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KR101042225B1 - Spin regulating device - Google Patents

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KR101042225B1
KR101042225B1 KR1020090037757A KR20090037757A KR101042225B1 KR 101042225 B1 KR101042225 B1 KR 101042225B1 KR 1020090037757 A KR1020090037757 A KR 1020090037757A KR 20090037757 A KR20090037757 A KR 20090037757A KR 101042225 B1 KR101042225 B1 KR 101042225B1
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control device
spin
material layer
spin control
ferroelectric material
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김남미
리밍카이
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숭실대학교산학협력단
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Abstract

본 기술은 반도체 소자에 공급되는 전하의 스핀 방향을 조절하는 스핀 조절 장치에 관한 것으로서, 전기장의 방향에 따라 전기쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층; 및 상기 복수의 강유전성 물질층 사이에 형성된 희박자성 물질층를 포함하고, 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따르면, 스핀 조절 장치의 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 제어할 수 있다. 또한, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압 및 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 제어할 수 있다. 특히, 삼중벽의 강유전성 물질층을 포함하는 강유전 삼중벽 공명 터널링 다이오드(ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode)를 이용함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 더욱 용이하게 제어할 수 있다.The present invention relates to a spin control device for controlling the spin direction of the charge supplied to the semiconductor device, comprising: a plurality of ferroelectric material layers in which the direction of the electric dipole moment is changed in accordance with the direction of the electric field; And a lean magnetic material layer formed between the plurality of ferroelectric material layers, and controlling spin direction of charge by controlling a direction of an electric field applied to the ferroelectric material layer. According to the present technology, the degree of spin polarization of the charge passing through the spin control device can be controlled by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer of the spin control device. In addition, by controlling the bias voltage applied to the spin control device and the electric field direction applied to the ferroelectric material layer, the spin polarization degree of the charge passing through the spin control device can be controlled. In particular, by using a ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode comprising a triple-wall ferroelectric material layer, it is possible to more easily control the spin polarization degree of the charge passing through the spin control device.

RTD, 스핀 조절 장치 RTD, Spin Control

Description

스핀 조절 장치{SPIN REGULATING DEVICE}Spin regulator {SPIN REGULATING DEVICE}

본 발명은 스핀 조절 장치에 관한 것으로, 보다 상세히는 반도체 소자에 공급되는 전하의 스핀 방향을 조절하는 스핀 조절 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a spin control device, and more particularly, to a spin control device for controlling the spin direction of the charge supplied to the semiconductor device.

최근 반도체 소자의 집적도 향상에 따라, 좁은 면적에 더 많은 소자를 집적시키기 위하여 디자인 룰(design rule)이 급격하게 감소하고 있다. 그러나, 공정 상의 한계로 인하여 워드 라인, 비트라인 등과 같은 라인 패턴의 라인/스페이스 폭을 감소시키는데에 한계가 있을 뿐만 아니라, 라인/스페이스 폭을 지나치게 감소시키는 경우 터널링, 간섭현상 또는 누설 전류 등에 의해 반도체 소자의 오작동을 유발하게 된다. In recent years, as the integration degree of semiconductor devices improves, design rules are rapidly decreasing to integrate more devices in a narrow area. However, due to process limitations, there are limitations in reducing the line / space width of line patterns such as word lines, bit lines, etc., and in the case of excessively reducing the line / space width, semiconductors may be caused by tunneling, interference or leakage current. It may cause malfunction of the device.

따라서, 종래기술은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 저장되는 비트(bit)의 경우의 수를 증가시키기는 방안을 고려하고 있으며, 이를 위해 스핀트로닉스(spintronics) 연구가 세계적으로 활발히 진행되고 있다. 스핀트로닉스는 스핀(spin)과 전자공학(electronics)의 합성어로서, 전하의 스핀 방향을 고려함으로 써, 저장되는 비트의 경우의 수를 증가시키게 된다.Therefore, in order to solve this problem, the prior art considers a method of increasing the number of bits to be stored, and for this, spintronics research is actively conducted worldwide. Spintronics is a combination of spin and electronics that increases the number of bits stored, taking into account the spin direction of the charge.

즉, 스핀트로닉스에 따르면, 바이너리 비트(binary bit)를 이용하여 데이터를 저장하는 것에서 나아가, 전자의 스핀 방향을 고려함으로써 다진수 비트(multinary bit)를 이용하여 데이터를 저장할 수 있다. 따라서, 스핀트로닉스를 적용함으로써, 동일한 디자인 룰을 갖는 반도체 소자의 저장 용량을 획기적으로 증가시킬 수 있다. That is, according to spintronics, data can be stored using multinary bits by considering the spin direction of electrons, in addition to storing data using binary bits. Therefore, by applying spintronics, it is possible to significantly increase the storage capacity of semiconductor devices having the same design rule.

따라서, 최근에는 스핀트로닉스가 적용된 반도체 소자 및 스핀트로닉스 반도체 소자에 공급되는 전하의 스핀 방향을 제어하기 위한 장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히, 종래기술은 자기장을 이용하여 전하의 스핀 방향을 제어하는 자성-RTD(magnetic-Resonant Tunneling diode) 또는 스핀 LED(spin Light Emitting Diode)를 이용하여 스핀트로닉스 반도체 소자에 공급되는 전하의 스핀 방향을 제어하고자 한다. Therefore, recently, studies have been actively conducted on devices for controlling spin directions of charges supplied to spintronics-applied semiconductor devices and spintronic semiconductor devices. In particular, the related art uses a magnetic-resonant tunneling diode (RTD) or spin light emitting diode (LED) to control the spin direction of charge using a magnetic field. I want to control.

그러나, 전술한 바와 같은 종래기술에 따르면, 전하의 스핀 방향을 선택하기 위해 자성-RTD에 인가되는 자기장(external magnetic field)의 방향을 제어하여야 하는데, 이와 같은 자기장의 변화는 소자의 동작에 영향을 끼칠 뿐만 아니라, 제어가 용이하지 않다는 문제점이 있다.However, according to the prior art as described above, in order to select the spin direction of the electric charge, the direction of the external magnetic field applied to the magnetic-RTD must be controlled, and the change of the magnetic field affects the operation of the device. In addition to the inconvenience, there is a problem that the control is not easy.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 전기장을 이용하여 본 구조물을 통과하는 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 스핀 조절 장치를 제공하는 것을 제1목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed to solve the above problems, and a first object of the present invention is to provide a spin control device that controls the spin polarization state of charges passing through the structure using an electric field.

또한, 본 발명은 장치에 인가되는 바이어스 전압 및 강유전 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 스핀 조절 장치를 제공하는 것을 제2목적으로 한다.It is also a second object of the present invention to provide a spin control device for controlling the spin polarization state of charge by controlling the bias voltage applied to the device and the electric field direction applied to the ferroelectric material layer.

이러한 목적을 달성하기 위해 제안된 본 발명은 스핀 조절 장치에 있어서, 전기장의 방향에 따라 전기쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층; 및 상기 복수의 강유전성 물질층 사이에 형성된 희박자성 물질층를 포함하고, 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 것을 일 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a spin control apparatus, comprising: a plurality of ferroelectric material layers in which a direction of an electric dipole moment is changed according to a direction of an electric field; And a lean magnetic material layer formed between the plurality of ferroelectric material layers, and controlling spin direction of charge by controlling a direction of an electric field applied to the ferroelectric material layer.

또한, 본 발명은 스핀 조절 장치에 있어서, 전기장 변화에 따라 전기쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층; 및 상기 복수의 강유전성 물질층 사이에 형성된 희박자성 물질층을 포함하고, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨 및 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 것을 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention provides a spin control apparatus, comprising: a plurality of ferroelectric material layers in which a direction of an electric dipole moment is changed according to an electric field change; And a lean magnetic material layer formed between the plurality of ferroelectric material layers, and controlling the spin polarization state of the charge by controlling the level of the bias voltage applied to the spin control device and the electric field direction applied to the ferroelectric material layer. It is another feature.

본 발명에 따르면, 스핀 조절 장치의 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 제어할 수 있다. 특히, 삼중벽의 강유전성 물질층을 포함하는 강유전 삼중벽 공명 터널링 다이오드(ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode)를 이용함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 더욱 용이하게 제어할 수 있다.According to the present invention, the spin polarization degree of the charge passing through the spin control device can be controlled by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer of the spin control device. In particular, by using a ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode comprising a triple-wall ferroelectric material layer, it is possible to more easily control the spin polarization degree of the charge passing through the spin control device.

즉, 본 발명에 따른 스핀 조절 장치는 제어가 용이한 전기장을 이용해 전하의 스핀 방향을 조절함으로써, 소자의 동작에 대한 영향을 최소화하면서 반도체 소자의 원하는 방향의 스핀을 갖는 전하를 용이하게 공급할 수 있다.That is, the spin control device according to the present invention can easily supply the charge having the spin of the desired direction of the semiconductor device while minimizing the influence on the operation of the device by adjusting the spin direction of the charge using an easy controllable electric field. .

뿐만 아니라, 본 발명에 따르면, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압 및 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 함께 제어함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 분극도를 제어할 수 있다. 이와 같이, 두 가지의 조절 인자를 이용함으로써 더욱 다양한 조건에서 전하의 스핀 분극 상태를 용이하게 조절할 수 있다.In addition, according to the present invention, by controlling the bias voltage applied to the spin control device and the electric field direction applied to the ferroelectric material layer, it is possible to control the spin polarization degree of the charge passing through the spin control device. As such, the use of two control factors makes it possible to easily control the spin polarization state of the charge under more various conditions.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the most preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치의 구조를 나타내는 도면이다.1 is a view showing the structure of a spin control device according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치(10)는 전기장의 방향에 따라 전기쌍극자 모멘트(electric dipole moment)의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층(11) 및 복수의 강유전성 물질층(11) 사이에 형성된 희박자성 물질층(12)를 포함한다. As shown, the spin control device 10 according to an embodiment of the present invention is a plurality of ferroelectric material layer 11 and a plurality of ferroelectric material in which the direction of the electric dipole moment is changed according to the direction of the electric field A layer of lean magnetic material 12 formed between layers 11.

이와 같은 구조에 따르면, 강유전 물질층(11)에서의 터널링 현상 및 희박자성 물질층(12)의 매우 큰 제만 스플리팅(Giant Zeeman splitting) 성질에 의해, 스핀 조절 장치(10)를 통과하는 전하의 스핀 분극 상태를 용이하게 조절할 수 있다.According to this structure, due to the tunneling phenomenon in the ferroelectric material layer 11 and the very large Giant Zeeman splitting property of the lean magnetic material layer 12, the charge passing through the spin control device 10 is reduced. The spin polarization state of can be adjusted easily.

여기서, 강유전 물질층(11)은 일종의 배리어(barrier)로서 작용하는 일종의 강유전성 물질벽으로 볼 수 있는데, 특히, 스핀 조절 장치(10)는 삼중벽의 강유전성 물질층(11)을 포함하는 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드(ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode;FTB-RTD)인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이, 삼중벽의 강유전성 물질층(11)과 희박자성 물질층(12)을 하이브리드함으로써, 전기장만으로 스핀 조절 장치(10)를 통과하는 전하의 스핀 방향을 조절할 수 있다. Here, the ferroelectric material layer 11 may be regarded as a kind of ferroelectric material wall that acts as a kind of barrier. In particular, the spin control device 10 may include a ferroelectric triple wall including the ferroelectric material layer 11 of the triple wall. More preferably, it is a resonance triple barrier-resonant tunneling diode (FTB-RTD). As such, by hybridizing the ferroelectric material layer 11 and the lean magnetic material layer 12 of the triple wall, the spin direction of the electric charge passing through the spin control device 10 can be controlled only by the electric field.

또한, 강유전성 물질층(11)은 강유전화합물 반도체(ferroelectric semiconductor;FES)로 이루어지는 것이 바람직하며, 희박자성 물질층(12)은 희박 자성 반도체(diluted magnetic semiconductor;DMS)로 이루어지는 것이 바람직하다. In addition, the ferroelectric material layer 11 is preferably made of a ferroelectric semiconductor (FES), the lean magnetic material layer 12 is preferably made of a dilute magnetic semiconductor (DMS).

특히, 강유전성 물질층(11) 및 희박자성 물질층(12)은 II족 원소 및 VI족 원소의 화합물(II-VI compound) 또는 III족 원소 및 V족 원소의 화합물(III-V compound)을 이용하여 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들어, ZnO와 같은 화합물을 이용하여 형성될 수 있는데, 이와 같은 화합물은 도핑되는 물질에 따라 강유전성 또는 희박자성을 띄게 된다.In particular, the ferroelectric material layer 11 and the lean magnetic material layer 12 use a compound of group II and group VI elements (II-VI compound) or a group III and group V element (III-V compound). It is preferable to form. For example, it may be formed using a compound such as ZnO, which is ferroelectric or lean, depending on the material being doped.

일 실시예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, ZnO막에 Li를 도핑하여 Li-ZnMgO로 이루어지는 강유전성 물질층(11)을 형성할 수 있으며, ZnO막에 Mn을 도핑하여 ZnMnO로 이루어지는 희박자성 물질층(12)을 형성할 수 있다. 이때, 강유전성 물질층(11)의 두께는 희박자성 물질층(12)의 두께보다 얇은 것이 바람직한데, 예를 들어, 강유전성 물질층(11)의 두께는 3 내지 6nm이고, 희박자성 물질층(12)의 두께는 5 내지 10nm인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 강유전성 물질층(11)의 포텐셜 베리어 높이는 100 내지 300meV인 것이 바람직하다.As an example, as shown in FIG. 1, a ferroelectric material layer 11 made of Li—ZnMgO may be formed by doping Li in a ZnO film, and a lean magnetic material made of ZnMnO by doping Mn in a ZnO film. Layer 12 may be formed. At this time, the thickness of the ferroelectric material layer 11 is preferably thinner than the thickness of the lean magnetic material layer 12. For example, the thickness of the ferroelectric material layer 11 is 3 to 6 nm, the lean magnetic material layer 12 ) Is more preferably 5 to 10 nm. In addition, the potential barrier height of the ferroelectric material layer 11 is preferably 100 to 300 meV.

또한, 강유전성 물질층(11) 및 희박자성 물질층(12)은 P타입 또는 N타입으로 형성될 수 있다. 즉, 주 캐리어(major carrier)가 전하(electron)인지 정공(hole)인지 여부에 관계없이 본 발명의 적용이 가능하다.In addition, the ferroelectric material layer 11 and the lean magnetic material layer 12 may be formed of P type or N type. That is, the present invention can be applied regardless of whether the major carrier is an electron or a hole.

전술한 바와 같은 본 발명에 따르면, 전기장의 방향에 따라 전기쌍극자 모멘트 방향이 전환되는 복수의 강유전성 물질층(11)을 포함하는 스핀 조절 장치(10)를 제공함으로써, 스핀트로닉스 반도체에 원하는 방향의 스핀을 갖는 전하를 용이하게 공급할 수 있다. According to the present invention as described above, by providing a spin control device 10 including a plurality of ferroelectric material layer 11 in which the direction of the electric dipole moment is switched in accordance with the direction of the electric field, the spintronic semiconductor spin in the desired direction It is possible to easily supply a charge having.

특히, 삼중벽의 강유전성 물질층(11)을 포함하는 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드로 이루어지는 스핀 조절 장치를 통해, 전기장만으로 스핀 조절 장치(10)를 통과하는 전하의 스핀 방향을 조절할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 스핀 조절 장치는 제어가 용이한 전기장을 이용해 전하의 스핀 방향을 조절함으로써, 소자의 동작에 대한 영향을 최소화하면서 반도체 소자의 원하는 방향의 스핀을 갖는 전하를 용이하게 공급할 수 있다.In particular, through the spin control device made of a ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode including the ferroelectric material layer 11 of the triple wall, the spin direction of the electric charge passing through the spin control device 10 can be controlled only by the electric field. That is, the spin control device according to the present invention can easily supply the charge having the spin of the desired direction of the semiconductor device while minimizing the influence on the operation of the device by adjusting the spin direction of the charge using an easy controllable electric field. .

이하, 그래프를 참조하여 본 발명의 원리를 보다 구체적으로 살펴보도록 한다.Hereinafter, the principle of the present invention will be described in more detail with reference to the graph.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치인 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드의 전기쌍극자 모멘트의 방향에 따른 z-축 방향으로의 포텐셜 베리어를 나타내는 그래프이다. 그래프에는 스핀 방향에 따른 에너지 준위가 함께 도시되었으며, 고정된 바이어스 전압(fixed bias voltage)가 인가되는 경우를 나타낸다. 특히, 본 도면에서는 스핀 업(spin up) 상태와 스핀 다운(spin down) 상태의 에너지 준위 차가 10meV인 경우에 대해 도시하고 있다.2A and 2B are graphs illustrating potential barriers in a z-axis direction according to directions of electric dipole moments of a ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode that is a spin control device according to an embodiment of the present invention. The energy levels along the spin direction are also shown in the graph, indicating a case where a fixed bias voltage is applied. In particular, this figure shows a case where the energy level difference between the spin up state and the spin down state is 10 meV.

강유전성 물질층(11)은 인가되는 전기장의 방향에 따라, 전기 쌍극자 모멘트(electric dipole moment)의 방향이 달라지며, 그에 따라, 강유전성 물질층(11)의 포텐셜 베리어(potential barrier) 형상이 달라지게 된다. The direction of the electric dipole moment varies according to the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 11, and thus, the potential barrier shape of the ferroelectric material layer 11 is changed. .

도 2a는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 좌측인 경우를 나타내며, 도 2b는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 우측인 경우를 나타낸다. 도시된 바와 같이 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌더라도, 포텐셜 베리어는 대칭성을 가짐을 알 수 있다.FIG. 2A illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is left, and FIG. 2B illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is right. As shown, even if the direction of the electrical dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is changed, it can be seen that the potential barrier has symmetry.

여기서, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하는 공명 터널링(resonant tunneling)에 의해 강유전성 물질층(11)의 포텐셜 베리어를 통과하게 되며, 희박자성 물질층(12) 양자 우물의 매우 큰 제만 스플리팅(Giant Zeeman splitting)에 의해 스핀이 스플리팅 된다. Here, the charge passing through the spin control device passes through the potential barrier of the ferroelectric material layer 11 by resonant tunneling, and a very large Zeman splitting of the quantum well of the lean magnetic material layer 12 is performed. The split is split by splitting.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치로서 제시된 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드의 경우, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이 3중의 포텐셜 베리어를 갖게 되므로, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 주 전송 피크(main transmission peak)는 복수의 서브 피크(sub peak)로 갈라지게 됨을 알 수 있다.That is, in the case of the ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode presented as a spin control device according to an embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 2A and 2B, a triple potential barrier is used, and thus the charge passing through the spin control device is increased. It can be seen that the main transmission peak of is divided into a plurality of sub peaks.

도 3a 및 도 3b는 고정된 바이어스 전압이 인가되는 상태에서, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 전송 커브(transmission curve)를 나타내는 그래프로서, 특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치인 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드의 전송 커브를 나타낸다. 여기서, 전하의 전송 커브 피크(transmission curve peak)는 "non-equilibrium Green function method"를 이용하여 산출하였다.3A and 3B are graphs illustrating a transmission curve of charges passing through a spin control device in a state in which a fixed bias voltage is applied, and in particular, a ferroelectric device that is a spin control device according to an embodiment of the present invention. The transmission curve of the triple wall-resonant tunneling diode is shown. Here, the transmission curve peak of the charge was calculated using the "non-equilibrium Green function method".

도 3a는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 좌측인 경우를 나타내며, 도 3b는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 우측인 경 우를 나타낸다.FIG. 3A illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is left, and FIG. 3B illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is right.

도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치인 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드에 전하를 통과시키면, 삼중벽의 강유전성 물질층(11)에 의해 전하의 주 전송 피크(main transmission peak)가 두 개로 스플리팅되는데, 이때, 스핀 업 상태와 스핀 다운 상태가 각각 상이한 에너지 준위를 가지므로, 최종적으로 4개의 서브 피크(sub peak)로 갈라짐을 알 수 있다. As shown, when charge is passed through the ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode, a spin control device according to an embodiment of the present invention, the main transmission peak of the charge by the ferroelectric material layer 11 of the triple wall (main transmission peak) ) Is split into two, and since the spin up state and the spin down state each have different energy levels, it can be seen that the splitting into four sub peaks is finally achieved.

앞서, 도 2a 및 도 2b에서 설명한 바와 같이, 고정된 바이어스 전압이 인가되는 상태에서 강유전성 물질층(11)은 대칭형의 포텐셜 베리어를 갖는다. 따라서, 전기쌍극자 모멘트의 방향이 좌측인 경우(도 3a 참조)와 전기쌍극자 모멘트의 방향이 우측인 경우(도 3b 참조)에 유사한 형태의 전송 커브를 갖게 된다.2A and 2B, the ferroelectric material layer 11 has a symmetric potential barrier in a state where a fixed bias voltage is applied. Therefore, a transmission curve having a similar shape is obtained when the direction of the electric dipole moment is on the left side (see FIG. 3A) and when the direction of the electric dipole moment is on the right side (see FIG. 3B).

도 4a 및 도 4b는 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨에 따른 전류 밀도(current density)를 나타내는 그래프로서, 특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치인 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드의 전류 밀도를 나타낸다. 여기서, 전류 밀도 피크(current density peak)는 "non-equilibrium Green function method"를 이용하여 산출하였다.4A and 4B are graphs showing current density according to a level of a bias voltage applied to a spin control device. In particular, a ferroelectric triple wall-resonance tunneling diode that is a spin control device according to an embodiment of the present invention. Represents the current density. Here, the current density peak was calculated using the "non-equilibrium Green function method".

도 4a는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 좌측인 경우를 나타내며, 도 4b는 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트의 방향이 우측인 경우를 나타낸다.4A illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is on the left side, and FIG. 4B illustrates a case in which the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 is on the right side.

도시된 바와 같이, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증가 또는 감소시키는 경우, 포텐셜 베리어의 대칭성이 깨어지게 되므로, 전기쌍극자 모멘트의 방향이 좌측인 경우(도 4a 참조)와 전기쌍극자 모멘트의 방향이 우측인 경우(도 4b 참조)에 전류 밀도 피크의 위치와 세기가 달라지게 된다.As shown, when increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device, the symmetry of the potential barrier is broken, so that the direction of the electric dipole moment is left (see FIG. 4A) and that of the electric dipole moment If the direction is to the right (see Fig. 4b), the position and intensity of the current density peak will be different.

그러나, 전기쌍극자 모멘트의 방향에 관계없이, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압 레벨의 증가 또는 감소시킴으로써, 전하의 스핀 상태를 업/다운으로 진동(oscillating)시킬 수 있음을 알 수 있다. 즉, 스핀 업 상태의 전하와 스핀 다운 상태의 전하를 번갈아 반도체 소자에 공급할 수 있다.However, it can be seen that the spin state of the charge can be oscillated up / down by increasing or decreasing the bias voltage level applied to the spin control device regardless of the direction of the electric dipole moment. That is, the charge in the spin up state and the charge in the spin down state can be alternately supplied to the semiconductor device.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치에 따른 전하의 스핀 분극 상태를 나타내는 그래프로서, 특히, 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드에 인가되는 바이어스 전압 레벨의 증감에 따른 전하의 진동 특성을 이용하여 산출된 전하의 분극 상태를 나타낸다. FIG. 5 is a graph showing spin polarization states of charges according to an embodiment of the present invention, in particular, the vibration characteristics of charges according to the increase and decrease of the bias voltage level applied to the ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode. It shows the polarization state of the electric charge calculated using.

본 그래프의 스핀의 분극 상태는 아래의 수학식 1을 통해 산출되었으며, n(up)은 스핀 업 상태의 전하의 갯수를 의미하며, n(down)은 스핀 다운 상태의 전하의 갯수를 의미한다. 즉, 스핀 분극 상태가 양의 값을 가지면 대부분의 전하가 스핀 업 상태임을 나타내고, 스핀 분극 상태가 음의 값을 가지면 대부분의 전하가 스핀 다운 상태임을 나타낸다.The polarization state of the spin of this graph was calculated through Equation 1 below, where n (up) means the number of charges in the spin up state, and n (down) means the number of charges in the spin down state. That is, if the spin polarization state has a positive value, most of the charges are spin up states, and if the spin polarization state has a negative value, most of the charges are spin down states.

Figure 112009026161964-pat00001
Figure 112009026161964-pat00001

이하, 그래프를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치를 이용하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 방법에 대해 살펴보도록 한다.Hereinafter, a method of controlling the spin polarization state of the charge by using the spin control device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the graph.

본 발명의 제1 실시예에 따르면, 강유전성 물질층(11)에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절할 수 있다. 특히, 강유전성 물질층(11)에 고정된 바이어스 전압이 인가되는 상태에서, 강유전성 물질층(11)에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전기 쌍극자 모멘트의 방향을 전환시킴으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택할 수 있다.According to the first embodiment of the present invention, the spin polarization state of the charge may be adjusted by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 11. In particular, in a state in which a fixed bias voltage is applied to the ferroelectric material layer 11, the electric field is applied to the ferroelectric material layer 11 to control the direction of the electric dipole moment, thereby changing the direction of the electric dipole moment, thereby passing through the spin control device. Spin direction can be selected.

예를 들어, 스핀 조절 장치에 50mV의 고정된 바이어스 전압을 인가하는 경우를 가정하자. 이때, 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트가 죄측 방향을 갖도록 전기장의 방향을 제어함으로써, 전하의 분극 상태가 양의 값을 갖도록 할 수 있으며, 이를 통해, 스핀 업 상태의 전하를 반도체 소자에 공급할 수 있다. 또는, 강유전성 물질층(11)의 전기 쌍극자 모멘트가 우측 방향을 갖도록 전기장의 방향을 제어함으로써, 전하의 분극 상태가 음의 값을 갖도록 할 수 있으며, 이를 통해, 스핀 다운 상태의 전하를 반도체 소자에 공급할 수 있다.For example, suppose that a fixed bias voltage of 50 mV is applied to the spin control device. At this time, by controlling the direction of the electric field such that the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 has a sinusoidal direction, the polarization state of the charge may have a positive value, whereby the charge in the spin up state is transferred to the semiconductor device. Can supply Alternatively, by controlling the direction of the electric field such that the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 has the right direction, the polarization state of the charge may have a negative value, thereby transferring the charge in the spin down state to the semiconductor device. Can supply

본 발명의 제2 실시예에 따르면, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨 및 강유전성 물질층(11)에 인가되는 전기장 방향을 제어함으로써 전하의 스핀 분극 상태를 조절할 수 있다. 즉, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증감시키거나 강유전성 물질층(11)에 인가되는 전기장의 방향을 전환시 킴으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택할 수 있다. 이와 같이, 두 가지의 조절 인자를 이용함으로써 다양한 조건에서 전하의 스핀 분극 상태를 조절할 수 있다.According to the second embodiment of the present invention, the spin polarization state of the charge may be adjusted by controlling the level of the bias voltage applied to the spin control device and the electric field direction applied to the ferroelectric material layer 11. That is, by increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device or by changing the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 11, the spin direction of the charge passing through the spin control device can be selected. In this way, the spin polarization state of the charge can be adjusted under various conditions by using two control factors.

보다 구체적으로는, 강유전성 물질층(11)에 고정된 방향의 전기장이 인가되는 상태에서 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 제어함으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택할 수 있다. More specifically, the spin direction of the charge passing through the spin control device can be selected by controlling the level of the bias voltage applied to the spin control device while the electric field in the fixed direction is applied to the ferroelectric material layer 11. .

예를 들어, 강유전성 물질층(11)의 전기쌍극자 모멘트가 좌측 방향을 갖도록 전기장을 인가하는 경우를 가정하자. 이러한 경우, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨에 따라 전하의 분극 상태가 양의 값 또는 음의 값을 갖게 된다. 따라서, 반도체 소자에 스핀 업 상태의 전하를 공급하고자 하는 경우에는 스핀 조절 장치에 50mV 내지 75mV 또는 100mV 내지 125mV의 바이어스 전압을 인가하고, 반도체 소자에 스핀 다운 상태의 전하를 공급하고자 하는 경우에는 스핀 조절 장치에 80 내지 90mV 또는 140 내지 160mV의 바이어스 전압을 인가한다. For example, suppose that an electric field is applied such that the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 has a left direction. In this case, the polarization state of the charge has a positive value or a negative value depending on the level of the bias voltage applied to the spin control device. Therefore, when a spin up state charge is to be supplied to the semiconductor device, a bias voltage of 50 mV to 75 mV or 100 mV to 125 mV is applied to the spin control device, and the spin control is to be applied to the semiconductor device. A bias voltage of 80 to 90 mV or 140 to 160 mV is applied to the device.

이 밖에도, 강유전성 물질층(11)에 고정된 방향의 전기장이 인가되는 상태에서 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증가 또는 감소시킴으로써, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 진동(oscillating) 시킬 수 있다.In addition, oscillating the spin direction of the charge passing through the spin control device by increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device while the electric field in the fixed direction is applied to the ferroelectric material layer 11. Can be done.

예를 들어, 강유전성 물질층(11)의 전기쌍극자 모멘트가 우측 방향을 갖도록 전기장을 인가하는 경우를 가정하자. 이러한 경우, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증가시키면, 전하의 분극 상태가 양의 값, 음의 값을 반복적으로 나타냄을 알 수 있다. 따라서, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증가시키거나 감소시킴으로써, 스핀 방향이 진동하는 전하를 반도체 소자에 공급할 수 있다.For example, suppose that an electric field is applied such that the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 has a right direction. In this case, it can be seen that by increasing the level of the bias voltage applied to the spin control device, the polarization state of the charge repeatedly represents a positive value and a negative value. Therefore, by increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device, it is possible to supply charge to the semiconductor device in which the spin direction oscillates.

전술한 바와 같은 본 발명에 따르면, 전기장을 이용하여 스핀 조절 장치에 포함된 강유전성 물질층(11)의 전기쌍극자 모멘트 방향을 전환시킴으로써, 용이하게 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 분극 상태를 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 강유전성 물질층(11)에 인가되는 전기장의 방향 및 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 함께 제어함으로써 다양한 조건을 이용하여 더욱 용이하게 전하의 분극 상태를 조절할 수 있다.According to the present invention as described above, by changing the direction of the electric dipole moment of the ferroelectric material layer 11 included in the spin control device by using an electric field, it is possible to easily control the polarization state of the charge passing through the spin control device. In addition, by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 11 and the level of the bias voltage applied to the spin control device, the polarization state of the charge may be more easily adjusted using various conditions.

특히, 본 발명에 따른 스핀 조절 장치의 일 실시예로서 제시된 강유전 삼중벽 공명 터널링 다이오드의 경우, 해당 장치를 통과하는 전하의 전송 피크를 4개의 서브 피크로 쪼개주므로, 전기장의 방향 또는 바이어스 전압의 레벨을 제어하여 전하의 스핀 방향을 용이하게 조절할 수 있다. In particular, in the case of the ferroelectric triple wall resonance tunneling diode presented as an embodiment of the spin control device according to the present invention, since the transfer peak of charge passing through the device is divided into four sub-peaks, the direction of the electric field or the level of the bias voltage By controlling this, the spin direction of the charge can be easily adjusted.

이와 같이, 자기장에 비해 제어가 용이한 전기장을 이용함으로써, 전하의 분극 상태를 용이하게 조절할 수 있으며, 그에 따라, 스핀트로닉스 반도체 소자에 원하는 스핀 방향의 전하를 용이하게 공급할 수 있다. 뿐만 아니라, 자기장의 방향 및 바이어스 전압 레벨을 함께 제어함으로써, 반도체 소자에 스핀 업 상태와 스핀 다운 상태를 진동하는 전하를 용이하게 공급할 수 있다. 즉, 스핀트로닉스 반도체 소자의 특성을 향상시킬 수 있다.As such, by using an electric field that is easier to control than the magnetic field, the polarization state of the charge can be easily adjusted, and thus, the charge in the desired spin direction can be easily supplied to the spintronics semiconductor device. In addition, by controlling the direction of the magnetic field and the bias voltage level together, electric charges for oscillating the spin up state and the spin down state can be easily supplied to the semiconductor device. That is, the characteristics of the spintronics semiconductor device can be improved.

본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예들에 따라 구체적으로 기록되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical spirit of the present invention has been specifically recorded in accordance with the above-described preferred embodiments, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치의 구조를 나타내는 도면.1 is a view showing the structure of a spin control device according to an embodiment of the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치인 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드의 전기쌍극자 모멘트의 방향에 따른 z-축 방향으로의 포텐셜 베리어를 나타내는 그래프.2A and 2B are graphs showing potential barriers in a z-axis direction according to directions of electric dipole moments of a ferroelectric triple wall-resonant tunneling diode which is a spin control device according to an embodiment of the present invention.

도 3a 및 도 3b는 고정된 바이어스 전압이 인가되는 상태에서, 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 전송 커브(transmission curve)를 나타내는 그래프.3A and 3B are graphs showing a transmission curve of charge passing through a spin control device in a state where a fixed bias voltage is applied.

도 4a 및 도 4b는 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨에 따른 전류 밀도(current density)를 나타내는 그래프.4A and 4B are graphs showing current density according to the level of bias voltage applied to the spin control device.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 조절 장치에 따른 전하의 스핀 분극 상태를 나타내는 그래프.5 is a graph showing the spin polarization state of the charge according to the spin control device according to an embodiment of the present invention.

Claims (14)

전기장의 방향에 따라 전기쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층; 및A plurality of ferroelectric material layers in which the direction of the electric dipole moment is changed according to the direction of the electric field; And 상기 복수의 강유전성 물질층 사이에 형성된 희박자성 물질층A lean magnetic material layer formed between the plurality of ferroelectric material layers 를 포함하고,Including, 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는Controlling the spin polarization state of the charge by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 상기 스핀 조절 장치에 고정된 바이어스 전압이 인가되는 상태에서, 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장의 방향을 제어하여 전기쌍극자 모멘트의 방향을 전환시킴으로써, 상기 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택하는In the state where the fixed bias voltage is applied to the spin control device, the direction of the electric dipole moment is changed by controlling the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer, thereby selecting the spin direction of the charge passing through the spin control device. doing 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 삼중벽의 강유전성 물질층을 포함하는 강유전 삼중벽-공명 터널링 다이오드(ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode)인A ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode comprising a triple-walled ferroelectric layer 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 강유전성 물질층 및 희박자성 물질층은,The ferroelectric material layer and the lean magnetic material layer, II족 원소 및 VI족 원소의 화합물 또는 III족 원소 및 V족 원소의 화합물을 이용하여 형성된Formed using a compound of Group II and Group VI elements or a compound of Group III and Group V elements 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 강유전성 물질층 및 희박자성 물질층은,The ferroelectric material layer and the lean magnetic material layer, P타입 또는 N타입인P type or N type 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 강유전성 물질층은,The ferroelectric material layer, ZnO막에 Li을 도핑하여 형성되고,Formed by doping Li to the ZnO film, 상기 희박자성 물질층은,The lean magnetic material layer, ZnO막에 Mn을 도핑하여 형성된Formed by doping Mn to a ZnO film 스핀 조절 장치.Spin control device. 전기장 변화에 따라 전기쌍극자 모멘트의 방향이 바뀌는 복수의 강유전성 물질층; 및A plurality of ferroelectric material layers in which the direction of the electric dipole moment is changed as the electric field changes; And 상기 복수의 강유전성 물질층 사이에 형성된 희박자성 물질층A lean magnetic material layer formed between the plurality of ferroelectric material layers 을 포함하고,Including, 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨 및 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장 방향을 제어하여 전하의 스핀 분극 상태를 조절하는 Controlling the spin polarization state of the charge by controlling the level of the bias voltage applied to the spin control device and the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 상기 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증감시키거나 상기 강유전성 물질층에 인가되는 전기장의 방향을 전환시킴으로써, 상기 스핀 조절 장 치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택하는Selecting the spin direction of charge passing through the spin control device by increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device or by changing the direction of the electric field applied to the ferroelectric material layer. 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 상기 강유전성 물질층에 고정된 방향의 전기장이 인가되는 상태에서, 상기 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 제어하여 상기 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 선택하는In the state where a fixed electric field is applied to the ferroelectric material layer, the spin direction of the charge passing through the spin control device is selected by controlling the level of the bias voltage applied to the spin control device. 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 상기 강유전성 물질층에 고정된 방향의 전기장이 인가되는 상태에서, 상기 스핀 조절 장치에 인가되는 바이어스 전압의 레벨을 증감시킴으로써, 상기 스핀 조절 장치를 통과하는 전하의 스핀 방향을 진동(oscillating)시키는Oscillating the spin direction of the charge passing through the spin control device by increasing or decreasing the level of the bias voltage applied to the spin control device while the electric field in the fixed direction is applied to the ferroelectric material layer. 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 스핀 조절 장치는,The spin control device, 삼중벽의 강유전성 물질층을 포함하는 강유전 삼중벽 공명 터널링 다이오드(ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode)인A ferroelectric triple barrier-resonant tunneling diode comprising a triple-walled ferroelectric layer 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 강유전성 물질층 및 희박자성 물질층은,The ferroelectric material layer and the lean magnetic material layer, II족 원소 및 VI족 원소의 화합물 또는 III족 원소 및 V족 원소의 화합물을 이용하여 형성된Formed using a compound of Group II and Group VI elements or a compound of Group III and Group V elements 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 강유전성 물질층 및 희박자성 물질층은,The ferroelectric material layer and the lean magnetic material layer, P타입 또는 N타입인P type or N type 스핀 조절 장치.Spin control device. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 강유전성 물질층은,The ferroelectric material layer, ZnO막에 Li을 도핑하여 형성되고,Formed by doping Li to the ZnO film, 상기 희박자성 물질층은,The lean magnetic material layer, ZnO막에 Mn을 도핑하여 형성된Formed by doping Mn to a ZnO film 스핀 조절 장치.Spin control device.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005303302A (en) 2004-04-08 2005-10-27 Headway Technologies Inc Magnetic tunneling junction element and its fabricating method
KR20070048657A (en) * 2004-05-25 2007-05-09 엔엠 스핀트로닉스 에이비 Tunnel junction barrier layer comprising a diluted semiconductor with spin sensitivity
KR20070106701A (en) * 2004-12-29 2007-11-05 그랜디스, 인코포레이티드 Mjt elements with high spin polarization layers configured for spin-transfer switching and spintronics devices using the magnetic elements

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005303302A (en) 2004-04-08 2005-10-27 Headway Technologies Inc Magnetic tunneling junction element and its fabricating method
KR20070048657A (en) * 2004-05-25 2007-05-09 엔엠 스핀트로닉스 에이비 Tunnel junction barrier layer comprising a diluted semiconductor with spin sensitivity
KR20070106701A (en) * 2004-12-29 2007-11-05 그랜디스, 인코포레이티드 Mjt elements with high spin polarization layers configured for spin-transfer switching and spintronics devices using the magnetic elements

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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