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KR101419748B1 - System for measuring total-pitch of optical film - Google Patents

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KR101419748B1
KR101419748B1 KR1020120107137A KR20120107137A KR101419748B1 KR 101419748 B1 KR101419748 B1 KR 101419748B1 KR 1020120107137 A KR1020120107137 A KR 1020120107137A KR 20120107137 A KR20120107137 A KR 20120107137A KR 101419748 B1 KR101419748 B1 KR 101419748B1
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South Korea
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optical film
film
filter
unit
optical
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KR1020120107137A
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Korean (ko)
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양명곤
박창석
이근유
우지훈
김민식
오정민
김상태
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 미리 결정된 속도로 주행하는 광학 필름의 총-피치를 측정하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 광학 필름이 접촉되어 주행할 수 있는 베이스 롤러; 베이스 롤러를 향해 광을 조사할 수 있는 조명 유니트; 베이스 롤러의 표면으로부터 반사되는 빛에 의해 광학 필름의 총-피치를 촬영할 수 있는 촬영 유니트; 및 조명 유니트와 촬영 유니트를 동시에 광학 필름의 폭 방향으로 왕복 이동시킬 수 있는 이송 유니트를 구비한다. The present invention relates to a system for measuring the total-pitch of an optical film traveling at a predetermined speed, comprising: a base roller capable of traveling in contact with an optical film; A lighting unit capable of irradiating light toward the base roller; A photographing unit capable of photographing the total-pitch of the optical film by the light reflected from the surface of the base roller; And a transport unit capable of reciprocating the light unit and the photographing unit in the width direction of the optical film at the same time.

Description

광학 필름의 총-피치 측정 시스템{System for measuring total-pitch of optical film}&Quot; System for measuring total-pitch of optical film "

우선권preference

본 발명은 인용에 의해 그 전체 내용이 본 명세서에 합체되는, 2012.5.24.자로 출원된 대한민국 특허출원 번호 제10-2012-0055180호의 'FPR 필름의 총-피치 측정 시스템'의 특허법 제55조 제1항의 우선권을 주장한다.
The present invention is based on Korean Patent Application No. 10-2012-0055180 filed on Feb. 24, 2012, the entire contents of which are incorporated herein by reference, in accordance with Article 55 of the Patent Law of the "FPR Film Total-Pitch Measurement System" 1.

본 발명은 광학 필름의 총-피치(total-pitch) 측정 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 예를 들어, FPR 필름과 같은 광학 필름의 총-피치가 기준치에 부합되는지 여부를 필름의 제조 과정 즉, 인-라인(In-line) 상에서 측정할 수 있는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to a total-pitch measuring system for optical films, and more particularly to a system for measuring the total-pitch of an optical film such as, for example, an FPR film, That is, the present invention relates to a total-pitch measurement system of an optical film that can be measured in-line.

일반적으로, 인간이 3차원 입체감을 느끼는 이유는 우안과 좌안이 시차를 두고 사물을 인지하기 때문인 것으로 알려져 있다. 즉, 인간의 두 눈은 약 65cm의 간격을 두고 떨어져 위치하기 때문에, 입체감의 인식은 서로 약간 다른 방향의 영상을 보는 과정에서 발생하는 양안 시차에 근거한다. Generally, it is known that human being feels three dimensional feeling because the right eye and the left eye perceive objects with time lag. In other words, because the human eyes are spaced about 65 cm apart, the perception of stereoscopic effect is based on the binocular disparity that occurs in the process of viewing images in slightly different directions.

최근, 사람의 양안에 시차가 있는 영상들을 입력시키는 방법으로 입체 영상을 구현할 수 있는 입체 영상 표시 시스템들에 대한 관심이 높아지고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, stereoscopic image display systems capable of realizing a stereoscopic image by a method of inputting images with parallax in both sides of the human are increasingly interested.

일반적으로, 입체 영상 디스플레이 기기들은 셔터 안경, 미세 편광기(micro polarizer), 패턴드 리타더(patterned retarder) 등과 같은 안경식 3D 디스플레이, 패럴렉스 배리어(parallax barrier), 렌티큘러 렌즈(lenticular lens) 등과 같은 무안경식 3D 디스플레이, 및 홀로그램식 3D 디스플레이로 구분될 수 있다. 이것들 중에서, 입체 영상 디스플레이 기기는 액티브 방식(셔터 글라스 방식)과, 패시브 방식(FPR 방식)이 보편화 되어 있다.In general, stereoscopic image display devices are classified into three types such as a spectacular 3D display such as a shutter glasses, a micro polarizer, a patterned retarder and the like, a parallax barrier, a lenticular lens, A 3D display, and a holographic 3D display. Of these, stereoscopic image display devices have become popular as active systems (shutter glass systems) and passive systems (FPR systems).

액티브 방식의 디스플레이는 좌,우에 해당하는 화면을 매우 빠른 속도로 교대로 송출하고, 이에 맞춰 사용자가 착용한 입체 안경도 이러한 송출 영상에 연동되어 함께 작동된다. 즉, 액티브 방식은 소위, '시간 분할 방식'으로서, 좌안용 영상의 경우 좌안 렌즈가 열릴 때 우안 렌즈가 닫히는 반면, 우안용 영상은 우안 렌즈가 열릴 때 좌안 렌즈가 닫히는 구조이다. 이 방식은 화면을 또렷하게 볼 수 있다는 장점이 있으나, 디스플레이와 안경의 움직임을 동기화시켜야 하는 고도의 기술이 필요하다.In the active display, the left and right screens are alternately transmitted at a very high speed, and the stereoscopic glasses worn by the user in accordance therewith are also operated in conjunction with the output video. That is, the active method is a so-called 'time division method'. In the case of the left eye image, the right eye lens is closed when the left eye lens is opened, whereas the right eye image is a structure in which the left eye lens is closed when the right eye lens is opened. This approach has the advantage of being able to see the screen clearly, but it requires a high level of skill to synchronize the movement of the display with the glasses.

패시브 방식의 디스플레이는 소위, '공간 분할 방식'으로서, 서로 다른 편광 특성을 갖는 좌안용 영상과 우안용 영상을 송출할 수 있으며 전면에 편광 필터가 부착된 디스플레이와 사용자가 착용하는 편광 안경을 구비한다. 편광 안경의 좌안 렌즈에는 디스플레이로부터 송출되는 좌안용 영상만 투시되고, 편광 안경의 우안용 렌즈에는 디스플레이의 우안용 영상만 투시됨으로써 사용자가 입체감을 느낄 수 있다. 이러한 패스브 방식은 기술적 어려움 없이 구현이 용이하다. Passive display is a so-called " space division method " in which a left-eye image and a right-eye image having different polarization characteristics can be transmitted, a display having a polarizing filter on the front surface thereof, and polarizing glasses worn by the user . Only the left eye image transmitted from the display is viewed through the left eye lens of the polarizing glasses and only the right eye image is viewed through the right eye lens of the polarizing glasses. This pass method is easy to implement without technical difficulties.

그런데, 패시브 방식에 사용되는 편광 필터는, 편광판 자체가 좌안용 영상 표시부와 우안용 영상 표시부에 대응되도록 패터닝되어 있거나, 편광판에 좌안용 영상 표시부와 우안용 영상 표시부에 각각 대응되도록 편광판에 부착될 수 있는 패터닝된 위상차판(광학 필터)과 같은 소위, 패턴드 리타드 필름(FPR: Film-type Patterned Retarder)을 사용한다. However, the polarizing filter used in the passive system can be attached to the polarizing plate so that the polarizing plate itself is patterned so as to correspond to the left and right eye image display units, or the polarizing plates are respectively associated with the left and right eye image display units Called Pattern-type Patterned Retarder (FPR), such as a patterned retardation plate (optical filter) having a patterned pattern.

또한, 패턴드 리타더(patterned retarder)는 기재의 종류에 따라 유리-타입과 필름-타입으로 구분된다. 그러나, 유리-타입 패턴드 리타더는 디스플레이의 대형화 추세에 부합하기 어렵기 때문에, 최근에는 유기 고분자 필름을 기재로 사용하는 패턴드 리타더(patterned retarder) 필름이 대세를 이루고 있다. In addition, patterned retarders are classified into glass-type and film-type depending on the type of substrate. However, since the glass-type pattern driftader is difficult to meet the trend of enlargement of display, recently patterned retarder film using an organic polymer film as a substrate is popular.

그런데, 패턴드 리타더에 형성된 패턴의 크기는 화소 또는 화소 단위 넓이에 해당하여 매우 정교하며 대개 그 패턴의 형태가 LCD의 행 또는 열에 맞추어 형성되고 이를 LCD에 장착할 때 LCD 픽셀의 행 또는 열의 위치와 정확히 일치(align)시켜 부착해야 할 필요성이 있기 때문에 패턴드 리타더의 제조 과정에서 치수 불량의 발생을 억제해야 함은 물론, 패턴드 리타더의 액정층, 배양층 등의 손상에 기인하는 위상 변화에 의한 불량(2D용 디스플레이 패널의 불량과 무관함)을 엄격하게 제어해야 할 필요성이 있다.However, the size of a pattern formed in the patterned retarder corresponds to the width of a pixel or a pixel and is very precise, and the shape of the pattern is generally formed in accordance with the row or column of the LCD. When the pattern is formed on the LCD, It is necessary to suppress the generation of dimensional defects in the manufacturing process of the patterned retarder and it is necessary to control the phase due to the damage of the liquid crystal layer and the culture layer of the patterned retarder There is a need to strictly control the defects due to the change (irrelevant to the defect of the display panel for 2D).

또한, 종래의 제조 방식에 따르면, 완성된 패턴드 리타더는 운송 불량 등의 이유로 보호 필름을 부착시켜 디스플레이 패널 제조사로 인도되고, 인도된 패턴드 리타더는 패널에 최종적으로 부착되기 전에 예를 들어, 편광판 2장을 크로스시켜 육안으로 검사하는 소위 '풀라인(full line)' 검사 방식을 이용하고 있기 때문에 불량률이 매우 높아지는 문제점이 있고, 패턴드 리타더를 제조한 후 총-피치를 측정하는 것은 그 만큼 제조 공정이 복잡해지고, 불량의 확률이 높아지는 문제점이 있었다. In addition, according to the conventional manufacturing method, the completed pattern reliader is attached to a protective film by reason of transportation defect or the like and is led to the display panel manufacturer, and the delivered pattern reliader is transferred to the panel before being finally attached to the panel, , There is a problem in that the defect rate becomes very high because a so-called 'full line' inspection method in which two polarizing plates are crossed and inspected with the naked eye is used, and the measurement of the total-pitch after manufacturing the patterned retarder There is a problem that the manufacturing process becomes complicated and the probability of defects increases.

한편, 패턴드 리타더 필름은 그 제조 과정에서 기재의 표면을 코로나 처리하여 기재에 대한 배향막 등의 인쇄를 용이하게 한다. 그런데, 이러한 코로나 처리 공정은 최종적으로 생산되는 패턴드 리타더 필름의 광직진성을 저하시키는 요인이므로 이에 대한 해결책이 요구되고 있다.On the other hand, the patterned retarder film facilitates printing of an alignment film or the like on a substrate by corona treatment of the surface of the substrate during its production. However, such a corona treatment process is a factor that deteriorates the optical linearity of the patterned retarder film finally produced, and a solution thereof is required.

FPR(Film-type Patterned Retarder) 필름의 생산 공정에서, '총-피치'는 FPR 제품의 주요한 5개의 품질 보증 항목들 중 하나로서, 상,하 시야각 및 3D 구현에 영향을 주는 주요 인자들 중 하나이다. In the production process of film-type patterned retarder (FPR) film, 'total-pitch' is one of the main five factors of quality assurance of FPR products and is one of the main factors affecting the upper and lower viewing angles and 3D implementation .

일반적으로, FPR 필름은 온도 및/또는 습도에 민감하여, 공정 이동 중에 필름이 수축 또는 팽창할 가능성이 높기 때문에, 최종적으로 생산되는 FPR 필름의 품질을 보장하기 위해서 정밀 코팅 공정에서 총-피치를 기준치의 범위에 놓이도록 제어할 필요가 있고, 그러한 제어를 위한 기준값 산출을 위한 장비가 필요하다. Generally, FPR films are sensitive to temperature and / or humidity, and therefore the film is likely to shrink or expand during process migration, so in order to ensure the quality of the final produced FPR film, the total- , And equipment for calculating a reference value for such control is required.

또한, FPR 필름의 제조 과정에서, 총-피치의 불량이 발생하면 예를 들어, 1080개의 픽셀 라인들로 구성된 3D 필름의 구현성이 저하되어 제품의 대량 손실 및 고객사로부터의 품질 불량에 대한 클레임이 발생된다. 이러한 문제를 방지하기 위해서는 FPR 필름의 제조 공정 그 자체(In-line)에서 총-피치를 측정할 장비가 필요하다.In addition, when the total-pitch defect occurs in the manufacturing process of the FPR film, for example, the feasibility of the 3D film composed of 1080 pixel lines is lowered, so that a large loss of the product and a claim for the quality defect from the customer . In order to prevent this problem, equipment for measuring the total-pitch in the manufacturing process of the FPR film itself (in-line) is required.

그런데, 지금까지 알려진 선행기술에 의하면, 3차원의 FPR 필름의 총-피치를 측정할 수 있는 장비들이 존재하지 않았을 뿐만 아니라, 종래의 다른 설비들을 이용하게 되면 측정 오차가 너무 크기 때문에 그러한 설비들을 사용할 수 없는 문제점이 있다. 한편, FPR 필름의 제조 공정의 인-라인 상에서 총-피치를 측정하기 위해서는 샘플링 후 이동하는 동안 필름의 총-피치의 변화에 따른 오차 역시 포함되고, 검사원의 반복 측정에 따른 오류가 발생할 수도 있다. However, according to the prior arts known to date, not only are there no apparatuses capable of measuring the total-pitch of three-dimensional FPR films, but the use of other facilities of the prior art has made measurement errors too large, There is no problem. On the other hand, in order to measure the total-pitch on the in-line of the manufacturing process of the FPR film, the error due to the change of the total-pitch of the film during the movement after the sampling is also included, and errors due to repeated measurement by the inspector may occur.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 착상된 것으로서, 3DR 필름 양산 과정에서, 3DR 필름의 제조 공정의 인-라인(IN-LINE) 상에서 광학 필름의 총-피치의 측정, 제어 및 모니터링 할 수 있는 시스템을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived in order to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a method for measuring, controlling and controlling the total-pitch of an optical film on an in-line of a manufacturing process of a 3DR film, The present invention provides a system capable of monitoring a plurality of objects.

상기 문제점들을 해결하기 위해서 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템은, 미리 결정된 속도로 주행하는 광학 필름의 총-피치를 측정하기 위한 시스템에 있어서, 상기 광학 필름이 접촉되어 주행할 수 있는 베이스 롤러; 상기 베이스 롤러를 향해 광을 조사할 수 있는 조명 유니트; 상기 베이스 롤러의 표면으로부터 반사되는 빛에 의해 상기 광학 필름의 총-피치를 촬영할 수 있는 촬영 유니트; 및 상기 조명 유니트와 상기 촬영 유니트를 동시에 상기 광학 필름의 폭 방향으로 왕복 이동시킬 수 있는 이송 유니트를 구비한다. In order to solve the above problems, an optical film total-pitch measuring system according to a preferred exemplary embodiment of the present invention is a system for measuring a total-pitch of an optical film traveling at a predetermined speed, A base roller which can be contacted and traveled; A lighting unit capable of irradiating light toward the base roller; A photographing unit capable of photographing a total pitch of the optical film by light reflected from a surface of the base roller; And a transport unit capable of reciprocating the lighting unit and the photographing unit in the width direction of the optical film at the same time.

바람직하게, 상기 광학 필름은 서로 다른 광축을 갖는 L 및 R 패턴들이 형성된 패턴드 리타드 필름(FPR)이다. Preferably, the optical film is a pattern relief film (FPR) in which L and R patterns having different optical axes are formed.

바람직하게, 상기 FPR은 배향층과 액정층이 형성된 기재가 주행하는 과정에서 와인더에 와인딩되기 전의 인-라인(IN-Line) 상태에 있다.Preferably, the FPR is in an in-line state before the substrate on which the alignment layer and the liquid crystal layer are formed is wound on the winder in the traveling direction.

바람직하게, 상기 광학 필름의 일면에는 보호 부재가 부착되어 있다.Preferably, a protective member is attached to one surface of the optical film.

바람직하게, 상기 보호 부재는 상기 베이스 롤러에 접촉되도록 상기 광학 필름의 면에 부착된다.Preferably, the protective member is attached to the surface of the optical film to be in contact with the base roller.

바람직하게, 상기 보호 부재는 광축과 위상차를 가진 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름이다. Preferably, the protective member is a polyethylene terephthalate (PET) film having an optical axis and a phase difference.

바람직하게, 상기 PET 필름은 제어된 광축 편차를 가지도록 배향된 배향 PET 필름 또는 광축 편차가 제어되지 않은 비배향 PET 필름이다. Preferably, the PET film is an oriented PET film oriented to have a controlled optical axis deviation or a non-oriented PET film in which the optical axis deviation is not controlled.

바람직하게, 상기 총-피치는 상기 광학 필름의 폭 방향의 어느 하나의 가장자리의 제1 기준선으로터 다른 가장자리의 제2 기준선까지의 거리이다. Preferably, the total-pitch is a distance from a first reference line of one of the edges in the width direction of the optical film to a second reference line of another edge of the optical film.

바람직하게, 시스템은 상기 광학 필름과 상기 조명 유니트 사이에 배치된 제1 필터 유니트; 및 상기 광학 필름과 상기 촬영 유니트 사이에 배치된 제2 필터 유니트를 더 구비한다. Preferably, the system further comprises: a first filter unit disposed between the optical film and the illumination unit; And a second filter unit disposed between the optical film and the photographing unit.

바람직하게, 상기 제1 필터 유니트는 편광 필터를 구비한다. Preferably, the first filter unit comprises a polarizing filter.

바람직하게, 상기 편광 필터는 상기 광학 필름의 위상 변화를 자동으로 보상하기 위해, 360도 각도로 정,역 회전 가능하다. Preferably, the polarizing filter is positively or reversely rotatable at a 360-degree angle in order to automatically compensate for the phase change of the optical film.

바람직하게, 상기 편광 필터는: 원형의 필터 본체; 및 상기 필터 본체를 회전시키기 위한 회전부재를 구비한다. Preferably, the polarizing filter comprises: a circular filter body; And a rotating member for rotating the filter body.

바람직하게, 상기 회전부재는: 상기 필터 본체를 베어링에 의해 관통공에 회전 가능하게 지지하고, 외주면에 제1 풀리가 마련된 필터 회전체; 필터 프레임에 설치된 구동원의 회전축에 마련된 제2 풀리; 및 상기 제1 풀리와 상기 제2 풀리를 연결하는 벨트를 구비한다. Preferably, the rotating member includes: a filter rotor having the filter body rotatably supported by the through-hole by a bearing and having a first pulley on an outer circumferential surface thereof; A second pulley provided on a rotary shaft of a driving source provided in the filter frame; And a belt connecting the first pulley and the second pulley.

바람직하게, 상기 편광 필터는 상기 회전부재의 회전 방향 및 각도를 측정하기 위한 센서부재를 더 구비한다. Preferably, the polarizing filter further comprises a sensor member for measuring a rotating direction and an angle of the rotating member.

바람직하게, 상기 제2 필터 유니트는 상기 광학 필름의 L 및 R 패턴들을 분리하고 빛의 산란을 제어하기 위한 원형 편광 필터를 구비한다. Preferably, the second filter unit has a circular polarization filter for separating the L and R patterns of the optical film and for controlling scattering of light.

바람직하게, 상기 원형 편광 필터는 상기 촬영 유니트의 카메라의 끝단에서 상기 카메라와 일체로 배치된다. Preferably, the circular polarizing filter is disposed integrally with the camera at an end of the camera of the photographing unit.

바람직하게, 상기 베이스 롤러는 상기 조명 유니트로부터 조사되는 광을 상기 촬영 유니트까지 반사시킬 수 있는 반사부가 마련된다.Preferably, the base roller is provided with a reflecting portion capable of reflecting light emitted from the lighting unit to the photographing unit.

바람직하게, 상기 반사부는 상기 베이스 롤러의 표면에 코팅되거나 표면 처리된다. Preferably, the reflective portion is coated or surface-treated on the surface of the base roller.

바람직하게, 상기 촬영 유니트는 상기 광학 필름에 형성된 패턴의 총-피치의 제1 기준선 부분과 제2 기준선 부분을 동시에 촬영할 수 있는 한 쌍의 카메라들을 구비하고; 상기 조명 유니트는 상기 한 쌍의 카메라들의 각각에 대응되도록 설치된 한 쌍의 LED 조명을 구비한다. Preferably, the photographing unit has a pair of cameras capable of simultaneously photographing a first baseline portion and a second baseline portion of the total-pitch of the pattern formed on the optical film; The lighting unit includes a pair of LED lights installed to correspond to each of the pair of cameras.

바람직하게, 상기 촬영 유니트와 상기 조명 유니트는 상기 베이스 롤러의 표면에 대해 45도 각도로 배치된다.Preferably, the photographing unit and the lighting unit are disposed at an angle of 45 degrees with respect to the surface of the base roller.

바람직하게, 상기 이송 유니트는: 상기 촬영 유니트와 상기 조명 유니트가 설치되는 브라켓; 및 상기 브라켓과 이송 프레임 사이에 설치된 LM 가이드를 구비한다. Preferably, the conveying unit includes: a bracket on which the photographing unit and the lighting unit are installed; And an LM guide installed between the bracket and the transfer frame.

본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템 은 광학 필름을 기준으로 촬영 유니트와 조명 유니트를 반사 형태로 구성 즉, 조명 유니트로부터 출사된 광이 광학 필름을 주행시키는 베이스 롤의 표면으로부터 반사되어 광학 필름을 재투과하여 촬영 유니트가 그 반사된 빛을 인식할 수 있도록 설계함으로써, 투과형 배치(베이스 롤러가 존재하지 않고 조명 유니트와 촬영 유니트가 광학 필름을 기준으로 서로 반대편에 배치된 상태)보다 광학 필름의 사이드 부분의 컬(curl) 및 웨이브에 의한 오차를 극복할 수 있다.The total-pitch measuring system of the optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention is configured such that the photographing unit and the lighting unit are formed in a reflective form on the basis of the optical film, that is, the light emitted from the lighting unit travels on the base film (The base unit does not exist and the lighting unit and the photographing unit are arranged opposite to each other with respect to the optical film as a reference), and the light is reflected from the surface of the optical film and is designed so that the photographing unit can recognize the reflected light. The error caused by the curl and wave of the side portion of the optical film can be overcome.

본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템은 비배향 PET 보호 필름의 위상차를 보상할 수 있는 구조가 채택된다. 즉, 전술한 바와 같은 반사 구조에서, 조명 유니트의 앞부분에 PL 필터를 회전 가능하게 설치하여, 광학 필름의 폭 방향의 위상 편차 및 진행 방향의 위상 편차를 극복할 수 있다.The total-pitch measurement system of the optical film according to the preferred exemplary embodiment of the present invention adopts a structure capable of compensating the retardation of the non-oriented PET protective film. That is, in the above-described reflection structure, the phase difference in the width direction and the phase deviation in the traveling direction of the optical film can be overcome by providing the PL filter rotatably in the front part of the lighting unit.

본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템은 카메라, 조명 및 LM 가이드가 하나의 셋트를 구성하고, 시스템은 2 셋트로 구성된다. 즉, 하나의 카메라에 대응되도록 하나의 조명이 구성되어 카메라와 조명은 하나의 LM 가이드에 의해 일체로 이동한다. 각 셋트의 카메라와 조명이 해당하는 LM 가이드에 의해 이동된 후 카메라의 최적 보상 작업을 거친 후 동일 시점에서 광학 필름의 총-피치를 촬상하여 최대 1/60초의 갭(gap) 형태의 데이터를 산출함으로써 LM 가이드의 이동간 발생하는 필름 사행에 의한 오차를 극복할 수 있다. The total-pitch measurement system of the optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention comprises one set of cameras, illumination and LM guides, and the system consists of two sets. That is, one illumination is configured to correspond to one camera, and the camera and the illumination are moved integrally by one LM guide. After each set of cameras and lights are moved by the corresponding LM guides, the camera is subjected to an optimal compensation operation, and at the same time, the total-pitch of the optical film is imaged to produce a data of a gap type of up to 1/60 second The error caused by the film skewing occurring during the movement of the LM guide can be overcome.

보다 구체적으로, 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템은 카메라의 움직임을 1마이크로미터 단위로 기준 피치를 인식하여 동일 시간 내에 리니어 모터 시스템의 하드웨어적인 거리 차이를 측정함으로써 기준 피치와 측정 피치 간의 오차 여부를 계산할 수 있다.
More specifically, the total-pitch measurement system of the optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention recognizes the reference pitch in 1 micrometer movement of the camera and measures the hardware distance difference of the linear motor system within the same time It is possible to calculate the error between the reference pitch and the measurement pitch.

본 발명에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템은 다음과 같은 효과를 가진다. The total-pitch measuring system of the optical film according to the present invention has the following effects.

첫째, 2개의 카메라들이 이동하여 최적의 보상을 거친 후 동일 시점에 2개의 카메라가 광학 필름의 표면을 촬상하고, 그러한 촬상 위치에서의 2대의 카메라들의 간격을 총-피치로 하여 측정할 수 있기 때문에 공장 내부의 온도, 습도 변화에 따른 필름의 총-피치 변화 또는 광학 필름의 패터닝 자체의 오류에 의한 총-피치 변화 등을 측정할 수 있고, 이 측정된 정보를 반영하여 In-Line 상에서 총-피치 등과 같은 필름의 생산 조건 등에 변화를 시도할 수 있으므로 품질 및 수율을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 기준 온도에 대해 대략 1℃ 만큼 공정 온도가 감소하게 되면 총-피치는 대략 100마이크로미터 정도 감소하게 되는데, 본 발명과 같은 인-라인 공정에서는 측정 시스템에 의해 획득된 데이터를 즉각적으로 공정 조건에 반영하여 온도 부분에 대한 보상을 실시할 수 있다. First, since two cameras move and perform optimal compensation, two cameras at the same time can take images of the surface of the optical film, and the interval between the two cameras at such an imaging position can be measured as the total-pitch It is possible to measure the total-pitch change of the film due to the temperature and humidity change in the factory or the total-pitch change due to the error of the patterning of the optical film itself, and the total-pitch on the in- And the like can be attempted to improve the quality and yield of the film. For example, if the process temperature decreases by approximately 1 DEG C relative to the reference temperature, the total-pitch is reduced by approximately 100 micrometers. In the in-line process as in the present invention, It is possible to compensate for the temperature part by reflecting the process condition.

둘째, 본 발명은 조명 유니트로부터 조사된 빛을 베이스 롤러의 표면에 반사시켜 광학 필름을 통해 재투과 되는 빛을 이용하여 촬영 유니트가 총-피치를 측정할 수 있는 소위, 반사형 측정을 통해 투과형 측정과 비교할 때, 주행하는 광학 필름의 사이드 부분의 사행, 컬링 등에 의해 발생되는 측정 오차를 대폭적으로 감소시킬 수 있다.
Second, the present invention relates to a method of measuring the total-pitch of a photographic unit by reflecting the light irradiated from the lighting unit onto the surface of the base roller and using the light transmitted through the optical film, It is possible to greatly reduce the measurement error caused by skewing, curling, etc. of the side portion of the running optical film.

본 발명은 아래 도면들에 의해 구체적으로 설명될 것이지만, 이러한 도면은 본 발명의 바람직한 실시예들을 나타낸 것이므로 본 발명의 기술사상이 그 도면에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템의 주요 구성을 개략적으로 도시한 개념도이다.
도 2는 도 1의 "A" 부위의 확대도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템의 동작을 설명하는 개념도이다.
도 4는 본 발명의 다른 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템을 개략적으로 도시한 정면 구성도이다.
도 5는 도 4의 주요 부위의 측면 구성도이다.
도 6은 도 4의 주요 부위의 평면 구성도이다.
도 7은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 광 패턴의 일부를 개략적으로 도시한 확대 평면도이다.
도 8은 도 4의 제1 필터 유니트 부위의 확대도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention will be described in detail with reference to the following drawings, which illustrate preferred embodiments of the present invention, and therefore the technical idea of the present invention should not be construed as being limited thereto.
FIG. 1 is a conceptual diagram schematically showing a main configuration of a total-pitch measuring system of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention.
2 is an enlarged view of the "A"
3 is a conceptual diagram illustrating the operation of the total-pitch measurement system of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention.
Figure 4 is a frontal schematic view of a total-pitch measurement system of an optical film according to another preferred exemplary embodiment of the present invention.
Fig. 5 is a side view of the main part of Fig. 4. Fig.
Fig. 6 is a plan view of the main part of Fig. 4. Fig.
7 is an enlarged plan view schematically showing a part of a light pattern of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention.
8 is an enlarged view of the first filter unit portion of FIG.

이하, 첨부된 도면들을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

도 1은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템의 주요 구성을 개략적으로 도시한 개념도이고, 도 2는 도 1의 "A" 부위의 확대도이다. Fig. 1 is a conceptual view schematically showing a main configuration of a total-pitch measurement system of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention, and Fig. 2 is an enlarged view of the "A"

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템(100)은 베이스 롤러(110)를 따라 주행하는 광학 필름(10)에 빛을 조사할 수 있는 조명 장치(120), 조명 장치(120)에 인접되게 설치된 PL 필터(130), 광학 필름(10)에 입사되어 베이스 롤러(110)의 표면으로부터 반사되어 광학 필름(10)을 재투과하는 빛을 통해 광학 필름(10)의 소정 영역을 촬영할 수 있는 카메라 장치(140), 및 카메라 장치(140)와 광학 필름(10) 사이에 개재된 CPL 필터(150)를 구비한다.Referring to FIGS. 1 and 2, an optical film total-pitch measuring system 100 according to a preferred exemplary embodiment of the present invention irradiates light onto an optical film 10 running along a base roller 110 A PL filter 130 provided adjacent to the illumination device 120, a PL filter 130 that is incident on the optical film 10 and is reflected from the surface of the base roller 110 to retransmit the optical film 10 A camera device 140 capable of photographing a predetermined region of the optical film 10 through light and a CPL filter 150 interposed between the camera device 140 and the optical film 10.

도 2에 도시된 바와 같이, 광학 필름(10)은 예를 들어, 서로 다른 광축을 갖는 L 및 R 패턴들이 형성된 패턴드 리타드 필름(FPR)이다. 이러한 FPR 형태의 광학 필름(10)은 기재(14)를 가지며, 보호 부재(12)가 부착된 면과 대향되는 기재(14)의 면에 배향층(16)과 액정층(18)이 형성되어 있다. 후술하는 바와 같이, 패턴드 리타드 필름과 같은 광학 필름(10)은 필름이 주행하는 과정에서 와인더(미도시)에 와인딩되기 전의 인-라인(IN-Line) 상태에 있는 것이 바람직하다. As shown in Fig. 2, the optical film 10 is, for example, a pattern relief film (FPR) in which L and R patterns having different optical axes are formed. The FPR type optical film 10 has the base material 14 and the orientation layer 16 and the liquid crystal layer 18 are formed on the surface of the base material 14 opposed to the surface to which the protective member 12 is attached have. As described later, it is preferable that the optical film 10 such as the patterned retarded film is in an in-line state before the film is wound on the winder (not shown) in the traveling process.

대안적 실시예에 있어서, 광학 필름의 총-피치 측정 시스템(100)은 제작이 완료된 패턴드 리타더 필름 또는 이러한 필름을 소정 크기로 절단한 광학 필터에 대해서도 적용될 수 있음을 당업자는 충분히 이해할 것이다. It will be appreciated by those skilled in the art that, in an alternative embodiment, the total-pitch measurement system 100 of an optical film can also be applied to a patterned retarder film that has been fabricated or to an optical filter that has been cut to a predetermined size.

광학 필름(10)의 기재(14)는 예를 들면, 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 노보르넨 유도체 등의 사이클로 올레핀 폴리머로 이루어진다. 기재(14)는 면내 위상차 및 두께 방향 위상차가 거의 없는 등방성 기재이거나, 면내 위상차 없이 두께 방향의 위상차 값만을 갖는 것이 바람직하다. 한편, 광학 필름(10)의 폭은 기재(14)의 폭에 의해 실질적으로 결정되는데, 예를 들어, 1200mm 내지 2200mm의 폭으로 다양하게 구성될 수 있다.The base material 14 of the optical film 10 is made of, for example, a cycloolefin polymer such as triacetylcellulose, polyacrylate, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, norbornene derivatives and the like. It is preferable that the base material 14 is an isotropic base material having almost no in-plane retardation and thickness retardation or only a retardation value in the thickness direction without in-plane retardation. On the other hand, the width of the optical film 10 is substantially determined by the width of the substrate 14, and can be variously configured with a width of, for example, 1200 mm to 2200 mm.

광학 필름(10)의 배향층(16)은 제1배향막과 제2배향막이 서로 다른 배향 처리 방식과, 배향 방향을 가진다. 예를 들면, 제1배향막이 광 배향막이면, 제2 배향막은 러빙 배향막을 사용하고, 제1 배향막이 러빙 배향막이면 제2 배향막은 광 배향막을 사용한다. 이와 같이 처리 방식이 다른 배향막을 사용할 경우, 하나의 배향막 처리 방법이 다른 배향막에 영향을 미치지 않기 때문에 마스크나 포토레지스트와 같은 복잡한 과정을 거치지 않고도 서로 다른 배향 방향을 갖는 배향막을 손쉽게 형성할 수 있다. 예를 들면, 러빙 배향막에 UV 편광을 조사하더라도, 배향막의 배향 방향이 바뀌지 않으며, 거꾸로 광 배향막에 러빙 처리를 하는 경우도 마찬가지이다. 따라서, 러빙 배향막을 도포한 다음, 제1배향 방향으로 러빙 처리를 하여 러빙 배향막을 형성하고, 그 위에 일정한 간격으로 광 배향막용 고분자막을 도포하고, 제1배향 방향과 다른 제2배향 방향으로 편광된 UV 편광을 조사하는 방법으로, 서로 다른 배향 방향을 갖는 제1배향막과 제2배향막을 형성할 수 있다. 또한, 제1 배향막과 제2 배향막의 배향 방향은 서로 수직인 것이 바람직하다. The orientation layer 16 of the optical film 10 has an alignment treatment method and an alignment direction in which the first alignment film and the second alignment film are different from each other. For example, if the first alignment layer is a photo alignment layer, the second alignment layer is a rubbing alignment layer, and if the first alignment layer is a rubbing alignment layer, the second alignment layer is a photo alignment layer. When an alignment film having a different processing method is used, since one alignment film processing method does not affect other alignment films, an alignment film having different alignment directions can be easily formed without going through a complicated process such as a mask or a photoresist. For example, even if the rubbing alignment film is irradiated with UV polarized light, the alignment direction of the alignment film is not changed, and the case where the rubbing process is performed on the photo alignment film is also reversed. Therefore, after the rubbing alignment film is applied, the rubbing process is performed in the first alignment direction to form the rubbing alignment film, the polymer film for the photo alignment film is coated thereon at regular intervals thereon, and the polarized film is polarized in the second alignment direction different from the first alignment direction By the method of irradiating UV polarized light, the first alignment film and the second alignment film having different alignment directions can be formed. It is preferable that the alignment directions of the first alignment film and the second alignment film are perpendicular to each other.

광학 필름(10)의 액정층(18)은 제1배향막 및 제2배향막의 상부에 형성되며, 제1배향막에 의해 배향된 제1영역 및 제2배향막에 의해 배향된 제2영역으로 패터닝된다. 배향막 위에 액정 물질을 도포하면, 액정 물질은 배향막의 배향 방향을 따라 배향되는데, 제1배향막과 제2배향막은 배향 방향이 서로 다르기 때문에, 그 위에 형성되는 액정층(18)도 서로 다른 방향으로 배향되어 액정층(18)이 교대로 형성되며, 그 결과 패터닝된 위상차층을 형성할 수 있다. 또한, 액정층(18)의 패턴은 제2 배향막의 도포 패턴에 따라 결정된다. 예를 들어, 제2배향막이 스트라이프 모양인 경우, 스트라이프 패턴의 액정층이 형성되고, 제2 배향막이 바둑판 모양으로 도포되는 경우 바둑판 패턴의 액정층이 형성된다. The liquid crystal layer 18 of the optical film 10 is formed on the first alignment film and the second alignment film and is patterned into a first region oriented by the first alignment film and a second region oriented by the second alignment film. When the liquid crystal material is applied on the alignment layer, the liquid crystal material is oriented along the alignment direction of the alignment layer. Since the first alignment layer and the second alignment layer have different alignment directions, the liquid crystal layer 18 formed thereon is also oriented The liquid crystal layer 18 is alternately formed, and as a result, a patterned retardation layer can be formed. The pattern of the liquid crystal layer 18 is determined according to the application pattern of the second alignment film. For example, when the second alignment film is in a stripe shape, a liquid crystal layer of a stripe pattern is formed, and when the second alignment film is applied in a checkerboard pattern, a checkerboard pattern liquid crystal layer is formed.

한편, 액정층(18)은 그 두께에 따라 다양한 위상차를 가질 수 있으며, 바람직하게는 λ/4 위상차 지연층일 수 있다. 액정층(18)이 λ/4 위상차 지연층일 경우, 입사 광원이 선편광인 경우에는 원편광으로, 또 입사광원이 원편광인 경우에는 선편광으로 편광을 바꿔주는 역할을 수행하며, 이러한 기능은 3차원 입체 영상 표시에 유용하게 사용될 수 있기 때문이다.On the other hand, the liquid crystal layer 18 may have various retardations depending on its thickness, and may preferably be a quarter-wave retardation layer. When the liquid crystal layer 18 is a quarter-wave retardation layer, the polarized light is converted into circularly polarized light when the incident light source is linearly polarized light and linearly polarized light when the incident light source is circularly polarized light. This is because it is useful for stereoscopic image display.

보호 부재(12)는 조명 장치(120)와 대면하는 광학 필름(10)의 면에 부착되어 베이스 롤러(110)의 표면에 접촉된다. 보호 부재(12)는 FPR(10)을 제조하는 과정 중에 기재(14)와 배양층(16) 사이의 결속력을 높이기 위해 코로나 처리를 수행하게 되는데, 이러한 코로나 처리에 의해 최종적으로 생산되는 FPR(10)의 광직진성이 저하되는 것을 방지하기 위해, 배양층(16)이 형성되기 전에 기재(14)의 일면에 미리 부착되는 것이 바람직하다. 즉, 보호 부재(12)가 부착된 기재(14)를 코로나 처리하게 되면 최종적으로 생산되는 FRP(10)의 광직진 특성의 저하 문제를 해결할 수 있다. The protective member 12 is attached to the surface of the optical film 10 facing the illumination device 120 and is brought into contact with the surface of the base roller 110. [ The protective member 12 performs a corona treatment to increase the binding force between the substrate 14 and the culture layer 16 during the manufacturing process of the FPR 10. The FPR 10 It is preferable to be previously attached to one surface of the base material 14 before the culture layer 16 is formed. That is, if the base material 14 with the protective member 12 is corona-treated, the problem of degradation of the optical linear characteristic of the finally produced FRP 10 can be solved.

보호 부재(12)는 특정의 광축과 위상차를 가진 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름을 포함한다. PET 필름은 필름 생산시 제조 라인의 속도 및 필름의 텐션을 조절하면서 광축 편차를 제어하면서 생산됨으로써 상대적으로 균일한 광축 편차를 가지도록 배향된 배향 PET 필름일 수 있으나, 본 실시예에서는 광축 편차를 고려하지 않고 빠른 속도로 제조됨으로써 상대적으로 저렴한 비배향 PET 필름이 사용된다. 비배향 PET 필름은 배향 PET 필름과 비교할 때 동일한 수지를 사용하고 동일한 생산 공정을 통해 생산된다. 대안적으로, 보호 부재(12)는 PET 필름 이외의 다양한 플라스틱 필름으로 대체될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다.The protective member 12 includes a polyethylene terephthalate (PET) film having a specific optical axis and a retardation. The PET film may be an oriented PET film oriented to have a relatively uniform optical axis deviation by controlling the speed of the production line and the tension of the film while controlling the optical axis deviation while producing the film. In this embodiment, however, And relatively inexpensive non-oriented PET films are used. The non-oriented PET film is produced through the same production process using the same resin as the oriented PET film. Alternatively, the person skilled in the art will appreciate that the protective member 12 can be replaced by various plastic films other than PET films.

비배향 PET 보호 필름의 위상차와 광축은 측정 위치에 따라 또는 생산되는 로트(lot)에 따라 각각 다른 특성을 나타낼 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. 일반적으로, 비배향 PET 보호 필름의 생산시 동일한 속도가 유지되는 동일 로트에서는 사이드와 중앙 은 상대적으로 광축이 일정하게 유지될 수 있으나, 로트가 달라지게 되면 각각의 로트 마다 광축과 위상차가 동일하지 않게 된다. It will be understood by one skilled in the art that the retardation and the optical axis of the non-oriented PET protective film can exhibit different properties depending on the measurement position or depending on the lot produced. Generally, in the same lot where the same speed is maintained during the production of the non-oriented PET protective film, the optical axis can be kept relatively constant at the side and center, but if the lot is changed, the optical axis and phase difference are not the same do.

대안적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템(100)은 전술한 보호 부재(12)가 부착되지 않은 광학 필름(10)의 총-피치의 측정이 가능함을 당업자는 이해할 것이다. It will be appreciated by those skilled in the art that the total-pitch measurement system 100 of an optical film according to an alternative embodiment is capable of measuring the total-pitch of the optical film 10 without the protective member 12 described above.

조명 장치(120)는 카메라 장치(140)가 광학 필름(10)의 표면을 촬영하는데 필요한 광을 제공하기 위해 광학 필름(10) 방향으로 광을 조사하기 위한 것으로서, 예를 들어, LED 조명을 이용한다. 물론, 조명 장치(120)는 LED 조명 이에 기타 일반적인 조명 기구들이 이용될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. 조명 장치(120)는 주행하는 광학 필름(10)의 폭 방향으로 각각 이동할 수 있는 한 쌍의 LED 조명들을 구비하는 것이 바람직하다. The illumination device 120 is for irradiating light in the direction of the optical film 10 to provide the light necessary for the camera device 140 to photograph the surface of the optical film 10 and uses, for example, LED illumination . Of course, those skilled in the art will appreciate that the lighting device 120 may be other general lighting devices for LED lighting. The illumination device 120 preferably includes a pair of LED lights capable of moving in the width direction of the traveling optical film 10, respectively.

조명 장치(120)는 카메라 장치(140)가 광학 필름(10)의 표면을 촬영하는데 필요한 광을 제공하기 위해 광학 필름(10) 방향으로 광을 조사하기 위한 것으로서, 예를 들어, LED 조명을 이용한다. 물론, 조명 장치(120)는 LED 조명 이에 형광등, 백열등 등과 같은 조명을 이용할 수도 있음을 당업자는 이해할 것이다.The illumination device 120 is for irradiating light in the direction of the optical film 10 to provide the light necessary for the camera device 140 to photograph the surface of the optical film 10 and uses, for example, LED illumination . Of course, those skilled in the art will appreciate that the lighting device 120 may utilize an illumination such as a fluorescent lamp, an incandescent lamp, etc. for the LED illumination.

PL(편광) 필터(130)는 광학 필름(10)과 조명 장치(120) 사이에 배치되어, 측정이 필요한 광학 필름(10)의 종류에 상응하는 특정의 각도로 편광 기능을 수행한다. 또한, PL 필터(130)는 360도 각도로 회전 가능하게 설치되고, 광학 필름(10)의 각각의 패턴 경계 지역에 따른 위상 변화를 보상한다. 즉, PL 필터(130)는 카메라 장치(140)를 통해 광학 필름(10)의 총-피치를 촬영하기 전에 예를 들어, 광학 필름(10)에 부착된 보호 부재(12)의 위상차 및 광축에 적합한 위치를 찾기 위해 회전될 수 있는 구조이다. A PL (polarization) filter 130 is disposed between the optical film 10 and the illumination device 120 to perform a polarization function at a specific angle corresponding to the type of the optical film 10 to be measured. Further, the PL filter 130 is rotatably installed at a 360 degree angle, and compensates for a phase change according to each pattern boundary region of the optical film 10. That is, before the PL filter 130 captures the total-pitch of the optical film 10 through the camera device 140, the PL filter 130 detects the phase difference of the protective member 12 attached to the optical film 10, It is a structure that can be rotated to find a suitable position.

편광 필터(130)는 조명 장치(120)의 각각의 LED 조명에 근접되게 각각 위치된 한 쌍의 편광 필터들을 구비한다. 즉, 각각의 편광 필터(130)는 대응되는 LED 조명 및 카메라(142)와 함께 이동되는 구조이다. Polarizing filter 130 has a pair of polarizing filters each located proximate to each LED illumination of illuminator 120. That is, each polarizing filter 130 is a structure that is moved with the corresponding LED illumination and camera 142.

카메라 장치(140)는 조명 장치(120)로부터 조사된 광이 PL 필터(130)에 의해 편광되어 광학 필름(10)이 가지고 있는 편광축 및/또는 보호 부재(12)의 광축을 통해 보상 또는 편광된 빛에 의해 최적화된 광학 필름(10)의 표면을 촬영하기 위한 것으로서, 카메라(142)를 포함한다. The camera apparatus 140 is configured such that the light irradiated from the illumination device 120 is polarized by the PL filter 130 and compensated or polarized through the polarization axis of the optical film 10 and / And includes a camera 142 for photographing the surface of the optical film 10 optimized by light.

카메라 장치(140)의 각각의 카메라(142)는 한 쌍의 LED 조명들에 대응되도록 위치되어, 조명 장치(120)의 각각의 LED 조명과 함께 이동한다. Each camera 142 of the camera device 140 is positioned to correspond to a pair of LED lights and travels with each LED lighting of the lighting device 120.

CPL 필터(130)는 광학 필름(10)의 L 패턴(좌안용 패턴)과 R 패턴(우안용 패턴)을 분리시키고 빛의 산란을 제어하기 위한 것이다. 또한, CPL 필터(130)는 카메라(142)의 끝단에 설치된다. CPL 필터(130)는 대응되는 각각의 카메라(142)의 선단에 각각 위치된 한 쌍의 CPL 필터를 구비한다.The CPL filter 130 separates the L pattern (left eye pattern) and the R pattern (right eye pattern) of the optical film 10 and controls the light scattering. Further, the CPL filter 130 is installed at the end of the camera 142. The CPL filter 130 has a pair of CPL filters located respectively at the ends of the respective cameras 142 corresponding thereto.

조명 장치(120)와 카메라 장치(140)는 브라켓에 설치되고, 브라켓은 예를 들어, LM 가이드 등과 같은 리니어 모션 시스템에 의해 이동할 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that the illumination device 120 and the camera device 140 are mounted on a bracket and the bracket can be moved by a linear motion system, such as, for example, an LM guide or the like.

도 3은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템의 동작을 설명하는 개념도이다.3 is a conceptual diagram illustrating the operation of the total-pitch measurement system of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 광학 필름(10)은 디스플레이 기기에서 요구되는 제1 기준 총-피치를 가진 제1 광학 패턴(1)과 제2 기준 총-피치를 가진 제2 광학 패턴(3)으로 구획되어 있다. 여기서, 제1 광학 패턴(1)은 예를 들어, 32인치 디스플레이 기기에 적용될 수 있고, 제2 광학 패턴(3)은 예를 들어, 40인치 디스플레이 기기에 적용될 수 있다. 제1 광학 패턴(1)과 제2 광학 패턴(3)은 서로 다른 사이즈와 광특성을 가지며, 제1 광학 패턴(1)과 제2 광학 패턴(3)은 광학 필름(10)의 폭 방향으로 서로 소정 간격 이격되어 있다. 그리고, 제1 광학 패턴(1)의 양측에는 제1 가장자리 영역들(1a)(1b)이 마련되고 제2 광학 패턴(3)의 양측에는 제2 가장자리 영역들(3a)(3b)이 마련된다. 3, the optical film 10 is divided into a first optical pattern 1 having a first reference total-pitch required by a display device and a second optical pattern 3 having a second reference total- . Here, the first optical pattern 1 can be applied to, for example, a 32-inch display device, and the second optical pattern 3 can be applied to, for example, a 40-inch display device. The first optical pattern 1 and the second optical pattern 3 have different sizes and optical characteristics and the first optical pattern 1 and the second optical pattern 3 are arranged in the width direction of the optical film 10 And are spaced apart from each other by a predetermined distance. The first edge regions 1a and 1b are provided on both sides of the first optical pattern 1 and the second edge regions 3a and 3b are formed on both sides of the second optical pattern 3 .

이 상태에서 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템(100)은 리니어 모션 시스템을 작동시켜 카메라 장치(140)의 제1 카메라(144)와 제2 카메라(146)를 제1 광학 패턴(1)으로 이동시켜 카메라들(144)(146)을 제1 가장자리 영역들(1a)(1b) 위로 각각 위치시킨다. In this state, the optical film total-pitch measuring system 100 according to a preferred exemplary embodiment of the present invention operates the linear motion system to move the first camera 144 and the second camera 146 of the camera device 140, Is moved to the first optical pattern 1 to position the cameras 144 and 146 over the first edge regions 1a and 1b, respectively.

이어서, PL 필터(130)를 회전시키면서 제1 광학 패턴(1)의 위상 특성에 대해 최적 상태로 보상한 후 PL 필터(130)의 위치를 고정시킨다. Then, the position of the PL filter 130 is fixed after the PL filter 130 is rotated while compensating for the phase characteristic of the first optical pattern 1 in an optimum state.

다음, 리니어 모션 시스템에 의해 미세하게 이동될 수 있는 제1 카메라(144)를 이용하여 제1 광학 패턴(1)의 좌측의 제1 가장자리 영역(1a)을 확인한 후 그 자리에 제1 카메라(144)를 위치시키고, 역시 리니어 모션 시스템에 의해 미세하게 이동할 수 있는 제2 카메라(146)를 이용하여 제1 광학 패턴(1)의 우측 제1 가장자리 영역(1b)을 확인한 후 그 자리에 제2 카레라(146)를 위치시킨다. 이 상태에서, 조명 장치(120)에 의해 광이 광학 필름(10)에 조사되면 그 광은 광학 필름(10)을 투과하여 베이스 롤러(110)의 표면에 의해 반사되고 광학 필름(10)을 재 투과한다. 이 과정에서 제1 카메라(144)와 제2 카메라(146)를 작동시켜 제1 광학 패턴(1)의 제1 가장자리 영역들(1a)(1b)을 촬영한다. Next, the first camera 144, which can be finely moved by the linear motion system, is used to identify the first edge region 1a on the left side of the first optical pattern 1 and then the first camera 144 And the second camera 146 capable of finely moving by the linear motion system is used to confirm the right first edge region 1b of the first optical pattern 1 and then the second carrera (146). In this state, when light is irradiated onto the optical film 10 by the illumination device 120, the light is transmitted through the optical film 10, reflected by the surface of the base roller 110, Lt; / RTI > In this process, the first camera 144 and the second camera 146 are operated to photograph the first edge regions 1a and 1b of the first optical pattern 1.

이렇게 하여 측정된 제1 카메라(1a)와 제2 카메라(1b)의 간격은 제1 광학 패턴(1)의 실제 총-피치에 해당되고 그러한 데이터는 제어 유니트로 전송된다. 그러면, 제어 유니트는 위에서 확인된 간격(총-피치)가 제1 기준 총-피치의 한계 범위에 해당되는지 여부를 판단한다. The distance between the first camera 1a and the second camera 1b thus measured corresponds to the actual total-pitch of the first optical pattern 1, and such data is transmitted to the control unit. The control unit then determines whether the interval (total-pitch) identified above corresponds to the first reference total-pitch limit range.

다음, 리니어 모션 시스템을 다시 작동시켜, 제1 카메라(144)와 제2 카메라(146)를 제2 광학 패턴(3)으로 이동시킨다. 이 과정에서, 제1 카메라(144)는 제2 광학 패턴(3)의 좌측 가장자리 영역(3a) 위에 위치되고 제2 카메라(146)는 제2 광학 패턴(3)의 우측 가장자리 영역(3b) 위에 위치된다. 또한, 이 과정에서, 광학 필름(10)은 도면의 하방으로 이동되기 때문에 제2 광학 패턴(3)에서의 제1 카메라(144)와 제2 카메라(146)의 위치는 제1 광학 패턴(1)의 그것 보다 도면에서 상부로 이동되어 있다. 이것은 카메라들(144)(146)의 위치가 이동하는 것이 아니라 광학 필름(10)의 이동을 나타낸다는 사실을 당업자는 이해할 것이다.Next, the linear motion system is operated again, and the first camera 144 and the second camera 146 are moved to the second optical pattern 3. In this process, the first camera 144 is positioned on the left edge region 3a of the second optical pattern 3 and the second camera 146 is positioned on the right edge region 3b of the second optical pattern 3 . In this process, since the optical film 10 is moved downward in the figure, the positions of the first camera 144 and the second camera 146 in the second optical pattern 3 are the same as the positions of the first optical pattern 1 In the figure). It will be appreciated by those skilled in the art that the position of the cameras 144 (146) does not move, but rather the movement of the optical film (10).

다음, PL 필터(130)를 회전시키면서 제2 광학 패턴(3)을 촬영 장치(140)가 가장 잘 인식할 수 있도록 최적 상태로 보상한 후 PL 필터(130)의 위치를 고정시킨다. Next, the position of the PL filter 130 is fixed after the PL filter 130 is rotated while compensating the second optical pattern 3 in an optimal state so that the photographing apparatus 140 can best recognize the second optical pattern 3.

이어서, 전술한 바와 같이, 제1 광학 패턴(1)의 총-피치 측정과 동일한 방식으로 제2 광학 패턴(3)의 총-피치를 측정할 수 있다. Then, the total-pitch of the second optical pattern 3 can be measured in the same manner as the total-pitch measurement of the first optical pattern 1, as described above.

도 4는 본 발명의 다른 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템을 개략적으로 도시한 정면 구성도이고, 도 5는 도 4의 주요 부위의 측면 구성도이고, 도 6은 도 4의 주요 부위의 평면 구성도이다. 도 1 내지 도 3에서 설명된 참조부호와 동일한 구성요소는 동일한 기능을 가진 동일 부재이다.FIG. 4 is a schematic front view showing a total-pitch measurement system of an optical film according to another preferred embodiment of the present invention, FIG. 5 is a side view of the main part of FIG. 4, 4 is a plan view of the main parts. 1 to 3 are the same member having the same function.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 총-피치 측정 시스템(200)은, 전술한 실시예와 유사하게, 보호 필름(12)이 기재(14)의 일면에 선부착된 상태에서 기재(14)의 다른 면에 배향층(16)과 액정층(18)이 형성되어 FPR과 같은 광학 필름(10)을 생산하는 과정 즉, 광학 필름(10)이 와인더(미도시)에 와인딩되기 전의 IN-Line 상태에서, 소정 속도로 주행하는 광학 필름(10)에 형성된 적어도 하나 이상의 광학 패턴의 총-피치를 실시간으로 측정하기 위한 것이다. 따라서, 측정 시스템(200)에 의해 측정된 각각의 총-피치 데이터들은 실시간으로 모니터링되어 생산 공정 조건들(예, 습도 또는 온도)을 실시간으로 변화시키는 등의 필요한 조치를 취할 수 있으므로, 제품의 에러 발생을 현저히 감소시킬 수 있다.4 to 6, the total-pitch measuring system 200 according to the present embodiment is similar to the above-described embodiment in that, in a state in which the protective film 12 is stuck on one surface of the base 14 An orientation layer 16 and a liquid crystal layer 18 are formed on the other side of the base material 14 to produce an optical film 10 such as FPR, that is, the optical film 10 is wound on a winder In real-time, the total-pitch of at least one or more optical patterns formed on the optical film (10) traveling at a predetermined speed in an IN-Line state before the optical film (10). Thus, each total-pitch data measured by the measurement system 200 can be monitored in real time to take necessary actions such as changing production process conditions (e.g., humidity or temperature) in real time, Generation can be significantly reduced.

본 실시예에 따른 시스템(200)은 광학 필름(10)이 접촉되어 주행할 수 있는 베이스 롤러(210), 베이스 롤러(210)를 향해 광을 조사할 수 있는 조명 유니트(220), 베이스 롤러(210)의 표면으로부터 반사되는 빛에 의해 광학 필름(10)의 총-피치를 촬영할 수 있는 한 쌍의 카메라들(244)(246)을 구비하는 촬영 유니트(240), 및 조명 유니트(220)와 촬영 유니트(240)를 동시에 광학 필름의 폭 방향으로 왕복 이동시킬 수 있는 이송 유니트(250)를 구비한다. The system 200 according to the present embodiment includes a base roller 210 that can travel in contact with the optical film 10, a lighting unit 220 that can irradiate light toward the base roller 210, A photographing unit 240 having a pair of cameras 244 and 246 capable of photographing the total-pitch of the optical film 10 by light reflected from the surface of the light unit 210; And a transport unit 250 capable of reciprocating the photographing unit 240 in the width direction of the optical film at the same time.

베이스 롤러(210)는 조명 유니트(220)로부터 조사되는 광을 촬영 유니트(240)까지 반사시킴은 물론 촬영 유니트(240)에 의해 촬영되는 광학 필름(10)의 총-피치의 오차를 줄이기 위한 것이다. The base roller 210 is for reducing the total-pitch error of the optical film 10 taken by the photographing unit 240 as well as reflecting the light irradiated from the lighting unit 220 to the photographing unit 240 .

베이스 롤러(210)는 만약, 베이스 롤러(210) 없이 조명 유니트(220)에 의해 조사되는 빛이 광학 필름(10)을 투과하여 조명 유니트(220)의 반대편에 위치된 촬영 유니트(240)에 의해 촬영되는 경우, 폭 방향으로 충분히 길게 형성된 광학 필름(10)의 가장자리에서의 컬링 또는 굽혀지는 현상 등에 의해 촬영 유니트(240)에 의해 촬영되는 총-피치가 광학 필름(10)의 실제 총-피치와 차이가 발생되는 것을 방지하기 위한 것으로서, 실질적으로 편평한 표면을 가진 베이스 롤러(210)에 의해 광학 필름(10)이 편평하게 펼쳐진 상태 즉, 컬링 또는 굽혀짐에 의해 광학 필름(10)의 실제 총-피치에 오차가 발생되지 않는 상태에서 광학 필름(10)의 정확한 총-피치를 측정하기 위한 것이다. 이를 위해, 베이스 롤러(210)는 충분한 편평도를 가지도록 표면 처리되어야 하는 것은 당업자에게 자명하다. The base roller 210 is configured such that the light irradiated by the lighting unit 220 without the base roller 210 is transmitted by the photographing unit 240 located on the opposite side of the lighting unit 220 through the optical film 10 The total-pitch photographed by the photographing unit 240 by the curling or bending phenomenon at the edge of the optical film 10 formed sufficiently long in the width direction and the like is smaller than the actual total-pitch of the optical film 10 The optical film 10 is flattened by the base roller 210 having a substantially flat surface, that is, curled or bent so that the actual total- Pitch of the optical film 10 in a state in which no error is generated in the pitch. To this end, it is apparent to those skilled in the art that the base roller 210 should be surface treated to have sufficient flatness.

또한, 베이스 롤러(210)는 조명 유니트(220)로부터 조사되는 빛을 촬영 유니트(240) 방향으로 반사시키기 위한 반사부(212)를 구비한다. 반사부(212)는 스테인리스 스틸 또는 표면 조도가 우수한 금속으로 제작되는 경우, 경면 처리에 의해 조명 유니트(220)의 빛을 반사시킬 수도 있다. 그러나, 본 실시예에 따른 베이스 롤러(210)의 반사부(212)는 베이스 롤러(210)의 표면에 유리, 은, 또는 기타 반사율이 우수한 물질을 코팅하거나 베이스 롤러(210)의 표면을 도금 또는 이와 유사한 방식으로 표면 처리하는 것을 포함한다. The base roller 210 has a reflecting portion 212 for reflecting the light emitted from the lighting unit 220 toward the photographing unit 240. When the reflective portion 212 is made of stainless steel or a metal having excellent surface roughness, the reflective portion 212 may reflect light of the lighting unit 220 by a mirror surface treatment. However, the reflective portion 212 of the base roller 210 according to the present embodiment may be formed by coating a surface of the base roller 210 with a material having excellent glass, silver, or other reflectance, And surface treatment in a similar manner.

촬영 유니트(240)는 주행하는 광학 필름(10)에 형성된 소정 패턴의 총-피치의 가장자리 영역들(1a)(1b) 또는 가장자리 영역들(3a)(3b)을 동시에 연속적으로 각각 촬영할 수 있는 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)를 구비한다. 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)는 각각 후술하는 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)에 설치되며, 통상의 해상도를 가진 CCD카메라가 이용된다. The photographing unit 240 is capable of continuously photographing the edge regions 1a and 1b or the edge regions 3a and 3b of the total-pitch of the predetermined pattern formed on the traveling optical film 10, 1 camera 244 and a second camera 246. The first camera 244 and the second camera 246 are installed in the first bracket 252 and the second bracket 254, respectively, and a CCD camera having a normal resolution is used.

조명 유니트(220)는 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)에 대응되도록 각각 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)에 설치된 제1 LED 조명(222)과 제2 LED 조명(224)을 구비한다. 바람직하게, 제1 LED 조명(222)과 제2 LED 조명(224)은 후술하는 제1 필터 유니트(230)의 필터 프레임(233)의 관통공(234)과 일직선이 유지되도록 설치된다.The lighting unit 220 includes a first LED lighting unit 222 and a second LED lighting unit 222 installed on the first bracket 252 and the second bracket 254 to correspond to the first camera 244 and the second camera 246, (224). The first LED illumination 222 and the second LED illumination 224 are installed so as to maintain a straight line with the through hole 234 of the filter frame 233 of the first filter unit 230 to be described later.

전술한 촬영 유니트(240)와 조명 유니트(220)는 베이스 롤러(210)의 표면에 대해 45도 각도로 배치된다. 즉, 조명 유니트(220)는 수평 광을 조사할 수 있도록 수직으로 배치되는 반면, 촬영 유니트(240)의 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)는 수평선에 대해 45도 각도로 경사지게 배치된다.The above-described photographing unit 240 and the lighting unit 220 are disposed at an angle of 45 degrees with respect to the surface of the base roller 210. That is, the first camera 244 and the second camera 246 of the photographing unit 240 are arranged to be inclined at a 45-degree angle with respect to the horizontal line, while the lighting unit 220 is vertically arranged to irradiate the horizontal light. do.

이송 유니트(250)는 전술한 바와 같이 촬영 유니트(240)의 제1 카메라(244)와 조명 유니트(220)의 제1 LED 조명(222)이 설치된 제1 브라켓(252)과 촬영 유니트(240)의 제2 카메라(246)와 조명 유니트(220)의 제2 LED 조명(224)이 설치된 제2 브라켓(254)을 포함하는 브라켓, 및 제1 브라켓(252)과 제1 이송 프레임(251) 사이에 설치된 제1 LM 가이드(256)와 제2 브라켓(254)과 제2 이송 프레임(253) 사이에 설치된 제2 LM 가이드(258)를 포함하는 LM 가이드를 구비한다. 이러한 LM 가이드는 각각의 브라켓(252)(254)에 설치된 조명 유니트(220)와 촬영 유니트(240)를 단일의 브라켓에 의해 예를 들어, 1마이크로미터 단위로 이동시켜 총-피치의 정밀 측정이 가능하도록 한다. 또한, 이송 유니트(250)는 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)의 충돌을 방지하기 위한 충돌 방지 센서(260)를 구비한다. The transfer unit 250 includes a first bracket 252 and a first unit 242 installed in the first unit 244 of the photographing unit 240 and the first LED illuminator 222 of the unit 220, A bracket including a second camera 246 of the illumination unit 220 and a second bracket 254 provided with a second LED illumination unit 224 of the illumination unit 220 and a bracket including a second bracket 254 provided between the first bracket 252 and the first transfer frame 251 And a second LM guide 258 disposed between the second bracket 254 and the second transfer frame 253. Such an LM guide moves a lighting unit 220 and a photographing unit 240 installed in each of the brackets 252 and 254 by a single bracket, for example, by 1 micrometer unit, . The transfer unit 250 is provided with an anti-collision sensor 260 for preventing the first bracket 252 and the second bracket 254 from colliding with each other.

전술한 바와 같이, 제1 브라켓(252)은 제1 카메라(244)와 이에 대응되는 제1 LED 조명(222)이 한 세트로 함께 설치되며, 제2 브라켓(254)은 제2 카메라(246)와 이에 대응되는 제2 LED 조명(224)이 한 세트로 함께 설치된다. The first bracket 252 includes a first camera 244 and a corresponding first LED illumination 222 as a set together and the second bracket 254 includes a second camera 246, And the corresponding second LED illumination 224 are installed together as one set.

제1 브라켓(252)은 제1 이송 프레임(251)에 마련된 제1 가이드 레일(255)에 결합된 제1 LM 가이드(256)에 의해 광학 필름(10)의 폭 방향으로 이동 가능하고, 제2 브라켓(254)은 제2 이송 프레임(253)에 마련된 제2 가이드 레일(257)에 결합된 제2 LM 가이드(258)에 의해 광학 필름(10)의 폭 방향으로 이동 가능하다.The first bracket 252 is movable in the width direction of the optical film 10 by the first LM guide 256 coupled to the first guide rail 255 provided in the first transport frame 251, The bracket 254 is movable in the width direction of the optical film 10 by the second LM guide 258 coupled to the second guide rail 257 provided in the second transfer frame 253.

전술한 제1 카메라(244)는 광학 필름(10)의 어느 하나의 광학 패턴(1)(3)의 어느 하나의 측면에 해당하는 제1 가장자리 영역(1a)(3a)을 촬영하기 위한 것이고, 제2 카메라(246)는 전술한 광학 패턴(1)(3)의 제2 가장자리 영역(1b)(3b) 위에 위치되어 그러한 가장자리 영역을 촬영하기 위한 것이다. 따라서, 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)가 제1 가장자리 영역(1a)(3a)과 제2 가장자리 영역(1b)(3b) 위에서 해당 광학 패턴(1)(3)을 동시에 촬영하게 되면, 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246) 사이의 간격이 실제 광학 패턴(1)(3)의 총-피치가 된다. The first camera 244 described above is for photographing the first edge regions 1a and 3a corresponding to either side of any one of the optical patterns 1 and 3 of the optical film 10, The second camera 246 is located above the second edge regions 1b and 3b of the optical patterns 1 and 3 described above and is for photographing such edge regions. Therefore, when the first camera 244 and the second camera 246 simultaneously photograph the optical patterns 1 and 3 on the first edge areas 1a and 3a and the second edge areas 1b and 3b , The distance between the first camera 244 and the second camera 246 becomes the total-pitch of the actual optical patterns 1 and 3.

전술한 실시예에서 설명된 바와 같이, 광학 필름(10)은 예를 들어, 서로 다른 광축을 갖는 L 및 R 패턴들이 형성되어 있고, 배향층(16)과 액정층(18)이 형성된 기재(14)가 주행하는 과정에서 와인더에 와인딩되기 전의 인-라인(IN-Line) 상태에 있으며, 베이스 롤러(210)에 접촉되도록 광학 필름(10)의 일면에 부착된 보호 부재(12)를 가진 패턴드 리타드 필름(FPR)이다. 여기서, 보호 부재(12)는 광축과 위상차를 가진 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름이고, PET 필름은 제어된 광축 편차를 가지도록 배향된 배향 PET 필름 또는 광축 편차가 제어되지 않은 비배향 PET 필름일 수 있다. As described in the above-described embodiment, the optical film 10 is formed of, for example, a substrate 14 (e.g., a liquid crystal layer) in which L and R patterns having different optical axes are formed and an alignment layer 16 and a liquid crystal layer 18 are formed Having a protective member 12 attached to one surface of the optical film 10 in contact with the base roller 210 in the in-line state before being wound on the winder in the course of running, Is a deep-drawn film (FPR). Here, the protective member 12 is a polyethylene terephthalate (PET) film having a phase difference from the optical axis, and the PET film may be an oriented PET film oriented to have a controlled optical axis deviation or a non-oriented PET film have.

한편, 광학 필름(10)은 총-피치를 가진 광패턴이 형성된 그 어떤 다른 필름 예를 들어, 편광 필름 등을 포함할 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. On the other hand, those skilled in the art will understand that the optical film 10 may include any other film formed with a light pattern having a total-pitch, for example, a polarizing film or the like.

도 7은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 광 패턴의 일부를 개략적으로 도시한 확대 평면도이다. 7 is an enlarged plan view schematically showing a part of a light pattern of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 도 7의 세로 방향은 광학 필름(10)의 폭 방향으로서, 이송 유니트(250)에 의해 촬영 유니트(240)의 카메라들(244)(246)과 조명 유니트(220)가 이동하는 방향이다. 여기서, 광학 필름(10)의 총-피치는 광학 필름(10)에 형성된 하나 또는 그 이상의 광학 패턴들(1)(3)에 있어서 각각의 광학 패턴의 총-피치를 의미하는 것으로서, 도 7의 경우, 광학 필름(10)의 임의의 광학 패턴의 상측 가장자리의 제1 기준선(201)과 하측 가장자리의 제2 기준선(203) 사이의 거리를 의미한다. 여기서, 제1 기준선(201)은 위로부터 3번째 패턴 영역(P3)과 네 번째 패턴 영역(P4) 사이의 선이고, 제2 기준선(203)은 아래로부터 4번째 패턴 영역(P2)과 다섯 번째 패턴 영역(P1) 사이의 선이다. 또한, 도 7에서, 총-피치는 1080개의 패턴 영역들의 개별 피치들의 총합이다. 여기서, 1080개의 패턴 영역들은 디스플레이 기기의 픽셀 라인들에 대응되고, 상측 가장자리와 하측 가장자리의 각각의 2개의 패턴 영역들은 최종 디스플레이 기기에 사용될 경우 버려지는 부분이다. 7, the longitudinal direction of FIG. 7 is a width direction of the optical film 10, and the cameras 244 and 246 of the photographing unit 240 and the illuminating unit 220 are moved by the conveying unit 250 Direction. Here, the total-pitch of the optical film 10 means the total-pitch of each optical pattern in one or more optical patterns 1 and 3 formed on the optical film 10, Means the distance between the first reference line 201 at the upper edge of the arbitrary optical pattern of the optical film 10 and the second reference line 203 at the lower edge. Here, the first reference line 201 is a line between a third pattern region P3 and a fourth pattern region P4 from the top, a second reference line 203 is a line between the fourth pattern region P2 from the bottom, And is a line between the pattern regions P1. Also, in Figure 7, the total-pitch is the sum of the individual pitches of the 1080 pattern areas. Here, 1080 pattern areas correspond to the pixel lines of the display device, and each of the two pattern areas of the upper and lower edges is discarded when used in the final display device.

일반적으로, FPR과 같은 광학 필름(10)의 총-피치는 디스플레이 기기의 크기 또는 고객의 요구 사항 등에 따라 달라질 수 있지만 대략 60마이크로미터 내지 150마이크로미터 사이에서 결정된다. Generally, the total-pitch of the optical film 10, such as the FPR, is determined between approximately 60 micrometers and 150 micrometers, although it may vary depending on the size of the display device or the customer's requirements.

도 8은 도 4의 제1 필터 유니트 부위의 확대도이다.8 is an enlarged view of the first filter unit portion of FIG.

도 4 및 도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 총-피치 측정 시스템(200)은 광학 필름(10)과 조명 유니트(220) 사이에 배치된 제1 필터 유니트(230)를 더 구비한다. 제1 필터 유니트(230)는 광학 필름(10)의 위상 변화를 자동으로 보상하기 위해, 360도 각도로 정,역 회전 가능하게 배치된 편광 필터(232)를 구비한다. 이를 위해, 제1 필터 유니트(230)는 제1 LED 조명(222)에 근접되게 위치된 제1 편광 필터(232)와 제2 LED 조명(224)에 근접되게 위치된 제2 편광 필터(234)를 구비한다. 따라서, 제1 필터 유니트(230) 역시 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)에 각각 설치되며 제1 편광 필터(232)와 제2 편광 필터(234)는 동일한 구조와 작동 원리를 가진다. 따라서, 이하에서는 제1 편광 필터(232)에 대해서만 설명하기로 한다.Referring to FIGS. 4 and 8, the total-pitch measuring system 200 according to the present embodiment further includes a first filter unit 230 disposed between the optical film 10 and the lighting unit 220. The first filter unit 230 includes a polarizing filter 232 arranged to be able to rotate forward and backward at 360 degrees in order to automatically compensate for the phase change of the optical film 10. [ To this end, the first filter unit 230 includes a first polarizing filter 232 positioned proximate to the first LED illumination 222 and a second polarizing filter 234 positioned proximate to the second LED illumination 224, Respectively. Accordingly, the first filter unit 230 is also installed in the first bracket 252 and the second bracket 254, and the first polarizing filter 232 and the second polarizing filter 234 have the same structure and operation principle . Therefore, only the first polarized light filter 232 will be described below.

제1 편광 필터(232)는 원형의 필터 본체(232), 및 필터 본체(232)를 회전시키기 위한 회전부재를 구비한다. 회전부재는 예를 들어, 광학 필름(10)의 폭 방향으로 서로 다른 광학 패턴들(예, 32인지 패턴, 40인치 패턴 등)의 각각의 총-피치를 순차적으로 측정할 경우, 먼저 32인치 패턴에 적합하도록 제1 편광 필터(232)를 회전시켜 총-피치를 측정한 후 다음 40인치 패턴의 경우, 40인치가 가지고 있는 편광 특성 및/또는 보호 부재(12)의 위상차 등에 최적화되도록 제1 편광 필터(232)를 회전시키기 위한 것이다. 즉, 회전부재는 서로 다른 광학 패턴들을 가진 구간 사이에서 촬영 유니트(240)가 이동되는 경우, 광학 패턴 고유의 광학적 특성에 맞도록 보상하거나 최적화시키기 위한 것이다.The first polarizing filter 232 has a circular filter body 232 and a rotating member for rotating the filter body 232. When the rotating member sequentially measures the total-pitch of each of the optical patterns (for example, 32-pattern, 40-inch pattern, etc.) in the width direction of the optical film 10, Pitch is measured by rotating the first polarizing filter 232 so as to be suitable for the first polarizing filter 232 and the first polarizing filter 232 to be optimized for the polarizing characteristic of the 40-inch and / or the retardation of the protective member 12 in the case of the next 40- To rotate the filter 232. That is, the rotating member is intended to compensate or optimize the optical pattern-specific optical characteristics when the photographing unit 240 is moved between sections having different optical patterns.

회전부재는 필터 본체(232)를 베어링(236)에 의해 관통공(234)에 회전 가능하게 지지하고 외주면에 제1 풀리(238)가 마련된 필터 회전체(231), 필터 프레임(233)에 설치된 구동원(235)의 회전축에 마련된 제2 풀리(237), 제1 풀리(238)와 제2 풀리(237)를 연결하는 벨트(239), 및 필터 본체(232)의 회전 방향 및 각도를 측정하기 위한 센서부재(270)를 구비한다. The rotating member includes a filter rotating body 231 having a first pulley 238 provided on the outer circumferential surface of the filter body 232 to be rotatably supported on the through hole 234 by a bearing 236, A second pulley 237 provided on the rotary shaft of the driving source 235, a belt 239 connecting the first pulley 238 and the second pulley 237, and a rotation direction and angle of the filter main body 232 And a sensor member 270 for detecting the temperature of the liquid.

필터 본체(232)는 실질적으로 직육면체 형상을 가지며 알루미늄 또는 합성 수지로 제조된다. 필터 본체(232)는 관통공(234)과 연통될 수 있으며 제2 풀리(237)가 위치될 수 있는 내부 공간이 마련된다. 관통공(234)의 내부에 위치된 필터 회전체는 베어링(236)에 의해 지지되고, 베어링(236)은 필터 본체(232)의 일면에 결합되고 후술하는 채널과 동축적으로 배치되는 개구를 가진 베어링 커버에 의해 관통공(234) 내부에 결합된다. 필터 프레임(233)은 편광 필터(232)가 수납되는 하우징 및 하우징과 연통되는 채널을 구비한다. 편광 필터(232)는 필터 커버(272)에 의해 고정된다. 제1 풀리(238)는 필터 프레임(233)의 외주면에 형성되고 타이밍 풀리의 구조를 가지는 것이 바람직하다.The filter body 232 has a substantially rectangular parallelepiped shape and is made of aluminum or a synthetic resin. The filter body 232 can communicate with the through hole 234 and is provided with an internal space in which the second pulley 237 can be located. The filter rotator located inside the through hole 234 is supported by a bearing 236 and the bearing 236 is coupled to one surface of the filter body 232 and has an opening coaxially disposed with a channel And is coupled into the through hole 234 by a bearing cover. The filter frame 233 has a housing in which the polarizing filter 232 is accommodated and a channel communicating with the housing. The polarizing filter 232 is fixed by a filter cover 272. It is preferable that the first pulley 238 is formed on the outer peripheral surface of the filter frame 233 and has a structure of a timing pulley.

구동원(235)은 예를 들어, 정,역 회전 가능한 스텝 모터로 구성될 수 있다. 구동원(235)은 필터 프레임(233)에 결합되는 모터 커버(미도시)에 의해 보호된다. 구동원(235)의 회전축에는 타이밍 풀리 형태의 제2 풀리(237)가 설치된다. 제1 풀리(238)와 제2 풀리(237)에는 타이밍 벨트의 구조를 가진 벨트(239)가 설치된다.The driving source 235 may be constituted by, for example, a forward or reverse rotatable step motor. The driving source 235 is protected by a motor cover (not shown) coupled to the filter frame 233. A second pulley 237 in the form of a timing pulley is mounted on the rotating shaft of the driving source 235. The first pulley 238 and the second pulley 237 are provided with a belt 239 having a timing belt structure.

센서부재(270)는 제2 풀리(237)에 근접되게 구동원(235)의 회전축의 끝단에 마련되고, 하나 또는 그 이상의 홈들 또는 구멍들로 구성된 기준부가 마련된 센서 도그(274) 및 센서 도그(274)의 기준부에 대응되도록 위치되며 발광부와 수광부를 구비하는 포토 센서(276)를 구비한다. 센서부재(270)는 구동원(235)의 회전 방향 및 회전 속도에 의해 편광 필터(232)의 회전 각도 및 방향을 결정할 수 있다.The sensor member 270 includes a sensor dog 274 and a sensor dog 274 provided at the end of the rotational axis of the drive source 235 proximate to the second pulley 237 and provided with a reference consisting of one or more grooves or holes. And a photosensor 276 having a light emitting portion and a light receiving portion. The sensor member 270 can determine the rotation angle and direction of the polarization filter 232 by the rotation direction and rotation speed of the driving source 235. [

본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템(200)은 광학 필름(10)과 촬영 유니트(240) 사이에 배치된 제2 필터 유니트(260)를 더 구비한다. 제2 필터 유니트(260)는 광학 필름(10)의 L 및 R 패턴들을 분리하고 빛의 산란을 제어하기 위한 것으로서, 촬영 유니트(240)와 일체로 마련되며 원형의 구조를 가진 원형 편광 필터(262)(264)를 구비한다.The total-pitch measurement system 200 of an optical film according to a preferred exemplary embodiment of the present invention further includes a second filter unit 260 disposed between the optical film 10 and the photographing unit 240. The second filter unit 260 separates the L and R patterns of the optical film 10 and controls scattering of light. The second filter unit 260 includes a circular polarizing filter 262 ) ≪ / RTI >

원형 편광 필터(260)는 제1 카메라(244)의 선단에 고정된 제1 원형 편광 필터(262)와 제2 카메라(246)의 선단에 고정된 제2 원형 편광 필터(264)를 구비한다. 따라서, 제2 필터 유니트(260) 역시 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)에 각각 설치되며 제1 원형 편광 필터(262)와 제2 원형 편광 필터(264)는 동일한 구조와 작동 원리를 가진다. The circular polarization filter 260 includes a first circular polarization filter 262 fixed to the front end of the first camera 244 and a second circular polarization filter 264 fixed to the front end of the second camera 246. The second circular polarization filter 262 and the second circular polarization filter 264 are provided in the first bracket 252 and the second bracket 254 respectively and have the same structure and operation principle .

도 4 내지 도 6을 참조하면, 제2 필터 유니트(260)는 촬영 유니트(240)의 한 쌍의 카메라들(244)(246)의 각각 끝단에서 카메라(244)(246)와 일체로 배치된다. 4 to 6, the second filter unit 260 is disposed integrally with the cameras 244 and 246 at each end of a pair of cameras 244 and 246 of the photographing unit 240 .

본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 광학 필름의 총-피치 측정 시스템의 측정 플로우를 도 3을 참조하여 설명한다.The measurement flow of the total-pitch measuring system of the optical film according to the preferred exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to Fig.

도 3에 도시된 바와 같이, 우선, 광학 필름(10)의 원단 구조를 인식한다. 즉, 광학 필름(10)은 그 폭 방향으로 각각 제1 광학 패턴(1)과 제2 광학 패턴(3)을 가지고 있음을 인식한다.As shown in Fig. 3, first, the fabric structure of the optical film 10 is recognized. That is, the optical film 10 recognizes that it has the first optical pattern 1 and the second optical pattern 3 in the width direction, respectively.

다음, 제1 광학 패턴(1)의 측정 지점으로 제1 카메라(244)와 제1 LED 조명(222)이 설치된 제1 브라켓(252)과 제2 카메라(246)와 제2 LED 조명(224)이 설치된 제2 브라켓(254)을 각각 이동시킨다. 여기서, 제1 카메라(244)는 제1 광학 패턴(1)의 좌측 가장자리 영역에 위치하고 제2 광학 패턴(3)은 제1 광학 패턴(1)의 우측 가장자리 영역에 위치하게 된다.Next, a first bracket 252, a second camera 246, and a second LED illuminator 224, which are provided with the first camera 244 and the first LED illuminator 222 as measuring points of the first optical pattern 1, And the second bracket 254 provided with the second bracket 254 is moved. Here, the first camera 244 is located in the left edge region of the first optical pattern 1, and the second optical pattern 3 is located in the right edge region of the first optical pattern 1. [

이어서, 제1 광학 패턴(1)을 최적의 상태에서 촬영 유니트(240)가 촬영할 수 있도록 제1 필터 유니트(230)의 편광 필터(232)를 회전시키면서 제1 광학 패턴(1)과 편광 필터(232)를 매칭시킨다. The first optical pattern 1 and the polarizing filter 232 are rotated while rotating the polarizing filter 232 of the first filter unit 230 so that the photographing unit 240 can photograph the first optical pattern 1 in an optimal state 232).

다음, 이송 유니트(250)를 구동시켜 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)를 제1 광학 패턴(1)의 가장자리 영역의 상부로 이동시켜, 제1 기준선(201)과 제2 기준선(203)을 확인하기 위해 이송 유니트(250)를 미세하게 이동시킨다. 이러한 미세 이동이 완료되면 촬영 유니트(240)의 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)는 동시에 해당 영역을 촬영한다. 이러한 촬영 순간에서 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)의 기구적 간격을 측정함으로써 광학 필름(10)의 제1 광학 패턴(1)의 실제 총-피치를 측정한다. 여기서, 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)의 간격은 이송 유니트(250)의 제1 LM 가이드(256)와 제2 LM 가이드(258)의 거리를 기준으로 산출한다. Next, the transfer unit 250 is driven to move the first camera 244 and the second camera 246 to the upper portion of the edge region of the first optical pattern 1 so that the first and second reference lines 201, The transfer unit 250 is moved finely to confirm the transfer unit 203. When the fine movement is completed, the first camera 244 and the second camera 246 of the photographing unit 240 photograph the corresponding area at the same time. The actual total-pitch of the first optical pattern 1 of the optical film 10 is measured by measuring the mechanical distance between the first camera 244 and the second camera 246 at this shooting moment. The distance between the first camera 244 and the second camera 246 is calculated based on the distance between the first LM guide 256 and the second LM guide 258 of the transfer unit 250.

한편, 제1 광학 패턴(1)의 총-피치의 측정이 완료되면, 이송 유니트(250)의 제1 LM 가이드(256)와 제2 LM 가이드(258)는 각각 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)을 제2 광학 패턴(3)의 측정 지점으로 이동시킨다. 그러면, 제1 원형 편광 필터(262)를 포함하는 제1 카메라(244)와 제1 LED 조명(222)에 인접하게 설치된 제1 편광 필터(232)는 제1 브라켓(252)의 이동에 의해 함께 이동하고, 제1 원형 편광 필터(262)를 포함하는 제2 카메라(246)와 제2 LED 조명(224)에 인접하게 설치된 제2 편광 필터(234)는 제2 브라켓(254)의 이동에 의해 함께 이동하게 된다. 이러한 제2 광학 패턴(3)의 총-피치의 구체적인 측정 방식은 전술한 제1 광학 패턴(1)의 그것과 동일하므로 그 상세한 설명은 생략한다. 이와 같이, 측정이 완료되면, 다시 이송 유니트(250)는 제1 브라켓(252)과 제2 브라켓(254)을 광학 필름(10)의 제1 광학 패턴(1)의 영역으로 이동시켜 제1 카메라(244)와 제2 카메라(246)를 각각 해당 영역 위에 위치시킨다.
The first LM guide 256 and the second LM guide 258 of the transfer unit 250 are moved to the first and second brackets 252 and 252, respectively, 2 bracket 254 to the measurement point of the second optical pattern 3. The first camera 244 including the first circular polarization filter 262 and the first polarizing filter 232 installed adjacent to the first LED illumination 222 are then moved together by the movement of the first bracket 252 The second camera 246 including the first circular polarization filter 262 and the second polarizing filter 234 installed adjacent to the second LED illumination 224 are moved by the movement of the second bracket 254 And move together. Since the method of measuring the total-pitch of the second optical pattern 3 is the same as that of the first optical pattern 1 described above, detailed description thereof will be omitted. When the measurement is completed, the transfer unit 250 moves the first bracket 252 and the second bracket 254 to the area of the first optical pattern 1 of the optical film 10, The first camera 244 and the second camera 246 are positioned above the corresponding areas.

10…광학 필름
100,200…총-피치 측정 장치
110,210…베이스 롤러
120,220…조명 유니트
130,230…제1 필터 유니트
140,240…촬영 유니트
150,250…제2 필터 유니트
10 ... Optical film
100, 200 ... Total-pitch measuring device
110, 210 ... Base roller
120, 220 ... Lighting unit
130, 230 ... The first filter unit
140, 240 ... Shooting unit
150, 250 ... The second filter unit

Claims (21)

미리 결정된 속도로 주행하는 광학 필름에 형성된 광학 패턴의 양쪽 가장자리 영역 사이의 거리에 해당하는 총-피치를 측정하기 위한 시스템에 있어서,
상기 광학 필름이 접촉되어 주행하며 표면에서 광을 반사시키는 베이스 롤러;
상기 베이스 롤러에 밀착되어 주행하는 상기 광학 필름의 영역 중에서 상기 양쪽 가장자리 영역을 향해 광을 조사할 수 있는 조명 유니트;
상기 양쪽 가장자리 영역에 대응되는 상기 베이스 롤러의 표면으로부터 반사되는 빛을 상기 양쪽 가장자리 영역에 대응되는 위치에서 촬영할 수 있는 한 쌍의 카메라를 포함하는 촬영 유니트; 및
상기 조명 유니트와 상기 촬영 유니트를 동시에 상기 광학 필름의 폭 방향으로 왕복 이동시킬 수 있는 이송 유니트를 구비하고,
상기 반사되는 빛을 촬영한 한 쌍의 카메라 거리를 이용하여 상기 총-피치를 측정하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
A system for measuring a total-pitch corresponding to a distance between both edge regions of an optical pattern formed on an optical film traveling at a predetermined speed,
A base roller which travels in contact with the optical film and reflects light on the surface;
An illuminating unit capable of irradiating light toward the both edge regions of the region of the optical film running in close contact with the base roller;
And a pair of cameras capable of photographing light reflected from the surface of the base roller corresponding to the both edge regions at a position corresponding to the both edge regions; And
And a transporting unit capable of reciprocating the lighting unit and the photographing unit in the width direction of the optical film at the same time,
Wherein the total-pitch is measured using a pair of camera distances of the reflected light.
청구항 1에 있어서,
상기 광학 필름은 서로 다른 광축을 갖는 L 및 R 패턴들이 형성된 패턴드 리타드 필름(FPR)인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the optical film is a pattern relief film (FPR) in which L and R patterns having different optical axes are formed.
청구항 2에 있어서,
상기 FPR은 배향층과 액정층이 형성된 기재가 주행하는 과정에서 와인더에 와인딩되기 전의 인-라인(IN-Line) 상태에 있는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 2,
Wherein the FPR is in an in-line state before the substrate is wound on the winder in the course of running the substrate on which the alignment layer and the liquid crystal layer are formed.
청구항 2에 있어서,
상기 광학 필름의 일면에는 보호 부재가 부착된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 2,
Wherein a protective member is attached to one surface of the optical film.
청구항 4에 있어서,
상기 보호 부재는 상기 베이스 롤러에 접촉되도록 상기 광학 필름의 면에 부착된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 4,
Wherein the protective member is attached to a surface of the optical film so as to be in contact with the base roller.
청구항 4에 있어서,
상기 보호 부재는 광축과 위상차를 가진 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 4,
Wherein the protective member is a polyethylene terephthalate (PET) film having an optical axis and a phase difference.
청구항 6에 있어서,
상기 PET 필름은 제어된 광축 편차를 가지도록 배향된 배향 PET 필름 또는 광축 편차가 제어되지 않은 비배향 PET 필름인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 6,
Wherein the PET film is an oriented PET film oriented to have a controlled optical axis deviation or a non-oriented PET film whose optical axis deviation is not controlled.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 총-피치는 상기 광학 필름의 폭 방향의 어느 하나의 가장자리의 제1 기준선으로터 다른 가장자리의 제2 기준선까지의 거리인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the total-pitch is a distance from a first reference line of one of the edges in the width direction of the optical film to a second reference line of another edge of the optical film.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 광학 필름과 상기 조명 유니트 사이에 배치된 제1 필터 유니트; 및
상기 광학 필름과 상기 촬영 유니트 사이에 배치된 제2 필터 유니트를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
A first filter unit disposed between the optical film and the illumination unit; And
Further comprising a second filter unit disposed between the optical film and the photographing unit.
청구항 9에 있어서,
상기 제1 필터 유니트는 편광 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 9,
Wherein the first filter unit comprises a polarizing filter.
청구항 10에 있어서,
상기 편광 필터는 상기 광학 필름의 위상 변화를 자동으로 보상하기 위해, 360도 각도로 정,역 회전 가능하도록 배치된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 10,
Wherein the polarizing filter is disposed so as to be able to rotate forward and backward at 360 degrees in order to automatically compensate for the phase change of the optical film.
청구항 10에 있어서,
상기 편광 필터는:
원형의 필터 본체 및
상기 필터 본체를 회전시키기 위한 회전부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 10,
Wherein the polarizing filter comprises:
The circular filter body and
And a rotating member for rotating the filter body.
청구항 12에 있어서,
상기 회전부재는:
상기 필터 본체를 베어링에 의해 관통공에 회전 가능하게 지지하고, 외주면에 제1 풀리가 마련된 필터 회전체;
필터 프레임에 설치된 구동원의 회전축에 마련된 제2 풀리; 및
상기 제1 풀리와 상기 제2 풀리를 연결하는 벨트를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 12,
The rotating member comprises:
A filter body rotatably supported on the through hole by a bearing and having a first pulley on an outer circumferential surface thereof;
A second pulley provided on a rotary shaft of a driving source provided in the filter frame; And
And a belt connecting the first pulley and the second pulley.
청구항 12에 있어서,
상기 편광 필터는 상기 회전부재의 회전 방향 및 각도를 측정하기 위한 센서부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 12,
Wherein the polarizing filter further comprises a sensor member for measuring a rotating direction and an angle of the rotating member.
청구항 9에 있어서,
상기 제2 필터 유니트는 상기 광학 필름의 L 및 R 패턴들을 분리하고 빛의 산란을 제어하기 위한 원형 편광 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method of claim 9,
Wherein the second filter unit comprises a circular polarization filter for separating L and R patterns of the optical film and for controlling scattering of light.
청구항 15에 있어서,
상기 원형 편광 필터는 상기 촬영 유니트의 카메라의 끝단에서 상기 카메라와 일체로 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
16. The method of claim 15,
Wherein the circular polarization filter is disposed integrally with the camera at an end of the camera of the photographing unit.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 베이스 롤러는 상기 조명 유니트로부터 조사되는 광을 상기 촬영 유니트까지 반사시킬 수 있는 반사부가 마련된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the base roller is provided with a reflecting portion capable of reflecting light emitted from the lighting unit to the photographing unit.
청구항 17에 있어서,
상기 반사부는 상기 베이스 롤러의 표면에 코팅되거나 표면 처리된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
18. The method of claim 17,
Wherein the reflective portion is coated or surface-treated on the surface of the base roller.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 한 쌍의 카메라는 상기 광학 필름에 형성된 패턴의 총-피치의 제1 기준선 부분과 제2 기준선 부분을 동시에 촬영할 수 있고,;
상기 조명 유니트는 상기 한 쌍의 카메라들의 각각에 대응되도록 설치된 한 쌍의 LED 조명을 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
The pair of cameras can simultaneously photograph the first baseline portion and the second baseline portion of the total-pitch of the pattern formed on the optical film;
Wherein the illumination unit comprises a pair of LED lights adapted to correspond to each of the pair of cameras.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 촬영 유니트와 상기 조명 유니트는 상기 베이스 롤러의 표면에 대해 45도 각도로 배치된 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the photographing unit and the lighting unit are disposed at an angle of 45 degrees with respect to the surface of the base roller.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 이송 유니트는:
상기 촬영 유니트와 상기 조명 유니트가 설치되는 브라켓; 및
상기 브라켓과 이송 프레임 사이에 설치된 LM 가이드를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총-피치 측정 시스템.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the transfer unit comprises:
A bracket on which the photographing unit and the lighting unit are installed; And
And an LM guide provided between the bracket and the transfer frame.
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