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KR100752246B1 - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents

기판처리장치 및 기판처리방법 Download PDF

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KR100752246B1
KR100752246B1 KR1020060026380A KR20060026380A KR100752246B1 KR 100752246 B1 KR100752246 B1 KR 100752246B1 KR 1020060026380 A KR1020060026380 A KR 1020060026380A KR 20060026380 A KR20060026380 A KR 20060026380A KR 100752246 B1 KR100752246 B1 KR 100752246B1
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support mechanism
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다케시 요시다
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다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 기판처리장치는 기판을 거의 수평하게 지지하여, 그 기판을 거의 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와, 상기 제1 안내부의 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와, 상기 제1 안내부의 외측에 상기 제1 안내부와 일체적으로 설치되어, 상기 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈과, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구를 구비한다.
기판처리장치, 처리액, 회수홈, 폐기홈, 생산성, Througput

Description

기판처리장치 및 기판처리방법{SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD}
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 기판처리장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 2는 스핀척(Spin Chuck) 및 컵(Cup)을 도 1에 나타내는 절단선 A-A에서 절단하였을 때의 단면도이다.
도 3은 스핀척 및 컵을 도 1에 나타내는 절단선 B-B에서 절단하였을 때의 단면도이다.
도 4는 스핀척 및 컵을 도 1에 나타내는 절단선 C-C에서 절단하였을 때의 단면도이다.
도 5는 볼나사기구(Ball Screw Mechanism)의 단면도이다.
도 6은 제1 승강기구, 제2 승강기구 및 제3 승강기구에 구동력을 전달하기 위한 구성을 간략화하여 나타내는 평면도이다.
도 7은 웨이퍼(Wafer)의 반입(搬入)시 및 건조공정시에서의 내부구성부재, 중간구성부재 및 외부구성부재의 위치를 도해적으로 나타내는 단면도이다.
도 8은 웨이퍼에 대한 제1 약액(藥液)에 의한 처리시에서의 내부구성부재, 중간구성부재 및 외부구성부재의 위치를 도해적으로 나타내는 단면도이다.
도 9는 세정(Rinse)공정시에서의 내부구성부재, 중간구성부재 및 외부구성부재의 위치를 도해적으로 나타내는 단면도이다.
도 10은 웨이퍼에 대한 제2 약액에 의한 처리시에서의 내부구성부재, 중간구성부재 및 외부구성부재의 위치를 도해적으로 나타내는 단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시형태에 의한 기판처리장치의 구성을 간략화하여 나타내는 단면도이다.
본 발명은 기판을 처리하기 위한 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다. 처리의 대상이 되는 기판에는 예컨대, 반도체 웨이퍼, 액정표시장치용 유리기판, 평면 디스플레이(Planer Display)용 유리기판, 광디스크용 기판, 자기디스크용 기판, 광자기디스크용 기판, 포토마스크(Photomask)용 기판 등이 포함된다.
반도체장치나 액정표시장치의 제조공정에서는, 반도체 웨이퍼나 액정표시판용 유리기판 등의 기판의 표면에 처리액에 의한 처리를 실시하기 위해서, 기판을 한 매씩 처리하는 매엽식(枚葉式)의 기판처리장치가 이용되는 것이 있다. 이 종류의 기판처리장치의 중에는 처리액의 소비량의 줄임을 도모하기 위해서, 기판의 처리에 사용한 후의 처리액을 회수하고, 그 회수한 처리액을 이후의 처리에 재이용하도록 구성된 것이 있다.
처리액을 재이용가능한 구성의 기판처리장치는 예컨대, 기판을 거의 수평한 자세로 협지(挾持)하여 회전시키는 스핀척과, 이 스핀척을 수용한 바닥이 있는 원통형상의 컵과, 컵에 대하여 승강가능하게 설치된 스플래쉬 가드(Splash Guard)를 구비하고 있다.
컵에는 스핀척의 주위를 둘러싸도록 원고리형상의 폐기홈(廢棄溝)이 형성되어 있다. 또한, 컵에는 그 폐기홈을 둘러싸도록 동심원고리형상의 회수홈(回收溝)이 세 겹으로 형성되어 있다. 폐기홈은 처리액을 폐기하기 위한 폐기 드레인(Drain)에 접속되어 있다. 각 회수홈은 처리액을 회수탱크로 안내하기 위한 회수 드레인에 접속되어 있다.
스플래쉬 가드(Splash Guard)는 네 개의 가드를 상하 및 안밖으로 포갠 구성을 갖고 있다. 각 가드는 기판의 회전축선에 대하여 거의 회전대칭인 형상으로 형성되어 있다. 각 가드의 상단부는 위쪽 정도 기판의 회전축선에 근접하도록 경사져 있다. 그리고, 각 가드의 상단(上端) 모서리는 기판의 회전축선을 중심축선으로 하는 동일 원통면(圓筒面) 위에, 각 상단 모서리 사이에 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 각 가드는 회수홈 또는 폐기홈에 대응되어 있고, 각 가드의 하단부는 각각 대응하는 회수홈 또는 폐기홈에 삽입되어 있다. 즉, 최상의 제1 가드는 최외주(最外周)의 제1 회수홈에 대응되어, 그 하단부가 제1 회수홈에 삽입되어 있다. 제1 가드의 바로 아래의 제2 가드는 제1 회수홈의 안쪽에 인접하는 제2 회수홈에 대응되어, 그 하단부가 제2 회수홈에 삽입되어 있다. 제2 가드의 바로 아래의 제3 가드는 최내주(最內周)의 제3 회수홈(제2 회수홈의 안쪽에 인접하는 회수홈)에 대응되어, 그 하단부가 제3 회수홈에 삽입되어 있다. 가장 아래의 제4 가 드는 폐기홈에 대응되어, 그 하단부가 폐기홈에 삽입되어 있다.
제1 가드의 상단 모서리와 제2 가드의 상단 모서리와의 사이는 기판으로부터 비산(飛散)하는 처리액을 제1 회수홈으로 안내하기 위한 제1 회수구로 이루어져 있다. 또한, 제2 가드의 상단 모서리와 제3 가드의 상단 모서리와의 사이는 기판으로부터 비산하는 처리액을 제2 회수홈으로 안내하기 위한 제2 회수구로 이루어져 있고, 제3 가드의 상단 모서리와 제4 가드의 상단 모서리와의 사이는 기판으로부터 비산하는 처리액을 제3 회수홈으로 안내하기 위한 제3 회수구로 이루어져 있다. 또한, 제4 가드와 컵의 저면과의 사이는 기판으로부터 비산하는 처리액을 폐기홈으로 안내하기 위한 폐기구로 이루어져 있다.
또한, 스플래쉬 가드에는 예컨대, 볼나사기구 등을 포함하는 승강구동기구가 결합되어 있다. 이 승강구동기구에 의해, 네 개의 가드를 일체적으로 승강시킬 수 있도록 되어 있다.
이러한 구성의 기판처리장치에서는, 기판의 표면에 복수 종류의 처리액을 순차적으로 공급하여, 그 기판의 표면에 대하여 복수 종류의 처리액에 의한 처리를 순차적으로 실시할 수 있다. 또한, 처리에 사용한 복수 종류의 처리액을 분별하여 회수할 수 있다.
즉, 스핀척에 의해 기판을 회전시키면서, 기판의 표면에 제1 처리액을 공급함으로써, 기판의 표면에 제1 처리액에 의한 처리를 실시할 수 있다. 기판의 표면에 공급된 제1 처리액은 기판의 회전에 의한 원심력을 받아, 기판의 주변으로부터 측방으로 비산한다. 따라서, 이때, 스플래쉬 가드를 승강시켜, 제1 회수구를 기판 의 단면(端面)에 대향시켜 두면, 기판의 주변으로부터 비산하는 제1 처리액을, 제1 회수구로 들어가게 할 수 있다. 그리고, 제1 회수홈으로부터 회수 드레인를 통하여 회수탱크에 회수할 수 있다. 또한, 마찬가지로 기판의 표면에 제2 처리액을 공급할 때에, 제2 회수구를 기판의 단면에 대향시켜 두면, 기판으로부터 비산하는 제2 처리액을 회수할 수 있다. 기판의 표면에 제3 처리액을 공급할 때에는 제3의 회수구를 기판의 단면에 대향시켜 두면, 기판으로부터 비산하는 제3 처리액을 회수할 수 있다.
또한, 스핀척에 의해 기판을 회전시키면서, 기판의 표면에 순수(純水, 처리액)를 공급함으로써, 기판의 표면을 순수로 씻어내는 세정처리를 행할 수 있다. 이때, 폐기구를 기판의 단면에 대향시켜 두면, 그 기판의 표면을 씻어내는 순수를, 폐기홈에 모을 수 있고, 폐기홈으로부터 폐기 드레인를 통하여 폐기할 수 있다.
그런데, 이러한 구성의 기판처리장치는 몇 가지의 문제점을 갖고 있다.
1. 각 회수구가 항상 개방되어 있기 때문에, 소정의 회수구 또는 폐기구를 기판의 단면에 대향시키고 있더라도, 기판으로부터 비산하는 처리액이 소정의 회수구 또는 폐기구 이외의 회수구(특히, 소정의 회수구 또는 폐기구에 인접하는 회수구)에 들어가서, 각 회수홈에 회수되는 처리액에 다른 종류의 처리액이 혼입할 우려가 있는 문제가 있다. 예컨대, 제1 처리액에 의한 처리시에, 제1 회수구를 기판의 단면에 대향시키고 있더라도, 제1 처리액의 비말(飛沫)의 일부가 제2 회수구에 들어가서, 제2 회수홈에 회수되는 제2 처리액에 제1 처리액이 혼입할 우려가 있다. 또한, 제1 회수구를 기판의 단면에 대향시킨 상태, 즉 스플래쉬 가드를 가장 아래 쪽까지 내린 상태에서는, 각 가드의 하단부가 폐기홈 및 회수홈에 크게 삽입되어, 각 가드의 하단부와 컵과의 틈이 좁아지기 때문에, 모세관 현상에 의해, 각 회수홈에 다른 회수홈 또는 폐기홈 내의 처리액이 유입될 우려도 있다.
2. 최하단의 폐기구를 기판의 단면에 대향시킬 때에는 스플래쉬 가드를 크게 상승시키지 않으면 안되기 때문에, 컵의 위쪽에 큰 공간을 확보할 필요가 있어, 장치의 높이방향의 크기가 크다는 문제도 있다.
3. 회수되는 처리액의 종류를 늘릴 경우, 기존의 컵을 보다 많은 회수홈이 형성된 컵으로 교환함과 아울러, 기존의 스플래쉬 가드를 보다 많은 가드로 이루어지는 스플래쉬 가드로 교환하지 않으면 안되기 때문에, 대폭적인 비용상승을 초래하게 된다. 또한, 스플래쉬 가드의 높이방향의 치수가 커지게 되고, 이에 따라, 스플래쉬 가드의 승강량(昇降量)이 더욱 커지게 되기 때문에, 높이방향에서의 장치의 대형화도 초래하여 버린다.
4. 각 회수구가 항상 개방되어 있으므로, 제1 처리액 또는 제2 처리액에 의한 처리에 계속하여 세정처리를 행하기 위해서, 또는 세정처리에 계속하여 제1 처리액 또는 제2 처리액에 의한 처리를 행하기 위해서, 스플래쉬 가드를 승강시키면, 그 승강의 도중에, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 회수구 또는 제2 회수구와 폐기구와의 사이에 형성되어 있는 회수구로 들어가서, 그 회수구로부터 회수될 처리액에 혼입될 우려가 있다. 예컨대, 제2 처리액에 의한 처리에 계속하여 세정처리를 행하기 위해서, 스플래쉬 가드를 상승시키면, 그 상승의 도중에 제3 회수구가 기판의 단면에 대향하고, 이때 기판으로부터 비산하는 제2 처리액이 제3 회수구로 들어가서, 제3 회수홈에 회수될 제3 처리액에 제2 처리액이 혼입되어 버린다.
이러한 처리액의 혼입을 방지하기 위해서, 스플래쉬 가드의 승강시에, 스핀척에 의한 기판의 회전을 정지시키는 것이 고려된다. 그러나, 기판의 회전을 일단 정지시키면, 그 후의 처리로 기판의 회전속도가 소정속도(처리에 필요한 회전속도)까지 올라가는 데에 시간이 걸리기 때문에, 기판의 처리에 필요로 하는 시간이 길어져, 처리의 생산성(Througput)이 떨어진다. 따라서, 스플래쉬 가드의 승강시에 기판의 회전을 정지시키는 일은 처리액의 혼입을 방지하기 위한 바람직한 해결방법이 아니다.
5. 세정처리는 제1 처리액, 제2 처리액 및 제3 처리액에 의한 각 처리 후에 행하여진다. 그 때문에, 세정처리시에는 그 직전의 처리에서 사용된 처리액을 씻어내는 순수의 미스트(Mist)를 포함하는 분위기가 발생한다. 이 분위기가 폐기홈 안이나 기판의 주위에 잔류하면, 세정처리 후의 기판에 악영향을 끼칠 우려가 있다. 따라서, 폐기홈을 배기라인에 접속하여, 배기홈 내를 강제적으로 배기함으로써, 기판의 주위의 분위기를 폐기홈에 끌어들여 배제하는 것이 바람직하다.
그런데, 폐기홈과 각 회수홈이 분위기적으로 연통하여 있기 때문에, 폐기홈 안을 강제적으로 배기하면, 각 회수홈 안도 간접적으로 배기되어, 각 회수구로부터 각 회수홈 안으로 유입되는 기류(氣流)가 생긴다. 그 결과, 폐기홈에 폐기해야 할 처리액의 비말이 각 회수구로부터 각 회수홈으로 들어가서, 각 회수홈에 회수되는 처리액의 순도가 저하하여 버린다.
본 발명의 제1 목적은 회수홈에 회수되는 처리액에의 다른 종류의 처리액(회수홈에 회수되어야 하지 않는 처리액)의 혼입을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제2 목적은 높이방향에서의 소형화를 도모할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제3 목적은 대폭적인 비용상승을 초래할 하는 없이, 회수되는 처리액의 종류의 증가에 대응할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제4 목적은 기판의 처리에 사용한 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에의 다른 종류의 처리액의 혼입을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제5 목적은 기판의 처리에 사용한 처리액을 회수하고, 그 회수한 처리액을 처리에 재이용하는 경우이라도, 다른 종류의 처리액을 혼입시키는 일 없이, 회수해야 할 처리액을 회수할 수 있어, 기판에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있는 기판처리방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제6 목적은 폐기홈 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도의 향상을 도모할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
상기 제1, 제2 및 제3 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는 기판을 거의 수평하게 지지하여, 그 기판을 거의 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와, 상기 제1 안내부의 외측에 있어서 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되며, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와, 상기 제1 안내부의 외측에 상기 제1 안내부와 일체적으로 설치되며, 상기 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈과, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구를 포함한다.
이 구성에 의하면, 제1 안내부 및 제2 안내부가 기판지지기구의 주위를 2중으로 둘러싼다. 제2 안내부는 제1 안내부의 외측에 있어서, 그 상단부가 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 배치되어 있다. 또한, 제1 안내부의 외측에는 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈이 제1 안내부와 일체적으로 설치되어 있다.
제1 안내부 및 제2 안내부는 구동기구에 의해, 각각 독립적으로 승강시킬 수 있다. 그 때문에, 제1 안내부 및 제2 안내부를 승강시켜, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부를 기판보다 아래쪽에 위치시키거나, 제1 안내부의 상단부를 기판보다 아래쪽에 위치시킴과 아울러, 제2 안내부의 상단부를 기판보다 위쪽에 위치시키거나, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부를 기판보다 위쪽에 위치시키거나 할 수 있다.
제1 안내부의 상단부를 기판보다 아래쪽에 위치시킴과 아울러, 제2 안내부의 상단부를 기판보다 위쪽에 위치시킨 경우, 제1 안내부의 상단부와 제2 안내부의 상단부와의 사이에, 기판의 단면에 대향하는 개구가 형성된다. 그 때문에, 기판으로부터 비산하는 처리액을, 제1 안내부의 상단부와 제2 안내부의 상단부와의 사이로 들어가게 할 수 있고, 그 들어간 처리액을 제2 안내부의 안내에 의해 회수홈에 회수할 수 있다. 또한, 그 상태로부터, 제2 안내부를 움직이지 않고, 제1 안내부를 상승시켜, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부를 기판보다 위쪽에 위치시키면, 제1 안내부를 기판의 단면에 대향시킬 수 있어, 기판으로부터 비산하는 처리액을 제1 안내부에 의해 안내하여 아래로 흐르게 할 수 있다.
제1 안내부에 의해 처리액이 안내될 때에, 제1 안내부를 그 상단부가 제2 안내부의 상단부에 대하여 미소한 틈을 형성하여 근접하는 위치까지 상승시키면, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부의 상단부와 제2 안내부의 상단부와의 사이로 들어가 하는 것을 방지하면서, 그 기판으로부터 비산하는 처리액을 제1 안내부의 안내에 의해 아래로 흐르게 할 수 있다. 또한, 제1 안내부와 제2 안내부가 접촉하지 않으므로, 그들의 접촉에 의한 입자(Particle) 발생의 문제를 초래하는 일은 없다. 또한, 제1 안내부에 의해 처리액이 안내될 때에, 처리액은 제1 안내부에 의해 회수홈과 격리되기 때문에, 모세관 현상에 의해 회수홈에 유입될 우려는 없다. 따라서, 회수홈에 회수될 처리액과 다른 종류의 처리액이 회수홈에 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
또한, 제1 안내부에 의해 처리액이 안내될 때에, 제2 안내부를 특별히 상승시킬 필요는 없고, 제2 안내부의 위치는 제2 안내부에 의해 처리액이 안내될 때의 위치와 같아도 좋다. 그 때문에, 회수홈의 위쪽에 큰 공간을 필요로 하지 않으므로, 그만큼, 장치의 높이방향의 소형화를 도모할 수 있다.
또한, 회수되는 처리액의 종류를 늘리는 경우에는, 제2 안내부의 더 외측에, 제2 안내부를 둘러싸도록 새로운 안내부를 추가함과 아울러, 그 새로운 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈을 제2 안내부와 일체적으로 설치하면 좋고, 기존의 제1 안내부나 회수홈을 이용할 수 있다. 그 때문에, 대폭적인 비용상승을 회피할 수 있다. 즉, 대폭적인 비용상승을 초래하는 일 없이, 회수되는 처리액의 종류의 증가에 대응할 수 있다. 또한, 제1 안내부에 의해 처리액이 안내될 때에, 새롭게 준비한 안내부를 특별히 상승시킬 필요가 없으므로, 높이방향에서의 장치의 대형화도 회피할 수 있다.
상기 제1∼3 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 또한, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이에 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 포함하는 것이 바람직하다.
이러한 진입방지부가 구비되어 있으면, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부와 제2 안내부와의 사이에 진입하는 것을 확실하게 방지하면서, 그 기판으로부터 비산하는 처리액을 제1 안내부의 안내에 의해 아래로 흐르게 할 수 있다. 그 때문에, 회수홈에 회수될 처리액과 다른 종류의 처리액이 회수홈에 혼입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 결과, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도를 더욱 향상시킬 수 있다.
이 경우에 있어서, 상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성되어 있으면, 진입방지부가 제2 안내부의 상단부로부터 아래쪽으로 향하여 뻗으므로, 기판으로부터 비산하는 처리액이 그 진입방지부를 들어가, 제1 안내부와 제2 안내부와의 사이에 진입하는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 제2 안내부에 의해 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 그 처리액에 다른 종류의 처리액이 혼입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 더욱 향상시킬 수 있다. 또한 진입방지부를 제2 안내부에 일체적으로 설치할 수 있어, 장치 구성의 간소화를 도모할 수도 있다.
상기 제4 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는 기판을 거의 수평하게 지지하여, 그 기판을 거의 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와, 상기 제1 안내부의 외측에 있어서 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구와, 상기 구동기구를 제어하여, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적(同期的)으로 승강시키는 승강제어수단을 포함한다.
이 구성에 의하면, 제1 안내부 및 제2 안내부가 기판지지기구의 주위를 2중으로 둘러싼다. 제2 안내부는 제1 안내부의 외측에 있어서, 그 상단부가 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 배치되어 있다. 그리고, 구동기구가 제1 안내부 및 제2 안내부를 독립적으로 승강시키는 구성임에도 불구하고, 제1 안내부 및 제2 안내부를 동기적으로 승강시키기 위한 승강제어수단이 구비되어 있다.
이에 의해, 제1 안내부와 제2 안내부를, 각 상단부가 극히 미소한 틈을 형성하여 근접한 상태에서, 동기적으로(동시에 같은 속도로) 승강시킬 수 있다. 예컨대, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부를 기판보다 위쪽에 위치시켜서, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부로 안내되고 있는 상태로부터, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부를 기판보다 아래쪽에 위치시킬 때에, 제1 안내부와 제2 안내부를, 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 동기적으로 하강시키면, 기판지지기구에 의한 기판의 회전을 계속하고 있더라도, 그 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부의 상단부와 제2 안내부의 상단부와의 사이에 진입하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에 다른 종류의 처리액( 예컨대, 제1 안내부로 안내될 처리액)이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
상기 제4 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 또한, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이에 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 진입방지부가 구비되어 있으면, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 그 처리액이 제1 안내부와 제2 안내부와의 사이에 진입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 때문에, 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 그 회수되는 처리액에 다른 종류의 처리액이 혼입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 더욱 향상시킬 수 있다.
이 경우에 있어서, 상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성되어 있으면, 진입방지부가 제2 안내부의 상단부로부터 아래쪽으로 향하여 뻗으므로, 기판으로부터 비산하는 처리액이 그 진입방지부를 돌아서, 제1 안내부와 제2 안내부와의 사이에 진입하는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 그 처리액에 다른 종류의 처리액이 혼입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 더욱 향상시킬 수 있다. 또한 진입방지부를 제2 안내부에 일체적으로 설치할 수 있어, 장치의 구성의 간소화를 도모할 수도 있다.
상기 제4 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고, 상기 승강제어수단은 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경할 때에, 상기 구동기구를 제어하여, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적으로 상승시켜도 좋다.
기판으로부터 비산하는 처리액이 제3 안내부로 안내되는 상태에서는, 제1 안내부 및 제2 안내부의 각 상단부가 기판보다 아래쪽에 위치하고, 제3 안내부의 상단부가 기판보다 위쪽에 위치한다. 한편, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부로 안내되는 상태에서는 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부의 각 상단부가 기판보다 위쪽에 위치한다. 기판으로부터 비산하는 처리액이 제3 안내부로 안내되는 상태로부터 제1 안내부로 안내되도록 변경할 때에, 제1 안내부와 제2 안내부를, 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 동기적으로 상승시킨다. 이에 의해, 기판지지기구에 의한 기판의 회전을 계속하고 있더라도, 그 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부의 상단부와 제2 안내부의 상단부와의 사이에 진입하는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에 제3 안내부 로 안내될 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
이 경우에 있어서, 상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이에 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 구비하고 있는 것이 바람직하다.
이러한 접힘부를 구비하고 있으면, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 그 처리액이 제2 안내부와 제3 안내부와의 사이에 진입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 때문에, 제3 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 그 회수되는 처리액에 제1 안내부 또는 제2 안내부로 안내될 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다. 또한, 접힘부가 제3 안내부와 일체적으로 형성할 수 있어, 장치의 구성을 간소화할 수 있다.
또한, 상기 제4 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액 이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경할 때, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동기적으로 하강시켜도 좋다.
기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부로 안내되는 상태에서는, 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부의 각 상단부가 기판보다 위쪽에 위치한다. 이 상태로부터, 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경할 때에, 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를, 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 동기적으로 하강시킨다. 이에 의해, 기판지지기구에 의한 기판의 회전을 계속하고 있더라도, 그 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부의 각 상단부간에 진입하는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 제2 안내부 및 제3 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에 털어내져야 할 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
이 경우에 있어서, 상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이에 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 구비하고 있는 것이 바람직하다.
이러한 접힘부를 구비하고 있으면, 기판으로부터 비산하는 처리액이 제1 안 내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 그 처리액이 제2 안내부와 제3 안내부와의 사이에 진입하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 그 때문에, 제3 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 그 회수되는 처리액에 제1 안내부 또는 제2 안내부로 안내될 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다. 또한, 접힘부가 제3 안내부와 일체적으로 형성할 수 있어, 장치의 구성을 간소화할 수 있다.
상기 제5 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리방법은, 기판을 거의 수평하게 지지하고, 그 기판을 거의 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하방향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서, 기판을 처리하는 방법으로서, 상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과, 상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과, 상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시켜, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정을 포함한다.
이 방법에 의하면, 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에 제3 안내부로 안내될 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있으므로, 그 회수한 처리액을 처리에 재이용하는 경우이라도, 기판에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
또한, 상기 제5 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는 기판을 거의 수평하게 지지하고, 그 기판을 거의 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하바향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서, 기판을 처리하는 방법으로서, 상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과, 상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과, 상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시키고, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정과, 상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있 는 상태로부터, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동시에 하강시켜서, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경하는 공정을 포함한다.
이 방법에 의하면, 제2 안내부 또는 제3 안내부로 안내되는 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에 제3 안내부로 안내될 처리액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있으므로, 그 회수한 처리액을 처리에 재이용하는 경우이라도, 기판에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
상기 제6 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 기판을 거의 수평하게 지지하면서 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하기 위한 처리액공급기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제1 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제2 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와, 상기 제1 안내부로 안내되는 제1 처리액을 폐기하기 위한 폐기홈과, 상기 제2 안내부로 안내되는 제2 처리액을 회수하기 위한 회수홈과, 상기 폐기홈 안을 강제적으로 배기하기 위한 배기기구를 포함하고, 이 기판처리장치에서는, 상기 폐기홈과 상기 회수홈이 분위기적으로 격리되고 있어, 상기 회수홈 안의 강제적인 배기가 행하여지지 않는다.
이 구성에 의하면, 폐기홈 안이 강제적으로 배기되므로, 제1 처리액이 폐기홈에 폐기될 때에, 기판의 주위의 분위기를 폐기홈으로 끌어들여서 배제할 수 있다. 그리고, 폐기홈과 회수홈이 분위기적으로 격리되고, 또한, 회수홈 안은 강제적인 배기가 행하여지지 않으므로, 폐기홈 안의 배기가 행하여져도, 회수홈 안은 배기되지 않아, 회수홈으로 유입되는 기류는 생기지 않는다. 그 때문에, 회수홈에 제1 처리액의 비말이 들어가는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 폐기홈 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도의 향상을 도모할 수 있다.
이 경우에 있어서, 상기 제1 안내부는 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 좁은 간격이 형성되는 제1 위치와, 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 넓은 간격이 형성되는 제2 위치로 이동가능하게 설치되어, 상기 제2 안내부가 제2 처리액을 안내할 때에, 상기 제1 위치에 배치되는 것이 바람직하다.
이에 의해, 제2 처리액이 제2 안내부로 안내될 때, 즉 제2 처리액이 회수홈에 회수될 때에, 제1 안내부와 기판지지기구와의 간격이 좁아진다. 그 때문에, 폐기홈 안의 배기가 행하여져도, 제1 안내부와 기판지지기구와의 사이에서, 그 배기에 의한 흡인력에 의해 폐기홈 안으로 제2 처리액이 끌어들여지는 것을 방지할 수 있어, 제2 처리액의 회수율의 향상을 도모할 수 있다.
또한, 상기 제1 안내부는 상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되어, 상기 폐기홈 및 상기 회수홈과 일체적으로 형성되어 있는 것이 더욱 바람직하다.
이 경우, 제1 안내부를 폐기홈과 회수홈과의 사이에 있어서 그들과 일체적으로 설치하는 간단한 구성에 의해, 폐기홈과 회수홈을 분위기적으로 격리할 수 있고, 폐기홈 안의 배기에 따르는 회수홈 안의 배기를 방지할 수 있다. 그 결과, 구성의 복잡화 및 이에 따르는 비용상승을 초래하는 일 없이, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제6 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 또한, 상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되고, 상기 제1 안내부에 접속되어, 상기 제1 안내부와 함께 상기 폐기홈과 상기 회수홈을 분위기적으로 격리하는 격리부재를 더 포함하는 것이 바람직하다. 제1 안내부가 폐기홈 및 회수홈과 별체로 구성되어 있더라도, 폐기홈과 회수홈과의 사이에 격리부재를 설치하고, 이 격리부재를 제1 안내부에 접속하는 간단한 구성에 의해, 폐기홈과 회수홈을 분위기적으로 격리할 수 있어, 폐기홈의 폐기에 수반하는 회수홈 안의 배기를 방지할 수 있다. 그 결과, 구성의 복잡화 및 이에 따르는 비용상승을 초래하는 일 없이, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도를 향상시킬 수 있다.
본 발명에서의 상술한, 또는 더 다른 목적, 특징 및 효과는 첨부도면을 참조하여 다음에 설명하는 실시형태의 설명에 의해 명백하게 된다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 기판처리장치의 구성을 나타내는 평면도이다. 이 기판처리장치는 기판의 하나의 예인 웨이퍼(W)에 처리액으로서의 제1 약액, 제2 약액 및 순수(탈이온화된 물)를 소정의 순서로 공급하여, 그 웨이퍼 (W)에 세정처리를 실시하기 위한 장치이다. 그리고, 이 기판처리장치는 웨이퍼(W)를 거의 수평하게 지지하여, 그 웨이퍼(W)를 거의 수직한 회전축선(C, 도 2 참조) 주위로 회전시키기 위한 스핀척(1)과, 이 스핀척(1)을 수용하는 컵(2)과, 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 표면(상면)에 제1 약액, 제2 약액 및 순수를 선택적으로 공급하기 위한 노즐(3)을 구비하고 있다.
한편, 도 1에서는, 노즐(3)이 스핀척(1)의 위쪽에 비스듬하게 고정적으로 배치되어, 웨이퍼(W)의 표면에 대하여 위쪽으로부터 비스듬하게 처리액을 공급하는 구성이 제시되어 있지만, 노즐(3)이 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전축선상에 고정적으로 배치되어, 웨이퍼(W)의 표면에 대하여 위쪽에서 수직으로 처리액을 공급하는 구성이 사용되어도 좋다. 또한, 스핀척(1)(컵(2))의 위쪽에 있어서 수평면내에서 요동가능한 아암(Arm)에 노즐(3)이 설치되어, 아암의 요동에 의해 웨이퍼(W)의 표면에서의 처리액의 공급위치가 스캔닝(Scanning)되는, 소위 스캔 노즐(Scan Nozzle)의 형태가 사용되어도 좋다. 또한, 이후에 설명하는 건조공정에 있어서 웨이퍼(W)의 표면에 근접하여 대향 배치되는 차단판이 구비되는 경우에는, 차단판의 중앙부에 처리액공급구가 형성되어, 이 처리액공급구로부터 웨이퍼(W)의 표면에 처리액이 공급되도록 하여도 좋다. 또한, 제1 약액을 공급하는 노즐과, 제2 약액을 공급하는 노즐과, 순수를 공급하는 노즐을 설치하고, 노즐을 선택하여 각 처리액을 공급하는 구성으로 하여도 좋다.
도 2은 도 1에 도시하는 스핀척(1) 및 컵(2)을 절단선 A-A에서 절단하였을 때의 단면도이다. 또한, 도 3은 도 1에 도시하는 스핀척(1) 및 컵(2)을 절단선 B- B에서 절단하였을 때의 단면도이다.도 4은 도 1에 도시하는 스핀척(1) 및 컵(2)을 절단선 C-C에서 절단하였을 때의 단면도이다.
스핀척(1)은 거의 수직으로 배치된 회전축(4)과, 이 회전축(4)의 상단에 고정된 원판형상의 스핀 베이스(Spin Base, 5)와, 스핀 베이스(5)의 아래쪽에 배치된 모터(6)를 구비하고 있다.
회전축(4)은 모터(6)의 구동축과 일체화된 중공(중공(中空))축이다. 회전축(4)의 내부에는 이면(이면(裏面))처리액공급관(7)이 삽입 통과되어 있다. 이 이면처리액공급관(7)에는 제1 약액, 제2 약액 및 순수가 선택적으로 공급되도록 되어 있다. 또한, 이면처리액공급관(7)의 상단부에는, 이면처리액공급관(7)에 선택적으로 공급되는 처리액(제1 약액, 제2 약액 및 순수)을 토출하는 이면노즐(8)이 형성되어 있다. 이 이면노즐(8)은 처리액을 거의 수직 상향으로 토출한다. 이면노즐(8)로부터 토출된 처리액은 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 이면 중앙에 대하여 거의 수직하게 입사한다.
스핀 베이스(5)는 평면에서 보아서 원판형상의 상부커버(9)와, 마찬가지로 평면에서 보아서 원판형상의 하부커버(10)를 구비하고 있다. 상부커버(9)와 하부커버(10)는 볼트를 사용하여 서로 고정되어 있고, 그들의 사이에 이후에 설명하는 링크기구를 수용하기 위한 수용공간(11)을 형성하고 있다. 또한, 스핀 베이스(5)의 중앙부(상부커버(9) 및 하부커버(10)의 각 중앙부)에는 회전축(4)의 내경과 거의 같은 직경을 갖는 삽입통과공(12)이 형성되어 있다. 이 삽입통과공(12)의 주위에, 회전축(4)의 상단이 결합됨으로써, 회전축(4)의 내면과 삽입통과공(12)의 주면 (周面)이 단차(段差)없이 연속하고 있다. 그리고, 회전축(4)의 상단으로부터 이면처리액공급관(7)이 돌출하고, 그 이면처리액공급관(7)의 돌출한 부분이 삽입통과공(12)으로 삽입 통과되어 있다.
스핀 베이스(5)의 상면에는, 그 주변부에 거의 등각도 간격으로 복수(이 실시형태에서는 세 개)의 협지부재(挾持部材, 13)가 배치되어 있다. 각 협지부재(13)는 웨이퍼(W)를 아래쪽에서 지지하는 지지부(14)와, 웨이퍼(W)의 단면을 규제하기 위한 규제부(15)를 구비하고 있다. 이들의 협지부재(13)는 스핀 베이스(5) 안에 수용된 링크기구(도시하지 않음)에 의해 연동(連動)되어, 각 지지부(14)에 지지된 웨이퍼(W)의 주변부에 각 규제부(15)를 접촉시켜, 웨이퍼(W)를 협동하여 협지하고, 또한, 각 규제부(15)를 웨이퍼(W)의 주변부로부터 퇴피시켜서, 그 웨이퍼(W)의 협지를 해제한다.
모터(6)는 수평하게 뻗는 베이스(16) 위에 배치되어, 통(筒)형상의 커버부재(17)에 의해 둘러싸여 있다. 커버부재(17)는 그 하단(下端)이 베이스(16)에 고정되며, 상단이 스핀 베이스(5)의 하부커버(10)의 근방에까지 미치고 있다. 커버부재(17)의 상단부에는, 커버부재(17)로부터 바깥쪽으로 거의 수평하게 돌출하고, 아래쪽으로 굴곡하여 뻗는 플랜지부재(Flange, 18)가 설치되어 있다.
컵(2)은 서로 독립적으로 승강가능한 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)를 구비하고 있다.
내부구성부재(19)는 스핀척(1)의 주위를 둘러싸고, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 대하여 거의 회전대칭인 형상을 갖고 있다. 이 중간구성부재 (19)는 평면에서 보아서 원고리형상의 바닥부(22)와, 이 바닥부(22)의 내주변으로부터 위쪽으로 돌출하는 원통형상의 내벽부(23)와, 바닥부(22)의 외주변으로부터 위쪽으로 돌출하는 원통형상의 외벽부(24)와, 내벽부(23)와 외벽부(24)와의 사이로부터 돌출하고, 상단부(25b)가 부드러운 원호를 그리면서 중심측(웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 근접하여 가는 방향) 위쪽에 비스듬하게 뻗는 제1 안내부(25)를 일체적으로 구비하고 있다.
내벽부(23)는 내부구성부재(19)가 가장 상승된 상태(도 4에 가상선으로 나타내는 상태)에서, 커버부재(17)와 플랜지부재(18)와의 사이에 틈을 유지하여, 그 커버부재(17)와 플랜지부재(18)와의 사이에 수용되는 것 같은 길이로 형성되어 있다.
외벽부(24)는 내부구성부재(19)와 중간구성부재(20)가 가장 근접한 상태에서, 중간구성부재(20)의 이후에 설명하는 제2 안내부(48)와 내벽부(50)와의 사이에 틈을 유지하여, 그 제2 안내부(48)(하단부(48a))와 내벽부(50)와의 사이에 수용되는 것 같은 길이로 형성되어 있다.
내벽부(23)와 제1 안내부(25)와의 사이는, 웨이퍼(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아서 폐기하기 위한 폐기홈(26)으로 이루어져 있다. 또한, 제1 안내부(25)와 외벽부(24)와의 사이는, 웨이퍼(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아서 회수하기 위한 내측회수홈(27)으로 이루어져 있다. 바꿔 말하면, 폐기홈(26)과 내측회수홈(27)과의 사이에는 제1 안내부(25)가 직립 설치되어 있고, 이 제1 안내부(25)에 의해, 폐기홈(26)과 내측회수홈(27)이 격리되어 있다.
폐기홈(26)에는 이 폐기홈(26)에 모아진 처리액을 배출함과 아울러, 폐기홈 (26) 안을 강제적으로 배기하기 위한 배기액기구(28)가 접속되어 있다. 이 배기액기구(28)는 도 1에 도시하는 바와 같이, 예컨대, 90도의 등각도 간격으로 네 개 설치되어 있다. 각 배기액기구(28)는 도 3에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)에 삽입 통과된 고정통부재(29)와, 이 고정통부재(29)의 상단에 고정된 원고리형상의 스페이서(Spacer, 30)와, 상단부가 내부구성부재(19)의 바닥부(22)에 결합됨과 아울러, 하단부가 스페이서(30) 및 고정통부재(29) 안에 삽입된 이동통부재(31)와, 이 이동통부재(31) 안과 폐기홈(26)을 연통하는 연통공(32)과, 상단부가 내부구성부재(19)의 바닥부(22)에 고정됨과 아울러, 하단부가 스페이서(30)에 고정되어, 이동통부재(31)의 외주를 피복하는 벨로즈(Bellows, 33)를 구비하고 있다.
고정통부재(29)의 하단부에는, 도시하지 않은 부압원(負壓源)으로부터 뻗는 배관(34)이 접속되어 있다. 부압원이 발생하는 부압에 의해, 배관(34)을 통하여 고정통부재(29) 안이 배기되면, 폐기홈(26) 안의 분위기가 이동통부재(31)를 통하여 고정통부재(29)로 흡입되고, 이에 의해 폐기홈(26) 안의 배기가 달성된다. 그리고, 이 폐기홈(26) 안의 배기에 의해, 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 주위의 분위기가 폐기홈(26)으로 끌어 들여져 배제된다. 또한, 웨이퍼(W)의 처리에 사용된 처리액이 폐기홈(26)에 모아질 때에는 이 폐기홈(26)에 모아진 처리액이 폐기홈(26) 안의 분위기와 함께, 연통공(32), 이동통부재(31), 고정통부재(29) 및 배관(34)을 통하여 배출된다. 분위기와 함께 배출되는 처리액은 배관(34)의 도중부에 개재된 기액(氣液)분리기(도시하지 않음)에 의해 분위기로부터 분리되어, 예컨대, 이 기판처리장치가 설치되는 공장의 폐기라인으로 폐기된다.
내측회수홈(27)에는, 이 내측회수홈(27)에 모아진 처리액을 도시하지 않은 회수탱크에 회수하기 위한 회수기구(35)가 접속되어 있다. 이 회수기구(35)는 도 1에 도시하는 바와 같이, 예컨대, 스핀척(1)을 끼워서 서로 대향하는 위치(회전축선(C)에 대하여 서로 대칭을 이루는 위치)에 각각 설치되어 있다. 각 회수기구(35)는 도 2에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)에 삽입 통과된 원통형상의 삽입통과부(36)와, 이 삽입통과부(36)의 상단에 고정된 원고리형상의 스페이서(37)와 스페이서(37)의 상면에 상단부가 고정되어서, 삽입통과부(36) 및 스페이서(37)에 삽입 통과하여 아래쪽으로 뻗는 고정통부재(38)와, 내부구성부재(19)의 바닥부(22)에 고정된 지지부재(39)와, 이 지지부재(39)에 상단부가 지지되어, 하단부가 고정통부재(38) 안에 삽입된 이동통부재(40)와, 이 이동통부재(40) 안과 내측회수홈(27)을 연통하는 연통공(41)과, 상단부가 지지부재(39)에 고정됨과 아울러, 하단부가 고정통부재(38)에 고정되어, 이동통부재(40)의 외주를 피복하는 벨로즈(42)와, 고정통부재(38)의 하단부에 나사박음질된 이음부(43)와, 삽입통과부(36)의 하단부로부터 아래쪽으로 뻗고, 이음부(43)의 주위를 둘러싸는 통형상의 접속포위부재(44)와, 이 접속포위부재(44)의 하단 개구를 폐쇄하도록 설치된 폐쇄부재(45)를 구비하고 있다.
폐쇄부재(45)에는 접속구(46)가 형성되어 있다. 이 접속구(46)를 통하여, 회수탱크로부터 뻗는 회수배관(47)이 이음부(43)에 접속되어 있다. 내측회수홈(27)에 모아지는 처리액은 연통공(41), 이동통부재(40), 고정통부재(38), 이음부(43) 및 회수배관(47)을 통하여 회수탱크에 회수된다.
중간구성부재(20)는 스핀척(1)의 주위를 둘러싸고, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 대하여 거의 회전대칭인 형상을 갖고 있다. 이 중간구성부재(20)는 제2 안내부(48)와, 평면에서 보아서 원고리형상의 바닥부(49)와, 이 바닥부(49)의 내주변에서 위쪽으로 돌출하고, 제2 안내부(48)에 연결된 원통형상의 내벽부(50)와, 바닥부(49)의 외주변으로부터 위쪽으로 돌출하는 원통형상의 외벽부(51)를 일체적으로 구비하고 있다.
제2 안내부(48)는 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 외측에 있어서, 제1 안내부(25)의 하단부와 동축(同軸) 원통형상을 이루는 하단부(48a)와, 이 하단부(48a)의 상단으로부터 부드러운 원호를 그리면서 중심측(웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 근접하여 가는 방향) 위쪽에 비스듬하게 뻗는 상단부(48b)와, 상단부(48b)의 선단부를 아래쪽으로 접어서 형성되는 접힘부(48c)를 갖고 있다.
하단부(48a)는 내측회수홈(27) 위에 위치하고 있다. 이 하단부(48a)는 내부구성부재(19)와 중간구성부재(20)가 가장 근접한 상태에서, 내부구성부재(19)의 바닥부(22), 외벽부(24) 및 제1 안내부(25) 와의 사이에 틈을 유지하여, 내측회수홈(27)에 수용된다.
상단부(48b)는 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 상하방향으로 겹치도록 설치되어 있다. 이 상단부(48b)는 내부구성부재(19)과 중간구성부재(20)가 가장 근접한 상태에서, 제1 안내부(25)의 상단부(25b)에 대하여 극히 미소한 틈을 유지하여 근접한다.
접힘부(48c)는 내부구성부재(19)와 중간구성부재(20)가 가장 근접한 상태에 서, 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 수평방향으로 겹치도록 형성되어 있다.
또한, 제2 안내부(48)의 상단부(48b)는 아래쪽으로 갈수록 두껍게 형성되어 있고, 내벽부(50)는 그 상단부(48b)의 외주변부에 연결되어 있다. 그리고, 바닥부(49), 내벽부(50) 및 외벽부(51)은 단면 거의 U자 형상을 이루고 있고, 이들의 바닥부(49), 내벽부(50) 및 외벽부(51)에 의해, 웨이퍼(W)의 처리에 사용된 처리액을 모아서 회수하기 위한 외측회수홈(52)이 구획되어 있다.
외측회수홈(52)에는 이 외측회수홈(52)에 모아진 처리액을 도시하지 않은 회수탱크에 회수하기 위한 회수기구(53)가 접속되어 있다. 회수기구(53)는 도 2에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)에 삽입 통과된 원통형상의 삽입통과부재(54)와, 이 삽입통과부재(54)의 상단에 고정된 원고리형상의 스페이서(55)와, 스페이서(55)의 상면에 상단부가 고정되어, 삽입통과부재(54) 및 스페이서(55)에 삽입 통과하여 아래쪽으로 뻗는 고정통부재(56)와, 중간구성부재(20)의 바닥부(49)에 고정된 지지부재(57)와, 이 지지부재(57)에 상단부가 지지되어, 하단부가 고정통부재(56) 안에 삽입된 이동통부재(58)과, 이 이동통부재(58) 안과 외측회수홈(52)을 연통하는 연통공(59)과, 상단부가 지지부재(57)에 고정됨과 아울러, 하단부가 고정통부재(56)에 고정되어, 이동통부재(58)의 외주를 피복하는 벨로즈(60)와, 고정통부재(56)의 하단부에 나사박음질된 이음부(61)와, 삽입통과부재(54)의 하단부로부터 아래쪽으로 뻗고, 이음부(61)의 주위를 둘러싸는 통형상의 접속부포위부재(62)와, 이 접속부포위부재(62)의 하단 개구를 폐쇄하도록 설치된 폐쇄부재(63)를 구비하고 있다.
폐쇄부재(63)에는 접속구(64)가 형성되어 있다. 이 접속구(64)를 통하여, 회수탱크로부터 뻗는 회수배관(65)이 이음부(61)에 접속되어 있다. 외측회수홈(52)에 모아지는 처리액은 연통공(59), 이동통부재(58), 고정통부재(56), 이음부(61) 및 회수배관(65)을 통하여 회수탱크에 회수된다.
외부구성부재(21)는 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 외측에 있어서, 스핀척(1)의 주위를 둘러싸고, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 대하여 거의 회전대칭인 형상을 갖고 있다. 이 외부구성부재(21)는 제2 안내부(48)의 하단부(48a)와 동축 원통형상을 이루는 하단부(21a)와, 하단부(21a)의 상단으로부터 부드러운 원호를 그리면서 중심측(웨이퍼(W)의 회전축선(C)에 근접하여 가는 방향)위쪽에 비스듬하게 뻗는 상단부(21b)와, 상단부(21b)의 선단부를 아래쪽으로 접어서 형성되는 접힘부(21c)를 갖고 있다.
하단부(21a)는 외측회수홈(52) 위에 위치하고, 중간구성부재(20)와 외부구성부재(21)가 가장 근접한 상태에서, 중간구성부재(20)의 바닥부(49), 내벽부(50) 및 외벽부(51)와의 사이에 틈을 유지하고, 외측회수홈(52)에 수용되는 것 같은 길이로 형성되어 있다.
상단부(21b)는 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 상하방향으로 겹치도록 설치되고, 중간구성부재(20)와 외부구성부재(21)가 가장 근접한 상태에서, 제2 안내부(48)의 상단부(48b)에 대하여 극히 미소한 틈을 유지하여 근접하도록 형성되어 있다.
접힘부(21c)는 중간구성부재(20)와 외부구성부재(21)가 가장 근접한 상태에서, 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 수평방향으로 겹치도록 형성되어 있다.
또한, 컵(2)은 내부구성부재(19)를 승강시키기 위한 제1 승강기구(66)와, 중간구성부재(20)를 승강시키기 위한 제2 승강기구(67)와, 외부구성부재(21)를 승강시키기 위한 제3 승강기구(68)를 구비하고 있다.
제1 승강기구(66)는 도 1에 도시하는 바와 같이, 예컨대, 스핀척(1)을 끼워서 서로 대향하는 위치(회전축선(C)에 대하여 서로 대칭을 이루는 위치)에 각각 설치되어 있다. 각 제1 승강기구(66)는 도 4에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)의 하면에 고정된 원고리형상의 설치부재(69)와, 이 설치부재(69)에 설치되어, 베이스(16)을 관통하여 설치된 볼나사기구(70)와, 베이스(16)의 상면에 고정된 원고리형상의 스페이서(71)와, 내부구성부재(19)의 바닥부(22)에 고정된 블록(Block, 72)과, 볼나사기구(70)의 이후에 설명하는 샤프트(Shaft, 84)를 블록(72)에 연결하기 위한 연결부재(73)와, 상단부가 내부구성부재(19)의 바닥부(22)에 고정됨과 아울러, 하단부가 스페이서(71)에 고정되어, 블록(72), 연결부재(73) 및 볼나사기구(70)의 샤프트(84)의 외주를 피복하는 벨로즈(74)를 구비하고 있다.
제2 승강기구(67)은 도 1에 도시하는 바와 같이, 예컨대, 스핀척(1)을 끼워서 서로 대향하는 위치(회전축선(C)에 대하여 서로 대칭을 이루는 위치)에 각각 설치되어 있다. 각 제2 승강기구(67)는 도 4에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)의 하면에 고정된 원고리형상의 설치부재(75)와, 이 설치부재(75)에 설치되어, 베이스(16)를 관통하여 설치된 볼나사기구(70)와, 베이스(16)의 상면에 고정된 원고리형상의 스페이서(76)와, 중간구성부재(20)의 측면에 고정됨과 아울러, 볼나사기구(70)의 이후에 설명하는 샤프트(84)가 연결된 연결블록(77)과, 상단부가 연결블록 (77)에 고정됨과 아울러, 하단부가 스페이서(76)에 고정되어, 볼나사기구(70)의 샤프트(84)의 외주를 피복하는 벨로즈(78)를 구비하고 있다.
제3 승강기구(68)는 도 1에 도시하는 바와 같이, 예컨대, 웨이퍼(W)의 회전축선(C)(도 2 참조)을 중심으로 하는 중심각이 120도를 이루는 두 곳에 설치되어 있다. 각 제3 승강기구(67)는 도 3에 도시하는 바와 같이, 베이스(16)의 표면에 고정된 원통형상의 스페이서(79)와, 외부구성부재(21)의 측면에 고정됨과 아울러, 볼나사기구(70)의 이후에 설명하는 샤프트(84)가 연결된 연결블록(80)과, 상단부가 연결블록(80)에 고정됨과 아울러, 하단부가 스페이서(79)에 고정되어, 볼나사기구(70)의 샤프트(84)의 외주를 피복하는 벨로즈(81)를 구비하고 있다. 한편, 제3 승강기구(68)에 있어서도, 제1 승강기구(66) 및 제2 승강기구(67)와 마찬가지로, 볼나사기구(70)는 베이스(16)의 하면에 고정된 설치부재(도시하지 않음)에 설치되어, 베이스(16)를 관통하여 설치된다.
도 5는 볼나사기구(70)의 구성을 나타내는 단면도이다.
볼나사기구(70)는 지지통체(82)와, 이 지지통체(82)의 상단부에 끼워 맞춰 지지된 볼 스플라인 베어링(Ball Spline Bearing, 83)과, 이 볼 스플라인 베어링(83)에 직접 이동가능하게 지지된 샤프트(84)를 구비하고 있다.
지지통체(82)의 상단부에는, 외주면으로부터 측방으로 돌출하는 플랜지부(85)가 형성되어 있다. 지지통체(82)는 플랜지부(85)에 볼트(86)가 삽입 통과되어, 그 볼트(86)가 설치부재(69, 75, 도 4 참조)에 나사박음질됨으로써, 설치부재(69, 75)에 대하여 설치된다.
샤프트(84)는 그 대략 하반분의 주면에 나사홈(87)이 절결되어 있다. 이 나사홈(87)에는 너트(88)가 나사부착되어 있다. 또한, 샤프트(84)는 이후에 설명하는 모터(91, 92, 93)로부터의 회전력이 입력되는 풀리(Pully, 89)를 회전가능하게 관통하고 있다. 이 풀리(89)는 볼트(90)에 의해, 너트(88)에 대하여 상대회전이 불가능하게 고정되어 있다. 이에 의해, 풀리(89)에 회전력이 입력되면, 풀리(89)와 함께 너트(88)가 회전하고, 이 너트(88)의 회전이 나사홈(87)에 의해 샤프트(84)의 직선운동으로 변환되어, 샤프트(84)가 수직방향으로 직접 이동한다.
도 6은 제1 승강기구(66), 제2 승강기구(67) 및 제3 승강기구(68)에 구동력을 전달하기 위한 구성을 간략화하여 나타내는 평면도이다.
이 기판처리장치는 또한, 각 두 개의 제1 승강기구(66), 제2 승강기구(67) 및 제3 승강기구(68)에 대하여, 각각 한 개 모터(91, 92, 93)를 구비하고 있다. 모터(91)는 두 개의 제1 승강기구(66)의 한 쪽의 근방에 배치되어 있다. 모터(91)의 출력축(94)에는 모터풀리(95)가 고착(固着)되어 있다. 이 모터풀리(95)에는 무단(無端)형상의 벨트(96)가 감겨져 있다. 벨트(96)는 두 개의 제1 승강기구(66)의 다른 쪽(모터(91)로부터 떨어진 위치에 배치되어 있는 제1 승강기구(66))에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)에 감겨져 있다. 또한, 벨트(96)는 모터풀리(95)의 근방에 있어서, 두 개의 제1 승강기구(66)의 한 쪽에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)를 양측에서 끼우도록 설치되어 있다. 또한, 각 제1 승강기구(66)에 관련하여, 두 개의 텐션풀리(Tension Pulley, 97)가 구비되어 있다. 이들의 텐션풀리(97)에 의해, 벨트(96)에 대하여, 벨트(96)와 각 풀리(89) 및 모터풀리 (95)와의 사이에서 미끄럼이 발생하지 않을 정도의 장력이 부여되어 있다.
모터(92)는 두 개의 제2 승강기구(67)의 한 쪽의 근방에 배치되어 있다. 모터(92)의 출력축(98)에는 모터풀리(99)가 고착되어 있다. 이 모터풀리(99)에는 무단형상의 벨트(100)가 감겨져 있다. 벨트(100)는 두 개의 제2 승강기구(67)의 다른 쪽(모터(92)로부터 떨어진 위치에 배치되어 있는 제2 승강기구(67))에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)에 감겨져 있다. 또한, 벨트(100)는 모터풀리(99)의 근방에 있어서, 두 개의 제2 승강기구(67)의 한 쪽에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)를 양측에서 끼우도록 설치되어 있다. 또한, 각 제2 승강기구(67)에 관련하여, 두 개의 텐션풀리(101)가 구비되어 있다. 이들의 텐션풀리(101)에 의해, 벨트(100)에 대하여, 벨트(100)와 각 풀리(89) 및 모터풀리(99)와의 사이에서 미끄럼이 발생하지 않을 정도의 장력이 부여되어 있다.
모터(93)는 두 개의 제3 승강기구(68)의 한 쪽의 근방에 배치되어 있다. 모터(93)의 출력축(102)에는 모터풀리(103)가 고착되어 있다. 이 모터풀리(103)에는 무단형상의 벨트(104)가 감겨져 있다. 벨트(104)는 두 개의 제3 승강기구(68)의 다른 쪽(모터(93)로부터 떨어진 위치에 배치되어 있는 제3 승강기구(68))에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)에 감겨져 있다. 또한, 벨트(104)는 모터풀리(103)의 근방에 있어서, 두 개의 제3 승강기구(68)의 한 쪽에 구비되어 있는 볼나사기구(70)의 풀리(89)을 양측에서 끼우도록 설치되어 있다. 또한, 각 제3 승강기구(68)에 관련하여, 두 개의 텐션풀리(105)가 구비되어 있다. 이들의 텐션풀리(105)에 의해, 벨트(104)에 대하여, 벨트(104)와 각 풀리(89) 및 모터풀리(103)와 의 사이에서 미끄럼이 발생하지 않을 정도의 장력이 부여되어 있다.
이에 의해, 모터(91, 92, 93)를 개별적으로 구동함으로써, 모터(91, 92, 93)로부터 발생되는 회전력을, 각각 제1 승강기구(66), 제2 승강기구(67) 및 제3 승강기구(68)에 개별적으로 입력할 수 있다. 그리고, 제1 승강기구(66), 제2 승강기구(67) 및 제3 승강기구(68)에 의해, 각각 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)를 서로 독립적으로 승강시킬 수 있다.
또한, 이 기판처리장치에는 마이크로 컴퓨터를 포함하는 구성인 제어부(106)가 구비되어 있다. 제어부(106)는 웨이퍼(W)에 대한 처리의 각 공정에 있어서, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 각각 적절한 위치에 배치되도록 모터(91, 92, 93)를 제어한다.
도 7 내지 도 10은 웨이퍼(W)에 대한 처리의 각 공정에서의 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)의 위치를 도해적으로 나타내는 단면도이다.
웨이퍼(W)에 대한 처리가 행하여져 있는 사이 배기액기구(28)에 의해, 폐기홈(26) 항시 배기되어 있다.
웨이퍼(W)의 반입(搬入) 전은, 도 7에 도시하는 바와 같이, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 가장 아래쪽까지 내려져 있다. 이때, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b), 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b) 및 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 모두, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 지지 위치보다 아래쪽에 위치하고 있다.
웨이퍼(W)가 반입되어 와서, 그 웨이퍼(W)가 스핀척(1)에 지지되면, 도 8에 도시하는 바와 같이, 외부구성부재(21)만이 상승되어, 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 위쪽에 배치된다. 이에 의해, 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 외부구성부재(21)의 상단부(21b)와의 사이에, 웨이퍼(W)의 단면에 대향하는 개구가 형성된다.
그 후, 웨이퍼(W)(스핀척(1))가 회전되어, 그 회전하고 있는 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대하여, 각각 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터 제1 약액이 공급된다. 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 공급되는 제1 약액은 웨이퍼(W)의 회전에 의한 원심력을 받고, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면을 타고 흘러, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 측방으로 비산한다. 이에 의해, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 제1 약액이 널리 퍼져, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대한 제1 약액에 의한 처리가 달성된다.
웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 제1 약액은 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 외부구성부재(21)의 상단부(21b)와의 사이로 들어간다. 그리고, 외부구성부재(21)의 내면을 타고 아래로 흘러, 외측회수홈(52)에 모아지고, 외측회수홈(52)으로부터 회수기구(53)를 통하여 회수탱크에 회수된다. 이때, 내부구성부재(19) 및 중간구성부재(20)가 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 근접하고, 또한, 제2 안내부(48)의 접힘부(48c)가 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 수평방향으로 포개짐으로써, 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이로의 처리액의 진입이 방지된다.
웨이퍼(W)로의 제1 약액의 공급이 소정 시간에 걸쳐 행하여지면, 내부구성부재(19) 및 중간구성부재(20)가 상승되어, 도 9에 도시하는 바와 같이, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b), 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b) 및 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)보다 위쪽에 배치된다. 이때, 내부구성부재(19) 및 중간구성부재(20)는 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태(내부구성부재(19)와 중간구성부재(20)의 상대적인 위치관계를 유지한 상태)에서, 동기적으로 상승된다. 이에 의해, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전 및 제1 약액의 공급이 계속되고 있더라도, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이로 진입하는 것을 방지할 수 있다.
그 후, 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터의 제1 약액의 공급이 정지된다. 그리고, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대하여, 각각 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터 순수가 공급됨으로써, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면을 수세하기 위한 세정공정이 행하여진다. 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 공급되는 순수는 웨이퍼(W)의 회전에 의한 원심력을 받아, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면을 타고 흐르고, 이때 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 부착되어 있는 제1 약액을 씻어낸다. 그리고, 제1 약액을 포함하는 순수는 웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 비산한다.
웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 순수(제1 약액을 포함하는 순수)는 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 내면에 포획된다. 그리 고, 내부구성부재(19)의 내면을 타고 아래로 흘러, 폐기홈(26)에 모아지고, 배기액기구(28)에 의해, 폐기홈(26) 안의 분위기와 함께 배출된다. 이때, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 근접하고, 또한, 외부구성부재(21)의 접힘부(21c)가 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 수평방향으로 포개지고, 제2 안내부(48)의 접힘부(48c)가 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 수평방향으로 포개짐으로써, 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이 및 제2 안내부(48)와 외부구성부재(21)와의 사이로의 처리액의 진입이 방지된다.
웨이퍼(W)로의 순수의 공급이 소정 시간에 걸쳐 행하여지면, 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터의 순수의 공급이 정지된다. 그리고, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 가장 아래쪽까지 내려감으로써, 도 7에 도시하는 바와 같이 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b), 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b) 및 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 웨이퍼(W)보다 아래쪽에 배치된다. 이 후, 웨이퍼(W)(스핀척(1))의 회전속도가 미리 결정되는 고회전속도로 증가되어, 세정공정 후의 웨이퍼(W)의 표면에 부착되어 있는 린스액을 원심력으로 털어내져 건조시키는 건조공정이 소정 시간에 걸쳐 행하여진다. 건조공정이 종료하면, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전이 정지되어, 스핀척(1)으로부터 처리 후의 웨이퍼(W)가 반출되어 간다.
또한, 제1 약액에 의한 처리후의 세정공정에 계속하여, 웨이퍼(W)에 대하여 제2 약액에 의한 처리가 행하여지는 경우에는, 먼저, 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부 터의 순수의 공급이 정지된다. 그 후, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 최상쪽에 위치하고 있는 상태로부터, 내부구성부재(19)가 하강되어, 도 10에 도시하는 바와 같이 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)만이 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)보다 아래쪽에 배치된다. 이에 의해, 내부구성부재(19)의 상단부와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에, 웨이퍼(W)의 단면에 대향하는 개구가 형성된다.
그리고, 세정공정시부터 계속하여 회전하고 있는 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대하여, 각각 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터 제2 약액이 공급된다. 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 공급되는 제2 약액은 웨이퍼(W)의 회전에 의한 원심력을 받아, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면을 타고 흘러, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 측방으로 비산한다. 이에 의해, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 제2 약액이 널리 퍼지고, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대한 제2 약액에 의한 처리가 달성된다.
웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 제2 약액은 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이로 들어간다. 그리고, 제2 안내부(48)의 내면을 타고 아래로 흘러, 내측회수홈(27)에 모아져서, 내측회수홈(27)으로부터 회수기구(35)를 통하여 회수탱크에 회수된다. 이때, 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 외부구성부재(21)의 상단부(21b)와의 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 근접하고, 또한, 외부구성부재(21)의 접힘부(21c)가 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 수평방향으로 겹침으로써, 제2 안내부(48)와 외부구성부재(21)와의 사이로의 처리액의 진입이 방지된다.
웨이퍼(W)로의 제2 약액의 공급이 소정 시간에 걸쳐 행하여지면, 내부구성부재(19)가 상승되어, 도 9에 도시하는 바와 같이 다시, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b), 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b) 및 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)보다 위쪽에 배치된다.
그 후, 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터의 제2 약액의 공급이 정지된다. 그리고, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 대하여, 각각 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터 순수가 공급되어, 웨이퍼(W)의 표면 및 이면에 부착된 제2 약액을 씻어내기 위한 세정공정이 행하여진다. 이 세정공정에서는, 제1 약액에 의한 처리 후에 행하여지는 세정공정의 경우와 같이 웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 순수(제2 약액을 포함하는 순수)는 폐기홈(26)에 모아져서 배출된다. 또한, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)는 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 근접하고, 또한, 외부구성부재(21)의 접힘부(21c)가 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 수평방향으로 겹치고, 제2 안내부(48)의 접힘부(48c)가 제1 안내부(25)의 상단부(25b)과 수평방향으로 겹침으로써, 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이 및 제2 안내부(48)와 외부구성부재(21)와의 사이로의 처리액의 진입이 방지된다.
웨이퍼(W)로의 순수의 공급이 소정 시간에 걸쳐 행하여지면, 노즐(3) 및 이면노즐(8)로부터의 순수의 공급이 정지된다. 그리고, 내부구성부재(19), 중간구성 부재(20) 및 외부구성부재(21)가 가장 아래쪽까지 내려간다. 이에 의해, 도 7에 도시하는 바와 같이, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b), 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b) 및 외부구성부재(21)의 상단부(21b)가 웨이퍼(W)보다 아래쪽에 배치된다. 이 후, 웨이퍼(W)(스핀척(1))의 회전속도가 미리 결정되는 고회전속도로 증가되어, 세정공정 후의 웨이퍼(W)의 표면에 부착되고 있는 린스액을 원심력으로 뿌리쳐서 건조시키는 건조공정이 소정 시간에 걸쳐 행하여진다. 건조공정이 종료하면, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전이 정지되어, 스핀척(1)으로부터 처리 후의 웨이퍼(W)가 반출(搬出)되어 간다.
이상과 같이, 이 기판처리장치에서는, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)를 각각 독립적으로 승강시킬 수 있다. 이에 의해, 이들을 승강시켜, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)의 각 상단부를 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 위쪽에 위치시키거나, 외부구성부재(21)의 상단부(21b)만을 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 위쪽에 위치시키거나 할 수 있다. 또한, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)만을 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 아래쪽에 위치시키거나, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)의 각 상단부를 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 아래쪽에 위치시키거나 할 수 있다.
웨이퍼(W)에 대한 제1 약액의 공급시에는, 외부구성부재(21)의 상단부(21b)만을 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 위쪽에 위치시킨다. 이에 의해, 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와 외부구성부재(21)의 상단부(21b)와의 사 이에, 웨이퍼(W)의 단면에 대향하는 개구를 형성할 수 있고, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 제1 약액을 중간구성부재(20)와 외부구성부재(21)와의 사이로 들어가게 할 수 있다. 그리고, 그 들어간 제1 약액을, 외부구성부재(21)의 안내에 의해 외측회수홈(52)에 모을 수 있고, 외측회수홈(52)으로부터 회수기구(53)를 통하여 회수탱크에 회수할 수 있다.
또한, 웨이퍼(W)에 대한 제1 약액의 공급시(제1 약액의 회수시)에는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 그 제1 약액이 회수되는 외측회수홈(52)과 내측회수홈(27)이 분리되어 있기 때문에, 모세관 현상에 의해, 내측회수홈(27)으로부터 외측회수홈(52)으로, 제2 약액이 유입될 우려는 없다. 따라서, 제1 약액과 다른 종류의 처리액이 외측회수홈(52)으로 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 외측회수홈(52)에 회수되는 제1 약액의 순도를 향상시킬 수 있다.
웨이퍼(W)에 대한 제2 약액의 공급시에는, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)만을 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 아래쪽에 위치시킨다. 이에 의해, 내부구성부재(19)의 상단부와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에, 웨이퍼(W)의 단면에 대향하는 개구를 형성할 수 있고, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 떨어져나가 측방으로 비산하는 제2 약액을 내부구성부재(19)와 중간구성부재(20)와의 사이로 들어가게 할 수 있다. 그리고, 그 들어간 제2 약액을, 중간구성부재(20)의 안내에 의해 내측회수홈(27)에 모을 수 있고, 내측회수홈(27)으로부터 회수기구(35)를 통하여 회수탱크에 회수할 수 있다.
또한, 웨이퍼(W)에 대한 제2 약액의 공급시(제2 약액의 회수시)에는, 도 10 에 도시하는 바와 같이, 제2 약액이 회수되는 내측회수홈(27)과 외측회수홈(52)이 분리되어 있기 때문에, 모세관 현상에 의해, 외측회수홈(52)으로부터 내측회수홈(27)으로 제1 약액이 유입될 우려는 없다. 따라서, 제2 약액과 다른 종류의 처리액이 내측회수홈(27)에 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액의 순도를 향상시킬 수 있다.
웨이퍼(W)에 대한 순수의 공급시에는, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)의 각 상단부를 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)의 위쪽에 위치시킨다. 이에 의해, 웨이퍼(W)의 측방으로 비산하는 순수를, 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 내면에 포획하여, 이 제1 안내부(25)의 안내에 의해 폐기홈(26)에 모을 수 있다. 이때, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 각 상단부간에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 근접함으로써, 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이 및 제2 안내부(48)와 외부구성부재(21)와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 서로 접촉하지 않으므로, 그들의 접촉에 의한 입자의 발생(접촉으로 인한 부재의 마모 등에 의한 입자의 발생)의 문제를 초래하는 일은 없다.
웨이퍼(W)에 대한 제2 약액의 공급시 및 순수의 공급시에, 외부구성부재(21)를 특별히 상승시킬 필요는 없고, 외부구성부재(21)의 위치는 외부구성부재(21)의 안내에 의해 제1 약액을 회수할 때의 위치와 같아도 좋다. 그 때문에, 스핀척(1)의 위쪽에 큰 공간을 필요로 하지 않으므로, 그 만큼, 장치의 높이방향의 소형화를 도모할 수 있다.
또한, 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 접힘부(48c)에 의해, 제2 안내부(48)와 외부구성부재(21)와의 사이에 제1 약액과 다른 종류의 처리액이 진입하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 외부구성부재(21)의 접힘부(21c)에 의해, 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이에 제2 약액과 다른 종류의 처리액이 진입하는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 외측회수홈(52)에 회수되는 제1 약액의 순도 및 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액의 순도를 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 접힘부(21c) 및 접힘부(48c)는 각각 외부구성부재(21) 및 중간구성부재(20)에 일체적으로 형성되어 있으므로, 부품수의 증가를 초래하는 것을 방지할 수 있어, 장치의 구성을 간소화할 수 있다.
또한, 제1 약액을 사용하는 처리공정으로부터 세정공정으로 이행할 때에, 내부구성부재(19) 및 중간구성부재(20)가 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 동기적으로 상승된다. 이에 의해, 그 이행시에, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전 및 제1 약액의 공급이 계속되고 있더라도, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액이 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이로 진입하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 제2 안내부(48)의 안내에 의해 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액에 제1 약액이 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액의 순도를 향상시킬 수 있다. 그 때문에, 그 회수한 제2 약액을 웨이퍼(W)의 처리에 재이용 하여도, 웨이퍼(W)에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
또한, 세정공정으로부터 건조공정으로 이행할 때에, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)는 제1 안내부(25), 제2 안내부(48) 및 외부구성부재(21)의 각 상단부(25b, 48b, 21b) 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로, 동기적으로 하강된다. 이에 의해, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전 및 순수의 공급이 계속되고 있더라도, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 순수가 제1 안내부(25), 제2 안내부(48) 및 외부구성부재(21)의 각각의 사이로 진입하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 제2 안내부(48) 또는 외부구성부재(21)로 안내되는 제1 또는 제2 약액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 제1 또는 제2 약액에 털어내져야 할 순수가 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 회수되는 제1 및 제2 약액의 순도를 향상시킬 수 있다. 그 때문에, 그 회수한 제1 또는 제2 약액을 웨이퍼(W)의 처리에 재이용하여도, 웨이퍼(W)에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
또한, 웨이퍼(W)에 대한 처리가 행하여 지고 있는 동안, 폐기홈(26) 안이 항상 배기되므로, 세정공정에 있어서, 웨이퍼(W)에 부착된 제1 약액 또는 제2 약액을 씻어내는 순수의 미스트(Mist)를 포함하는 분위기를, 웨이퍼(W)의 주위로부터 폐기홈(26)으로 끌어 들어 배제할 수 있다.
폐기홈(26)과 내측회수홈(27)과의 사이에는 제1 안내부(25)가 직립 설치되어 있고, 이 제1 안내부(25)에 의해, 폐기홈(26)과 내측회수홈(27)이 격리되어 있다. 또한, 내측회수홈(27)에는 이 내측회수홈(27) 안을 강제적으로 배기하기 위한 기구 는 접속되어 있지 않아, 내측회수홈(27) 안의 강제적인 배기는 행하여지지 않는다. 그 때문에, 폐기홈(26) 안의 배기가 행하여져도, 내측회수홈(27) 안은 배기되지 않으므로, 외부로부터 내측회수홈(27)으로 흘러들어 오는 것 같은 기류는 생기지 않는다. 따라서, 내측회수홈(27)에 순수 및 제1 약액의 비말이 들어가는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 폐기홈(26) 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 내측회수홈(27)으로부터 회수되는 제2 약액의 순도의 향상을 도모할 수 있다.
제2 약액이 제2 안내부(48)로 안내될 때, 즉 제2 약액이 내측회수홈(27)으로부터 회수될 때에는, 도 10에 도시하는 바와 같이, 제1 안내부(25)의 상단부가 스핀척(1)의 스핀 베이스(Spin Base, 5)의 근방에 배치되어, 제1 안내부(25)의 상단부와 스핀 베이스(5)와의 틈을 좁힐 수 있다. 이에 의해, 폐기홈(26) 안의 배기에 수반하는 흡인력에 의해 폐기홈(26) 안으로 제2 약액이 끌어 들여지는 것을 방지할 수 있어, 제2 약액의 회수율의 향상을 도모할 수 있다.
또한, 제1 안내부(25)를 폐기홈(26) 및 내측회수홈(27)과 일체적으로 설치하는 간단한 구성에 의해, 폐기홈(26)과 내측회수홈(27)을 격리할 수 있어, 폐기홈(26) 안의 배기에 따르는 내측회수홈(27) 안의 배기를 방지할 수 있다. 그 결과, 구성의 복잡화 및 이에 수반하는 비용상승을 초래하는 일 없이, 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액의 순도를 향상시킬 수 있다.
또한, 폐기홈(26)과 외측회수홈(52)과는 제2 안내부(48)에 의해 격리되어, 외측회수홈(52)에는 이 외측회수홈(52) 안을 강제적으로 배기하기 위한 기구는 접속되어 있지 않다. 그 때문에, 폐기홈(26) 안의 배기가 행하여져도, 외측회수홈 (52) 안은 배기되지 않고, 외부에서 외측회수홈(52)으로 흘러들어 오는 것 같은 기류는 생기지 않는다. 따라서, 외측회수홈(52)에 순수 및 제2 약액의 비말이 들어가는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 폐기홈(26) 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 외측회수홈(52)으로부터 회수되는 제1 약액의 순도의 향상을 도모할 수 있다.
또한, 제1 약액이 외부구성부재(21)로 안내될 때, 즉 제1 약액이 외측회수홈(52)으로부터 회수될 때에는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 제1 안내부(25)의 상단부 및 제2 안내부(48)의 상단부(48b)가 스핀척(1)의 스핀 베이스(5)의 근방에 배치되어, 제1 안내부(25) 및 제2 안내부(48)의 각 상단부와 스핀 베이스(5)와의 틈을 좁힐 수 있다. 이에 의해, 폐기홈(26) 안의 배기에 수반하는 흡인력에 의해 폐기홈(26) 안으로 제1 약액이 끌어 들여지는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 제1 약액의 회수율의 향상을 도모할 수 있다.
도 11은 본 발명의 다른 실시형태에 의한 기판처리장치의 구성을 간략화하여 나타내는 단면도이다.
이 실시형태에 의한 기판처리장치는 스핀척(1)에 지지된 웨이퍼(W)에, 처리액으로서의 제1 약액, 제2 약액, 제3 약액 및 순수를 소정의 순서로 공급하고, 그 웨이퍼(W)에 세정처리를 실시하기 위한 장치이다.
스핀척(1)은 바닥이 있는 원통용기형상의 컵(107) 안에 수용되어 있다. 컵(107)의 위쪽에는, 컵(107)에 대하여 승강가능한 스플래쉬 가드(Splash Guard, 108)가 설치되어 있다.
컵(107)의 바닥부에는, 웨이퍼(W)의 처리에 사용된 후의 처리액을 폐기하기 위한 폐기홈(109)이 웨이퍼(W)의 회전축선(C)을 중심으로 하는 원고리형상으로 형성되어 있다. 폐기홈(109)에는, 이 폐기홈(109)에 모아진 처리액을 배출함과 아울러, 폐기홈(109) 안을 강제적으로 배기하기 위한 배기액라인(110)이 접속되어 있다. 또한, 컵(107)의 바닥부에는, 폐기홈(109)을 둘러싸도록 웨이퍼(W)의 처리를 위해 사용된 후의 처리액을 회수하기 위한 원고리형상의 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113)이 3중으로 형성되어 있다.
폐기홈(109)과 제1 회수홈(111)은 그들 사이에 형성된 원통형상의 구획벽(114)에 의해 구획되어 있다. 또한, 제1 회수홈(111)과 제2 회수홈(112)은 그들 사이에 형성된 원통형상의 구획벽(115)에 의해 구획되어, 제2 회수홈(112)과 제3 회수홈(113)은 그들 사이에 형성된 원통형상의 구획벽(116)에 의해 구획되어 있다.
스플래쉬 가드(108)는 서로 크기가 다른 네 개의 차양형상부재(117, 118, 119, 120)를 포개서 구성되어 있다. 스플래쉬 가드(108)에는, 예컨대, 서보모터(Servo Motor)나 볼나사기구 등을 포함하는 승강기구(도시하지 않음)가 결합되어 있다. 이 승강기구에 의해, 스플래쉬 가드(108)를 컵(107)에 대하여 승강(상하 이동)시킬 수 있다.
각 차양형상부재(117∼120)는 웨이퍼(W) 회전축선에 대하여 거의 회전대칭인 형상을 갖고 있다.
차양형상부재(117)는 웨이퍼(W)의 회전축선(C)을 중심축선으로 하는 원통형상의 원통부(121)와, 이 원통부(121)의 상단으로부터 중심측(웨이퍼(W)의 회전축선 (C)에 근접하여 가는 방향) 위쪽으로 비스듬하게 뻗는 상부경사부(122)와 원통부(121)의 상단부로부터 중심측 위쪽으로 비스듬히 뻗는 하부경사부(123)를 구비하고 있다. 원통부(121)의 하단은 제1 회수홈(111) 위에 위치하고, 하부경사부(123)의 하단은 폐기홈(109) 위에 위치하고 있다. 또한, 원통부(121) 및 하부경사부(123)는 스플래쉬 가드(108)가 가장 아래쪽의 퇴피위치로 하강하였을 때에, 각각의 하단이 컵(107)의 바닥면에 접촉하지 않도록 하는 길이로 형성되어 있다.
차양형상부재(118)는 차양형상부재(117)의 원통부(121)를 둘러싸도록 설치되어 있다. 이 차양형상부재(118)는 웨이퍼(W)의 회전축선(C)을 중심축선으로 하는 동축 원통형상의 원통부(124, 125)와, 이들 원통부(124, 125)의 상단을 연결하고, 웨이퍼(W) 회전축선을 향하여 개방하는 단면 대략 ㄷ자 형상의 연결부(126)와, 이 연결부(126)의 상단으로부터 중심측 위쪽으로 비스듬하게 뻗는 상부경사부(127)를 구비하고 있다. 내측(중심측)의 원통부(124)의 하단은 제1 회수홈(111) 위에 위치하고, 외측의 원통부(125)의 하단은 제2 회수홈(112) 위에 위치하고 있다. 또한, 원통부(124, 125)는 스플래쉬 가드(108)가 가장 아래쪽의 퇴피위치로 하강하였을 때에, 각각의 하단이 컵(107)의 바닥면에 접촉하지 않도록 하는 길이로 형성되어 있다.
차양형상부재(119)는 차양형상부재(118)의 원통부(125)를 둘러싸도록 설치되어 있다. 이 차양형상부재(119)는 웨이퍼(W)의 회전축선(C)을 중심축선으로 하는 동축 원통형상의 원통부(128, 129)와, 외측의 원통부(129)의 상단으로부터 중심측 위쪽으로 비스듬하게 뻗는 상부경사부(130)를 구비하고 있다. 내측의 원통부(128) 의 하단은 제2 회수홈(112) 위에 위치하고, 외측의 원통부(129)의 하단은 제3 회수홈(113) 위에 위치하고 있다. 또한, 원통부(128, 129)는 스플래쉬 가드(108)가 가장 아래쪽의 퇴피위치로 하강하였을 때에, 각각의 하단이 컵(107)의 바닥면에 접촉하지 않도록 하는 길이로 형성되어 있다.
차양형상부재(120)는 차양형상부재(119)의 원통부(129)를 둘러싸도록 설치되어 있다. 이 차양형상부재(120)는 웨이퍼(W)의 회전축선(C)을 중심축선으로 하는 원통형상의 원통부(131)와, 이 원통부(131)의 상단으로부터 중심측 위쪽으로 비스듬하게 뻗는 상부경사부(132)를 구비하고 있다. 원통부(131)는 제3 회수홈(113) 위에 위치하고 있고, 스플래쉬 가드(108)가 가장 아래쪽의 퇴피위치로 하강하였을 때에, 그 하단이 컵(107)의 바닥면에 접촉하지 않도록 하는 길이로 형성되어 있다.
상부경사부(122, 127, 130, 132)의 상단 모서리는 웨이퍼(W)의 회전축선을 중심축선으로 하는 원통면상에 있어서, 그 웨이퍼(W)의 회전축선을 따르는 방향(수직방향)으로 간격을 두고 위치하고 있다. 이에 의해, 상부경사부(122)의 상단 모서리와 상부경사부(127)의 상단 모서리와의 사이에는, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액(제1 약액)이 들어가기 가능한 원고리형상의 제1 회수구(133)가 형성되어 있다. 또한, 상부경사부(127)의 상단 모서리와 상부경사부(130)의 상단 모서리와의 사이에는, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액(제2 약액)이 들어가기 가능한 원고리형상의 제2 회수구(134)가 형성되고, 상부경사부(130)의 상단 모서리와 상부경사부(132)의 상단 모서리와의 사이에는, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액(제3 약액)이 들어가기 가능한 제3 회수구(135)가 형성되어 있다.
차양형상부재(117)의 하부경사부(123)와 구획벽(114)과의 사이에는, 벨로즈(137)가 설치되어 있다. 이 벨로즈(137)의 상단부 및 하단부는 각각 하부경사부(123)의 하단부 및 구획벽(114)의 상단부에 접속되어 있다. 또한, 차양형상부재(118)의 안쪽의 원통부(124)와 구획벽(115)과의 사이에는, 벨로즈(138)가 설치되어 있다. 이 벨로즈(138)의 상단부 및 하단부는 각각 원통부(124)의 하단부 및 구획벽(115)의 상단부에 접속되어 있다. 또한, 차양형상부재(119)의 안쪽의 원통부(128)과 구획벽(116)과의 사이에는 벨로즈(139)가 설치되어 있다. 이 벨로즈(139)의 상단부 및 하단부는 각각 원통부(128)의 하단부 및 및 구획벽(116)의 상단부에 접속되어 있다. 이에 의해, 스플래쉬 가드(108)의 위치에 관계없이 컵(107)과 스플래쉬 가드(108)와의 사이에 있어서, 폐기홈(109), 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113)이 서로 격리되어 있다.
이러한 구성에서는, 스플래쉬 가드(108)를 승강시켜, 제1 회수구(133)를 웨이퍼(W)의 단면에 대향시킨 상태에서, 스핀척(1)에 의한 회전중의 웨이퍼(W)에 대하여 제1 약액을 공급하면, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 비산하는 제1 약액을, 제1 회수구(133)로 들어가게 하여, 제1 회수홈(111)에 포집(捕集)할 수 있다. 그리고, 제1 회수홈(111)에 포집된 제1 약액을, 제1 회수홈(111)에 접속된 회수기구(도시하지 않음)에 의해 회수탱크에 회수할 수 있다.
제2 회수구(134)를 웨이퍼(W)의 단면에 대향시킨 상태에서, 스핀척(1)에 의한 회전중의 웨이퍼(W)에 대하여 제2 약액을 공급하면, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 비산하는 제2 약액을, 제2 회수구(134)에 들어가게 하여, 제2 회수홈(112)으로부터 회수탱크에 회수할 수 있다.
제3 회수구(135)를 웨이퍼(W)의 단면에 대향시킨 상태에서, 스핀척(1)에 의한 회전중의 웨이퍼(W)에 대하여 제3 약액을 공급하면, 웨이퍼(W)의 주변으로부터 비산하는 제3 약액을, 제3 회수구(135)에 들어가게 하여, 제3 회수홈(113)으로부터 회수탱크에 회수할 수 있다.
또한, 제1 약액, 제2 약액 및 제3 약액에 의한 각 처리 후의 웨이퍼(W)를 수세(水洗)하기 위한 세정공정에 있어서, 스플래쉬 가드(108)를 승강시켜, 차양형상부재(117)의 상부경사부(122)와 하부경사부(123)와의 사이를 웨이퍼(W)의 단면에 대향시킨 상태에서, 스핀척(1)에 의한 회전중의 웨이퍼(W)에 순수를 공급하면, 그 웨이퍼(W)로부터 비산하는 순수를, 폐기홈(109)에 모을 수 있어, 폐기홈(109) 안의 분위기와 아울러 배기액라인(110)을 통하여 폐기할 수 있다.
이러한 처리가 행하여지고 있는 동안, 폐기홈(109) 안이 항상 배기되므로, 세정공정에 있어서, 웨이퍼(W)에 부착된 제1 약액, 제2 약액 또는 제3 약액을 씻어내는 순수의 미스트를 포함하는 분위기를, 웨이퍼(W)의 주위로부터 폐기홈(109)으로 끌어 들어 배제할 수 있다.
또한, 벨로즈(137, 138, 139)가 설치되고, 폐기홈(109), 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113)이 서로 격리되어 있으므로, 폐기홈(109) 안의 배기가 행하여져도, 그 배기에 따라, 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113) 안이 간접적으로 배기되는 일은 없다. 그 때문에, 외부로부터 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113)으로 흘러들어 오는 것 같은 기류는 생기지 않는다. 따라서, 폐기홈(109) 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 제1 회수홈(111)으로부터 회수되는 제1 약액의 순도, 제2 회수홈(112)으로부터 회수되는 제2 약액의 순도 및 제3 회수홈(113)으로부터 회수되는 제3 약액의 순도의 향상을 도모할 수 있다.
또한 차양형상부재(117) 하부경사부(123)와 구획벽(114)과의 사이에 벨로즈(137)를 설치하고, 차양형상부재(118)의 안쪽의 원통부(124)와 구획벽(115)과의 사이에 벨로즈(138)를 설치하고, 차양형상부재(119)의 안쪽의 원통부(128)와 구획벽(116)과의 사이에 벨로즈(139)를 설치하는 간단한 구성에 의해, 폐기홈(109), 제1 회수홈(111), 제2 회수홈(112) 및 제3 회수홈(113)이 서로 격리되어 있다. 그 때문에, 이러한 구성을 사용하여도, 장치의 대폭적인 비용상승을 초래할 우려는 없다.
또한, 세정공정에서는, 도 11에 도시하는 바와 같이, 스핀 베이스(5)와 스플래쉬 가드(108)와의 사이에 넓은 간격이 형성되지만, 제1 약액에 의한 처리시에는 웨이퍼(W)의 단면에 제1 회수구(133)가 대향되고, 차양형상부재(117)의 상부경사부(122)의 상단부가 스핀척(1)의 스핀 베이스(5)의 근방에 배치되어, 스핀 베이스(5)와 스플래쉬 가드(108)와의 간격이 좁아진다. 이에 의해, 폐기홈(109) 안이 배기되어 있더라도, 폐기홈(109) 안으로 제1 약액이 끌어 들여지는 것을 방지할 수 있어, 제1 약액의 회수율의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 제2 약액에 의한 처리시에는, 차양형상부재(118) 상부경사부(127)의 상단부가 스핀 베이스(5)의 근방에 배치되고 제3 약액에 의한 처리시에는, 차양형상부재(119) 상부경사부(130)이 스핀 베이스(5)의 근방에 배치되므로, 제1 약액의 경우와 같이 제2 약액 및 제3 약액이 폐기홈(109) 안으로 끌어 들여지는 것을 방지할 수 있어, 제2 약액 및 제3 약액의 회수율의 향상을 도모할 수 있다.
본 발명의 실시형태에 대하여 상세히 설명하였지만, 이들은 본 발명의 기술적 내용을 명백히 하기 위해 사용된 구체예에 불과하고, 본 발명은 이들의 구체예에 한정하여 해석되어서는 안 되며, 본 발명의 정신 및 범위는 첨부의 청구의 범위에 의해서만 한정된다.
예컨대, 상술한 실시형태에서는, 제1 약액, 제2 약액 및 순수를 사용한 처리를 예로 들었지만, 제1 약액 및 제2 약액과는 종류가 다른 제3 약액을 더 추가하여 사용하고, 웨이퍼(W)에 대하여 제3 약액을 사용한 처리를 행하고, 이 처리에 사용된 후의 제3 약액을 회수하도록 하여도 좋다. 이 경우, 외부구성부재(21)의 더 외측에, 외부구성부재(21)와 같은 구성을 갖는 새로운 구성부재를 추가함과 아울러, 그 새로운 구성부재로 안내되는 제3 약액을 회수하기 위한 회수홈을 외부구성부재(21)에 설치하면 좋고, 기존의 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)을 이용할 수 있다. 그 때문에, 대폭적인 비용상승을 회피할 수 있다. 이과 같이 네 종류 이상의 약액을 웨이퍼(W)의 처리에 사용하고, 각 약액을 회수하는 경우에 대하여도, 대폭적인 비용상승을 회피할 수 있다. 즉, 대폭적인 비용상승을 초래하는 일 없이, 회수되는 처리액의 종류의 증가에 대응할 수 있다. 또한, 내부구성부재(19)나 중간구성부재(20)에 의해 처리액이 안내될 때에, 새롭게 준비한 최외측의 구성부재를 특별히 상승시킬 필요가 없으므로, 높이방향으로의 장치의 대형 화도 회피할 수 있다.
또한, 상술한 실시형태에서는, 제1 약액을 사용하는 처리공정 후, 세정공정을 사이에 넣어, 제2 약액을 사용하는 처리공정이 실행되는 경우를 예로 들었지만, 제2 약액을 사용하는 처리공정 후에, 세정공정을 사이에 넣고, 제1 약액을 사용하는 처리공정이 실행되어도 좋다. 이 경우, 세정공정으로부터 제2 약액을 사용하는 처리공정으로 이행할 때에, 내부구성부재(19), 중간구성부재(20) 및 외부구성부재(21)가 가장 위쪽에 위치하고 있는 상태로부터, 내부구성부재(19) 및 중간구성부재(20)이 내부구성부재(19)의 제1 안내부(25)의 상단부(25b)와 중간구성부재(20)의 제2 안내부(48)의 상단부(48b)와의 사이에 극히 미소한 틈을 유지한 상태로 동기적으로 하강되면 좋다. 이에 의해, 그 이행시에, 스핀척(1)에 의한 웨이퍼(W)의 회전이 계속되고 있더라도, 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액(순수)이 제1 안내부(25)와 제2 안내부(48)와의 사이로 진입하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 제2 안내부(48)의 안내에 의해 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액에 순수가 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 내측회수홈(27)에 회수되는 제2 약액의 순도를 향상시킬 수 있다. 그 때문에, 그 회수한 제2 약액을 웨이퍼(W)의 처리에 재이용하여도, 웨이퍼(W)에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
또한, 상술한 실시형태에서는 웨이퍼(W)에 대하여 세정처리를 행하는 장치를 예로 들었지만, 이 발명은 세정처리에 한정되지 않고, 예컨대, 웨이퍼(W)의 표면으로부터 불필요한 박막을 에칭액을 사용하여 제거하는 에칭처리장치, 웨이퍼(W)의 표면으로부터 불필요한 폴리머(Polymer) 찌꺼기를 폴리머제거액을 사용하여 제거하는 폴리머제거장치, 웨이퍼(W)의 표면에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하는 레지스트도포장치, 또는 웨이퍼(W)의 표면에 현상액을 공급하여 레지스트막을 현상하는 현상장치 등에 적용할 수도 있다.
본 출원은 2005년 3월 31일에 일본국 특허청에 제출된 특원 2005-103201호, 특원 2005-103202호 및 특원 2005-103203호에 대응하고 있어, 본 출원의 전체 개시는 여기에 인용에 의해 조합된 것으로 한다.
본 발명에 의하면, 회수홈에 회수되는 처리액에의 다른 종류의 처리액(회수홈에 회수되어야 하지 않는 처리액)의 혼입을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 높이방향에서의 소형화를 도모할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 대폭적인 비용상승을 초래할 하는 없이, 회수되는 처리액의 종류의 증가에 대응할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기판의 처리에 사용한 처리액을 회수하는 경우에, 처리의 생산성의 저하를 초래하는 일 없이, 그 회수되는 처리액에의 다른 종류의 처리액의 혼입을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기판의 처리에 사용한 처리액을 회수하고, 그 회수한 처리액을 처리에 재이용하는 경우이라도, 다른 종류의 처리액을 혼입시키는 일 없이, 회수해야 할 처리액을 회수할 수 있어, 기판에 대한 양호한 처리를 실현할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 폐기홈 안을 강제적으로 배기할 수 있으면서, 회수홈에 회수되는 처리액의 순도의 향상을 도모할 수 있다.

Claims (16)

  1. 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와,
    상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와,
    상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,
    상기 제1 안내부의 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,
    상기 제1 안내부의 외측에 상기 제1 안내부와 일체적으로 설치되어, 상기 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈과,
    상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와,
    상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와,
    상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,
    상기 제1 안내부의 외측에 있어서 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,
    상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구와,
    상기 구동기구를 제어하고, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적으로 승강시키는 승강제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있 는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고,
    상기 승강제어수단은 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경할 때에, 상기 구동기구를 제어하고, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적으로 상승시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고,
    상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경할 때, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동기적으로 하강시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하바향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서 기판을 처리하는 방법으로서,
    상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과,
    상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과,
    상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시키고, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
  12. 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하바향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서 기판을 처리하는 방법으로서,
    상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과,
    상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과,
    상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시키고, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정과,
    상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동시에 하강시켜서, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
  13. 기판을 수평하게 지지하면서 회전시키는 기판지지기구와,
    상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하기 위한 처리액공급기구와,
    상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제1 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,
    상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제2 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,
    상기 제1 안내부로 안내되는 제1 처리액을 폐기하기 위한 폐기홈과,
    상기 제2 안내부로 안내되는 제2 처리액을 회수하기 위한 회수홈과,
    상기 폐기홈 안을 강제적으로 배기하기 위한 배기기구를 포함하고, 상기 폐기홈과 상기 회수홈이 분위기적으로 격리되어 있어, 상기 회수홈 안의 강제적인 배기가 행하여지지 않는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 안내부는 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 좁은 간격이 형성되는 제1 위치와, 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 넓은 간격이 형성되는 제2 위치로 이동가능하게 설치되어, 상기 제2 안내부가 제2 처리액을 안내할 때에, 상기 제1 안내부는 상기 제1 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 제1 안내부는 상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되어, 상기 폐기홈 및 상기 회수홈과 일체적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되어, 상기 제1 안내부에 접속되어서, 상기 제1 안내부와 함께 상기 폐기홈과 상기 회수홈을 분위기적으로 격리하는 격리부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100752246B1 (ko) * 2005-03-31 2007-08-29 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
JP4763567B2 (ja) * 2006-10-03 2011-08-31 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US7749333B2 (en) * 2007-08-29 2010-07-06 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and method
JP5312856B2 (ja) * 2008-06-27 2013-10-09 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
EP2372749B1 (de) * 2010-03-31 2021-09-29 Levitronix GmbH Behandlungsvorrichtung zur Behandlung einer Oberfläche eines Körpers
KR101592058B1 (ko) 2010-06-03 2016-02-05 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 액처리 장치
JP5242632B2 (ja) 2010-06-03 2013-07-24 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置
JP5309118B2 (ja) 2010-12-17 2013-10-09 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置
US20130255724A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Semes Co., Ltd. Apparatus for treating substrate
JP6057334B2 (ja) * 2013-03-15 2017-01-11 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
KR101570168B1 (ko) * 2014-06-30 2015-11-19 세메스 주식회사 기판 처리 장치
JP6592303B2 (ja) 2015-08-14 2019-10-16 株式会社Screenホールディングス 基板洗浄方法および基板洗浄装置
JP6618113B2 (ja) * 2015-11-02 2019-12-11 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
TWI656594B (zh) * 2016-12-15 2019-04-11 辛耘企業股份有限公司 基板處理裝置
US11498100B2 (en) * 2017-03-06 2022-11-15 Acm Research (Shanghai) Inc. Apparatus for cleaning semiconductor substrates
JP7037459B2 (ja) * 2018-09-10 2022-03-16 キオクシア株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP7313244B2 (ja) 2019-09-20 2023-07-24 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN113838788A (zh) * 2020-06-24 2021-12-24 拓荆科技股份有限公司 晶圆自动承载系统及采用该系统传送晶圆的方法
KR102616061B1 (ko) * 2021-08-24 2023-12-20 (주)디바이스이엔지 바울 조립체를 포함하는 기판 처리장치
CN114653660B (zh) * 2022-05-20 2022-09-16 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 一种磁性夹块及半导体基材清洗装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004111487A (ja) 2002-09-13 2004-04-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3691227B2 (ja) 1996-10-07 2005-09-07 東京エレクトロン株式会社 液処理方法及びその装置
US5997653A (en) 1996-10-07 1999-12-07 Tokyo Electron Limited Method for washing and drying substrates
JP3963605B2 (ja) 1999-03-04 2007-08-22 住友精密工業株式会社 回転式基板処理装置
JP4257816B2 (ja) 2000-03-16 2009-04-22 三益半導体工業株式会社 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置
TW504776B (en) 1999-09-09 2002-10-01 Mimasu Semiconductor Ind Co Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism
JP2002305173A (ja) 2001-02-01 2002-10-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP4018958B2 (ja) * 2001-10-30 2007-12-05 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4040906B2 (ja) 2002-05-20 2008-01-30 芝浦メカトロニクス株式会社 スピン処理装置
JP2004031400A (ja) 2002-06-21 2004-01-29 Sipec Corp 基板処理装置及びその処理方法
US7584760B2 (en) * 2002-09-13 2009-09-08 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate processing apparatus
JP4146709B2 (ja) 2002-10-31 2008-09-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US7678333B2 (en) * 2003-01-22 2010-03-16 Duoject Medical Systems Inc. Fluid transfer assembly for pharmaceutical delivery system and method for using same
JP2004265910A (ja) 2003-02-03 2004-09-24 Personal Creation Ltd 基板の処理液の分別回収装置及び該装置を備えた基板の処理装置、並びに基板の処理液の分別回収方法
JP2004265912A (ja) 2003-02-03 2004-09-24 Personal Creation Ltd 基板の処理装置
JP4105574B2 (ja) * 2003-03-26 2008-06-25 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US7467635B2 (en) * 2003-05-12 2008-12-23 Sprout Co., Ltd. Apparatus and method for substrate processing
JP3966848B2 (ja) 2003-11-07 2007-08-29 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
KR100752246B1 (ko) * 2005-03-31 2007-08-29 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
JP4763567B2 (ja) * 2006-10-03 2011-08-31 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004111487A (ja) 2002-09-13 2004-04-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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Publication number Publication date
US8313609B2 (en) 2012-11-20
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