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KR100980737B1 - Network system and method for controlling various semiconductor manufacturing facilities - Google Patents

Network system and method for controlling various semiconductor manufacturing facilities Download PDF

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KR100980737B1
KR100980737B1 KR1020080114534A KR20080114534A KR100980737B1 KR 100980737 B1 KR100980737 B1 KR 100980737B1 KR 1020080114534 A KR1020080114534 A KR 1020080114534A KR 20080114534 A KR20080114534 A KR 20080114534A KR 100980737 B1 KR100980737 B1 KR 100980737B1
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Abstract

본 발명은 다양한 반도체 제조 설비들를 제어하기 위한 네트워크 시스템 및 그 방법에 관한 것이다. 네트워크 시스템은 SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) 규격에 따른 네트워크를 통해 호스트와 반도체 제조 설비들을 인터페이스한다. 네트워크는 근거리 통신망으로 구비된다. 반도체 제조 설비들 각각은 호스트와의 인터페이스를 위한 외부 인터페이스 프로세스와, 자체의 다양한 작업들 상호 간에 인터페이스를 위한 내부 인터페이스 프로세스를 이원화하여 처리한다. 본 발명에 의하면, 제조사별, 공정별 및 모델별로 다양한 반도체 제조 설비들을 SEMI 규약에 적합하도록 관리하기 위해, 내부 인터페이스 프로세스만을 상이하게 변경 설계하여, 호스트와의 인터페이스를 처리함으로써, 유지 보수가 용이하고, 호스트 인터페이스의 표준이 단일화 가능하다.The present invention relates to a network system and method for controlling various semiconductor manufacturing facilities. The network system interfaces the host and the semiconductor manufacturing facilities through a network according to the Semiconductor Equipment and Materials International (SME) specification. The network is provided with a local area network. Each of the semiconductor manufacturing facilities dually processes an external interface process for interfacing with a host and an internal interface process for interfacing with various tasks of its own. According to the present invention, in order to manage a variety of semiconductor manufacturing facilities by manufacturer, process, and model to conform to the SEMI protocol, the internal interface process is changed and designed differently, and the interface with the host is easy to maintain and maintain. As a result, the host interface standard can be unified.

네트워크 시스템, 반도체 제조 설비, 호스트, 인터페이스, 이원화 Network Systems, Semiconductor Manufacturing Equipment, Hosts, Interfaces, Dualization

Description

다양한 반도체 제조 설비들을 제어하기 위한 네트워크 시스템 및 그 방법{NETWORK SYSTEM FOR CONTROLLING VARIOUS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENTS AND METHOD OF THE SAME}NETWORK SYSTEM FOR CONTROLLING VARIOUS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENTS AND METHOD OF THE SAME

본 발명은 네트워크 시스템에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 다양한 반도체 제조 설비들을 제어하기 위해 호스트와 인터페이스하는 네트워크 시스템 및 그 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a network system, and more particularly, to a network system and a method for interfacing with a host to control various semiconductor manufacturing facilities.

반도체 제조 산업에서 통신을 이용하여 생산성을 증대시키는 노력이 진행되어 왔다. 이는 제조 공장의 제조 설비, 계측 설비 및, 검사 설비 등의 각 설비들 을 메인 제어 장치인 호스트와 온라인으로 연결하고, 이를 통해 제어 및 관리하는 방식이다.In the semiconductor manufacturing industry, efforts have been made to increase productivity using communication. This is a method of connecting each facility, such as a manufacturing facility, a measurement facility, and an inspection facility of a manufacturing plant online with a host, which is the main control device, to control and manage them.

SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) 국제 표준 위원회에서는 반도체 설비들간 통신을 효율적으로 처리하기 위하여 프로토콜, 표준(standard) 등의 여러가지 규약을 제정하였다. SEMI 규약은 SECS(SEMI Equipment Communications Standard), HSMS (High-speed SECS Message Services) 및 GEM(Generic Equipment Model) 프로토콜 등이 있다. SECS에는 SECS-I과 SECS-II 가 있다.The SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) International Standards Committee has established various protocols such as protocols and standards to efficiently handle communication between semiconductor facilities. SEMI protocols include SECS Communications Equipment Standard (SECS), High-speed SECS Message Services (HSMS), and Generic Equipment Model (GEM) protocols. SECS includes SECS-I and SECS-II.

이들은 반도체 제조 설비들과 호스트 간의 통신 인터페이스를 정의한 것이다. 이들 방식은 호스트와 반도체 제조 설비들 간의 정보를 교환하기 위하여 필요한 물리적 연결, 신호 크기, 데이터 속도, 논리 프로토콜 등에 대하여 규정한 것으로, 직렬 인터페이스를 이용하여 정보를 교환한다.These define the communication interface between the semiconductor manufacturing facilities and the host. These methods define the physical connections, signal sizes, data rates, logical protocols, etc. required for exchanging information between the host and semiconductor manufacturing facilities. The information is exchanged using a serial interface.

도 1을 참조하면, 복수 개의 반도체 제조 설비(12 ~ 16)들을 제어하기 위한 네트워크 시스템(10)은 메인 제어 장치인 호스트(2)와 반도체 제조 설비(12 ~ 16)들 간에 통신 인터페이스를 위해 SECS-I(또는 SECS-II) 프로토콜을 이용한다. 호스트(2)와 각 반도체 제조 설비(12 ~ 16)는 예컨대, RS-232C 직렬 인터페이스(4)를 통해 일 대 일로 연결된다.Referring to FIG. 1, a network system 10 for controlling a plurality of semiconductor manufacturing facilities 12 to 16 may include a SECS for a communication interface between a main control device host 2 and semiconductor manufacturing facilities 12 to 16. -I (or SECS-II) protocol is used. The host 2 and each semiconductor manufacturing facility 12-16 are connected one-to-one via, for example, an RS-232C serial interface 4.

이러한 네트워크 시스템(10)은 호스트(2)와 반도체 제조 설비(12 ~ 16)들 간에 직렬 인터페이스(4)를 이용하여 통신하기 때문에, 통신 속도가 느려서 큰 용량의 정보를 전송하기가 어렵다. 또 가까운 거리에서만 통신이 가능하기 때문에 호스트(2)와 반도체 제조 설비(12 ~ 16)들 간의 거리가 근접해야만 하므로 불편하다. 또한, 호스트(2)와 반도체 제조 설비(12 ~ 16)들이 일대일로 연결되기 때문에 새로운 반도체 제조 설비를 추가로 연결하기가 어렵다.Since the network system 10 communicates between the host 2 and the semiconductor manufacturing facilities 12 to 16 using the serial interface 4, the communication speed is slow and it is difficult to transmit a large amount of information. In addition, since the communication is possible only at a close distance, the distance between the host 2 and the semiconductor manufacturing facilities 12 to 16 must be close, which is inconvenient. In addition, since the host 2 and the semiconductor manufacturing facilities 12 to 16 are connected one-to-one, it is difficult to further connect the new semiconductor manufacturing facilities.

이러한 문제점들을 해결하기 위하여, SEMI 국제 표준 위원에에서는 HSMS 프로토콜을 제정하였다. HSMS는 SECS-I, SECS-I 보다 더 고속으로 통신이 가능하다. HSMS는 기본적으로 고속의 통신 프로토콜인 TCP/IP(Transmission Control Protocol/Internet Protocol)를 이용한다.To address these issues, the SEMI International Standards Committee established the HSMS protocol. HSMS can communicate faster than SECS-I and SECS-I. HSMS basically uses Transmission Control Protocol / Internet Protocol (TCP / IP), a high-speed communication protocol.

도 2를 참조하면, 고속의 통신 인터페이스를 이용하는 네트워크 시스템(20)은 호스트(22)와 반도체 제조 설비(26 ~ 30)들 간에 랜(LAN)(24)을 통해 연결되고, HSMS 프로토콜을 이용하여 정보를 교환한다.Referring to FIG. 2, a network system 20 using a high speed communication interface is connected via a LAN 24 between a host 22 and semiconductor manufacturing facilities 26-30, using an HSMS protocol. Exchange information.

이러한 네트워크 시스템(20)은 TCP/IP를 이용하여 정보 교환이 이루어지기 때문에 속도가 빠르고 대용량의 정보가 전송 가능하다. 또, 부가적으로 별도의 장치없이도 통신 선로를 차단하거나, 접속 밀도를 증대시키기 위하여 통신 선로를 검사하며, 호환성이 없는 설비의 접속을 거부(rejection)할 수 있다. 또한 TCP/IP에 의해 통신망 시한 체크(timeout)와, 다중 접속 제어 등을 처리할 수 있다.Since the network system 20 exchanges information using TCP / IP, a high speed and a large amount of information can be transmitted. In addition, the communication line can be inspected to increase the connection density or block the communication line without additional equipment, and reject the incompatible equipment. TCP / IP can also handle network timeout, multiple access control, and the like.

즉, 네트워크 시스템(20)은 공통의 네트워크인 랜(24)이 분기되어 호스트(22)와 반도체 제조 설비(26 ~ 30)들이 연결된다. 따라서 호스트(22)와 반도체 제조 설비(26 ~ 30)들은 TCP/IP를 이용하여 원거리 통신이 가능하여, 호스트(22)에서 반도체 제조 설비(26 ~ 30)들을 원격 제어가 가능하다. 또 네트워크 시스템(20)은 통신 속도가 빨라져 큰 용량의 정보 전송이 용이하고, 공통의 네트워크(24)를 분기하여 새로운 반도체 제조 설비를 용이하게 추가할 수 있다.That is, in the network system 20, the LAN 24, which is a common network, is branched to connect the host 22 and the semiconductor manufacturing facilities 26 to 30. Therefore, the host 22 and the semiconductor manufacturing facilities 26 to 30 can be remotely communicated using TCP / IP, so that the host 22 and the semiconductor manufacturing facilities 26 to 30 can be remotely controlled. In addition, the network system 20 has a high communication speed to facilitate large-capacity information transmission, and can branch off the common network 24 to easily add new semiconductor manufacturing equipment.

상술한 바와 같이, 종래의 네트워크 시스템(10, 20)들은 반도체 제조 설비(12 ~ 16, 26 ~ 30)들을 제어 및 관리하기 위하여, 특정 네트워크(4, 24)를 이용하여 호스트(2, 22)와 연결된다.As described above, the conventional network systems 10 and 20 use the specific networks 4 and 24 to control and manage the semiconductor manufacturing facilities 12 to 16 and 26 to 30. Connected with.

이러한 네트워크 시스템(10, 20)에서 호스트(2, 22)와 반도체 제조 설비(12 ~ 16, 26 ~ 30) 간에 인터페이스를 처리하는 소프트웨어를 설계해야 한다. 이러한 소프트웨어는 호스트(2, 22)와의 인터페이스를 처리하는 프로세스(host interface process)를 포함하는데, 이 프로세스는 하나의 프로세스에서 SEMI 규약에 따라 통신 처리함과 동시에 설비들의 작업(task)에 따른 정보들을 상호 전송하도록 신호 처리하는 구조로 제공된다.In such a network system 10, 20, software for handling the interface between the hosts 2, 22 and the semiconductor manufacturing facilities 12-16, 26-30 must be designed. This software includes a host interface process that processes the interface with the hosts 2 and 22. This process communicates the information according to the task of the facilities while communicating in accordance with the SEMI protocol in one process. Provided is a structure for signal processing to transmit to each other.

그러나, 현재 제조사별, 공정별 등으로 반도체 제조 설비들의 종류가 다양하다. 또 하나의 종류에 대한 반도체 제조 설비의 경우라도 구성이나 구조가 다른 설비들이 다양하게 제조되기 때문에, 해당 설비마다 호스트와의 인터페이스를 위한 소프트웨어가 달리 설계되어야만 한다. 따라서 각 반도체 제조 설비들 마다 프로세스(host interface process)가 다르게 구비해야 한다.However, there are various types of semiconductor manufacturing facilities by manufacturer and process. In the case of another type of semiconductor manufacturing equipment, since the equipment having a different configuration or structure is manufactured in various ways, software for interface with a host must be designed differently for each equipment. Therefore, a process (host interface process) must be provided differently for each semiconductor manufacturing facility.

또 반도체 제조 설비들 마다 SEMI 규약을 처리하는 방식이 달라서 일괄적인 관리가 어렵다. 뿐만 아니라, 다양한 반도체 제조 설비들을 제조사별, 공정별 및 모델별로 SEMI 규약에 적합하도록 관리하기 위해서는 유지 보수 비용이 많이 소요되는 등의 문제점이 있다.In addition, the SEMI protocol is handled differently in each semiconductor manufacturing facility, making it difficult to manage them collectively. In addition, there is a problem such as a high maintenance cost to manage the various semiconductor manufacturing facilities according to the SEMI protocol by manufacturer, process and model.

본 발명의 목적은 복수 개의 반도체 제조 설비를 네트워크를 통해 제어하기 위한 네트워크 시스템 및 그 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a network system and method for controlling a plurality of semiconductor manufacturing facilities via a network.

본 발명의 다른 목적은 복수 개의 반도체 제조 설비를 이원화하여 제어하는 네트워크 시스템 및 그 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a network system and method for controlling a plurality of semiconductor manufacturing facilities by dual.

본 발명의 또 다른 목적은 다양한 반도체 제조 설비들의 종류에 관계없이 호스트와의 인터페이스를 위한 네트워크 시스템 및 그 방법을 제공하는 것이다.It is yet another object of the present invention to provide a network system and method for interfacing with a host regardless of the type of various semiconductor manufacturing facilities.

상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 네트워크 시스템은 호스트와 다양한 반도체 제조 설비들 간의 인터페이스를 구현하기 위해 외부 인터페이스와 내부 인터페이스를 이원화하는데 그 한 특징이 있다. 이와 같이 네트워크 시스템은 반도체 제조 설비의 종류에 관계없이 내부 인터페이스만을 변경하여 호스트와 반도체 제조 설비들 간의 인터페이스를 용이하게 처리할 수 있다.In order to achieve the above objects, the network system of the present invention is characterized by dualizing an external interface and an internal interface to implement an interface between a host and various semiconductor manufacturing facilities. As such, the network system can easily handle the interface between the host and the semiconductor manufacturing facilities by changing only the internal interface regardless of the type of the semiconductor manufacturing facility.

본 발명의 네트워크 시스템는, 복수 개의 반도체 제조 설비들과; 네트워크 및; 상기 네트워크를 통해 상기 복수 개의 반도체 제조 설비들과 연결되어 상기 반도체 제조 설비들을 제어하는 호스트를 포함한다. 그리고 상기 반도체 제조 설비는 내부 작업들에 의해 생성된 각각의 정보를 상기 작업들 상호간의 제공하는 인터페이스 처리와, 상기 정보를 상기 호스트로 제공하는 인터페이스 처리를 이원화한다.The network system of the present invention comprises: a plurality of semiconductor manufacturing facilities; Network and; And a host connected to the plurality of semiconductor manufacturing facilities through the network to control the semiconductor manufacturing facilities. The semiconductor manufacturing facility dualizes interface processing for providing each piece of information generated by internal tasks with each other and interface processing for providing the information to the host.

한 실시예에 있어서, 상기 네트워크는; SEMI 규약에 따라 상기 호스트와 상 기 반도체 제조 설비들 간을 통신하는 근거리 통신망(LAN)으로 구비된다.In one embodiment, the network; According to the SEMI protocol, a local area network (LAN) for communicating between the host and the semiconductor manufacturing facilities is provided.

다른 실시예에 있어서, 상기 반도체 제조 설비는; 상기 호스트와의 인터페이스를 위한 외부 인터페이스 프로세스 및; 상기 작업들에 따른 각각의 정보를 생성, 저장하고, 상기 외부 인터페이스 프로세스와 연결되어 상기 정보를 상기 외부 인터페이스 프로세스로 제공하는 내부 인터페이스 프로세스를 구비한다.In another embodiment, the semiconductor manufacturing equipment; An external interface process for interfacing with the host; And an internal interface process for generating and storing respective information according to the tasks, and for connecting the external interface process to provide the information to the external interface process.

또 다른 실시예에 있어서, 상기 외부 및 상기 내부 인터페이스 프로세스는 실행 프로그램, 라이브러리 중 어느 하나로 구비된다.In another embodiment, the external and internal interface process is provided by any one of an executable program and a library.

또 다른 실시예에 있어서, 상기 외부 인터페이스 프로세스는; 상기 호스트와 연결되어 상기 SEMI 규약에 따라 상기 호스트와 상기 반도체 제조 설비 상호 간에 정보를 교환하는 통신 인터페이스 및; 상기 내부 인터페이스 프로세스로부터 상기 정보를 받아서 상기 통신 인터페이스로 제공하는 제 1 데이터 인터페이스를 포함한다.In another embodiment, the external interface process; A communication interface connected to the host for exchanging information between the host and the semiconductor manufacturing facility according to the SEMI protocol; And a first data interface that receives the information from the internal interface process and provides the information to the communication interface.

또 다른 실시예에 있어서, 상기 내부 인터페이스 프로세스는; 상기 반도체 제조 설비의 작업들 각각에 대한 정보를 생성하는 신호 인터페이스와; 상기 신호 프로세스로부터 생성된 상기 정보를 받아서 저장하는 메모리와; 상기 작업들에 대한 정보들을 저장하여 데이터 관리하는 데이터베이스 및; 내부 네트워크를 통해 상기 제 1 데이터 인터페이스와 연결되고, 상기 데이터베이스로부터 상기 정보를 독출하여 상기 제 1 데이터 인터페이스로 제공하는 제 2 데이터 인터페이스를 포함한다.In another embodiment, the internal interface process; A signal interface for generating information about each of the operations of the semiconductor manufacturing facility; A memory for receiving and storing the information generated from the signal process; A database for storing and managing information about the tasks; And a second data interface connected to the first data interface through an internal network and reading the information from the database and providing the information to the first data interface.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 네트워크를 통하여 복수 개의 반도체 제조 설비들과 연결되고, 상기 반도체 제조 설비들이 상기 호스트와 인터페이스를 위한 방법이 제공된다. 이 방법에 의하면, 상기 호스트와 상기 반도체 제조 설비들 간에 통신하기 위해, 상기 반도체 제조 설비들 각각에 상기 호스트와의 정보 교환을 위한 인터페이스 처리와, 상기 반도체 제조 설비들 내부의 다양한 작업들 상호간의 정보 제공을 위한 인터페이스 처리를 이원화한다.According to another feature of the invention, there is provided a method for connecting a plurality of semiconductor manufacturing facilities via a network, wherein the semiconductor manufacturing facilities interface with the host. According to this method, in order to communicate between the host and the semiconductor manufacturing facilities, interface processing for exchanging information with the host at each of the semiconductor manufacturing facilities, and information between various operations within the semiconductor manufacturing facilities. Dualize the interface processing for provisioning.

한 실시예에 있어서, 상기 이원화하는 것은; 상기 반도체 제조 설비가 상기 네트워크를 통하여 상기 호스트와 인터페이스를 처리하는 제 1 프로세스와, 상기 반도체 제조 설비의 상기 작업들 간의 인터페이스를 처리하는 제 2 프로세스를 구비한다. 그리고 상기 제 1 및 상기 제 2 프로세스를 상호 연결한다.In one embodiment, the dualizing; The semiconductor manufacturing facility includes a first process for processing an interface with the host through the network and a second process for processing an interface between the tasks of the semiconductor manufacturing facility. And interconnecting the first and second processes.

다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 프로세스는 상기 제 2 프로세스로부터 생성된 정보를 받아서 상기 네트워크를 통해 SEMI 규약에 따라 상기 호스트가 상기 반도체 제조 설비를 제어하도록 처리한다. 그리고 상기 제 2 프로세스는 상기 작업들 각각에 의해 생성된 정보를 상기 제 1 프로세스로 제공하도록 처리한다.In another embodiment, the first process receives information generated from the second process and processes the host to control the semiconductor fabrication facility through the network in accordance with SEMI protocols. And the second process processes to provide information generated by each of the tasks to the first process.

또 다른 실시예에 있어서, 상기 방법은; 상기 반도체 제조 설비들 중 적어도 하나가 나머지와 상이한 설비인 경우, 상기 하나의 제 2 프로세스를 상기 나머지의 제 2 프로세스와 상이하게 설계하여 상기 호스트와 인터페이스한다.In another embodiment, the method; If at least one of the semiconductor manufacturing facilities is different from the rest, the one second process is designed differently from the remaining second process to interface with the host.

상술한 바와 같이, 본 발명의 네트워크 시스템은 다양한 반도체 제조 설비들을 호스트와의 인터페이스를 위해 외부 인터페이스와 내부 인터페이스를 이원화함으로써, 반도체 제조 설비의 종류에 관계없이 호스트와의 인터페이스가 가능하다.As described above, the network system of the present invention dualizes an external interface and an internal interface for interfacing various semiconductor manufacturing facilities with a host, thereby allowing an interface with a host regardless of the type of semiconductor manufacturing facilities.

또 본 발명의 네트워크 시스템은 다양한 종류의 반도체 제조 설비들에 대응하여 내부 인터페이스를 처리하는 소프트웨어 모듈만을 변경, 설계함으로써, 유지 보수가 용이하고, 제조 라인에서 다양한 반도체 제조 설비에 대한 호스트 인터페이스 표준을 단일화할 수 있다.In addition, the network system of the present invention changes and designs only a software module that processes an internal interface corresponding to various types of semiconductor manufacturing facilities, thereby making it easy to maintain and unifying host interface standards for various semiconductor manufacturing facilities in a manufacturing line. can do.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be interpreted as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shapes and the like of the components in the drawings are exaggerated in order to emphasize a clearer explanation.

이하 첨부된 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조 설비들을 제어하기 위한 네트워크 시스템의 구성을 도시한 블럭도이다.3 is a block diagram showing a configuration of a network system for controlling semiconductor manufacturing facilities according to the present invention.

도 3을 참조하면, 네트워크 시스템(100)은 호스트(102)와 복수 개의 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들이 네트워크(104)를 통해 연결된다. 네트워크(104)는 호스트(102)와의 인터페이스를 위해, SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) 규약을 따라 호스트(102)와 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들이 정보를 상호 전송한다. 예컨대, SEMI 규약은 SECS(SEMI Equipment Communications Standard), HSMS (High-speed SECS Message Services) 또는 GEM(Generic Equipment Model) 프로토콜 등으로 구비된다. 또 네트워크(104)는 TCP/IP(Transmission Control Protocol/Internet Protocol)를 이용하는 근거리 통신망(LAN)으로 구비된다.Referring to FIG. 3, in the network system 100, a host 102 and a plurality of semiconductor manufacturing facilities 110 to 130 are connected through a network 104. The network 104 transmits information to and from the host 102 and the semiconductor manufacturing facilities 110-130 according to the SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) protocol for interfacing with the host 102. For example, the SEMI protocol is provided with a SECS Communications Equipment Standard (SEMS), High-speed SECS Message Services (HSMS), or a Generic Equipment Model (GEM) protocol. The network 104 is also provided as a local area network (LAN) using TCP / IP (Transmission Control Protocol / Internet Protocol).

반도체 제조 설비(110 ~ 130)들은 다양한 종류의 설비들로 구비될 수 있다. 즉, 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들은 동일한 종류의 설비들로 복수 개가 구비되거나 적어도 하나가 다른 종류의 설비들로 구비될 수 있다. 이 때, 다른 종류의 설비는 동일한 공정을 처리하는 설비인 경우, 서로 다른 구성 또는 구조를 갖는다.The semiconductor manufacturing facilities 110 to 130 may be provided with various kinds of facilities. That is, the semiconductor manufacturing facilities 110 to 130 may be provided with a plurality of facilities of the same kind or at least one of different kinds of facilities. In this case, different kinds of facilities have different configurations or structures in the case of facilities that process the same process.

각각의 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들은 호스트(102)와의 인터페이스를 위한 외부 인터페이스 프로세스(Host Outer Process : HOP)(112, 122, 132)와, 내부의 다양한 작업(task, process 또는 job)들에 의해 발생된 정보를 상호 교환하기 위한 내부 인터페이스 프로세스(Host Inner Process : HIP)(114, 124, 134)를 구비한다. 외부 인터페이스 프로세스(HOP)(112, 122, 132)와 내부 인터페이스 프로세스(HIP)(114, 124, 134)는 독립적으로 설계가능한 소프트웨어 모듈(software module)로 구비된다.Each of the semiconductor manufacturing facilities 110-130 has an external interface process (HOP) 112, 122, 132 for interfacing with the host 102, and various tasks (processes or jobs) therein. And an internal interface process (HIP) 114, 124, 134 for exchanging information generated by the system. The external interface process (HOP) 112, 122, 132 and the internal interface process (HIP) 114, 124, 134 are provided as software modules that can be independently designed.

내부 인터페이스 프로세스(HIP)(114, 124, 134)는 반도체 제조 설비(110 ~ 130) 고유의 작업들에 따른 데이터 및 신호를 처리하여, 외부 인터페이스 프로세스(HOP)(112, 122, 132)로 제공한다. 외부 인터페이스 프로세스(HOP)(112, 122, 132)는 내부 인터페이스 프로세스(HIP)(114, 124, 134)로부터 전달받은 다양한 정보 예를 들어, 데이터, 메세지(Message), 이벤트(Event) 등의 신호를 호스트(102)로 전달한다. 이 때, 외부 인터페이스 프로세스(HOP)(112, 122, 132)와 내부 인터페이스 프로세스(HIP)(114, 124, 134)는 메모리 장치(도 4의 154, 156)를 이용하거나 내부 네트워크(도 4의 106)를 이용하여 인터페이스 된다. 예를 들어, 데이터 처리 시, 반도체 제조 설비(110 ~ 130)의 메모리(154)에 저장된 정보를 읽어서 호스트(102)로 제공하는 메모리 링크(memory link) 방식을 이용한다. 또 신호 처리 시에는 큐(Queue) 처리 방식을 이용한다.Internal interface processes (HIPs) 114, 124, and 134 process and provide data and signals to external interface processes (HOPs) 112, 122, and 132 in accordance with the operations inherent in semiconductor manufacturing facilities 110-130. do. The external interface processes (HOPs) 112, 122, and 132 are various pieces of information received from the internal interface processes (HIPs) 114, 124, and 134, for example, signals such as data, messages, and events. To host 102. At this time, the external interface process (HOP) 112, 122, 132 and the internal interface process (HIP) 114, 124, 134 use a memory device (154, 156 of FIG. 4) or an internal network (FIG. 4). 106). For example, during data processing, a memory link method that reads information stored in the memory 154 of the semiconductor manufacturing facilities 110 to 130 and provides the information to the host 102 is used. In the signal processing, a queue processing method is used.

따라서 반도체 제조 설비(110 ~ 130)는 호스트(102)와 상호 인터페이스하기 위해 외부 인터페이스 프로세스(112, 122, 132)와 내부 인터페이스 프로세스(114, 124, 134)를 이원화하여 제공된다.Accordingly, the semiconductor manufacturing facilities 110-130 are provided by dualizing the external interface processes 112, 122, 132 and the internal interface processes 114, 124, 134 to interface with the host 102.

구체적으로 도 4를 참조하면, 반도체 제조 설비(110 ~ 130)는 외부 인터페이스 프로세스(112 ~ 132)와 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)가 내부 네트워크(106)를 통해 상호 연결된다. 외부 및 내부 인터페이스 프로세스(112 ~ 132, 114 ~ 134)는 각각 실행 프로그램(EXE, DLL, OCX) 및 라이브러리(Library) 형태로 제공된다. OCX는 하나의 객체 연결 및 포함(OLE : Object Linking and Embedding control) 맞춤형 컨트롤러로, 마이크로소프트 사의 윈도우 오퍼레이팅 시스템에서 수행되는 일종의 응용 프로그램이다.Specifically, referring to FIG. 4, in the semiconductor manufacturing facilities 110 to 130, the external interface processes 112 to 132 and the internal interface processes 114 to 134 are interconnected through an internal network 106. The external and internal interface processes 112 to 132 and 114 to 134 are provided in the form of executable programs (EXEs, DLLs, OCXs) and libraries, respectively. An OCX is an OLE (Object Linking and Embedding control) custom controller, a type of application that runs on Microsoft's Windows operating system.

외부 인터페이스 프로세스(112 ~ 132)는 네트워크(104)를 통하여 호스트(102)와 연결되는 통신 인터페이스(140)와 제 1 데이터 인터페이스(142)를 포함한다. 통신 인터페이스(140)는 SEMI 규약에 따라 호스트(102)와 반도체 제조 설비(110 ~ 130) 간의 인터페이스를 처리한다. 제 1 데이터 인터페이스(142)는 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)와 연결되어, 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)로부터 제공되는 정보를 받아서 데이터 및 신호 처리한 후, 통신 인터페이스(140)로 전달한다. 또 제 1 데이터 인터페이스(142)는 호스트(102)로부터 제공되는 정보를 통신 인터페이스(140)로부터 제공받아서 데이터 및 신호 처리하여 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)로 전달한다.The external interface processes 112-132 include a communication interface 140 and a first data interface 142 that are connected with the host 102 via the network 104. The communication interface 140 processes the interface between the host 102 and the semiconductor manufacturing facilities 110-130 in accordance with SEMI conventions. The first data interface 142 is connected to the internal interface processes 114 to 134, receives information provided from the internal interface processes 114 to 134, processes data and signals, and transfers the information to the communication interface 140. In addition, the first data interface 142 receives information provided from the host 102 from the communication interface 140, processes data and signals, and transfers the data and signals to the internal interface processes 114 to 134.

그리고 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)는 내부의 다양한 작업들에 대한 정보를 생성하는 신호 인터페이스(150)와, 신호 인터페이스(150)로부터 생성된 정보를 받아서 데이터 및 신호 처리하여 제 1 데이터 인터페이스(142)로 전달하는 제 2 데이터 인터페이스(152) 및, 생성된 정보를 제 2 데이터 인터페이스(152)를 경유하여 받아서 저장하는 메모리(154)를 포함한다. 내부 인터페이스 프로세스(114 ~ 134)는 메모리(154)에 저장된 각각의 작업들에 대한 정보들을 저장하여 데이터 관리하는 데이터베이스(156)를 더 포함한다.In addition, the internal interface processes 114 to 134 may receive a signal interface 150 for generating information on various operations therein, and receive data generated from the signal interface 150 to process data and signals to process the first data interface 142. A second data interface 152 for transferring the information; and a memory 154 for receiving and storing the generated information via the second data interface 152. The internal interface processes 114-134 further include a database 156 that stores and manages data for each of the tasks stored in the memory 154.

반도체 제조 설비(110 ~ 130)들은 다양한 종류로 제공될 수 있다. 만약, 적어도 하나의 반도체 제조 설비(예를 들어, 110)가 나머지 반도체 제조 설비(120, 130)와 상이한 설비 예컨대, 서로 다른 구성이나 구조를 갖는 경우, 하나의 반도체 제조 설비(110)는 나머지의 반도체 제조 설비(120, 130)와 내부 인터페이스 프로세스(114)만 상이하게 변경, 설계하여 적용할 수 있다. 따라서 반도체 제조 설비(110 ~ 130)의 종류에 관계없이 호스트(102)와 인터페이스하도록 설계함으로써, SEMI 규격을 지원하는 외부 인터페이스 프로세스(112, 122, 132)가 설계되면, 모든 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들 각각에 대한 내부 인터페이스 프로세스(114, 124, 134)만을 변경 설계하여 적용 가능하므로, 유지 보수가 용이하다.The semiconductor manufacturing facilities 110 to 130 may be provided in various kinds. If at least one semiconductor manufacturing facility (eg, 110) has a different facility, for example, a different configuration or structure than the remaining semiconductor manufacturing facilities 120, 130, one semiconductor manufacturing facility 110 may be configured to provide Only the semiconductor manufacturing facilities 120 and 130 and the internal interface process 114 may be changed, designed, and applied differently. Therefore, by designing to interface with the host 102 irrespective of the type of semiconductor manufacturing equipment (110 ~ 130), if the external interface process (112, 122, 132) supporting the SEMI standard is designed, all the semiconductor manufacturing equipment (110 ~ 130). Since only the internal interface processes 114, 124, and 134 for each of the 130 designs can be modified and applied, maintenance is easy.

상술한 바와 같이, 본 발명의 네트워크 시스템(100)은 호스트(102)와 반도체 제조 설비(110 ~ 130)들 간에 인터페이스를 처리하기 위하여, 호스트(102)와의 인터페이스를 처리하는 프로세스(112, 122, 132)와, 내부 작업들 간의 인터페이스를 처리하는 프로세스(114, 124, 134)를 이원화한다. 그러므로 서로 다른 종류의 설비들의 프로세스들 간에 영향을 받지 않고 사용 가능하고, 내부 인터페이스를 처리하는 프로세스 만을 변경 설계할 수 있어 유지 보수가 용이하다. 그 결과, 제조 라인에서 다양한 반도체 제조 설비에 단일화된 표준으로 적용할 수 있다.As described above, the network system 100 of the present invention processes the interfaces 112 and 122 to process the interface with the host 102 in order to process the interface between the host 102 and the semiconductor manufacturing facilities 110-130. 132 and processes 114, 124, 134 for handling the interface between internal tasks. Therefore, it can be used without affecting the processes of different kinds of facilities, and it is easy to maintain and design only the process of changing the internal interface. As a result, it can be applied as a unified standard to various semiconductor manufacturing facilities in a manufacturing line.

이상에서, 본 발명에 따른 반도체 제조 설비들과 호스트를 인터페이스하기 위한 네트워크 시스템의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.In the above, although the configuration and operation of the network system for interfacing the host with the semiconductor manufacturing facilities according to the present invention are shown according to the detailed description and the drawings, these are merely described by way of example and do not depart from the spirit of the present invention. Many variations and modifications are possible without departing from the scope of the invention.

도 1은 종래기술의 일 실시예에 따른 반도체 제조 설비들을 제어하기 위한 네트워크 시스템의 구성을 도시한 블럭도;1 is a block diagram showing the configuration of a network system for controlling semiconductor manufacturing facilities in accordance with one embodiment of the prior art;

도 2는 종래기술의 다른 실시예에 따른 반도체 제조 설비들을 제어하기 위한 네트워크 시스템의 구성을 도시한 블럭도;2 is a block diagram showing a configuration of a network system for controlling semiconductor manufacturing facilities according to another embodiment of the prior art;

도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조 설비들을 제어하기 위한 네트워크 시스템의 구성을 도시한 블럭도; 그리고3 is a block diagram showing a configuration of a network system for controlling semiconductor manufacturing facilities according to the present invention; And

도 4는 도 3에 도시된 이원화된 소프트웨어 구성을 도시한 블럭도이다.FIG. 4 is a block diagram showing the binary software configuration shown in FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 네트워크 시스템 102 : 호스트100: network system 102: host

104 : 네트워크 106 : 내부 네트워크104: network 106: internal network

110 ~ 130 : 반도체 제조 설비110 ~ 130: semiconductor manufacturing equipment

112, 122, 132 : 외부 인터페이스 프로세스112, 122, 132: external interface process

114, 124, 134 : 내부 인터페이스 프로세스114, 124, 134: Internal Interface Process

140 : 통신 인터페이스 142, 152 : 데이터 인터페이스140: communication interface 142, 152: data interface

150 : 신호 인터페이스 154 : 메모리150: signal interface 154: memory

156 : 데이터베이스156: database

Claims (10)

네트워크 시스템에 있어서:In a network system: 복수 개의 반도체 제조 설비들과;A plurality of semiconductor manufacturing facilities; 네트워크 및;Network and; 상기 네트워크를 통해 상기 복수 개의 반도체 제조 설비들과 연결되어 상기 반도체 제조 설비들을 제어하는 호스트를 포함하되;A host connected to the plurality of semiconductor manufacturing facilities via the network to control the semiconductor manufacturing facilities; 상기 반도체 제조 설비는 내부 작업들에 의해 생성된 각각의 정보를 상기 작업들 상호간의 제공하는 인터페이스 처리와, 상기 정보를 상기 호스트로 제공하는 인터페이스 처리를 이원화하되; 상기 호스트와의 인터페이스를 위한 외부 인터페이스 프로세스 및; 상기 작업들에 따른 각각의 정보를 생성, 저장하고, 상기 외부 인터페이스 프로세스와 연결되어 상기 정보를 상기 외부 인터페이스 프로세스로 제공하는 내부 인터페이스 프로세스를 구비하고;The semiconductor manufacturing facility may dualize interface processing for providing each piece of information generated by internal operations with each other and interface processing for providing the information to the host; An external interface process for interfacing with the host; An internal interface process for generating and storing respective information according to the tasks and for connecting the external interface process to provide the information to the external interface process; 상기 외부 인터페이스 프로세스는;The external interface process; 상기 호스트와 연결되어 SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) 규약에 따라 상기 호스트와 상기 반도체 제조 설비 상호 간에 정보를 교환하는 통신 인터페이스 및; 상기 내부 인터페이스 프로세스로부터 상기 정보를 받아서 상기 통신 인터페이스로 제공하는 제 1 데이터 인터페이스를 포함하며;A communication interface connected to the host and exchanging information between the host and the semiconductor manufacturing facility according to the SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) protocol; A first data interface receiving the information from the internal interface process and providing the information to the communication interface; 상기 내부 인터페이스 프로세스는;The internal interface process; 상기 반도체 제조 설비의 작업들 각각에 대한 정보를 생성하는 신호 인터페이스와; 상기 신호 인터페이스로부터 생성된 상기 정보를 받아서 저장하는 메모리와; 상기 작업들에 대한 정보들을 저장하여 데이터 관리하는 데이터베이스 및; 내부 네트워크를 통해 상기 제 1 데이터 인터페이스와 연결되고, 상기 데이터베이스로부터 상기 정보를 독출하여 상기 제 1 데이터 인터페이스로 제공하는 제 2 데이터 인터페이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 네트워크 시스템.A signal interface for generating information about each of the operations of the semiconductor manufacturing facility; A memory for receiving and storing the information generated from the signal interface; A database for storing and managing information about the tasks; And a second data interface connected to the first data interface through an internal network and reading the information from the database and providing the information to the first data interface. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 외부 및 상기 내부 인터페이스 프로세스는 실행 프로그램, 라이브러리 중 어느 하나로 구비되되;The external and internal interface processes are provided as one of an executable program and a library; 상기 내부 인터페이스 프로세스는 상기 반도체 제조 설비들의 종류에 관계없이 상기 호스트와 인터페이스가 가능하도록 설계 변경 가능한 것을 특징으로 하는 네트워크 시스템.And wherein the internal interface process is reconfigurable to interface with the host regardless of the type of semiconductor fabrication facilities. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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