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KR100989852B1 - 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents

리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 Download PDF

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KR100989852B1
KR100989852B1 KR1020080080921A KR20080080921A KR100989852B1 KR 100989852 B1 KR100989852 B1 KR 100989852B1 KR 1020080080921 A KR1020080080921 A KR 1020080080921A KR 20080080921 A KR20080080921 A KR 20080080921A KR 100989852 B1 KR100989852 B1 KR 100989852B1
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lift
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김형준
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 진공 챔버와, 정전척으로 구비되는 플레이트와, 리프트 핀과 핀 홀더 및 벨로우즈를 구비하는 리프트 핀 구조체 및, 리프트 핀 구조체를 동시에 상하로 이동하도록 구동하는 구동부를 포함한다. 리프트 핀 구조체는 복수 개의 자석들을 이용하여 리프트 핀과 핀 홀더가 결합된다. 본 발명에 의하면, 리프트 핀을 핀 홀더에 삽입함으로써, 자석들의 자력에 의해 고정, 결합된다. 따라서 리프트 핀의 설치 및 유지 보수가 용이하고, 기존의 나사 결합에 의해 발생되는 파티클의 발생을 방지할 수 있다.
기판 처리 장치, 리프트 핀 구조체, 핀 홀더, 자석, 벨로우즈

Description

리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{LIFT PIN STRUCTURE AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS WITH IT}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 조립 및 유지 보수가 용이하도록 자력을 이용하는 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자를 제조하기 위하여, 기판에 증착, 도포, 현상, 식각, 세정 등과 같은 단위 공정들을 순차적 또는 반복적으로 처리한다. 이와 같은 단위 공정들을 처리하는 기판 처리 장치는 챔버 내부에 기판이 안착되는 플레이트를 구비한다. 플레이트에는 기판을 지지하는 복수 개의 리프트 핀들이 일정한 간격으로 배치된다. 또 플레이트는 기판을 고정시키기 위해, 클램프 또는 진공을 이용하거나, 정전기력을 이용하여 기판을 고정시킨다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 일반적인 기판 처리 장치는 챔버(미도시됨) 내부에 기판이 안착되는 정전척(ElectroStatic Chuck : ESC)(10)을 구비한다.
정전척(10)은 기판을 상부면에 안착하고, 상부면으로부터 기판을 분리, 지지하기 위한 복수 개의 리프트 핀(20)들이 상호 일정한 간격으로 배치된다. 정전척(10)은 리프트 핀(20)들은 설치하기 위한 복수 개의 핀홀(12)들을 제공한다. 핀홀(12)들 각각은 설치된 리프트 핀(20)이 상하로 이동될 수 있도록 정전척(10)을 상하로 수직 관통된다.
리프트 핀(20)들은 정전척(10) 하부에서 핀 홀더(30)와 결합된다. 이를 위해 리프트 핀(20)과 핀 홀더(30)는 상호 나사 체결된다. 예를 들어, 리프트 핀(20)의 하단부(22)와 핀 홀더(30)의 상단부(32)에 나사산이 형성되고, 이를 통해 결합된다. 또 핀 홀더(30)의 하단부(34)는 리프트 핀(20)을 상하로 이동시키는 구동부재(미도시됨)와 결합하기 위한 나사산이 형성된다. 예를 들어, 구동부재는 벨로우즈로 구비되며, 벨로우즈는 핀 홀더(30)의 하단부를 감싸도록 구성되어 리프트 핀(20)이 설치된 챔버 내부와 격리된다.
그러나 이러한 핀 홀더(30)는 직경이 작은 핀 형상의 구조물이므로 상단부(32)에 나사산을 가공하기가 어렵고, 가공 또는 결합 시, 쉽게 파손되는 등의 문제점이 있다. 또한, 리프트 핀(20)을 설치하거나 유지 보수하는 경우, 핀 홀더(30)와의 나사산을 분리, 결합하는 조립 과정에서 파티클이 발생될 수 있다.
본 발명의 목적은 자력을 이용하는 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 조립 및 유지 보수가 용이한 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 파손 및 파티클 발생원을 제거하기 위한 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적들을 달성하기 위한, 본 발명의 리프트 핀 구조체는 자력을 이용하여 결합하는데 그 한 특징이 있다. 이와 같이 리프트 핀 구조체는 설치 및 유지 보수가 용이하다.
본 발명의 리프트 핀 구조체는, 상단이 기판과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 리프트 핀과; 상기 리프트 핀의 하단부에 결합되는 제 1 자석과; 상부가 개방되고 상기 리프트 핀이 상하로 이동되는 방향으로 연장되는 내부 공간에 상기 리프트 핀이 삽입 설치되는 핀 홀더 및; 상기 내부 공간의 하부면에 설치되고, 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀을 상기 핀 홀더에 결합하는 제 2 자석을 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 핀 홀더는; 상기 내부 공간의 내측 상단부에 설치되어, 상기 리프트 핀이 상기 내부 공간의 중심축으로부터 이탈되는 것을 방지하도록 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀의 위치를 보정하는 제 3 자석을 더 포함한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석과 상기 제 2 자석은 상호 반대 극성으로 구비되고, 상기 제 3 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 극성으로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석은 상기 제 2 자석과 결합된 상태에서 일부가 상기 제 3 자석과 중첩되게 배치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 2 자석과 상기 제 3 자석은 상호 일정 거리 이격되게 배치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석은 상기 리프트 핀의 하단부가 연장된 형상으로 구비되고, 상기 제 2 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 형상으로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 리프트 핀과 상기 제 1 자석은 본딩 또는 나사산 결합으로 접합된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 리프트 핀 구조체는; 내부에 상기 핀 홀더가 고정 설치되어 상기 리프트 핀을 상하로 이동시키는 벨로우즈를 더 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 핀 홀더는 상기 리프트 핀의 상하 이동 거리에 대응하여 상기 벨로우즈 내부에서 상하로 이동되도록 배치된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 자력을 이용하여 체결되는 리프트 핀 구조체를 구비하는 기판 처리 장치가 제공된다. 이와 같은 본 발명의 기판 처리 장치는 자력을 이용하여 리프트 핀을 설치함으로써, 유지 보수가 용이하고, 파티클 발생을 방지하여 플레이트가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 챔버와; 상기 챔버의 내부 하단에 배치되어 기판이 안착되는 플레이트와; 상기 플레이트 내부에 상하로 관통되게 설치되어 기판을 지지하도록 상하 이동하고, 하단부에 제 1 자석이 결합되는 복수 개의 리프트 핀과; 내부 공간에 상기 리프트 핀이 삽입되고, 상기 내부 공간의 하부면에 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀이 결합되는 제 2 자석을 구비 하는 복수 개의 핀 홀더와; 상단이 상기 플레이트의 하부면과 결합되고, 내부에 상기 핀 홀더가 장착되어, 상기 리프트 핀을 상하로 이동시키는 복수 개의 벨로우즈 및; 상기 벨로우즈들의 하단부와 결합되어 상기 벨로우즈들을 동시에 구동하는 구동부를 포함한다.
한 실시예에 있어서, 상기 핀 홀더는; 상기 내부 공간의 내측 상단부에 설치되어, 상기 리프트 핀이 상기 내부 공간의 중심축으로부터 이탈되는 것을 방지하도록 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀의 위치를 보정하는 제 3 자석을 더 구비한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석과 상기 제 2 자석은 반대 극성으로 구비되고, 상기 제 3 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 극성으로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석은 상기 제 2 자석과 결합된 상태에서 일부가 상기 제 3 자석과 중첩되게 배치되고, 상기 제 2 자석과 상기 제 3 자석은 상호 일정 거리 이격되게 배치된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 제 1 자석은 상기 리프트 핀의 하단부가 연장된 형상으로 구비되고, 상기 제 2 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 형상으로 구비된다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 구동부는; 상기 리프트 핀들이 동시에 상하로 이동하도록 상기 벨로우즈들의 하단부와 연결되는 연결부재 및; 상기 벨로우즈들이 동시에 수축 또는 팽창하도록 상기 연결부재를 상하로 이동시키는 구동부재를 포함한다.
또 다른 실시예에 있어서, 상기 챔버는 진공 챔버로 구비되고, 상기 벨로우즈는 상기 챔버와 격리된 대기 상태에 배치된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 리프트 핀 구조체는 자력을 이용하여 리프트 핀을 핀 홀더와 결합함으로써, 조립 및 분해가 용이하다.
또 본 발명의 리프트 핀 구조체는 리프트 핀과 핀 홀더의 결합 부분에 나사산을 제거함으로써, 조립 및 분해 시, 파손 및 파티클 발생을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 기판 처리 장치는 자력을 이용한 리프트 핀 구조체를 구비함으로써, 유지 보수 시간을 단축할 수 있다.
또한 본 발명의 기판 처리 장치는 자력을 이용하여 리프트 핀을 설치 및 이동함으로, 파티클에 의해 플레이트의 핀홀 내부가 긁히는 현상을 방지할 수 있다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하 첨부된 도 3 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 구성을 도시한 도면이고, 도 4는 도 3에 도시된 리프트 핀의 구성을 나타내는 도면이고, 도 5는 도 3에 도시된 핀 홀더의 구성을 나타내는 도면이다. 또 도 6은 도 5에 도시된 핀 홀더가 벨로우즈에 결합된 상태를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 하나의 기판을 공정 처리하는 매엽식 처리 장치로서, 기판(미도시됨)을 처리하는 챔버(102)와, 기판이 안착되는 플레이트(104)와, 기판을 지지하고, 상하로 이동하기 위한 복수 개의 리프트 핀 구조체(110) 및, 리프트 핀 구조체(110)를 구동하는 구동부(140)를 포함한다.
챔버(102)는 예를 들어, 식각, 플라즈마 공정 등을 처리하는 진공 챔버로 구비된다.
플레이트(104)는 예컨대, 정전척으로 구비되며, 챔버(102) 내부의 하단에 배치되어 기판이 안착된다. 플레이트(104)는 기판을 지지 및 이송하는 복수 개의 리프트 핀(112)들이 일정한 간격으로 설치된다. 이를 위해 플레이트(104)는 내부가 상하로 관통되어 리프트 핀(112)들이 상하로 이동 가능한 복수 개의 핀홀(106)들이 형성된다.
리프트 핀 구조체(110)는 리프트 핀(112)과, 리프트 핀(112)을 고정하는 핀 홀더(120) 및, 챔버(102)의 하부벽(102a)에 배치되고 내부에 핀 홀더(120)가 설치되는 벨로우즈(130)를 포함한다.
리프트 핀(112)은 예컨대, 세라믹 재질로 구비되어, 플레이트(104)의 핀홀(106)을 따라 상하 이동한다. 리프트 핀(112)은 도 4에 도시된 바와 같이, 하단부(116)에 제 1 자석(114)이 결합된다. 예를 들어, 제 1 자석(114)은 리프트 핀(112)의 하단부(116)와 본딩되거나 나사 결합된다.
핀 홀더(120)는 도 5에 도시된 바와 같이, 리프트 핀(112)이 삽입되는 내부 공간(121)이 형성된 몸체(122)를 포함한다. 몸체(122)는 내부 공간(121)의 상부가 개방되고 하부가 밀폐되며, 삽입 설치된 리프트 핀(112)이 상하로 이동되는 방향으로 연장되는 원통 형상을 갖는다. 또 핀 홀더(120)는 리프트 핀(112)을 고정하기 위하여, 내부 공간(121)의 하부면에 제 1 자석(114)과 작용하는 제 2 자석(126)을 구비한다. 또 핀 홀더(120)는 내부 공간(121)의 내측 상부면에 설치되어, 리프트 핀(112)이 내부 공간(121)의 중심축(123)으로부터 이탈되는 것을 방지하기 위해, 리프트 핀(112)의 제 1 자석(114)과 작용하여 리프트 핀(112)의 위치가 중심축(123) 상에 위치되도록 위치 보정하는 제 3 자석(124)을 구비한다. 또 핀 홀더(120)는 몸체(122)의 하단부(128)가 벨로우즈(130)에 고정 설치된다.
제 1 자석(114)과 제 2 자석(126)은 핀 홀더(120)의 내부 공간(121)의 중심축(123) 상에 배치된다. 이 때, 제 1 자석(114)은 리프트 핀(112)의 하단부(116)가 연장된 형상으로 구비되고, 제 2 자석(126)은 제 1 자석(114)과의 결합 위치가 정확하도록 제 1 자석(114)과 동일한 형상으로 구비된다. 즉, 제 1 자석(114)과 제 2 자석이(126) 결합되는 결합면은 동일한 형상을 갖는다.
또 제 1 자석(114)과 제 2 자석(126)은 상호 반대 극성으로 구비되고, 제 1 자석(114)과 제 3 자석(124)은 동일한 극성으로 구비된다. 예를 들어, 제 1 및 제 3 자석(114, 124)은 S 극이고, 제 2 자석(126)은 N 극으로 구비된다. 물론 제 1 내지 제 3 자석(114, 126, 124)들은 각각 이와 반대의 극성으로도 구비될 수 있다.
또 제 1 자석(114)은 리프트 핀(112)이 핀 홀더(120)에 삽입되어 제 2 자석(126)과 결합된 상태에서 제 3 자석(124)의 일부(도 7의 D1)와 중첩되게 배치되며, 제 2 자석(126)과 제 3 자석(124)은 상호 자력의 영향을 받지 않도록 일정 간격(도 7의 D2)이 이격되게 배치된다. 이는 제 3 자석(124)에 의해 리프트 핀(112)이 정지 상태 및 상하 이동 중에도 내부 공간(121)의 중심축(123)으로부터 이탈되는 것을 방지하기 위함이다.
다시 도 3 및 도 6을 참조하면, 벨로우즈(130)는 리프트 핀(112)들에 대응하여 복수 개가 구비되고, 챔버(102)와 격리된 대기 상태에 배치된다. 또 벨로우즈(130)는 상단(132)이 플레이트(104)의 하부면과 결합되고, 내부에 핀 홀더(120)가 장착되며, 하단(134)이 구동부(140)와 결합된다. 이를 위해 벨로우즈(130)의 상단(132)과 하단(134)은 각각 플랜지(flange) 형상으로 구비된다.
벨로우즈(130)들은 구동부(140)에 의해 수축 및 팽창되어 리프트 핀(112)들을 동시에 상하로 이동시킨다. 이 때, 핀 홀더(130)는 벨로우즈(130)가 수축 및 팽창될 때에 벨로우즈(130)의 상단(132)과 내부 공간(121)의 내측 상단부 사이(도 7의 D3)를 이동하도록 벨로우즈(130) 내부에 고정 설치된다. 물론 벨로우즈(130)의 하단(134)과 핀 홀더(120)의 몸체(122)는 일체형으로 구비될 수 있다.
다시 도 3을 참조하면, 구동부(140)는 복수 개의 벨로우즈(130)들과 결합되어 벨로우즈(130)들을 동시에 구동한다. 즉, 구동부(140)는 리프트 핀(112)들이 동시에 상하로 이동하도록 복수 개의 벨로우즈(130)의 하단(134)과 연결되는 연결부재(144)와, 연결부재(144)를 상하로 구동하는 구동부재(142)를 포함한다. 예를 들 어, 연결부재(144)는 플레이트 형상으로 구비되고, 구동부재(142)는 연결부재(144)를 상하로 직선 이동시키는 모터, 실린더 등으로 구비된다. 물론 구동부(140)는 벨로우즈(130)들을 개별적으로 구동시키는 구조를 가질 수도 있다.
따라서 본 발명의 리프트 핀 구조체(110) 및 이를 구비하는 기판 처리 장치(100)는 리프트 핀(112)을 핀 홀더(120)에 삽입함으로써, 제 1 내지 제 3 자석(114, 126, 124)의 자력에 의해 고정, 결합된다.
이어서 도 7 및 도 8을 이용하여 본 발명에 따른 리프트 핀의 상하 이동 동작을 설명한다. 즉, 도 7은 벨로우즈의 팽창 상태를 나타내는 도면이고, 도 8은 벨로우즈의 수축 상태를 나타내는 도면이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 벨로우즈(130)는 리프트 핀(112)이 업다운되는 이동 거리에 대응하여 수축 및 팽창된다. 즉, 벨로우즈(130)는 구동부(140)에 의해 리프트 핀(112)이 고정 설치된 핀 홀더(120)를 상하로 이동시킨다. 이 때, 핀 홀더(120)는 벨로우즈(130) 내부에서 상하 이동되며, 핀 홀더(120)의 상하 이동 거리(D3)는 리프트 핀이 업다운되는 이동 거리와 동일하다. 예컨대, 리프트 핀(112)이 플레이트(도3의 104)에 안착된 기판을 업다운 이동시키기 위한 이동 거리는 약 10 ~ 15 mm 정도이며, 이에 대응해서 벨로우즈(130)가 수축 및 팽창되면, 핀 홀더(120)가 벨로우즈(130)의 상단(132)과, 핀 홀더(120)의 몸체(122) 상단(즉, 제 3 자석(124)이 설치된 내부 공간(121)의 내측 상단부) 사이를 이동하게 된다.
이상에서, 본 발명에 따른 리프트 핀 구조체를 구비하는 기판 처리 장치의 구성 및 작용을 상세한 설명과 도면에 따라 도시하였지만, 이는 실시예를 들어 설 명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능하다.
도 1은 기판 처리 장치의 정전척의 구성을 나타내는 사시도;
도 2는 도 1에 도시된 리프트 핀의 결합 구성을 나타내는 사시도;
도 3은 본 발명에 따른 리프트 핀 구조체를 구비하는 기판 처리 장치의 구성을 도시한 도면;
도 4는 도 3에 도시된 리프트 핀을 나타내는 도면;
도 5는 도 3에 도시된 핀 홀더를 나타내는 도면;
도 6은 도 3에 도시된 벨로우즈와 핀 홀더의 결합 상태를 나타내는 도면;
도 7은 도 6에 도시된 핀 홀더와 리프트 핀의 결합 상태를 나타내는 도면; 그리고
도 8은 도 7에 도시된 리프트 핀을 업 이동하는 상태를 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *
100 : 기판 처리 장치 102 : 챔버
104 : 플레이트 106 : 핀홀
110 : 리프트 핀 구조체 112 : 리프트 핀
114 : 제 1 자석 120 : 핀 홀더
122 : 몸체 124 : 제 2 자석
126 : 제 3 자석 130 : 벨로우즈

Claims (16)

  1. 리프트 핀 구조체에 있어서:
    상단이 기판과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 리프트 핀과;
    상기 리프트 핀의 하단부에 결합되는 제 1 자석과;
    상부가 개방되고 상기 리프트 핀이 상하로 이동되는 방향으로 연장되는 내부 공간에 상기 리프트 핀이 삽입 설치되는 핀 홀더 및;
    상기 내부 공간의 하부면에 설치되고, 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀을 상기 핀 홀더에 결합하는 제 2 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 핀 홀더는;
    상기 내부 공간의 내측 상단부에 설치되어, 상기 리프트 핀이 상기 내부 공간의 중심축으로부터 이탈되는 것을 방지하도록 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀의 위치를 보정하는 제 3 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 자석과 상기 제 2 자석은 상호 반대 극성으로 구비되고,
    상기 제 3 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 극성으로 구비되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 자석은 상기 제 2 자석과 결합된 상태에서 일부가 상기 제 3 자석과 중첩되게 배치되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  5. 제 2 항 내지 제 4항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 자석과 상기 제 3 자석은 상호 일정 거리 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 자석은 상기 리프트 핀의 하단부가 연장된 형상으로 구비되고, 상기 제 2 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 형상으로 구비되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 리프트 핀과 상기 제 1 자석은 본딩 또는 나사산 결합으로 접합되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 리프트 핀 구조체는;
    내부에 상기 핀 홀더가 고정 설치되어 상기 리프트 핀을 상하로 이동시키는 벨로우즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 핀 홀더는 상기 리프트 핀의 상하 이동 거리에 대응하여 상기 벨로우즈 내부에서 상하로 이동되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
  10. 기판 처리 장치에 있어서:
    기판을 처리하는 챔버와;
    상기 챔버의 내부 하단에 배치되어 기판이 안착되는 플레이트와;
    상기 플레이트 내부에 상하로 관통되게 설치되어 기판을 지지하도록 상하 이동하고, 하단부에 제 1 자석이 결합되는 복수 개의 리프트 핀과;
    내부 공간에 상기 리프트 핀이 삽입되고, 상기 내부 공간의 하부면에 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀이 결합되는 제 2 자석을 구비하는 복수 개의 핀 홀더와;
    상단이 상기 플레이트의 하부면과 결합되고, 내부에 상기 핀 홀더가 장착되어, 상기 리프트 핀을 상하로 이동시키는 복수 개의 벨로우즈 및;
    상기 벨로우즈들의 하단부와 결합되어 상기 벨로우즈들을 동시에 구동하는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 핀 홀더는;
    상기 내부 공간의 내측 상단부에 설치되어, 상기 리프트 핀이 상기 내부 공간의 중심축으로부터 이탈되는 것을 방지하도록 상기 제 1 자석과 작용하여 상기 리프트 핀의 위치를 보정하는 제 3 자석을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 자석과 상기 제 2 자석은 반대 극성으로 구비되고,
    상기 제 3 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 극성으로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 자석은 상기 제 2 자석과 결합된 상태에서 일부가 상기 제 3 자석과 중첩되게 배치되고, 상기 제 2 자석과 상기 제 3 자석은 상호 일정 거리 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 자석은 상기 리프트 핀의 하단부가 연장된 형상으로 구비되고, 상기 제 2 자석은 상기 제 1 자석과 동일한 형상으로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  15. 제 10 항에 있어서,
    상기 구동부는;
    상기 리프트 핀들이 동시에 상하로 이동하도록 상기 벨로우즈들의 하단부와 연결되는 연결부재 및;
    상기 벨로우즈들이 동시에 수축 또는 팽창하도록 상기 연결부재를 상하로 이동시키는 구동부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  16. 제 10 항 또는 제 15 항에 있어서,
    상기 챔버는 진공 챔버로 구비되고,
    상기 벨로우즈는 상기 챔버와 격리된 대기 상태에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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