KR101372811B1 - 트립토판 정제장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
개시된 트립토판 정제장치는,
트립토판 용액을 통과시켜서 트립토판 용액에 포함된 고형물은 여과하고 용액만을 통과시키는 고형물 여과필터; 상기 고형물 여과필터를 통과한 트립토판 용액이 저장되는 저장탱크; 상기 저장탱크의 외부에 설치되어 상기 저장탱크 내부의 온도를 제어하는 가열자켓; 상기 저장탱크 내의 트립토판 용액을 흡인하여 다음 위치로 송출하는 에어컴프레셔; 상기 에어컴프레셔에 의해 송출되어온 트립토판 용액과 별도의 경로를 통해 송출되어온 황산이 함께 투입되고, 주입된 용액들을 교반시켜서 반응물을 연속으로 생성하는 연속식 반응기; 상기 연속식 반응기의 배출포트에 연결되어 상기 연속식 반응기에서 배출되는 슬러리 형태의 반응물로부터 여액을 분리하는 탈수기; 및 상기 탈수기로부터 분리된 고체성분을 건조하는 건조기를 포함하는 것이다.
Description
도 2 내지 4는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 황산주입속도에 따른 결정의 변화를 나타낸 사진.
도 5는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 반응시간에 따른 입도분포 그래프.
도 6 내지 9는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 반응시간에 따른 트립토판의 결정 모양을 나타낸 사진(도 6은 1시간/도 7은 6시간/도 8은 26시간/도 9는 52시간이다).
도 10은 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 트립토판 용해농도에 따른 입자크기의 변화를 나타낸 그래프.
도 11은 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 트립토판 용해농도에 따른 회수율 변화를 나타낸 그래프.
도 12는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 트립토판 용해농도에 따른 회수율 변화 그래프.
도 13 ~ 14는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 교반속도에 따른 입자 모양의 변화를 나타낸 사진(도 13은 100rpm/도 14는 300rpm).
도 15는 본 발명에 따른 트립토판 정제방법에 있어서, 교반속도에 따른 입자크기 변화를 나타낸 그래프.
도 16은 본 발명에 따른 본 발명에 따른 트립토판 정제장치의 구성도이다.
입자크기 | Cloud point | 최종 pH |
|||
PSA (㎛) | 현미경(㎛) | 시간 | pH | ||
1 | 48.64 | 40~45 | 바로 | - | 7.6 |
2 | 31 | 20~30 | 37min | 9.26 | 7.7 |
3 | 12.49 | 10~20 | 110min | 10.3 | 7.6 |
한편, 본 발명에는 상기 저장탱크(20)에 NaOH(가성소다)를 공급하는 NaOH(가성소다) 공급 탱크(미도시)가 구비된다. 이 NaOH(가성소다) 공급 탱크는 상기 저장 탱크와 연결되고, 내부에 저장된 NaOH(가성소다)를 저장 탱크에 공급하여 트립토판 용액의 수소이온지수(pH)가 11 이상 또는 3 이하가 되도록 하는 것이다.
30 : 가열자켓 40 : 에어콤프레샤
50 : 연속식 반응기 60 : 탈수기
70 : 건조기
Claims (6)
- 메시 크기 0.1 ∼ 0.5㎛로 이루어지며, 트립토판 용액을 통과시켜 트립토판 용액에 포함된 0.5㎛ 이상의 용존 고형물은 여과하고, 용액만을 통과시키는 고형물 여과필터;
상기 고형물 여과필터를 통과한 트립토판 용액을 공급 저장하는 저장탱크;
상기 저장탱크와 연결되고, 내부에 저장된 NaOH(가성소다)를 저장탱크에 공급하여 트립토판 용액의 수소이온지수(pH)가 조절되도록 하는 NaOH(가성소다) 공급 탱크;
상기 저장탱크의 외부에 설치되어, 저장탱크 일부가 침수되도록 하고, 상기 저장탱크 내부의 온도를 제어하는 가열자켓;
상기 저장탱크 내의 트립토판 용액을 흡인하여 다음 위치로 송출하는 에어컴프레셔;
상기 에어컴프레셔에 의해 송출되어온 트립토판 용액과, PVA, 카라기닌 (Carrageenan), 알긴산(alginic acid), HPC, 젤라틴(gellatin) 중 선택된 어느 하나의 고분자 물질을 교반시켜 트립토판 용액의 밀도를 향상시키는 연속식 반응기;
상기 연속식 반응기와 연결되어 산용액을 공급하며, 이 산용액에 통해 트립토판 용액의 수소이온지수를 중화하여 입자상 결정이 석출되도록 하는 제2저장탱크;
상기 연속식 반응기의 배출포트에 연결되며, 이 연속식 반응기에서 공급된 슬러리 형태의 반응물부터 여액을 분리하는 탈수기; 및
상기 탈수기로부터 분리된 고체성분을 건조하는 건조기;
를 포함하는 트립토판 정제장치.
- 제1항에 있어서,
상기 저장탱크에는 온도센서가 설치되어, 저장탱크 내부에 저장된 용액의 온도를 실시간으로 감지할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 트립토판 정제장치.
- 상기 제1항 또는 제2항에 기재된 트립토판 정제장치를 이용한 트립토판 정제방법으로서,
상기 트립토판 용액을 저장탱크에 저장할 때 여과필터를 통과시켜서 소정 크기 이상의 고형분을 제거하는 고형분 제거단계(S10);
상기 저장탱크 내에 NaOH를 투입하여 트립토판 용액의 수소이온지수(pH)를 조절하는 수소이온지수 조절단계(S20);
상기 저장탱크의 외부에 가열자켓을 설치하여 저장탱크 내의 트립토판 용액 온도를 일정하게 유지시키는 온도조절단계(S30);
상기 저장탱크 내의 트립토판 용액에 고분자 물질을 첨가하여 트립토판 용액의 입자 밀도를 향상시키는 밀도향상단계(S40);
상기 저장탱크 내의 트립토판 용액을 연속식 반응기로 투입하는 투입단계(S50);
상기 연속식 반응기로 투입된 트립토판 용액에 산용액을 투입하여 수소이온지수를 중화하여 입자상 결정을 석출하는 결정 석출단계(S60);
상기 석출된 입자상 결정을 탈수기에 의해 탈수시켜서 고-액을 분리하는 고액분리단계(S70); 및
상기 고체성분을 열풍 건조하는 건조단계(S80);
를 포함하는 트립토판 정제방법.
- 제3항에 있어서,
상기 고형분 제거단계에서 여과필터의 메시크기는 0.1㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 트립토판 정제방법.
- 제3항에 있어서,
상기 수소이온지수 조절단계에서 수소이온지수(pH)는 11이상 또는 3이하인 것을 특징으로 하는 트립토판 정제방법.
- 제3항에 있어서,
상기 밀도향상단계에서 고분자 물질은 PVA(polyvinyl alcohol)인 것을 특징으로 하는 트립토판 정제방법.
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