KR100749609B1 - Photosensitive resin composition having conductive polymer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 도전성 폴리머를 함유한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라스마 디스플레이 패널(plasma display panel, 이하 PDP라 함.) 제조에 이용되는 후막 조성물에 도전성 폴리머를 함유시킴으로써 정전기의 방전을 촉진시켜 정전기 방전 현상에 의한 후막 조성물의 손상을 방지할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive resin composition containing a conductive polymer, and more particularly, to promoting the discharge of static electricity by incorporating the conductive polymer in a thick film composition used in the manufacture of plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs). The present invention relates to a photosensitive resin composition capable of preventing damage to a thick film composition caused by an electrostatic discharge phenomenon.
PDP는 기체 방전시에 발생하는 플라즈마로부터 나오는 빛을 이용하여 문자 또는 그래픽을 표시하는 소자이다. PDP는 현재 활발히 연구되고 있는 LCD(liquid crystal display), FED(field emission display), ELD(Electroluminescence display)와 같은 여러 분야의 평판형 디스플레이 중에서도 대형화에 가장 적합한 장점을 가지고 있다.PDP is a device that displays characters or graphics by using light emitted from the plasma generated during gas discharge. PDP has the most suitable advantage for large-scale display among various flat panel displays such as liquid crystal display (LCD), field emission display (FED), and electroluminescence display (ELD), which are being actively studied.
PDP는 40 인치 이상의 대형화가 가능하고, 방전에서 형성되는 자외선이 형광막을 자극하여 가시광을 발광시키는 포토 루미네슨스(photoluminescence) 메카니즘을 이용하기 때문에 CRT 수준의 칼라화가 가능하며, 자기 발광형 표시소자(self- emissive display)로서 160。 이상의 넓은 시야각을 갖는 등 다른 평탄 소자에서 찾아볼 수 없는 고유한 장점을 많이 가지고 있어 차세대 고선명 벽걸이 TV, TV와 PC의 기능이 복합화된 멀티미디어(multimedia)용 대형 표시장치로서 유력시되고 있어 최근 들어 이에 대한 관심이 고조되고 있다.The PDP can be enlarged to 40 inches or more, and CRT level colorization is possible because the ultraviolet light generated by the discharge uses a photoluminescence mechanism that stimulates the fluorescent film to emit visible light. As a self-emissive display, it has many unique advantages that cannot be found in other flat devices such as a wide viewing angle of 160 ° or more. It is a large display device for multimedia that combines the functions of next-generation high-definition wall-mounted TV, TV, and PC. Recently, interest in this has been increasing.
PDP의 구조는 AC형 PDP를 예로 들면, 통상 투명 전극(유지 전극) 및 버스 전극과 이를 감싸고 있는 유전체 층으로 구성된 전면판으로 불리는 유리 기판과 어드레스 전극, 유전체층, 격벽, 형광체로 구성되어 있는 셀 구조를 가지는 배면판으로 불리는 유리 기판을, 양면의 전극이 직교 하도록 배치한 것이다. The structure of the PDP is, for example, AC-type PDP. A cell structure composed of a glass substrate called a front plate composed of a transparent electrode (holding electrode) and a bus electrode, and a dielectric layer surrounding the same, and an address electrode, a dielectric layer, a partition wall, and a phosphor. The glass substrate called the back plate which has is arrange | positioned so that the electrodes of both surfaces may orthogonally cross.
상기와 같은 방법으로 형성되는 PDP는 최근 생산성의 개선, 패널 단가 절감을 위해서 한 장의 유리 기판의 면적을 크게 해 다수의 패널을 한 번에 제조하는 다면취의 방법이 널리 이용되고 있다.PDP formed by the above method has been widely used in the multi-faceted method of manufacturing a large number of panels at once by increasing the area of one glass substrate in order to improve productivity and panel cost reduction.
이에 따라 제조 공정 중 발생하는 대전량도 패널 크기에 비례하여 증가하고 있기 때문에 종래에 사용되는 이오나이저 등의 정전기 제거 장치로는 한계에 달해 완벽하게 정전기를 제거 할 수 없어 정전기의 대전 및 방전에 의한 후막 조성물 층의 손상이 불량율 증가의 원인으로서 무시할 수 없게 되는 문제점을 지니게 된다.As a result, the amount of charge generated during the manufacturing process increases in proportion to the size of the panel. Therefore, the static electricity removing device such as the ionizer used in the prior art reaches a limit and cannot completely remove the static electricity. Damage to the thick film composition layer has a problem that cannot be ignored as a cause of an increase in the defective rate.
따라서, PDP 후막 조성에 이용되는 감광성 수지 조성물 자체가 정전기의 방전을 촉진시켜 정전기를 제거 할 수 있는 물성을 지니도록 하는 것에 대한 노력이 요구되고 있다.Therefore, there is a need for an effort to have the photosensitive resin composition itself used for the PDP thick film composition to have a physical property capable of removing the static electricity by promoting the discharge of static electricity.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 정전기의 방전을 촉진시켜 후막 조성물의 손상을 방지할 수 있는 PDP 후막 제조용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.The present invention is to overcome the problems of the prior art described above, an object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for producing a PDP thick film that can prevent the damage of the thick film composition by promoting the discharge of static electricity.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, 전체 감광성 수지 조성물 100중량부에 대하여, One aspect of the present invention for solving the above technical problem, with respect to 100 parts by weight of the total photosensitive resin composition,
(A) 유기 바인더 1~50 중량부; (A) 1 to 50 parts by weight of the organic binder;
(B) 무기 바인더 1~10 중량부; (B) 1 to 10 parts by weight of the inorganic binder;
(C) 광중합 개시제 0.1~10 중량부; (C) 0.1 to 10 parts by weight of the photopolymerization initiator;
(D) 광중합성 모노머 1~20 중량부; (D) 1 to 20 parts by weight of the photopolymerizable monomer;
(E) 도전성 무기 필러 30~90 중량부; (E) 30 to 90 parts by weight of the conductive inorganic filler;
(F) 도전성 폴리머 0.1~30 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.(F) 0.1-30 weight part of electroconductive polymers, It is related with the photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.
이하에서, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
(A) 유기 바인더 (A) organic binder
본 발명에 따른 상기 유기 바인더는, 상기 감광성 수지 조성물을 기판에 도포 후 자외선을 조사하여 중합하는 모노머가 현상시의 패턴 선택성을 부여하기 위한 구조물 역할을 하는 것이다.The organic binder according to the present invention serves as a structure for imparting pattern selectivity at the time of development of a monomer which is polymerized by applying ultraviolet light after applying the photosensitive resin composition to a substrate.
본 발명에 따른 상기 유기 바인더로는 1개 이상의 카르복시기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 및 상기 카르복시기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체와 공중합 가능한 또 다른 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체를 사용할 수 있다.As the organic binder according to the present invention, a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups and another ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the ethylenically unsaturated monomer having the carboxyl group may be used.
상기 유기 바인더는 전체 수지 조성물 100중량부에 대하여 1-50 중량부가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5~40중량부이다. 1-50 weight part of said organic binder is preferable with respect to 100 weight part of total resin compositions, More preferably, it is 5-40 weight part.
또한, 상기 유기 바인더의 분자량(Mw)은 3,000 ~ 100,000인 것을 사용하는 것이 좋으며, 보다 바람직하게는 8,000 ~ 50,000이다.In addition, it is preferable to use the molecular weight (Mw) of the said organic binder that is 3,000-100,000, More preferably, it is 8,000-50,000.
상기 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체로는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 등이 있으며, 본 발명에 사용된 바인더 수지는 이들 중 1종 이상의 단량체를 포함한다.Examples of the carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomers include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, and the like, and the binder resin used in the present invention includes one or more of these monomers.
상기 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체와 공중합 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체로는, 예를 들면, 스티렌, α-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, 비닐 벤질 메틸 에테르, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트 등이 있으며, 본 발명에 사용된 카르복시기 함유 아크릴계 바인더 수지는 이들 중 1종 이상의 단량체를 포함한다.As another ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the said carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer, For example, styrene, (alpha) -methyl styrene, vinyltoluene, vinyl benzyl methyl ether, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, Ethyl methacrylate, butyl acrylate, and the like, and the carboxyl group-containing acrylic binder resin used in the present invention contains at least one of these monomers.
이때, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체의 중량비율은 전체 공중합체 대비 5~50%가 바람직하며 보다 바람직하게는 10~40%이다.At this time, the weight ratio of the carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer is preferably 5 to 50%, more preferably 10 to 40% of the total copolymer.
(B) 무기 바인더(B) inorganic binder
본 발명에 따른 상기 무기 바인더는, 상기 감광성 수지 조성물이 전기 전도성일 때, 도전 성분의 소결을 촉진하여 기판과의 밀착성을 부여하는 역할을 한다. The inorganic binder according to the present invention, when the photosensitive resin composition is electrically conductive, promotes the sintering of the conductive component to serve to provide adhesion to the substrate.
상기 무기 바인더로는 Pb산화물계, Bi산화물계, Zn산화물계 등이 있으며, 전체 감광성 수지 100중량부에 대하여 1~10 중량부를 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2~6중량부이다.Examples of the inorganic binder include Pb oxides, Bi oxides, and Zn oxides, and preferably 1 to 10 parts by weight, more preferably 2 to 6 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total photosensitive resin.
(C) 광중합 개시제(C) photopolymerization initiator
본 발명에 따른 상기 광중합 개시제는, 자외선에 대한 감광성을 수지 조성물에 부여하기 위한 것으로서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조 인계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator according to the present invention, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, or the like may be used to impart photosensitivity to ultraviolet rays to the resin composition.
상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논 등이 있다.Specific examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylproriophenone and pt-butyltrichloroacetophenone and pt-butyldichloroacetophenone.
상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논 등이 있다.The benzophenone compounds include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, and acrylated benzophenone.
상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-크롤티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤 등이 있다. Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, and 2,4-diethyl thioxanthone.
상기 벤조 인계 화합물로는 벤조 인, 벤조 인 메틸 에테르, 벤조 인 에틸 에테르, 벤조 인 이소프로필 에테르, 벤조 인 이소부틸 에테르 등이 있다. The benzoin-based compound includes benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like.
상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스( 트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진 등이 있다.Examples of the triazine compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2- (3 ', 4'-dimeth Methoxy styryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxy naphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like have.
본 발명에 따른 광중합 개시제로는 상기 화합물 이외에 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 설포늄 보레이트계 화합물, 디아조계, 비이미다졸계 화합물 등도 사용 가능하다.As the photopolymerization initiator according to the present invention, carbazole compounds, diketone compounds, sulfonium borate compounds, diazo compounds, biimidazole compounds, and the like may also be used.
상기 광중합 개시제의 사용량은 전체 수지 조성물 100중량부에 대하여 0.1∼10 중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the usage-amount of the said photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of all resin compositions.
(D) 광중합성 모노머(D) photopolymerizable monomer
본 발명에 따른 상기 광중합성 모노머는, 상기 광중합 개시제로부터 발생한 프리 라디컬에 의해 중합되어 현상시 선택성을 부여하는 것으로서, 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 모노머가 사용된다 The photopolymerizable monomer according to the present invention is polymerized by free radicals generated from the photopolymerization initiator to impart selectivity during development, and monomers generally used in the photosensitive resin composition are used.
상기 모노머로는 예를 들면 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 등이 있다. As said monomer, for example, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol di Acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and the like.
상기 광중합성 모노머의 사용량은 전체 수지 조성물 100중량부에 대하여 1∼20 중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the usage-amount of the said photopolymerizable monomer is 1-20 weight part with respect to 100 weight part of all resin compositions.
(E) 도전성 무기 필러(E) Conductive Inorganic Filler
본 발명에 따른 상기 도전성 무기 필러는, 소성 후 전극의 역할을 하는 것으로, 일반적으로 Ag, Au, Cu, Al, Pt, Ni 등을 사용할 수 있으며, 전체 수지 조성물 100중량부에 대하여 30~90 중량부인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 40~80 중량부이다.The conductive inorganic filler according to the present invention serves as an electrode after firing, and in general, Ag, Au, Cu, Al, Pt, Ni, and the like may be used, and 30 to 90 weight parts based on 100 parts by weight of the total resin composition. It is preferable that it is denier, More preferably, it is 40-80 weight part.
(F) 도전성 폴리머(F) conductive polymer
본 발명에 따른 상기 도전성 폴리머로는 폴리아닐린계, 폴리티오펜계, 폴리이소티아나푸텐계, 폴리아센계, 폴리피롤계 고분자로 이루어진 그룹에서 선택 된 하나 이상을 사용할 수 있다.As the conductive polymer according to the present invention, one or more selected from the group consisting of polyaniline-based, polythiophene-based, polyisothianaputene-based, polyacene-based, and polypyrrole-based polymers may be used.
상기의 도전성 폴리머를 첨가함으로 후막 조성물의 인쇄, 노광, 현상시 발생할 수 있는 정전기를 이오나이저, 어스 등의 방전 방법을 동원하여 방전하기 용이한 상태로 만들어 주게 된다.By adding the conductive polymer, the static electricity generated during printing, exposure, and development of the thick film composition is mobilized by a discharge method such as ionizer, earth, and the like to make it easy to discharge.
상기 도전성 폴리머의 사용량은 전체 수지 조성물 100중량부에 대하여 0.1~30중량부인 것이 바람직하다. 사용량이 0.1 중량부 미만일 경우는 상기 효과를 기대하기 어려우며, 30중량부를 초과하여 사용할 경우, 패턴의 형성이 어렵거나 형성된 전극의 도전성이 저하될 가능성이 있다.It is preferable that the usage-amount of the said conductive polymer is 0.1-30 weight part with respect to 100 weight part of all resin compositions. If the amount is less than 0.1 part by weight, the above effect is difficult to expect, and when used in excess of 30 parts by weight, the formation of a pattern may be difficult or the conductivity of the formed electrode may be degraded.
본 발명의 상기 조성물에는 조성물의 물성을 해하지 않는 범위 내에서 계면활성제, 산화방지제, 안정제 등의 기타의 첨가제가 일정량 첨가될 수 있다.A certain amount of other additives such as surfactants, antioxidants, stabilizers, etc. may be added to the composition of the present invention within a range that does not impair the physical properties of the composition.
이하, 본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 구체화 될 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be further illustrated by the following examples, but the following examples are only specific examples of the present invention and are not intended to limit or limit the protection scope of the present invention.
[실시예]EXAMPLE
본 발명의 실시예에서 상기 감광성 수지 조성물을 제조하기 위하여 사용한 조성물 각각의 사양은 다음과 같다. In the embodiment of the present invention, the specifications of each of the compositions used to prepare the photosensitive resin composition are as follows.
* 바인더 수지* Binder resin
- 메틸 메타아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체와 부틸 메타아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체의 2, 2, 4-트리메틸-1,3-펜타디올 모노이소부틸레이트 용액 ( 분자량: 10,000, 사용량: 24 g )2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol monoisobutylate solution of a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid and a copolymer of butyl methacrylate and methacrylic acid (molecular weight: 10,000, amount used: 24 g)
* 무기 바인더* Inorganic binder
- 붕규산계 프리트 미세 분말( 연화 온도: 431℃, 평균 입경: 1.2마이크로미터, 사용량: 3g ) Borosilicate frit fine powder (softening temperature: 431 ° C, average particle diameter: 1.2 micrometers, consumption: 3 g)
* 광중합 개시제* Photopolymerization initiator
- 2-메틸-1[4-(메틸 티오) 페닐]-2-모리포리노프로파온1-온 0.5 g0.5 g of 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropion 1-one
* 광중합 모노머* Photopolymerization monomer
- 트리메틸프로판 트리알킬레이트 7g7 g of trimethylpropane trialkylate
* 도전 성분* Conductive element
- Ag분말 : 구상 타입, 비표면적 0.44 m2/g, 탭 밀도 5 g/ml, 평균 입경 1.8마이크로미터, 65g-Ag powder: spherical type, specific surface area 0.44 m2 / g, tap density 5 g / ml, average particle size 1.8 micrometer, 65 g
* 도전성 폴리머 0.3 g0.3 g conductive polymer
< 실시예 1 ><Example 1>
상기 각각의 하기 표 1과 같은 조성 비율로 혼합하여 교반한 후 롤밀에 의해 혼련한다. 상기와 같이 제조된 수지 조성물을 스크린 인쇄기를 이용하여 325 메쉬 스크린으로 유리 기판상에 일정 막두께로 도포한다 (건조 후 11마이크로미터 정도). 페이스트가 도포된 유리 기판을 80℃ 혹은 90℃의 핫플레이트에서 10분간 건조하여 건조막을 수득한다.After mixing and stirring the composition ratios as shown in Table 1 above, the mixture is kneaded by a roll mill. The resin composition prepared as mentioned above is apply | coated with a fixed film thickness on a glass substrate with a 325 mesh screen using a screen printer (after drying: about 11 micrometers). The paste-coated glass substrate is dried on a hot plate at 80 ° C or 90 ° C for 10 minutes to obtain a dry film.
건조막이 형성된 유리 기판에 대한 대전 전압 및 방전 개시 후의 전압의 반감기를 하기 표1에 나타내었다.The half-life of the charge voltage and the voltage after the start of discharge with respect to the glass substrate on which the dry film was formed is shown in Table 1 below.
< 실시예 2 ><Example 2>
도전성 폴리머의 종류를 달리한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 의하여 대전 전압 및 방전 개시 후의 전압의 반감기를 측정하여 하기 표1에 나타내었다.Except that the kind of the conductive polymer was changed, the half life of the charge voltage and the voltage after the discharge start were measured by the same method as in Example 1, and the results are shown in Table 1 below.
< 비교예 1 ><Comparative Example 1>
도전성 폴리머를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 의 하여 대전 전압 및 방전 개시 후의 전압의 반감기를 측정하여 하기 표1에 나타내었다.Except that the conductive polymer was not added, the half life of the charging voltage and the voltage after the start of discharge were measured by the same method as in Example 1, and the results are shown in Table 1 below.
[표 1]TABLE 1
* 물성 측정 방법* Property measurement method
- 대전양 : 정전기 측정기 (Shishido Electro Static.Ltd,S-5109)를 이용하여 측정.-Charge amount: Measured using static electricity meter (Shishido Electro Static.Ltd, S-5109).
- 초기 대전 전위 반감기 : 정전기 측정기 (Shishido Electro Static.Ltd,S-5109)를 이용하여 측정Initial charge potential half-life: measured using an electrostatic meter (Shishido Electro Static.Ltd, S-5109)
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은, 도전성 폴리머를 수지 조성물에 함유시킴으로써 PDP 후막층에 형성되는 정전기의 대전 후 방전 속도를 현저하게 개선하는 것이 가능해짐으로써, 유리 기판의 대면적화에 수반하여 PDP 제조 공정 상의 대전과 관련된 불량율을 크게 저감시키는 효과를 가져올 수 있다.The photosensitive resin composition according to the present invention can significantly improve the discharge rate after charging of the static electricity formed in the PDP thick film layer by containing the conductive polymer in the resin composition, thereby producing a PDP with a large area of the glass substrate. It can bring about an effect of greatly reducing the defective rate associated with the charging of the phase.
Claims (4)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060012495A KR100749609B1 (en) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | Photosensitive resin composition having conductive polymer |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060012495A KR100749609B1 (en) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | Photosensitive resin composition having conductive polymer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100749609B1 true KR100749609B1 (en) | 2007-08-14 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060012495A KR100749609B1 (en) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | Photosensitive resin composition having conductive polymer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100749609B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200040671A (en) * | 2018-10-08 | 2020-04-20 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | Photoresist composition and method of forming photoresist pattern |
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-
2006
- 2006-02-09 KR KR1020060012495A patent/KR100749609B1/en not_active IP Right Cessation
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