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KR101092067B1 - 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디(cbd) 장치 - Google Patents

인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디(cbd) 장치 Download PDF

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KR101092067B1
KR101092067B1 KR1020090119709A KR20090119709A KR101092067B1 KR 101092067 B1 KR101092067 B1 KR 101092067B1 KR 1020090119709 A KR1020090119709 A KR 1020090119709A KR 20090119709 A KR20090119709 A KR 20090119709A KR 101092067 B1 KR101092067 B1 KR 101092067B1
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chemical
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solar cell
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김우삼
송병호
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주식회사 디엠에스
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Abstract

본 발명은 태양전지 제조용 씨비디(CBD) 장치에 관한 것으로서, 기판 반송수단, 약액저장조, 약액을 배출하는 샤워헤드, 및 기판로딩부로 구성하되, 상기 샤워헤드는 약액을 교반하며 배출할 수 있게 구비하고, 상기 기판로딩부에는 상기 약액을 외부로 배출하는 배출관을 구비함으로써, 인라인 형태의 약액 투입용 샤워헤드 방식을 채택하여 적정량의 약액 공급은 물론 공정 효율이 향상될 수 있을 뿐 아니라, 샤워헤드의 교반작용을 통해 막힘 현상이나 응고 현상이 방지될 수 있게 되고, 또한 기판의 세정 및 건조가 가능한 후처리수단을 연결 배치함으로써, 신속한 세정과 약액의 외부 누출을 사전에 방지할 수 있는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치에 관 한 것이다.
기판, 태양전지, 샤워헤드

Description

인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디(CBD) 장치{Chemical Bath Deposition apparatus of in-line type for manufacturing solar cell}
본 발명은 태양전지 제조용 씨비디 장치에 관한 것으로서, 약액을 교반하며 기판상에 배출할 수 있는 인라인 형태의 샤워헤드 방식을 채택하고, 또한 기판을 세정 및 건조시킬 수 있는 후처리수단을 연결 설치함으로써, 적정량의 약액 공급이 용이할 뿐 아니라, 샤워헤드의 유지 보수가 간편하고, 또한 신속한 세정과 약액의 외부 누출 방지는 물론 공정 효율이 향상될 수 있는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치에 관 한 것이다.
일반적으로 태양전지(Solar Cell)는 빛 에너지를 직접 전기 에너지로 변환하는 반도체 소자의 하나로서, 다결정(poly crystal) 및 단결정(single crystal) 실리콘 태양전지 또는 비정질 실리콘 태양전지와 같은 실리콘계 태양전지와 화합물 반도체 태양전지 등으로 크게 분류된다.
상기와 같은 태양전지는 전력 생산을 위해 다수개의 모듈(module)과 태양전지 패널(panel)로 구성되는 태양전지 어레이(array)를 구성함으로써, 전기 에너지 를 발전하게 된다.
일반적으로 실리콘계 태양전지는 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)를 가공하여 전자(electron)와 정공(hole)이 각각 구비되는 다른 극성의 N(negative)형 반도체 및 P(positive)형 반도체를 접합시키고 전극을 형성함으로써, P-N접합에 의한 태양광 발전의 원리를 이용하여 빛 에너지에 의한 전자의 이동을 통해 전기 에너지를 생산하게 되는 광전지이다.
한편 화합물 반도체 태양전지의 하나로서 CIGS계 태양전지는 구리(Cu), 인듐(In), 갈륨(Ga), 셀레늄(Se) 등의 원소로 이루어지는 광흡수계수가 높은 광흡수층을 유리(glass) 또는 폴리머(polymer) 등의 기판상에 증착하여 전기에너지를 생산하게 되는 태양전지로서, 두께 1~2㎛의 박막으로도 고효율의 태양전지 제조가 가능하며, 또한 전기, 광학적 안정성이 우수하여 매우 이상적인 광흡수층을 형성할 수 있어 저가, 고효율의 태양전지 재료로 연구되어 지고 있다.
상기와 같은 화합물 반도체 태양전지는 일반적으로 기판상에 배면전극, 광흡수층, 버퍼층, 투명전극층, 반사방지막, 및 그리드 등의 박막층이 적층 형성됨으로써, 하나의 단위 박막을 형성하기 때문에 상기 박막층을 형성하기 위한 스퍼터 증착 공정이나 이베퍼 증착 공정 등 다수의 처리 공정을 통해 제조된다.
따라서 종래의 태양전지 제조 공정은 상기와 같은 박막층을 형성시키기 위한 스퍼터 증착 챔버, 이베퍼 증착 챔버, 버퍼층 증착 챔버, 열처리 챔버 등 각각의 공정을 수행하기 위한 다수의 장비 등이 사용되고 있으며, 또한 이외에도 세정장비, 건조장비, 반송장비 등 다수의 공정 수행 장비에 의해 이루어지게 되는 것이 다.
여기서 버퍼층 증착 챔버는 기판 상부에 버퍼층을 형성하기 위해 증착 공정을 수행하는 씨비디(CBD) 장치의 하나로서, 챔버 내에 약액[황화카드뮴(CdS) 용액]을 투입한 후, 상기 약액에 기판이 잠기도록 하여 기판상에 버퍼층이 증착되도록 하는 것이다.
그러나 상기와 같은 종래의 씨비디 장치는 다음과 같은 문제점들이 있었다.
첫째, 약액을 교반하기 위하여 챔버 전체의 진동을 유발하는 교반장치를 구비함으로써, 교반장치의 구조가 복잡할 뿐 아니라 설비 비용이 현저히 증가되는 문제점이 있었고, 둘째, 약액이 저장된 베스(bath) 내에 기판을 투입하여 기판이 일정 시간 약액에 잠기도록 함으로써, 기판의 로딩 및 언로딩이 용이하지 않아 공정 효율이 현저히 떨어질 뿐 아니라, 베스의 세정 또한 용이하지 않았으며, 셋째, 기판의 세정 공정이 별도로 수행됨으로써, 신속한 세정이 곤란한 것은 물론 약액이 외부로 누출될 수 있는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 약액 공급에 있어서 인라인 형태의 샤워헤드 방식을 채택함으로써, 적정량의 약액 공급이 용이하도록 하고 또한 간단한 구조의 교반 방식을 통해 설비 비용을 현저히 절감할 수 있게 하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 샤워헤드 자체의 교반작용을 통해 샤워헤드의 세정이 용이할 뿐 아니라, 약액의 막힘 현상이나 응고 현상이 방지되어 공정 불량이 감소될 수 있게 하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 씨비디 공정과 세정공정이 연속 공정으로 수행 가능하여 약액의 외부 누출 방지는 물론 공정 효율을 현저히 향상시키고자 하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기판을 이송하는 반송수단과, 상기 기판에 버퍼층을 형성하기 위한 약액이 저장된 약액저장조와, 상기 약액저장조로부터 약액을 전달받아 상기 기판상에 공급할 수 있게 설치하되 상기 약액을 교반하며 배출하는 샤워헤드, 및 상기 기판을 지지하되 상기 샤워헤드로부터 유입된 약액을 배출시키는 배출관이 구비된 기판로딩부를 포함하여 구성된다.
본 발명의 상기 샤워헤드는 내부가 비어 있고 외주면에는 상기 약액을 배출 하는 슬릿을 관통 형성하되, 요동 가능한 회전식 원통롤러로 구성될 수 있다.
또한 본 발명의 상기 샤워헤드는 내부가 비어 있고, 상부가 개방된 일정 깊이의 용기 형태로 형성하되, 요동 가능한 회전식 용기로 구성될 수 있다.
한편 상기 기판로딩부의 배출관은 상기 약액이 상기 약액저장조로 회수될 수 있도록 약액저장조에 연결 설치되어 약액의 재활용이 가능하도록 할 수 있다.
또한 상기 기판로딩부에는 상기 기판을 가열하는 가열수단이 구비될 수 있다.
또 상기 반송수단에는 약액 처리가 완료된 상기 기판을 세정 및 건조시키는 후처리수단이 더 설치되는 것이 바람직하다.
이때 상기 후처리수단은 반송되는 기판 상부면에 세정액을 분사하는 세정노즐과 상기 기판 건조용 에어건으로 구성될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 첫째, 교반 작용이 가능한 단순 구조의 샤워헤드 방식을 채택하여 적정량의 약액 공급이 용이할 뿐 아니라 설비 비용의 절감 효과를 얻을 수 있고, 둘째, 샤워헤드의 세정이 용이할 뿐 아니라, 약액의 막힘 현상이나 응고 현상이 방지되어 공정 불량이 감소됨으로써, 생산성 향상의 효과가 있으며, 셋째, 씨비디 공정과 세정공정의 연속 공정 수행이 가능하여 공정 효율을 현저히 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이하 본 발명에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치의 개략적인 구성도를 나타낸 것이다.
본 발명은 CIGS계 태양전지의 광흡수층과 투명전도막(TCO 층) 사이에 형성되는 버퍼층을 화학적 용액 성장법을 통해 증착하기 위한 씨비디(CBD:Chemical Bath Deposition) 장치로서, 기판의 상부면에 증착된 광흡수층[구리(Cu), 인듐(In), 구리갈륨(Cu/Ga) 및 셀레나이드 화합물 증착층]의 상부에 버퍼층을 적층 형성하기 위한 것이다.
본 발명은 도시된 바와 같이, 반송수단(110,120), 약액저장조(10), 샤워헤드(30), 및 기판로딩부(40)로 구성된다
반송수단(110,120)은 기판(100)을 이송시키기 위한 것으로서, 다수개의 이송롤러나 컨베이어벨트로 구성될 수 있으며, 하기에서 설명하는 기판로딩부(40)에 기판(100)을 용이하게 로딩 또는 언로딩시킬 수 있도록 기판로딩부(40)의 양측부에 인접되게 각각 설치된다.
한편 약액저장조(10)는 기판(100)상에 버퍼층을 형성하기 위한 약액(Cds 용액)(200)이 저장되는 부분으로서, 기판로딩부(40)의 하측부에 설치될 수 있을 것이다.
약액저장조(10)는 샤워헤드(30)로 공급되는 약액(200)이 저장되는 부분으로서, 내부가 비어 있는 통상적인 밀폐식 용기형태로 구비될 수 있으며, 일측에는 약 액공급관(12)이 설치되고 타측에는 약액공급부(60)가 설치된다.
이때 약액공급관(12)은 약액(200)이 샤워헤드(30)로 공급될 수 있도록 샤워헤드(30)와 연결되며, 약액(200)의 투입을 조절할 수 있는 밸브(도시하지 않음)가 설치될 수 있을 것이다.
또한 약액저장조(10)에는 약액(200)을 약액공급관(12)을 통해 샤워헤드(30)로 송출하는 펌프(도시하지 않음)가 설치될 수 있으며, 또한 약액(200)의 PH를 측정할 수 있는 PH측정기(15)가 설치되는 것이 바람직하다.
한편 약액저장조(10)의 하측부에는 반응이 완료된 약액(200)이나 또는 하기에서 설명하는 세정액을 외부로 배출시킬 수 있는 배출구(17)가 구비된다.
약액(200)은 Cds4와 Cs(NH3)2 NH4OH 의 혼합용액이 사용될 수 있으며, 약액(200)의 기체 성분은 약액공급관(12)에 별도의 기체공급부(65)를 설치하여 공급할 수 있을 것이다.
한편 샤워헤드(30)는 기판로딩부(40) 상부에 위치하여 기판(100)상에 약액(200)을 공급하는 것으로서, 중심축을 기준으로 회전 가능하게 설치된다.
이하 샤워헤드(30,30')의 일 실시예를 도 2와 도 3을 참조하여 설명한다.
도 2와 도 3은 샤워헤드(30,30')의 일 실시예를 각각 나타낸 사시도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 샤워헤드(30)는 내부가 비어 있는 일정 길이의 회전식 원통 롤러 형태로 형성되는 것으로서, 양단부에는 중심축 역할을 하는 회전축(32)이 각각 돌출 형성된다.
또한 샤워헤드(30)의 외주면에는 내부에 투입된 약액(200)을 배출하는 슬릿(35)이 길이 방향을 따라 관통 형성된다.
한편 약액공급관(12)은 샤워헤드(30)의 일단부에 돌출 형성된 회전축(32)과 연결될 수 있으며, 이때 회전축(32)에는 약액공급관(12)의 단부가 삽입 설치됨과 동시에 샤워헤드(30)의 내부와 연통되도록 연결공(33)이 관통 형성된다.
이때 회전축(32)은 약액공급관(12)의 단부에 외삽되어 회전 가능하게 설치되는 것이다.
한편 연결공(33)의 내측에는 샤워헤드(30)의 원활한 회전이 가능하도록 베어링이 구비될 수 있으며, 또한 약액(200)의 외부 누출이 차단될 수 있도록 오링(O-ring) 등과 같은 실링부재가 설치되는 것이 바람직하다.
샤워헤드(30)는 회전축(32)을 별도의 지지프레임(도시하지 않음)에 회전 가능하게 결합하고, 회전축(32)을 구동모터와 연결되는 기어 또는 벨트 등과 같은 통상적인 회전력 전달수단(도시하지 않음)에 연결함으로써, 회전되도록 설치될 수 있을 것이다.
이때 샤워헤드(30)의 일측부에는 샤워헤드(30)를 일정 진폭으로 진동시킬 수 있은 진동장치(바이브레이터,vibrator) 등을 설치함으로써, 내부의 약액(200)이 균일하게 교반되도록 할 수 있을 것이다.
따라서 약액(200)은 약액저장조(10)로부터 약액공급관(12)을 통해 샤워헤드(30)로 투입된 후, 샤워헤드(30)의 진동에 의해 교반되고, 이 후 샤워헤드(30)가 회전되어 슬릿(35)이 하측부에 외치하게 되면, 슬릿(35)을 통해 기판로딩부(40)에 로딩된 기판(100) 상부에 배출되는 것이다.
한편 도 3은 다른 형태의 샤워헤드(30')를 도시한 것으로서, 도시된 바와 같이, 샤워헤드(30')는 내부가 비어 있고 상부가 개방된 일정 깊이의 사각 형상의 용기 형태로 형성된다.
이때 샤워헤드(30')는 도 2의 실시예의 샤워헤드(30)와 마찬가지로 양측면에는 회전축(32')이 돌출 형성되고, 일측의 회전축(32')에는 약액공급관(12)의 단부에 외삽되어 회전 가능하게 결합되는 연결공(33')이 관통 형성되며, 샤워헤드(30')를 일정 진폭으로 진동시킬 수 있도록 진동장치(바이브레이터,vibrator)가 설치된다.
즉, 샤워헤드(30')는 약액공급관(12)을 통해 내부에 투입된 약액(200)이 균일하게 교반되도록 함과 동시에 회전 가능하게 설치됨으로써, 요동 가능한 회전식 용기 형태로 구비되는 것이다.
따라서 약액(200)은 약액저장조(10)로부터 약액공급관(12)을 통해 샤워헤드(30')로 투입된 후, 샤워헤드(30')의 진동에 의해 교반되고, 이 후 샤워헤드(30')가 회전되어 상부가 하측을 향하게 되면, 기판로딩부(40)에 로딩된 기판(100) 상부에 쏟아져 배출되는 것이다.
한편 샤워헤드(30,30')에는 세정을 위해 세정액을 공급할 수 있는 세정액공급장치(도시하지 않음)가 별도로 연결 설치될 수 있다.
이하 기판로딩부(40)를 도 4를 참조하여 상세히 설명한다.
도 4는 기판로딩부(40)의 측면도를 나타낸 것이다.
기판로딩부(40)는 기판(100)이 안착되는 부분으로서, 기판(100)의 저면을 지지할 수 있도록 일정 두께로 형성되며, 둘레에는 샤워헤드(30)로부터 배출된 약액(200)이 일정 높이만큼 수용될 수 있도록 외측 방향으로 상향 경사지게 형성되는 경사면(45)이 구비된다.
따라서 샤워헤드(30)는 기판(100)이 완전히 잠길 정도의 높이만큼 약액(200)을 기판로딩부(40)에 배출하게 되는 것이다.
한편 기판로딩부(40)의 저면 일측부에는 기판(100)과 반응이 완료된 약액(200)을 외부로 자연 배출시키는 배출관(50)이 설치된다.
이때 배출관(50)은 약액저장조(10)로 연결되도록 함으로써, 필요시 약액(200)을 회수하여 샤워헤드(30)로 재순환되도록 함으로써, 약액(200)을 재활용할 수도 있을 것이다.
기판로딩부(40)의 양측부에 각각 인접되게 설치되는 반송수단(110,120)은 기판(100)의 로딩과 언로딩이 용이하도록 기판로딩부(40)의 경사면(45)과 동일한 경사로 설치되는 것이 바람직하다.
또한 기판로딩부(40)에는 기판(100)을 일정 온도로 가열시키기 위한 가열수단이 구비된다.
가열수단은 증착 반응이 약 40℃ ~ 80℃에서 진행하게 되므로 기판로딩부(40)를 가열하여 상부에 안착된 기판(100)이 공정 진행 동안 상기 온도로 유지되도록 하는 것이다.
이때 가열수단은 통상적인 히팅라인을 설치하여 구성할 수 있을 것이다.
또한 기판로딩부(40)에는 양측부가 반송수단(110,120)과 각각 연결될 수 있는 컨베이어벨트(도시하지 않음)를 설치함으로써, 기판(100)의 로딩과 언로딩이 연속적으로 이루어지도록 할 수 있을 것이다.
한편 증착이 완료된 기판(100)을 이송하는 반송수단(120)의 상측부에는 후처리수단(70)이 설치될 수 있다.
후처리수단(70)은 버퍼층의 증착이 완료된 기판(100)을 세정 및 건조시키기 위한 것으로서, 세정노즐(71)과 에어건(75)으로 구성될 수 있다.
세정노즐(71)과 에어건(75)은 기판(100)의 이송 방향을 따라 반송수단(120)의 상측부에 순차적으로 설치됨으로써, 이송되는 기판(100)상에 세정액과 건조용 에어를 순차적으로 분사하게 되는 것이다.
이때 반송수단(120)은 세정액이 기판로딩부(40)로 흘러내릴 수 있도록 기판로딩부(40)의 경사면(45) 상단부와 연결되도록 배수로(도시하지 않음)를 설치함으로써, 세정액이 반송수단(120)의 배수로를 통해 기판로딩부(40)로 흘러내린 후 배출관(50)을 통해 배출되도록 할 수 있다.
이하 도 5를 참조하여 본 발명의 작동과정을 상세히 설명한다.
도 5는 본 발명의 작동과정을 나타낸 플로우차트이다.
먼저 반송수단(110)에 의해 기판(100)이 기판로딩부(40)에 안착되어 기판 로딩(S10)이 완료되면, 약액저장조(10)로부터 샤워헤드(30)로 약액 공급(S20)이 이루어진다.
샤워헤드(30)에 약액(200)이 투입되면, 약액(200)은 샤워헤드(30)의 진동에 의해 균일하게 교반됨과 동시에 샤워헤드 회전(S30)에 의해 슬릿(35)을 통해 기판로딩부(40)로 배출됨으로써, 약액 배출(S40) 과정이 진행된다.
이때 약액공급관(12)과 샤워헤드(30)는 3℃ ~ 5℃가 유지되도록 하는 것이 바람직하다.
또한 기체공급부(65)는 반응에 필요한 기체 성분을 샤워헤드(30)를 통해 기판로딩부(40)에 공급할 수 있을 것이다.
한편 약액 배출(S40)이 완료되면 기판(100)은 약액(200)과 반응하여 표면에 버퍼층 증착(S50)이 이루어지게 되는 것이다.
버퍼층 증착(S50)이 완료되면 반송수단(120)에 의해 기판 언로딩(S60)이 진행된다.
이때 기판로딩부(40)에 수용된 약액(200)은 배출관(50)을 통해 약액저장조(10)로 이동한 후, 약액저장조(10)의 배출구(17)를 통해 외부로 배출되거나 또는 샤워헤드(30)로 재순환되어 재활용될 수 있을 것이다.
한편 샤워헤드(30)에 별도로 연결되는 세정액 공급수단은 샤워헤드(30)에 세정액을 공급하여 세정액이 배출공(35)을 통해 배출되게 함으로써, 샤워헤드(30)의 세정과 기판로딩부 세정(S70)이 순차적으로 수행되도록 할 수 있으며, 이 후 세정액은 약액저장조(10)로 이동한 후 배출구(17)를 통해 외부로 배출되는 것이다.
이때 반송수단(120)에 의해 이송되는 기판(100)은 후처리수단(70)의 세정노즐(71)과 에어건(75)에 의해 기판 세정 및 건조(S80)가 순차적으로 이루어지게 되며, 세정액은 기판로딩부(40)로 흘러내려 배출관(50)과 약액저장조(10)의 배출 구(17)를 통해 외부로 배출되는 것이다 .
상기와 같은 세정이 완료되면 약액공급부(60)는 약액저장조(10)에 적정량의 약액(200)을 다시 투입하게 되고, 약액(200)은 다시 약액공급관(12)과 샤워헤드(30)를 경유하여 기판로딩부(40)로 순환하게 되는 것이다.
이때 기판로딩부 세정(S70)과 기판 세정 및 건조(S80)는 동시에 수행될 수 있을 것이다.
한편 약액(200)을 재활용하고자 하는 경우에는 기판 세정 및 건조(S80)시 발생하는 세정액이 기판로딩부(40)로 흘러내리지 않고 반송수단(120)에서 바로 외부로 배출되도록 하고, 약액(200)을 약액저장조(10)와 샤워헤드(30) 및 기판로딩부(40)로 재순환시키면 되는 것이다.
따라서 본 발명은 약액(200) 공급에 있어서 인라인 형태의 샤워헤드 방식을 채택함으로써, 적정량의 약액(200) 공급은 물론 간단한 회전 방식 또는 요동방식의 교반 수단을 통해 설비 비용을 현저히 절감할 수 있게 되며, 또한 샤워헤드(30,30') 자체의 교반 작용을 통해 샤워헤드(30'30')의 세정이 용이할 뿐 아니라, 약액(200)의 막힘 현상이나 응고 현상이 방지되어 공정 불량이 감소될 수 있게 되고, 또한 증착 공정과 세정 공정이 연속적으로 수행 가능하여 약액(200)의 외부 누출 방지는 물론 공정 효율을 현저히 향상시킬 수 있게 되는 것이다.
이상, 상기의 실시 예는 단지 설명의 편의를 위해 예시로서 설명한 것에 불과하므로 특허청구범위를 한정하는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치의 개략적인 구성도,
도 2는 본 발명의 샤워헤드의 일 실시예의 사시도,
도 3은 본 발명의 샤워헤드의 다른 실시예의 사시도,
도 4는 본 발명의 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치의 작동과정을 나타낸 플로우차트이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 약액저장조 12 : 약액공급관
15 : PH측정기 17 : 배출구
30,30' : 샤워헤드 32,32' : 회전축
33,33' : 연결공 35 : 슬릿
40 : 기판로딩부 45 : 경사면
50 : 배출관 60 : 약액공급부
65 : 기체공급부 70 : 후처리수단
71 : 세정노즐 75 : 에어건
100 : 기판 110,120 : 반송수단
200 : 용액 300 : 챔버
S10 : 기판 로딩 S20 : 약액 공급
S30 : 샤워헤드 회전 S40 : 약액 배출
S50 : 버퍼층 증착 S60 : 기판 언로딩
S70 : 기판로딩부 세정 S80 : 기판 세정/건조

Claims (7)

  1. 기판을 이송하는 반송수단;
    상기 기판에 버퍼층을 형성하기 위한 약액이 저장된 약액저장조;
    상기 약액저장조로부터 약액을 전달받아 상기 기판상에 공급할 수 있게 설치하되, 상기 약액을 교반하며 배출하는 샤워헤드; 및
    상기 기판을 지지하되, 상기 샤워헤드로부터 유입된 약액을 배출시키는 배출관이 구비된 기판로딩부;
    를 포함하여 구성하되,
    상기 샤워헤드는 내부가 비어 있고 외주면에는 상기 약액을 배출하는 슬릿을 관통 형성하되, 요동 가능한 회전식 원통롤러로 구성되는 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
  2. 삭제
  3. 기판을 이송하는 반송수단;
    상기 기판에 버퍼층을 형성하기 위한 약액이 저장된 약액저장조;
    상기 약액저장조로부터 약액을 전달받아 상기 기판상에 공급할 수 있게 설치하되, 상기 약액을 교반하며 배출하는 샤워헤드; 및
    상기 기판을 지지하되, 상기 샤워헤드로부터 유입된 약액을 배출시키는 배출관이 구비된 기판로딩부;
    를 포함하여 구성하되,
    상기 샤워헤드는 내부가 비어 있고, 상부가 개방된 일정 깊이의 용기 형태로 형성하되, 요동 가능한 회전식 용기로 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판로딩부의 배출관은 상기 약액이 상기 약액저장조로 회수될 수 있도록 약액저장조에 연결 설치되는 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판로딩부에는 상기 기판을 가열하는 가열수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
  6. 제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송수단에는 약액 처리가 완료된 상기 기판을 세정 및 건조시키는 후처리수단이 더 설치되는 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 후처리수단은 반송되는 기판 상부면에 세정액을 분사하는 세정노즐과 상기 기판 건조용 에어건으로 구성되는 것을 특징으로 하는 인라인 방식의 태양전지 제조용 씨비디 장치.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007141926A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Sony Corp 基板処理装置および基板処理方法
KR100820362B1 (ko) * 2006-11-17 2008-04-08 주식회사 디엠에스 약액 공급장치

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