KR101019498B1

KR101019498B1 - Insulation Film contained Tungsten Bronze Compound and Method of Manufacturing The Same

Info

Publication number: KR101019498B1
Application number: KR1020080090022A
Authority: KR
Inventors: 황태경; 손대희; 김용이; 이헌동; 박성수; 김진모
Original assignee: (주) 씨에프씨테라메이트
Priority date: 2008-09-11
Filing date: 2008-09-11
Publication date: 2011-03-07
Also published as: KR20100031004A

Abstract

본 발명은 적외선 차폐제를 사용한 열차단층이 형성된 열차단필름에 있어서, 특히 마이크로웨이브파를 열원으로 하는 폴리올합성법으로 나노입자의 페르보스카이트 화합물 중 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하는 텅스텐브론즈 화합물을 합성, 이렇게 합성된 텅스텐브론즈 화합물의 입자크기가 20nm 미만의 고운 입자인 점을 활용하여 평균분산 입도가 30~40nm를 가지는 분산 졸과 그것을 이용한 코팅 졸을 형성하여 기재층에 코팅함으로써 헤이즈가 없고 높은 투명성을 나타내며 동시에 높은 적외선 차단 특성을 가지는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름과 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a thermal barrier film in which a heat _shield layer using an infrared shielding agent is formed, in particular, A (B _(X≤0.67) , B ' _{(1- X ≥ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≤ 0.33)} , B ' _{(1-X ≥ 0.67)} ) Tungsten bronze compound forming a _pervosky structure of the form of O ₃ synthesized, thus synthesized tungsten bronze compound By utilizing the fine particle size of less than 20nm, the dispersion sol having an average dispersion particle size of 30 ~ 40nm and the coating sol using the same are formed and coated on the base layer, which shows no haze, high transparency, and high infrared ray blocking property. It relates to a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound having a method for producing the same.

열차단필름, 텅스텐브론즈, 페르보스카이트 구조 Thermal barrier film, tungsten bronze, pervoskyite structure

Description

Insulation Film contained Tungsten Bronze Compound and Method of Manufacturing The Same}

일반적으로 열차폐 물질로 사용되는 무기산화물은 뛰어난 내구성과 높은 열차단 특성을 가지고 있지만, 낮은 가시광선 투과율 때문에 그 활용 범위가 한정 되어 있다. 무기산화물에는 안티몬틴옥사이드(ATO), 인듐틴옥사이드(ITO), 2산화실리카(SiO₂), 3산화알루미나(Al₂O₃ _),3산화몰리브덴(MoO₃), 5산화니오브(Nb₂O₅), 5산화 바나듐(V₂O₅), 텅스텐 브론즈(Tungsten Bronze) 등이 사용되고 있는데, 이중 특히 가장 많이 사용되며 실제로 적외선 차단 특성이 양호한 무기산화물로는 안티몬틴옥사이드(ATO), 인듐틴옥사이드(ITO)와 텅스텐 브론즈(Tungsten Bronze) 등이 있다. In general, inorganic oxides used as thermal barrier materials have excellent durability and high thermal barrier properties, but their application range is limited due to their low visible light transmittance. Inorganic oxides include antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), silica dioxide (SiO ₂ ), alumina trioxide (Al ₂ O ₃ _), molybdenum trioxide (MoO ₃ ), and niobium pentoxide (Nb ₂ O). ₅ ), vanadium pentoxide (V ₂ O ₅ ), tungsten bronze (Tungsten Bronze), etc. are used. Among them, the most commonly used inorganic oxides having good infrared blocking properties are antimony tin oxide (ATO) and indium tin oxide. (ITO) and Tungsten Bronze.

ATO는 ITO 보다 가격이 저렴하여 일반적으로 가시광선 투과율을 요하는 열차단 필름에 많이 사용되고 있다. 하지만 근적외선 흡수 특성이 1500nm에서 흡수를 시작하고 2000nm 까지 경사를 보이는 그래프로, 완벽한 적외선 차단이 이루어지지 못하고 있다. 즉 높은 가시광선을 나타내기 위해서는 그 투입량이 한정 되어진다. 만약 높은 근적외선을 나타내기 위해서 충진량을 많게 한다면, 가시광선은 40~50%로 현저히 떨어지게 되고, 과도한 무기물 함유는 열차단 코팅층의 2차 문제점(코팅층: 크랙, 부착력 저하, 백탁, 경시변화) 등을 일으킨다. 이렇듯 입자크기 10~20nm 의 ATO라고 해도 가시광선 대비 근적외선 차단 특성은 그 한계를 가지고 있어 활용 범위 및 고성능 열차단 필름 제조에는 사용되지 못하는 문제점이 있다. ATO is cheaper than ITO and is generally used in thermal barrier films requiring visible light transmittance. However, the near-infrared absorption characteristic starts absorbing at 1500nm and tilts up to 2000nm, and it is not possible to block infrared rays completely. That is, the amount of input is limited in order to show high visible light. If the filling amount is increased to show high near-infrared rays, the visible light drops considerably to 40-50%, and the excessive inorganic content causes secondary problems of the thermal barrier coating layer (coating layer: crack, adhesion loss, cloudiness, change over time). Cause As described above, even in the case of ATO having a particle size of 10-20 nm, there is a problem in that the near-infrared ray blocking characteristic compared to visible light has its limitations, and thus it cannot be used for the application range and the manufacture of high-performance thermal barrier film.

ITO는 ATO보다 높은 가시광선 투과율과 적외선 차단 특성을 나타낸다. 하지만 인듐(indium)가격이 세계적으로 높은 가격의 원료로 잘 알려져 있고, 많은 IT업계에서는 ITO를 대체할 수 있는 물질을 찾는게 현실이며, 열차단 필름제조에서도 이런한 고가의 원료를 사용하는 것은 큰 부담이 되는 문제점이 있다.ITO shows higher visible light transmittance and infrared ray blocking properties than ATO. However, indium prices are well known as the world's most expensive raw materials, and many IT companies are finding a substitute for ITO, and using such expensive raw materials in thermal barrier film production is a big burden. There is a problem.

또한 ITO, ATO 나노입자 무기산화물의 합성에 있어 매우 까다로운 공정을 거쳐 제조되고 있는데, 특히 sol-gel 법, atutoclave 법으로 제조된 수산화 인듐틴옥사이드(ITO(OH)), 수산화 안티몬틴옥사이드(ATO(OH))는 반드시 소성 과정을 거치게 된다. 소성은 총 2번에 걸쳐 이루어지며 구체적으로, 먼저 1차 소성은 공기중에서 300~400로 소성을 한 후, 2차 수소 환원소성을 하게 된다. 이때 수소 가스(gas)와 불활성 가스를 혼합하여 환원소성을 하게 되는데, 이 경우 만약 약간의 산소가 투입되더라도 폭발할 가능성이 매우 높아 대형사고로 이어질 수 있어 주의를 요하는 작업이다. 장비 또한 gas flow 소성로는 상당히 고가의 장비이다. 이렇듯 안티몬틴옥사이드(ATO), 인듐틴옥사이드(ITO)를 제조하는데 있어서는 안정성의 문제점을 항상 가지고 있고, 장비 또한 고가의 특수한 설비를 필요로 하는 문제점이 있다.In addition, ITO and ATO nanoparticles are prepared through a very difficult process for the synthesis of inorganic oxides, in particular, indium tin oxide (ITO (OH)) and antimony tin hydroxide (ATO (ATO) prepared by the sol-gel method and the atutoclave method. OH)) must be fired. Firing takes place a total of two times. Specifically, first firing is performed in the air at 300 to 400, and then secondary hydrogen reduction firing. At this time, hydrogen gas (gas) and an inert gas are mixed to reduce the firing. In this case, even if a little oxygen is added, the possibility of explosion is very high, which may lead to a large accident. Equipment Gas-fired kilns are also quite expensive. As described above, the production of antimony tin oxide (ATO) and indium tin oxide (ITO) always has a problem of stability, and equipment also has a problem that requires expensive special equipment.

텅스텐 브론즈는 기본구조가 3산화텅스텐으로 와이드 밴드 겝(wide band gap)산화물로, 가시광 영역의 빛의 흡수가 거의 없고, 구조 중에 자유전자가 존재하지 않는 것으로 알려져 있다. 이에 소량의 산소를 감소시킨 형태나, 3산화텅스텐에 Na등의 양성원소를 첨가한 형태는 일반적으로 페르보스카이트 구조(ABO₃)를 가지게 된다. 텅스텐 브론즈는 파장 800nm 정도 이상의 빛의 흡수는 강하지만 파장 380~780nm 정도의 사람이 감지하는 파장영역에서의 빛은 흡수가 약하기 때문에 가시광 투과형 재료로서 조금씩 연구되고 있는 실정이다. 텅스텐 브론즈 화합물은 약 5만 가지 정도로 알려져 있는데 이중 적외선 차단 특성을 보이고 있는 텅스텐 브론즈 화합물은 A_xW₁O_y 형태로, A_x는 1족~2족으로 알카리금속 및 알카리토금속 원소, W₁는 텅스텐, O_y는 산소로 이루어져 있다. 하지만 대부분의 특허 및 문헌에는 입자 크기가 100nm 미만으로 나타내고 있으며 이는 1차 입자(powder) 입경을 의미하는데, 1차 입경(powder)이 100nm 이면 실제로 분산 졸로 제조하였을 때는 100nm 이상이 된다. 100nm 이상의 분산졸은 헤이즈를 가지며 산란현상을 분명히 나타내어 최종 필름으로 제작되었을 때는 산란현상으로 뿌옇게 보여지는게 사실이다. 따라서 텅스텐 브론즈를 이용한 열차단 필름에 있어서 고투명 또는 헤이즈가 없는 고품질의 열차단 필름이 필요로 하게 된다. Tungsten bronze is a tungsten trioxide, its basic structure is a wide band gap oxide. It is known that there is little absorption of light in the visible region and no free electrons exist in the structure. Accordingly, a form in which a small amount of oxygen is reduced, or a form in which a positive element such as Na is added to tungsten trioxide generally has a perboscatite structure (ABO ₃ ). Tungsten bronze has a strong absorption of light of more than about 800nm wavelength, but light in the wavelength range of human sense of about 380 ~ 780nm wavelength is weak absorption is being studied as a visible light transmission material. Tungsten bronze compound is known to about 50,000 kinds, tungsten bronze compound showing the dual infrared blocking properties in the form of A _x W ₁ O _y , A _x is Group 1 ~ Group 2 Alkali and alkaline earth metal elements, W ₁ is Tungsten, O _y consists of oxygen. However, in most patents and literature, the particle size is less than 100 nm, which means the primary particle size, which is 100 nm or more when the primary powder is 100 nm. Dispersing sol of 100nm or more has a haze and shows the scattering phenomenon clearly, and when it is made into the final film, it appears to be cloudy as scattering phenomenon. Therefore, there is a need for a high-quality thermal barrier film having high transparency or no haze in a thermal barrier film using tungsten bronze.

또한 텅스텐 브론즈의 합성법에 있어서는 공침법과 고상반응법이 대부분이다. 고상반응법은 페로브스카이트 화합물을 제조하는데 가장 대표적인 방법으로써 양성원소를 가지고 있는 탄산 및 불활성 원소가 함유된 화합물 계열의 원료와 텅스텐 원소를 함유하고 있는 원료를 고체 상태에서 단순히 섞어 높은 온도에서 하소하여 얻는 방법으로, 높은 온도로 두 화합물을 용융시켜 제조하는 것이다. 이런 방법은 정량적인 원소화합물이 될 수 없으며, 마이크론 크기보다 큰 덩어리 형태로 얻어지는게 대부분이다. 통상적으로 광학재료는 그 원소 비가 아주 정밀한 정량성을 요하게 되고, 약간의 오차가 있게 된다면 다른 특성을 나타내거나, 목표로 하는 특성을 가지지 못하는 경우가 대부분이므로 고상반응법으로는 이러한 문제를 해결할 수 없는 문제점이 있다.In the method of synthesizing tungsten bronze, coprecipitation and solid phase reaction are most common. The solid-phase reaction method is the most typical method for preparing perovskite compounds. The solid material is simply mixed in a solid state with a raw material containing a tungsten element and a raw material of a compound containing carbonic acid and an inert element having a positive element and calcining at a high temperature. It is obtained by melting two compounds at high temperature. This method cannot be a quantitative elemental compound, and is usually obtained in the form of a lump larger than the micron size. In general, optical materials require very precise quantitative ratios of elements, and if there is a slight error, most of them exhibit different characteristics or do not have target characteristics, so the solid-phase reaction cannot solve this problem. There is a problem.

또한 텅스텐 브론즈의 합성법에서 공침법은 출발 원료가 특정한 용매에 녹아 용액상태로 되어 서로 다른 원소가 용액 상에서 존재하고, 전하 또는 용해도 차에 의해서 동시에 공침을 시키는 방법이다. 이때 용액 상에 존재하는 원소들은 출발물질에서 불순물이라 보이는 원소들도 함께 존재하고 있어, 이 불순물을 제거하는 것이 어려우며, 또한 입자크기 제어가 곤란하여 나노입자가 될 수 없으며, 최종 제품의 품질이 저하되는 문제점이 있다. In the method of synthesizing tungsten bronze, the coprecipitation method is a method in which a starting material is dissolved in a specific solvent to be in a solution state, and different elements are present in the solution and coprecipitation is simultaneously performed by charge or solubility difference. At this time, the elements present in the solution also contain elements that appear to be impurities in the starting material, so it is difficult to remove these impurities, and it is difficult to control the particle size so that they cannot become nanoparticles, and the quality of the final product is degraded. There is a problem.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로,The present invention has been made to solve the above problems,

본 발명의 목적은 기재층의 일면에 열차단층이 형성된 열차단 필름에 있어서, 상기 열차단층은 텅스텐브론즈 화합물을 포함하며, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함함으로써 헤이즈가 없고 광학적 특성이 우수하며 친환경적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is a thermal barrier film having a thermal barrier layer formed on one surface of the base layer, the thermal barrier layer comprises a tungsten bronze compound, the tungsten bronze compound is A (B _(X≤0.67) , B ' _{(1- X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O _{3 to} form a _pervoskyte structure, wherein A comprises an alkali metal to an alkaline earth metal The B and B 'is to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound having no haze, excellent optical properties and environmentally friendly by including at least one element or compound selected from transition metals.

본 발명의 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 마이크로웨이브파를 열원으로 하는 폴리올합성법으로 제조함으로써 합성공정 시간을 단축시키고, 유기용제를 줄일 수 있어 친환경에 부합하고, 균일한 나노크기의 입자를 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to produce a tungsten bronze compound containing a tungsten bronze compound according to the present invention, by producing a tungsten bronze compound by a polyol synthesis method using a microwave as a heat source to shorten the synthesis process time, reduce the organic solvent It is possible to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, which can be eco-friendly and obtains uniform nano-sized particles.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 온도 200~500℃ 범위에서 1차 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the tungsten bronze compound is subjected to primary calcination at a temperature of 200 to 500 ° C. to remove hydroxyl groups, and the hexagonal of the tungsten bronze compound. It is to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound characterized by forming a crystallinity.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 액상 환원제를 투입하여 2차 환원소성을 시켜 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도함으로써 작업상의 위험성을 줄이고 기존의 소성장비를 활용할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a tungsten bronze compound containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the tungsten bronze compound is subjected to secondary reduction firing by adding a liquid reducing agent to induce crystal defects of the tungsten bronze compound in the working phase. It is to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound characterized by reducing the risk and utilizing existing plastic equipment.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함함으로써 우수한 광학적 특성을 발현함은 물론 충분한 안정성으로 젤화 되지 않는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is formed in the form of a tungsten bronze compound dispersion sol, the tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 ~ 1 weight %, Organic solvent 70 ~ 80% by weight, tungsten bronze compound powder containing 20 ~ 30% by weight of the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that it exhibits excellent optical properties and does not gel with sufficient stability To provide.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함함으로써 기재층과의 결합력을 증진시킬 수 있고 도막 두께를 미세하게 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol is formed in the form of a tungsten bronze compound coating sol, the tungsten bronze compound coating sol is a tungsten bronze compound Tungsten bronze, characterized by including 40 to 50% by weight of the dissolving sol, 40 to 50% by weight of the photopolymer, and 10 to 20% by weight of the organic solvent to enhance the bonding strength with the base layer and to finely control the thickness of the coating film. It is to provide a thermal barrier film containing a compound.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 상기 기재층에 마이크로그라비아 코팅, 나이프 코팅 및 롤투롤 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅되 고, UV 조사하여 열차단층을 형성함으로써 평탄한 도막 표면을 얻고 생산성을 향상시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound coating sol is any one of the microgravure coating, knife coating and roll-to-roll coating method on the substrate layer To provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that to be coated with, UV irradiation to form a thermal barrier layer to obtain a flat coating surface and improve productivity.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 열차단층은 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 추가로 포함하여 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the thermal barrier layer further includes a pressure-sensitive adhesive layer on a surface not in contact with the substrate layer, such as in a glass of a building or a vehicle. It is to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that the adhesion.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 점착층은 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 추가로 포함하여 외부표면을 보호할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the adhesive layer may further include a release paper on a surface not in contact with the thermal barrier layer to protect an external surface. It is to provide a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound characterized by.

본 발명의 또 다른 목적은 폴리올합성법을 사용하여 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 갖는 텅스텐브론즈 화합물을 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 온도 200~500℃ 범위에서 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 1차 하소단계와, 상기 수산기가 제거된 텅스텐브론즈 화합물에 액상 환원제를 투입하여 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 2차 환원소성단계와, 상기 2차 환원소성단계를 거친 텅스텐브론즈 화합물 분말을 분산 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화 합물 분산 졸을 코팅 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸을 기재층의 표면에 코팅하여 열차단층을 형성하는 열차단층 코팅단계를 포함함으로써 헤이즈가 없고 광학적 특성이 우수하며 친환경적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제조할 수 있을 뿐만아니라 작업상의 위험성을 줄이고 기존의 소성장비를 활용할 수 있어 경제적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to use A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X≥ 0.67)} step of preparing a tungsten bronze compound for preparing a tungsten bronze compound having a perovskite structure of the O ₃ form, and calcining the tungsten bronze compound at a temperature of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and hexa of the tungsten bronze compound After the first calcination step to form the gonal crystallinity, the second reduction firing step to induce the crystal defect of the tungsten bronze compound by injecting a liquid reducing agent to the tungsten bronze compound from which the hydroxyl group is removed, and the second reduction firing step A tungsten bronze compound dispersing sol manufacturing step of preparing tungsten bronze compound powder in the form of a dispersion sol, a tungsten bronze compound coating sol manufacturing step of preparing the tungsten bronze compound dissolving sol in a form of a sol, and the tongue The thermal barrier layer coating step of forming a thermal barrier layer by coating the surface of the base layer with a sten bronze compound coating sol can produce a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound having no haze, excellent optical properties, and environment-friendly. It is also to provide an economical method of manufacturing thermal barrier films containing tungsten bronze compounds by reducing operational risks and utilizing existing firing equipment.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 제조단계에서 사용하는 폴리올합성법은 열원으로 마이크로웨이브파를 사용하여 120초~180초의 범위에서 조사함으로써 합성공정 시간을 단축시키고, 유기용제를 줄일 수 있어 친환경에 부합하고, 균일한 나노크기의 입자를 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the polyol synthesis method used in the tungsten bronze compound manufacturing step is 120 seconds ~ 180 using a microwave wave as a heat source The method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that it can shorten the synthesis process time and reduce the organic solvent by irradiating in the range of seconds to obtain eco-friendly, uniform nano-sized particles. To provide.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함함으로써 우수한 광학적 특성을 발현함은 물론 충분한 안정성으로 젤화 되지 않는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a method for producing a tungsten bronze compound containing tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol in the manufacturing step of the tungsten bronze compound dispersion sol dispersing agent 0.5 ~ 1% by weight, organic solvent By providing 70 to 80% by weight, tungsten bronze compound powder 20 to 30% by weight to provide a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that it exhibits excellent optical properties and does not gel with sufficient stability. It is.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함함으로써 기재층과의 결합력을 증진시킬 수 있고 도막 두께를 미세하게 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a method for producing a tungsten bronze compound containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound coating sol in the tungsten bronze compound coating sol manufacturing step is tungsten bronze compound dispersion sol 40 ~ 50 weight Thermal barrier containing tungsten bronze compound, characterized in that it can improve the bonding strength with the substrate layer and finely control the coating film thickness by including%, 40-50% by weight, 10-20% by weight of the organic solvent It is to provide a method for producing a film.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 열차단층의 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 형성하는 점착층 코팅단계를 추가로 포함함으로써 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, further comprising a pressure-sensitive adhesive layer coating step of forming an adhesive layer on a surface not in contact with the base layer of the thermal barrier layer. It is to provide a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that the adhesion to glass, such as buildings or vehicles by including.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 점착층의 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 부착하는 이형지 부착단계를 추가로 포함함으로써 점착층의 외부표면을 보호할 수 있는 것을 특징으로 하는 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, further comprising a release paper attaching step of attaching a release paper to a surface not in contact with the thermal barrier layer of the adhesive layer. The present invention provides a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, which can protect the outer surface of the adhesive layer.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름과 그 제조방법은 다음과 같은 구성을 포함한다.The thermal barrier film containing the tungsten bronze compound and its manufacturing method for achieving the above object of the present invention includes the following configuration.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름은 기재층의 일면에 열차단층이 형성된 열차단 필름에 있어서, 상기 열차단층은 텅스텐브론즈 화합물을 포함하며, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention in the thermal barrier film formed with a thermal barrier layer on one surface of the base layer, the thermal barrier layer comprises a tungsten bronze compound, The tungsten bronze compound is a _{ferrite in the form} of A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ Form a boscaite structure, wherein A includes an alkali metal to an alkaline earth metal, and B and B 'include one or more elements or compounds selected from transition metals.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물은 폴리올합성법으로 제조되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the tungsten bronze compound in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention is characterized in that the polyol synthesis method.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 폴리올합성법은 열원으로 마이크로웨이브파를 사용하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the polyol synthesis method is characterized by using a microwave wave as a heat source.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 폴리올합성법은 상기 마이크로웨이브파를 120초~180초의 범위에서 조사하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the polyol synthesis method is characterized in that for irradiating the microwave wave in the range of 120 seconds to 180 seconds.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물은 온도 200~500℃ 범위에서 1차 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is subjected to primary calcination in the temperature range of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and the It is characterized by forming hexagonal crystallinity.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물은 액상 환원제를 투입하여 2차 환원소성을 시켜 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is added to the liquid reducing agent to make the secondary reduction firing to induce crystal defects of the tungsten bronze compound It is characterized by.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 2차 환원소성은 300~400℃ 범위의 온도에서 1~2시간 소성하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the secondary reduction firing is characterized in that the firing for 1 to 2 hours at a temperature in the range of 300 ~ 400 ℃.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is formed in the form of a tungsten bronze compound dispersion sol, the tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 ~ It is characterized by comprising 1% by weight, 70 to 80% by weight of the organic solvent, 20 to 30% by weight of tungsten bronze compound powder.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물은 지르코늄 볼을 이용한 볼밀법에 의해 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is formed in a tungsten bronze compound dispersion sol form by a ball mill method using zirconium balls do.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol is formed in the form of a tungsten bronze compound coating sol, the tungsten bronze compound coating sol is tungsten 40 to 50% by weight of a bronze compound dispersion sol, 40 to 50% by weight of a photopolymer, and 10 to 20% by weight of an organic solvent.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 상기 기재층에 마이크로그라비아 코팅, 나이프 코팅 및 롤투롤 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅되고, UV 조사하여 열차단층을 형성하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound coating sol is any one of a microgravure coating, knife coating and roll-to-roll coating method on the substrate layer It is coated in the manner of, characterized in that to form a thermal barrier by UV irradiation.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 열차단층은 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 추가로 포함하여 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the thermal barrier layer further comprises an adhesive layer on a surface not in contact with the base layer, such as a building or a vehicle. It is characterized by being able to adhere to glass.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서 상기 점착층은 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 추가로 포함하여 외부표면을 보호할 수 있는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the adhesive layer may further include a release paper on the surface not in contact with the thermal barrier layer to protect the external surface. It is characterized by being.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법은 폴리올합성법을 사용하여 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 갖는 텅스텐브론즈 화합물을 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 온도 200~500℃ 범위에서 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 1차 하소단계와, 상기 수산기가 제거된 텅스텐브론즈 화합물에 액상 환원제를 투입하여 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 2차 환원소성단계와, 상기 2차 환원소성단계를 거친 텅스텐브론즈 화합물 분말을 분산 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸을 코팅 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸을 기재층의 표면에 코팅하여 열차단층을 형성하는 열차단층 코팅단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the method for producing a thermal _barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention using the polyol synthesis method A (B _(X≤0.67) , B ' _(1-X≥0.33) A tungsten bronze compound preparing step of preparing a tungsten bronze compound having a _pervosky structure of the form of O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ , and the tungsten bronze compound Calcination in the temperature range of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and to form the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound, and the liquid reducing agent is added to the tungsten bronze compound from which the hydroxyl group is removed A secondary reduction firing step of inducing crystal defects, a tungsten bronze compound dispersion sol manufacturing step of preparing a tungsten bronze compound powder which has undergone the secondary reduction firing step in the form of a dispersion sol, and the tungsten bronze compound powder And a tungsten bronze-coated sol prepared compound to prepare a coating sol form a sol, and the tungsten bronze-compound coating sol characterized in that it comprises a heat prevention layer coating step of coating the surface of the substrate layer to form the heat prevention layer.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물 제조단계에서 사용하는 폴리올합성법은 열원으로 마이크로웨이브파를 사용하여 120초~180초의 범위에서 조사하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the polyol synthesis method used in the tungsten bronze compound manufacturing step in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention 120 seconds using a microwave wave as a heat source Irradiation in the range of ˜180 seconds.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol in the manufacturing method of the thermal barrier film containing tungsten bronze compound according to the present invention is a tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 to 1% by weight, It characterized in that it comprises 70 to 80% by weight of the organic solvent, 20 to 30% by weight of tungsten bronze compound powder.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the tungsten bronze compound coating sol in the tungsten bronze compound coating sol manufacturing step in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention is tungsten bronze compound dispersion sol 40 ~ 50% by weight, photopolymer 40 to 50% by weight, characterized in that it comprises 10 to 20% by weight of the organic solvent.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있도록 상기 열차단층의 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 형성하는 점착층 코팅단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention does not contact with the base layer of the thermal barrier layer so as to adhere to the glass, such as buildings or vehicles It characterized in that it further comprises an adhesive layer coating step of forming an adhesive layer on the surface.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서 상기 점착층의 외부표면을 보호하기 위하 여 상기 점착층의 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 부착하는 이형지 부착단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention in order not to contact the thermal barrier layer of the adhesive layer to protect the outer surface of the adhesive layer. It characterized in that it further comprises a release paper attaching step of attaching the release paper on the surface.

본 발명은 앞서 본 실시예와 하기에 설명할 구성과 결합, 사용관계에 의해 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.The present invention can achieve the following effects by the configuration, combination, and use relationship described above with the present embodiment.

본 발명은 기재층의 일면에 열차단층이 형성된 열차단 필름에 있어서, 상기 열차단층은 텅스텐브론즈 화합물을 포함하며, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함함으로써 헤이즈가 없고 광학적 특성이 우수하며 친환경적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 얻을 수 있다.The present invention provides a heat shielding film having a heat shielding layer formed on one surface of a substrate layer, wherein the heat shielding layer includes a tungsten bronze compound, and the tungsten bronze compound is A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X≥ 0.33)} forms a _pervosky structure of the form O ₃ , A (B _{(X ≦} _0.33) , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ , wherein A comprises an alkali metal to an alkaline earth metal and B , B 'includes at least one element or compound selected from transition metals to obtain a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound having no haze, excellent optical properties, and environment-friendly.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 마이크로웨이브파를 열원으로 하는 폴리올합성법으로 제조함으로써 합성공정 시간을 단축시키고, 유기용제를 줄일 수 있어 친환경에 부합하고, 균일한 나노크기의 입자를 얻을 수 있는 효과를 제공한다.In the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is produced by a polyol synthesis method using a microwave wave as a heat source, thereby shortening the synthesis process time and reducing an organic solvent. In order to achieve uniform nano-sized particles.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 온도 200~500℃ 범위에서 1차 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 효과를 제공한다.The present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is subjected to the first calcination in the temperature range of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and to form the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound To provide the effect.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 액상 환원제를 투입하여 2차 환원소성을 시켜 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도함으로써 작업상의 위험성을 줄이고 기존의 소성장비를 활용할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is reduced by reducing the operational risk by inducing crystal defects of the tungsten bronze compound by the secondary reduction firing by adding a liquid reducing agent Provides the effect of utilizing the firing equipment of the.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함함으로써 우수한 광학적 특성을 발현함은 물론 충분한 안정성으로 젤화 되지 않는 효과를 제공한다.The present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound is formed in the form of a tungsten bronze compound dispersion sol, the tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 to 1% by weight dispersant, organic solvent By including 70 to 80% by weight, tungsten bronze compound powder 20 to 30% by weight to provide excellent optical properties as well as provides the effect of not gelling with sufficient stability.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 형태로 형성되며, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함함으로써 기재층과의 결합력을 증진시킬 수 있고 도막 두께를 미세하게 조절할 수 있는 효과를 제공한다. The present invention is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol is formed in the form of a tungsten bronze compound coating sol, the tungsten bronze compound coating sol 40 ~ tungsten bronze compound dispersion sol By including 50% by weight, 40-50% by weight of the photopolymer, 10-20% by weight of the organic solvent can improve the bonding strength with the substrate layer and provides an effect of finely adjusting the coating film thickness.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 상기 기재층에 마이크로그라비아 코팅, 나이프 코팅 및 롤투롤 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅되고, UV 조사하여 열차단층을 형성함으로써 평탄한 도막 표면을 얻고 생산성을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound coating sol is coated on the base layer by any one of a microgravure coating, a knife coating, and a roll-to-roll coating method. UV radiation forms a thermal barrier layer, providing a flat coating surface and improving productivity.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 열차단층은 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 추가로 포함하여 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention provides a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the thermal barrier layer may further include an adhesive layer on a surface which is not in contact with the base layer, and may adhere to glass such as a building or a vehicle. Provide effect.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름에 있어서, 상기 점착층은 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 추가로 포함하여 외부표면을 보호할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention provides a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, wherein the adhesive layer further includes a release paper on a surface not in contact with the thermal barrier layer, thereby providing an effect of protecting an external surface.

본 발명은 폴리올합성법을 사용하여 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 갖는 텅스텐브론즈 화합물을 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 온도 200~500℃ 범위에서 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 1차 하소단계와, 상기 수산기가 제거된 텅스텐브론즈 화합물에 액상 환원제를 투입하여 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 2차 환원소성단계와, 상기 2차 환원소성단계를 거친 텅스텐브론즈 화합물 분말을 분산 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸을 코팅 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸을 기재층의 표면에 코팅하여 열차단층을 형성하는 열차단층 코팅단계를 포함함으로써 헤이즈가 없고 광학적 특성이 우수하며 친환경적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 제조할 수 있을 뿐만아니라 작업상의 위험성을 줄이고 기존의 소성장비를 활용할 수 있어 경제적인 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법을 제공한다.The present invention uses polyol synthesis method to obtain A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67} ) O A tungsten bronze compound preparing step of preparing a tungsten bronze compound having a _three- type pervosky structure, and calcining the tungsten bronze compound at a temperature in the range of 200 to 500 ° C. to remove hydroxyl groups and the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound The primary calcining step to form, the secondary reducing firing step of inducing a crystal defect of the tungsten bronze compound by injecting a liquid reducing agent into the tungsten bronze compound from which the hydroxyl group is removed, and the tungsten bronze compound powder subjected to the second reducing firing step A tungsten bronze compound dissolving sol manufacturing step of preparing a sol in the form of a dispersion sol, a tungsten bronze compound coating sol manufacturing step of preparing the tungsten bronze compound in a sol form, and a tungsten bronze compound The thermal barrier coating step of forming a thermal barrier layer by coating a water coating sol on the surface of the base layer can produce a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound free of haze, excellent optical properties, and environment-friendly. It can reduce the risk of phase and utilize existing sintering equipment to provide an economical manufacturing method of thermal barrier film containing tungsten bronze compound.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 제조단계에서 사용하는 폴리올합성법은 열원으로 마이크로웨이브파를 사용하여 120초~180초의 범위에서 조사함으로써 합성공정 시간을 단축시키고, 유기용제를 줄일 수 있어 친환경에 부합하고, 균일한 나노크기의 입자를 얻을 수 있는 효과를 제공한다.The present invention is a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the polyol synthesis method used in the tungsten bronze compound manufacturing step is irradiated in the range of 120 seconds to 180 seconds using a microwave wave as a heat source By shortening the synthesis process, it is possible to reduce the organic solvent to meet the eco-friendly, and provides the effect of obtaining a uniform nano-sized particles.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함함으로써 우수한 광학적 특성을 발현함은 물론 충분한 안정성으로 젤화 되지 않는 효과를 제공한다.The present invention provides a tungsten bronze compound-dispersed sol in the manufacturing method of the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 to 1% by weight of the dispersant, 70 to 80 weight of the organic solvent %, 20-30% by weight of tungsten bronze compound powder to provide excellent optical properties as well as provide the effect of not gelling with sufficient stability.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계에서 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함함으로써 기재층과의 결합력을 증진시킬 수 있고 도막 두께를 미세하게 조절할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention is a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, the tungsten bronze compound coating sol in the tungsten bronze compound coating sol manufacturing step is 40 to 50% by weight tungsten bronze compound dispersion sol, photopolymer By including 40 to 50% by weight, 10 to 20% by weight of the organic solvent can improve the bonding strength with the substrate layer and provides an effect of finely adjusting the thickness of the coating film.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 열차단층의 상기 기재층과 접하지 않은 면에 점착층을 형성하는 점착층 코팅단계를 추가로 포함함으로써 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention is a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, by further comprising a pressure-sensitive adhesive layer coating step of forming a pressure-sensitive adhesive layer on the surface not in contact with the base layer of the thermal barrier layer Or it provides an effect that can be bonded to the glass, such as a vehicle.

본 발명은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법에 있어서, 상기 점착층의 상기 열차단층과 접하지 않은 면에 이형지를 부착하는 이형지 부착단계를 추가로 포함함으로써 점착층의 외부표면을 보호할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, further comprising a release paper attaching step of attaching a release paper to a surface not in contact with the thermal barrier layer of the adhesive layer of the adhesive layer Provides the effect of protecting the external surface.

이하에서는 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름과 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a preferred embodiment of a thermal barrier film and a method for producing the tungsten bronze compound according to the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도이고, 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention, Figure 3 Is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름은 기재층(10)의 일면에 열차단층(20)이 형성된 열차단 필름에 있어서, 상기 열차단층(20)은 텅스텐브론즈 화합물을 포함하며, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함하는 것을 특징으 로 한다.Referring to Figure 1, the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to an embodiment of the present invention in the thermal barrier film formed with a thermal barrier layer 20 on one surface of the base layer 10, the thermal barrier layer 20 ) Includes a tungsten bronze compound, wherein the tungsten bronze compound includes A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1- X≥0.67)} ) O ₃ form a _pervoskyite structure, wherein A includes an alkali metal to an alkaline earth metal, and B and B 'include one or more elements or compounds selected from transition metals Shall be.

상기 기재층(10)은 그 일면에 열차단층(20)이 코팅되어 상기 열차단층(20)을 지지하고 보호하는 역할을 하는 구성으로, 상기 기재층(10)으로는 PET, 폴리카보네이트, 나일론, PP 등이 사용되고 있으나 바람직하게는 PET를 사용한다. 일반적으로 상기 기재층(10)에 상기 열차단층(20)을 코팅하여 열풍 건조 및 UV 조사를 하게 되면 120이상의 온도를 거치게 되어 이 경우 일반적인 플라스틱 기재는 열변형 온도를 가지게 되고 열변형 온도 이상일때는 기재 자체에 변형이 오는 문제점이 있다. 따라서 열변형온도가 제일 높은 플라스틱 기재로서 PET가 가장 바람직하다.The base layer 10 is coated with a heat shield layer 20 on one surface thereof to support and protect the heat shield layer 20. The base layer 10 may include PET, polycarbonate, nylon, PP and the like are used, but preferably PET is used. In general, when the thermal barrier layer 20 is coated on the base layer 10 and subjected to hot air drying and UV irradiation, the substrate passes through a temperature of 120 or more. In this case, the general plastic substrate has a heat deformation temperature and the substrate is above the heat deformation temperature. There is a problem with the transformation itself. Therefore, PET is most preferred as the plastic substrate having the highest heat deflection temperature.

상기 열차단층(20)은 상기 기재층(10)의 일면에 코팅되어 복사열이 유입 또는 방출되는 것을 방지하는 구성으로, 본 발명에서는 상기 열차단층(20)이 텅스텐브론즈 화합물을 포함하며, 상기 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류(Mg,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,Ir,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au,Zn,Cd,Al,Ga,In,Ti,Si,Ge,Sn,Pb,W) 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 앞서 종래기술 난에서 언급한 바와 같이 텅스텐브론즈 화합물의 기존의 기본구조는 A_xW₁O_y형태로, A_x는 1족~2족으로 알카리금속 및 알카리토금속 원소, W₁는 텅스텐, O_y는 산소로 이루어져 있다. 하지만 대부분의 특허 및 문헌에는 입자 크기가 100nm 미만으로 나타내고 있으며 이는 1차 입자(powder) 입경을 의미하는데, 1 차 입경(powder)이 100nm 이면 실제로 분산 졸로 제조하였을 때는 100nm 이상이 된다. 100nm 이상의 분산졸은 헤이즈를 가지며 산란현상을 분명히 나타내어 최종 필름으로 제작되었을 때는 산란현상으로 뿌옇게 보여지는게 사실이다. 따라서 텅스텐 브론즈를 이용한 열차단 필름에 있어서 고투명 또는 헤이즈가 없는 고품질의 열차단 필름이 필요로 하게 된다. 그러나 본 발명에서는 기본 구조를 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃에서 선택함으로써 더욱 자유전자를 풍부하게 하고 최적의 적외선 차단 특성을 나타내는 원소 구성을 가지게 된다. 즉 기존의 A_xW₁O_y구조에서 W₁텅스텐 원소 외에 천이금속을 더 첨가시켜 전자 공명 및 에너지 벤드겝 조절이 더 용이 하다는 착안에서 제안된 분자 구조 식이다. 따라서, 기존의 ATO 및 ITO 나노입자들보다 더 높은 가시광 투과율과 적외선 차단율을 가지게 됨은 물론, 기존의 텅스텐 브론즈 화합물의 최대의 단점으로 알려져 있는 입자 크기 제어에 있어서 기존의 100nm 급보다 훨씬 낮은 20~30nm 의 크기를 가지는 텅스텐 브론즈 화합물을 실제로 제조하게 되어 100nm 급에서 발생하는 헤이즈를 원천적으로 없게 하여 고품질의 열차단 필름을 제조할 수 있게 되고, 텅스텐 브론즈 화합물 합성의 생산성이 향상되고 제조비용이 낮아지며 에너지 절감에도 상당히 높은 효과를 가지게 된다.The thermal barrier layer 20 is coated on one surface of the base layer 10 to prevent radiant heat from being introduced or released. In the present invention, the thermal barrier layer 20 includes a tungsten bronze compound, and the tungsten bronze The compound is a _{pervoskyite in the form} of A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ Form a structure, wherein A comprises an alkali metal to an alkaline earth metal, and B and B 'are transition metals (Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu). It is characterized in that it comprises at least one element or compound selected from Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Ti, Si, Ge, Sn, Pb, W. As mentioned in the prior art section, the existing basic structure of the tungsten bronze compound is in the form of A _x W ₁ O _y , A _x is a group 1 to 2 group, alkali and alkaline metal elements, W ₁ is tungsten, O _y Consists of oxygen. However, in most patents and literature, the particle size is less than 100 nm, which means the primary particle size, which is 100 nm or more when the primary powder is 100 nm. Dispersing sol of 100nm or more has a haze and shows the scattering phenomenon clearly, and when it is made into the final film, it appears to be cloudy as scattering phenomenon. Therefore, there is a need for a high-quality thermal barrier film having high transparency or no haze in a thermal barrier film using tungsten bronze. However, in the present invention, the basic structure is A (B _(X≤0.67) , B ' _(1-X≥0.33) ) O ₃ , A (B _(X≤0.33) , B' _(1-X≥0.67) ) O ₃ By choosing from, it has an elemental composition that enriches free electrons and exhibits optimal infrared blocking properties. Conventional It is a molecular structure formula proposed in the view that it is easier to control electron resonance and energy bend by adding transition metal in addition to W ₁ tungsten element in A _x W ₁ O _y structure. Therefore, it has a higher visible light transmittance and an infrared ray blocking rate than conventional ATO and ITO nanoparticles, and is 20-30 nm which is much lower than the conventional 100 nm in particle size control which is known as the biggest disadvantage of the conventional tungsten bronze compound. It is possible to manufacture tungsten bronze compound having the size of 100%, thereby eliminating the haze generated at 100nm level, thereby producing high quality thermal barrier film, improving productivity of tungsten bronze compound synthesis, lowering manufacturing cost, and saving energy. Edo will have a fairly high effect.

또한 텅스텐 브론즈 화합물의 합성에 있어서 특히 폴리올 합성법을 사용할 수 있는데, 폴리올 합성법을 이용시 높은 압력과 상대적으로 낮은 온도로 원하는 무기화합물을 합성할 수 있는 간편한 방법으로 이때 반응기는 오토크레이브 장치를 사용하며, 열원으로 마이크로웨이브파를 이용할 수 있다. 마이크로웨이브파를 이용한 폴리올 합성법의 열전달방식은, 분자의 구속력이 상대적으로 약한 액상의 물질에 마이크로웨이브파를 조사하여 액상 분자의 쌍극자가 마이크로웨이브파의 주파수에 따라 극성이 바뀌면서 빠른 속도로 회전 또는 병진운동을 하게 되기 때문에 분자 상호간에 마찰열이 발생하는데, 이러한 가열을 유전가열방식이라고 한다. 따라서 유전율이 크거나 작은 것이 혼재된 합성물에서 마이크로웨이브파는 유전율이 큰 곳인 액상의 물질로 선택적으로 침투되어 합성물의 내부까지 빠른 시간 내에 가열할 수 있으므로 합성시간과 에너지 비용 절감은 물론, 선택적 가열특성으로 인해 유기용제의 함량을 줄일 수 있고, 무용제 합성을 할 수도 있어 매우 친환경적인 방법이라고 할 수 있다. In addition, in the synthesis of tungsten bronze compounds, polyol synthesis may be used. The polyol synthesis method is a simple method for synthesizing a desired inorganic compound at high pressure and relatively low temperature, and the reactor uses an autoclave device. Microwave waves can be used. In the heat transfer method of polyol synthesis method using microwave waves, a microwave wave is irradiated to a liquid material having a relatively weak binding force, and the dipole of the liquid molecules rotates or translates at a high speed as the polarity changes according to the frequency of the microwave wave. Because of the movement, frictional heat is generated between molecules, and this heating is called dielectric heating. Therefore, in composites with a high or low dielectric constant, microwave waves can selectively penetrate into liquid materials with high dielectric constants and heat them up to the inside of the composites quickly, reducing synthesis time and energy costs, as well as selective heating characteristics. Due to the organic solvent content can be reduced, it can be said to be a very environmentally friendly way to synthesize a solvent.

한편, 텅스텐 브론즈 화합물의 전구체를 합성하는데 있어서 마이크로웨이브파 조사 시간은, 상기 각각의 전구체 화합물의 충분한 결합 및 합성을 유도하기 위해 100초~300초의 범위에서 조사되는 것이 바람직한데, 조사 시간이 100초 미만일 때는 반응물이 제대로 결합하여 핵 성장이 되지않아 미 반응물이 잔존할 수 있고, 300초 이상일 때는 너무 과도한 열원으로 인해 전구체의 핵 성장이 증가하여 원하는 나노 입자를 얻을 수 없게 되기 때문이며, 더욱 바람직하게는 120~180초의 범위에서 조사될 수 있다.On the other hand, in synthesizing the precursor of the tungsten bronze compound, the microwave irradiation time is preferably irradiated in the range of 100 seconds to 300 seconds in order to induce sufficient binding and synthesis of the respective precursor compounds, the irradiation time is 100 seconds If less than that, the reactants are properly bonded to prevent nuclear growth, so that the unreacted material may remain, and when it is more than 300 seconds, the nuclear growth of the precursor may increase due to an excessive heat source, thereby preventing the desired nanoparticles from being obtained. It can be irradiated in the range of 120 to 180 seconds.

이렇게 합성된 텅스텐 브론즈 화합물은 수산기(-OH)가 있는 상태로 존재하고 있어, 수산기 및 물 분자를 완전히 제거하고, 텅스텐 브론즈 화합물의 결정성을 형성하기 위해 1차 하소를 거치게 된다. 이때 특히 하소 온도는 200~500℃ 범위에서 유지되는 것이 바람직한데, 이는 하소 온도가 200℃ 미만일 때는 완전한 수산기 및 물 분자를 제거할 수 없어 수산기 및 물 분자가 잔존할 수 있으며 헥사고널 결정상이 될 수가 없다. 500℃ 이상일 때는 입자 성장이 진행될 수 있어 나노입자를 얻을 수 없어 최종 제품에 헤이즈를 일으킬 수 있는 원인을 제공하기 때문이며, 더욱 바람직하게는 300~400℃ 범위에서 1차 하소가 이루어질 수 있다.The tungsten bronze compound thus synthesized is in the state of having a hydroxyl group (-OH), and undergoes primary calcination to completely remove the hydroxyl group and water molecules and form crystallinity of the tungsten bronze compound. At this time, the calcination temperature is preferably maintained in the range of 200 ~ 500 ℃, when the calcination temperature is less than 200 ℃ can not remove the complete hydroxyl group and water molecules, the hydroxyl group and water molecules may remain and become hexagonal crystal phase none. This is because when the particle growth is more than 500 ℃ can not be obtained nanoparticles to provide a cause that can cause haze in the final product, more preferably the primary calcination can be made in the 300 ~ 400 ℃ range.

또한 상기 텅스텐브론즈 화합물은 액상 환원제를 투입하여 2차 환원소성을 시켜 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도할 수 있는데, 이러한 2차 환원소성은 폭발위험성이 있는 수소가스를 사용하지 않고, 폭발위험성이 없는 액상 환원제(히드라진, NaBH₄, LiAlBH₄, 히드라진 수화물, 포름알데히드)를 투입하여 환원시킴으로써 텅스텐브론즈 화합물에 산소 결핍현상을 주어 결정결함을 형성시키게 되는데, 이렇게 형성된 최종 텅스텐브론즈 화합물 분말은 짙은 청색을 띄게 된다. 수소가스를 사용하게 되면 가스를 주입해야 하는 고가의 특수 장비가 필요하게 될 뿐만 아니라, 만약 수소가스 주입 조건이 맞지 않을 경우 약간의 산소만으로도 큰 폭발로 연결되어 대형사고를 일으킬 수 있어 상당히 위험한 작업이 되므로, 이러한 작업상의 위험성을 줄이고 간편하게 기존의 소성장비를 이용할 수 있는 방법으로 액상 환원제를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the tungsten bronze compound may induce crystal defects of the tungsten bronze compound by adding a liquid reducing agent to secondary reduction firing, and the secondary reduction firing does not use an explosion gas, and there is no explosion risk. Reducing by adding liquid reducing agents (hydrazine, NaBH ₄ , LiAlBH ₄ , hydrazine hydrate, formaldehyde) to give oxygen deficiency to the tungsten bronze compound to form a crystal defect, the final tungsten bronze compound powder is formed in a dark blue do. The use of hydrogen gas not only requires expensive special equipment to inject gas, but if the hydrogen gas injection conditions are not met, it can lead to a big explosion with a little oxygen, which can cause a big accident. Therefore, it is desirable to use the liquid reducing agent in such a way that it is possible to reduce the operational risk and to simply use the existing firing equipment.

본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물의 분말은 그 입자 하나는 나노 입자이지만 서로 응집되어 있어 광학적인 특성을 발휘하지 못한다. 따라서 나노입자로 단 분산 되어야지만 비로써 광학 특성이 나타나게 된다. 그러므로 분산 졸을 제조할 필요성이 있으며, 본 발명에서 분산 졸의 조성은 텅스텐브론즈 분말, 분산제, 유기용제를 포함하는데, 분산 졸에 있어서 텅스텐브론즈 분말의 함량은 20~30 중량% 가 바람직하다. 텅스텐브론즈 분말이 20 중량% 미만일 때는 최종 도막 형성시 낮은 두께에서 충분한 광학 특성을 발현하지 못하고, 텅스텐브론즈 분말이 30 중량% 이상일 때는 높은 고형분으로 인해 충분한 저장 안정성을 가지지 못해 분산 졸 자체가 경시 변화를 일으켜 겔화 되는 단점이 있다. 또한 분산 졸에 있어서 분산제 함량은 0.5~1 중량% 로 투입되는 것이 바람직하다. 분산제가 0.5 중량% 미만일 때는 충분한 분산 졸을 얻을 수 없으며, 1 중량% 이상일 때는 2차 가공시 표면에 분산제가 건조되지 못하고 잔존할 수 있어 표면 불량을 가져올 수 있기 때문이다.In the powder of the tungsten bronze compound according to the present invention, one particle thereof is a nanoparticle, but aggregates with each other, and thus does not exhibit optical properties. Therefore, it should be dispersed only as nanoparticles, but the optical properties will appear. Therefore, it is necessary to prepare a dispersion sol, the composition of the dispersion sol in the present invention comprises a tungsten bronze powder, a dispersant, an organic solvent, the content of tungsten bronze powder in the dispersion sol is preferably 20 to 30% by weight. When the tungsten bronze powder is less than 20% by weight, sufficient optical properties are not exhibited at low thickness during the final coating film formation, and when the tungsten bronze powder is more than 30% by weight, the solids do not have sufficient storage stability due to high solid content, and thus the dispersion sol itself changes with time. There is a disadvantage of gelation. In addition, the dispersant content in the dispersion sol is preferably added to 0.5 to 1% by weight. When the dispersant is less than 0.5% by weight, sufficient dispersing sol cannot be obtained, and when the dispersant is 1% by weight or more, the dispersant may remain on the surface during secondary processing and may cause surface defects.

또한 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물의 분산 졸은 볼밀 법에 의해 제조될 수 있는데, 볼밀 법은 일정한 용기에 분산시키고자 하는 분말과 용매(유기용제)를 넣고 여기에 분산제를 넣은 다음 지르코늄 비드를 넣고 돌리는 방식으로 아주 간편하고 대량생산에 용이한 방법으로 투입된 지르코늄 비드가 분말을 마찰 또는 전단응력을 가하여 1차 입자에서 응집화되어 있던 분말을 조금씩 떼어내거나 분리시키는 작용으로 분산이 이루어지게 된다.In addition, the dispersion sol of the tungsten bronze compound according to the present invention may be prepared by a ball mill method, in which the powder and the solvent (organic solvent) to be dispersed are put in a predetermined container, a dispersant is added thereto, and then zirconium beads are added. Zirconium beads, which are put in a very simple and easy way for mass production by turning, apply friction or shear stress to the powder to separate or separate the agglomerated powder from the primary particles little by little.

한편 텅스텐브론즈 분산 졸은 상기 기재층(10)에 코팅되기 전에 텅스텐 브론즈 코팅 졸 형태로 형성되는데, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 코팅 졸은 텅스텐 브론즈 분산 졸, 바인더, 유기용제를 포함하는데, 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. 분산 졸 40 중량% 보다 적게 투입되면 광학특성이 떨어지고 반면에 너무 많이 넣게 되면 바인더의 비율이 떨어져 도막 부착력이 떨어지거나 표면 내스크래치성이 떨어질 수 있기 때문이다. 텅스텐브론즈 코팅 졸에 있어서 바인더는 기재인 플라스틱 필름과 결합을 용이하게 하고, 도막 두께를 단위로 조절할 수 있는 역할도 하게 된다. 본 발명에서 사용되는 바인더는 광중합체로서 UV 조사에 의해 광중합을 일으키는 올리고머 및 모너머 그리고 광개시제로 구성되어 진다. 텅스텐브론즈 코팅 졸에 있어서 유기용제는 메틸에틸케톤, 톨루엔, 에틸아세테이트, 이소프로필알콜, 에칠셀로솔브, 이소부틸알콜, 디메틸포미드, 에탄올, 부틸셀로솔브, 크실렌, 1-옥타놀,디에틸렌, 글리콜, 니트로밴젠 중에서 선택된 1 또는 2 이상으로 이루어질 수 있다.Meanwhile, the tungsten bronze dispersion sol is formed in the form of a tungsten bronze coating sol before being coated on the base layer 10. The tungsten bronze coating sol according to the present invention includes a tungsten bronze dispersion sol, a binder, and an organic solvent, and a tungsten bronze compound It is preferable to contain 40-50 weight% of dispersion sol, 40-50 weight% of photopolymers, and 10-20 weight% of the organic solvent. If less than 40% by weight of the dissolving sol is reduced the optical properties, while if too much of the binder ratio is lowered because the coating film adhesion or surface scratch resistance may be reduced. In the tungsten bronze sol, the binder facilitates bonding with the plastic film as a base material and also serves to control the thickness of the coating film. The binder used in the present invention is composed of oligomers and monomers and photoinitiators which cause photopolymerization by UV irradiation as photopolymers. In the tungsten bronze coating sol, the organic solvent is methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, isopropyl alcohol, ethyl cellosolve, isobutyl alcohol, dimethylformide, ethanol, butyl cellosolve, xylene, 1-octanol, di It may consist of one or two or more selected from ethylene, glycol, nitrovanzene.

본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸은 상기 기재층(10)에 마이크로그라비아 코팅, 나이프 코팅 및 롤투롤 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅되고, UV 조사하여 열차단층을 형성하게 되는데, 이 중 특히 마이크로그라비아 코팅설비를 통해 코팅되는 경우에 마이크로그라비아 코팅설비는 대면적 코팅에 있어서 가장 평탄한 도막 표면을 나타내고 생산성 또한 다른 설비보다 높다는 장점이 있다. 코팅도막 두께는 3~4㎛가 가장 바람직하다. 코팅 도막 두께가 3㎛ 이하일 때는 광학 특성을 발현하지 못하고, 표면 내스크래치성이 떨어지는 단점이 발생하며, 코팅 도막 두께가 4㎛ 이상일 때는 하드한 UV 코팅층이 형성되어 기재와 부착력이 떨어질 수 있는 단점이 있기 때문이다.The tungsten bronze compound coating sol according to the present invention is coated on the base layer 10 by any one of a microgravure coating, a knife coating and a roll-to-roll coating method, and forms a thermal barrier layer by UV irradiation. In the case of coating through the microgravure coating equipment, the microgravure coating equipment has the advantage of showing the flattened coating surface in the large area coating and the productivity is higher than that of other equipment. The coating film thickness is most preferably 3 ~ 4㎛. When the coating film thickness is 3㎛ or less, the optical properties are not expressed, and the surface scratch resistance is inferior, and when the coating film thickness is 4㎛ or more, a hard UV coating layer is formed, so that the adhesive strength with the substrate may be reduced. Because there is.

도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름은 상기 열차단층(20)의 상기 기재층(10)과 접하지 않은 면에 점착 층(30)을 추가로 포함하여 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있는 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 2, in the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention, an adhesive layer 30 is added to a surface of the thermal barrier layer 20 that is not in contact with the base layer 10. Including as it can be bonded to the glass of a building or a vehicle.

상기 점착층(30)은 상기 열차단층(20)의 일면에 형성되어 본 발명에 따른 열차단필름을 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있도록 하는 역할을 하는데, 상기 점착층(30)의 점착성은 주로 고분자 사슬의 분자량, 분자량 분포, 또는 분자구조의 존재량에 의존하고, 특히 분자량에 의하여 결정되므로 아크릴계공중합체는 중량평균분자량이 80만~20만인 것이 바람직하다. 한편, 탄소수 1~12의 알킬기를 가지는 메타아크릴레이트 모노머는 아크릴계 공중합체에 90~99.9 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 이는 상기 메타아크릴레이트 모노머가 아크릴계공중합체에 90 중량% 미만일 경우에는 초기 점착력이 저하된다는 문제점이 있으며, 99.9 중량%를 초과할 경우에는 응집력 저하로 인해 내구성에 문제가 발생할 수 있기 때문이다.The adhesive layer 30 is formed on one surface of the thermal barrier layer 20 serves to bond the thermal barrier film according to the present invention to a glass such as a building or a vehicle, the adhesiveness of the adhesive layer 30 Silver depends mainly on the molecular weight of the polymer chain, the molecular weight distribution, or the amount of molecular structure present, and in particular, it is preferable that the acrylic copolymer has a weight average molecular weight of 800,000 to 200,000. On the other hand, it is preferable that the methacrylate monomer which has a C1-C12 alkyl group is contained by 90 to 99.9 weight% in an acryl-type copolymer. This is because when the methacrylate monomer is less than 90% by weight of the acrylic copolymer, there is a problem in that the initial adhesive strength is lowered, and when it exceeds 99.9% by weight, problems in durability may occur due to the decrease in cohesion.

도 3을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름은 상기 점착층(30)의 상기 열차단층(20)과 접하지 않은 면에 이형지(40)를 추가로 포함하여 외부표면을 보호할 수 있는 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 3, in the thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention, a release paper 40 is added to a surface which is not in contact with the thermal barrier layer 20 of the adhesive layer 30. Including as it can protect the outer surface.

상기 이형지(40)는 상기 점착층(30)의 일면에 형성되어 건물 또는 차량 등의 유리에 접착되기 전까지 상기 점착층(30)의 외부 표면을 보호하는 역할을 하는데, 상기 이형지(40)는 바람직하게 PET기재에 실리콘 코팅 처리된 필름을 사용하게 된다. 실리콘 코팅 처리가 되어 있지 않으면 최종 제조된 열차단필름을 유리에 시공시 이형지(40)를 분리하게 되는데 이때 상기 점착층(30)과 이형지(40)가 분리되지 않게 되는 문제점이 있기 때문이다.The release paper 40 is formed on one surface of the adhesive layer 30 and serves to protect the outer surface of the adhesive layer 30 until it is adhered to glass such as a building or a vehicle, and the release paper 40 is preferable. PET-based silicone coated film is used. If the silicon coating process is not performed, the release paper 40 is separated when the final thermal barrier film is constructed on glass, because the adhesive layer 30 and the release paper 40 are not separated.

도 4는 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도이고, 도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도이다.Figure 4 is a block diagram of a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention, Figure 5 is a block diagram of a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention. 6 is a block diagram of a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법은 폴리올합성법을 사용하여 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 갖는 텅스텐브론즈 화합물을 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 제조단계(S1)와, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 온도 200~500℃ 범위에서 하소를 시켜 수산기를 제거하고 텅스텐브론즈 화합물의 헥사고널 결정성을 형성하는 1차 하소단계(S2)와, 상기 수산기가 제거된 텅스텐브론즈 화합물에 액상 환원제를 투입하여 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 2차 환원소성단계(S3)와, 상기 2차 환원소성단계를 거친 텅스텐브론즈 화합물 분말을 분산 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계(S4)와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸을 코팅 졸 형태로 제조하는 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계(S5)와, 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸을 기재층(10)의 표면에 코팅하여 열차단층(20)을 형성하는 열차단층 코팅단계(S6)를 포함하는 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 4, a method of manufacturing a thermal _barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention is A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , using a polyol synthesis method. A tungsten bronze compound preparation step (S1) of preparing a tungsten bronze compound having a _pervosky structure of A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ form and the tungsten bronze compound The calcination in the temperature range of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and to form the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound (S2) and the tungsten bronze by adding a liquid reducing agent to the tungsten bronze compound from which the hydroxyl group is removed A secondary reduction firing step (S3) of inducing crystal defects of the compound, a tungsten bronze compound dispersion sol manufacturing step (S4) of producing a tungsten bronze compound powder subjected to the secondary reduction firing step in the form of a dispersion sol, and the tungsten Bronze Compound Dispersion Sol Tungsten bronze compound coating sol manufacturing step (S5) prepared in the form of a coating sol, and the thermal barrier layer coating step (S6) to form a thermal barrier layer 20 by coating the tungsten bronze compound coating sol on the surface of the base layer 10 Characterized in that it comprises a.

상기 텅스텐브론즈 화합물 제조단계(S1)는 특히 폴리올합성법을 사용하여 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 갖는 텅스텐브론즈 화합물을 제조하는 공정으로, 이때 텅스텐브론즈 화합물은 A(B_(X≤0.67),B'_(1-X≥0.33))O₃, A(B_(X≤0.33),B'_(1-X≥0.67))O₃ 형태의 페르보스카이트 구조를 형성하고, 상기 A는 알칼리금속 내지 알칼리토금속을 포함하고 상기 B, B'는 천이금속류(Mg,Zr,Cr,Mn,Fe,Ru,Co,Rh,Ir,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au,Zn,Cd,Al,Ga,In,Ti,Si,Ge,Sn,Pb,W) 중에서 선택된 1종류 이상의 원소 또는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는데, 그에 대한 상세한 설명은 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다. 또한, 상기 텅스텐브론즈 화합물을 제조하기 위해 사용되는 폴리올합성법은 높은 압력과 상대적으로 낮은 온도로 원하는 무기화합물을 합성할 수 있는 간편한 방법으로 이때 반응기는 오토크레이브 장치를 사용하며, 열원으로 마이크로웨이브파를 이용할 수 있는데, 그에 대한 상세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.The tungsten bronze compound preparing step (S1) is particularly performed using polyol synthesis method A (B _(X≤0.67) , B ' _(1-X≥0.33) ) O ₃ , A (B _(X≤0.33) , B' _{( 1-X ≧ 0.67)} ) A process for preparing a tungsten bronze compound having a _pervosky structure of the form of O ₃ , wherein the tungsten bronze compound is A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≤ 0.33)} , B ' _{(1-X ≥ 0.67)} ) forms a _pervosky structure of the form O ₃ , wherein A comprises an alkali metal to an alkaline earth metal and the B, B' Transition metals (Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Ti, Si, Ge, Sn, Pb, W) is characterized in that it comprises one or more elements or compounds selected from the detailed description thereof is as described above will be omitted here to avoid overlapping substrates. In addition, the polyol synthesis method used to prepare the tungsten bronze compound is a simple method of synthesizing the desired inorganic compound at high pressure and relatively low temperature. The reactor uses an autocrab device, and the microwave source is used as a heat source. Although the detailed description thereof is also the same as described above, it will be omitted here in order to avoid redundant descriptions.

상기 1차 하소단계(S2)는 상기 텅스텐브론즈 화합물 제조단계(S1)에서 합성된 텅스텐 브론즈 화합물이 수산기(-OH)가 있는 상태로 존재하고 있기 때문에 수산기 및 물 분자를 완전히 제거하고, 텅스텐 브론즈 화합물의 결정성을 형성하기 위해 진행하는 공정으로, 이때 특히 하소 온도는 200~500℃ 범위에서 유지되는 것이 바람직한데, 그에 대한 상세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.In the first calcination step (S2), since the tungsten bronze compound synthesized in the tungsten bronze compound production step (S1) exists in the state where hydroxyl group (-OH) exists, the hydroxyl group and water molecules are completely removed, and the tungsten bronze compound In order to proceed to form the crystallinity of, in particular, the calcination temperature is preferably maintained in the range of 200 ~ 500 ℃, the detailed description thereof as described above will be omitted here in order to avoid overlapping substrates.

상기 2차 환원소성단계(S3)는 상기 텅스텐브론즈 화합물에 액상 환원제를 투입하여 2차 환원소성을 시켜 텅스텐브론즈 화합물의 결정 결함을 유도하는 공정으로, 특히 본 발명에 따른 2차 환원소성단계(S3)는 폭발위험성이 있는 수소가스를 사용하지 않고, 폭발위험성이 없는 액상 환원제(히드라진, NaBH₄, LiAlBH₄, 히드라진 수화물, 포름알데히드)를 투입하여 환원시킴으로써 텅스텐브론즈 화합물에 산소 결핍현상을 주어 결정결함을 형성시키게 되는데, 그에 대한 상세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.The secondary reduction firing step (S3) is a process of inducing crystal defects of the tungsten bronze compound by injecting a liquid reducing agent into the tungsten bronze compound to secondary reduction firing, in particular, the secondary reduction firing step (S3) according to the present invention. ) Does not use explosive hydrogen gas and reduces liquid by adding liquid reducing agents (hydrazine, NaBH ₄ , LiAlBH ₄ , hydrazine hydrate, formaldehyde) without explosion risk. It will be formed, the detailed description thereof is also as described above will be omitted here in order to avoid overlapping.

상기 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조단계(S4)는 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물의 분말은 서로 응집되어 있어 광학적인 특성을 발휘하지 못하므로 나노입자로 단 분산시킴으로써 광학 특성을 나타낼 수 있도록 분산 졸을 제조하는 공정으로, 본 발명에서 분산 졸의 조성은 텅스텐브론즈 분말, 분산제, 유기용제를 포함하며 그 함량은 분산제 0.5~1 중량%, 유기용제 70~80 중량%, 텅스텐브론즈 화합물 분말 20~30 중량%를 포함하는 것이 바람직한데, 그에 대한 상세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.In the tungsten bronze compound dispersing sol manufacturing step (S4), the powder of the tungsten bronze compound according to the present invention is agglomerated with each other, and thus does not exhibit optical properties. In the process, the composition of the dispersion sol in the present invention comprises tungsten bronze powder, dispersant, organic solvent content of 0.5 to 1% by weight of dispersant, 70 to 80% by weight of organic solvent, 20 to 30% by weight of tungsten bronze compound powder It is preferable to include, the detailed description thereof is also as described above, so it will be omitted here in order to avoid overlapping.

상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸 제조단계(S5)는 상기 텅스텐브론즈 분산 졸을 상기 기재층(10)에 코팅하기 전에 텅스텐 브론즈 코팅 졸 형태로 형성하는 공정으로, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 코팅 졸은 텅스텐 브론즈 분산 졸, 바인더, 유기용제를 포함하며 그 함량은 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 40~50 중량%, 광중합체 40~50 중량%, 유기용제 10~20 중량%를 포함하는 것이 바람직한데, 그에 대한 상 세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.The tungsten bronze compound coating sol manufacturing step (S5) is a process of forming the tungsten bronze dispersion sol in the form of a tungsten bronze coating sol before coating on the base layer 10, the tungsten bronze coating sol according to the present invention is tungsten bronze It includes a dispersion sol, a binder, an organic solvent, the content of which is preferably 40 to 50% by weight tungsten bronze compound dispersion sol, 40 to 50% by weight photopolymer, 10 to 20% by weight organic solvent, Since the description is also the same as described above, it will be omitted here in order to avoid duplication.

상기 열차단층 코팅단계(S6)는 상기 텅스텐브론즈 화합물 코팅 졸을 상기 기재층(10)에 마이크로그라비아 코팅, 나이프 코팅 및 롤투롤 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅하고, UV 조사하여 열차단층을 형성하는 공정으로, 그에 대한 상세한 설명 역시 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.In the thermal barrier coating step (S6), the tungsten bronze compound coating sol is coated on the base layer 10 by any one of a microgravure coating, a knife coating, and a roll-to-roll coating method, and UV radiation is formed to form a thermal barrier layer. In the process, the detailed description thereof is also as described above, and will be omitted here to avoid duplicated materials.

도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법은 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있도록 상기 열차단층(20)의 상기 기재층(10)과 접하지 않은 면에 점착층(30)을 형성하는 점착층 코팅단계(S7)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 5, in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention, the base layer 10 of the thermal barrier layer 20 may be adhered to glass such as a building or a vehicle. It characterized in that it further comprises a pressure-sensitive adhesive layer coating step (S7) to form a pressure-sensitive adhesive layer 30 on the surface that is not in contact with.

상기 점착층 코팅단계(S7)는 상기 열차단층(20)의 상기 기재층(10)과 접하지 않은 면에 점착층(30)을 형성하는 공정으로, 상기 점착층(30)이 형성됨으로 인해 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름을 건물 또는 차량 등의 유리에 접착할 수 있게 되는데 상기 점착층(30)에 대한 설명은 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.The adhesive layer coating step (S7) is a process of forming the adhesive layer 30 on the surface not in contact with the base layer 10 of the thermal barrier layer 20, because the adhesive layer 30 is formed The thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention can be adhered to glass such as a building or a vehicle. Since the description of the adhesive layer 30 is as described above, it will be omitted here to avoid overlapping materials. .

도 6을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법은 상기 점착층(30)의 외부표면을 보호하기 위하여 상기 점착층(30)의 상기 열차단층(20)과 접하지 않은 면에 이형지(40)를 부착하는 이형지 부착단계(S8)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 6, in the method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another exemplary embodiment of the present invention, the train of the adhesive layer 30 may be used to protect an outer surface of the adhesive layer 30. It characterized in that it further comprises a release paper attaching step (S8) for attaching the release paper 40 to the surface not in contact with the single layer (20).

상기 이형지 부착단계(S8)는 상기 점착층(30)의 상기 열차단층(20)과 접하지 않은 면에 이형지(40)를 부착하는 공정으로, 상기 이형지(40)를 부착함으로써 상기 점착층(30)의 외부표면을 보호할 수 있게 되는데 상기 이형지(40)에 대한 설명은 앞서 기재된 바와 같으므로 중복기재를 피하기 위해 여기서는 생략하기로 한다.The release paper attaching step (S8) is a process of attaching the release paper 40 to a surface not in contact with the thermal barrier layer 20 of the adhesive layer 30, by attaching the release paper 40 to the adhesive layer 30 It is possible to protect the outer surface of the). Since the description of the release paper 40 is as described above, it will be omitted here in order to avoid overlapping substrates.

이하에서 출원인은 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 효과를 입증하기 위해 텅스텐브론즈 화합물 입자의 크기, 텅스텐브론즈 화합물의 핵사고널 결정성 및 가장 우수한 가시광선 투과율과 적외선 차단율을 나타내는 조건들을 아래의 시험을 통해 밝혀내었다.In order to demonstrate the effect of the thermal barrier film containing the tungsten bronze compound according to the present invention, the applicant shows the size of the tungsten bronze compound particles, nuclear accidental crystallinity of the tungsten bronze compound and the best visible light transmittance and infrared ray blocking rate The conditions were revealed through the following test.

(1) 시편의 준비(1) Preparation of the Psalms

1) 시험예 11) Test Example 1

텅스텐브론즈 화합물의 출발원료로는 염화텅스텐, 황산화텅스텐, 텅스텐수화물, 알킬화텅스텐 중에서 염화텅스텐 50 중량%를 알코올 중에 용해시키고, 같은 천이금속으로 염화몰리브덴, 황산화몰리브덴, 몰리브덴수산화물, 알킬화몰리브덴 중에서 염화몰리브덴 101.5 중량%을 알코올 중에 용해시켰고, 양성원소로는 수산화나트륨, 염화나트륨, 황산나트륨, 질산나트륨 중에서 염화나트륨 300 중량%를 같은 알코올 중에 용해시켜 마이크로웨이브 열원을 사용한 오토클레이브 장치로 합성을 하였다. 이때 마이크로웨이브파 용량은 (3kw 급 실험실용, 한국고주파응용기기)이 며 출력 800w, 주파수 4GHz로 120~180초 동안 합성하였다. 수화물 상태의 텅스텐브론즈 화합물을 얻은 후, 1차 하소를 위해 300~400의 온도로 약 1시간동안 소성을 하였다. 이후 얻어진 텅스텐 브론즈 화합물 분말을 2차 환원소성을 위해 액상 환원제인 히드라진을 180 중량% 넣고 온도를 300~400, 환원소성 시간을 1시간~2시간으로 한다. 이렇게 얻어진 분말을 분산 졸 형태로 제조하기 위해서 환원소성 된 분말 20 중량%에 분산제 0.5 중량% 와 유기용매 80 중량%를 넣고 0.5mm 지르코늄비드를 전체 충진량에 30%를 넣어 볼밀을 행한다. 이때 분산시간은 10시간 동안 행하였으며, 얻어진 분산졸은 고형분이 20 중량% 이다. 광중합체 바인더 50 중량%에 분산졸 40 중량%를 넣은 후 유기용제로 MEK 10 중량%를 투입시켜 코팅졸을 완성한다. 완성된 코팅졸은 기재층(10)인 PET 필름 위에 코팅시켜 도막 두께가 3~4㎛ 되도록 한다. 열차단층(20)이 코팅된 배면에 6~7㎛ 두께로 점착층(30)을 형성하여 이형지(40)과 합지하여 최종 열차단 필름을 완성하게 된다. 상기 열차단 필름을 가로 145mm * 세로 145mm로 절단하여 시험예 1을 준비하였다.From a raw material of the tungsten bronze compounds is chloride tungsten, sulfated tungsten, tungsten hydrate, flower alkylation tungsten from was dissolved in 50% by weight chloride tungsten alcohol, chloride, molybdenum in the same transition metal sulfate, molybdenum, molybdenum hydroxide, from the alkylation molybdenum chloride 101.5% by weight of molybdenum was dissolved in alcohol, and 300% by weight of sodium chloride in sodium hydroxide, sodium chloride, sodium sulfate, and sodium nitrate was dissolved in the same alcohol as a positive element, and synthesized by an autoclave apparatus using a microwave heat source. At this time, the microwave capacity is (3kw class laboratory, Korea high frequency applications) and synthesized for 120 ~ 180 seconds with the output 800w, frequency 4GHz. After obtaining the hydrated tungsten bronze compound, it was calcined for about 1 hour at a temperature of 300 ~ 400 for the first calcination. Thereafter, the obtained tungsten bronze compound powder was charged with 180 wt% of hydrazine, which is a liquid reducing agent, for secondary reduction firing, and the temperature was 300 to 400 and the reducing firing time was 1 hour to 2 hours. In order to prepare the powder thus obtained in the form of a dispersion sol, ball milling is performed by adding 0.5 wt% of a dispersant and 80 wt% of an organic solvent to 20 wt% of the reduced calcined powder , and adding 30% of 0.5 mm zirconium beads to the total filling amount. At this time, the dispersion time was carried out for 10 hours, the resulting dispersion sol is 20% by weight of solids. 40 wt% of the dispersion sol was added to 50 wt% of the photopolymer binder, and 10 wt% of MEK was added to the organic solvent to complete the coating sol. The finished coating sol is coated on the PET film as the base layer 10 so that the coating thickness is 3 ~ 4㎛. Forming the adhesive layer 30 to the thickness of 6 ~ 7㎛ on the back surface coated with the thermal barrier layer 20 is laminated with the release paper 40 to complete the final thermal barrier film. Test Example 1 was prepared by cutting the thermal barrier film into a width of 145 mm * length 145 mm.

2) 시험예 22) Test Example 2

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분말 합성 제조과정 중에서 출발원료인 염화나트륨 대신 염화세슘 300 중량%를 투입하는 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 시험예 2를 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물의 조성에서 양성원소가 기존의 나트륨에서 세슘으로 교체 투입되었다 )In Test Example 1, Test Example 2 was prepared under the same conditions as in Test Example 1, except that 300 wt% of cesium chloride was added instead of sodium chloride as a starting material in the tungsten bronze compound powder synthesis process. (In other words, the positive element in the composition of the tungsten bronze compound was replaced with sodium from cesium.)

3) 시험예 33) Test Example 3

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분말 합성과정 중에 출발 원료로 염화몰리브덴 대신 염화니켈 101.5 중량%를 투입하는 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 시험예 3을 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물의 조성에서 천이금속원소중 기존의 염화몰리브덴에 염화니켈로 교체 투입되었다)In Test Example 1, Test Example 3 was prepared under the same conditions as in Test Example 1 except that 101.5% by weight of nickel chloride instead of molybdenum chloride was added as a starting material during the tungsten bronze compound powder synthesis process. (I.e., nickel chloride was added to molybdenum chloride in the transition metal element in the composition of tungsten bronze compound)

4) 시험예 44) Test Example 4

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분말 합성과정 중에 출발 원료로 염화텅스텐 101.5 중량%를 투입하고 염화몰리브덴 50 중량%를 투입하고, 염화나트 륨 300 중량% 대신 염화세슘 300 중량% 투입하는 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 시험예 4를 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물의 조성에서 천이금속원소 중 기존의 염화텅스텐 과 염화몰리브덴의 비율을 다르게 하고, 양성원소가 기존의 나트륨에서 세슘으로 교체 투입되었다)In Test Example 1, 101.5% by weight of tungsten chloride, 50% by weight of molybdenum chloride , and 300% by weight of cesium chloride instead of 300 % by weight of sodium tungsten were used as starting materials during the synthesis of tungsten bronze compound powder. Test Example 4 was prepared under the same conditions as in Example 1. (In other words, in the composition of the tungsten bronze compound, the ratio of tungsten chloride and molybdenum chloride in the transition metal element was changed, and the positive element was replaced with sodium from cesium.)

5) 시험예 55) Test Example 5

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분말 합성과정 중 환원소성 단계에서 액상 환원제로 히드라진 대신 NaBH ₄ 를 180 중량% 투입하는 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 시험예 5를 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물의 환원소성 단계에서 기존의 히드라진에서 NaBH₄으로 교체 투입된 것이다)In Test Example 1, Test Example 5 was prepared under the same conditions as in Test Example 1, except that 180 wt% of NaBH ₄ was used instead of hydrazine as the liquid reducing agent in the reducing firing step in the tungsten bronze compound powder synthesis process. (In other words, in the reduction firing step of the tungsten bronze compound, it was replaced with NaBH ₄ from the existing hydrazine.)

6) 시험예 66) Test Example 6

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸 제조과정 중 환원소성 된 분말 30 중량%에 분산제 0.5 중량% 과 유기용매 70 중량%로 최종 분산졸 고형분이 30 중량%되게 하는 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 시험예 6을 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물 분산 졸을 기존의 20 중량%에서 30 중량%로 고형분을 높게 하는 것이다)In Test Example 1, except that 30 wt% of the reduced fired powder , 0.5 wt% of the dispersant, and 70 wt% of the organic solvent in the process of preparing the tungsten bronze compound dispersion sol were used to make the final dispersion sol solids 30 wt%. Test Example 6 was prepared under the conditions. (That is, to increase the solid content of the tungsten bronze compound dissolving sol from 20% by weight to 30% by weight)

7) 비교예 17) Comparative Example 1

시험예 1에 있어서, 텅스텐브론즈 화합물 분말 합성과정 중에 출발 원료로 염화텅스텐 151.5 중량%를 투입 것 이외에는 시험예 1과 같은 조건에서 비교예 1을 준비하였다. (즉 텅스텐브론즈 화합물의 조성에서 천이금속 원소 중 기존의 염화텅스텐 과 염화몰리브덴에서 염화텅스텐만을 투입한 것으로, 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물과 달리 A_xW₁O_y형태의 구조를 갖게 된다)In Test Example 1, Comparative Example 1 was prepared under the same conditions as in Test Example 1, except that 151.5% by weight of tungsten chloride was added as a starting material during the synthesis of tungsten bronze compound powder. (In other words, in the composition of the tungsten bronze compound, only tungsten chloride is introduced from the conventional tungsten chloride and molybdenum chloride among the transition metal elements, and unlike the tungsten bronze compound according to the present invention, it has a structure of A _x W ₁ O _y form)

(2) 시험 1 - 입자크기의 관찰(2) Test 1-Observation of Particle Size

-시험 목적: 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물의 입자 크기를 측정Test purpose: Determination of the particle size of the tungsten bronze compound according to the present invention

-시험 조건: 입자 관찰 사진은 HITACHI(JAPAN) S-2400 SEM(scanning electron microscope) 이미지이며, 30kw로 100000배 배율로 촬영한 것이다.-Test condition: The particle observation photograph is a HITACHI (JAPAN) S-2400 scanning electron microscope (SEM) image, taken at 30 0000 times magnification.

-결과 고찰: 도 7은 시험예 4의 폴리올 합성법으로 합성된 텅스텐브론즈 화합물 입자의 SEM사진이고, 도 8은 비교예 1의 폴리올 합성법으로 합성된 텅스텐브론즈 화합물 입자의 SEM사진이다. 도 7에 도시된 바와 같이 시험예 4의 입자크기는 20~30nm 이며, 입자모양은 균일한 둥근 형태를 나타내고 있음을 확인할 수 있었다. 반면에, 도 8에 도시된 SEM 이미지는 천이금속 중 텅스텐 단일원소만을 사용한 비교예 1의 입자 사진으로, 도 8에 나타난 입자크기는 약 100~200nm 이고, 입자 모양 또한 일정하지 못한 것을 확인할 수 있었다. 따라서 텅스텐 외 다른 금속원소를 첨가하는 것이 입자크기 및 입자모양에 더 양호한 결과를 가진다는 것을 알 수 있었다.-Result Discussion: FIG. 7 is an SEM photograph of the tungsten bronze compound particles synthesized by the polyol synthesis method of Test Example 4, and FIG. 8 is an SEM photograph of the tungsten bronze compound particles synthesized by the polyol synthesis method of Comparative Example 1. As shown in FIG. 7, the particle size of Test Example 4 was 20 to 30 nm, and the particle shape showed a uniform round shape. On the other hand, the SEM image shown in Figure 8 is a particle picture of Comparative Example 1 using only a tungsten single element of the transition metal, the particle size shown in Figure 8 was about 100 ~ 200nm, it could be confirmed that the particle shape is also not constant. . Therefore, it was found that the addition of metal elements other than tungsten had better results in particle size and particle shape.

(3) 시험 2 - XRD 결정성의 관찰(3) Test 2-Observation of XRD Crystallinity

-시험 목적: 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물의 핵사고널 결정성 확인-Objective purpose: Confirmation of nuclear accidental crystallinity of tungsten bronze compound according to the present invention

-시험 조건: XRD 관찰은 PHILIPS(Netheland), X'Pert-MPD System을 사용하여 측정하였다.Test conditions: XRD observations were measured using PHILIPS (Netheland), X'Pert-MPD System.

-결과 고찰: 도 9는 시험예 4의 폴리올 합성법으로 합성된 텅스텐브론즈 화합물의 결정성을 나타내는 XRD 그래프이다. 도 9에 도시된 바와 같이 시험예 4는 헥사고널 결정성을 나타내고 있다. XRD 값은 2.0.0 면에서 2θ27.8 , 1.0.2 면에서 2θ27.23 , 1.1.2 면에서 2θ232 , 0.0.2 면에서 2θ23.36의 값으로서 텅스텐브론즈 화합물의 천이금속 원소 중 텅스텐 원소 외 몰리브덴이 첨가되어 헥사고널 결정성으로 잘 합성된 것을 확인할 수 있었다.-Result Discussion: FIG. 9 is an XRD graph showing the crystallinity of the tungsten bronze compound synthesized by the polyol synthesis method of Test Example 4. As shown in FIG. 9, Test Example 4 shows hexagonal crystallinity. The XRD values are 2θ27.8 at 2.0.0, 2θ27.23 at 1.0.2, 2θ232 at 1.1.2, and 2θ23.36 at 0.0.2, and other tungsten elements among the transition metal elements of the tungsten bronze compound. It was confirmed that molybdenum was well synthesized with hexagonal crystallinity.

(4) 시험 3 - 가시광선 투과율 및 적외선 차단율 관찰(4) Test 3-Observation of visible light transmittance and infrared ray blocking rate

-시험 목적: 텅스텐브론즈 화합물의 제조 과정에 따른 가시광선 투과 및 적외선 차단 특성을 비교, 즉 텅성을 관찰Test purpose: To compare the visible light transmission and infrared ray blocking properties according to the manufacturing process of tungsten bronze compound, that is, to observe the tungsten

-시험 조건: 가시광선 투과 및 적외선 차단 관찰은 JASCO (JAPAN) 650 UV/VIS spectrometer 으로 baseline을 공기 중에 설정하여 측정하였다.Test conditions: Visible light transmission and infrared blocking observations were measured by setting the baseline in air with a JASCO (JAPAN) 650 UV / VIS spectrometer.

-결과 고찰: 시험 결과는 아래의 표 1과 같다.Review of results: The test results are shown in Table 1 below.

구 분division 시험예 1Test Example 1 시험예 2Test Example 2 시험예 3Test Example 3 시험예 4Test Example 4 시험예 5Test Example 5 시험예 6Test Example 6 가시광선 투과율%(400~780㎚)Visible light transmittance% (400-780nm)
65
65
66
66
50
50
78
78
60
60
50
50 적외선 차단율%
(780~2200㎚)Infrared ray blocking rate
(780-2200 nm)
70
70
73
73
55
55
89
89
60
60
80
80

{가시광선 투과율은 400~780nm의 투과율을 나타낸 것이고, 적외선 차단율은 780~2200 nm 투과율에서 100를 뺀 값으로 나타내었다}{Visible light transmittance is shown to be 400 ~ 780nm transmittance, infrared blocking rate is shown as 780 ~ 2200 nm transmittance minus 100}

상기 표 1을 참조하면, 시험예 2와 시험예 4가 광학특성이 양호하고 그 중 특히 시험예 4가 가장 광학특성이 양호하다는 것을 확인할 수 있다. 도 10은 시험예 4의 텅스텐브론즈 화합물의 UV/VIS 투과 그래프인데, 상기 그래프에서 X축은 파장 범위로서 우리가 흔히 알고 있는 가시광선 영역으로는 400~780㎚이고 열선 파장으로 알고 있는 근적외선 영역으로는 800~2200㎚인데 상기 그래프에서 볼 수 있는 바와 같이 시험예 4는 가시광선 영역 중 대표적으로 측정 기준이 되는 파장인 550㎚ 투과율이 78~80%이고 근적외선 영역의 대표적인 파장인 950㎚ 투과율이 10% 이하로 차단율은 약 90% 정도로 나타나고 있는바, 광학특성이 월등히 양호하다는 것을 확인할 수 있습니다. 그러나, 시험예 1의 텅스텐 브론즈 화합물의 구성원소가 염화텅스텐 50 중량%와 염화몰리브덴 101.5 중량% , 염화나트륨 300 중량 %의 텅스텐 브론즈 화합물로 제조된 열차단 필름은 광학 특성이 떨어지며 입자크기가 100nm 이상이고 입자모양 또한 침상형인 것을 확인할 수 있었고, 시험예 3 역시 광학특성이 상당히 좋지 못하였는데 천이금속 니켈이 투입되면서 결정결함이 잘 형성되지 못하고 전자 공명효과 또한 떨어지는 것으로 보인다. 시험예 5는 액상 환원제 NaBH4 180 중량%으로 환원소성한 텅스텐브론즈 화합물로서 기존의 히드라진 환원제를 사용한 것보다 환원특성이 저하되어 산소결핍현상이 떨어지고 따라서 광학특성 또한 떨어지는 것으로 보인다. 시험예 6은 고농도 분산 졸을 제조한 것으로 같은 코팅 졸 배합에 투입되었을 때 상대적으로 높은 텅스텐브론즈 화합물의 투입량으로 인해 낮은 가시광선 투과율을 보이는 반면 적외선 차단율은 높은 것으로 나타났다.Referring to Table 1, it can be seen that Test Example 2 and Test Example 4 has a good optical characteristics, especially Test Example 4 is the most excellent optical properties. 10 is a UV / VIS transmission graph of the tungsten bronze compound of Test Example 4, wherein the X-axis is a wavelength range, 400-780 nm in the visible light region, which is commonly known, and in the near-infrared region known as the hot ray wavelength. As can be seen in the graph, Test Example 4 has a 550 nm transmittance of 78 to 80%, which is a wavelength of measurement, and a 950 nm transmittance of 10%, which is a representative wavelength of near infrared region. Below, the blocking rate is about 90%, indicating that the optical characteristics are very good. However, the thermal barrier film made of tungsten bronze compound composed of 50% by weight of tungsten chloride, 101.5% by weight of molybdenum chloride, and 300% by weight of sodium chloride as a member of the tungsten bronze compound of Test Example 1 had poor optical properties and had a particle size of 100 nm or more. It was confirmed that the particle shape was also needle-like, Test Example 3 also was not very good optical properties, as the transition metal nickel is added, the crystal defects are not well formed and the electron resonance effect also seems to be inferior. Test Example 5 is a tungsten bronze compound fired at 180% by weight of NaBH4 as a liquid reducing agent, and its reducing property is lower than that of the conventional hydrazine reducing agent. Test Example 6 was prepared with a high concentration dispersing sol, and when added to the same coating sol formulation showed a low visible light transmittance due to the relatively high amount of tungsten bronze compound, while the infrared blocking rate was high.

이상에서, 출원인은 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하였지만, 이와 같은 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 일실시예일 뿐이며 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 한 어떠한 변경예 또는 수정예도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.In the above, the Applicant has described preferred embodiments of the present invention, but these embodiments are merely one embodiment for implementing the technical idea of the present invention, and any modifications or modifications may be made as long as the technical idea of the present invention is implemented. Should be interpreted as being within the scope.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도1 is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to an embodiment of the present invention

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도2 is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 단면도3 is a cross-sectional view of a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention

도 4는 본 발명에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도Figure 4 is a block diagram of a method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to the present invention

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도5 is a block diagram of a method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 텅스텐브론즈 화합물을 함유한 열차단필름의 제조방법의 블럭도Figure 6 is a block diagram of a method for manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to another embodiment of the present invention

도 7은 시험예 4의 텅스텐브론즈 화합물 입자의 SEM사진7 is a SEM photograph of the tungsten bronze compound particles of Test Example 4

도 8은 비교예 1의 텅스텐브론즈 화합물 입자의 SEM사진8 is a SEM photograph of the tungsten bronze compound particles of Comparative Example 1

도 9는 시험예 4의 텅스텐브론즈 화합물의 결정성을 나타내는 XRD 그래프9 is an XRD graph showing the crystallinity of the tungsten bronze compound of Test Example 4

도 10은 시험예 4의 텅스텐브론즈 화합물의 UV/VIS 투과 그래프10 is a UV / VIS transmission graph of the tungsten bronze compound of Test Example 4

*도면에 사용된 주요부호에 대한 설명* Explanation of the main symbols used in the drawings

10: 기재층 20: 열차단층10: base layer 20: thermal barrier layer

30: 점착층 40: 이형지30: adhesive layer 40: release paper

Claims

delete

In the thermal barrier film formed with a thermal barrier layer on one surface of the base layer,

The thermal _barrier layer includes a tungsten bronze compound, and the tungsten bronze compound includes A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{( 1-X≥0.67)} ) O ₃ form a _pervoskyite structure, wherein A includes an alkali metal to an alkaline earth metal, and B and B 'include one or more elements or compounds selected from transition metals,

The tungsten bronze compound is a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that the polyol synthesis method.

3. The thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to claim 2, wherein the polyol synthesis method uses microwaves as a heat source.

4. The thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to claim 3, wherein the polyol synthesis method irradiates the microwave wave in a range of 120 seconds to 180 seconds.

The tungsten bronze compound of claim 2, wherein the tungsten bronze compound is subjected to the first calcination in the temperature range of 200 ~ 500 ℃ to remove the hydroxyl group and forming the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound, film.

6. The thermal barrier film of claim 5, wherein the tungsten bronze compound is subjected to secondary reduction firing by adding a liquid reducing agent to induce crystal defects of the tungsten bronze compound.

The thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to claim 6, wherein the secondary reducing firing is fired for 1 to 2 hours at a temperature in the range of 300 to 400 ° C.

The method of claim 6, wherein the tungsten bronze compound is formed in the form of a tungsten bronze compound dispersion sol, the tungsten bronze compound dispersion sol is 0.5 to 1% by weight of dispersant, 70 to 80% by weight of organic solvent, tungsten bronze compound powder 20-30 A thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that it comprises a weight%.

10. The thermal barrier film containing tungsten bronze compound according to claim 8, wherein the tungsten bronze compound is formed in the form of a tungsten bronze compound dispersed sol by a ball mill method using zirconium balls.

The method of claim 8, wherein the tungsten bronze compound dissolving sol is formed in the form of a tungsten bronze compound coating sol, the tungsten bronze compound dissolving sol 40 to 50% by weight, 40-50% by weight photopolymer, organic A thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that 10 to 20% by weight of the solvent.

The tungsten bronze compound coating sol is coated on the base layer by any one of a microgravure coating, a knife coating, and a roll-to-roll coating method, and tungsten is characterized in that the thermal barrier layer is formed by UV irradiation. Thermal barrier film containing bronze compound.

The thermal barrier film containing a tungsten bronze compound according to claim 2, wherein the thermal barrier layer further includes an adhesive layer on a surface not in contact with the substrate layer, and thus can be adhered to glass such as a building or a vehicle. .

13. The thermal barrier film according to claim 12, wherein the adhesive layer further includes a release paper on a surface not in contact with the thermal barrier layer to protect an external surface.

A (B _{(X ≦ 0.67)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.33)} ) O ₃ , A (B _{(X ≦ 0.33)} , B ′ _{(1-X ≧ 0.67)} ) O ₃ form using polyol synthesis method A tungsten bronze compound manufacturing step of preparing a tungsten bronze compound having a perboskate structure, and calcining the tungsten bronze compound in a temperature range of 200 ~ 500 ℃ 1 to remove the hydroxyl group and to form the hexagonal crystallinity of the tungsten bronze compound 1 The secondary calcination step, a secondary reducing firing step of inducing a crystal defect of the tungsten bronze compound by injecting a liquid reducing agent into the tungsten bronze compound from which the hydroxyl group is removed, and the tungsten bronze compound powder subjected to the secondary reducing firing step are dispersed sol Tungsten bronze compound dissolving sol manufacturing step of preparing in the form, tungsten bronze compound dissolving sol manufacturing step of preparing the tungsten bronze compound dissolving sol in the form, and the tungsten bronze compound coating sol Method of manufacturing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound comprising a thermal barrier coating step of forming a thermal barrier layer by coating the surface of the base layer.

15. The method of claim 14, wherein the polyol synthesis method used in the tungsten bronze compound manufacturing step is prepared using a microwave wave as a heat source in the range of 120 seconds to 180 seconds to produce a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound Way.

15. The method of claim 14, wherein the tungsten bronze compound dispersion sol in the manufacturing step of the tungsten bronze compound dispersion sol is characterized in that it comprises 0.5 to 1% by weight of dispersant, 70 to 80% by weight of organic solvent, 20 to 30% by weight of tungsten bronze compound powder A method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound.

15. The method according to claim 14, wherein the tungsten bronze compound coating sol in the tungsten bronze compound coating sol manufacturing step comprises 40 to 50% by weight tungsten bronze compound dispersion sol, 40 to 50% by weight photopolymer, 10 to 20% by weight organic solvent Method for producing a thermal barrier film containing a tungsten bronze compound, characterized in that.

15. The tungsten bronze according to claim 14, further comprising an adhesive layer coating step of forming an adhesive layer on a surface of the thermal barrier layer that is not in contact with the base layer so as to adhere to glass such as a building or a vehicle. Method for producing a thermal barrier film containing a compound.

19. The method according to claim 18, further comprising a release paper attaching step of attaching a release paper to a surface which is not in contact with the thermal barrier layer of the adhesive layer to protect the outer surface of the adhesive layer. Method of manufacturing a thermal barrier film.