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KR101367162B1 - Reflectance library classification method - Google Patents

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KR101367162B1
KR101367162B1 KR1020120066312A KR20120066312A KR101367162B1 KR 101367162 B1 KR101367162 B1 KR 101367162B1 KR 1020120066312 A KR1020120066312 A KR 1020120066312A KR 20120066312 A KR20120066312 A KR 20120066312A KR 101367162 B1 KR101367162 B1 KR 101367162B1
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reflectance
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이홍석
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최동혁
김종훈
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이중환
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케이맥(주)
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Abstract

대상물 두께 또는 표면 구조 분석을 위한 반사도 라이브러리 분류 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 반사도 라이브러리 분류 방법은 미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계와, 상기 설정해 놓은 인덱스별로 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계로 구성된다. 본 발명은 반사도 라이브러리 검색을 통해 대상물의 두께 또는 표면 구조를 빠르게 분석할 수 있게 해 주는 반사도 라이브러리 분류 방법을 제안한다.Disclosed are a reflectivity library classification method for object thickness or surface structure analysis. According to the method of classifying a reflectivity library according to the present invention, an index is set on reflectance data according to a wavelength of light stored in a reflectivity library according to a preset index setting method, and a plurality of reflectance data stored in a reflectivity library for each of the set indexes. Classifying them. The present invention proposes a method of classifying a reflectivity library that enables rapid analysis of a thickness or surface structure of an object through a reflectance library search.

Description

반사도 라이브러리 분류 방법{REFLECTANCE LIBRARY CLASSIFICATION METHOD}How to classify reflectivity library {REFLECTANCE LIBRARY CLASSIFICATION METHOD}

본 발명은 대상물에 빛을 입사하고 그 반사광(회절, 간섭, 반사 등에 의한 광을 포함)을 측정하여 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 기술 분야에 있어서 대상물의 다양한 모델들에 대한 반사도 데이터들을 저장하고 있는 반사도 라이브러리를 이용하여 분석하는 방식에 이용될 수 있는 반사도 라이브러리 분류 방법에 관한 것이다.
The present invention stores reflectance data for various models of an object in the technical field for injecting light into an object and measuring the reflected light (including light due to diffraction, interference, reflection, etc.) to analyze the thickness or surface structure of the object. It relates to a reflectivity library classification method that can be used in the analysis method using the reflectivity library.

반도체, LCD Cell, Solar Cell 등의 두께 분석(Single 및 multi-layer) 또는 표면 구조(형상, 격자구조 포함) 등을 분석하기 위해서, X-ray, UV, 가시광선, IR, Microwave 등 다양한 영역의 파장을 가진 빛을 조사하고 그의 반사광(회절, 간섭, 반사 등에 의한 광을 포함)을 측정하고 분석하는 기술이 사용되고 있다.In order to analyze thickness analysis (single and multi-layer) or surface structure (including shape and lattice structure) of semiconductor, LCD Cell, Solar Cell, etc., various areas such as X-ray, UV, visible light, IR, microwave Techniques for irradiating light having a wavelength and measuring and analyzing its reflected light (including light due to diffraction, interference, reflection, etc.) have been used.

회절 분석계(Diffractometry), 반사 측정계(Reflectometry), 타원 편광 반사계(Ellipsometry), 간섭계(Interferometry) 등(통칭하여 scatterometry라고 함)이 대상물의 반사광에 관한 정보를 측정하는데 이용되는 장치들이다.Diffractometry, reflectometry, ellipsometry, interferometry, and so forth (collectively called scatterometry) are devices used to measure information about reflected light of an object.

도 1은 단층 시료의 경계면에서의 다중 반사 현상을 개략적으로 도시한 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view schematically showing a multiple reflection phenomenon at an interface of a single-layer sample. FIG.

살펴보면, 기판(1) 상에 소정 두께를 갖는 박막(2)이 코팅되어 단층 시료를 구성한다. 시료에 입사한 빛(3)은 박막(2)의 표면에 의해 일부의 빛(4)이 반사되고, 나머지 부분의 빛(5)은 박막(2)을 투과한다. 투과된 빛(5)은 계속 진행하여 박막(2)과 기판(1) 사이의 경계면(interface)(6)을 만나게 된다. 이 경계면(6)에서 일부의 빛(7)은 다시 반사되고 나머지 일부의 빛(8)은 기판(1)을 투과한다. 일반적으로, 빛은 서로 다른 물질들 사이의 경계면을 만날 때마다 반사와 투과 현상을 일으킨다. 따라서, 같은 방향으로 반사된 빛들은 서로 간에 상호작용(interaction)을 하는데, 사용된 빛의 파장(wavelength), 그리고 코팅된 박막(2)과 기판(1)의 두께 및 굴절률에 따라 소위 보강 간섭(constructive interference) 상호작용과 상쇄 간섭(destructive interference) 상호작용이 이루어진다. 만일, 특정 파장에서 보강 간섭이 있다면 빛의 강도(light intensity)가 증폭되고, 상쇄 간섭이 있다면 빛의 강도의 감폭(de-amplification)이 일어난다. 증폭이 된다면 그 특정 파장의 절대 반사도는 주변 파장의 절대 반사도에 비해 상대적으로 높고, 감폭된다면 상대적으로 낮게 된다.The thin film 2 having a predetermined thickness is coated on the substrate 1 to form a single-layer sample. The light 3 incident on the sample is partially reflected by the surface of the thin film 2 and the remaining portion of the light 5 is transmitted through the thin film 2. The transmitted light 5 continues to meet the interface 6 between the thin film 2 and the substrate 1. At this interface 6, some of the light 7 is reflected again and some of the light 8 is transmitted through the substrate 1. Generally, light causes reflections and transmissions whenever it encounters an interface between different materials. Thus, the reflected light in the same direction interacts with each other, depending on the wavelength of the light used, and the thickness and refractive index of the coated thin film 2 and the substrate 1, so-called constructive interference ( constructive interference interaction and destructive interference interaction. If there is constructive interference at a particular wavelength, the light intensity is amplified, and if there is destructive interference, a de-amplification of the light intensity occurs. If amplified, the absolute reflectivity of that particular wavelength is relatively high compared to the absolute reflectance of the ambient wavelength, and if attenuated, it is relatively low.

도 1에 도시된 바와 같은 빛의 반사와 투과, 그리고 빛의 강도의 증폭과 감폭 현상을 이용하여 대상물 두께 또는 표면 구조 분석을 위한 반사 특성과 관련된 정보, 일 예로 반사도 정보를 획득할 수 있다.Information related to reflection characteristics for analyzing object thickness or surface structure, for example, reflectance information, may be obtained using reflection and transmission of light as shown in FIG. 1, and amplification and attenuation of light intensity.

반사도 정보를 이용하여 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 방식에는 수치해석 방식과 라이브러리 검색 방식이 있다.The method of analyzing the thickness or surface structure of an object using reflectance information includes a numerical analysis method and a library search method.

수치해석 방식은 반사도 정보에 대한 특정 변수 값들을 가지는 모델식을 이용한다. 이 방식에는 최소 자승법(Least-square method)이 가장 많이 사용되고 있는데, 모델식의 변수들을 변화시키면서 식의 결과값과 반사도 정보 간의 오차가 최소가 되는 변수들을 검색하는 방식으로 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석해 낸다.The numerical method uses model equations with specific variable values for reflectivity information. The least-square method is most commonly used in this method, and the thickness or surface structure of the object is searched by changing the variables of the model equation and searching for the variables that minimize the error between the results of the equation and the reflectance information. Analyze

라이브러리 검색 방식은 대상물에 대한 다양한 모델들에 대해 이론적으로 계산된 반사도 정보들을 라이브러리로 형성해 두고, 대상물에 대해 측정된 반사도 정보를 라이브러리에 저장된 정보들과 매칭을 통해 라이브러리에서 오차가 최소가 되는 모델의 반사도 정보를 검색하는 방식으로 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석해 낸다.
The library search method forms theoretically calculated reflectivity information of various models of the object into a library, and matches the measured reflectivity information with the information stored in the library to minimize the error in the library. Analyze the thickness or surface structure of an object by searching for reflectance information.

한국특허공개문헌 제1998-0070850호 (공개일 : 1998.10.26)Korean Patent Publication No. 1998-0070850 (published: 1998.10.26) 한국특허공개문헌 제2008-0006946호 (공개일 : 2008.01.17)Korean Patent Publication No. 2008-0006946 (Published Date: 2008.01.17)

본 발명은 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하기 위해서 대상물의 다양한 모델들에 대한 반사도 데이터들을 저장하고 있는 반사도 라이브러리를 이용하여 분석하는 방식에 이용될 수 있는 반사도 라이브러리 분류 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
It is an object of the present invention to provide a method of classifying a reflectivity library that can be used in a method of analyzing a reflectance library storing reflectance data of various models of an object in order to analyze a thickness or surface structure of an object. .

그러므로 상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일 실시 예 따른 반사도 라이브러리 분류 방법은 미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및 상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;를 포함한다.Therefore, in order to achieve the above object, the reflectivity library classification method according to an embodiment of the present invention comprises the steps of setting the index on the reflectance data according to the wavelength of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting method; And classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library for each of the set indexes.

제1 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 개수 또는 골(Valley) 개수를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.According to a first embodiment, the index setting method may be performed by setting an index using the number of peaks or valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region. Way.

제2 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 평균값을 산출하고, 그 산출한 평균값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.According to a second embodiment, the index setting method may be a method of calculating an average value of the reflectivity data in the entire wavelength region or a predetermined wavelength region where the reflectance data is measured, and setting an index using the calculated average value. .

제3 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터 내에 적어도 하나의 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.According to a third embodiment, the index setting method may be a method of setting an index using reflectance values appearing at at least one wavelength in reflectance data.

제4 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 최대값과 최소값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.According to a fourth embodiment, the index setting method may be a method of setting an index by using maximum and minimum values existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region.

제5 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 및 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 적어도 하나를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.In the fifth exemplary embodiment, the index setting method may include at least one of reflectance values corresponding to peaks and valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region. It may be a method of setting the index using.

제6 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak)와 마루(Peak) 사이의 파장 간격, 골(Valley)과 골(Valley) 사이의 파장 간격, 또는 n(n은 1 이상의 자연수임)번째 마루(Peak)가 나타나는 파장과 m(m은 자연수임)번째 골(Valley)이 나타나는 파장을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.In the sixth embodiment, the index setting method may include: a wavelength interval between valleys and peaks existing in the reflectivity data in all wavelength ranges in which reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region, and valleys. The index is set using the wavelength interval between and valleys, or the wavelength at which n (n is a natural number greater than 1) peak and the wavelength at which m (m is natural) Valley. It may be the way.

제7 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 표준편차를 산출하고, 그 산출한 표준편차를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.According to a seventh embodiment, the index setting method is a method of calculating a standard deviation of the reflectivity data in the entire wavelength region or a predetermined wavelength region where the reflectance data is measured, and setting the index using the calculated standard deviation. Can be.

제8 실시 예로 상기 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 모든 값을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값을 산출하여, 그 산출한 나머지 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다.In an eighth embodiment, the index setting method may be performed by summing all values of the reflectivity data in the entire wavelength region or a predetermined wavelength region where the reflectance data is measured, and calculating a remaining value obtained by dividing the sum value by an arbitrary value. The index may be set using the calculated remaining values.

상기 인덱스 설정 방식은, 상기 제1 실시 예 내지 상기 8 실시 예에 해당하는 인덱스 설정 방식 중에서 적어도 두 개 이상의 방식을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식일 수 있다. The index setting method may be a method of setting an index by using at least two methods among the index setting methods corresponding to the first to eighth embodiments.

상기 인덱스 설정 단계는, 상기와 같은 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정한다.In the index setting step, an index is set for each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method as described above.

본 발명을 활용하여 대상물 특성을 분석하는 경우, 본 발명은 상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계 이후에, 대상물에 대한 반사도 데이터를 측정하는 단계; 상기 인덱스 설정 방식과 동일한 방식으로 상기 측정된 반사도 데이터를 분석하여 상기 측정된 반사도 데이터에 대한 인덱스를 판단하는 단계; 상기 판단된 인덱스를 이용하여 상기 인덱스별로 분류된 반사도 라이브러리에서 상기 측정된 반사도 데이터와 오차 값이 최소인 반사도 데이터를 검색하는 단계; 및 상기 검색 결과에 따라, 상기 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 단계;를 더 포함할 수 있다.
When analyzing the characteristics of the object using the present invention, after the step of classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library for each of the set index, measuring the reflectance data for the object; Analyzing the measured reflectance data in the same manner as the index setting method to determine an index of the measured reflectance data; Searching for reflectance data having a minimum error value and the measured reflectivity data in the reflectivity library classified by the index using the determined indexes; And analyzing the thickness or surface structure of the object according to the search result.

본 발명은 반사도 라이브러리 검색을 통해 대상물의 두께 또는 표면 구조를 빠르게 분석할 수 있도록 반사도 데이터에서 얻을 수 있는 특징(인덱스)으로 반사도 라이브러리를 분류하는 방법을 제안한다. The present invention proposes a method of classifying a reflectivity library by a feature (index) obtained from reflectivity data so that the thickness library or surface structure of an object can be quickly analyzed through the reflectance library search.

본 발명에 따르면, 반사도 라이브러리 내에 반사도 데이터들이 인덱스별로 분류됨에 따라, 대상물에서 측정된 반사도 데이터의 특성과 일치하는 인덱스를 가진 반사도 데이터들을 반사도 라이브러리에서 검색하여 대상물의 두께 또는 표면 구조를 보다 신속하고 정확하게 분석해 낼 수 있다.
According to the present invention, as the reflectivity data in the reflectance library are classified by index, the reflectance library having indexes matching the characteristics of the reflectance data measured in the object is searched in the reflectivity library to more quickly and accurately determine the thickness or surface structure of the object. You can analyze it.

도 1은 단층 시료의 경계면에서의 다중 반사 현상을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 반사 측정계에서 측정된 반사도 데이터의 일 실시 예를 도시한 도면이다.
도 3은 타원 편광 반사계에서 측정된 Psi 및 Delta 데이터의 일 실시 예를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반사도 라이브러리 분류 방법을 도시한 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 본 발명의 제5 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 제6 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 본 발명의 제8 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따라 분류된 반사도 라이브러리를 활용한 대상물 특성 분석 방법을 도시한 흐름도이다.1 is a diagram schematically illustrating a multiple reflection phenomenon at an interface of a monolayer sample.
2 is a diagram illustrating an embodiment of reflectance data measured by a reflectometer.
Figure 3 is a diagram illustrating one embodiment of Psi and Delta data measured in an ellipsometric reflectometer.
4 is a flowchart illustrating a reflectance library classification method according to an embodiment of the present invention.
5 is a view for explaining an index setting method according to a first embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining an index setting method according to a second embodiment of the present invention.
7 is a view for explaining an index setting method according to a third embodiment of the present invention.
8 is a view for explaining an index setting method according to a fourth embodiment of the present invention.
9 is a view for explaining an index setting method according to a fifth embodiment of the present invention.
10 is a view for explaining an index setting method according to a sixth embodiment of the present invention.
11 is a view for explaining an index setting method according to a seventh embodiment of the present invention.
12 is a view for explaining an index setting method according to an eighth embodiment of the present invention.
13 is a flowchart illustrating an object characteristic analysis method using a reflectance library classified according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 도면들 중 동일한 구성요소들은 가능한 한 어느 곳에서든지 동일한 부호들로 나타내고 있음에 유의해야 한다. 또한 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It is to be noted that the same elements among the drawings are denoted by the same reference numerals whenever possible. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

도 2는 반사 측정계에서 측정된 반사도 데이터의 일 실시 예를 도시한 도면이고, 도 3은 타원 편광 반사계에서 측정된 Psi 및 Delta 데이터의 일 실시 예를 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating an embodiment of reflectance data measured by a reflectometer, and FIG. 3 is a diagram illustrating an embodiment of Psi and Delta data measured by an elliptical polarization reflectometer.

반사 측정계는 대상물에 빛을 입사하고 반사된 빛의 강도를 측정하여 입사된 빛의 강도에 대한 반사된 빛의 강도의 비율을 빛의 파장에 따른 데이터로 제공한다.The reflectometer measures the intensity of the reflected light by injecting light into the object and provides the ratio of the intensity of the reflected light to the intensity of the incident light as data according to the wavelength of the light.

타원 편광 반사계는 대상물에 타원 편광 빔을 입사하고 반사된 편광 빔의 변화된 비율을 통해서 delta(위상차, δ), psi(반사계수의 비, Ψ)에 대한 데이터를 측정하여 제공한다.An elliptical polarization reflectometer enters an elliptical polarization beam into an object and provides data by measuring data on delta (phase difference, δ) and psi (ratio of reflection coefficient, Ψ) through the changed ratio of the reflected polarization beam.

본 발명은 반사도를 이용하여 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 모든 영역에 사용 가능하다. The present invention can be used in all areas for analyzing the thickness or surface structure of an object using reflectivity.

또한, 본 발명은 회절 분석계, 간섭계, 반사계 등과 같이 빛을 조사하고 그의 회절, 간섭, 및 반사에 의해 측정되는 광 데이터를 이용하여 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 모든 영역에 사용 가능하다. In addition, the present invention can be used in all areas for irradiating light, such as a diffractometer, interferometer, reflectometer, etc., and analyzing the thickness or surface structure of an object using optical data measured by its diffraction, interference, and reflection.

여기서는, 반사도 데이터를 기준으로 하여 본 발명을 설명한다.Here, the present invention will be described based on the reflectance data.

기존에 수치해석 방식을 이용한 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석하는 기술은 분석 시간이 빠른 편이나 반사도 데이터를 분석해야 하는 영역이 넓으면 분석 값을 신뢰할 수 없다는 단점이 있다. 분석 영역이 넓다는 것은 찾아야 하는 변수들의 가변 영역이 크다는 것이며, 이럴 경우 local minimum에 빠지게 될 확률이 높다. local minimum에 빠지면 빠져나오기가 힘들어 결국 분석 값을 신뢰하기 힘들게 된다. Conventional techniques for analyzing the thickness or surface structure of an object using numerical methods have the disadvantage that the analysis time is fast but the analysis value is unreliable if the area to which reflectance data is analyzed is large. The large analysis area means that the variable area of variables to be searched is large, which is likely to fall into the local minimum. If you fall into the local minimum, it will be hard to escape, making it difficult to trust the analysis value.

그에 반해, 반사도 라이브러리 검색 방식은 다양한 모델들에 대해 이론적으로 계산된 반사도 데이터들을 라이브러리에 저장하고 있으면서 측정된 반사도 데이터와 일일이 비교를 통해 분석하는 방식이다 라이브러리 검색 방식의 장점은 local minimum에 빠질 염려가 없다는 것으로 분석 값에 대한 신뢰도가 높다는 것과 분석 영역(변수들의 가변영역)이 넓어도 분석이 가능하다는 것이다. 그러나 라이브러리 검색 방식의 단점은 이론적으로 계산된 반사도와 측정된 데이터를 일일이 비교하기 때문에 분석시간이 길다는 것이다. 분석 영역(변수들의 가변영역)이 넓으면 넓을수록, 정확도를 높이면 높일수록 측정된 반사도 데이터와 비교해야 하는 데이터 양이 많아지므로 분석시간은 길어질 수 밖에 없어진다.In contrast, the reflectivity library search method stores the theoretically calculated reflectivity data for various models in the library and analyzes them by comparing them with the measured reflectance data. The lack of confidence in the analytical values and the wide range of analysis (variable regions of the variables) allow analysis. The disadvantage of the library search method, however, is that the analysis time is long because the calculated reflectivity and the measured data are compared one by one. The wider the analysis area (variable area of the variables), the higher the accuracy, the greater the amount of data to be compared with the measured reflectivity data, so the analysis time becomes long.

본 발명에 따른 반사도 라이브러리 분류 방법은, 반사도 데이터의 특성을 인덱스화하고 그 인덱스별로 라이브러리를 분류해 놓음으로써 반사도 라이브러리 검색을 통해 대상물의 두께 또는 표면 구조를 빠르게 분석할 수 있도록 해 준다.Reflectivity library classification method according to the present invention, by indexing the characteristics of the reflectance data and classifies the library by the index, it is possible to quickly analyze the thickness or surface structure of the object through the reflectance library search.

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반사도 라이브러리 분류 방법을 도시한 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a reflectance library classification method according to an embodiment of the present invention.

살펴보면, 미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정한다(S100). 그리고, 그 설정해 놓은 인덱스별로 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류한다(S110). In operation S100, an index is set on reflectance data according to a wavelength of light stored in a reflectivity library according to a preset index setting method (S100). Then, the plurality of reflectance data stored in the reflectivity library is classified according to the set indexes (S110).

여기서, 본 발명의 실시 예에 따른 반사도 데이터의 특성을 이용한 인덱스 설정 방식에 대해서는 이하 도 5 내지 도 12를 통해 설명하도록 한다.Here, an index setting method using characteristics of reflectance data according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 12.

도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining an index setting method according to a first embodiment of the present invention.

도 5에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 개수 또는 골(Valley) 개수를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.In the index setting method illustrated in FIG. 5, the index is set using the number of peaks or valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region. That's the way.

파장에 따른 반사도 데이터에는 도 5에 도시된 바와 같이 마루 또는 골이 존재하고 있으며, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에서 마루와 골의 개수를 분석하여 그 분석된 결과, 예를 들어 마루와 골의 개수 합이 5이면 해당 반사도 데이터에서 5의 값을 인덱스로 설정해 두는 방식이다.As shown in FIG. 5, there are floors or valleys in the reflectivity data according to the wavelength, and the number of floors and valleys is analyzed in the entire wavelength region where the reflectance data is measured. If the sum is 5, the value of 5 is set as an index in the reflectance data.

이러한 방식은 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에 존재하는 마루 및 골의 개수, 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 마루 및 골의 개수, 전체 파장 영역 혹은 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 마루의 개수, 또는 전체 파장 영역 혹은 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 골의 개수를 이용할 수 있다.This approach is based on the number of floors and valleys present in the entire wavelength region where the reflectivity data is measured, the number of floors and valleys present in the reflectivity data in any predetermined wavelength region, and the reflectance data in the entire wavelength region or any wavelength region. The number of floors present, or the number of valleys present in the reflectivity data in the entire wavelength region or any wavelength region may be used.

도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining an index setting method according to a second embodiment of the present invention.

도 6에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 평균값(Mean)을 산출하고, 그 산출한 평균값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.In the index setting method illustrated in FIG. 6, an average value Mean of the reflectance data is calculated in the entire wavelength region or a predetermined wavelength region in which reflectance data is measured, and an index is set using the calculated average value. That's the way.

예를 들어, 반사도 라이브러리 내에 저장된 반사도 데이터에 대한 평균값을 산출한 후, 그 산출된 평균값이 인덱스 1에 해당하는 범위 내에 해당하는 경우 해당 반사도 데이터에 인덱스로 1을 설정해 둘 수 있다.For example, after calculating the average value of the reflectivity data stored in the reflectivity library, if the calculated average value falls within the range corresponding to the index 1, the index 1 may be set to the reflectance data.

또는, 반사도 라이브러리 내에 저장된 반사도 데이터에 대한 평균값을 산출한 후 기 설정해 놓은 기준값에서 그 산출된 값을 뺀 값을 이용하여 인덱스를 설정해 둘 수 있다.Alternatively, the average value of the reflectance data stored in the reflectivity library may be calculated, and then an index may be set using a value obtained by subtracting the calculated value from the preset reference value.

도 7은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining an index setting method according to a third embodiment of the present invention.

도 7에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터 내에 하나의 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다. 이는 반사도 데이터의 특성으로 특정 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용하여 반사도 데이터를 분류하기 위한 인덱스를 설정하는 방식이다.The index setting method illustrated in FIG. 7 is a method of setting an index using reflectance values appearing at one wavelength in reflectance data. This is a characteristic of reflectance data, and sets an index for classifying reflectance data by using reflectance values appearing at a specific wavelength.

도 8은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면으로, 도 7에서는 하나의 특정 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용한 반면, 도 8에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은 반사도 데이터 내에 복수 개의 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.FIG. 8 is a diagram for describing an index setting method according to a fourth embodiment of the present invention. In FIG. 7, a reflectance value appearing at one specific wavelength is used, whereas the index setting method shown in FIG. The index is set using reflectance values appearing in a plurality of wavelengths.

자세하게, 도 8은 반사도 데이터 내에 기 설정해 놓은 임의의 두 파장(λ1,λ2)에서 나타나는 반사도 값의 차이(Gap)를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식을 도시하고 있다.In detail, FIG. 8 illustrates a method of setting an index by using a difference Gap between reflectance values occurring at two arbitrary wavelengths λ 1 and λ 2 previously set in the reflectivity data.

그 외에도, 반사도 데이터 내에 2개 이상의 임의의 파장에서 나타나는 반사도 값의 차이 또는 합한 값 등을 이용하여서도 해당 반사도 데이터에 대한 인덱스를 설정할 수 있다.In addition, the index for the reflectance data may be set using the difference or sum of reflectance values appearing at two or more arbitrary wavelengths in the reflectance data.

도 9는 본 발명의 제5 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining an index setting method according to a fifth embodiment of the present invention.

도 9에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 최대값과 최소값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.The index setting method illustrated in FIG. 9 is a method of setting an index using the maximum and minimum values existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region.

도 9는 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에서의 최대값(Imax)과 최소값(Imin) 간의 차이(Amplitude)에 따라 인덱스를 설정하는 모습을 도시하고 있다. 이외에도, 최대값(Imax)과 최소값(Imin)을 합한 값을 통해서도 인덱스를 설정할 수 있다.FIG. 9 illustrates setting an index according to the difference between the maximum value Imax and the minimum value Imin in the entire wavelength range where the reflectance data is measured. In addition, the index may be set through the sum of the maximum value Imax and the minimum value Imin.

도 10은 본 발명의 제6 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.10 is a view for explaining an index setting method according to a sixth embodiment of the present invention.

도 10에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 및 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 적어도 하나를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.The index setting method illustrated in FIG. 10 uses at least one of reflectance values corresponding to peaks and valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region. To set the index.

예를 들어, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에서 마루(Peak)에 해당하는 반사도 값 중 최대값(Ipeak_max)과 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 최소값(Ivalley_min)의 차이(Difference) 또는 그 두 값을 합한 값을 이용하여 인덱스를 설정할 수 있다.For example, the difference between the maximum value (Ipeak_max) among the reflectance values corresponding to the peak and the minimum value (Ivalley_min) among the reflectance values corresponding to the valley in the entire wavelength region where the reflectance data is measured, or the difference thereof. The index can be set using the sum of the two values.

반사도 데이터 내에 마루(Peak)만 존재하거나 골(Valley)만 존재하는 경우에는 마루에 해당하는 반사도 값을 이용하거나 골에 해당하는 반사도 값을 이용하여 인덱스를 설정할 수 있을 것이다.When only a peak or valley is present in the reflectivity data, an index may be set using a reflectance value corresponding to the floor or a reflectance value corresponding to the valley.

도 11은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다.11 is a view for explaining an index setting method according to a seventh embodiment of the present invention.

도 11에 도시되어 있는 인덱스 설정 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak)와 마루(Peak) 사이의 파장 간격, 골(Valley)과 골(Valley) 사이의 파장 간격, 또는 n(n은 1 이상의 자연수임)번째 마루(Peak)가 나타나는 파장과 m(m은 자연수임)번째 골(Valley)이 나타나는 파장을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식이다.The index setting method illustrated in FIG. 11 includes a wavelength interval between valleys and peaks existing in the reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in a predetermined wavelength range, and valleys. ) Using the wavelength gap between the valley and the valley, or the wavelength at which n (n is a natural number greater than 1) peak and the wavelength at which m (m is a natural number) Valley. This is how you set it.

예를 들어, 도 11에 도시된 바와 같이 반사도 데이터 내에 첫 번째 마루가 나타나는 제1 파장과 첫 번째 골이 나타나는 제2 파장 간에 파장 간격(Period)에 따라 인덱스를 설정할 수 있다. For example, as illustrated in FIG. 11, an index may be set according to a wavelength interval between the first wavelength in which the first floor appears and the second wavelength in which the first valley appears in the reflectivity data.

그외에도, 반사도 데이터 내에 첫 번째 마루가 나타나는 제1 파장과 두 번째 마루가 나타나는 제2 파장 간의 파장 간격, 반사도 데이터 내에 첫 번째 골이 나타나는 제1 파장과 두 번째 골이 나타나는 제2 파장 간의 파장 간격, 또는 반사도 데이터 내에 첫 번째 마루가 나타나는 제1 파장과 두 번째 골이 나타나는 제2 파장 간에 파장 간격 등에 따라서 인덱스를 설정할 수 있다.In addition, the wavelength gap between the first wavelength in which the first floor appears in the reflectance data and the second wavelength in which the second floor appears, and the wavelength gap between the first wavelength in which the first valley appears in the reflectivity data and the second wavelength in which the second valley appears. Alternatively, the index may be set according to the wavelength interval between the first wavelength in which the first floor appears and the second wavelength in which the second valley appears in the reflectivity data.

도 12는 본 발명의 제8 실시 예에 따른 인덱스 설정 방식을 설명하기 위한 도면이다. 도 12는 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터의 표준편차(STDEV : Standard Deviation)를 산출하고, 그 산출한 표준편차를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식을 도시하고 있다.12 is a view for explaining an index setting method according to an eighth embodiment of the present invention. FIG. 12 illustrates a method of calculating a standard deviation (STDEV) of reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in a predetermined wavelength range, and setting an index using the calculated standard deviation. have.

앞서 도 5 내지 도 12를 통해 살펴본 인덱스 설정 방식 이외에도, 본 발명에서 인덱스 설정 방식으로 제안할 수 있는 방식은, 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터의 모든 값을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값(remainder)을 산출하여, 그 산출한 나머지 값을 이용하는 것도 가능할 것이다. 또는, 반사도 데이터 내에서 일부 특정 파장의 반사도 값만을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값을 산출하여, 그 산출한 나머지 값을 이용하는 것도 가능할 것이다.In addition to the index setting method described above with reference to FIGS. 5 to 12, the method that may be proposed as the index setting method in the present invention may include all values of the reflectivity data in the entire wavelength region in which the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region. It is also possible to calculate a residual obtained by adding up, dividing the sum by an arbitrary value, and using the calculated remaining value. Alternatively, it is also possible to calculate only the reflectance values of some specific wavelengths in the reflectivity data, divide the sum of the sum values by an arbitrary value, and use the calculated remaining values.

본 발명은 앞서 살펴본 바와 같은 인덱스 설정 방식을 2개 이상 조합하여 반사도 라이브러리 분류를 위한 인덱스 설정 방식으로 사용 가능하다.The present invention can be used as an index setting method for reflectance library classification by combining two or more index setting methods as described above.

그리고, 본 발명에서 제안하는 인덱스 설정 방식은 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 그들의 특성에 따라서 분류해 내기 위한 다양한 방식들이 적용 가능하다.In addition, the index setting scheme proposed in the present invention can be applied to various methods for classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library according to their characteristics.

도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따라 분류된 반사도 라이브러리를 활용한 대상물 특성 분석 방법을 도시한 흐름도이다.13 is a flowchart illustrating an object characteristic analysis method using a reflectance library classified according to an embodiment of the present invention.

상기 도 4에 도시된 바와 같이 본 발명에 따르면 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 인덱스별로 분류된다(S110).As shown in FIG. 4, according to the present invention, a plurality of reflectance data stored in a reflectivity library is classified by index (S110).

대상물의 두께 또는 표면 구조와 같은 특성을 분석하기 위해서, 대상물에 대한 반사도 데이터를 측정한다(S200).In order to analyze characteristics such as thickness or surface structure of the object, reflectance data of the object is measured (S200).

그리고, 인덱스 설정 방식과 동일한 방식으로 상기 측정된 반사도 데이터를 분석하여(S210), 상기 측정된 반사도 데이터에 대한 인덱스를 판단한다(S220).The measured reflectivity data is analyzed in the same manner as the index setting method (S210), and the index of the measured reflectance data is determined (S220).

일 예로 인덱스 설정 방식이 기 설정되어 있는 임의의 파장 영역 내에서 반사도 데이터의 평균값을 산출하여 그 산출한 평균값을 이용한 인덱스 설정 방식인 경우, 상기 측정된 반사도 데이터에 대해서도 상기의 임의의 파장 영역 내에서 반사도 데이터의 평균값을 산출한다. 그리고 그 산출된 평균값을 이용하여 상기 측정된 반사도 데이터에 대한 인덱스를 판단한다.As an example, when the index setting method is an index setting method using the average value calculated by calculating the average value of the reflectance data in a predetermined wavelength region, the measured reflectance data is also within the arbitrary wavelength region. The average value of the reflectance data is calculated. The index of the measured reflectivity data is determined using the calculated average value.

그리고, 상기 측정된 반사도 데이터와 오차 값이 최소인 반사도 데이터를 검색하기 위해서, 상기 판단된 인덱스를 이용하여 상기 인덱스별로 분류된 라이브러리를 검색한다(S230). 일 예로, 상기 측정된 반사도 데이터에 대한 인덱스가 100으로 판단된 경우, 반사도 라이브러리에서 인덱스 100으로 분류되어 있는 반사도 데이터들 을 상기 측정된 반사도 데이터와 비교하여 그 오차 값이 최소인 반사도 데이터들을 검색한다. 상기 검색 결과를 통해 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석할 수 있다(S240).In order to retrieve the measured reflectivity data and reflectance data having the minimum error value, the library classified by the index is searched using the determined index (S230). For example, when the index of the measured reflectance data is determined to be 100, the reflectance data classified as the index 100 in the reflectivity library is compared with the measured reflectance data to search for reflectance data having a minimum error value. . The thickness or surface structure of the object may be analyzed through the search result (S240).

이와 같이, 반사도를 이용하여 대상물의 특성을 분석시, 인덱스를 통해 상기 측정된 반사도 데이터와 오차 값이 최소인 반사도 데이터를 반사도 라이브러리에서 좀 더 신속하게 검색 가능하게 해 주어, 대상물에 대한 두께 또는 표면 구조를 빠르게 분석할 수 있다.As such, when analyzing the characteristics of the object using the reflectivity, the measured reflectivity data and the reflectance data having the minimum error value can be searched more quickly in the reflectivity library through the index, so that the thickness or the surface of the object Analyze the structure quickly.

하기 <표 1>은 앞서 살펴본 바와 같은 인덱스 설정 방식에 따라서 인덱스별로 반사도 라이브러리를 분류한 경우에 대상물을 분석하는 시간이 얼마나 단축될 수 있는지를 확인하기 위해서 그 분석 시간의 단축 배율을 측정한 결과이다.
<Table 1> is a result of measuring the reduction ratio of the analysis time to determine how short the analysis time of the object when the reflectivity library is classified by index according to the index setting method as described above. .

인덱스 설정 방식Index setting method 단축 배율Shortened magnification 인덱스를 설정하지 않은 경우If no index is set 1One Gap 방식Gap method 44.8644.86 Remainder 방식Remainder method 661.46661.46 Gap + Amplitude 방식Gap + Amplitude method 1262.791262.79 Gap + Difference 방식Gap + Difference Method 1068.511068.51 Gap + mean 방식Gap + mean method 396.88396.88 Gap + remainder 방식Gap + remainder method 2193.262193.26

여기서, Gap 방식은 반사도 데이터의 임의의 두 파장(λ1,λ2)에서 나타나는 반사도 값의 차이(Gap)를 이용한 인덱스 설정 방식을, Remainder 방식은 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 반사도 데이터의 모든 값을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값(remainder)을 이용한 인덱스 설정 방식을, Amplitude 방식은 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에서의 최대값(Imax)과 최소값(Imin) 간의 차이(Amplitude)를 이용한 인덱스 설정 방식을, Difference 방식은 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역에서 마루(Peak)에 해당하는 반사도 값 중 최대값(Ipeak_max)과 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 최소값(Ivalley_min)의 차이(Difference)를 이용한 인덱스 설정 방식을, mean 방식은 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 평균값(Mean)을 산출하고, 그 산출한 평균값을 이용한 인덱스 설정 방식을 말한다.Here, the Gap method is an index setting method using a difference (gap) of reflectance values appearing at two arbitrary wavelengths λ 1 and λ 2 of reflectance data, and the Remainder method is reflectivity in an entire wavelength region or a predetermined wavelength region. The index setting method uses the sum of all data values and the sum divided by an arbitrary value. The amplitude method uses the maximum value (Imax) and the minimum value (Imin) in the entire wavelength range where reflectance data is measured. The index setting method using the difference between Amplitude and the difference method reflects the maximum value (Ipeak_max) and the valley value (Valley) among the reflectance values corresponding to the peak in the entire wavelength region where the reflectance data is measured. The index setting method using the difference between the minimum value (Ivalley_min) and the mean method are the whole wavelength range where the reflectance data is measured or a predetermined wavelength range. In contrast, the mean value Mean of the reflectance data is calculated, and the index setting method using the calculated mean value is referred to.

인덱스별로 분류되지 않은 기존의 반사도 라이브러리를 이용하여 대상물을 분석하는데 비해, Gap 방식으로 인덱스를 설정하고 인덱스별로 분류된 반사도 라이브러리를 이용하여 대상물을 분석하는 시간은 44.86배로 단축되었다.Compared to analyzing objects using existing reflectivity libraries not classified by index, the time to set the index by Gap method and analyze the object using reflectance library classified by index was reduced by 44.86 times.

그리고, Remainder 방식을 이용하여 반사도 라이브러리를 분류하고 이를 이용하여 대상물을 분석하는 시간은 661.46배 단축되었다.In addition, the time required to classify the reflectivity library and analyze the object using the Remainder method was reduced by 661.46 times.

그 이외에, Gap 방식과 Amplitude 방식을 조합하여 인데스를 설정하고 그 인덱스별로 반사도 라이브러리를 분류한 경우, Gap 방식과 Difference 방식을 조합하여 인데스를 설정하고 그 인덱스별로 반사도 라이브러리를 분류한 경우, Gap 방식과 mean 방식을 조합하여 인데스를 설정하고 그 인덱스별로 반사도 라이브러리를 분류한 경우, 및 Gap 방식과 remainder 방식을 조합하여 인데스를 설정하고 그 인덱스별로 반사도 라이브러리를 분류한 경우에도 대상물을 분석하는 시간이 현저하게 단축됨을 살펴볼 수 있다.In addition, when the inset is set by combining the Gap method and the Amplitude method and the reflectance library is classified by the index, when the inset is set by the combination of the Gap method and the Difference method and the reflectance library is classified by the index, the Gap When the inset is set by combining the method and the mean method, and the reflectance library is classified by the index, and the gap is set by the combination of the Gap method and the remainder method, the object is analyzed even when the reflectance library is classified by the index. You can see that the time is significantly reduced.

이와 같이 분석 시간을 단축시킬 수 있었던 이유는 반사도 데이터에서 찾을 수 있는 몇 가지 특징으로 인덱스를 설정하고 인덱스별로 라이브러리를 분류해보니, 대상물에서 측정된 반사도 데이터의 특징과 일치하는 인덱스에 속해 있는 반사도 데이터의 개수가 1/44~1/2000로 줄어들었기 때문이다.The reason why the analysis time can be shortened is to set the index and classify the library by index with some characteristics that can be found in the reflectivity data. This is because the number has been reduced to 1 / 44-1 / 2000.

이와 같이, 본 발명은 대상물의 두께 또는 표면 구조를 분석을 위해 기존에 사용된 반사도 라이브러리를 이용한 분석 기술이 분석 시간이 길다는 문제점을 해결해 준다.As such, the present invention solves the problem that the analysis technique using the reflectivity library used for analyzing the thickness or surface structure of the object has a long analysis time.

본 발명은 반사도를 이용하여 두께 또는 시료 표면을 분석하는 모든 영역에 사용가능하다.The present invention can be used in all areas for analyzing thickness or sample surface using reflectivity.

앞서 언급한 바와 같이, 여기서는 반사도 데이터들을 저장하고 있는 반사도 라이브러리를 이용하여 대상물을 분석하는 방식에 활용될 수 있는 본 발명의 실시 예를 기술하고 있다. 그러나 회절 분석계, 간섭계, 반사계 등에서 측정되는 회절, 간섭, 반사에 의해 측정되는 광 데이터를 이용하여 두께 또는 시료 표면을 분석하는 경우에는, 다양한 모델들에 대한 회절, 간섭 또는 반사에 의한 광 데이터를 저장하고 있는 라이브러리를 이용하여 분석할 수 있으며, 그러한 경우에도, 앞서 반사도 라이브러리를 분류하는 방식과 동일하게 라이브러리에 저장된 광 데이터들의 특성에 따라 인덱스를 설정하고 그에 따라 인덱스별로 라이브러리를 분류 가능할 것이다. As mentioned above, the present disclosure describes an embodiment of the present invention that can be used in a method of analyzing an object using a reflectivity library that stores reflectance data. However, when analyzing thickness or sample surface using optical data measured by diffraction, interference, and reflection measured by a diffractometer, interferometer, reflector, etc., optical data by diffraction, interference, or reflection for various models is not included. In this case, the index may be set according to the characteristics of the optical data stored in the library in the same manner as the classification method of the reflectivity library, and accordingly, the library may be classified according to the index.

본 발명의 기술적 내용인 두께 또는 시료 표면을 분석하는데 이용되는 라이브러리 내에 데이터들을 그들의 특성에 따라 인덱스를 부여하고 인덱스별로 분류하는 것은 두께 또는 시료 표면을 분석하는 모든 영역에 적용될 수 있다.Indexing and classifying the data according to their characteristics in the library used to analyze the thickness or the sample surface, which are the technical contents of the present invention, may be applied to all regions for analyzing the thickness or the sample surface.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, Modification is possible. Accordingly, the spirit of the present invention should be understood only in accordance with the following claims, and all equivalents or equivalent variations thereof are included in the scope of the present invention.

Claims (11)

삭제delete 미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 개수 또는 골(Valley) 개수를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
The index is set using the number of peaks or valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in a predetermined wavelength region.
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
삭제delete 삭제delete 미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 최대값과 최소값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
By setting an index using the maximum and minimum values present in the reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in any predetermined wavelength region,
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 및 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 적어도 하나를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
The index is set using at least one of reflectance values corresponding to peaks and valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region.
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak)와 마루(Peak) 사이의 파장 간격, 골(Valley)과 골(Valley) 사이의 파장 간격, 또는 n(n은 1 이상의 자연수임)번째 마루(Peak)가 나타나는 파장과 m(m은 자연수임)번째 골(Valley)이 나타나는 파장을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
The wavelength spacing between peaks and peaks present in the reflectivity data in the entire wavelength range or any predetermined wavelength region where the reflectivity data was measured, the wavelength spacing between valleys and valleys, Alternatively, the index may be set using a wavelength at which n (n is a natural number of 1 or more) peak and a wavelength at m (m is a natural number) Valley.
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 표준편차를 산출하고, 그 산출한 표준편차를 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
By calculating the standard deviation of the reflectance data in the entire wavelength region or any predetermined wavelength region where the reflectance data is measured, and setting the index using the calculated standard deviation,
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 모든 값을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값을 산출하여, 그 산출한 나머지 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.
Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
The sum of all the values of the reflectivity data in the entire wavelength range or the predetermined wavelength range where the reflectivity data is measured is calculated, and the remaining value obtained by dividing the sum by an arbitrary value is calculated. To set it up,
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method.
미리 설정해 놓은 인덱스 설정 방식에 따라 반사도 라이브러리에 저장된 빛의 파장에 따른 반사도 데이터들에 인덱스를 설정하는 단계; 및
상기 설정해 놓은 인덱스별로 상기 반사도 라이브러리에 저장된 복수 개의 반사도 데이터들을 분류하는 단계;
로 이루어지며,
상기 인덱스 설정 방식은,
반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 개수 또는 골(Valley) 개수를 이용하여 인덱스를 설정하는 제1 방식,
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 평균값을 산출하고, 그 산출한 평균값을 이용하여 인덱스를 설정하는 제2 방식,
상기 반사도 데이터 내에 적어도 하나의 파장에서 나타나는 반사도 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 제3 방식,
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 최대값과 최소값을 이용하여 인덱스를 설정하는 제4 방식,
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak) 및 골(Valley)에 해당하는 반사도 값 중 적어도 하나를 이용하여 인덱스를 설정하는 제5 방식,
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터 내에 존재하는 마루(Peak)와 마루(Peak) 사이의 파장 간격, 골(Valley)과 골(Valley) 사이의 파장 간격, 또는 n(n은 1 이상의 자연수임)번째 마루(Peak)가 나타나는 파장과 m(m은 자연수임)번째 골(Valley)이 나타나는 파장을 이용하여 인덱스를 설정하는 제6 방식,
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 표준편차를 산출하고, 그 산출한 표준편차를 이용하여 인덱스를 설정하는 제7 방식, 및
상기 반사도 데이터가 측정된 전체 파장 영역 또는 기 설정된 임의의 파장 영역에서 상기 반사도 데이터의 모든 값을 합하고, 그 합한 값을 임의의 값으로 나눈 나머지 값을 산출하여, 그 산출한 나머지 값을 이용하여 인덱스를 설정하는 제 8 방식 중에서 적어도 두 개 이상의 방식을 이용하여 인덱스를 설정하는 방식으로,
상기 인덱스 설정 단계는,
상기 인덱스 설정 방식에 따라 상기 반사도 라이브러리에 저장되어 있는 복수 개의 반사도 데이터들 각각에 인덱스를 설정하는 것인 반사도 라이브러리 분류 방법.Setting indexes on reflectance data according to wavelengths of light stored in the reflectivity library according to a preset index setting scheme; And
Classifying a plurality of reflectance data stored in the reflectivity library by the set index;
Lt; / RTI &gt;
The index setting method,
A first method of setting an index by using the number of peaks or valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in a predetermined wavelength range;
A second method of calculating an average value of the reflectivity data in the entire wavelength region or a predetermined wavelength region in which the reflectance data is measured, and setting an index using the calculated average value;
A third method of setting an index using reflectance values appearing at at least one wavelength in the reflectivity data;
A fourth method of setting an index using a maximum value and a minimum value existing in the reflectance data in the entire wavelength range where the reflectivity data is measured or in a predetermined wavelength region;
A fifth method of setting an index using at least one of reflectance values corresponding to peaks and valleys existing in the reflectivity data in the entire wavelength region in which the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength region; ,
Wavelength spacing between peaks and peaks in the reflectivity data in the entire wavelength region or at any predetermined wavelength region where the reflectivity data was measured, and the wavelength spacing between valleys and valleys Or the sixth method of setting an index using a wavelength at which n (n is a natural number of 1 or more) and a wavelength at which m (m is a natural number) and Valley,
A seventh method of calculating a standard deviation of the reflectivity data in the entire wavelength range where the reflectance data is measured or in a predetermined wavelength range, and setting an index using the calculated standard deviation;
The sum of all the values of the reflectivity data in the entire wavelength range or the predetermined wavelength range where the reflectance data is measured is calculated, and the remaining value obtained by dividing the sum by an arbitrary value is calculated and indexed using the calculated remaining values. By setting the index using at least two or more of the eighth method of setting the,
The index setting step,
And setting an index to each of the plurality of reflectivity data stored in the reflectivity library according to the index setting method. 삭제delete
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