KR101476612B1 - Metal powders coated with multilayer graphene and/or nano graphite layer - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층으로 표면이 코팅된 금속 분말을 제공하며, 이러한 금속 분말은 대기중의 반응 가스 또는 수용액에 대해 반응성이 높은 금속 분말을 격리시켜 보호함으로써, 금속 분말의 안정성이 획기적으로 개선되어 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응 등을 억제할 수 있고, 각종 전자 부품 및 소자에서 고가의 Ag 금속을 저가의 금속 재료로서 대체할 수 있어 제조 원가를 크게 절감할 수 있다는 효과가 있다.The present invention provides a metal powder whose surface is coated with multilayer graphene and / or a nano-graphite layer. The metal powder isolates and protects metal powder having high reactivity with respect to a reaction gas or an aqueous solution in the atmosphere, The stability can be remarkably improved and the oxidation reaction, the hydration reaction, the carbonate formation reaction and the like can be suppressed, and expensive metallic materials can be substituted for expensive metal materials in various electronic parts and devices, It is effective.
Description
본 발명은 금속 분말의 표면을 다층 그래핀(multilayer graphene) 및/또는 나노 그라파이트 층(nano-graphite layer)으로 코팅하여, 대기중의 산소, 수분, 이산화탄소는 물론 다양한 용액으로부터 금속 분말 표면을 차단, 격리시킴으로써, 금속 분말에 대해 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응, 부식 반응이 발생하는 것을 방지하여, 금속 분말의 물리적, 화학적 특성이 열화되는 것을 억제할 수 있는 금속 분말에 관한 것이다.The present invention relates to a method of coating a surface of a metal powder with a multilayer graphene and / or a nano-graphite layer so as to shield the metal powder surface from oxygen, moisture, carbon dioxide, A hydration reaction, a carbonate formation reaction, and a corrosion reaction with respect to the metal powder, thereby preventing deterioration of the physical and chemical properties of the metal powder.
Ag, Au, Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ni, Fe, Co 등과 같은 금속 재료는 우수한 전기 전도성을 갖고 있기 때문에, 디스플레이 소자, 태양광 및 전자 부품의 전극 재료 및 전극 컨택(electrical contact) 재료로서 다양한 용도에 사용되고 있다. 이들 소자 및 부품에서 전극 패턴 또는 전극 컨택 패턴을 형성하는 방법으로, 박막 패터닝법과 금속 분말 페이스트를 이용한 후막 공정법이 사용되고 있다.Metal materials such as Ag, Au, Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ni, Fe and Co have excellent electrical conductivity, contact materials for various applications. As a method of forming an electrode pattern or an electrode contact pattern in these elements and parts, a thin film patterning method and a thick film processing method using a metal powder paste are used.
상기 박막 패터닝법은, 목표 금속 재료 박막을 플라즈마 스퍼터링법과 같은 박막 공정으로 형성한 후, 형성된 박막을 포토 리쏘그라피(photo-lithography) 공정을 포함하는 다양한 공정으로, 전극 또는 전극 컨택 형상으로 패터닝(patterning) 하는 방법이다. 이러한 박막 패터닝 방법은 진공 증착 공정, 포토 리지스트(Photo Resist) 도포, 노광 및 현상, 에칭 공정을 포함한 다수의 공정 단계를 포함하고 있기 때문에, 공정의 생산성이 낮고, 공정 비용이 높으며, 공정에서 발생하는 오염 부산물을 처리해야 하는 추가적인 비용이 발생하는 문제점이 있다.In the thin film patterning method, a target metal material thin film is formed by a thin film process such as a plasma sputtering method, and then the formed thin film is patterned by various processes including a photo-lithography process, ). Such a thin film patterning method has many problems including a vacuum deposition process, a photoresist application process, an exposure process, a development process, and an etching process, so that the productivity of the process is low, the process cost is high, There is a problem that an additional cost is incurred to treat the contaminated by-products.
상기 후막 공정법은 금속 분말과 유기 용액(organic vehicle)을 혼합하여 제조된 페이스트(paste) 또는 슬러리(slurry)를 이용하여, 전극 또는 전극 컨택 형상으로 패턴 인쇄하거나, 균일 도포된 감광성 후막(thick film)을 패턴 현상하는 방법으로, 후막의 전극 또는 전극 컨택 형상을 제조한다. 이렇게 형성된 전극 또는 전극 컨택 후막은 상온에서 경화하여 사용하거나, 고온으로 가열하여 첨가된 유기 용액을 배소(calcinations)하고, 페이스트 또는 슬러리에 첨가된 금속 분말을 소결하여 사용하고 있다.The thick film process may be performed by pattern printing in the form of electrodes or electrodes using a paste or a slurry prepared by mixing a metal powder and an organic vehicle or by using a uniformly coated thick film ) Is pattern-developed to produce a thick-film electrode or electrode contact shape. The electrode or electrode contact thick film thus formed is cured at room temperature or is calcined by heating at a high temperature to add the organic solution and sintering the metal powder added to the paste or slurry.
상기 금속 분말 페이스트 또는 슬러리를 이용한 후막 공정법은 박막 패터닝법에 비하여 공정 단계가 단순하고, 상온, 상압에서 후막 코팅 공정이 이루어지기 때문에 생산성이 높아, 경제성이 우수하여, 다양한 전자 부품에서 사용되고 있다. 예를 들어, 디스플레이 소자의 터치 패널에서 ITO 전극과 유연 인쇄 기판(Flexible Printed Circuit Board)과의 전극 컨택 패턴 형성에서, Ag 분말이 포함된 페이스트를 인쇄한 후, 이를 상온 또는 60~100℃의 온도 범위로 가열하여 경화시켜 전극간의 컨택 형성 공정에 사용되고 있다. PDP의 BUS 전극에 사용되는 Ag 분말이 포함된 감광성 페이스트는 후막 형태로 전면 인쇄한 후, 전극 패턴 형태로 노광, 현상한 후, Ag 분말이 소결되는 온도까지 가열하여 전극을 형성하여 사용하고 있다. 이외에도 태양 전지, LED, RFID, 후막 인쇄 안테나, 전력 반도체, 고 열전도성 페이스트 등에 사용되고 있다.The thick film process using the metal powder paste or slurry has a simpler process step than the thin film patterning process and has a high productivity because of the thick film coating process at room temperature and atmospheric pressure, and is excellent in economical efficiency and used in various electronic parts. For example, in the case of forming an electrode contact pattern between an ITO electrode and a flexible printed circuit board in a touch panel of a display device, a paste containing Ag powder is printed, and then the paste is printed at room temperature or at a temperature of 60 to 100 DEG C And is used in a process of forming a contact between electrodes. The photosensitive paste containing the Ag powder used for the BUS electrode of the PDP is printed on the front side in the form of a thick film, exposed and developed in the form of an electrode pattern, and then heated to a temperature at which the Ag powder is sintered to form an electrode. In addition, they are used in solar cells, LEDs, RFIDs, thick film printing antennas, power semiconductors, and high thermal conductive pastes.
상기 금속 분말을 포함한 후막 공정법은 장치 투자비 및 공정 비용이 낮은 장점이 있으나, 이들 후막 공정의 대부분이 대기중의 고온 열처리 공정을 사용하는데, 대부분의 금속 분말은 이러한 공정 과정에서 산화, 수화 또는 카보네이트를 형성하기 때문에, 전극 재료로서 사용 가능한 재료가 산화반응, 수화 반응 및 카보네이트 형성 반응이 대기 조건에서 발생하지 않는 Ag 금속 분말로 한정되는 문제점이 있다.Though the thick film process including the metal powder has advantages of low equipment investment cost and process cost, most of these thick film processes use a high temperature heat treatment process in the atmosphere. Most of the metal powders are oxidized, hydrated or carbonated There is a problem that the material usable as the electrode material is limited to the Ag metal powder in which the oxidation reaction, the hydration reaction, and the carbonate formation reaction do not occur at atmospheric conditions.
Ag 재료는 Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ni, Fe, Co 등과 같은 금속 재료에 비하여 가격이 매우 높기 때문에, 제품 또는 부품의 원가를 낮추기 위해서는 Ag를 대체하는 금속 분말을 채용하는 것이 바람직하나, 이들 금속 분말이 상온 또는 열처리 온도까지 가열되는 과정에서 산화, 수화, 카보네이트 형성 반응을 억제할 수 있는 방안의 제시에 대한 필요성이 높은 실정이다.The Ag material is very expensive compared to metal materials such as Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ni, Fe, and Co. Therefore, in order to lower the cost of a product or a part, However, there is a high need for a method of suppressing oxidation, hydration, and carbonate formation reaction during heating of these metal powders to room temperature or heat treatment temperature.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-described problems of the prior art and the technical problems required from the past.
구체적으로, 본 발명의 발명자들은 다양하고 심도 있는 연구를 검토한 끝에, 이하에서 설명하는 바와 같은 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층으로 코팅된 금속 분말을 개발하기에 이르렀고, 이렇게 코팅된 금속 분말은 기존의 금속 분말과 비교할 때, 산화물, 수화물, 카보네이트 형성 반응이 억제되어, 고열을 수반하는 공정을 거치더라도 금속 분말의 본래 특성을 유지할 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.In particular, the inventors of the present invention have studied a variety of in-depth studies and have come up with the development of metallic powder coated with multilayer graphene and / or nanographite layer as described below, Compared with existing metal powders, it has been confirmed that oxides, hydrates, and carbonate formation reactions are suppressed and that the original properties of the metal powders can be maintained even after a process accompanied by a high temperature, thereby completing the present invention.
따라서, 본 발명은 표면에 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층이 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 분말을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a metal powder characterized in that a multilayer graphene and / or a nano graphite layer is coated on the surface.
본 발명에 따른 금속 분말은, 그것의 표면에 코팅된 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층으로 인해, 앞서 설명한 바와 같이, 대기중의 산소, 수분, 이산화탄소 뿐만 아니라 다양한 용액으로부터 금속 분말의 표면을 차단, 격리시킴으로써, 금속 분말에 대해 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응, 부식 반응이 발생하는 것을 방지하여, 금속 분말의 물리적, 화학적 특성이 열화되는 것을 억제할 수 있다.The metal powder according to the present invention can prevent the surface of the metal powder from various solutions as well as oxygen, water and carbon dioxide in the atmosphere, as described above, due to the multilayer graphene and / or nano graphite layer coated on the surface thereof , It is possible to prevent the oxidation reaction, the hydration reaction, the carbonate formation reaction, and the corrosion reaction from occurring on the metal powder, thereby preventing the deterioration of the physical and chemical properties of the metal powder.
따라서, 본 발명에 따는 금속 분말은, 정보 디스플레이 소자, 태양 전지, LED, RFID, 후막 인쇄 안테나, 전력 반도체, 고 열전도성 페이스트 등을 포함한 각종 전자 부품의 전극 또는 전극 컨택을 제조하기 위한 전구체로 바람직하게 사용될 수 있다.Therefore, the metal powder according to the present invention is preferably used as a precursor for producing electrodes or electrode contacts of various electronic components including information display devices, solar cells, LEDs, RFIDs, thick film printing antennas, power semiconductors, high thermal conductive pastes and the like Lt; / RTI >
하나의 구체적인 예에서, 상기 금속 분말은 Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe 및 Co로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 성분을 포함하고 있거나 또는 둘 이상의 성분들의 합금을 포함하는 것으로 구성될 수 있다.In one specific example, the metal powder comprises one element selected from the group consisting of Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe and Co, . ≪ / RTI >
이러한 금속 분말은, 예를 들어, 0.01 ㎛ 내지 100 ㎛의 크기를 가질 수 있고, 상세하게는 전자 부품의 전극으로 사용되는 크기 범위인 0.1 ㎛ 내지 40 ㎛의 크기를 가질 수 있으며, 더욱 상세하게는, 대부분의 전자 부품에 사용되는 2 ㎛ 내지 5 ㎛의 크기를 가질 수 있다.Such a metal powder may have a size of, for example, from 0.01 μm to 100 μm, and more specifically, a size range of 0.1 μm to 40 μm, which is a size range used as an electrode of an electronic component. More specifically, , And may have a size of from 2 탆 to 5 탆 used for most electronic parts.
상기의 금속 분말은 구형, 막대형, 판형, 불규칙 형상 등 다양한 형상을 사용하는 것이 가능하다. 그 중에서도 구형이 특히 바람직한 바, 예를 들어, 금속 분말과 유기 용액을 혼합하여 제조하는 페이스트 및 슬러리의 인쇄성 및 후막 도포 성능이 구형 분말에서 우수하기 때문이다.The metal powder may have various shapes such as a spherical shape, a rod shape, a plate shape, and an irregular shape. Among them, the spherical shape is particularly preferable, for example, the printing property and the thick film application performance of the paste and slurry produced by mixing the metal powder and the organic solution are excellent in the spherical powder.
한편, 그래핀은 탄소 원자가 육각 형상으로 배열된 단원자 층으로 이루어진 층상 재료로서, 층 내에 결함이 없을 경우, 거의 모든 원소에 대한 확산 장벽(diffusion barrier)으로 작용할 수 있는 것으로 보고되고 있다 [Jong Min Yuk et. al., “High-Resolution EM of Colloidal Nanocrystal Growth Using Graphene Liquid Cells”, Science, Vol 336, p61-64(2012)].On the other hand, graphene has been reported to be a layered material composed of a mono-element layer in which carbon atoms are arranged in a hexagonal shape, and can serve as a diffusion barrier for almost all elements when there is no defect in the layer [Jong Min Move it. al., " High-Resolution EM of Colloidal Nanocrystal Growth Using Graphene Liquid Cells ", Science, Vol. 336, p61-64 (2012)).
본 발명에 따르면, 이러한 그래핀이 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층의 형태로 금속 입자의 표면에 코팅되어 있다.According to the present invention, such graphene is coated on the surface of metal particles in the form of multilayer graphene and / or nanographite layer.
따라서, 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층은, 대기중의 산소, 수분, CO2/CO 등의 반응 가스 또는 수용액으로부터 금속 분말을 차단, 격리시키고, 결과적으로, 산화 반응 저항성, 수화 반응 저항성 및 카보네이트 형성 반응 저항성이, 코팅되지 않은 금속 분말에 비하여 획기적으로 개선된다. 그로 인해, 대기중의 고온 공정에서 산화 반응 등에 의해 열화가 쉽게 발생하는 Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe, Co 등을 포함하는 다양한 금속 분말이 그것의 본래의 물리적, 화학적 성질을 공정 과정 및 보관 과정 중에 유지하여, 본래 특성을 그대로 이용할 수 있다.Therefore, the multilayer graphene and / or nano graphite layer can block and isolate the metal powder from the atmospheric oxygen, moisture, reaction gas such as CO 2 / CO or the aqueous solution, and consequently the oxidation resistance, hydration resistance, The carbonate formation reaction resistance is remarkably improved as compared with the uncoated metal powder. A variety of metal powders, including Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe, and Co, which easily deteriorate due to oxidation reaction in a high temperature process in the atmosphere, , The chemical properties can be maintained during the process and during the storage process and the original properties can be used as is.
그래핀으로 코팅된 금속 분말이, 예를 들어, 후막 공정에서 보호막으로서의 특성을 효과적으로 발휘하기 위해서는, 공정 과정 중에 기계적 충격 등에 의하여 코팅층에 부분적 결함이 발생하거나, 대기중의 산소와 반응하여 산화되어 소실되지 않아야 한다. 또한, 코팅층의 산화 반응에 대한 저항성은 이러한 코팅층의 결함 및 두께에 의하여 주로 좌우된다.In order for the graphene-coated metal powder to effectively exhibit its protective film properties, for example, in a thick film process, a partial defect in the coating layer may occur due to mechanical impact or the like during the process, . In addition, the resistance of the coating layer to the oxidation reaction depends mainly on the defect and thickness of such a coating layer.
우선, 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층이 원자 레벨 또는 마크로 레벨의 결함을 포함하고 있을 경우, 이 결함을 통해 반응물질이 금속 분말 표면으로 확산해 들어가, 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응이 발생하게 된다. 따라서, 코팅층은 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응을 유발하는 물질이 통과할 수 있는 결함을 포함하지 않아야 한다. 탄소 단일층으로 구성된 그래핀은 제조 과정 또는 공정 과정에서 코팅층에 결함이 발생할 가능성이 높기 때문에, 적어도 2개 이상의 그래핀 층으로 이루어진 다층 그래핀층이 필요하다.First, when the multi-layered graphene or nano graphite layer contains defects at the atomic level or the macro level, the reaction material diffuses to the surface of the metal powder through the defects and oxidation reaction, hydration reaction, and carbonate formation reaction occur do. Therefore, the coating layer should not contain any defects through which substances causing oxidation, hydration or carbonate formation reaction can pass. Since graphene composed of a carbon single layer is likely to cause defects in the coating layer during the manufacturing process or the process, a multi-layer graphene layer composed of at least two graphene layers is required.
또한, 그래핀 및 그라파이트 재료가 대기 분위기에서 가열될 경우, 대기중의 산소와 반응하여 코팅층이 점차 소실되어, 결국에는 금속 분말이 대기중의 산소에 노출되게 된다. 이러한 과정에서, 그래핀 및 그라파이트 층의 산화 반응량은 온도에 지수 함수적으로 증가하고, 유지 시간에 선형적으로 증가하게 된다. 따라서, 공정 온도가 증가하거나, 공정 시간이 증가되는 경우, 코팅층이 전극 또는 전극 컨택의 형성 공정 과정 중에서 보호 기능을 유지하기 위해서는 그래핀의 적층 개수를 증가시키는 것이 필요하다. 따라서, 금속 분말을 대기중의 반응 가스 또는 반응성 수용액으로부터 차단, 보호하기 위해서는, 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층의 두께를 공정 온도 및 시간 조건에 따라 결정하는 것이 바람직하다.In addition, when the graphene and graphite materials are heated in an air atmosphere, the coating layer gradually disappears by reacting with oxygen in the atmosphere, and eventually the metal powder is exposed to atmospheric oxygen. In this process, the amount of oxidation of the graphene and graphite layers increases exponentially with temperature and increases linearly with the holding time. Therefore, when the process temperature is increased or the process time is increased, it is necessary to increase the number of stacked graphenes in order to maintain the protective function during the formation process of the electrode or the electrode contact. Therefore, in order to shield and protect the metal powder from the reaction gas or the reactive aqueous solution in the atmosphere, it is preferable to determine the thickness of the multilayer graphene or nano graphite layer according to the process temperature and time conditions.
예를 들어, 본 발명의 금속 분말을 전구체로서 사용하는 공정의 온도가 200℃ 이하로 낮거나, 공정 시간이 수분 정도로 짧거나, 공정 분위기내의 산소 분압이 대기중의 산소 분압보다도 현저히 낮아서 산화 반응의 포텐셜이 낮은 경우에는, 2개 내지 5개 층으로 이루어진 다층 그래핀 코팅을 이용하여도 보호막으로서의 역할을 충분히 수행하게 된다. 그러나, 공정 온도가 300℃ 내지 600℃ 정도로 높거나, 반응시간이 수분 내지 수시간으로 길거나, 공정 분위기가 대기 분위기 또는 산소 분위기와 같이 산화 포텐셜이 높은 경우에는, 그래핀이 6개 내지 100개 층 정도로 이루어진 나노 그라파이트로 코팅되는 것이 바람직하다.For example, when the temperature of the step of using the metal powder of the present invention as a precursor is as low as 200 占 폚 or less, the process time is as short as several minutes, or the partial pressure of oxygen in the process atmosphere is significantly lower than the partial pressure of oxygen in the atmosphere, When the potential is low, even a multilayer graphene coating of two to five layers can sufficiently serve as a protective film. However, when the process temperature is as high as about 300 DEG C to 600 DEG C, the reaction time is as long as several minutes to several hours, or the process atmosphere has high oxidation potential such as atmospheric or oxygen atmosphere, Based on the total weight of the nano-particles.
이 경우, 그래핀 층의 개수가 증가함에 따라, 금속 분말을 반응물로부터 차단 보호하는 특성이 향상되지만 코팅층을 통한 전기 전도도가 감소하기 때문에, 실제 분말 표면의 코팅층의 두께는 이들 인자들을 고려하여 최적의 성능을 갖도록 설정되어야 한다. 그라파이트에서 그래핀층에 평행한 방향으로의 전기 전도도에 비하여 그래핀층에 수직한 방향으로의 전기 전도도가 1/100배 감소하는 것으로 알려져 있다. 따라서, 코팅층의 두께가 증가할수록 코팅층 두께 방향으로의 전기 저항값이 증가하여, 전극 또는 전극 컨택 재료로서의 성능이 저하되는 것이다.In this case, as the number of graphene layers increases, the electrical conductivity of the metal powder is shielded from the reactants, but the electrical conductivity through the coating layer is reduced. Therefore, the thickness of the coating layer on the actual powder surface depends on the optimum factors It should be set up to have performance. It is known that the electrical conductivity in the direction perpendicular to the graphene layer is reduced by a factor of 100 compared with the electrical conductivity in the direction parallel to the graphene layer in the graphite. Therefore, as the thickness of the coating layer is increased, the electrical resistance value in the thickness direction of the coating layer is increased, and the performance as the electrode or the electrode contact material is lowered.
한편, 상기 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트로 코팅된 금속 분말이, 예를 들어, 전극 또는 전극 컨택 제조를 위한 전구체로서 특성을 효과적으로 발휘하기 위해서는, 금속 분말이 개별적으로 독립된 상태에서 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층의 코팅을 형성하는 것이 바람직하다. 개별적으로 코팅된 분말은 후막 형성 및 소성 과정에서 치밀한 막의 형성이 가능하게 되고, 이는 전극 재료 및 전극 컨택 제조용 전구체로서의 우수한 전기적인 특성을 발휘할 수 있도록 하기 때문이다.On the other hand, in order for the metal powder coated with the multi-layer graphene and / or the nano graphite to exhibit, for example, as a precursor for producing an electrode or an electrode contact effectively, / RTI > and / or to form a coating of the nanographite layer. The individually coated powder can form a dense film during the thick film formation and the firing process, because it can exhibit excellent electrical characteristics as a precursor for producing the electrode material and the electrode contact.
다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 형성하는 방법으로는, 고온에서 금속 분말을 탄화수소 가스에 노출시켜 코팅을 하는 고온 화학 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD)법, 카본 블랙 등과 같은 탄소 소스와 금속 분말을 접촉시켜 코팅하는 방법, 그래핀 산화물(graphene oxide)이 분산된 용액 내에 침적시켜 코팅하는 방법 등 다양한 방법들이 사용될 수 있다. 이들 방법 중에 고온 CVD 코팅 공정에서는, 금속 분말은 온도가 높기 때문에 금속 원소의 확산이 활발하게 발생하여, 분말이 상호 소결된다. 따라서, 금속 분말이 독립적으로 유지된 상태에서 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 형성할 수 있는 방법이 바람직하다.Examples of the method for forming the multilayer graphene or nano graphite layer include a high temperature chemical vapor deposition (CVD) method in which a metal powder is exposed to a hydrocarbon gas at a high temperature to coat the metal powder, a carbon source such as carbon black, Various methods such as a method of coating by immersion in a solution in which graphene oxide is dispersed and a method of coating by immersion may be used. Among these methods, in the high temperature CVD coating process, since the metal powder has a high temperature, the diffusion of the metal element is actively generated, and the powder is mutually sintered. Therefore, a method capable of forming a multilayer graphene or nano graphite layer in a state where the metal powder is kept independently is preferable.
고온 CVD 코팅법으로 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 코팅하는 경우, 탄화수소 가스의 분해 반응에 대한 촉매 특성이 약하거나 탄소 용해도가 낮은 Cu, Al, Cr, Mo, Ag, W, Zn 등과 같은 금속 분말의 표면에는, 탄화수소 가스의 분해 반응에 대한 촉매 특성이 우수하고, 탄소에 대한 용해도가 충분하여 소망하는 코팅층의 두께를 얻을 수 있는 천이 금속 촉매 원소인 Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re, Ir 등의 금속층을 추가로 코팅하는 것이 바람직할 수 있다.Metal powder such as Cu, Al, Cr, Mo, Ag, W, Zn or the like having a weak catalytic characteristic or low carbon solubility for the decomposition reaction of hydrocarbon gas when coating a multilayer graphene or nano- graphite layer by high- Co, Pt, Pd, Ru, Re, and Ni, which are excellent in catalytic properties for the decomposition reaction of hydrocarbon gas and have sufficient solubility in carbon to obtain the desired thickness of the coating layer, It may be desirable to further coat a metal layer such as Ir.
따라서, 하나의 구체적인 예에서, 상기 금속 분말은,Thus, in one specific example,
Al, Cr, Mo, Ag, W 및 Zn로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 성분을 포함하고 있거나 또는 둘 이상의 성분들의 합금을 포함하는 코어(core); 및A core comprising one element selected from the group consisting of Al, Cr, Mo, Ag, W and Zn, or containing an alloy of two or more elements; And
Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re 및 Ir로 이루어진 군에서 선택되는 천이 금속 촉매 원소가 상기 코어의 외면에 도포된 쉘(shell);A shell on which an outer surface of the core is coated with a transition metal catalyst element selected from the group consisting of Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re and Ir;
을 포함하고 있는 코어-쉘 구조로 이루어질 수 있다.And a core-shell structure including the core-shell structure.
이 경우, 상기 쉘의 두께는 코어 반경의 0.001배 내지 0.5배일 수 있다.In this case, the thickness of the shell may be 0.001 to 0.5 times the core radius.
경우에 따라서는, 금속 분말과 카본 블랙 및/또는 탄소 유기물을 접촉시켜 가열, 반응 및 냉각시키는 방식으로 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 금속 분말에 코팅할 수도 있다.In some cases, the metal powder may be coated with a multilayer graphene or nano-graphite layer in such a manner that the metal powder is brought into contact with the carbon black and / or the carbon organic material and heated, reacted, and cooled.
본 발명은 또한, 상기 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층이 표면에 코팅된 금속 분말을 첨가하여 제조하는 전기 전도성 전극용 페이스트 또는 슬러리와, 이러한 페이스트 또는 슬러리를 이용하여 형성된 전극 또는 전극 컨택을 제공한다.The present invention also provides a paste or slurry for an electroconductive electrode prepared by adding a metal powder coated on the surface of the multilayer graphene and / or nano graphite layer and an electrode or electrode contact formed using such paste or slurry do.
금속 분말을 사용하여 전기 전도성 전극용 페이스트 또는 슬러리를 제조하는 방법과, 이를 이용하여 전극 또는 전극 컨택을 제조하는 방법은 당업계에 공지되어 있으므로, 본 명세서에서는 그에 대한 자세한 설명을 생략한다.A method of manufacturing a paste or slurry for an electrically conductive electrode by using a metal powder and a method of manufacturing an electrode or an electrode contact using the metal powder are well known in the art, so a detailed description thereof will be omitted herein.
이러한 전극 또는 전극 컨택은 다양한 전자 부품에 사용된다. 상기 전자 부품은 정보 디스플레이 소자, 정보 디스플레이 소자용 터치 패널, 태양광 소자, 세라믹 적층 캐패시터(Multi-Layer Ceramic Capacitor), Chip Varistor, LED, RFID, 전자 패키지 등을 포함하는 바, 여기서 정보 디스플레이 소자는 특별히 한정되지는 않지만 평판 디스플레이 소자인 것이 바람직하고, 상기 평판 디스플레이 소자의 비제한적인 예로 LCD, PDP, OLED 등을 들 수 있다.Such electrodes or electrode contacts are used in various electronic components. The electronic component includes an information display device, a touch panel for an information display device, a photovoltaic device, a multi-layer ceramic capacitor, a chip varistor, an LED, an RFID, an electronic package, But is not limited to, a flat panel display device, and examples of the flat panel display device include LCDs, PDPs, OLEDs, and the like.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 다층 그래핀 및/또는 나노 그라파이트 층으로 코팅된 금속 분말은 대기중의 반응 가스 또는 수용액에 대해 반응성이 높은 금속 분말을 격리시켜 보호함으로써, 금속 분말의 안정성이 획기적으로 개선되어 산화 반응, 수화 반응, 카보네이트 형성 반응 등을 억제할 수 있고, 각종 전자 부품 및 소자에서 고가의 Ag 금속을 저가의 금속 재료로서 대체할 수 있어 제조 원가를 크게 절감할 수 있다는 효과가 있다.As described above, the metal powder coated with the multi-layered graphene and / or nano-graphite layer according to the present invention isolates and protects the metal powder having high reactivity with respect to the reaction gas or aqueous solution in the atmosphere, The oxidation reaction, the hydration reaction, the carbonate formation reaction, and the like can be suppressed, and the expensive Ag metal can be substituted as a low-cost metal material in various electronic parts and devices, and the manufacturing cost can be greatly reduced have.
도 1은 다층 그래핀층으로 코팅된 금속 분말의 모식도이다;
도 2는 고온 CVD법에 의하여 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 금속 분말에 코팅하는 공정을 나타낸 모식도이다;
도 3는 금속 분말의 표면에 탄화수소 가스의 분해 반응을 촉진시킬 수 있는 촉매층이 코팅된 복합 분말의 모식도이다;
도 4는 고온 CVD법으로 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 금속 분말에 코팅할 때, 분말간의 소결을 방지하기 위하여 사용 가능한 회전 반응로의 모식도이다;
도 5는 고온 CVD법으로 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 금속 분말에 코팅할 때, 분말간의 소결을 방지하기 위하여 사용 가능한 유동상 반응로의 모식도이다;
도 6은 다층 그래핀이 코팅된 분말을 파단시켰을 때, 그래핀이 금속 분말로부터 이탈된 형상을 보여주는 전자 현미경 사진이다;
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 다층 그래핀이 Ni 분말의 입자 표면에 코팅된 Ni 분말과 코팅되지 않은 Ni 분말의 TGA 분석 결과이다.1 is a schematic diagram of a metal powder coated with a multilayer graphene layer;
2 is a schematic view showing a process of coating a multilayer graphene or nano-graphite layer on a metal powder by high-temperature CVD;
3 is a schematic view of a composite powder coated with a catalyst layer capable of promoting the decomposition reaction of hydrocarbon gas on the surface of a metal powder;
4 is a schematic diagram of a rotating reaction furnace that can be used to prevent sintering between powders when coating multi-layer graphene or nano-graphite layers with metal powder by high temperature CVD;
5 is a schematic diagram of a fluidized bed reactor that may be used to prevent sintering between powders when coating multi-layer graphene or nano-graphite layers with metal powder by high temperature CVD;
6 is an electron micrograph showing a shape in which graphene is separated from a metal powder when the powder coated with the multilayer graphene is fractured;
FIG. 7 is a TGA analysis result of a Ni powder coated on a particle surface of Ni powder and an Ni powder not coated according to another embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상술하지만, 본 발명의 범주가 그것에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings according to the embodiments of the present invention, but the scope of the present invention is not limited thereto.
도 1에는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 나노 그래핀 층이 코팅된 금속 분말의 단면 모식도가 도시되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view of a metal powder coated with a nano-graphene layer according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 금속 분말의 표면에 층 수가 5개 미만인 다층 그래핀 또는 층 수가 5개 이상 내지 100개 미만인 나노 그라파이트 층이 코팅되어 있다. 상기 금속 분말은 특별히 한정되지 않지만 정보 디스플레이 소자, 터치 패널, 태양광, 세라믹 적층 콘덴서, RFID, 유연 인쇄 기판, 전자 패키지 등을 포함하는 다양한 전기 부품 및 소자에 적용되는 전극 또는 전극 컨택을 제조하기 위한 전구체로서 사용이 가능한 금속이면 어느 것이라도 사용이 가능하며, 예를 들어, 전기 전도성이 우수하고, 재료의 가격이 저렴한 Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe, Co 등 또는 이들의 선택적인 합금을 포함한 다양한 재료가 사용되는 것이 가능하다.Referring to FIG. 1, the surface of the metal powder is coated with multilayer graphene having a number of layers less than 5 or a nanographite layer having 5 or more and less than 100 layers. The metal powder is not particularly limited, but may be a metal powder for manufacturing an electrode or an electrode contact applied to various electric parts and devices including information display devices, touch panels, solar cells, ceramic multilayer capacitors, RFID, flexible printed substrates, For example, Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn, Ag, Ni, Fe, Co, etc., which are excellent in electric conductivity and low in cost, can be used as the precursor Or a variety of materials including their selective alloys can be used.
도 2에는 금속 분말의 표면에 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트를 고온 CVD 공정으로 코팅할 때의 공정 단계를 모식적으로 도시되어 있다.FIG. 2 schematically shows process steps of coating multi-layer graphene or nano-graphite on the surface of a metal powder by a high-temperature CVD process.
우선, 금속 분말을 반응기에 장입하고, 반응기 내부를 진공 펌프로 배기하여, 반응기 내부에 존재하는 산소 가스의 분압을 이들이 금속 분말을 산화시키지 않은 정도의 낮은 분압으로 낮추거나, 또는 반응기 내부에 불활성 가스 또는 환원 가스를 지속적으로 흘려주어 산소 가스를 반응기 내부로부터 제거(purging)하여, 적어도 이들 가스의 분압이 금속 분말을 산화 또는 질화시키지 않은 정도로 낮춘다.First, the metal powder is charged into a reactor, and the inside of the reactor is evacuated by a vacuum pump to lower the partial pressure of the oxygen gas present in the reactor to a low partial pressure that does not oxidize the metal powder, Or reducing gas is continuously purged by purging the oxygen gas from the inside of the reactor so that the partial pressure of at least these gases does not oxidize or nitrify the metal powder.
반응기 내부의 산소의 적정 분압은 금속 분말의 종류에 따라 달라지는데, 산화물의 형성 에너지가 비교적 낮은 Cu 분말의 경우, 10-3 torr 이하로 유지하는 것이 바람직하고, Al 분말과 같이 산화물의 형성 에너지가 높은 재료에 있어서는 10-6 torr 이하로 유지하는 것이 바람직하다.The optimum partial pressure of oxygen in the reactor depends on the kind of the metal powder. In the case of the Cu powder having a relatively low formation energy of the oxide, it is preferable to maintain the partial pressure of 10 -3 torr or less, and the formation energy of the oxide In the case of the material, it is desirable to keep it at 10 -6 torr or less.
이와 같은 진공 배기 또는 상압 퍼징에 의해, 반응기내의 산소 분압이 바람직한 수치 이하로 저하되면, 반응기 내부에 Ar-H2 또는 N2-H2 등과 같은 환원 가스를 공급하고, 온도를 증가시켜 반응 온도까지 증가시킨다. 이때 승온 과정에서 금속 분말의 환원 반응이 발생하여, 금속 분말 표면에 존재하는 산화물이 환원되어야 한다. 따라서, 승온 속도는 금속 분말 표면의 산화 상태, 분말의 종류에 따라 1℃/min 내지 30℃/min의 범위 내에서 적절한 조건을 선정하게 된다.When the partial pressure of oxygen in the reactor is lowered to a desired value or less by such vacuum evacuation or atmospheric pressure purging, a reducing gas such as Ar-H 2 or N 2 -H 2 is supplied into the reactor and the temperature is increased to the reaction temperature . At this time, the reduction reaction of the metal powder occurs during the heating process, and the oxide present on the surface of the metal powder must be reduced. Therefore, the temperature raising rate is appropriately selected within the range of 1 占 폚 / min to 30 占 폚 / min depending on the oxidation state of the surface of the metal powder and the kind of the powder.
금속 분말이 가열되어 반응 온도에 도달하게 하면, 그래핀과 나노 그라파이트의 원료인 탄화수소 가스와 수소 가스를, 캐리어(carrier) 가스로서 불활성 가스인 아르곤 또는 비활성 가스인 질소 가스를 사용하여, 반응 챔버 내로 공급한다. 상기 탄화수소 가스로는 메탄(CH4), 에탄(C2H6), 프로판(C3H8), 부탄(C4H10), 에틸렌(C2H4), 프로필렌(C3H6) 등을 포함하는 가스가 사용 가능하나, 반응 온도에서 금속 분말의 표면에서 분해 반응이 발생하여 탄소가 금속 분말의 표면에 증착되는 가스 또는 액체는 모두 사용이 가능하다.When the metal powder is heated and reaches the reaction temperature, hydrocarbon gas and hydrogen gas, which are the raw materials of graphene and nano graphite, are introduced into the reaction chamber by using argon, which is inert gas or nitrogen gas, which is inert gas, as a carrier gas Supply. The hydrocarbon gas is methane (CH 4), ethane (C 2 H 6), propane (C 3 H 8), butane (C 4 H 10), ethylene (C 2 H 4), propylene (C 3 H 6), etc. Can be used. However, gas or liquid in which carbon is deposited on the surface of the metal powder due to decomposition reaction at the surface of the metal powder at the reaction temperature can be used.
반응 온도는 금속 분말의 표면에서 탄화수소 가스의 분해 반응이 선택적으로 발생하는 온도 범위가 바람직하다. 상기 반응 온도는 탄화수소 가스의 종류 및 금속 분말의 분해 반응에 대한 촉매 성능에 의해 좌우되는 바, 예를 들어, Ni 금속 분말의 경우, 메탄 가스를 사용하였을 때 500℃ 내지 1100℃의 온도 범위에서 분해 반응이 활발하게 발생하므로, 600℃ 내지 950℃의 온도 범위가 바람직하다.The reaction temperature is preferably a temperature range in which the decomposition reaction of the hydrocarbon gas is selectively generated on the surface of the metal powder. The reaction temperature depends on the kind of the hydrocarbon gas and the catalytic performance for the decomposition reaction of the metal powder. For example, in the case of the Ni metal powder, when the methane gas is used, decomposition is carried out in a temperature range of 500 ° C. to 1100 ° C. Since the reaction is actively generated, a temperature range of 600 ° C to 950 ° C is preferable.
금속 분말 표면에 형성되는 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층의 두께는 탄화수소 가스의 분해 반응으로 생성된 탄소가 금속 분말 내로 고용되는 양에 의해 좌우된다. 탄소가 고용된 금속 분말을 반응 온도로부터 냉각하면, 과포화된 탄소가 금속 분말의 표면에 석출되어 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 형성된다. 따라서, 반응 온도에서 시편의 유지 시간이 증가되면, 금속 분말의 표면에서 탄화수소가 분해 반응을 겪으면서 분말 내부로 확산되는 양이 증가하기 때문에 다층 그래핀 및 나노 그라파이트 층의 두께가 증가된다. Ni 금속 분말을 메탄 가스 분위기에서 반응 온도 850℃인 공정 조건에서 유지 시간을 5분에서 30분까지 증가시키게 되면, 코팅층의 두께는 그래핀 층의 개수가 2개 내지 5개의 범위인 나노 그래핀에서 그래핀 층의 개수가 100여개인 나노 그라파이트까지 그의 두께가 증가된다.The thickness of the multilayer graphene or nanographite layer formed on the surface of the metal powder depends on the amount of carbon generated by the decomposition reaction of the hydrocarbon gas into the metal powder. When the carbon-solidified metal powder is cooled from the reaction temperature, supersaturated carbon precipitates on the surface of the metal powder to form a multilayer graphene or nano-graphite layer. Therefore, as the holding time of the specimen increases at the reaction temperature, the thickness of the multilayer graphene and nanographite layer increases because the amount of diffusion of the hydrocarbon into the powder increases due to the decomposition reaction of the hydrocarbon at the surface of the metal powder. If the Ni metal powder is increased in the methane gas atmosphere at a reaction temperature of 850 ° C for 5 minutes to 30 minutes, the thickness of the coating layer may vary from 2 to 5 in terms of the number of graphene layers The thickness of the nanographite is increased up to 100 graphene layers.
한편, 반응 온도에서 탄화수소 가스의 분압(partial pressure)은 탄화수소 가스의 분해 반응 및 금속 분말 내로의 탄소 고용량에 영향을 미친다. 탄화수소 가스의 분압이 증가함에 따라 금속 표면의 탄소 농도가 증가되고, 고용되는 탄소의 양이 증가하게 된다. 우수한 특성의 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트를 형성하기 위해서는, 탄화수소의 분압은 금속 표면에서 분해 반응으로 생성된 탄소 농도가 반응 온도에서 금속 분말의 고용 한계 농도와 동일하거나 그 이하인 것이 바람직하다. Ni 금속 분말의 표면에 메탄 가스를 탄화수소원으로 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층을 850℃에서 코팅을 하는 경우, 메탄 가스의 분압은 5 torr 내지 200 torr의 범위가 바람직하다.On the other hand, the partial pressure of the hydrocarbon gas at the reaction temperature influences the decomposition reaction of the hydrocarbon gas and the high carbon content into the metal powder. As the partial pressure of the hydrocarbon gas increases, the carbon concentration on the metal surface increases and the amount of carbon employed increases. In order to form multi-layer graphene or nanographite of excellent characteristics, it is preferable that the partial pressure of hydrocarbons is such that the carbon concentration generated by the decomposition reaction at the metal surface is equal to or lower than the solubility limit concentration of the metal powder at the reaction temperature. When a multilayer graphene or nano graphite layer is coated with methane gas on the surface of the Ni metal powder at a temperature of 850 占 폚, the partial pressure of methane gas is preferably in the range of 5 torr to 200 torr.
한편, 금속 분말 중에 Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn 등은 탄화수소 가스의 분해 반응에 대한 촉매 기능이 약하거나, 촉매 기능이 없다. Cu 분말의 경우, 분해 반응에 대한 촉매 성능은 보유하고 있으나, 탄소에 대한 고용 한계가 작기 때문에, 다층 그래핀층을 형성하는 것은 가능하지만, 두께가 두꺼운 나노 그라파이트 층을 형성하는 것이 곤란하다. 이에 비하여 Al, Cr, Mo, W, Zn 등은 탄화수소 가스의 분해 반응에 대한 촉매 기능이 없어서, 이들 금속 분말의 표면에 CVD법을 이용하여 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 코팅층을 형성하기가 어렵다.On the other hand, in the metal powder, Cu, Al, Cr, Mo, W, Zn and the like have weak catalytic function for the decomposition reaction of the hydrocarbon gas or have no catalytic function. In the case of the Cu powder, although the catalyst performance for the decomposition reaction is retained, since the solubility limit for carbon is small, it is possible to form a multilayer graphene layer, but it is difficult to form a thick nano graphite layer. On the other hand, Al, Cr, Mo, W, Zn and the like have no catalytic function for the decomposition reaction of hydrocarbon gas, and it is difficult to form multilayer graphene or nano graphite coating layer on the surfaces of these metal powders by CVD.
이와 같은 Al, Cr, Mo, W, Zn 등의 표면에는, 탄화수소 가스의 분해 반응에 대한 촉매 특성이 우수하고, 탄소에 대한 용해도가 충분히 높아서 요구되는 코팅층의 두께를 얻을 수 있는 천이 금속 촉매 금속 원소인 Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re, Ir 등의 금속층을 도 3과 같이 형성하여 이들을 통하여 다층 그래핀 및 나노 그라파이트 층을 형성하는 것이 가능하다. 이러한 코어-쉘 구조에서, 금속 코팅층(쉘)의 두께는 기지 금속(코어)의 반경 대비 0.001배 내지 0.5배의 범위를 가지는 것이 바람직하며, 0.001 내지 0.1배의 범위가 더욱 바람직하다.The surface of such Al, Cr, Mo, W, Zn and the like is provided with a transition metal catalyst metal element which is excellent in catalytic properties for the decomposition reaction of hydrocarbon gas and has a sufficiently high solubility to carbon, It is possible to form metal layers such as Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re and Ir as shown in FIG. 3 to form multilayer graphene and nano graphite layers therebetween. In such a core-shell structure, the thickness of the metal coating layer (shell) is preferably 0.001 to 0.5 times the radius of the base metal (core), more preferably 0.001 to 0.1 times.
다시 도 2를 참조하면, 고온의 반응 온도에서 탄소가 고용된 금속 분말은 상온까지 냉각시키면, 금속 분말의 표면에 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층이 석출하여, 코팅층이 형성된다. 이때, 시료의 냉각 온도 프로파일은 반응 온도에서 상온까지 직접 냉각시키거나, 또는 도 2에 점선으로 나타낸 것과 같이 일정 유지 온도에서 유지한 후, 상온까지 냉각시키는 방법을 사용하는 것도 가능하다.Referring again to FIG. 2, when the carbon powder-solidified metal powder is cooled to a room temperature at a high reaction temperature, a multi-layered graphene or nano-graphite layer is deposited on the surface of the metal powder to form a coating layer. At this time, it is also possible to use a method in which the cooling temperature profile of the sample is cooled directly from the reaction temperature to room temperature, or maintained at a constant holding temperature as shown by the dotted line in Fig. 2, and then cooled to room temperature.
이 단계에서 시료의 냉각 속도는 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층의 두께에 영향을 미치는데, 냉각 속도가 빠를 경우에는 금속 분말내에 고용되어 있던 탄소가 금속 분말 표면으로 확산하는 시간을 단축시키기 때문에 형성되는 코팅층의 두께가 감소된다. 이에 비해서 시료의 냉각 속도를 느리게 하거나, 냉각 과정 중에 일정 온도에서 유지시키면, 금속 분말내에 고용되었던 탄소가 표면으로 확산하여 석출할 수 있는 시간을 제공하기 때문에, 다층 그래핀 또는 나노 그라파이트 층의 두께가 증가하게 된다.At this stage, the cooling rate of the sample affects the thickness of the multilayer graphene or nano-graphite layer. When the cooling rate is high, the time required for the carbon dissolved in the metal powder to diffuse to the surface of the metal powder is shortened, The thickness of the coating layer is reduced. On the other hand, when the cooling rate of the sample is slowed or maintained at a constant temperature during the cooling process, since the carbon dissolved in the metal powder provides a time for diffusing and precipitating to the surface, the thickness of the multilayer graphene or nano- .
다층 그래핀 또는 나노 그라파이트를 형성하기 위한 시편의 냉각 속도는 0.1℃/min 내지 20℃/min의 범위인 것이 바람직하며, 1℃/min 내지 5℃/min의 범위에서 냉각시키는 것이 우수한 특성을 가진 코팅층을 얻기 위해서 더욱 바람직하다. 냉각 과정에서 유지 온도는, 반응 온도보다 낮고, 탄소가 금속 분말내에서 충분히 빠르게 확산될 수 있는 온도를 설정하는 것이 필요하므로, 바람직하게는 200℃ 내지는 500℃ 범위, 더욱 바람직하게는 300℃ 내지 400℃의 범위에서 유지하는 것이 열역학적으로 안정적인 코팅층을 얻게 된다.The cooling rate of the specimen for forming multilayer graphene or nano graphite is preferably in the range of 0.1 占 폚 / min to 20 占 폚 / min, and cooling in the range of 1 占 폚 / min to 5 占 폚 / min is preferable It is more preferable to obtain a coating layer. The holding temperature in the cooling process is preferably 200 占 폚 to 500 占 폚, more preferably 300 占 폚 to 400 占 폚, since it is necessary to set the temperature at which the carbon can be diffused sufficiently fast in the metal powder, Lt; 0 > C to obtain a thermodynamically stable coating layer.
금속 분말을 고온의 환원성 분위기에서 유지시키면, 분말들 간의 접촉 부위에서 소결이 발생되고, 이는 코팅된 분말의 사용 성능을 저하시키는 원인이 된다. 고온의 환원성 분위기에서 금속 분말의 표면에서는 산화물이 제거되고, 이에 따라 표면의 원소 확산이 활발하게 발생하여 분말들 간의 접촉 부위에서 소결이 촉진된다. 소결된 분말을, 예를 들어, 유기 용액과 혼합하여 제조된 페이스트 또는 슬러리는 후막의 두께 균일도, 도포 성능 및 속도, 충진 특성이 악화되어, 제조된 전극 패턴 또는 전극 컨택 패턴의 전기 전도도를 저하시키는 원인이 된다. 이들 금속 분말이 서로 접촉하여 소결되는 것을 방지하기 위하여, 도 4에 나타낸 것과 같은 고온 CVD 반응로를 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 즉, 반응 용기를 회전시키면서, 내부에 금속 분말이 고온의 반응 온도에서 지속적으로 유동되는 상태를 유지시킴으로써, 분말간의 소결이 발생하지 않도록 한다.When the metal powder is maintained in a reducing atmosphere at a high temperature, sintering occurs at the contact portion between the powders, which causes the use performance of the coated powder to deteriorate. The oxide is removed from the surface of the metal powder in a reducing atmosphere at a high temperature, so that element diffusion on the surface is actively generated, thereby promoting sintering at the contact portion between the powders. The paste or slurry prepared by mixing the sintered powder with, for example, an organic solution has problems such as uniformity of the thickness of the thick film, poor coating performance and speed, and filling property, which may deteriorate the electrical conductivity of the prepared electrode pattern or electrode contact pattern It causes. In order to prevent these metal powders from contacting and sintering, it may be preferable to use a high temperature CVD reactor as shown in Fig. That is, while the reaction vessel is being rotated, the metal powder is maintained in a state where the metal powder continuously flows at a high reaction temperature, thereby preventing sintering between powders.
고온의 반응 온도에서 금속 분말간의 소결을 방지할 수 있는 또 다른 방법은, 반응 가스 및 캐리어 가스에 의하여 금속 분말을 부유시켜, 분말들이 접촉하지 않도록 함으로써 소결을 억제하는 방법이다. 예를 들어, 도 5에 나타낸 유동상 반응 장치를 이용하여, 하부로부터 유입되는 반응 가스와 캐리어 가스에 의하여 분말이 부유되어 가열된 상태에서 탄화수소 가스의 분해 반응이 금속 분말의 표면에서 발생하도록 한다. 이러한 가스 유동법 이외의 방법으로, 초음파 진동자 또는 기계적 진동자를 이용하여, 분말을 지속적으로 유동하도록 함으로써 소결을 방지하는 방법이 사용될 수도 있다.Another method of preventing sintering between metal powders at a high temperature reaction temperature is to suspend the metal powder by the reaction gas and the carrier gas to inhibit sintering by preventing the powders from contacting each other. For example, by using the fluidized bed reaction apparatus shown in FIG. 5, the decomposition reaction of the hydrocarbon gas is generated on the surface of the metal powder in a state where the powder is suspended and heated by the reaction gas and the carrier gas introduced from below. In a method other than the gas flow method, a method of preventing the sintering by using an ultrasonic vibrator or a mechanical oscillator to flow the powder continuously may be used.
도 6은 상기의 도 4의 제조 공정으로 다층 그래핀이 코팅된 Ni 분말에 외력을 인가하여 파단시킨 분말의 외형을 주사 전자 현미경으로 관찰하여 나타낸 사진이다.FIG. 6 is a photograph showing an external shape of a powder broken by applying an external force to Ni powder coated with multilayer graphene in the manufacturing process of FIG. 4 by scanning electron microscope.
도 6을 참조하면, Ni 분말(진한 흰색)의 외부에 그래핀이 관찰되는 것을 볼 수 있다. 즉, Ni 금속 분말이 외력에 의해서 소성 연신 변형에 의하여 파단될 때, 다층 그래핀 층이 파단되어, 코팅층의 일부가 풀려져 분말 표면에 붙어있는 형태를 보여 준다. 도 6에서 보듯이, 고온 CVD법을 통해 독립된 금속 분말의 표면에 다층 그래핀이 형성될 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 6, it can be seen that graphene is observed outside the Ni powder (deep white). That is, when the Ni metal powder is fractured by plastic deformation due to external force, the multi-layered graphene layer is broken, and a part of the coating layer is loosened and attached to the surface of the powder. As shown in FIG. 6, it can be seen that the multi-layer graphene can be formed on the surface of the independent metal powder through the high-temperature CVD method.
도 7은 이와 같이 다층 그래핀이 코팅된 Ni 분말을 산소 분위기에서 가열하면서 무게 변화를 측정하는 열 중량 분석법(Thermogravimetric Analysis)을 이용하여, 다층 그래핀 코팅층의 내산화 저항성의 개선 효과를 측정한 결과이다.FIG. 7 is a graph illustrating the effect of improving the resistance to oxidation of a multi-layered graphene coating layer by using a thermogravimetric analysis in which the Ni powder coated with the multilayer graphene is heated in an oxygen atmosphere to be.
도 7에서 보면 코팅을 하지 않은 Ni 분말 대비, 다층 그래핀이 코팅된 Ni 분말의 무게 증가가 높은 온도에서 발생하는 것을 볼 수 있다. 여기서 분말 무게의 증가는 대기중의 산소 가스와 Ni 분말과의 산화 반응이 발생하기 때문이다. 2%의 무게 증가를 기준으로 보면, Ni 분말은 약 440℃, 다층 그래핀이 코팅된 분말은 590℃로 측정되었는데, 이는 다층 그래핀층이 대기중의 산소와 Ni 금속과의 접촉을 차단하고, 이것이 내산화성을 증가시키는데 기여한 것으로 판단된다. 결국 본 제조 공정을 통하여 형성된 다층 그래핀 및 나노 그라파이트 코팅층은 금속 분말이 높은 온도까지 내산화성을 유지 할 수 있음을 보여주고 있다.7, it can be seen that the weight increase of the multi-layer graphene-coated Ni powder occurs at a higher temperature than the uncoated Ni powder. Here, the increase of the powder weight is due to the oxidation reaction between the oxygen gas in the atmosphere and the Ni powder. Based on the weight increase of 2%, the Ni powder was measured at about 440 ° C and the multi-layer graphene-coated powder at 590 ° C, which prevented the contact between oxygen and Ni metal in the atmosphere, This is considered to contribute to increase the oxidation resistance. As a result, the multilayer graphene and nano graphite coating layer formed through the present manufacturing process shows that the metal powder can maintain the oxidation resistance up to a high temperature.
본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다. 따라서, 상기 내용은 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범주가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. Accordingly, the above description is intended to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.
Claims (13)
Al, Cr, Mo, Ag, W 및 Zn로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 성분을 포함하고 있거나 또는 둘 이상의 성분들의 합금을 포함하는 코어(core); 및
Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re 및 Ir로 이루어진 군에서 선택되는 천이 금속 촉매 원소가 상기 코어의 외면에 도포된 쉘(shell);
을 포함하고 있는 코어-쉘 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속 분말.The method according to claim 1,
A core comprising one element selected from the group consisting of Al, Cr, Mo, Ag, W and Zn, or containing an alloy of two or more elements; And
A shell on which an outer surface of the core is coated with a transition metal catalyst element selected from the group consisting of Ni, Co, Pt, Pd, Ru, Re and Ir;
And a core-shell structure including the core-shell structure.
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