 광학 시트용 몰드.
7. 제1 항에 있어서,
   상기 패턴 전사면은 프리즘 패턴의 음각 패턴인 광학 시트용 몰드.
8. 패턴화된 전사면을 포함하는 원시 몰드를 준비하는 단계;
   상기 원시 몰드 상에 경화성 수지 및 발포제를 포함하는 몰드용 조성물을 제공하여 몰드용 조성물층을 형성하는 단계; 및
   발포 공정을 수행하여 상기 몰드용 조성물층 내부에 기공을 형성하고, 상기 몰드용 조성물층 표면에 음각 엠보 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 광학 시트용 몰드의 제조 방법.
9. 제8 항에 있어서,
   상기 발포 공정 후에, 상기 몰드용 조성물층 상부에 기재를 적층하고 상기 몰드용 조성물층을 반경화하는 단계;
   상기 원시 몰드를 분리하고, 상기 몰드용 조성물층을 완전 경화하는 단계를 더 포함하는 광학 시트용 몰드의 제조 방법.
10. 제8 항에 있어서,
    상기 몰드용 조성물 전체에 대한 상기 발포제의 함량은 0.5 내지 10중량%인 광학 시트용 몰드의 제조 방법.
11. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 따른 광학 시트용 몰드를 준비하는 단계;
    광학 기재 상에 형성된 광학 패턴용 조성물층에 상기 광학 시트용 몰드의 패턴 전사부를 전사시키는 단계; 및
    상기 광학 시트용 몰드를 분리하고, 상기 광학 패턴용 조성물을 완전 경화하는 단계를 포함하는 광학 시트의 제조 방법.
12. 제11 항에 있어서,
    상기 광학 시트용 몰드를 분리하기 전에, 상기 광학 패턴용 조성물을 반경화하는 단계를 더 포함하는 광학 시트의 제조 방법.
13. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 따른 광학 시트용 몰드를 준비하는 단계;
    상기 광학 시트용 몰드 상에 광학 패턴용 조성물을 제공하는 단계;
    상기 광학 패턴용 조성물 상부에 광학 기재를 적층하고 상기 광학 패턴용 조성물을 반경화하는 단계; 및
    상기 광학 시트용 몰드를 분리하고, 상기 광학 패턴용 조성물을 완전 경화하는 단계를 포함하는 광학 시트의 제조 방법.
    

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