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KR101363083B1 - Apparatus for aligning plate - Google Patents

Apparatus for aligning plate

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KR101363083B1
KR101363083B1 KR1020120133259A KR20120133259A KR101363083B1 KR 101363083 B1 KR101363083 B1 KR 101363083B1 KR 1020120133259 A KR1020120133259 A KR 1020120133259A KR 20120133259 A KR20120133259 A KR 20120133259A KR 101363083 B1 KR101363083 B1 KR 101363083B1
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KR
South Korea
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plate
motion actuators
horizontal
pillars
vertical
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Application number
KR1020120133259A
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Korean (ko)
Inventor
유근재
채정재
Original Assignee
(주)유시스템
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Abstract

Disclosed is a device for aligning a plate having a simple and compact structure and being capable of aligning the inclination of the plate. The device for aligning a plate comprises a plurality of pillars for supporting a plurality of corners of a plate or a plurality of corners of a stage for supporting the plate while being extended in the vertical direction; a plurality of vertical motion actuators which are respectively coupled to the pillars and individually drive the pillars to be elevated so that the plate can be aligned in the vertical direction; a plurality of horizontal motion actuators which are respectively coupled to the vertical motion actuators and individually drive the pillars in the horizontal direction so that the plate can be aligned in the horizontal direction; a base for supporting the horizontal motion actuators to be fixed; and a controller for controlling operations of the vertical motion actuators and the horizontal motion actuators based on a position detector for detecting a position of the plate in a non-contact method and the position of the plate detected by the position detector. [Reference numerals] (99) Controller

Description

플레이트 정렬 장치{Apparatus for aligning plate}Plate alignment device {Apparatus for aligning plate}

본 발명은 반도체 칩 또는 평판 디스플레이 패널의 제조를 위하여 기판(substrate)이나 마스크(mask)와 같은 플레이트(plate)를 정렬하는 플레이트 정렬 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a plate alignment device for aligning a plate such as a substrate or a mask for manufacturing a semiconductor chip or a flat panel display panel.

반도체 칩이나 평판 디스플레이 패널을 제조하는 과정 중에는 예컨대, 유리, 실리콘 소재의 편평한 기판(substrate)에 증착 등의 방법으로 물질을 적층하거나, 편평한 한 쌍의 기판을 접착하는 공정이 포함된다. 기판 상에 물질을 적층하는 작업 도중에 또는 한 쌍의 기판을 접착하는 작업 도중에 서로 마주보는 기판과 마스크, 또는 서로 마주보는 한 쌍의 기판은 서로 평행하게 지지되어야 한다. 상기한 작업 도중에 기판 또는 마스크를 고정 지지하며 위치를 미세 정렬하는 장치를 플레이트 정렬 장치라 한다. The manufacturing process of a semiconductor chip or a flat panel display panel includes laminating | stacking a material to a flat substrate (substrate) of glass, a silicon material, etc., or bonding a pair of flat substrates. During the operation of laminating the material on the substrate or during the operation of adhering the pair of substrates, the substrate and the mask facing each other, or the pair of substrate facing each other, must be supported in parallel with each other. An apparatus for fixedly holding and aligning a substrate or mask during the above operation is called a plate alignment device.

도 1은 종래의 플레이트 정렬 장치의 일 예를 개략적으로 도시한 단면도로서, 이를 참조하면, 종래의 플레이트 정렬 장치(10)는 기판(3)을 지지하는 사각형 스테이지(25)와, 스테이지(25)의 각 코너(corner)를 지지하는 4개의 기둥(22)과, 4개의 기둥(22)을 고정 지지하는 지지 프레임(17)을 구비한다. 또한, 지지 프레임(17)을 수평 방향으로 구동하며 지지하는 수평 모션 액추에이터(20)와, 수평 모션 액추에이터(20)를 지지하는 테이블(15)과, 상기 테이블(15)을 승강 구동하는 승강 액추에이터(13)와, 상기 승강 액추에이터(13)를 지지하는 베이스 플레이트(11)를 구비한다. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a conventional plate aligning apparatus. Referring to this, the conventional plate aligning apparatus 10 includes a rectangular stage 25 supporting a substrate 3 and a stage 25. Four pillars 22 supporting each corner of the supporter and a support frame 17 for fixing and supporting the four pillars 22 are provided. In addition, a horizontal motion actuator 20 for driving and supporting the support frame 17 in a horizontal direction, a table 15 for supporting the horizontal motion actuator 20, and a lifting and lowering actuator for lifting and lowering the table 15 ( 13) and a base plate 11 for supporting the elevating actuator 13.

상기 종래의 플레이트 정렬 장치(10)는 스테이지(25)의 수평 방향 모션과 승강 모션이 가능하나, 모션 구동을 위해 수직 방향으로 적층된 베이스 플레이트(11), 테이블(15), 및 지지 프레임(17)이 구비되므로 구조가 복잡하고 콤팩트(compact)하게 구성하기 어렵다. 또한, 불균질한 열팽창과 같은 원인으로 스테이지(25)가 미세하게 기울어지는 경우에 기울어짐을 정렬할 수 있는 수단이 미비하다. The conventional plate aligning device 10 is capable of horizontal and elevating motion of the stage 25, but the base plate 11, the table 15, and the support frame 17 stacked in the vertical direction for driving the motion ), The structure is complicated and compact (compact) is difficult to configure. In addition, when the stage 25 is inclined finely due to inhomogeneous thermal expansion, there are insufficient means for aligning the inclination.

본 발명은, 기판 또는 마스크와 같은 플레이트를 수평 방향 모션 및 수직 방향 모션으로 정렬할 뿐 아니라, 플레이트의 복수의 코너(corner)를 개별적으로 승강시켜 플레이트의 기울어짐까지 정렬할 수 있는 플레이트 정렬 장치를 제공한다. The present invention provides a plate alignment apparatus that not only aligns a plate such as a substrate or a mask in a horizontal motion and a vertical motion, but also aligns the inclination of the plate by individually elevating a plurality of corners of the plate. to provide.

또한 본 발명은, 구조가 단순하고, 콤팩트(compact)하게 구성할 수 있는 플레이트 정렬 장치를 제공한다. The present invention also provides a plate alignment device which is simple in structure and which can be compactly constructed.

본 발명은, 정렬 대상인 플레이트의 복수의 코너(corner), 또는 상기 플레이트를 고정 지지하는 스테이지(stage)의 복수의 코너를 지지하며 수직 방향으로 연장된, 상기 코너의 개수와 동수(同數)인 복수의 기둥, 상기 복수의 기둥에 각각 결합되어 상기 복수의 기둥을 개별적으로 승강 구동함으로써 상기 플레이트를 수직 방향으로 정렬하는, 상기 기둥의 개수와 동수(同數)인 복수의 수직 모션 액추에이터, 상기 복수의 수직 모션 액추에이터에 각각 결합되어 상기 복수의 기둥을 개별적으로 수평 방향으로 구동함으로써 상기 플레이트를 수평 방향으로 정렬하는, 상기 수직 모션 액추에이터의 개수와 동수(同數)인 복수의 수평 모션 액추에이터, 상기 복수의 수평 모션 액추에이터를 고정 지지하는 베이스, 비접촉식 방법으로 상기 플레이트의 자세를 감지하는 자세 감지기, 및 상기 자세 감지기에 의해 감지된 상기 플레이트의 자세에 기초하여 상기 복수의 수직 모션 액추에이터 및 상기 복수의 수평 모션 액추에이터의 동작을 제어하는 콘트롤러를 구비하는 플레이트 정렬 장치를 제공한다. The present invention is equal to the number of corners of the plate to be aligned, or the number of the corners extending in the vertical direction to support the plurality of corners of the stage for holding and supporting the plate. A plurality of vertical motion actuators equal to the number of the pillars, the plurality of pillars being coupled to the plurality of pillars, respectively, and vertically aligning the plates by individually elevating and driving the plurality of pillars, the plurality of pillars A plurality of horizontal motion actuators equal to the number of the vertical motion actuators, the plurality of vertical motion actuators being coupled to each of the vertical motion actuators to align the plates in the horizontal direction by individually driving the plurality of pillars in the horizontal direction. A base for fixedly supporting a horizontal motion actuator of the plate, in a non-contact manner to detect the posture of the plate Provides a plate alignment device having a posture detector, and a controller for controlling the operation of the plurality of vertical motion actuators and the plurality of horizontal motion actuators based on the posture of the plate sensed by the posture detector.

상기 복수의 수평 모션 액추에이터 각각은, 제1 모터와, 상기 베이스에 고정 지지되는 베이스 고정 부재와, 상기 제1 모터의 동력에 의해 상기 베이스 고정 부재 상에서 수평인 일 방향으로 이동 가능한 제1 LM 부재와, 상기 제1 LM 부재의 이동 방향에 직교하며 수평인 방향으로 자유 이동 가능하게 상기 제1 LM 부재에 연결된 제2 LM 부재와, 수직축을 중심으로 하여 자유 회전 가능하게 상기 제2 LM 부재에 연결되며 상기 수직 모션 액추에이터를 지지하는 회전 부재를 구비하고, 상기 복수의 수평 모션 액추에이터 중 일부와 그 나머지는 상기 베이스 상에서 서로 직교하도록 배치될 수 있다. Each of the plurality of horizontal motion actuators includes a first motor, a base fixing member fixed to the base, a first LM member movable in one horizontal direction on the base fixing member by the power of the first motor; A second LM member connected to the first LM member to be freely movable in a horizontal direction orthogonal to a moving direction of the first LM member, and connected to the second LM member freely rotatable about a vertical axis; And a rotating member supporting the vertical motion actuator, wherein some and the other of the plurality of horizontal motion actuators are disposed orthogonal to each other on the base.

상기 제1 모터는 자신의 샤프트를 회전시키는 회전 동력을 발생시키며, 상기 수평 모션 액추에이터는 상기 제1 모터 샤프트의 회전 운동을 상기 제1 LM 부재의 직선 운동으로 전환하는 제1 볼 스크류(ball screw)를 더 구비할 수 있다. The first motor generates a rotational power for rotating its shaft, the horizontal motion actuator is a first ball screw for converting the rotational motion of the first motor shaft into a linear motion of the first LM member It may be further provided.

상기 복수의 수직 모션 액추에이터 각각은, 제2 모터와, 수직 방향으로 연장되고 상기 제2 모터의 샤프트가 회전함에 따라 회전하는 제2 볼 스크류와, 상기 기둥에 고정 결합되고 상기 제2 볼 스크류가 회전함에 따라 승강하도록 상기 제2 볼 스크류에 체결된 승강 부재를 구비할 수 있다. Each of the plurality of vertical motion actuators includes a second ball screw, which extends in a vertical direction and rotates as the shaft of the second motor rotates, and is fixedly coupled to the pillar and the second ball screw rotates. As such, it may be provided with a lifting member fastened to the second ball screw to lift.

상기 자세 감지기는 상기 플레이트의 복수의 코너를 촬상하는, 적어도 하나의 카메라를 포함할 수 있다. The posture detector may include at least one camera for imaging a plurality of corners of the plate.

본 발명의 플레이트 정렬 장치는, 상기 플레이트를 이용한 작업이 수행되는 작업 공간을 한정하고, 상기 작업 공간의 압력을 상기 작업 공간 외부의 압력보다 낮게 유지할 수 있는 작업 챔버를 더 구비할 수 있다. The plate aligning apparatus of the present invention may further include a work chamber that defines a work space where the work using the plate is performed and maintains the pressure of the work space lower than the pressure outside the work space.

상기 플레이트는 기판(substrate) 또는 마스크(mask)일 수 있다. The plate may be a substrate or a mask.

본 발명의 플레이트 정렬 장치에 의하면, 복수의 기둥마다 각각 수평 모션 액추에이터 및 수직 모션 액추에이터를 탑재하여 기판 또는 마스크와 같은 플레이트를 수평 방향 모션 및 수직 방향 모션으로 정렬할 뿐 아니라, 플레이트의 기울어짐까지 정렬할 수 있다. According to the plate aligning apparatus of the present invention, the horizontal motion actuator and the vertical motion actuator are mounted for each of the plurality of pillars to align the plate such as the substrate or the mask in the horizontal motion and the vertical motion as well as the tilt of the plate. can do.

또한, 복수의 기둥을 지지하기 위하여 베이스 플레이트만을 구비하므로 구조가 단순하고, 콤팩트(compact)하게 구성할 수 있다. In addition, since only the base plate is provided to support the plurality of pillars, the structure is simple and can be configured compactly.

도 1은 종래의 플레이트 정렬 장치의 일 예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 정렬 대상인 플레이트의 자세를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4는 도 3의 IV-IV 에 따른 절개 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a conventional plate alignment device.
2 is a view for explaining the posture of the plate to be aligned.
3 is a cross-sectional view schematically showing a plate alignment device according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 3.
5 is a cross-sectional view schematically showing a plate alignment device according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른, 플레이트 정렬 장치를 상세하게 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a plate alignment apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail. The terminology used herein is a term used to properly express the preferred embodiment of the present invention, which may vary depending on the intention of the user or operator or the custom of the field to which the present invention belongs. Therefore, the definitions of the terms should be made based on the contents throughout the specification.

도 2는 정렬 대상인 플레이트의 자세를 설명하기 위한 도면으로, 플레이트 정렬 장치를 설명하기에 앞서 정렬이 필요한 플레이트의 자세에 대해 도 2를 참조하여 설명한다. 기판(3)이나 마스크(5)와 같은 플레이트는 상기 플레이트(3, 5)에 자동화된 작업을 수행하는 기구(미도시), 또는 상기 플레이트(3, 5)를 마주보는 기판(미도시)에 대해 정렬되어야 한다. 정렬되지 않은 플레이트(3, 5)의 자세는 정렬된 자세에 비해 특정 방향으로 미세하게 편향되거나 회전되어 있다. FIG. 2 is a diagram for describing a posture of a plate to be aligned. Referring to FIG. 2, a posture of a plate to be aligned before the plate alignment device is described is described. A plate, such as a substrate 3 or a mask 5, may be mounted on a mechanism (not shown) for performing automated operations on the plates 3, 5, or on a substrate (not shown) facing the plates 3, 5; Should be aligned to The postures of the unaligned plates 3 and 5 are slightly biased or rotated in a specific direction compared to the aligned postures.

구체적으로, 플레이트(3, 5)는 수평인 X축 방향으로 화살표 L1을 따라 미세하게 이동하거나, X축에 직교하고 수평인 Y축 방향으로 화살표 L2를 따라 미세하게 이동하거나, X축 및 Y축에 직교하고 수직인 Z축 방향으로 화살표 L3를 따라 미세하게 이동하여 편향될 수 있다. 또한, 플레이트(3, 5)는 X축을 중심으로 화살표 R1을 따라 미세하게 회전하거나, Y축을 중심으로 화살표 R2를 따라 미세하게 회전하거나, Z축을 중심으로 화살표 R3를 따라 미세하게 회전할 수 있다. 화살표 R1을 따라 회전하는 것을 롤링(rolling), 화살표 R2를 따라 회전하는 것을 피칭(pitching), 화살표 R3를 따라 회전하는 것을 요잉(yawing)이라고 칭할 수 있다. 이러한 X축, Y축, 및 Z축 방향의 미세한 이동과, 미세한 롤링, 피칭, 및 요잉이 합쳐져 플레이트(3, 5)의 자세가 흐트러지는데, 이렇게 자세가 흐트러진 플레이트(3, 5)를 반대로 이동하거나 회전시켜 교정하는 것이 플레이트(3, 5)의 정렬이다. Specifically, the plates 3 and 5 move finely along the arrow L1 in the horizontal X-axis direction, or finely move along the arrow L2 in the Y-axis direction perpendicular to the X axis and horizontally, or the X and Y axes. It can be deflected by moving finely along the arrow L3 in the Z-axis direction perpendicular to and perpendicular to. In addition, the plates 3 and 5 may finely rotate along the arrow R1 about the X axis, finely rotate along the arrow R2 around the Y axis, or finely rotate along the arrow R3 about the Z axis. Rolling along arrow R1, pitching along arrow R2, and spinning along arrow R3 may be referred to as yawing. The minute movements in the X-, Y-, and Z-axis directions, and minute rolling, pitching, and yawing are combined to distort the posture of the plates 3 and 5, and thus the displaced postures 3 and 5 are reversed. Or rotating and correcting is the alignment of the plates 3, 5.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 4는 도 3의 IV-IV 에 따른 절개 단면도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치(50)는 OLED 패널용 유리 소재 기판(3)에 유기 물질(미도시)을 증착하는 작업에 사용되며, 증착 패턴(pattern) 형성을 위한 마스크(mask)(5)를 기판(3)에 대해 평행하게 정렬(aligning)하기 위한 장치이다. 증착용 마스크(5)는 통상적으로 스테인레스스틸(stainless steel)을 소재로 하며, 편평한 플레이트(plate) 형상이다. 3 is a cross-sectional view schematically showing a plate alignment device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a cutaway cross-sectional view according to IV-IV of FIG. 3 and 4, the plate aligning device 50 according to an embodiment of the present invention is used for depositing an organic material (not shown) on a glass material substrate 3 for an OLED panel, and a deposition pattern. A device for aligning a mask 5 for pattern formation in parallel with the substrate 3. The deposition mask 5 is usually made of stainless steel and has a flat plate shape.

플레이트 정렬 장치(50)는 4개의 기둥(85)(단, 도 3에는 2개만 도시되어 있다), 4개의 수직 모션 액추에이터(75)(단, 도 3에는 2개만 도시되어 있다), 4개의 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D), 베이스(51), 자세 감지기, 콘트롤러(99), 및 작업 챔버(90)를 구비한다. 4개의 기둥(85)은 수직 방향으로 연장되며, 사각형인 마스크(5)의 4곳의 코너(corner)를 각각 지지한다. 상세히 도시되진 않았으나 4개의 기둥(85)의 상단부에는 마스크(5)의 4곳의 코너를 고정하는 수단을 구비할 수 있으며, 이를 이용하여 마스크(5)의 4곳의 코너는 4개의 기둥(85)에 고정될 수 있다. Plate alignment device 50 includes four columns 85 (only two are shown in FIG. 3), four vertical motion actuators 75 (only two are shown in FIG. 3), four horizontal Motion actuators 55A, 55B, 55C, 55D, base 51, attitude sensor, controller 99, and work chamber 90 are provided. Four pillars 85 extend in the vertical direction and each support four corners of the rectangular mask 5. Although not shown in detail, the upper end of the four pillars 85 may be provided with means for fixing four corners of the mask 5, by which the four corners of the mask 5 are four pillars 85. Can be fixed).

4개의 수직 모션 액추에이터(75)는 4개의 기둥(85)에 일대일로 결합되어 4개의 기둥(85)을 개별적으로 승강 구동함으로써 마스크(5)를 수직 방향으로 정렬한다. 마스크(5)를 수직 방향으로 정렬한다는 것은, 마스크(5)를 화살표 L3(도 2 참조)를 따라 미세하게 이동시키거나, 화살표 R1(도 2 참조)를 따라 미세하게 회전시키거나, 화살표 R2(도 2 참조)를 따라 미세하게 회전시켜 정렬함을 의미한다. 특히, 플레이트 정렬 장치(50)는 4개의 기둥(85)을 개별적으로 승강시켜 승강의 변위를 차별화할 수 있다. 따라서, 화살표 R1 또는 화살표 R2를 따라 마스크(5)를 미세 회전시켜 마스크(5)의 기울어짐을 정렬할 수 있다. Four vertical motion actuators 75 are coupled one to one to four pillars 85 to align the mask 5 in the vertical direction by individually elevating and driving the four pillars 85. Aligning the mask 5 in the vertical direction means moving the mask 5 finely along arrow L3 (see FIG. 2), finely rotating it along arrow R1 (see FIG. 2), or by arrow R2 ( 2) to finely rotate and aligned. In particular, the plate alignment device 50 can differentiate the displacement of the elevating by lifting the four pillars 85 individually. Accordingly, the inclination of the mask 5 can be aligned by finely rotating the mask 5 along the arrow R1 or the arrow R2.

수직 모션 액추에이터(75) 각각은, 제2 모터(76), 제2 볼 스크류(ball screw)(81), 승강 부재(83), 감속 기어 박스(78), 및 커플러(coupler)(79)를 구비한다. 제2 볼 스크류(ball screw)(81)는 제2 모터(76)의 샤프트(shaft)(미도시)가 회전함에 따라 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하며, 수직 방향으로 연장되어 있다. 승강 부재(83)는 기둥(85)의 하단부에 고정 결합되고, 제2 볼 스크류(81)가 관통하도록 제2 볼 스크류(81)에 체결된다. 제2 볼 스크류(81)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전함에 따라서 승강 부재(83) 및 이에 고정 결합된 기둥(85)이 승강하게 된다. 한편, 감속 기어 박스(78)는 제2 모터(76)의 샤프트(미도시)의 회전 속도를 감속하고, 커플러(79)는 제2 볼 스크류(81)의 하단부와 감속 기어 박스(78)를 동력 전달 가능하게 연결한다. Each of the vertical motion actuators 75 includes a second motor 76, a second ball screw 81, a lifting member 83, a reduction gear box 78, and a coupler 79. Equipped. The second ball screw 81 rotates clockwise or counterclockwise as the shaft (not shown) of the second motor 76 rotates and extends in the vertical direction. The elevating member 83 is fixedly coupled to the lower end of the pillar 85 and fastened to the second ball screw 81 so that the second ball screw 81 penetrates. As the second ball screw 81 rotates in the clockwise or counterclockwise direction, the elevating member 83 and the pillar 85 fixedly coupled thereto are elevated. On the other hand, the reduction gear box 78 decelerates the rotational speed of the shaft (not shown) of the second motor 76, and the coupler 79 moves the lower end of the second ball screw 81 and the reduction gear box 78. Connect to transmit power.

4개의 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)는 4개의 수직 모션 액추에이터(75)에 일대일로 결합되어 4개의 기둥(85)을 개별적으로 수평 방향으로 구동함으로써 마스크(5)를 수평 방향으로 정렬한다. 마스크(5)를 수평 방향으로 정렬한다는 것은, 마스크(5)를 화살표 L1(도 2 참조)를 따라 미세하게 이동시키거나, 화살표 L2(도 2 참조)를 따라 미세하게 이동시키거나, 화살표 R3(도 2 참조)를 따라 미세하게 회전시켜 정렬함을 의미한다.Four horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, 55D are coupled one-to-one to four vertical motion actuators 75 to drive the four columns 85 individually in the horizontal direction to drive the mask 5 in the horizontal direction. Sort it. Aligning the mask 5 in the horizontal direction means that the mask 5 is moved finely along the arrow L1 (see FIG. 2), finely moved along the arrow L2 (see FIG. 2), or the arrow R3 ( 2) to finely rotate and aligned.

수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D) 각각은, 제1 모터(56), 베이스 고정 부재(62), 제1 LM 부재(64), 제1 볼 스크류(ball screw)(60), 커플러(58), 제2 LM 부재(68), 및 회전 부재(73)를 구비한다. 제1 모터(56)는 자신의 샤프트(shaft)(미도시)를 회전시키는 회전 동력을 발생시킨다. 베이스 고정 부재(62)는 베이스(51)에 고정 지지되며 제1 모터(56)를 지지한다. 제1 LM 부재(64)는 제1 모터(56)의 회전 동력에 의해 베이스 고정 부재(62) 상에서 수평인 일 방향으로 이동 가능하도록 베이스 고정 부재(62)에 연결된다. 구체적으로, 베이스 고정 부재(62)의 상측면에는 제1 LM 부재(64)의 이동 방향으로 연장되며 상측으로 돌출된 제1 LM 가이드부(63)가 형성되고, 제1 LM 부재(64)에 상기 제1 LM 가이드부(63)가 끼워지며, 제1 LM 부재(64)가 최소한의 마찰로 베이스 고정 부재(62)에 대해 미끄러져 이동할 수 있도록 서로 접촉되는 부분에 제1 베어링(66)이 개재될 수 있다. Each of the horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, 55D includes a first motor 56, a base fixing member 62, a first LM member 64, a first ball screw 60, and a coupler. 58, a second LM member 68, and a rotation member 73 are provided. The first motor 56 generates rotational power to rotate its shaft (not shown). The base fixing member 62 is fixedly supported by the base 51 and supports the first motor 56. The first LM member 64 is connected to the base fixing member 62 so as to be movable in one horizontal direction on the base fixing member 62 by the rotational power of the first motor 56. Specifically, the first LM guide portion 63 extending in the moving direction of the first LM member 64 and protruding upward is formed on the upper surface of the base fixing member 62, and the first LM member 64 is formed on the upper surface of the base fixing member 62. The first bearing 66 is fitted to the portion where the first LM guide portion 63 is fitted and in contact with each other so that the first LM member 64 slides with respect to the base fixing member 62 with minimal friction. May be interposed.

제1 볼 스크류(60)는 제1 모터(56)의 샤프트(미도시)의 회전 운동을 제1 LM 부재(64)의 직선 운동으로 전환한다. 구체적으로, 제1 볼 스크류(60)는 제1 모터(56)의 샤프트(shaft)(미도시)가 회전함에 따라 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하며, 수평 방향으로 연장되어 있다. 제1 볼 스크류(60)의 말단부는 제1 LM 부재(64)를 관통하거나 제1 LM 부재(64) 내에 삽입된다. 제1 볼 스크류(60)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전함에 따라서 제1 LM 부재(64)는 수평 방향으로 직선 운동한다. 한편, 커플러(58)는 제1 볼 스크류(60)와 제1 모터(56)의 샤프트(미도시)를 동력 전달 가능하게 연결한다.The first ball screw 60 converts the rotational movement of the shaft (not shown) of the first motor 56 into the linear movement of the first LM member 64. Specifically, the first ball screw 60 rotates in a clockwise or counterclockwise direction as the shaft (not shown) of the first motor 56 rotates, and extends in the horizontal direction. The distal end of the first ball screw 60 passes through the first LM member 64 or is inserted into the first LM member 64. As the first ball screw 60 rotates clockwise or counterclockwise, the first LM member 64 linearly moves in the horizontal direction. On the other hand, the coupler 58 connects the first ball screw 60 and the shaft (not shown) of the first motor 56 to enable power transmission.

제2 LM 부재(68)는 제1 LM 부재(64)의 이동 방향에 직교하며 수평인 방향으로 자유 이동 가능하게 제1 LM 부재(64)에 연결된다. 구체적으로, 제1 LM 부재(64)의 상측면에는 제2 LM 부재(68)의 이동 방향으로 연장되며 상측으로 돌출된 제2 LM 가이드부(65)가 형성되고, 제2 LM 부재(68)에 상기 제2 LM 가이드부(65)가 끼워지며, 제2 LM 부재(68)가 최소한의 마찰로 제1 LM 부재(64)에 대해 미끄러져 이동할 수 있도록 서로 접촉되는 부분에 제2 베어링(71)이 개재될 수 있다.The second LM member 68 is connected to the first LM member 64 so as to be free to move in a horizontal direction perpendicular to the moving direction of the first LM member 64. In detail, a second LM guide portion 65 extending in the movement direction of the second LM member 68 and protruding upward is formed on an upper surface of the first LM member 64, and the second LM member 68 is formed. The second LM guide portion 65 is fitted in the second bearing 71 in contact with each other so that the second LM member 68 slides with respect to the first LM member 64 with minimal friction. ) May be intervened.

회전 부재(73)는 수직축, 즉 Z축을 중심으로 자유 회전 가능하게 제2 LM 부재(68)에 연결된다. 구체적으로, 제2 LM 부재(68)의 상측면에는 원기둥 형상으로 상측으로 돌출된 회전 가이드부(69)가 형성되고, 회전 부재(73)에 상기 회전 가이드부(69)가 끼워진다. 도 3에 상세하게 도시되진 않았으나, 회전 부재(73)가 최소한의 마찰로 제2 LM 부재(68)에 대해 미끄러져 회전할 수 있도록 회전 부재(73)와 제2 LM 부재(68)가 서로 접촉되는 부분에 제3 베어링(미도시)이 개재될 수 있다. 또한, 회전 부재(73)는 수직 모터 액추에이터(75), 구체적으로는 감속 기어 박스(78)의 외장 케이스(case)를 지지한다. 따라서, 회전 부재(73)가 제2 LM 부재(68)에 대해 미세하게 회전하면 수직 모션 액추에이터(75) 및 기둥(85)이 동일한 각도로 회전하여 마스크(5)가 화살표 R3(도 2 참조)를 따라 미세하게 요잉(yawing)한다. The rotating member 73 is connected to the second LM member 68 so as to be freely rotatable about a vertical axis, that is, a Z axis. Specifically, the upper side of the second LM member 68 is formed with a rotary guide portion 69 protruding upward in a cylindrical shape, the rotary guide portion 69 is fitted to the rotary member 73. Although not shown in detail in FIG. 3, the rotating member 73 and the second LM member 68 contact each other such that the rotating member 73 can slide and rotate with respect to the second LM member 68 with minimal friction. A third bearing (not shown) may be interposed in the portion to be formed. In addition, the rotating member 73 supports an external case of the vertical motor actuator 75, specifically, the reduction gear box 78. Therefore, when the rotation member 73 is minutely rotated with respect to the second LM member 68, the vertical motion actuator 75 and the column 85 rotate at the same angle, so that the mask 5 moves to the arrow R3 (see FIG. 2). Yawing finely along.

베이스(51)는 4개의 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)를 고정 지지한다. 예를 들면, 베이스 고정 부재(62)를 스크류(screw)(미도시)를 이용하여 베이스(51)의 표면에 고정 부착할 수 있다. 또한, 4개의 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D) 중 2개와 나머지 2개는 베이스(51) 상에서 직교하도록 배치된다. 예를 들면, 도 4에 도시된 바와 같이 베이스(51)의 좌측에 위치한 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)는 제1 볼 스크류(60)가 X축 방향과 평행하도록 베이스(51) 상에 배치되고, 베이스(51)의 우측에 위치한 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)는 제1 볼 스크류(60)가 Y축 방향과 평행하도록 베이스(51) 상에 배치된다. The base 51 fixedly supports four horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, 55D. For example, the base fixing member 62 can be fixedly attached to the surface of the base 51 using a screw (not shown). In addition, two of the four horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, 55D and the other two are arranged orthogonal on the base 51. For example, as shown in FIG. 4, the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B located on the left side of the base 51 may have the base 51 so that the first ball screw 60 is parallel to the X-axis direction. ) And third and fourth horizontal motion actuators 55C, 55D located on the right side of the base 51 are disposed on the base 51 such that the first ball screw 60 is parallel to the Y-axis direction. .

제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)의 제1 모터(56)를 동일한 각도만큼 회전 구동하면 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)의 제1 LM 부재(64)가 X축 방향으로 이동하고, 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)에 지지되는 기둥(85)도 X축 방향으로 이동한다. 동시에 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)의 제2 LM 부재(68) 및 그에 지지되는 기둥(85)도 X축 방향으로 이동하므로, 4개의 기둥(85)에 지지된 마스크(5)가 X축 방향으로 이동한다. 이와 같이 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)의 제1 모터(56)를 구동하여 마스크(5)를 X축 방향으로 정렬한다. Rotationally driving the first motor 56 of the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B by the same angle causes the first LM member 64 of the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B to be X. The column 85 which moves in the axial direction and is supported by the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B also moves in the X-axis direction. At the same time, the second LM member 68 and the pillars 85 supported by the third and fourth horizontal motion actuators 55C and 55D also move in the X-axis direction, so that the mask 5 supported by the four pillars 85 ) Moves in the X-axis direction. In this way, the first motor 56 of the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B is driven to align the mask 5 in the X-axis direction.

또한, 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)의 제1 모터(56)를 동일한 각도만큼 회전 구동하면 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)의 제1 LM 부재(64)가 Y축 방향으로 이동하고, 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)에 지지되는 기둥(85)도 Y축 방향으로 이동한다. 동시에 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)의 제2 LM 부재(68) 및 그에 지지되는 기둥(85)도 Y축 방향으로 이동하므로, 4개의 기둥(85)에 지지된 마스크(5)가 Y축 방향으로 이동한다. 이와 같이 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)의 제1 모터(56)를 구동하여 마스크(5)를 Y축 방향으로 정렬한다.In addition, when the first motor 56 of the third and fourth horizontal motion actuators 55C and 55D is rotated by the same angle, the first LM member 64 of the third and fourth horizontal motion actuators 55C and 55D is rotated. Moves in the Y-axis direction, and the column 85 supported by the third and fourth horizontal motion actuators 55C, 55D also moves in the Y-axis direction. At the same time, the second LM member 68 and the pillars 85 supported by the first and second horizontal motion actuators 55A and 55B also move in the Y-axis direction, so that the mask 5 supported by the four pillars 85 ) Moves in the Y-axis direction. In this way, the first motor 56 of the third and fourth horizontal motion actuators 55C and 55D is driven to align the mask 5 in the Y-axis direction.

한편, 제1 내지 제4 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)의 제1 모터(56)를 서로 다른 각도로 동시에 회전 구동하면 4개의 기둥(85)에 지지된 마스크(5)가 Z축에 평행한 임의의 수직축을 중심으로 회전한다. 이와 같이 제1 내지 제4 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)의 제1 모터(56)를 구동하여 마스크(5)의 XY 평면상의 틀어짐을 정렬한다. Meanwhile, when the first motors 56 of the first to fourth horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, and 55D are simultaneously driven to rotate at different angles, the mask 5 supported by the four pillars 85 is Z. Rotate around any vertical axis parallel to the axis. In this manner, the first motors 56 of the first to fourth horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, and 55D are driven to align the distortion on the XY plane of the mask 5.

본 발명의 플레이트 정렬 장치(50)는, 제1 및 제2 수평 모션 액추에이터(55A, 55B)의 제2 LM 부재(68)와 제3 및 제4 수평 모션 액추에이터(55C, 55D)의 제2 LM 부재(68)는 서로 직교하는 직선 방향으로 자유 이동(idling displacement) 가능하고, 제1 내지 제4 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)의 회전 부재(73)는 자유 회전(idling rotation) 가능하므로, 기둥(85) 또는 마스크(5)의 열변형에도 불구하고 비틀림이 최소화되고 정렬이 흐뜨러지지 않게 된다. The plate aligning apparatus 50 of this invention is the 2nd LM member 68 of the 1st and 2nd horizontal motion actuators 55A, 55B, and the 2nd LM of 3rd and 4th horizontal motion actuators 55C, 55D. The members 68 are freely displaceable in a linear direction perpendicular to each other, and the rotating members 73 of the first to fourth horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, and 55D are freely rotated. As possible, the distortion is minimized and alignment is not disturbed in spite of the thermal deformation of the pillar 85 or the mask 5.

자세 감지기는 비접촉식 방법으로 마스크(5)의 자세를 감지한다. 자세 감지기는 마스크(5)의 4곳의 코너를 촬상하는 4개의 카메라(97)를 포함한다(단, 도 3에는 2개만 도시되어 있다). 4개의 카메라(97)는 기판(3)을 고정 지지하는 스테이지(stage)(95)의 4곳의 코너에 설치될 수 있다. 카메라(97)는 CCD 또는 CMOS 이미지 센서와 렌즈를 포함한다. 4개의 카메라(97)에 의해 촬상된 화면과 기준 좌표를 비교하여 마스크(5)의 자세를 정렬할 필요성과 정렬이 필요한 크기(aligning amount)가 결정된다. 촬상된 화면의 선명도와 카메라(97)에 구비된 렌즈의 초점 거리와의 관계를 이용하여 4개의 카메라(97)와 마스크(5)의 4개의 코너 간의 이격 거리를 측정할 수 있고, 이렇게 측정된 4개의 이격 거리를 이용하여 마스크(5)의 기울어짐 정도를 측정할 수 있다. The posture detector detects the posture of the mask 5 in a non-contact manner. The posture detector includes four cameras 97 for imaging four corners of the mask 5 (but only two are shown in FIG. 3). Four cameras 97 may be installed at four corners of a stage 95 for holding and holding the substrate 3. Camera 97 includes a CCD or CMOS image sensor and a lens. By comparing the images captured by the four cameras 97 with the reference coordinates, the necessity of aligning the pose of the mask 5 and the amount of alignment required are determined. The separation distance between the four cameras 97 and the four corners of the mask 5 may be measured using the relationship between the sharpness of the captured screen and the focal length of the lens provided in the camera 97. The tilt distance of the mask 5 may be measured using four separation distances.

한편, 본 발명의 플레이트 정렬 장치는 상술한 설명과 달리 4개의 카메라(97)가 마스크(5)와 함께 기판(3)을 촬상할 수도 있고, 기판(3)을 촬상하는 별도의 카메라를 더 구비할 수도 있다. 그리하여, 마스크(5)를 촬상한 화면과 기판(3)을 촬상한 화면을 비교하여 마스크(5)의 자세를 정렬할 필요성과 정렬이 필요한 크기를 결정할 수도 있다. On the other hand, the plate alignment device of the present invention, unlike the above-described description, the four cameras 97 may photograph the substrate 3 together with the mask 5, and further include a separate camera for imaging the substrate 3. You may. Thus, the screen on which the mask 5 is photographed and the screen on which the substrate 3 is photographed can be compared to determine the necessity of aligning the posture of the mask 5 and the size to which the alignment is necessary.

콘트롤러(99)는 상기 자세 감지기에 의해 감지된 마스크(5)의 자세에 기초하여 4개의 수직 모션 액추에이터(75) 및 4개의 수평 모션 액추에이터(55A, 55B, 55C, 55D)의 동작을 제어함으로써 마스크(5)를 이용한 특정 작업에 앞서 마스크(5)를 정렬한다. 작업 챔버(90)는 마스크(5)를 이용한 작업 공간을 한정한다. 구체적으로, 작업 챔버(90)는 서로 밀착 가능한 상부 하우징(91)과 하부 하우징(92)을 구비한다. 기판(3)을 고정 지지하는 스테이지(95)는 작업 챔버(90)의 내측면에 고정 지지된다. 밀착된 상부 하우징(91)과 하부 하우징(92)에 의해 밀폐되는 작업 공간 내에서는 예컨대, 기판(3)에 유기 물질을 증착하는 등의 작업이 수행된다. 기판(3)에 유기 물질이 마스크(5)의 특정 패턴(pattern)을 따라 증착되도록 유기 물질 증착에 앞서서 마스크(5)가 기판(3) 상에 평행하게 배치된다. 작업 챔버(90) 내 작업 공간의 압력은 증착 과정 중에 작업 공간 외부의 압력보다 낮게 유지된다. The controller 99 controls the operation of the four vertical motion actuators 75 and the four horizontal motion actuators 55A, 55B, 55C, and 55D based on the attitude of the mask 5 sensed by the attitude sensor. The mask 5 is aligned prior to the specific work using (5). The working chamber 90 defines a working space using the mask 5. Specifically, the working chamber 90 has an upper housing 91 and a lower housing 92 which are in close contact with each other. The stage 95 for holding and supporting the substrate 3 is fixedly supported on the inner side of the working chamber 90. In a work space enclosed by the upper housing 91 and the lower housing 92 which are in close contact, for example, an operation such as depositing an organic material on the substrate 3 is performed. The mask 5 is disposed in parallel on the substrate 3 prior to the deposition of the organic material such that the organic material is deposited along the specific pattern of the mask 5 on the substrate 3. The pressure in the work space in the work chamber 90 is kept lower than the pressure outside the work space during the deposition process.

도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 플레이트 정렬 장치(100)는 OLED 패널용 유리 소재 기판(3)에 유기 물질(미도시)을 증착하는 작업에 사용되는 것으로, 기판(3)을 마스크(5)에 대해 평행하게 정렬(aligning)하기 위한 장치이다. 플레이트 정렬 장치(100)는 기판(3)을 고정 지지하는 사각형의 스테이지(125)와, 스테이지(125)의 4곳의 코너(corner)를 지지하는 4개의 기둥(115)(단, 도 5에는 2개만 도시되어 있다), 4개의 기둥(115)에 각각 결합되어 개별적으로 승강 구동하는 4개의 수직 모션 액추에이터(110)(단, 도 5에는 2개만 도시되어 있다), 4개의 수직 모션 액추에이터(110)에 각각 결합되어 4개의 기둥(115)을 개별적으로 수평 방향으로 구동하는 4개의 수평 모션 액추에이터(105)(단, 도 5에는 2개만 도시되어 있다), 4개의 수평 모션 액추에이터(105)를 고정 지지하는 베이스(101), 비접촉식 방법으로 기판(3)의 자세를 감지하는 자세 감지기, 자세 감지기에 의해 감지된 기판(3)의 자세에 기초하여 4개의 수직 모션 액추에이터(110) 및 4개의 수평 모션 액추에이터(105)의 동작을 제어하는 콘트롤러(129), 기판(3)을 이용한 작업 공간을 한정하고 작업 공간의 압력을 그 외부의 압력보다 낮게 유지하는 작업 챔버(120)를 구비한다. 5 is a cross-sectional view schematically showing a plate alignment device according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, the plate aligning apparatus 100 according to another embodiment of the present invention is used for depositing an organic material (not shown) on a glass material substrate 3 for an OLED panel. ) Is a device for aligning (parallel) parallel to the mask (5). The plate aligning device 100 includes a rectangular stage 125 for holding and supporting the substrate 3, and four pillars 115 for supporting four corners of the stage 125 (but not shown in FIG. 5). Only two are shown), four vertical motion actuators 110 (only two are shown in FIG. 5), each coupled to four pillars 115 and individually lift-driven, and four vertical motion actuators 110 4 horizontal motion actuators 105 (only two are shown in FIG. 5), each of which is coupled to each of the four pillars 115 in the horizontal direction, respectively, and fixes four horizontal motion actuators 105. Four vertical motion actuators 110 and four horizontal motions based on the supporting base 101, a posture detector that detects the posture of the substrate 3 in a non-contact manner, and a posture of the substrate 3 sensed by the posture detector. Controller 129 for controlling the operation of the actuator 105, It is provided with a working chamber 120 that defines a work space using the plate 3 and maintains the pressure of the work space below the pressure outside thereof.

상기 4개의 기둥(115)은 마스크(5)를 대신하여 스테이지(125)를 지지하고 있다는 점만 다를 뿐 도 3에 도시된 플레이트 정렬 장치(50)의 기둥(85)과 동일하다. 또한, 4개의 수직 모션 액추에이터(110), 4개의 수평 모션 액추에이터(105), 베이스(101)의 구조는 도 3 및 도 4에 도시된 플레이트 정렬 장치(50)의 대응되는 것들(75, 55A~55D, 51)와 구조가 동일하므로 중복된 설명을 생략한다. The four pillars 115 are identical to the pillars 85 of the plate alignment device 50 shown in FIG. 3 except that the four pillars 115 support the stage 125 in place of the mask 5. In addition, the structures of the four vertical motion actuators 110, the four horizontal motion actuators 105, and the base 101 are corresponding to those of the plate alignment device 50 shown in Figs. 55D and 51, the structure is the same, so that duplicate description is omitted.

자세 감지기는 기판(3)의 4곳의 코너를 촬상하는 4개의 카메라(127)를 포함한다(단, 도 5에는 2개만 도시되어 있다). 4개의 카메라(127)는 도 5에 도시된 바와 같이 스테이지(stage)(125)의 4곳의 코너에 설치될 수도 있고, 작업 챔버(120)의 내측면에 설치될 수도 있다. 4개의 카메라(127)에 의해 촬상된 화면과 기준 좌표를 비교하여 기판(3)의 자세를 정렬할 필요성과 정렬이 필요한 크기(aligning amount)가 결정된다. 촬상된 화면의 선명도와 카메라(127)에 구비된 렌즈의 초점 거리와의 관계를 이용하여 4개의 카메라(127)와 기판(3)의 4개의 코너 간의 이격 거리를 측정할 수 있고, 이렇게 측정된 4개의 이격 거리를 이용하여 기판(3)의 기울어짐 정도를 측정할 수 있다. The attitude detector includes four cameras 127 for imaging four corners of the substrate 3 (only two are shown in FIG. 5). The four cameras 127 may be installed at four corners of the stage 125 as shown in FIG. 5 or may be installed at the inner side of the working chamber 120. The necessity of aligning the posture of the substrate 3 and the amount of alignment required for alignment are determined by comparing the reference images and the screen image photographed by the four cameras 127. The separation distance between the four cameras 127 and the four corners of the substrate 3 may be measured using the relationship between the sharpness of the captured screen and the focal length of the lens provided in the camera 127. Using four separation distances, the degree of inclination of the substrate 3 may be measured.

한편, 상술한 예시적 설명과 달리 4개의 카메라(127)가 기판(3)과 함께 마스크(5)를 촬상할 수도 있다. 또한, 도시되진 않았으나 마스크(5)을 촬상하는 별도의 카메라를 더 구비할 수도 있다. 그리하여, 기판(3)을 촬상한 화면과 마스크(5)을 촬상한 화면을 비교하여 기판(3)의 자세를 정렬할 필요성과 정렬이 필요한 크기를 결정할 수도 있다.Meanwhile, unlike the above-described exemplary description, four cameras 127 may capture the mask 5 together with the substrate 3. In addition, although not shown, a separate camera for photographing the mask 5 may be further provided. Thus, the screen on which the substrate 3 is imaged and the screen on which the mask 5 is imaged can be compared to determine the necessity of aligning the posture of the substrate 3 and the size of alignment required.

작업 챔버(120)는 서로 밀착 가능한 상부 하우징(121)과 하부 하우징(122)을 구비하며, 마스크(5)는 작업 챔버(120), 구체적으로 상부 하우징(121)의 내측면에 고정 지지된다. 밀착된 상부 하우징(121)과 하부 하우징(122)에 의해 밀폐되는 작업 공간 내에서는 예컨대, 기판(3)에 유기 물질을 증착하는 등의 작업이 수행된다. 유기 물질 증착에 앞서서 기판(3)이 마스크(5)에 대해 평행하게 아래에 배치된다. 작업 챔버(120) 내 작업 공간의 압력은 증착 과정 중에 작업 공간 외부의 압력보다 낮게 유지된다. The working chamber 120 includes an upper housing 121 and a lower housing 122 which are in close contact with each other, and the mask 5 is fixedly supported on the inner surface of the working chamber 120, specifically, the upper housing 121. In the work space sealed by the upper housing 121 and the lower housing 122, which are in close contact, for example, an operation such as depositing an organic material on the substrate 3 is performed. The substrate 3 is disposed below parallel to the mask 5 prior to the deposition of the organic material. The pressure of the work space in the work chamber 120 is kept lower than the pressure outside the work space during the deposition process.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

3: 기판 5: 마스크
50: 플레이트 정렬 장치 51: 베이스
55A~55D: 수평 모션 액추에이터 75: 수직 모션 액추에이터
85: 기둥 90: 작업 챔버
95: 스테이지 97: 카메라3: substrate 5: mask
50: plate alignment device 51: base
55A-55D: Horizontal Motion Actuator 75: Vertical Motion Actuator
85: pillar 90: working chamber
95: stage 97: camera

Claims (7)

정렬 대상인 플레이트의 복수의 코너(corner), 또는 상기 플레이트를 고정 지지하는 스테이지(stage)의 복수의 코너를 지지하며 수직 방향으로 연장된, 상기 코너의 개수와 동수(同數)인 복수의 기둥;
상기 복수의 기둥에 각각 결합되어 상기 복수의 기둥을 개별적으로 승강 구동함으로써 상기 플레이트가 틸팅을 포함한 수직 방향으로 정렬하는 복수의 수직 모션 액추에이터;
상기 복수의 수직 모션 액추에이터에 각각 결합되어 상기 복수의 기둥을 개별적으로 수평 방향으로 구동함으로써 상기 플레이트를 수평 방향으로 정렬하는 복수의 수평 모션 액추에이터;
상기 복수의 수평 모션 액추에이터를 고정 지지하는 베이스; 및
상기 플레이트의 자세를 감지하는 자세 감지기에 의해 감지된 상기 플레이트의 자세에 기초하여 상기 복수의 수직 모션 액추에이터 및 상기 복수의 수평 모션 액추에이터의 동작을 제어하는 콘트롤러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. A plurality of pillars equal in number to the number of corners extending in a vertical direction while supporting a plurality of corners of a plate to be aligned or a plurality of corners of a stage for holding and supporting the plate;
A plurality of vertical motion actuators coupled to the plurality of pillars, respectively, for vertically aligning the plates by tilting and driving the plurality of pillars;
A plurality of horizontal motion actuators respectively coupled to the plurality of vertical motion actuators to align the plates in a horizontal direction by individually driving the plurality of pillars in a horizontal direction;
A base for holding and supporting the plurality of horizontal motion actuators; And
And a controller configured to control the operations of the plurality of vertical motion actuators and the plurality of horizontal motion actuators based on the attitude of the plate detected by the attitude detector for detecting the position of the plate. . 제1 항에 있어서,
상기 복수의 수평 모션 액추에이터 각각은, 제1 모터와, 상기 베이스에 고정 지지되는 베이스 고정 부재와, 상기 제1 모터의 동력에 의해 상기 베이스 고정 부재 상에서 수평인 일 방향으로 이동 가능한 제1 LM 부재와, 상기 제1 LM 부재의 이동 방향에 직교하며 수평인 방향으로 자유 이동 가능하게 상기 제1 LM 부재에 연결된 제2 LM 부재와, 수직축을 중심으로 하여 자유 회전 가능하게 상기 제2 LM 부재에 연결되며 상기 수직 모션 액추에이터를 지지하는 회전 부재를 구비하고,
상기 복수의 수평 모션 액추에이터 중 일부와 그 나머지는 상기 베이스 상에서 서로 직교하도록 배치된 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. The method according to claim 1,
Each of the plurality of horizontal motion actuators includes a first motor, a base fixing member fixed to the base, a first LM member movable in one horizontal direction on the base fixing member by the power of the first motor; A second LM member connected to the first LM member to be freely movable in a horizontal direction orthogonal to a moving direction of the first LM member, and connected to the second LM member freely rotatable about a vertical axis; A rotating member for supporting the vertical motion actuator,
And some of the plurality of horizontal motion actuators are arranged orthogonal to each other on the base. 제2 항에 있어서,
상기 제1 모터는 자신의 샤프트를 회전시키는 회전 동력을 발생시키며, 상기 수평 모션 액추에이터는 상기 제1 모터 샤프트의 회전 운동을 상기 제1 LM 부재의 직선 운동으로 전환하는 제1 볼 스크류(ball screw)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. The method of claim 2,
The first motor generates a rotational power for rotating its shaft, the horizontal motion actuator is a first ball screw for converting the rotational motion of the first motor shaft into a linear motion of the first LM member Plate alignment apparatus further comprises. 제1 항에 있어서,
상기 복수의 수직 모션 액추에이터 각각은, 제2 모터와, 수직 방향으로 연장되고 상기 제2 모터의 샤프트가 회전함에 따라 회전하는 제2 볼 스크류와, 상기 기둥에 고정 결합되고 상기 제2 볼 스크류가 회전함에 따라 승강하도록 상기 제2 볼 스크류에 체결된 승강 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. The method according to claim 1,
Each of the plurality of vertical motion actuators includes a second ball screw, which extends in a vertical direction and rotates as the shaft of the second motor rotates, and is fixedly coupled to the pillar and the second ball screw rotates. And a lifting member fastened to the second ball screw to move up and down. 제1 항에 있어서,
상기 자세 감지기는 상기 플레이트의 복수의 코너를 촬상하는, 적어도 하나의 카메라를 포함하는 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. The method according to claim 1,
And the posture detector comprises at least one camera for imaging a plurality of corners of the plate. 제1 항에 있어서,
상기 플레이트를 이용한 작업이 수행되는 작업 공간을 한정하고, 상기 작업 공간의 압력을 상기 작업 공간 외부의 압력보다 낮게 유지할 수 있는 작업 챔버를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치. The method according to claim 1,
And a work chamber defining a work space in which work using the plate is performed, and maintaining a pressure of the work space lower than a pressure outside the work space. 제1 항에 있어서,
상기 플레이트는 기판(substrate) 또는 마스크(mask)인 것을 특징으로 하는 플레이트 정렬 장치.
The method according to claim 1,
And the plate is a substrate or a mask.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110064199A (en) * 2009-12-07 2011-06-15 삼성전자주식회사 Actuator, stage apparatus, exposure apparatus
WO2016196105A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 Applied Materials, Inc. Susceptor position and rotation apparatus and methods of use
CN107735857A (en) * 2015-06-05 2018-02-23 应用材料公司 Base stand location and slewing and application method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040085983A (en) * 2003-04-02 2004-10-08 (주)네스디스플레이 Mask align chamber
KR100931609B1 (en) 2007-11-23 2009-12-14 주식회사 에이디피엔지니어링 Board Bonding Device
KR20100009491A (en) * 2008-07-17 2010-01-27 가부시키가이샤 알박 Alignment device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040085983A (en) * 2003-04-02 2004-10-08 (주)네스디스플레이 Mask align chamber
KR100931609B1 (en) 2007-11-23 2009-12-14 주식회사 에이디피엔지니어링 Board Bonding Device
KR20100009491A (en) * 2008-07-17 2010-01-27 가부시키가이샤 알박 Alignment device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110064199A (en) * 2009-12-07 2011-06-15 삼성전자주식회사 Actuator, stage apparatus, exposure apparatus
KR101670670B1 (en) 2009-12-07 2016-11-01 삼성전자 주식회사 Actuator, Stage Apparatus, Exposure Apparatus
WO2016196105A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 Applied Materials, Inc. Susceptor position and rotation apparatus and methods of use
CN107735857A (en) * 2015-06-05 2018-02-23 应用材料公司 Base stand location and slewing and application method
JP2018518056A (en) * 2015-06-05 2018-07-05 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ Susceptor positioning and rotating device and method of use
US10597779B2 (en) 2015-06-05 2020-03-24 Applied Materials, Inc. Susceptor position and rational apparatus and methods of use
CN107735857B (en) * 2015-06-05 2022-01-11 应用材料公司 Base positioning and rotating equipment and using method

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