KR100964285B1 - 광학 리소그래피 장치 및 광학 리소그래피 장치에 사용되는광학 헤드 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 평행광을 제공하는 평행광 제공부와, 상기 평행광을 복수의 영역으로 구획하고, 각 영역의 빛이 통과 및 차단되도록 제어하며, 각 영역을 통과한 빛을 각각 집광하는 광학헤드와, 상기 광학헤드에서 조사되는 빛에 의해 기판에 패터닝 작업을 수행하도록 기판을 구동시키는 기판 구동부로 구성되어, 소형화가 가능하고 제조비용을 줄일 수 있으며 마이크로렌즈 어레이의 광축 정렬오차를 최소화할 수 있는 광학 리소그래피 시스템 및 그 제조방법을 제공한다.
Description
본 발명은 소형화가 가능하고 제조 비용을 줄일 수 있는 광학 리소그래피 장치 및 광학 리소그래피 장치에 사용되는 광학 헤드 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 광학 리소그래피 장치는 평판 디스플레이, 회로기판, 집적회로와 같은 분야에서 사용되는 것으로 기판에 도포된 레지스트 막에 빛을 주사하여 패턴을 형성하는 장치이다.
현재, 디스플레이 산업은 제품이 다양화되고 있고 다화면을 구현할 수 있는 평판 디스플레이의 사용이 급격히 성장하고 있다. 이에, 기존 광학 리소그래피 공정에서는 이에 대응할 수 있는 다양한 종류의 대면적 마스크의 제작이 필수적이다.
하지만, 마스크를 다양한 종류와 대면적으로 제작하게 되면 제조비용이 증가되고 제작기간이 길어지게 되는 문제점이 발생된다.
이러한 문제점을 해결하고자, 광간 광 변조기와 마이크로 렌즈 어레이를 이용하여 마스크가 필요없는 무마스크 리소그래피 장치가 제안되었다.
이러한 무마스크 리스그래피 장치는 대한민국 공개 특허 10-2004-0101066에 개시되어 있다.
대한민국 공개 특허 10-2004-0101066에 개시된 리소그래피장치는 도 1을 참조하여 설명하면, 광원(LA)에서 발생된 방사선의 빔이 빔익스펜더(Ex)와 콜리메타(IL)를 통과하면서 평행광으로 변환되고, 이 평행광은 마이크로렌즈 어레이(11)를 통과하여 공간 광변조기(12)의 각 영역에 1:1로 맵핑되는 병렬 광 프로브로 분리되고, 투영 광학계(13)를 통과하여 집광된다. 그리고, 투영 광학계(13)의 초점 위치에 패터닝을 위한 기판(W)과 기판(W)을 구동시키는 기판 테이블(WT)이 배치되어 투영 광학계(13)를 통과하여 집광되는 빔에 의해 기판에 패터닝이 실시된다.
이와 같은 무마스크 타입 리소그래피 장치는 마스크가 불필요하여 마스크 제작에 따른 비용을 절감할 수 있고 패턴의 형상 변화에 빠르게 대응할 수 있는 장점이 있다. 그리고, 복수의 광 프로브를 적용하여 단일 광 프로브에 비해 공정 효율을 증대시킬 수 있고, 스텝 앤드 리핏 또는 스텝 앤드 스캐닝 방식을 적용하여 대면적 패터닝 공정이 용이한 장점이 있다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래 기술에 따른 리소그래피 장치는 그 구조가 매우 복잡하여 제작이 어렵고 이로 인하여 제조비용이 증가되는 문제가 있다.
또한, 긴 광경로와 복수의 층으로 구성되는 렌즈 어레이 구조 때문에 광 효율이 떨어지고 투영 광학계의 초점 위에서의 빔 스폿 특성이 악화되는 문제가 발생된다.
또한, 콜리메타와 공간 광 변조기와 마이크로렌즈 어레이 및 투영 광학계로 이루어지는 광학 시스템은 광축의 정렬오차가 증가하는 문제가 있고, 복수의 층의 광학요소로 이루어진 복잡한 광학 시스템으로 인하여 시스템의 소형화가 어려운 문제가 있다.
본 발명의 목적은 광학계의 구조를 단순화하여 소형화가 가능하고 제조비용을 줄일 수 있는 광학 리소그래피 장치 및 광학 리소그래피 장치에 사용되는 광학 헤드 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 복수의 층으로 구성되는 마이크로렌즈 어레이의 광축 정렬오차를 최소화할 수 있는 광학 리소그래피 장치 및 광학 리소그래피 장치에 사용되는 광학 헤드 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 광학 리소그래피 장치는 평행광을 제공하는 평행광 제공부와, 평행광을 복수의 영역으로 구획하고, 각 영역의 빛이 통과 및 차단되도록 제어하며, 각 영역을 통과한 빛을 각각 집광하는 광학헤드와, 광학헤드에서 조사되는 빛에 의해 기판에 패터닝 작업을 수행하도록 기판을 구동시키는 기판 구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제1실시예에 따른 광학헤드는 광학헤드는 복수 개의 영역으로 구획되고 각 영역은 빛이 통과 및 차단되도록 제어되는 공간 광변조기와, 공간 광변조기의 상부에 배치되어 평행광을 상기 각 영역과 맵핑되도록 분리시키고 빛의 경로를 굴절시키는 제1마이크로렌즈 어레이와, 공간 광변조기의 하부에 배치되어 상기 각 영역을 통과하는 빛을 집광키는 제2마이크로렌즈 어레이를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제2실시예에 따른 광학헤드는 광학헤드는 복수 개의 영역으로 구획되고 각 영역은 빛이 통과 및 차단되도록 제어되는 공간 광변조기와, 공간 광변조기의 상부에 배치되어 평행광을 상기 각 영역과 맵핑되도록 분리시키고 빛의 경로를 굴절시키는 제1마이크로렌즈 어레이와, 공간 광변조기의 하부에 배치되어 상기 각 영역을 통과하는 빛을 집광키는 제2마이크로렌즈 어레이와, 상기 공간 광변조기와 제1마이크로렌즈 어레이 사이와 상기 공간 광변조기와 제2마이크로렌즈 어레이 사이 중 적어도 어느 하나에 설치되는 무반사 코팅막을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제3실시예에 따른 광학헤드는 복수 개의 영역으로 구획되고 각 영역은 빛이 통과 및 차단되도록 제어되는 공간 광변조기와, 공간 광변조기의 상부에 배치되어 평행광을 상기 각 영역과 1:1로 맵핑되도록 분리시키고 빛의 경로를 굴절시키는 제1마이크로렌즈 어레이와, 공간 광변조기의 하부에 배치되어 상기 각 영역을 통과하는 빛을 평행광으로 변환시키는 제2마이크로렌즈 어레이와, 제2마이크로렌즈 어레이의 하측에 배치되어 상기 평행광을 집광시키는 제3마이크로렌즈 어레이를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 광학 리소그래피 장치용 광학헤드 제조방법은 공간 광변조기의 상부 유리기판의 표면에 제1폴리머를 도포하는 단계와, 렌즈 패턴이 형성된 제1몰드 부재를 제1폴리머에 가압한 후 경화시켜서 제1마이크로렌즈 어레이를 제작하는 단계와, 공간 광변조기의 하부 유리기판의 표면에 제2폴리머를 도포하는 단계와, 렌즈 패턴이 형성된 제2몰드부재를 제2폴리머에 가압한 후 경화시켜서 제2마이크로렌즈 어레이를 제작하는 단계와, 제1몰드부재와 제2몰드부재를 공간 광변조기에서 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기한 구성에 따르면, 본 발명의 광학 리소그래피 장치는 구조를 단순화하여 소형화가 가능하고 제조비용을 줄일 수 있는 장점이 있다.
또한, 복수의 층으로 구성되는 마이크로렌즈 어레이의 광축 정렬오차를 최소화할 수 있는 장점이 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 일시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 광학 리소그래피 장치는 평행광 제공부(100)와, 평행광 제공부(100)에서 제공된 평행광을 집광시키는 광학헤드(200)와, 기판(310)을 구동시키는 기판 구동부(300)를 포함한다.
평행광 제공부(100)는 단일 파장의 빛을 발생시키는 광원(110)과, 광원(110)에서 발생된 빛을 평행광으로 변환시키는 콜리메타(collimator)(120)로 구성된다. 여기에서, 광원(110)은 레이저 광원이 사용되는 것이 바람직하고, 레이저 광원 이외에 방사선 빔 등 단일 파장을 발생시킬 수 있는 어떠한 광원도 사용이 가능하다.
광학헤드(200)는 평행광 제공부(100)의 하측에 평행광 제공부(100)와 일정거리를 두고 배치되는 공간 광변조기(210)와, 공간 광변조기(210)의 상면에 배치되는 제1마이크로렌즈 어레이(220)와, 공간 광변조기(210)의 하면에 배치되는 제2마이크로렌즈 어레이(230)를 포함하여 구성된다.
공간 광변조기(210)는 제1마이크로렌즈 어레이(220)에 의해 생성되는 복수 개의 빔 다발과 1:1로 맵핑되는 복수의 영역으로 구획되어 있다. 그리고, 공간 광변조기(210)는 각 영역이 독립적으로 빛을 통과시키거나 차단시키도록 제어할 수 있는 기능을 갖는다.
이러한 공간 광변조기(210)는 빛이 통과하는 복수의 구획된 영역을 갖고 각 영역에는 빛을 통과시키거나 빛을 차단하는 개폐 기능을 구비하고 있는 액정부(240)와, 상기 액정부(240)의 상면 및 하면에 각각 배치되어 액정부(240)를 보호하는 상부 유리기판(250) 및 하부 유리기판(260)으로 구성된다.
제1마이크로렌즈 어레이(220)는 상부 유리기판(250)에 설치되어 평행광을 공간 광변조기(210)의 구획된 각 영역과 1:1로 맵핑되도록 분리시키는 기능을 수행하고, 제1마이크로렌즈 어레이(220)에 입사되는 빛이 모두 액정부(240)의 각 영역을 투과할 수 있도록 빛의 경로를 굴절시키는 기능을 수행한다.
제2마이크로렌즈 어레이(230)는 하부 유리기판(260)에 설치되어 공간 광 변조기(210)의 각 영역을 통과하는 빛을 집광시켜 미세 패터닝이 가능하도록 한다. 이러한 제2마이크로렌즈 어레이(230)는 고 개구수의 비구면 광학 설계를 통해 직경 1 마이크로미터 이하의 빔 스폿 크기를 구현할 수 있도록 한다.
기판(310)은 포토레지스트와 같은 감광성 재료가 도포된 실리콘 웨이퍼, 글래스 웨이퍼 또는 감광성 재료가 도포된 기판 등이 사용될 수 있다.
기판 구동부(300)는 기판(310)을 수평하게 지지함과 아울러 기판을 X, Y, Z축으로 이동시키는 것으로, 직경 1 마이크로미터 이하의 초미세 빔 스폿 크기에 대응하여 미세구동이 가능한 PZT(Plumbum Zirconate Titanate) 액츄에이터가 사용되는 것이 바람직하다.
광학 헤드(200)의 일측에는 광학 헤드(200)와 패터닝을 위한 기판(310) 사이의 거리를 측정하여 기판(310)이 광학 헤드(200)의 초점거리에 항상 위치될 수 있도록 하는 거리 측정센서(400)가 배치된다. 이러한 거리 측정센서(400)에 의해 광학 헤드(200)와 기판(310) 사이의 거리가 일정하게 유지될 수 있기 때문에 대면적 패터닝 공정을 효과적으로 수행할 수 있게 된다.
이와 같이 구성되는 제1실시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 작용을 다음에서 설명한다.
광원(110)에서 발생된 빛은 콜리메타(120)를 통과하면서 평행광으로 변환된다. 그리고, 이 평행광은 제1마이크로렌즈 어레이(220)를 통과하면서 복수 개의 빔 다발로 분리됨과 아울러 빛의 경로가 굴절된다. 그리고, 공간 광변조기(210)에 형성된 복수의 영역을 통과한다. 이때, 공간 광변조기(210)의 각 영역은 독립적으로 빛을 통과시키거나 차단시키도록 제어된다.
공간 광변조기(200)의 각 영역을 통과한 빛은 제2마이크로렌즈 어레이(230)를 통과하면서 미세 패터닝이 가능하도록 집광된다. 이 집광된 빛에 의해 기 판(310)에 패터닝이 수행된다. 그리고, 기판 구동부(300)를 구동시켜 기판을 X-Y-Z 방향으로 이동시켜 패턴의 모양을 결정한다.
도 3A 내지 도 3E는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학헤드의 제조 공정을 도시한 공정 순서도이다.
먼저, 도 3A에 도시된 바와 같이, 공간 광변조기(210)의 상부 유리기판(250)의 표면에 제1폴리머(410)를 도포한다. 여기에서, 제1폴리머(410)는 광 경화성 폴리머나, 열 경화성 폴리머가 사용될 수 있다. 그리고, 상부 유리기판(250)의 상측에 렌즈 패턴(430)이 형성된 제1몰드부재(420)를 위치시킨다.
여기에서, 제1몰드부재(420)의 렌즈패턴(430)은 제1마이크로렌즈 어레이의 형상과 동일한 형상으로 형성된다.
그리고, 도 3B에 도시된 바와 같이, 제1몰드부재(420)를 공간 광변조기(210)의 상부 유리기판(250)에 가압하면 제1몰드부재(420)에 형성된 렌즈 패턴(430)과 동일한 렌즈 패턴이 제1폴리머(410)의 표면에 전사된다. 그리고, 제1폴리머(410)를 가열하거나 자외선을 조사하여 제1폴리머(410)를 경화시키면 제1마이크로 렌즈 어레이(220)가 제작된다.
이와 같은 제1마이크로 렌즈 어레이(220) 제조공정은 기존의 얼라이너를 사용하여 진행할 수 있다. 즉, 얼라이너의 상부에 마스크를 고정시키는 위치에 제1몰드부재(420)를 고정시키고 얼라이너의 하부 기판을 고정시키는 위치에 제1폴리머(410)가 도포된 공간 광변조기(210)를 고정시킨다. 그리고, 제1몰드부재(420)와 공간 광변조기(210)를 공간 광변조기(210)의 상부 유리기판(250)에 형성된 얼라이 닝 마크를 기준으로 정렬시킨 후 제1몰드부재(420)와 공간 광변조기(210)를 결합시킨다.
그리고, 도 3C에 도시된 바와 같이, 공간 광변조기(210)의 하부 유리기판(260)이 상측을 향하도록 위치시킨 후 하부 유리기판(260)의 표면에 제2폴리머(440)를 도포하고, 하부 유리기판(260)의 상측에 렌즈 패턴(460)이 형성된 제2몰드부재(450)를 위치시킨다.
이때, 제1몰드부재(420)는 공간 광변조기(210)에 결합된 상태를 유지한다. 이는 후속 공정에서 이미 경화된 제1마이크로렌즈 어레이(220)의 형상을 유지하고 하부 유리기판(260)과의 평탄도 유지를 위해 중요한 역할을 하기 때문이다.
여기에서, 제2몰드부재(460)의 렌즈 패턴(460)은 제2마이크로렌즈 어레이(230)와 동일한 형상으로 형성된다.
그리고, 도 3D에 도시된 바와 같이, 제2몰드부재(450)와 공간 광변조기(210)를 결합시키면 제2몰드부재(450)에 형성된 렌즈 패턴(460)과 동일한 렌즈 패턴이 제2폴리머(450)의 표면에 전사된다. 그리고, 제2폴리머(450)를 가열하거나 자외선을 조사하여 제2폴리머(450)를 경화시키면 제2마이크로 렌즈 어레이(230)가 제작된다.
그리고, 도 3E에 도시된 바와 같이, 제1몰드부재(420)와 제2몰드부재(450)를 공간 광변조기(210)에서 분리시키면 광학 헤드(200)의 제조가 완료된다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
제2실시예에 따른 광학 리소그래피 장치는 평행광 제공부(100)와, 평행광 제 공부(100)에서 제공된 평행광을 집광시키는 광학헤드(500)와, 기판(310)을 구동시키는 기판 구동부(300)로 구성된다.
평행광 제공부(100) 및 기판 구동부(300)는 일 실시예에서 설명한 평행광 제공부(100) 및 기판 구동부(300)와 그 구성 및 작용이 동일하므로 설명을 생략한다.
제2실시예에 따른 광학헤드(500)는 평행광 제공부(100)의 하측에 평행광 제공부(100)와 일정거리를 두고 배치되고 공간 광변조기(210)와, 공간 광변조기(210)의 상면에 배치되는 제1마이크로렌즈 어레이(220)와, 공간 광변조기(210)의 하면에 배치되는 제2마이크로렌즈 어레이(230)로 구성되고, 공간 광변조기(210)와 제1마이크로렌즈 어레이(220) 사이와 공간 광변조기(210)와 제2마이크로렌즈 어레이(230) 사이 중 적어도 어느 하나에 무반사 코팅막(510,520)이 구비된다.
공간 광변조기(210), 제1마이크로렌즈 어레이(220) 및 제2마이크로렌즈 어레이(230)는 제1실시예에서 설명한 공간 광변조기(210), 제1마이크로렌즈 어레이(220) 및 제2마이크로렌즈 어레이(230)와 그 구성 및 작용이 동일하므로 설명을 생략한다.
무반사 코팅막(510,520)은 빛이 투과할 때 반사되는 빛의 양을 최소화하여 대부분의 빛이 통과할 수 있도록 하여 광효율을 향상시킨다. 이러한 무반사 코팅막(510,520)은 광원의 해당 파장에서 최적의 무반사 효과를 얻을 수 있는 두께로 코팅된다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 관련된 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
제3실시예에 따른 광학 리소그래피 장치는 평행광 제공부(100) 및 기판 구동 부(300)는 제1실시예에서 설명한 평행광 제공부(100) 및 기판 구동부(300)와 동일하고 광학헤드(600)가 다른 구조를 갖는다.
제3실시예에 따른 광학헤드(600)는 평행광 제공부(100)의 하측에 평행광 제공부(100)와 일정거리를 두고 배치되는 공간 광변조기(210)와, 공간 광변조기(210)의 상면 유리기판(250)에 설치되어 평행광을 공간 광변조기(210)의 구획된 각 영역과 1:1로 맵핑되도록 분리시키는 제1마이크로렌즈 어레이(610)와, 공간 광변조기(210)의 하면 유리기판(260)에 설치되어 공간 광변조기(210)를 통과한 빛을 평행광으로 다시 변환시키는 제2마이크로렌즈 어레이(620)와, 제2마이크로렌즈 어레이(620)의 하측에 일정 간격을 두고 배치되어 제2마이크로렌즈 어레이(620)를 통과한 평행광을 미세 패터닝이 가능하도록 집광시키는 제3마이크로렌즈 어레이(630)를 포함한다. 여기에서, 상기 제3마이크로 어레이(630)는 마이크로렌즈 어레이의 사이즈 특성상 초점거리가 짧기 때문에 아래쪽 방향을 향하여 볼록한 형태로 형성된다.
공간 광변조기(210)는 일 실시예에서 설명한 공간 광변조기(210)와 그 구성 및 작용이 동일하므로 설명을 생략한다.
제3실시예에 따른 광학 헤드의 작용을 살펴보면, 평행광 제공부(100)에서 제공되는 평행광이 제1마이크로렌즈 어레이(610)에 의해 다수의 빔 다발로 구획되고 모두 액정부(240)의 각 영역을 투과할 수 있도록 빛의 경로가 굴절되고, 공간 광변조기(210)에 형성된 복수의 영역에 의해 통과 및 차단된다. 공간 광변조기(210)를 통과한 빛은 제2마이크로렌즈 어레이(620)에 의해 평행광으로 다시 변환하고, 이 평행광은 제3마이크로렌즈 어레이(630)에서 집광되어 기판으로 조사된다.
이와 같이, 제3실시예에 따른 광학 헤드는 빛이 팽행광과 다수의 영역으로 집광되는 과정을 반복하여 광헤드의 집광성능을 향상시킬 수 있게 된다.
이상에서, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
도 3A 내지 도 3E는 본 발명의 제1실시예에 따른 광학 리소그래피 장치에 사용되는 광학 헤드 제조공정을 나타낸 공정 순서도이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 광학 리소그래피 장치의 구성도이다.
Claims (10)
- 평행광을 제공하는 평행광 제공부와;상기 평행광을 복수의 영역으로 구획하고, 각 영역의 빛이 통과 및 차단되도록 제어하며, 각 영역을 통과한 빛을 각각 집광하는 광학헤드와;상기 광학헤드에서 조사되는 빛에 의해 기판에 패터닝 작업을 수행하도록 기판을 구동시키는 기판 구동부를 포함하고,상기 광학헤드는복수 개의 영역으로 구획되고 각 영역은 빛이 통과 및 차단되도록 제어되는 공간 광변조기와;상기 공간 광변조기의 상면에 일체로 몰딩되어 형성되고, 평행광을 상기 각 영역과 맵핑되도록 분리시키고 빛의 경로를 굴절시키는 제1마이크로렌즈 어레이와;상기 공간 광변조기의 하면에 일체로 몰딩되어 형성되고, 상기 각 영역을 통과하는 빛을 집광시키는 제2마이크로렌즈 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 평행광 제공부는 단일 파장을 발생시키는 광원과, 상기 광원에서 발생된 빛을 평행광으로 변환하는 콜리메타로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 광학 헤드는 상기 공간 광변조기와 제1마이크로렌즈 어레이 사이와 상기 공간 광변조기와 제2마이크로렌즈 어레이 사이 중 적어도 어느 하나에 설치되는 무반사 코팅막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 광학 헤드는 상기 광학 헤드와 기판 사이의 거리를 측정하여 광학헤드 와 기판 사이의 거리가 일정하게 유지되도록 하는 거리 측정센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 기판 구동부는 PZT 액츄에이터가 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치.
- 제1항의 광학 리소그래피 장치용 광학 헤드를 제조하기 위한 제조방법으로서,공간 광변조기의 상부 유리기판의 표면에 제1폴리머를 도포하는 단계와;렌즈 패턴이 형성된 제1몰드부재를 제1폴리머에 가압한 후 경화시켜서 제1마이크로렌즈 어레이를 제작하는 단계와;공간 광변조기의 하부 유리기판의 표면에 제2폴리머를 도포하는 단계와;렌즈 패턴이 형성된 제2몰드부재를 제2폴리머에 가압한 후 경화시켜서 제2마이크로렌즈 어레이를 제작하는 단계와;제1몰드부재와 제2몰드부재를 공간 광변조기에서 분리시키는 단계를 포함하는 광학 리소그래피 장치용 광학 헤드 제조방법.
- 삭제
- 제 8 항에 있어서,상기 제1폴리머 및 제2폴리머는 광 경화성 폴리머와 열 경화성 폴리머 중 어느 하나가 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 리소그래피 장치용 광학 헤드 제조방법.
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