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KR101428125B1 - 플렉서블 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이의 생산 방법 - Google Patents

플렉서블 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이의 생산 방법 Download PDF

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KR101428125B1
KR101428125B1 KR1020097019252A KR20097019252A KR101428125B1 KR 101428125 B1 KR101428125 B1 KR 101428125B1 KR 1020097019252 A KR1020097019252 A KR 1020097019252A KR 20097019252 A KR20097019252 A KR 20097019252A KR 101428125 B1 KR101428125 B1 KR 101428125B1
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backplane
front plane
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electro
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프레드리쿠스 요하네스 타우슬러거
에릭 반 비넨달
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크리에이터 테크놀로지 비.브이.
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Abstract

본 발명은 백플레인(backplane)(44)의 맨 위(top)에 배치되는 프론트플레인(frontplane)(42)을 포함하는 플렉서블 디스플레이(flexible display)(40)에 관한 것이다. 바람직하게는, 상기 프론트플레인(44)은 상기 백플레인(42)의 맨 위에 라미네이트(laminate) 된다. 상기 플렉서블 디스플레이(40)는 더 나아가 본딩 영역(bonding area)(48)을 포함한다. 본 발명에 따르면 상기 프론트플레인(44)은 실질적으로 상기 본딩 영역 (48)에 일치하는 영역(area)(46)을 넘어서 확장된다. 바람직하게는, 상기 본딩 영역에 있는 프론트플레인(48)은 상기 전자 화소(electronic pixel)의 어레이에 및/또는 상기 전기-광학 요소의 어레이에 연결성을 가능하게 하기 위한 적절한 전기적 접촉의 배치(arrangement)를 위한 스페이싱(spacings)(47)을 포함한다. 스페이싱(47)은 상기 본딩 영역 (48)의 맨 위에 유일한(sole) 스페이싱을 형성하기 위해 각각이 서로 연결되거나 개별적으로 배치되는 임의의 적절한 형상을 가질 수 있다.
플렉서블 디스플레이

Description

플렉서블 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이의 생산 방법{A FLEXIBLE DISPLAY AND A METHOD OF PRODUCING A FLEXIBLE DISPLAY}
본 발명은 플렉서블 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이의 생산 방법에 관한 것이다.
플렉서블 디스플레이의 실시예는 WO 2006/061786A1를 통해 알려져 있다. 상기 알려진 플렉서블 디스플레이는 상기 디스플레이의 전기 광학 셀이 위치하고 있는 프론트플레인과 일렉트로닉스(electronics)를 구동하기 위한 컨덕터(conductor)와 화소 전극(pixel electrodes)의 어레이를 가진 백플레인의 조립체를 포함한다.
본 발명은 플렉서블 디스플레이에 있어서,
기판(substrate) 및 전자 화소(electronic pixels)의 어레이(array)를 포함하는 백플레인;
기판 및 전기-광학 요소(electro－optic elements)의 어레이를 포함하는 프론트 플레인 －상기 프론트 플레인은 상기 백플레인 위에 놓여지고, 상기 프론트플레인의 영역은 실질적(substantially)으로 백플레인의 영역과 일치함 －;
상기 전자 화소의 어레이 및/또는 상기 전기-광학 요소의 어레이에 연결성을 가능하게 하기 위해 배치되는 본딩 영역을 포함하는 플렉서블 디스플레이에 관한 것이다.
본 발명은 또한 플렉서블 디스플레이를 생산하는 방법에 있어서,
전자 화소의 어레이가 배치된 백플레인을 제공하는 단계;
전기-광학 요소의 어레이를 포함하는 프론트플레인 - 상기 프론트플레인의 영역은 실질적으로 상기 백플레인의 영역과 일치함 - 을 제공하는 단계;
상기 전자 화소의 어레이 및/또는 상기 전기-광학 요소의 어레이에 연결성을 가능하게 하기 위한 본딩 영역을 제공하는 단계를 포함하는 플렉서블 디스플레이를 생산하는 방법에 관한 것이다.
앞서 설명한 것과 같은 플렉서블 디스플레이의 실시예는 WO 2006/061786A1를 통해 알려져 있다. 상기 알려진 플렉서블 디스플레이는 상기 디스플레이의 전기 광학 셀이 위치하고 있는 프론트플레인과 일렉트로닉스(electronics)를 구동하기 위한 컨덕터(conductor)와 화소 전극(pixel electrodes)의 어레이를 가진 백플레인의 조립체를 포함한다. 일렉트로포레틱　액티브 매트릭스 디스플레이(Electrophoretic active matrix display)는, 예를 들어, 액티브 매트릭스 백플레인(active matrix backplane)과 일렉트로포레틱 프론트플레인(Electrophoretic frontplane)을 가질 수 있다. 상기 알려진 플렉서블 디스플레이는 전자 화소의 어레이 및/또는 전기-광학 요소의 어레이에 연결성을 가능하게 하기 위해 배치되는 본딩 영역을 더 포함한다.
상기 디스플레이 영역(display area) 바깥의 잔여영역(remaining area), 즉, 액티브 매트릭스(active matrix) 영역 바깥에 있는 영역은 기계적으로 유발된 손상에 매우 민감하다. 이 손상은 스크래치(scratch)에서부터 매우 얇은 포일(foil)의 사용에 의한 변형에 기인한 버클링(buckling)의 범위까지 해당될 수 있다. 상기 잔여영역은 스티프너(stiffener)를 사용하여 보호될 수 있다. 하지만, 보호되어야 할 이 영역에서 드라이버(drivers)와 플렉스 포일(flex foil)은 결합(bonded) 되어야 할 것이다. 그래서, 상기 프론트플레인에 대해서뿐만 아니라, 상기 본딩 영역에 대해서도 마찬가지로, 상기 스티프너의 정렬이 요구된다. 상기 스티프너 또한 배면(backside)에 배치될 수 있다는 점이 주목할 만하다.
본 발명의 목적은 기계적 스트레스 또는 손상에 대하여 향상된 내성(resistance)으로 인해 증가된 내구성을 가진 플렉서블 디스플레이를 제공하는 것이다.
이 때문에 본 발명에 따른 상기 플렉서블 디스플레이에서 상기 프론트플레인은 상기 디스플레이 영역 바깥의 백플레인 영역의 한 지역으로 확대된다.
바람직하게는, 상기 프론트플레인은 전기학상으로 도전 라인(conducting lines)이 존재하는 영역 또는 영역의 한 지역으로 확대된다. 본 발명의 기술적 측정은 개별적 조정된(separate aligned) 라미네이션(lamination) 단계에 대한 필요성이 상기 디스플레이 영역 바깥의 상기 백플레인 영역의 인근에 상기 프론트플레인 기판을 확장함으로써 방지될 수 있다는 통찰(insight)에 기초한 것이다. 바람직하게는, 상기 프론트플레인은 상기 본딩 영역의 범위에 확대된다.
본 발명에 따른 상기 플렉서블 디스플레이는 다음과 같은 장점을 갖는다:
- 상기 디스플레이 영역의 바깥 상기 백플레인 영역이 조밀해(stiffer) 질수록, 상기 디스플레이 자체를 두껍게 만들지 않고도 강한 지역 변형에 대하여 보호를 주고 이리하여 버클의 변형을 방지한다.
- (거의) 모든 도전 리드(conducting leads)는 보호용 포일(protecting foil)로 커버된다 (레이어들(layers)의 스크래칭을 방지하기 위해).
- 상기 기판에 적용된 상기 레이어는, 이러한 레이어들에서 스트레스에 의해 유발된 고장을 완화하는 뉴트럴 라인(neutral line)에 더 가까이 있다.
- 어떤 여분의 라미네이션 단계도 요구되지 않는다.
- 어떤 여분의 정렬 단계도 요구되지 않는다.
본 발명에 따른 상기 플렉서블 디스플레이의 실시예에서, 스페이싱(spacings)은 상기 연결성을 가능하게 하거나, 드라이버와 IC’s를 결합하고, 전기적 접촉의 배치를 위한 상기 본딩 영역의 인근으로 확장된 프론트플레인의 영역으로 제공된다(spacings are provided the area of the frontplane expanded in the region of the bonding in area for arrangement of electrical contacts and bonding driver IC’s or enabling the said connectivity.).
바람직하게는, 상기 백플레인은 유기적 전자박막 트랜지스터(organic electronics thin-film transistors)를 포함하고, 상기 프론트플레인은 일렉트로포레틱 디스플레이(electrophoretic display)를 포함한다. 상기 일렉트로포레틱 디스플레이는 US2007/0018944 A1으로부터의 실시예 자체로 알려져 있으며, 이를 참고함으로써 더욱 구체화된다.
더욱 바람직하게는, 프론트플레인은 백플레인 위에 라미네이팅 된다.
더욱 바람직하게는, 각 화소(pixel)는 전용(dedicated)의 박막 트랜지스터와 함께 배치된다.
더욱 바람직하게는 상기 전자 화소의 어레이 및/또는 상기 전기-광학 요소의 어레이는 상기 각각의 어레이의 뉴트럴 라인에 인접하여 위치한 레이어를 포함한다. 이 위치는 이러한 레이어들에서 스트레스에 의해 유발된 고장을 줄인다.
액티브 매트릭스 회로(active matrix circuit)는 플렉서블 디스플레이 안으로 인티그레이트 될 수 있는 액티브 매트릭스 백플레인에서 결과로서 생기는 플라스틱 포일(plastic foil)에서 처리된다. 이 실시예는 도 1을 참조하여 더욱 상세히 논의된다. 전류 스택(current stack)은 고 도전성 게이트 레이어(highly conductive gate layer) (예를 들어, 금속 또는 산화 인듐-주석)로 유용성 있게 배열되고, 유기 절연체 레이어(organic insulator layer), 제 2도전 레이어(second conductive layer)와 유기 반도전성 레이어(organic semiconductivity layer)에 의해 뒤따르게 된다. 상기 유기 레이어는 스핀 코팅(spin-coating)의 그 자체로 알려진 방법에 의하여 유용성있게 침적(deposited)될 수 있다. 레이어들은 (예를 들어 대부분의 반도체와 컨덕터를 위해) 적절한 포토리쏘그라피(photolithography)를 이용하여, 예를 들어, 레이어의 진성 감광성(intrinsic photosensitivity)(예를 들어 절연체 레이어)을 이용하거나 포토레지스트(예를 들어, 대부분의 상기 반도체와 컨턱터를 위한)를 이용하여 패턴화될 수 있다.
본 발명은 또한 청구항 6에서 설명된 것과 같은 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 상기 방법에 대한 보다 더 유리한 실시예는 청구항 7, 8 및 9를 통해 설명된다.
본 발명의 여러 가지 양상은 도면을 참조하여 더 논의될 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 플렉서블 디스플레이의 액티브 매트릭스 회로의 실시예에 따른 개략도를 나타낸다.
도 2는 도 1의 액티브 매트릭스 화소의 등가 회로(equivalent circuit)의 실시예에 따른 개략도를 나타낸다.
도 3은 일렉트로포레틱 캡슐(electrophoretic capsule)의 실시예에 따른 개략도를 나타낸다.
도 4는 본 발명에 따른 플렉서블 디스플레이의 실시예에 대한 개략도를 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 플렉서블 디스플레이의 액티브 매트릭스 회로(10)의 실시예에 대한 개략도를 나타낸다. 오버레이(overlay) A는 개략적으로 화소 패드 (pixel pad)(3), 데이터 라인(data line)(1), 데이터 라인(data line)(4) 및 반도체(semiconductor)(2)를 묘사한다. 오버레이 A에서 표시된 라인 B를 가로질러 취해진, 섹션 B 는 - 상기 기판(6) 위에 게이트라인(4)가 배치된- 기판(6)을 개략적으로 묘사한다. 게이트 라인(4)은 적절한 절연체 레이어(5)에 의하여 데이터라인(1)과 화소 패드(3)로부터 전기적으로 분리된다. 상기 반도체(2)는 그렇게 형성 된 구조의 맨 위에 배치된다.
상기 액티브 매트릭스 회로는 플렉서블 디스플레이 안으로 인티그레이트 될 수 있는 AM백플레인에서 결과로서 생기는 플라스틱 포일에서 처리된다. 다양한 레이어들에 대하여 사용될 수 있는 가능한 머티리얼들(materials)은 표 1에 도시되었다. 상기 전류 스택은 고 도전성 게이트 레이어(highly conductive gate layer)에서 (예를 들어, 금속(metal) 또는 산화 인듐-주석(indium-tin oxide))에서 시작하여, 유기 절연체 레이어, 제 2도전 레이어 및 유기 반도전성 레이어에 의해 뒤따르게 된다. 유기 레이어(organic layer)는 스핀 코팅에 의해 침적된다. 레이어들은 포토리쏘그라피(photolithography)에 의해, 포토레지스트(photoresist)(예를 들어 대부분의 반도체와 컨덕터를 위한)의 사용에 의해 또는 레이어(예를 들어, 절연체 레이어)의 인트린직 포토센시티비티(intrinsic photosensitivity)의 사용에 의해 패턴화된다.
폴리머 일렉트로닉스를 가진 액티브 매트릭스 회로에 사용되는 물질들.
레이어(layer) 물질(Material)

기판(Substrate)*
폴리카보네이트(Polycarbonate), 폴리에틸렌 나프탈렌(Polyethylene naphtalene), ...

게이트 라인(Gate line)
금(Au), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 산화 인듐-주석(Indium-tin oxide)...

절연체 레이어(Insulator layer)
포토레지스트(photoresist): HPR504, SC100, BCB

데이터 라인/화소패드(Data line/Pixel pad)

금속(Metal) : 금(Au), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), ZnSnO3, 산화주석(SnO2):철(F), 은(Ag)

반도체(Semiconductor)
폴리-치에닐렌 비닐렌(Poly-(thienylene vinylene)), 펜타센(pentacene)...
* 다수의 베리어 레이어에 의해 씌워질 수 있는 베이스 물질
도 2는 도 1의 액티브 매트릭스 화소의 등가 회로(20)의 실시예에 대한 개략도를 나타낸다. 액티브 매트릭스 디스플레이는 한번에 한 행씩 드라이브(drive)된다. 한 프레임 시간 동안 모든 행(row)은 비 전도성(non-conducting)에서부터 통전 상태(conducting state)까지 TFTs를 변화시키는 전압을 적용함으로써 연속적으로 선택된다. 동작 시, 한 프레임 시간 동안 모든 행은 비 전도성에서부터 통전 상태까지 TFTs를 변화시키는 전압을 적용함으로써 연속적으로 선택된다. 이러한 라인 선택 시간에 상기 선택된 행의 상기 화소 캐패시터(즉, TFT의 드레인 측(drain side)에서의 전체 커패시턴스)는 컬럼 전극(column electrode)에 공급된 전압까지 차지된다. 잔여 프레임 시간 (즉, 보류 시간(hold time)) 동안 다른 행들이 어드레스(address)된다. 상기 TFTs는 그 후 그들의 비 전도성 상태에 있고 화소 캐패시터에 대한 차지(charge)는 유지되어야 한다. 이것은 TFT의 온 (on-)과 오프 전류(off-current)에 대한 엄격한 요구사항을 요구한다.
일렉트로포레틱 캡슐(electrophoretic capsule)을 가진 폴리머 일렉트로닉스 액티브 매트릭스 백플레인(polymer electronics active-matrix back planes)을 위해 통상의 전압은 -25 V의 열(row) 선택 전압, +25 V의 열(row) 비-선택 전압, -15 V와 +15 V 사이의 행(column) 전압 및 2.5 V의 공통 전극 전압(common electrode voltage)을 가진다. 이것들은 고전압 일렉트로포레틱 디스플레이 영향 및 폴리머 전자 장치가 비정질 실리콘 소자와 비교할 때 다소 높은 전압에서 구동되어야 한다는 사실 때문에, 상대적으로 높은 전압이 된다. LC 머티리얼 대신에 디스플레이 효과로 일렉트로포레틱 디스플레이를 사용하는 장점은 일렉트로포레틱 디스플레이가 바이-스테이블(bi-stable) 하다는 것이다. 어드레싱(Addressing)은 그러므로 단지 이미지 갱신 (~ 1 초) 동안 필요하고, 반면에 액티브 매트릭스는 이미지 갱신 사이에 정지하고 있는다. 도 2에 도시된 바와 같이 저장 캐패시터(storage capacitor)가 사용될 수 있다. 그것은 TFT 오프-전류에 대한 필요 조건이 너무 낮지 않도록 하기 위하여 사용된다.
도 3은 블랙 미세입자(black microparticles)(33)와 화이트 미세입자(white microparticles)(31)를 포함하는 E잉크 캡슐(33)의 실시예(30)에 대한 개략도를 나타낸다. 상기 캡슐(33)은 캡슐(33)에서 블랙 미세입자(33)와 화이트 미세입자(31)를 치환(displacing)하기 위한 공급 수단(35a, 35b)에 의한 특정한 외부 전압에 지배당한다. 일렉트로포레틱 E 잉크 디스플레이(electrophoretic E Ink display)에서 이미지 콘텐츠를 변경하기 위하여, 상기 새로운 이미지 정보는 일정 정도의 시간( 500 ms ∼ 1000 ms )동안 기록된다.
액티브 매트릭스의 리프레시 레이트는 일반적으로 높기 때문에, 많은 프레임들(예를 들어, 50 Hz의 프레임 레이트에서 25내지 50프레임) 동안 동일한 이미지 콘텐츠를 어드레싱 하는 결과를 얻는다. 화이트와 블랙 상태에 있는 E 잉크의 사진을 가진 E 잉크의 주성분(principle)에 대한 개략도가 도 3에 나타나 있다. 캡슐 D의 크기(dimension)는 약 20-40 마이크로미터이다. 블랙으로부터 화이트까지의 E 잉크의 어드레싱은, 예를 들면, 화소 캐패시터가 500 ms 내지 1000ms 동안 -15 V로 차지(charge)되도록 요구한다. 이 시간 동안 화이트 입자는 상부(top) (공통) 전극을 향해 흐르고(drift), 반면에 블랙 입자는 하부(bottom)(액티브 매트릭스 백플레인) 전극을 향해 흐른다. 블랙으로 전환하는 것은 양성 화소 전압(positive pixel voltage)을 요구하고, 화소에서 0V의 경우 E 잉크가 전환되지 않는다.
일렉트로포레틱 디스플레이 영향이 바이-스테이블하기 때문에, 백플레인은 이미지 갱신 동안만 구동될 필요가 있다. 이미지 갱신 사이에 상기 백플레인에서의 상기 화소 스위치는 구동(drive)되지 않는다. E 잉크를 위한 구동 전압은 표준 LC 효과와 비교할 때 상대적으로 높다. 액티브 매트릭스 백플레인 위의 폴리머 전자 소자(polymer electronics devices)는 그러므로 상대적으로 높은 전압으로 구동되어야 한다. 최적으로 기능하는 일렉트로포레틱 머티리얼(electrophoretic material)을 위해, 디스플레이가 사용될 수 있는 구체적인 습도 윈도우(humidity window)가 있다. 이 습도 윈도우 밖에서 전기 광학적 특성은 악화할 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 플렉서블 디스플레이의 실시예에 대한 개략도를 나타낸다. 상기 플렉서블 디스플레이(40)은 도 1과 관련하여 기술된 바와 같이 백플레인(44)을 포함한다. 상기 백플레인은 유기 또는 무기의 박막 트랜지스터(thin film transistor)를 포함할 수 있다. 플렉서블 디스플레이(40)는 또한 백플레인 (44)의 맨 위에 배치되는 프론트플레인(42)을 포함한다. 프론트플레인은 일렉트로포레틱 디스플레이를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 상기 프론트플레인(44)은 백플레인(42)의 맨 위에 라미네이트 된다. 플렉서블 디스플레이(40)는 또한 본딩 영역(48)을 포함한다. 프론트 플레인의 일부가 본딩 영역(48)의 한 지역에 배치되면, 바람직하게는 라미네이트 되면, 전체적 층상 구조(overall layered structure)의 지역 두께(local thickness)는 증가된다. 이것은 백플레인 기판 위에 적용되는 레이어들이 이러한 레이어들의 고장을 유발시키는 스트레스를 완화시키는 뉴트럴 라인에 더 가깝게 된다는 장점을 갖는다. 특히, 프론트플레인에 의해 커버되지 않는, 디스플레이에 전기적 연결성을 가능하게 하는데 사용되는 전기적 전도성 라인과 같은, 영역에서, 사용 시의 기계적 스트레스를 줄이는 뉴트럴 라인에 가까워진다. 본 발명에 따르면 프론트플레인(44)는, 실질적으로 현저하게 상기 본딩 영역(48)과 일치하는 디스플레이 영역의 바깥 영역(46)을 넘어 연장된다. 바람직하게는, 상기 본딩 영역의 근처의 프론트플레인(48)은 전자 화소의 어레이에 및/또는 전기-광학 요소의 어레이에 연결성을 가능하게 하기 위한 적절한 전기적 접촉의 배치를 위한 스페이싱(spacings)(47)을 포함한다. 상기 스페이싱(47)은 본딩 영역(48)의 맨 위에 유일한 스페이싱을 형성하기 위해 개별적으로 배치되거나 각각이 서로 연결되기에 적절한 임의의 형상을 가진다. 더 주목할만한 것은 상기 프론트플레인은 일렉트로포레틱 머티리얼에 의해 완전히 커버될 필요가 없다는 것이다. 기계적 스트레스에 대한 저항력을 향상시키기 위한 디스플레이 영역의 바깥 영역을 커버하기 위해 에지 씰(edge seal)로 알려진 그 자체를 사용하는 것으로 충분하다.
특정 실시예가 상기에 기술되기는 하였지만, 본 발명이 기술된 것과 다르게 실시될 수 있음을 인식할 수 있게 될 것이다. 상기의 기술은 제한하려는 것이 아니라, 실례를 들기 위해 의도된 것이다. 따라서,아래 기술된 청구항의 범위를 벗어나지 않는 앞서 기술된 것과 같은 변형이 본 발명에 가해질 수 있음은 해당 기술 분야의 통상의 기술을 가진 자들에게는 명백하다.
본 명세서 내에 포함되어 있음.

Claims (13)

  1. 플렉서블 디스플레이에 있어서,
    기판 및 전자 화소의 어레이를 포함하는 백플레인;
    기판 및 전기-광학 요소의 어레이를 포함하는 프론트플레인 - 상기 프론트플레인은 상기 백플레인 위에 놓여지고, 상기 프론트플레인의 영역은 상기 백플레인의 영역과 일치함 -; 및
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 적어도 하나에 연결성을 가능하게 하기 위해 배치되는 본딩 영역을 포함하고,
    상기 프론트플레인은 디스플레이 영역 밖의 백플레인 영역 부근으로 팽창하고,
    상기 연결성을 가능하게 하기 위한 전기적 접촉의 배치를 위해 상기 디스플레이 영역을 둘러싸는 상기 백플레인 영역의 부근까지 확대된 상기 프론트플레인의 영역에 복수의 스패이싱이 배치되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 프론트플레인은 적어도 본딩 영역의 근처에 팽창하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  3. 삭제
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 백플레인은 박막 트랜지스터를 포함하고 상기 프론트플레인은 일렉트로포레틱 디스플레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 프론트플레인은 상기 백플레인 위에 라미네이트 되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 상기 적어도 하나는 각각의 어레이의 뉴트럴 라인에 인접하게 위치한 레이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  7. 플렉서블 디스플레이의 생산 방법에 있어서,
    전자 화소의 어레이가 배치된 백플레인을 제공하는 단계;
    전기-광학 요소의 어레이를 포함하는 프론트플레인 - 상기 프론트플레인의 영역은 상기 백플레인의 영역과 일치함 - 을 제공하는 단계;
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 적어도 하나에 연결성을 가능하게 하기 위한 본딩 영역을 제공하는 단계를 포함하고,
    상기 연결성을 가능하게 하기 위한 전기적 접촉의 배치를 위해 상기 디스플레이 영역 바깥의 상기 백플레인 영역의 부근까지 확대된 상기 프론트플레인의 영역에 스패이싱을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 생산 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 백플레인와 상기 프론트플레인 중 적어도 하나의 각각의 레이어는 스핀 코팅에 의한 기판에 침적되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 생산 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 백플레인와 상기 프론트플레인 중 적어도 하나의 각각의 레이어는 포토리쏘그라피를 사용하여 패턴화되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 생산 방법.
  10. 제 2항에 있어서,
    상기 백플레인은 박막 트랜지스터를 포함하고 상기 프론트플레인은 일렉트로포레틱 디스플레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  11. 제 2항에 있어서,
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 상기 적어도 하나는 각각의 어레이의 뉴트럴 라인에 인접하게 위치한 레이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  12. 제 4항에 있어서,
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 상기 적어도 하나는 각각의 어레이의 뉴트럴 라인에 인접하게 위치한 레이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  13. 제 5항에 있어서,
    상기 전자 화소의 어레이와 상기 전기-광학 요소의 어레이 중 상기 적어도 하나는 각각의 어레이의 뉴트럴 라인에 인접하게 위치한 레이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
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