Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

KR100728483B1 - Displacement measuring method and displacement sensor - Google Patents

Displacement measuring method and displacement sensor Download PDF

Info

Publication number
KR100728483B1
KR100728483B1 KR1020060023415A KR20060023415A KR100728483B1 KR 100728483 B1 KR100728483 B1 KR 100728483B1 KR 1020060023415 A KR1020060023415 A KR 1020060023415A KR 20060023415 A KR20060023415 A KR 20060023415A KR 100728483 B1 KR100728483 B1 KR 100728483B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
measurement
region
area
displacement
measurement target
Prior art date
Application number
KR1020060023415A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20060101282A (en
Inventor
요시히로 야마시타
마사히로 카와치
코지 시마다
Original Assignee
오므론 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오므론 가부시키가이샤 filed Critical 오므론 가부시키가이샤
Publication of KR20060101282A publication Critical patent/KR20060101282A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100728483B1 publication Critical patent/KR100728483B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/026Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

본 발명은 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 항상 투명체의 표면을 계측 가능한 변위 센서를 제공하기 위한 것으로서, 상기 목적을 달성하기 위한 해결 수단에 있어서, 소정의 계측 대상 영역을 향하여 라인 빔을 조사하는 투광 수단과, 상기 계측 대상 영역을 라인 빔의 조사 각도와는 다른 각도로부터 촬상하는 2차원 촬상 소자와, 2차원 촬상 소자의 출력에 의거하여 계측 대상 영역 내의 물체의 변위를 계측하는 계측 수단과, 2차원 촬상 소자의 시야 내에 2 이상의 계측 대상 영역을 설정하는 것이 가능한 계측 대상 영역 설정 수단과, 2차원 촬상 소자로 촬영된 화상에 의거하여, 설정된 계측 대상 영역에 포함되는 1 또는 2 이상의 측정점 좌표의 결정을 행하는 측정점 좌표 결정 수단과, 계측 대상물체의 기준면에 관한 계측 변위의 변동에 추종시켜서, 적어도 하나의 계측 대상 영역 종단을 변위 측정 방향으로 이동시키는 영역 자동 추종 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 변위 센서가 개시된다.The present invention is to provide a displacement sensor capable of always measuring the surface of the transparent body, regardless of the difference between the reflectance between the surface and the back surface of the transparent body, and in a solution for achieving the above object, a line toward a predetermined measurement target area. A projection means for irradiating a beam, a two-dimensional imaging device for imaging the measurement target area from an angle different from the irradiation angle of a line beam, and a displacement of an object in the measurement target area based on an output of the two-dimensional imaging device 1 or 2 included in the measurement target area based on the measurement means, the measurement target area setting means capable of setting two or more measurement target areas in the field of view of the two-dimensional imaging element, and the image photographed by the two-dimensional imaging element. Measurement point coordinate determining means for determining the measurement point coordinates described above, and the variation of the measurement displacement with respect to the reference plane of the measurement object. Disclosed is a displacement sensor provided with a zone automatic tracking means for following the same and moving at least one measurement target region end in the displacement measurement direction.

변위 계측 방법, 변위 센서 Displacement measurement method, displacement sensor

Description

변위 계측 방법 및 변위 센서{DISPLACEMENT MEASURING METHOD AND DISPLACEMENT SENSOR}Displacement measurement method and displacement sensor {DISPLACEMENT MEASURING METHOD AND DISPLACEMENT SENSOR}

도 1은 신호 처리부의 외관 사시도.1 is an external perspective view of a signal processor;

도 2는 신호 처리부의 연속장착 상태의 외관 사시도.2 is an external perspective view of the signal processor in a continuous mounting state.

도 3은 센서 헤드부의 외관 사시도.3 is an external perspective view of a sensor head.

도 4는 신호 처리부의 전기적 하드웨어 구성을 도시한 블록도.4 is a block diagram showing the electrical hardware configuration of the signal processing unit.

도 5는 센서 헤드부의 전기적 하드웨어 구성을 도시한 블록도.5 is a block diagram showing the electrical hardware configuration of the sensor head portion.

도 6은 포토 마스크와 유리 기판과의 갭 계측을 도시한 도면.6 shows a gap measurement between a photomask and a glass substrate.

도 7은 본 발명이 적용된 변위 센서에 의한 갭 계측의 한 예.7 is an example of a gap measurement by a displacement sensor to which the present invention is applied.

도 8은 종래의 변위 센서에 의한 갭 계측의 한 예.8 is an example of a gap measurement by a conventional displacement sensor.

도 9는 본 발명이 적용된 변위 센서에서 측정 영역을 결정하는 순서를 도시한 제너럴 플로우 차트.9 is a general flow chart showing a procedure for determining a measurement area in a displacement sensor to which the present invention is applied.

도 10은 도 9의 스텝 905 영역 가설정 처리를 상세히 도시한 플로우 차트.FIG. 10 is a flowchart showing in detail the step 905 area provisional processing of FIG. 9; FIG.

도 11은 도 9의 스텝 908 영역 재설정 처리를 상세히 도시한 플로우 차트.FIG. 11 is a flowchart showing details of the step 908 area reset process of FIG. 9; FIG.

도 12는 영역 설정 처리 순서의 설명도.12 is an explanatory diagram of an area setting processing procedure;

도 13은 영역별 감도 조정 처리를 도시한 타이밍 차트.13 is a timing chart showing a sensitivity adjustment process for each region.

도 14는 계측점의 상하 변동에 설정 영역을 추종시키는 처리를 도시한 타이 밍 차트.Fig. 14 is a timing chart showing a process of following a set area with the up and down variation of a measurement point.

도 15는 본 발명이 적용된 변위 센서의 컨트롤러의 내부 구성을 개략적으로 도시한 블록도.15 is a block diagram schematically showing an internal configuration of a controller of a displacement sensor to which the present invention is applied.

도 16은 유리 기판의 두께를 설정할 때의 화면 표시의 한 예(그 1).16 is an example of screen display (part 1) when setting the thickness of a glass substrate.

도 17은 유리 기판의 두께를 설정할 때의 화면 표시의 한 예(그 2).17 is an example of screen display at the time of setting the thickness of the glass substrate (No. 2).

도 18은 유리 기판의 두께를 설정할 때의 화면 표시의 한 예(그 3).18 is an example of screen display when setting the thickness of a glass substrate (No. 3).

도 19는 본 발명이 적용된 변위 센서의 화면 구성의 한 예.19 is an example of a screen configuration of a displacement sensor to which the present invention is applied.

<부호의 설명><Description of the code>

1 : 신호 처리부1: signal processing unit

2 : 센서 헤드부2: sensor head

3 : 중계 커넥터3: relay connector

4 : D1N 레일4: D1N rail

5 : 검출 대상물체5: Object to be detected

10 : 외각 케이스10: outer case

11 : 외부 접속 코드11: external connection cord

12 : USB 커넥터12: USB connector

13 : RS-232C 커넥터13: RS-232C connector

14 : 조작부 덥개14: control panel cover

15 : 표시부15: display unit

16 : 신호 처리부 사이 커넥터 덥개16: connector cover between signal processing unit

17 : 센서 헤드부 접속용 커넥터17: connector for connecting the sensor head

20 : 센서 헤드 본체부20: sensor head body

21 : 케이블21: cable

27 : 신호 처리부 접속용 커넥터27: connector for signal processing unit

101 : 제어부101: control unit

102 : 기억부102: memory

102a : 부휘발성 메모리102a: nonvolatile memory

102b : 화상 메모리102b: Picture memory

103 : 표시부103: display unit

103a : 액정 표시부103a: liquid crystal display

103b : 표시등 LED103b: Indicator LED

104 : 센서 헤드부와의 통신부104: communication unit with the sensor head

105 : 외부 기기와의 통신부105: communication unit with an external device

105a : USB 통신부105a: USB communication unit

105b : 시리얼 통신부105b: serial communication unit

105c : 신호 처리부 사이 통신부105c: communication unit between signal processing units

106 : 키 입력부106: key input unit

107 : 외부 입력부107: external input unit

108 : 출력부108: output unit

109 : 전원부109: power supply

110 : 외부 퍼스널 컴퓨터110: external personal computer

201 : 제어부201: control unit

202 : 투광부202: floodlight

203 : 수광부203: light receiver

204 : 표시등 LED204: Indicator LED

205 : 기억부205: memory

206 : 통신부206: communication unit

61 : 센서 헤드부61: sensor head

62 : 포토 마스크62: photo mask

63 : 유리 기판63: glass substrate

63a : 유리 기판의 이동 예정 위치63a: expected movement position of the glass substrate

71 : 포토 마스크 이면의 광상71: The image behind the photo mask

72 : 유리 기판 표면의 광상72: deposit on the surface of the glass substrate

73 : 유리 기판 이면의 광상73: deposit on the back of the glass substrate

81 : 포토 마스크 이면의 광상81: The image behind the photo mask

82 : 유리 기판 표면의 광상82: deposit on the surface of the glass substrate

83 : 유리 기판 이면의 광상83: A deposit on the back surface of the glass substrate

1501 : 센서·헤드1501: sensor head

1502 : 컨트롤러1502: controller

1503 : A/D 변환기1503: A / D Converter

1504 : 영역 판정부1504: region determination unit

1505 : 화상 메모리1505: picture memory

1506 : 표시 합성부 1506: display synthesis unit

1507 : D/A 변환기1507: D / A Converter

1508 : 변위, 농도 추출부1508: displacement, concentration extraction unit

1509 : 콘솔 인터페이스1509: console interface

1510 : 외부 I/O 인터페이스1510: External I / O Interface

1511 : 메모리1511: memory

1512 : CPU1512: CPU

1513 : 영역 설정부1513: area setting unit

1514 : 연산부 1514: calculating unit

1515 : 감도 판정부1515: sensitivity determination unit

1601 : 투명체 표면의 광상1601: deposits on the surface of the transparent body

1602 : 투명체 이면의 광상1602: the deposit on the back of the transparent body

603 : 커서603: cursor

1901 : 에어리어(0)1901: Area (0)

1902 : 에어리어(1)1902: Area (1)

1903 : 포토 마스크 이면의 광상1903: The image behind the photo mask

1904 : 유리 기판 표면의 광상1904: deposits on the surface of the glass substrate

1905 : 포토 마스크 이면의 라인 브라이트 표시1905: Line bright display behind the photo mask

1906 : 유리 기판 표면의 라인 브라이트 표시1906: Line bright display of the glass substrate surface

1907 : 에어리어(0)의 수광 감도와 에어리어(0) 내의 광상의 피크 값1907: light-receiving sensitivity of the area (0) and the peak value of the optical image in the area (0)

1908 : 에어리어(1)의 수광 감도와 에어리어(1) 내의 광상의 피크 값1908: light reception sensitivity of the area 1 and the peak value of the light image in the area 1

LI : 조사 광상LI: irradiation deposit

L2 : 반사광L2: reflected light

L3 : 포토 마스크 이면으로부터의 반사광L3: Reflected light from behind the photo mask

L4 : 유리 기판 표면으로부터의 반사광L4: reflected light from the glass substrate surface

P1 : 유리 기판 표면 반사광의 피크P1: peak of reflected light on the glass substrate surface

P2 : 유리 기판 이면 반사광의 피크P2: Peak of reflected light behind a glass substrate

기술분야Field of technology

본 발명은 변위 센서에 관한 것으로, 특히, 플랫 패널 디스플레이(이하, FPD라고 한다.)에 사용되는 유리 기판과, 유리 기판에 대한 노광 처리를 위해 사용된 포토 마스크와의 갭 계측 등에 알맞는 변위 센서에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a displacement sensor, and in particular, a displacement sensor suitable for gap measurement between a glass substrate used for a flat panel display (hereinafter referred to as FPD) and a photo mask used for exposure processing on the glass substrate. It is about.

종래기술Prior art

변위 센서는, 대별하면 1차원 변위 센서와 2차원 변위 센서로 나뉘어진다. 전자는 스폿 빔를 계측 매체로서 이용하는 것이고, 후자는 라인 빔을 계측 매체로서 이용하는 것이다. 요즘에는 오로지 후자의 것이 주류로 되어 있다. The displacement sensor is roughly divided into a one-dimensional displacement sensor and a two-dimensional displacement sensor. The former uses the spot beam as the measurement medium, and the latter uses the line beam as the measurement medium. Only the latter is mainstream these days.

보다 구체적으로는, 2차원 변위 센서는, 레이저 다이오드 등의 광원으로부터 방출되는 광을 슬릿을 이용하여 라인 빔으로 하고, 이것을, 계측 대상물체에 조사하는 것이다. 이로써, 계측 대상물체상에는, 그 표면 형상 또는 성상에 응한 조사 광상(光像)이 투영된다(시인(視認) 가부는 불문한다). 즉, 예를 들면 계측 대상물체의 표면(투명체의 경우에는 이면도 포함된다)이 요철이 없는 평탄면인 경우에는, 라인 빔 상당의 직선형상의 조사 광상이 계측 대상물체 표면에 나타난다. 한편, 라인 빔의 조사 영역에 요철 등이 존재하면, 비직선형상의 조사 광상이 나타난다. 따라서 이 계측 대상물체 표면에 나타나는 조사 광상을 2차원 촬상 소자로 촬상하고, 해당 2차원 촬상 소자에서의 수광 영역(좌표)을 검출함에 의해, 광원으로부터 계측 대상물체까지의 거리, 계측 대상물체의 표면의 성상, 변위량, 또는 두께 등의 각종 값을 계측 가능하게 되는 것이다. More specifically, in the two-dimensional displacement sensor, light emitted from a light source such as a laser diode is used as a line beam by using a slit, and this is irradiated to the measurement object. Thereby, the irradiation light image according to the surface shape or a characteristic is projected on the measurement object object (regardless of visibility). That is, for example, when the surface of the measurement object (the transparent surface is also included in the case of the transparent object) is a flat surface without irregularities, a straight irradiation light image corresponding to the line beam appears on the surface of the measurement object. On the other hand, when unevenness | corrugation etc. exist in the irradiation area of a line beam, a nonlinear irradiation light image appears. Therefore, the irradiation light image appearing on the surface of the object to be measured is imaged by a two-dimensional imaging device, and the light receiving area (coordinate) of the two-dimensional imaging device is detected, thereby the distance from the light source to the measurement object and the surface of the measurement object. It is possible to measure various values such as the properties, the amount of displacement, or the thickness.

이와 같은 2차원 변위 센서의 용도의 하나로, FPD에 사용되는 유리 기판과, 유리 기판에 노광 처리를 행할 때에 사용되는 유리제의 포토 마스크와의 갭 계측이 있다. 노광 처리를 행할 때에는 유리 기판과 포토 마스크가 평행하게 되도록 복수대의 변위 센서가 동일 평면상에 전개(展開) 배치되고, 포토 마스크와 유리 기판과의 갭이 소정의 수치 범위에 수습되도록 복수의 점에서 갭 계측이 행하여진다. 노광 처리가 시행되는 유리 기판은, 기판의 두께나 표면에 도포되는 레지스트 액의 종류 등 기판마다 조건이 다양하고, 반사광의 강도도 기판마다 다르다. 그 때문에, FPD에 사용되는 유리 기판과, 유리 기판에 노광 처리를 행할 때에 사용되는 유리제의 포토 마스크와의 갭 계측에 이용되는 2차원 변위 센서에서는, 계측 영역의 수광 감도 조정은, 취득된 광상이 적절한 감도로 측정될 수 있도록 각 영역마다 자동으로 행하여지는 것이 일반적이다. 자동 감도 조정이 행하여지면, 영역 내의 광상이 하나인 경우에는 그 광상을 측정하는데 적절하도록 감도가 조정되고, 영역 내에 복수의 광상이 있는 경우에는 가장 수광량이 큰 광상, 또는 임의의 조건을 충족시킨 광상을 기준으로 하여 수광 감도가 조정된다. One use of such a two-dimensional displacement sensor includes gap measurement between a glass substrate used for FPD and a photomask made of glass used when performing exposure treatment on the glass substrate. In performing the exposure treatment, a plurality of displacement sensors are arranged on the same plane so that the glass substrate and the photo mask are parallel, and at a plurality of points so that the gap between the photo mask and the glass substrate is settled in a predetermined numerical range. Gap measurement is performed. The glass substrate to which an exposure process is performed differs for each board | substrate, such as the thickness of a board | substrate and the kind of resist liquid apply | coated to the surface, and the intensity | strength of the reflected light also differs for every board | substrate. Therefore, in the two-dimensional displacement sensor used for the gap measurement of the glass substrate used for FPD and the glass photomask used at the time of performing an exposure process to a glass substrate, the light reception sensitivity adjustment of the measurement area | region has acquired the optical image. It is usually done automatically for each area so that it can be measured with an appropriate sensitivity. When automatic sensitivity adjustment is performed, the sensitivity is adjusted so as to be suitable for measuring the optical image in the case where there is only one optical image in the area, and the optical image having the largest amount of received light when the plurality of optical images are in the area, or the image that satisfies any condition. The light receiving sensitivity is adjusted on the basis of.

이런 종류의 용도에 사용되는 변위 센서로서, 출원인은 앞서 국제공개 제01/57471호(특허 문헌 1)에 기재된 변위 센서를 제안하고 있다. 특허 문헌 1에 기재된 변위 센서에서는, 2차원 촬상 소자에 있어서의 수광 유무 검출 대상 영역(실질 계측 영역)을 유저가 임의로 지정 가능하게 되어 있는 점에 특징이 있다. 이 변위 센서에서는, 미리 대강의 수광 영역을 예측하여 2차원 촬상 소자에서의 실질 계측 영역을 한정하여 둠으로써, 실질 계측 영역 이외의 영역에 관한 검출 처리가 불필요하게 되고, 이로써 종전의 변위 센서에 비하여 응답 속도가 비약적으로 향상한다는 현저한 효과를 얻을 수 있는 것이다. As a displacement sensor used for this kind of use, the applicant proposes the displacement sensor described previously in International Publication No. 01/57471 (Patent Document 1). The displacement sensor described in Patent Document 1 is characterized in that the user can arbitrarily designate a light-receiving presence / absence detection subject region (actual measurement region) in the two-dimensional imaging element. In this displacement sensor, the approximate light receiving area is predicted in advance to limit the actual measurement area in the two-dimensional imaging device, thereby eliminating the need for detection processing for areas other than the actual measurement area. The remarkable effect that the response speed is greatly improved is obtained.

특허 문헌 1 : 국제공개 제01/57471호 팜플렛Patent Document 1: International Publication No. 01/57471 Pamphlet

그러나, 상기 변위 센서라도 각 계측 영역의 수광 감도 조정은 영역마다 자동으로 행하여지는 것이 일반적이고, 하나의 영역에서 복수의 광상이 검출된 경우에는 가장 수광량이 큰 광상을 기준으로 하여 수광 감도가 조정되어 버려서, 목적하는 광상이 검출할 수 없게 될 우려가 있다. However, even in the above-mentioned displacement sensor, the light receiving sensitivity adjustment of each measurement area is generally performed automatically for each area. When a plurality of light images are detected in one area, the light receiving sensitivity is adjusted based on the light image having the largest light receiving amount. There is a fear that the desired optical image may not be detected.

예를 들면, 유리 기판의 광상을 측정하는 영역 내에 유리 기판 표면의 광상( 수광량 소)와 유리 기판 이면의 광상(수광량 대)의 쌍방이 포함되는 경우, 이 영역의 수광 감도는 유리 기판 이면의 수광량을 기준으로 하여 조정되는 것이 일반적이다. 여기서 유리 기판 표면 광상의 수광량과 유리 기판 이면 광상의 수광량에 큰 차가 있으면, 유리 기판 이면 광상을 기준으로 하여 감도를 조정한 결과로서 유리 기판 표면 광상의 수광량이 너무 작아서 검출 불능으로 되는 경우가 있다. 이렇게 되면 갭 계측에 필요한 유리 기판 표면 광상이 측정되지 않고, 대신에 영역 내에 있는 유리 기판 이면의 광상을 표면 광상이라고 잘못 인식하여 버린다는 일이 일어난다. 노광 처리를 행할 때의 포토 마스크와 유리 기판과의 갭(△G)에 비하여 유리 기판의 두께는 훨씬 큰 수치이기 때문에, 유리 기판 표면 광상과 이면 광상을 잘못 취하면면 유리 기판이 포토 마스크에 접근·접촉한다는 사고가 일어날 수 있다. For example, when both the light image (small light receiving amount) on the glass substrate surface and the light image (large light receiving amount) on the back surface of the glass substrate are included in the area for measuring the light image of the glass substrate, the light receiving sensitivity of this area is the light receiving amount on the back surface of the glass substrate. It is usually adjusted on the basis of. If there is a large difference between the light-receiving amount of the glass substrate surface optical image and the light-receiving amount of the glass substrate backside optical image here, the light-receiving amount of the glass substrate surface optical image may be too small to be detectable as a result of sensitivity adjustment based on the glass substrate backside optical image. In this case, the glass substrate surface optical image required for gap measurement is not measured, and instead, the optical image on the back surface of the glass substrate in the area is mistakenly recognized as a surface optical image. Since the thickness of the glass substrate is much larger than the gap (ΔG) between the photomask and the glass substrate during the exposure treatment, if the glass substrate surface image and the back image are taken incorrectly, the glass substrate may approach the photomask. The accident of contact can happen.

이와 같은 문제의 해결법으로서 유리 기판의 광상을 측정하는 영역에서는, 영역 내에 포함되는 광상중 가장 포토 마스크에 가까이 있는 광상을 측정 대상으로 인식하고, 그 밖의 광상은 검출 대상으로 하지 않도록 설정하는 방법이 고려된다. 그러나 이와 같이 설정하면 포토 마스크 이면 광상이 검출되지 않는 기판의 경우에 「가장 포토 마스크에 가까운」 광상을 특정할 수가 없어서 측정에 문제가 생긴다. As a solution to such a problem, in a region for measuring an optical image of a glass substrate, a method of recognizing the optical image closest to the photomask among the optical images included in the region as a measurement target and setting the other optical image so as not to be a detection target is considered. do. However, in such a case, in the case of the substrate in which the optical image under the photomask is not detected, it is impossible to specify the optical image "closest to the photomask", which causes a problem in measurement.

또한, 상기 특허 문헌 1에는, 촬상된 반사면의 상에 추종시켜서 계측 대상 영역 자체를 이동시키는 변위 센서가 기재되어 있지만, 2 이상의 계측 대상 영역을 마련한 때에, 이동하지 않는 영역과 이동하는 영역이 혼재하고 있으면, 그들의 영역이 서로 겹쳐진 경우에는 전술한 문제가 발생한다. Moreover, although the said patent document 1 has described the displacement sensor which follows the image of the reflecting surface and moves the measurement object area | region itself, when the 2 or more measurement object area | region is provided, the area | region which does not move and the area | region which move are mixed If they do, the above-mentioned problems arise when these areas overlap each other.

본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 점 은, 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 항상 투명체의 표면을 계측 가능한 변위 센서를 제공하는 것에 있다. This invention is made | formed in view of the said problem, The objective is to provide the displacement sensor which can always measure the surface of a transparent body, regardless of the difference of the reflectance of the surface of a transparent body and the back surface.

본 발명의 또다른 목적 및 효과는, 명세서중의 이하의 기재로부터 당업자라면 용이하게 이해될 것이다. Still other objects and effects of the present invention will be readily understood by those skilled in the art from the following description of the specification.

상술한 목적을 달성하기 위해, In order to achieve the above object,

본 발명의 변위 계측 방법은, 제 1의 투명판의 하나의 면을 계측 대상 영역 내에 포함되도록 고정하여 배치하고, 상기한 면에 대향시켜서 소정의 거리 이상 떨어진 위치로부터 제 2의 투명판을 접근시키면서, 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하고, 계측 대상 영역을 빔의 조사 각도와는 다른 각도로부터 촬상 소자에 의해 촬상하고, 제 1의 투명판의 상기 빔을 반사하는 반사면 및 상기 제 2의 투명판의 상기 빔을 반사하는 반사면의 광상에 의거하여 변위를 계측하는 방법으로서, 변위의 계측에 앞서서, 제 1의 계측 대상 영역을, 촬상 소자의 시야 내에, 제 1의 투명판의 하나의 면에 의한 반사면의 광상이 촬상될 수 있는 범위로 설정하고, 제 2의 계측 대상 영역을, 제 2의 투명판이 상기한 하나의 면에 대향하는 소정의 거리 이상 떨어진 위치에 존재하는 상태에서는, 제 2의 투명판의 제 1의 투명판에 대해 먼 측의 면에 의한 반사면의 광상을 포함하지 않으며, 또한, 제 1의 계측 대상 영역과 겹쳐지지 않는 범위로 설정하고, 변위의 계측에서는, 제 1의 투명판의 반사면에 대향하는 소정의 거리 이상 떨어진 위치로부터 제 2의 투명판을 접근시키면서, 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하여 상기 촬상 소자에 의해 반복 촬상하고, 촬상마다, 제 2의 계측 대상 영역에 관해, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면 의 광상의 나열 방향에 관해 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측에 있는 단부(端部)의 위치를, 제 2의 계측 대상 영역 내에 존재하는 반사면의 광상을 기준으로 하여 일정한 범위 내로 되도록 추종시키고, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역의 감도를, 각 계측 대상 영역 내에 존재하는 가장 수광량이 큰 반사면상(反射面像) 또는 소정의 조건에 의해 선택한 반사면상의 수광량에 의거하여 자동 조정하고, 감도 조정하여 얻어진 각각의 계측 대상 영역 내에 존재하는 대상물의 반사면의 광상으로부터 측정점 좌표를 각각 결정하고, 결정된 측정점 좌표에 의거하여 제 1의 계측 대상 영역 내의 반사면의 변위와, 제 2의 계측 대상 영역의 반사면의 변위를 계측한다. According to the displacement measuring method of the present invention, one surface of the first transparent plate is fixed and arranged to be included in the measurement target area, and the second transparent plate is approached from a position away from the predetermined distance by opposing the surface. And a reflection surface for irradiating a beam toward the measurement target region, imaging the measurement target region with an imaging device from an angle different from the irradiation angle of the beam, and reflecting the beam of the first transparent plate and the second transparency. A method of measuring a displacement based on an optical image of a reflecting surface that reflects the beam of a plate, wherein, prior to measurement of the displacement, one surface of the first transparent plate is placed in the field of view of the imaging device in the first measurement target region. Is set in a range in which the optical image of the reflective surface can be picked up, and the second measurement target region is located at a position away from the predetermined distance at which the second transparent plate is opposed to the one surface described above. In a state, it does not contain the optical image of the reflecting surface by the surface of the side which is far from the 1st transparent plate of a 2nd transparent plate, and it sets in the range which does not overlap with a 1st measurement object area | region, In the measurement, the second transparent plate is irradiated toward the measurement target area while the second transparent plate is approached from a position separated by a distance or more away from the reflective surface of the first transparent plate, and the image is repeatedly imaged by the imaging device. With respect to the second measurement target area, the position of the end on the side opposite to the first measurement target area with respect to the alignment direction of the optical image of the reflective surfaces in the first and second measurement target areas, Based on the optical image of the reflecting surface existing in the second measurement target area, the following is performed so as to be within a predetermined range, and the sensitivity of the first and second measurement target areas is the most received amount in each measurement target area. The measurement point coordinates are respectively determined from the light image of the reflecting surface of the object present in each measurement target region obtained by automatic adjustment based on the amount of light received on the reflecting surface or on the reflecting surface selected under predetermined conditions. Based on the determined measurement point coordinates, the displacement of the reflection surface in the first measurement object region and the displacement of the reflection surface of the second measurement object region are measured.

소정의 조건이란, 제 2의 반사판을 제 1의 반사판에 1회 접근시키는 작업의 동안에 행하는 변위 계측에 대해 공통으로 사용되는, 계측 대상 영역 내에 존재하는 반사면을 선택하기 위해 미리 정한 조건을 말한다. The predetermined condition refers to a predetermined condition for selecting a reflection surface existing in the measurement target region, which is commonly used for displacement measurement performed during the operation of bringing the second reflection plate close to the first reflection plate once.

또한, 제 1의 계측 대상 영역 내의 반사면의 변위와, 상기 제 2의 계측 대상 영역의 반사면의 변위로부터, 제 1의 투명판과 제 2의 투명판과의 간격을 산출하는 갭을 계측할 수 있다. Further, a gap for calculating the distance between the first transparent plate and the second transparent plate can be measured from the displacement of the reflective surface in the first measurement target region and the displacement of the reflective surface of the second measurement target region. Can be.

이와 같은 방법에 의하면, 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 고정된 투명판에 접근시키는 투명판의 반사면의 변위나 양자의 갭을 계측하는 것이 가능하다. According to such a method, it is possible to measure the displacement of the reflecting surface of the transparent plate or the gap between the transparent plates to approach the fixed transparent plate, regardless of the difference in reflectance between the front and rear surfaces of the transparent body.

바람직하게는, 제 2의 계측 대상 영역의 단부를 추종시키는, 영역 내에 존재하는 반사면의 광상을 기준으로 한 일정한 범위 내는, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면의 광상의 나열 방향에 관해, 해당 반사면의 광상의 폭보다 크 고, 제 2의 투명판의 두께에 대응하는 촬상 소자의 시야 내에서의 간격보다 작게 한다. Preferably, the alignment direction of the optical image of the reflective surface in the first and second measurement target regions is within a constant range based on the optical image of the reflective surface existing in the region, which follows the end of the second measurement target region. Regarding this, it is larger than the width of the optical image of the reflection surface and smaller than the interval in the field of view of the imaging device corresponding to the thickness of the second transparent plate.

이 방법에 의하면 이동하는 제 2의 투명체의 하나의 면에 관해 안정되게 변위를 계측할 수 있다. According to this method, the displacement can be measured stably with respect to one surface of the moving second transparent body.

바람직하게는, 제 2의 투명판을 상기 촬상 소자의 시야의 밖으로부터 접근시킨다. Preferably, the second transparent plate is brought out of the field of view of the imaging device.

이 방법에 의하면, 제 2의 계측 대상 영역 내에 제 2의 투명판의 2개의 면이 최초부터 존재하는 일은 없기 때문에, 제 1의 투명판으로부터 먼 측의 면에 계측 대상 영역을 잘못하고 설정할 위험이 없어진다. According to this method, since two surfaces of the second transparent plate do not exist from the beginning in the second measurement target area, there is a risk that the measurement target area is wrongly set on the side of the second transparent plate. Disappear.

바람직하게는, 빔이 라인 빔으로 된다. 또한, 상기 제 2의 투명판은 FPD(플랫 패널 디스플레이)에 사용되는 유리 기판으로 하고, 상기 제 1의 투명판은 노광 처리를 위해에 사용되는 마스크 유리로 된다. Preferably, the beam is a line beam. The second transparent plate is a glass substrate used for an FPD (flat panel display), and the first transparent plate is a mask glass used for an exposure process.

본 발명의 변위 센서는, 소정의 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하는 투광 수단과, 상기 계측 대상 영역을 빔의 조사 각도와는 다른 각도로부터 촬상하는 촬상 소자와, 촬상 소자의 출력에 의거하여 계측 대상 영역 내의 물체의 변위를 계측하는 계측 수단과, 촬상 소자의 시야 내에 2 이상의 계측 대상 영역을 설정하는 것이 가능한 계측 대상 영역 설정 수단과, 촬상 소자로 촬영된 화상에 의거하여, 설정된 계측 대상 영역에 포함되는 1 또는 2 이상의 측정점 좌표의 결정을 행하는 측정점 좌표 결정 수단과, 계측 대상물체의 반사면에 관한 계측 변위의 변동에 추종시켜서, 해당 계측 변위가 변동하는 계측 대상물체의 반사면을 포함하는 계측 대 상 영역의, 하나의 계측 대상 영역 종단(終端)을 해당 계측 변위의 변동 방향으로 이동시키는 영역 자동 추종 수단을 구비하고, 계측 대상 영역은 적어도 제 1의 계측 대상 영역과 제 2의 계측 대상 통역을 가지며, 촬상 소자의 시야 내에 고정하여 존재하는 반사면에 대해서는 제 1의 계측 대상 영역을 설정하고, 계측 변위가 변동하는 계측 대상물체의 반사면에 대해서는, 해당 반사면을 포함하도록, 또한 제 1의 계측 대상 영역 이외의 범위에 제 2의 계측 대상 곡역을 설정하고, 영역 자동 추종 수단은, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면의 광상의 나열 방향에 관해 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측에 있는 제 2의 계측 대상 영역의 종단을 이동시킨다. The displacement sensor of the present invention is based on projection means for irradiating a beam toward a predetermined measurement target region, an imaging element for imaging the measurement target region from an angle different from the irradiation angle of the beam, and measurement based on the output of the imaging element. Measurement means for measuring the displacement of an object in the target area, measurement target area setting means capable of setting two or more measurement target areas in the field of view of the imaging device, and a set measurement target area based on an image captured by the imaging device. Measurement point coordinate determining means for determining one or two or more measurement point coordinates to be included, and a measurement including a reflection surface of the measurement object in which the measurement displacement fluctuates following a change in measurement displacement with respect to the reflection surface of the measurement object. Automatically adds an area to move one end of the measurement target area in the target area in the direction of change of the measurement displacement. A measuring means region having at least a first measuring object region and a second measuring object interpreter, and setting the first measuring object region with respect to a reflecting surface which is fixed and exists in the field of view of the imaging device; For the reflective surface of the measurement target object in which the measurement displacement fluctuates, the second measurement target curve is set in a range other than the first measurement target region so as to include the reflection surface, and the area automatic tracking means is the first. And the end of the second measurement target region on the side opposite to the first measurement target region with respect to the alignment direction of the optical image of the reflecting surface in the second measurement target region.

이와 같은 구성에 의하면, 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 고정된 투명판에 접근시키는 투명판의 반사면을 계측 가능한 변위 센서를 제공 가능하다. According to such a structure, it is possible to provide the displacement sensor which can measure the reflecting surface of the transparent plate which approaches a fixed transparent plate, regardless of the difference of the reflectance between the front surface and the back surface of a transparent body.

바람직하게는, 제 2의 계측 대상 영역은, 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 한쪽의 단부를 종단으로서 설정한다. Preferably, the 2nd measurement object area | region sets one edge part of the direction of the measurement displacement in the visual field of an imaging element as an end.

또한, 바람직하게는, 제 2의 계측 대상 영역의 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 제 1의 계측 대상 영역측의 단부의 좌표를, 제 1의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 설정하고, 제 2의 계측 대상 영역의 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측의 단부의 좌표를, 제 2의 계측 대상 영역에 화상이 포함되지 않은 경우에는, 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 한쪽의 단부를 종단으로서 설정하고, 제 2의 계 측 대상 영역에 화상이 포함되어 있는 경우에는, 제 2의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 종단을 설정한다. Moreover, Preferably, the coordinate of the edge part on the side of a 1st measurement object area | region in the direction of the measurement displacement in the visual field of the imaging element of a 2nd measurement object area | region is made into the measurement point coordinate of the image contained in a 1st measurement object area | region. When setting based on it, and the coordinate of the edge part on the opposite side to the 1st measuring object area | region in the direction of the measurement displacement in the visual field of the imaging element of a 2nd measuring object area | region is not included in a 2nd measuring object area | region In this case, one end in the direction of the measurement displacement in the field of view of the imaging element is set as the terminal, and when the image is included in the second measurement target region, the measurement point coordinates of the image included in the second measurement target region. Set the termination according to.

이와 같은 구성에 의하면 초기 상태에 포함되는 화상에 대해 제 1의 계측 대상 영역을 설정하도록 구성함에 의해, 오퍼레이터가 특별한 조작을 행하지 않아도 제 1의 계측 영역을 자동 생성시키는 것이 가능해지고, 조작이 보다 간단하게 된다. 또한, 제 2의 계측 대상 영역에서 투명체의 측정을 행하는 경우에 확실하게 편면(片面)씩 측정 영역에 넣는 것이 가능해진다. According to such a configuration, by configuring the first measurement target region for the image included in the initial state, it is possible to automatically generate the first measurement region even if the operator does not perform any special operation, and the operation is simpler. Done. Moreover, when measuring a transparent body in a 2nd measurement object area | region, it becomes possible to reliably put in single side | surface one side to a measurement area | region.

이와 같은 구성에 의하면, 제 2의 계측 영역에 반사면이 포함되지 않은 경우에도 제 1의 계측 영역중의 화상에 의거하여 제 2의 계측 영역을 가설정(假設定)하는 것이 가능해진다. 또한, 제 2의 계측 영역중에 반사면이 포함되어 있는 경우에는 제 2의 계측 영역중의 화상에 의거하여 종점 좌표를 설정하기 때문에, 보다 상태에 입각한 좌표를 설정 가능하다. According to such a structure, even if a reflective surface is not contained in a 2nd measurement area, it becomes possible to temporarily set a 2nd measurement area based on the image in a 1st measurement area. In addition, when the reflecting surface is included in the second measurement area, the end point coordinates are set based on the image in the second measurement area, so that the coordinates based on the state can be set more.

바람직하게는, 제 2의 계측 대상 영역중에 포함된 반사면의 변위를 계측한 경우에는, 제 2의 계측 대상 영역중에 포함된 반사면의 측정점 좌표에 의거하여 제 2의 계측 대상 영역 종점의 좌표를 재설정한다. Preferably, when the displacement of the reflecting surface contained in the 2nd measurement object area | region is measured, the coordinate of the end point of a 2nd measurement object area | region is based on the measurement point coordinate of the reflecting surface contained in a 2nd measurement object area | region. Reset.

이와 같은 구성에 의하면, 제 2의 계측 영역중의 화상의 변위에 맞추어서 제 2의 계측 영역 종점 좌표를 적절히 변경을 행하기 때문에, 반사면이 이동한 경우에도 상황에 입각한 영역 설정이 가능해진다. According to such a structure, since the 2nd measurement area | region end coordinate is changed suitably according to the displacement of the image in a 2nd measurement area | region, it becomes possible to set the area according to a situation even when a reflective surface moves.

바람직하게는, 제 2의 계측 대상 영역에 화상이 포함되어 있는 경우에 제 2의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 설정되는, 또는, 제 2 의 계측 대상 영역중에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 제 2의 계측 대상 영역 종점의 좌표를 재설정되는 제 2의 계측 대상 영역의 측정점 좌표로부터 종단까지의 거리는, 유리 기판의 두께보다 작다. Preferably, when the image is included in the second measurement target region, the image is set based on the coordinates of the measurement point of the image included in the second measurement target region, or the image included in the second measurement target region. The distance from the measurement point coordinates of the 2nd measurement object area | region which resets the coordinates of a 2nd measurement object area | region end point based on a measurement point coordinate to a terminal is smaller than the thickness of a glass substrate.

이 방법에 의해, 항상 유리 기판 표면만을 측정 가능해지고, 유리 기판 이면을 측정함에 의한 이상이 생기지 않는다. By this method, only a glass substrate surface can be measured always, and the abnormality by measuring a glass substrate back surface does not arise.

바람직하게는, FPD(플랫 패널 디스플레이)에 사용되는 유리 기판과, 유리 기판에 대한 노광 처리를 위해 사용되는 마스크 유리와의 갭의 계측에 알맞게 이용할 수 있다. 또한, 빔은 라인 빔으로 할 수 있다. Preferably, it can utilize suitably for the measurement of the gap of the glass substrate used for FPD (flat panel display), and the mask glass used for the exposure process with respect to a glass substrate. The beam may be a line beam.

이상의 구성으로 분명한 바와, 본 발명에 의하면 계측 대상 영역 종점이 계측 대상 영역중의 측정점 좌표에 의해 정해지기 때문에, 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 항상 투명체의 표면을 계측 가능한 변위 센서를 제공 가능하다.As is apparent from the above configuration, according to the present invention, since the end point of the measurement target region is determined by the measurement point coordinates in the measurement target region, the displacement sensor capable of always measuring the surface of the transparent body regardless of the difference in reflectance between the front surface and the rear surface of the transparent body It is possible to provide.

이하에, 본 발명의 변위 센서의 알맞은 실시의 형태를 첨부 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 또한, 이하에 설명한 실시의 형태는, 본 발명의 한 예를 나타내는 것에 지나지 않고, 본 발명의 요지로 하는 점은, 특허청구의 범위의 기재에 의해서만 규정되는 것이다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, preferred embodiment of the displacement sensor of this invention is described in detail, referring an accompanying drawing. In addition, embodiment described below is only an example of this invention, The point made into the summary of this invention is prescribed only by description of a claim.

본 실시 형태의 변위 센서는, 제어반 등에의 컴팩트한 수용을 가능하게 하기 위해, 또한 협소한 계측 환경에의 설치를 용이하게 하기 위해, 신호 처리부와 센서 헤드부가 분리된 이른바 앰프 분리형의 변위 센서이다, The displacement sensor of the present embodiment is a so-called amplifier-displacement type displacement sensor in which a signal processing unit and a sensor head unit are separated in order to enable compact accommodation in a control panel or the like and to facilitate installation in a narrow measurement environment.

본 실시 형태의 변위 센서의 신호 처리부의 외관 사시도가 도 1에 도시되어 있다. 신호 처리부(1)의 외각 케이스(10)는, 약간 가늘고 긴 직율면체 형상의 형태를 갖고 있다. 외각 케이스(10)의 앞면으로부터는, 외부 접속 코드(11)이 인출되어 있다. 이 외부 접속 코드(11)에는, 외부 입력선, 외부 출력선, 전원선 등이 포함되어 있다. 외부 입력선은 예를 들면 상위 장치로서의 PLC(Programable Logic Contolor) 등으로부터 신호 처리부(1)에 대해 각종의 지령을 외부에서 주기 위한 것이고, 외부 출력선은 신호 처리부(1)의 내부에서 생성된 스위칭 출력이나 아날로그 출력 등을 PLC 등에 출력하기 위한 것이고, 전원선은 신호 처리부의 내부 회로에 대한 전원을 공급하기 위한 것이다. 또한, 외각 케이스(10)의 앞면에는, USB 커넥터(12)와, RS-232C 커넥터(13)가 마련되어 있다. The external perspective view of the signal processing part of the displacement sensor of this embodiment is shown in FIG. The outer case 10 of the signal processing unit 1 has a form of a slightly elongated rectangular parallelepiped. The external connection cord 11 is pulled out from the front surface of the outer case 10. The external connection cord 11 includes an external input line, an external output line, a power supply line, and the like. The external input line is for externally giving various commands to the signal processing unit 1 from, for example, a programmable logic controller (PLC) as the host device, and the external output line is a switching generated inside the signal processing unit 1. The output line or analogue output is for outputting to a PLC or the like, and the power supply line is for supplying power to the internal circuit of the signal processing section. In addition, the front surface of the outer case 10 is provided with a USB connector 12 and an RS-232C connector 13.

외각 케이스(10)의 윗면에는 개폐 가능한 조작부 덥개(14)가 마련되어 있다. 도시는 생략하지만, 이 조작부 덥개(14)의 아래에는, 신호 처리부(1)에서의 각종의 지령 조작 등을 행하기 위한 조작부가 마련되어 있다. 또한, 외각 케이스(10)의 윗면에는, 동작 표시 등을 행하기 위한 표시부(15)가 배치되어 있다. The operation part cover 14 which can be opened and closed is provided in the upper surface of the outer case 10. Although not shown, an operation unit for performing various command operations and the like in the signal processing unit 1 is provided under the operation unit cover 14. Moreover, the display part 15 for performing operation display etc. is arrange | positioned at the upper surface of the outer case 10. As shown in FIG.

외각 케이스(10)의 좌우 측면에는, 신호 처리부 사이 커넥터 덥개(16)가 마련되어 있다. 이 신호 처리부 사이 커넥터 덥개(16)의 내부에는, 다른 신호 처리부(1)를 접속하기 위한 신호 처리부 사이 커넥터(중계 커넥터(3))가 마련되어 있다. Connector covers 16 are provided between the signal processing sections on the left and right sides of the outer case 10. Inside the connector cover 16 between the signal processing sections, a connector (relay connector 3) between the signal processing sections for connecting the other signal processing section 1 is provided.

복수의 신호 처리부(1)의 연속장착(連裝) 상태를 도시한 외관 사시가 도 2에 도시되어 있다. 동 도면에 도시된 바와 같이, 복수의 신호 처리부(1)는, 이 예에서는 DlN 레일(4)을 이용하여 인접 결합 상태로 1열로 연속장착된다. 신호 처리부(1) 의 외각 케이스(10)의 후면에는, 센서 헤드부 접속용 커넥터(17)가 마련되어 있다. 신호 처리부(1)는 이 센서 헤드부 접속용 커넥터(17)을 통하여 후술하는 센서 헤드부(2)에 접속되어 있다. The external perspective which shows the continuous mounting state of several signal processing part 1 is shown in FIG. As shown in the figure, the plurality of signal processing units 1 are continuously mounted in one row in the adjacent coupling state using the DL rail 4 in this example. On the rear surface of the outer case 10 of the signal processing unit 1, a connector 17 for connecting a sensor head portion is provided. The signal processing section 1 is connected to the sensor head section 2 described later through this sensor head section connecting connector 17.

센서 헤드부의 외관 사시도가 도 3에 도시되어 있다. 센서 헤드부(2)는, 센서 헤드부 접속용 커넥터(17)에 대응하는 신호 처리부 접속용 커넥터(27)와, 케이블(21)과, 센서 헤드 본체부(20)를 구비하여 이루어진다. 그리고, 본체부(20)에 내장된 투광 소자(이 예에서는 레이저 다이오드)로부터 출사되는 펄스형상의 레이저 광이, 도시하지 않은 투광 렌즈를 통하여, 계측 대상물체(5)의 표면에 슬릿광(L1)으로서 조사된다. 이로써, 계측 대상물체(5)의 표면에는 슬릿광의 조사 광상(LI)이 형성된다. 계측 대상물체(5)에서 반사한 슬릿광의 반사광(L2)은 센서 헤드부(2) 내의 도시하지 않은 수광 렌즈를 통하여 2차원 촬상 소자(CCD 타입, CMOS 타입 등)에서 수광된다. 즉, 계측 대상물체(5)의 표면을, 2차원 촬상 소자에 의해 다른 각도로부터 촬영함에 의해, 슬릿광의 조사 광상(LI)을 포함하는 영상 신호를 취득한다. 그리고, 이 영상 신호에 의거하여, 소정의 특징량이 추출되고, 목적으로 하는 변위량(이 예에서는 센서 헤드부(2)와 계측 대상물체(5)의 거리)가 구하여진다.An external perspective view of the sensor head is shown in FIG. 3. The sensor head portion 2 includes a signal processing portion connection connector 27 corresponding to the sensor head connection connector 17, a cable 21, and a sensor head main body portion 20. The pulsed laser light emitted from the light transmitting element (laser diode in this example) built into the main body 20 is slit light L1 on the surface of the measurement target object 5 through a light transmitting lens (not shown). Is investigated. As a result, the irradiation light image LI of the slit light is formed on the surface of the measurement object 5. The reflected light L2 of the slit light reflected by the measurement target object 5 is received by a two-dimensional imaging device (CCD type, CMOS type, etc.) through a light receiving lens (not shown) in the sensor head portion 2. That is, the image signal containing the irradiation light image LI of slit light is acquired by image | photographing the surface of the measurement object 5 by a 2D imaging element. Based on this video signal, a predetermined feature amount is extracted and a target displacement amount (in this example, the distance between the sensor head portion 2 and the measurement target object 5) is obtained.

변위 센서의 신호 처리부(1)의 전기적 하드웨어 구성의 전체를 도시한 블록도가 도 4에 도시되어 있다. 동 도면에 도시된 바와 같이, 신호 처리부(1)는, 제어부(101)와, 기억부(102)와, 표시부(103)와, 센서 헤드부와의 통신부(104)와, 외부 기기와의 통신부(105)와, 키 입력부(106)와, 외부 입력부(107)와, 출력부(108)와, 전원부(109)를 구비하고 있다. A block diagram showing the entire electrical hardware configuration of the signal processing section 1 of the displacement sensor is shown in FIG. As shown in the figure, the signal processing unit 1 includes a control unit 101, a storage unit 102, a display unit 103, a communication unit 104 with a sensor head unit, and a communication unit with an external device. 105, a key input unit 106, an external input unit 107, an output unit 108, and a power supply unit 109 are provided.

제어부(101)는, CPU(Central Processing Unit)와 FPGA(Field Programmable Gate Array)에 의해 구성되고, 신호 처리부(1) 전체의 총괄 제어를 담당한다. 이 제어부(101)는, 후술하는 각종 기능을 실현함과 함께, 수광 신호를 소정의 임계치를 기준으로 하여 2치화한 후, 이것을 출력 데이터로서, 출력부(108)로부터 외부로 송출한다. 기억부(102)는, 불휘발성 메모리(EEPROM)(102a)와, 표시부(103)에 표시되는 화상 데이터를 기억하는 화상 메모리(102b)를 구비하고 있다. 표시부(103)는, 임계치나 계측 대상물체까지의 거리 등에 관한 각종 수치 등이 표시되는 액정 표시부(103a)와, 계측치에 응한 출력 상태(온/오프 상태) 등을 나타내는 표시등 LED(103b)를 구비하고 있다. 통신부(104)는, 센서 헤드부(2)와의 통신을 담당하는 것이다. 외부 통신부(105)는, 외부의 퍼스널 컴퓨터(PC)(110)에 접속하기 위한 USB 통신부(l05a)와, 각종의 커맨드나 프로그램 데이터의 송수신에 사용되는 시리얼 통신부(105b)와, 소정의 프로토콜 및 송수신 포맷에 따라서 좌우의 인접하는 다른 신호 처리부와의 사이에서 데이터 통신을 행하는 신호 처리부 사이 통신부(105c)를 구비하고 있다. 키 입력부(106)는, 도시하지 않은 각종 설정을 위한 스위치나 조작 버튼 등으로 구성되어 있다. 외부 입력부(107)는 예를 들면 PLC 등의 상위 장치로부터의 신호 처리부(1)에 대한 각종의 지령을 수신하기 위한 것이다. 출력부(108)는, 온/오프 출력을 PLC 등의 상위 장치에 출력하기 위해 사용된다. 전원부(109)는, 제어부(101) 및 외부의 하드웨어 회로에 대해 전원을 공급하는 것이다. The control unit 101 is constituted by a central processing unit (CPU) and a field programmable gate array (FPGA), and is responsible for overall control of the signal processing unit 1 as a whole. The control unit 101 realizes various functions to be described later, binarizes the received signal on the basis of a predetermined threshold value, and then outputs it as output data from the output unit 108 to the outside. The storage unit 102 includes a nonvolatile memory (EEPROM) 102a and an image memory 102b that stores image data displayed on the display unit 103. The display unit 103 displays a liquid crystal display 103a in which various values such as a threshold value and a distance to the measurement object are displayed, and an indicator LED 103b indicating an output state (on / off state) or the like corresponding to the measured value. Equipped. The communication unit 104 is in charge of communication with the sensor head unit 2. The external communication unit 105 includes a USB communication unit l05a for connecting to an external personal computer (PC) 110, a serial communication unit 105b for transmitting and receiving various commands and program data, a predetermined protocol and A signal processing unit 105c is provided between the signal processing units for performing data communication between adjacent left and right signal processing units in accordance with the transmission and reception format. The key input unit 106 is composed of switches, operation buttons, and the like for various settings (not shown). The external input unit 107 is for receiving various commands to the signal processing unit 1 from, for example, a host device such as a PLC. The output unit 108 is used to output the on / off output to a host device such as a PLC. The power supply unit 109 supplies power to the control unit 101 and external hardware circuits.

센서 헤드부(2)의 전기적 하드웨어 구성을 도시한 블록도가 도 5에 도시되어 있다. 동 도면에 도시된 바와 같이, 센서 헤드부(2)는, 제어부(201)와, 계측 대상 물체(5)를 향하여 슬릿광을 조사하기 위한 투광부(202)와, 계측 대상물체(5)에 의해 반사되어 도래하는 반사광을 수광하는 수광부(203)와, 표시등 LED(204)와, 기억부(205)와, 통신부(206)를 구비하고 있다. A block diagram showing the electrical hardware configuration of the sensor head 2 is shown in FIG. As shown in the figure, the sensor head unit 2 includes a control unit 201, a light projecting unit 202 for irradiating slit light toward the measurement target object 5, and a measurement target object 5. The light receiving unit 203, the indicator LED 204, the storage unit 205, and the communication unit 206 are provided for receiving the reflected light reflected by the light.

제어부(201)는, CPU(Central Processing Unit)와 PLD(Programable Logic Device)에 의해 구성되고, 센서 헤드부의 각 구성 요소(202 내지 206)를 통괄 제어하는 역할을 담당하는 것이다. The control unit 201 is constituted by a central processing unit (CPU) and a programmable logic device (PLD), and serves to collectively control the respective components 202 to 206 of the sensor head unit.

투광부(202)는, 이 예에서는 투광 소자로서의 레이저 다이오드와 투광 회로를 구비하고, 검출 대상 영역을 향하여 슬릿광을 조사한다. 수광부(203)은, 슬릿광의 반사광을 수광하는 2차원 촬상 소자(CCD 타입, CMOS 타입 등)와, 제어부(201)로부터의 타이밍 제어 신호에 동기하여, 2차원 촬상 소자로부터 얻어지는 수광 신호를 증폭하여 제어부(201)에 출력한 수광 신호 처리부를 갖고 이루어진다. 표시등 LED(204)는, 센서 헤드부(2)의 각종 동작 상태에 대응하여 점소등한다. 기억부(205)는, 예를 들면 불휘발성 메모리(EEPROM)로 구성되고, 이 예에서는, 센서 헤드부(2)를 분류(同定)하기 위한 ID(식별 정보) 등이 기록되어 있다. 통신부(206)는, 제어부(201)의 명령에 따라, 신호 처리부(1)와의 통신을 담당하는 것이다. 본 실시 형태의 센서 헤드부(2)는, 상술한 바와 같은 회로 구성으로 이루어지고, 신호 처리부(1)의 지령에 응하여 적절한 투수광 처리를 행한다. In this example, the light projecting section 202 includes a laser diode as a light transmitting element and a light transmitting circuit, and emits slit light toward the detection target region. The light receiving unit 203 amplifies a light receiving signal obtained from the two-dimensional imaging device in synchronization with a two-dimensional imaging device (CCD type, CMOS type, etc.) that receives the reflected light of the slit light, and a timing control signal from the control unit 201. It has a light reception signal processing part output to the control part 201. The indicator LED 204 is turned on in response to various operation states of the sensor head 2. The storage unit 205 is constituted of, for example, a nonvolatile memory (EEPROM). In this example, an ID (identification information) or the like for classifying the sensor head unit 2 is recorded. The communication unit 206 is in charge of communication with the signal processing unit 1 in response to a command from the control unit 201. The sensor head 2 of the present embodiment has the circuit configuration as described above, and performs the appropriate light-receiving processing in response to the command of the signal processing section 1.

본 발명이 적용된 변위 센서에서 포토 마스크와 유리 기판과의 갭 계측을 모식적으로 도시한 한 예가 도 6에 도시되어 있다. 동 도면에서 61은 변위 센서의 센서 헤드부, 62는 포토 마스크, 63은 유리 기판, 63a는 유리 기판의 이동 예정 위 치, L3은 포토 마스크(62) 이면으로부터의 반사광, L4는 유리 기판 표면으로부터의 반사광, △G는 포토 마스크(62)와 유리 기판(63)과의 갭이다. 포토 마스크(62)는 이면(유리 기판(63)과 상대하는 측의 면)에 노광 패턴이 그려지고 있고, 포토 마스크(62) 표면측으로부터 노광 장치(도시 생략)로 유리 기판(63)에 (도시 생략) 노광 처리가 행하여질 때에, 각각의 유리 기판에 대응한 노광 패턴이 이용된다. 한편 유리 기판(63)은 표면(포토 마스크와 상대하는 측의 면)에 레지스트 액이 도포되어 있고, 포토 마스크(62) 너머로 노광 처리가 행하여짐에 의해, 포토 마스크(62) 이면의 패턴에 응하여 유리 기판(63)이 노광된다. 이 예에 있어서는, 유리 기판(63)의 크기 등에 응하여 복수의 변위 센서를 이용하고, 포토 마스크(62)와 유리 기판(63)과의 갭을 복수 개소에서 측정하도록 구성하여도 좋다. 이 경우에는, 유리 기판(63)과 포토 마스크(62)가 일정한 간격으로 근접하도록 복수 개소 모든의 갭이 소정의 범위 내에 수습된 때에 노광 처리를 행하도록 설정하면 좋다. An example schematically showing the gap measurement between the photomask and the glass substrate in the displacement sensor to which the present invention is applied is shown in FIG. 6. In the figure, 61 is the sensor head portion of the displacement sensor, 62 is the photo mask, 63 is the glass substrate, 63a is the position to be moved of the glass substrate, L3 is the reflected light from the back side of the photo mask 62, and L4 is from the surface of the glass substrate. Reflected light, ΔG is a gap between the photomask 62 and the glass substrate 63. The photomask 62 has an exposure pattern drawn on the rear surface (surface on the side opposite to the glass substrate 63), and the photomask 62 is exposed to the glass substrate 63 from the photomask 62 surface side by an exposure apparatus (not shown). When not shown) When an exposure process is performed, the exposure pattern corresponding to each glass substrate is used. On the other hand, the resist liquid is apply | coated to the surface (surface of the side which opposes a photomask), and the exposure process is performed over the photomask 62, and according to the pattern on the back surface of the photomask 62, The glass substrate 63 is exposed. In this example, a plurality of displacement sensors may be used depending on the size of the glass substrate 63 or the like, so that the gap between the photomask 62 and the glass substrate 63 may be measured at a plurality of locations. In this case, what is necessary is just to set so that the exposure process may be performed, when the gap of all locations is settled in a predetermined range so that the glass substrate 63 and the photomask 62 may approach at regular intervals.

이 예에서는, 계측이 시작된 전의 초기 상태에서는, 포토 마스크(62)는 변위 센서의 계측 영역에 들어가 있지만, 유리 기판(63)은 변위 센서의 계측 영역 밖에 있다. 계측이 시작된다면 유리 기판(63)은 변위 센서의 계측 영역 밖에서부터 포토 마스크(62)에 가까워지는 방향으로 이동하고, 소정의 갭(△G)의 거리까지 접근하고, 포토 마스크(62) 너머로 유리 기판(63)에 노광 처리가 행하여진다. In this example, in the initial state before the measurement started, the photomask 62 enters the measurement area of the displacement sensor, but the glass substrate 63 is outside the measurement area of the displacement sensor. If the measurement starts, the glass substrate 63 moves in a direction approaching the photo mask 62 from outside the measurement area of the displacement sensor, approaches a distance of a predetermined gap ΔG, and the glass over the photo mask 62. An exposure treatment is performed on the substrate 63.

종래의 변위 센서로 포토 마스크와 유리 기판과의 갭을 측정한 경우의 한 예가 도 8에 도시되어 있다. 동 도면에서, 에어리어(0)는 포토 마스크를 측정하는 영역, 에어리어(1)는 유리 기판을 측정하는 영역, 81은 포토 마스크 이면의 광상, 82 는 유리 기판 표면의 광상, 83은 유리 기판 이면의 광상, P1은 유리 기판 표면 반사광의 피크, P2는 유리 기판 이면 반사광의 피크이다. 또한, P1과 P2의 높이는 각각의 반사광의 강도를 나타내고 있다. 이 예에서는, 에어리어(1)에 유리 기판 표면 광상(82)과 유리 기판 이면 광상(83)의 2개의 광상이 들어가고 있고, 유리 기판 이면 반사광이 유리 기판 표면 반사광보다 강도가 높다. 앞서도 기술한 바와 같이, 이런 종류의 변위 센서에서는 에어리어 내에 복수의 광상이 있는 경우에는 그 에어리어 내에서 가장 강도가 높은 광상을 기준으로 하여 감도의 자동 조정이 행하여지는 것이 일반적이다. 따라서 이 예의 경우는 P1<P2이기 때문에, 에어리어(1)의 수광 감도는 유리 기판 이면 광상(83)을 기준으로 하여 자동 조정된다. 이와 같이 복수의 피크가 하나의 에어리어 내에 포함되어 있는 경우에 복수의 피크의 강도에 큰 차가 있으면, 하나의 피크를 기준으로 수신 감도가 결정되면 다른 피크가 검출되지 않거나, 포화하여 버리거나 할 가능성이 있다. 즉 이와 같은 종래의 변위 센서에서는, 포토 마스크와 유리 기판과의 갭 측정에서, 유리 기판 표면의 피크<<유리 기판 이면의 피크인 경우에, 유리 기판 표면의 피크가 검출되지 않고, 그 결과로서 포토 마스크와 유리 기판이 접근·접촉하여 버린다는 트러블이 일어날 수 있다. An example of the case where the gap between the photomask and the glass substrate is measured by a conventional displacement sensor is shown in FIG. 8. In the figure, area 0 is the area for measuring the photomask, area 1 is the area for measuring the glass substrate, 81 is the light image on the back of the photo mask, 82 is the light image on the surface of the glass substrate, and 83 is the A light image, P1, is a peak of reflected light on the glass substrate surface, and P2 is a peak of reflected light on the glass substrate back surface. In addition, the height of P1 and P2 has shown the intensity of each reflected light. In this example, the two optical images of the glass substrate surface optical image 82 and the glass substrate back surface optical image 83 enter the area 1, and the glass substrate back surface reflected light is higher in intensity than the glass substrate surface reflected light. As described above, in the case of a plurality of optical images in the area, it is common to automatically adjust the sensitivity based on the optical image having the highest intensity in the area. Therefore, in this example, since P1 < P2, the light receiving sensitivity of the area 1 is automatically adjusted based on the optical image 83 on the back surface of the glass substrate. In the case where a plurality of peaks are included in one area as described above, if there is a large difference in the intensity of the plurality of peaks, if the reception sensitivity is determined based on one peak, another peak may not be detected or may be saturated. . That is, in such a conventional displacement sensor, in the gap measurement between a photomask and a glass substrate, when the peak of a glass substrate surface << peak of the back surface of a glass substrate, the peak of a glass substrate surface is not detected, As a result, a photo Trouble may occur that the mask and the glass substrate are brought into close contact with each other.

본 발명이 적용된 변위 센서로 포토 마스크와 유리 기판과의 갭 계측을 행하는 경우의 검출 영역 종단 자동 추종의 설명도가 도 7에 도시되어 있다. 동 도면에서 에어리어(0)는 포토 마스크를 측정하는 영역, 에어리어(1)는 유리 기판을 측정하는 영역, 71은 포토 마스크 이면의 광상, 72는 유리 기판 표면의 광상, 73은 유리 기판 이면의 광상, △G1 내지 △G3은 포토 마스크 이면과 유리 기판 표면과의 거리, △E는 유리 기판 표면부터 에어리어(1)의 종단까지의 거리, △D는 유리 기판의 두께, △Z는 유리 기판 표면부터 소정의 거리로서 △D보다 작은 값이다. 그리고, 이 예에서는, 도 7(a) 내지 (c)의 어느 것에서도 에어리어(0)의 포토 마스크의 위치는 이동하지 않고, 포토 마스크 이면의 광상(71)도 이동하지 않는다. 한편 에어리어(1)의 유리 기판의 위치는(a), (b), (c)와 순번대로 포토 마스크에 근접하는 방향으로 이동하고 있고, 포토 마스크와 유리 기판과의 거리(△G1 내지 △G3)는, △G1>△G2>△G3이라는 관계이다. Explanatory drawing of the detection area terminal automatic tracking in the case of performing the gap measurement of a photomask and a glass substrate with the displacement sensor to which this invention was applied is shown in FIG. In the figure, area 0 is an area for measuring a photomask, area 1 is an area for measuring a glass substrate, 71 is an image on the back of the photo mask, 72 is an image on the glass substrate surface, 73 is an image on the back of the glass substrate. , ΔG1 to ΔG3 are the distance between the photomask back surface and the glass substrate surface, ΔE is the distance from the glass substrate surface to the end of the area 1, ΔD is the thickness of the glass substrate, ΔZ is from the glass substrate surface It is a value smaller than ΔD as a predetermined distance. In this example, the position of the photomask of the area 0 does not move in any of FIGS. 7A to 7C, and the optical image 71 behind the photomask does not move. On the other hand, the position of the glass substrate of the area | region 1 is moving in the direction approaching a photomask in order with (a), (b), (c), and the distance between photomask and a glass substrate ((triangle | delta) G1-(triangle | delta) G3 ) Is a relationship of? G1>? G2>? G3.

우선 도 7(a)에서는, 유리 기판 표면 광상(72)은 종단측(동 도면에서는 에어리어(1) 우단측)으로부터 에어리어(1)로 들어온 직후이다. 에어리어(1)는 유리 기판 표면 광상을 잡기 쉽도록 초기 상태에서는 어느정도 넓게 설정하여 두는 것이 바람직하다. 에어리어(1)의 영역폭은 유리 기판의 두께 등을 고려하여 적절히 설정하면 좋지만, 초기 상태에서 유리 기판 표면 광상(72)이 에어리어(1)에 들어가지 않는 상태일 필요가 있다. 유리 기판 표면은 측정 시작 시점(時點)에서 에어리어(1)의 영역 밖에 있고, 종단측으로부터 에어리어(1)로 들어간다. 이 시점에서 유리 기판 표면 광상(72)과 에어리어(1)의 종단점과의 거리(△E)는 소정의 값(△Z)보다 작은 값, 즉 △E<△Z라는 관계이다. 유리 기판 표면 광상(72)과 에어리어(1)의 종단점과의 거리(△E)가 소정의 값(△Z)보다 작은 단계에서는 종단점의 조정은 행하지 않아도 좋고, △E=△Z가 되도록 에어리어(1)를 넓혀도 좋다. 유리 기판 표면 광상(72)가 에어리어(1)에 들어간 직후의 상태에서는, 유리 기판 이면 광상(73)은 에어리어(1)의 영역 밖에 있다. First, in FIG. 7A, the glass substrate surface optical image 72 is immediately after entering the area 1 from the end side (in the figure, the right end side of the area 1). It is preferable to set the area 1 to some extent in an initial state so that it may be easy to catch a glass substrate surface optical image. The area width of the area 1 may be appropriately set in consideration of the thickness of the glass substrate and the like, but it is necessary that the area of the glass substrate surface optical image 72 does not enter the area 1 in the initial state. The glass substrate surface is outside the area of the area 1 at the start point of measurement and enters the area 1 from the end side. At this time, the distance ΔE between the glass substrate surface optical image 72 and the end point of the area 1 is smaller than the predetermined value ΔZ, that is, ΔE <ΔZ. In a step where the distance ΔE between the glass substrate surface optical image 72 and the end point of the area 1 is smaller than the predetermined value ΔZ, the end point may not be adjusted, and the area ( 1) may be widened. In the state immediately after the glass substrate surface optical image 72 entered the area 1, the glass substrate back surface optical image 73 is outside the area 1 of the area 1.

뒤이어, 도 7(b)에서는 유리 기판이 도 7(a)의 시점보다 포토 마스크에 근접하고, 또한 유리 기판 표면 광상(72)과 에어리어(1)의 종단점과의 거리(△E)=△Z로 되어 있다. △E≥△Z로 된 시점에서, 에어리어(1)의 종단점(E)은 △E=△Z가 되도록 유리 기판 표면 광상(72)에 추종하여 이동한다. △Z는 유리 기판의 두께(△D)보다 작은 고정치이기 때문에, 유리 기판 표면 광상(72)과 에어리어 종단점과의 거리(△E)가 △Z보다 작은 값인 한(즉 △E≤△Z인 경우) △D>△Z, △Z≥△E이기 때문에, 항상 △D>△Z≥△E의 관계가 성립되고, 유리 기판 표면 광상(72)과 에어리어(1)의 종단점과의 거리(△E)는 항상 유리 기판의 두께(△D)보다 작은 값이고, 유리 기판 이면 광상(73)은 에어리어(1)의 영역 밖에 있는 것으로 된다. Subsequently, in FIG. 7B, the glass substrate is closer to the photomask than the viewpoint of FIG. 7A, and the distance ΔE between the glass substrate surface optical image 72 and the end point of the area 1 is ΔZ. It is. At the point of time DELTA E≥ΔZ, the end point E of the area 1 moves following the glass substrate surface optical image 72 such that DELTA E = ΔZ. Since ΔZ is a fixed value smaller than the thickness ΔD of the glass substrate, as long as the distance ΔE between the glass substrate surface optical image 72 and the area end point is smaller than ΔZ (that is, ΔE ≦ ΔZ) In the case of ΔD> ΔZ and ΔZ≥ΔE, the relationship of ΔD> ΔZ≥ΔE is always established, and the distance between the glass substrate surface optical image 72 and the end point of the area 1 (Δ). E) is always smaller than the thickness ΔD of the glass substrate, and the optical image 73 on the back surface of the glass substrate is outside the area of the area 1.

도 7(c)에서는 유리 기판이 도 7(b)의 시점보다 더욱 포토 마스크측으로 근접하고 있지만, 종단점(E)은 유리 기판 표면 광상(72)로부터 고정치(△Z)만큼 떨어진 지점이 되도록 유리 기판 이면 광상(72)에 추종하고 있기 때문에, △E=△Z가 항상 유지되어 있고 유리 기판 이면 광상(73)은 항상 에어리어(1)의 영역 밖로 되고, 측정되는 일은 없다(△E=△Z로 되도록 재계산이 행하여저서 종단점이 재설정된다). 이상 기술한 바와 같이 본 발명이 적용된 변위 센서에서는 유리 기판 표면 광상(72)과 소정의 거리(△Z)(유리 기판의 두께(△D)>△Z이다)로 종단점(E)이 추종하기 때문에, 유리 기판 이면 광상(73)은 에어리어(1)로 들어가는 일이 없고, 유리 기판 이면 광상(73)이 에어리어(1)로 들어가기 계측된 경우에 생길 수 있는 부적합함도 생기지 않는다. In Fig. 7 (c), the glass substrate is closer to the photo mask side than the viewpoint of Fig. 7 (b), but the end point E is glass so as to be a point away from the glass substrate surface optical image 72 by a fixed value? Z. Since following the substrate backside optical image 72, ΔE = ΔZ is always maintained, and the glass substrate backside image 73 always goes out of the area 1 and is not measured (ΔE = ΔZ). Recalculation is performed so that the endpoint is reset). As described above, in the displacement sensor to which the present invention is applied, the end point E follows the glass substrate surface optical image 72 at a predetermined distance ΔZ (the thickness ΔD> ΔZ of the glass substrate). The glass substrate back surface image 73 does not enter the area 1, and the nonconformity that may occur when the glass substrate back surface image 73 is measured to enter the area 1 does not occur.

본 발명이 적용된 변위 센서에 있어서, 측정 영역을 결정하는 순서를 도시한 제네럴 플로우 차트도 9에, 도 9의 플로우에 대응하는 설명도가 도 12에 각각 도시되어 있다. 동 도면에서 A, B, Z(x), P(z), △Z1, △Z2, △Z, △G, △dAB는 각각 이하와 같다. In the displacement sensor to which the present invention is applied, a general flow chart showing a procedure for determining a measurement area is shown in FIG. 9 and an explanatory diagram corresponding to the flow in FIG. 9, respectively. In the figure, A, B, Z (x), P (z), ΔZ1, ΔZ2, ΔZ, ΔG, and ΔdAB are as follows.

A : 포토 마스크 이면의 CCD 수광 위치, 단위(pix)A: CCD light receiving position behind photo mask, unit (pix)

B : 유리 기판 표면의 CCD 수광 위치, 단위(pix)B: CCD light receiving position on the surface of the glass substrate, unit (pix)

Z(x) : CCD 수광 위치(pix)로부터 거리치(距離値)(mm)로의 변환식 Z (x): Conversion formula from CCD light receiving position (pix) to distance value (mm) (mm)

P(z) : 거리치(mm)로부터 CCD 수광 위치(pix)로의 변환식 P (z): Conversion formula from distance value (mm) to CCD light receiving position (pix)

△Z1 : 에어리어(0)의 계측치에 대한 에어리어(1) 시작점까지의 오프셋 값ΔZ1: Offset value up to the start point of the area 1 with respect to the measured value of the area 0.

△Z2 : 에어리어(0)의 계측치에 대한 에어리어(1) 종료점까지의 오프셋 값 ΔZ2: Offset value to the end point of area 1 relative to the measured value of area 0.

△Z : 에어리어(1)의 계측치에 대한 에어리어(1) 종료점까지의 고정치 ΔZ: Fixed value to the end point of area 1 relative to the measured value of area 1

△G : 노광 처리를 행할 때의 포토 마스크 이면의 수광 위치(A)와 유리 기판 표면의 수광 위치(B)와의 거리 ΔG: Distance between the light receiving position A on the back side of the photomask and the light receiving position B on the surface of the glass substrate when performing exposure processing

△dAB : 포토 마스크 이면의 수광 위치(A)와 유리 기판 표면의 수광 위치(B)와의 거리ΔdAB: Distance between the light receiving position A on the back side of the photomask and the light receiving position B on the glass substrate surface

측정 영역의 설정 처리 시작 신호를 수신할 때까지 대기를 계속하고(스텝 901, 스텝 902 NO), 계측 영역 결정 처리를 행하는 취지의 시작 신호를 수신하면(스텝 902 YES), 에어리어(0)의 화상을 취득하고 수광 위치(A)의 위치 정보에 의거하여 에어리어(1)의 영역 가설정(假設定) 처리를 행한다(스텝 903 YES, 스텝 905). 이 예에서는, 에어리어(0)에서 측정되는 포토 마스크의 위치는 고정되어 있다. 스텝 903에서 에어리어(0) 내에서 화상이 검출되지 않은 경우에는(스텝 903 NO), 에러라고 판정하고 에러 처리를 행한다(스텝 904). 에러 처리로서는, 예를 들면 에어리어(0) 내에 화상이 검출될 때까지 스텝 901 내지 903을 반복하여 행하도록 하여도 좋고, 유저에게 에어리어(0) 내에서 화상이 검출되지 않는 취지를 제시하여 어떠한 처리를 행하도록 가이드문을 표시하도록 설정하여도 좋다. Waiting is continued until the setting process start signal of a measurement area is received (step 901, step 902 NO), and when the start signal for effecting measurement area determination processing is received (step 902 YES), the image of the area 0 is received. Is obtained and the area provisional setting processing of the area 1 is performed based on the positional information of the light receiving position A (step 903 YES, step 905). In this example, the position of the photo mask measured in the area 0 is fixed. If no image is detected in the area 0 in step 903 (step 903 NO), it is determined as an error and error processing is performed (step 904). As the error processing, for example, steps 901 to 903 may be repeated until an image is detected in the area 0, and the user is notified that the image is not detected in the area 0. The guide text may be set to display the guide text.

스텝 905의 영역 가설정 처리에 관해, 도 10을 참조하여 설명한다. 에어리어(0)에서 화상이 검출되었으면(도 9 스텝 903 YES) 취득된 화상의 수광 위치(A)를 검출하고(스텝 9051), 수광 위치(A)의 정보 의거하여 에어리어(1)의 계측 영역을 가결정한다(스텝 9052). 여기서 계측 영역인 에어리어(1)의 시작 위치와 종료 위치는, 수광 위치(A)의 위치 정보, 소정의 오프셋 값(△Z1, △Z2)에 의해 각각 하기한 식에 의해 구하여진다. The area provisional setting process in step 905 will be described with reference to FIG. 10. If an image is detected in the area 0 (step 903 YES in FIG. 9), the light receiving position A of the acquired image is detected (step 9051), and the measurement area of the area 1 is determined based on the information of the light receiving position A. FIG. It temporarily decides (step 9052). Here, the start position and the end position of the area 1 as the measurement area are determined by the following formulas, respectively, based on the position information of the light receiving position A and the predetermined offset values? Z1 and? Z2.

시작 위치 : P(Z(A)+△Z1)Start position: P (Z (A) + △ Z1)

종료 위치 : P(Z(A)+△Z2)End position: P (Z (A) + △ Z2)

에어리어(1)의 시작 위치, 종료 위치, 영역의 넓이를 정하는 △Z1 및 △Z2는 유리 기판의 두께 등을 감안하여 적절히 결정된다. (DELTA) Z1 and (DELTA) Z2 which determine the starting position, the ending position, and the area | region area of the area 1 are determined suitably in consideration of the thickness of a glass substrate, etc.

상기한 식에 의해 에어리어(1)의 시작 위치와 종료 위치가 가결정되면(스텝 9052), 그 정보에 의거하여 영역 가설정 처리가 행하여저서 에어리어(1)의 시작 위치와 종료 위치가 설정된다(스텝 9053). When the start position and the end position of the area 1 are determined by the above formula (step 9052), the area provisional setting process is performed based on the information to set the start position and the end position of the area 1 ( Step 9053).

도 9로 되돌아와, 에어리어(1)의 가설정 처리가 종료되면(스텝 905), 에어리어(1)에 화상이 검출될 때까지 대기한(스텝 906, 스텝 907 NO). 에어리어(1)에 화상이 검출되면(스텝 907 YES), 에어리어(1)의 재설정 처리로 이동한다(스텝 908). 9, when the provisional setting process of the area 1 is complete | finished (step 905), it waits until the image is detected in the area 1 (step 906, step 907 NO). If an image is detected in the area 1 (step 907 YES), the processing proceeds to the reset process of the area 1 (step 908).

스텝 908의 영역 재설정 처리에 관해서는 도 11을 참조하여 설명한다. 에어리어(1)에서 화상이 검출되면(도 9 스텝 907 YES) 취득된 화상의 수광 위치(B)를 검출하고(스텝 9081), 수광 위치(B)의 정보에 의거하여 에어리어(1)의 계측 영역을 재결정한다(스텝 9082). 여기서 계측 영역인 에어리어(1)의 시작 위치와 종료 위치는, 수광 위치(A)의 위치 정보 및 수광 위치(B)의 위치 정보, 소정의 오프셋 값(△Z1, △Z2), 고정치(△Z)에 의해 각각 하기한 식에 의해 구하여진다. The area resetting process of step 908 is demonstrated with reference to FIG. When an image is detected in the area 1 (step 907 YES in FIG. 9), the light receiving position B of the acquired image is detected (step 9081), and the measurement area of the area 1 is based on the information of the light receiving position B. Is determined again (step 9082). Here, the start position and the end position of the area 1 as the measurement area include the position information of the light receiving position A, the position information of the light receiving position B, predetermined offset values ΔZ1 and ΔZ2, and fixed values Δ It is calculated | required by the following formula, respectively, by Z).

시작 위치 : P(Z(A)+△Z1)Start position: P (Z (A) + △ Z1)

종료 위치 : P(Z(B)+△Z)End position: P (Z (B) + △ Z)

에어리어(1)의 시작 위치, 종료 위치, 영역의 넓이를 정하는 △Z1, △Z2, △Z는 유리 기판의 두께 등을 감안하여 적절히 결정된다. (DELTA) Z1, (DELTA) Z2, (DELTA) Z which determines the starting position, the ending position, and the area | region of the area | region 1 are determined suitably in consideration of the thickness of a glass substrate, etc.

상기 식에 의해 에어리어(1)의 시작 위치와 종료 위치가 재결정되면(스텝 9082), 그 정보에 의거하여 에어리어(1)의 영역 가설정 처리가 행하여진다(스텝 9083).When the start position and end position of the area 1 are re-determined by the above formula (step 9082), the area provisional setting processing of the area 1 is performed based on the information (step 9083).

도 9로 되돌아와, 에어리어(1)의 재설정 처리가 종료되면(스텝 908), 수광 위치(A)와 수광 위치(B)와의 갭이 규정치(△G)에 달하였는지 여부의 판정을 행한다(스텝 909). 규정치(△G)에 달하잊 않은 경우에는(스텝 909 NO), 재차 워크(B)의 위치 조정을 행하고(스텝 910), 수광 위치(A)와 수광 위치(B)와의 갭이 규정치(△G)에 달할 때까지 스텝 908 내지 910을 반복한다. 수광 위치(A)와 수광 위치(B)와의 갭이 규정치(△G)에 달한 경우에는(스텝 909 YES), 유리 기판에 노광 처리를 행하고 해당 처리를 종료한다(스텝 911). Returning to FIG. 9, when the resetting process of the area 1 is complete | finished (step 908), it is determined whether the gap between the light receiving position A and the light receiving position B reached the prescribed value (DELTA G) (step) 909). When the prescribed value DELTA G has not been reached (step 909 NO), the work B is repositioned (step 910), and the gap between the light receiving position A and the light receiving position B is defined. Steps 908 to 910 are repeated until When the gap between the light receiving position A and the light receiving position B reaches the prescribed value DELTA G (step 909 YES), the exposure process is performed on the glass substrate and the processing is terminated (step 911).

영역별 감도 조정 처리를 도시한 타이밍 차트가 도 13에 도시되어 있다. 동 도면에 도시된 바와 같이, 이 실시 형태의 변위 센서에서는, 1 또는 2 이상의 계측 대상 영역이 2차원 CCD의 시야(視野) 내로 설정되면, 각 계측 대상 영역 내의 빔 조사점의 광상에 대한 농도는 항상 계측에 적합한 농도로 자동 조정되는 것이다. A timing chart showing the sensitivity adjustment processing for each region is shown in FIG. As shown in the figure, in the displacement sensor of this embodiment, when one or two or more measurement target regions are set within the field of view of the two-dimensional CCD, the density of the beam irradiation point in each measurement target region is reduced. It is always automatically adjusted to the correct concentration for the measurement.

즉, 도 13에서, (a)에 도시한 VD 신호의 열과, (b)에 도시한 영역 설정의 열을 대조하여 분명한 바와 같이, 상(相)이 연속하는 수직 주기에서, 교대로 영역(1)과 영역(0)으로 전환하여, 시분할적으로 수광 감도의 제어가 행하여진다. 그 결과, 2차원 CCD의 시야 내에 , 2개의 영상 피크가 존재하고, 그 중 한쪽이 다른쪽에 비하여 극단적으로 크던지 또는 작은 경우, 이 시분할 전환에 의한 감도 자동 조정 기능이 작용함에 의해, 어느 피크에서도, 적절한 농도로 측정점 좌표의 결정 처리가 가능해진다. That is, in Fig. 13, as shown by contrasting the column of the VD signal shown in (a) and the column of the region setting shown in (b), the regions 1 are alternately arranged in a vertical period in which phases are continuous. ) And region 0, and control of light reception sensitivity is performed time-divisionally. As a result, when two image peaks exist in the field of view of the two-dimensional CCD, and one of them is extremely large or small compared to the other, the automatic sensitivity adjustment function by this time division switching is activated, so that any peak The determination process of the measurement point coordinates can be performed at an appropriate concentration.

즉, 도 13의 예에서는, 영역(0)에 포함되는 영상은 농도 부족이지만, 순차적으로 농도 자동 조정이 행하여지는 결과, 적절한 농도까지 농도를 증가시킨 시점에서, 특징 연산을 이용하여 측정점 좌표의 추출이 행하여진다. 한편, 영역(1)에 포함되는 영상은 당초부터 적절한 농도를 갖기 때문에, 이것에 의거하여 그대로 측정점 좌표의 결정이 행하여진다. 본원의 변위 센서에서는 이와 같이 영역별로 농도 자동사정을 행하도록에 하고 있기 때문에, 어느 영상에 있어서도 적절한 농도로 측정점 좌표의 결정이 행하여지고, 이에 의거하여 목적으로 하는 계측(예를 들면, 투명체의 두께 계측 등)이 가능하게 되는 것이다. That is, in the example of FIG. 13, the image included in the region 0 is insufficient in concentration, but as a result of the automatic adjustment of the concentration sequentially, the measurement point coordinates are extracted by using a feature calculation at the time when the concentration is increased to the appropriate concentration. This is done. On the other hand, since the video included in the area 1 has an appropriate density from the beginning, the measurement point coordinates are determined as it is based on this. In the displacement sensor of the present application, the automatic concentration measurement is performed for each region as described above. Therefore, the measurement point coordinates are determined at the appropriate concentration in any image, and the target measurement (for example, the thickness of the transparent body) is performed. Measurement, etc.) becomes possible.

계측점의 상하 변동에 설정 영역을 추종시키는 처리를 도시한 타이밍 차트가 도 14에 도시되어 있다. 본 발명에서는, 유리 기판 표면의 계측치를 항상 감시하고 있고, 이것에 변동이 생긴 경우에는, 그 변동량에 응하여, 계측 영역의 종단점을 △Z의 거리로 추종하도록 제어시킨다. 즉, 도 13에 도시된 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 영역(1) 내의 유리 기판 표면 광상의 위치 정보를 기초로 하여 영역(1)의 범위를 재계산을 행하고 그 결과에 의해 영역 범위를 변경한다. 유리 기판의 위치가 변동하는데 맞추어서 영역(1)의 범위도 변경하기 때문에 유리 기판 이면의 반사광이 항상 영역(1)의 밖에 있어서, 유리 기판 이면의 광상에 의한 측정의 부적합함을 회피할 수 있다. 14 is a timing chart showing a process of following the set area with the up and down variation of the measurement point. In this invention, the measured value of a glass substrate surface is always monitored, and when a fluctuation arises in this, it controls so that the end point of a measurement area may follow the distance of (DELTA) Z according to the fluctuation amount. That is, as shown in FIG. 13, in this embodiment, the range of the area | region 1 is recalculated based on the positional information of the glass substrate surface optical image in the area | region 1, and the area range is changed by the result. do. Since the range of the area | region 1 also changes in accordance with the position of a glass substrate, the reflected light on the back surface of a glass substrate always exists outside the area | region 1, and the inadequate measurement by the image on the back surface of a glass substrate can be avoided.

다음에, 본 발명이 적용된 변위 센서의 컨트롤러의 내부 구성을 개략적으로 도시한 블록도가 도 15에 도시되어 있다. 동 도면에서, 1501은 센서 헤드, 1502는 컨트롤러, 1503은 A/D 변환기, 1504는 영역 판정부, 1505는 화상 메모리, 1506은 표시 합성부, 1507은 D/A 변환기, 1508은 변위, 농도 추출부, 1509는 콘솔 인터페이스, 1510은 외부 I/O 인터페이스, 1511은 메모리, 1512는 CPU, 1513은 영역 설정부, 1514는 연산부, 1515는 감도 판정부이다. 이 연산부(1514)에는, 화소/mm 환산 연산, 계측 처리 연산, 양부 판정 연산, 표시 처리 연산 등의 다양한 연산 기능이 조립되어 있다. Next, a block diagram schematically showing the internal configuration of the controller of the displacement sensor to which the present invention is applied is shown in FIG. In the figure, 1501 is a sensor head, 1502 is a controller, 1503 is an A / D converter, 1504 is an area determining unit, 1505 is an image memory, 1506 is a display synthesizing unit, 1507 is a D / A converter, 1508 is displacement, concentration extraction. 1509 is a console interface, 1510 is an external I / O interface, 1511 is a memory, 1512 is a CPU, 1513 is an area setting unit, 1514 is an arithmetic unit, and 1515 is a sensitivity determination unit. The calculation unit 1514 incorporates various arithmetic functions such as pixel / mm conversion arithmetic, measurement processing arithmetic, affirmative determination arithmetic, and display arithmetic.

CPU(1512)는, 마이크로 프로세서를 주체로 하여 구성되고, 이 예에서는, 소프트웨어적으로 영역 설정부(1513), 연산부(1514), 감도 판정부(1515)의 3개의 기능이 실현되고 있다. 영역 설정부(1513)에서는, 콘솔 인터페이스(1509)의 소정 조작에 응답하여, 센서 헤드부(1501)를 구성하는 2차원 CCD의 시야에, 계측 대상 영 역을 설정하는 기능을 갖는다. 이 계측 대상 영역이란, 2차원 CCD에 촬영되는 전(全) 화상중에서, 계측의 대상이 되는 영역의 화상을 한정하는 것이다. 이 영역 설정부(1513)에서 설정된 계측 대상 영역은, 영역 판정부(1504)로 통지되고, 여기서 영역 판정 처리를 위한 기준으로서 사용된다. The CPU 1512 is mainly composed of a microprocessor. In this example, three functions of the area setting unit 1513, the calculation unit 1514, and the sensitivity determination unit 1515 are realized in software. The area setting unit 1513 has a function of setting a measurement target area in the field of view of the two-dimensional CCD constituting the sensor head unit 1501 in response to a predetermined operation of the console interface 1509. This measurement object area limits the image of the area | region which is to be measured among all the images picked up by a 2D CCD. The measurement target area set by this area setting unit 1513 is notified to the area determination unit 1504, where it is used as a reference for the area determination processing.

한편, 영역 판정부(1504)에서는, 영역 설정부(1513)에서 설정된 영역에 대응하여, 센서 헤드(1501)로부터 A/D 변환기(1503)을 통하여 보내오는 디지털 영상 신호를 선택적으로 게이트하게 된다. 즉, 설정된 계측 대상 영역이, 일람(一覽)중에 1 또는 2 이상 존재하는 경우, 그들의 계측 대상 영역의 타이밍에서, 디지털 영상 신호를 통과시킴에 의해, 계측 대상 영역의 화소 출력열만을 추출하여, 추출 화상을 생성한다. 이렇게 하여 얻어진 추출 화상은, 영역 판정부(1504)로부터 화상 메모리(1505)에 보내지고, 화상 메모리(1505)에 일시적으로 축적된다. On the other hand, the area determining unit 1504 selectively gates the digital video signal sent from the sensor head 1501 through the A / D converter 1503 corresponding to the area set by the area setting unit 1513. That is, when the set measurement object area | region exists 1 or 2 or more in a list, only the pixel output string of a measurement object area | region is extracted and extracted by passing a digital video signal at the timing of those measurement object area | regions. Create an image. The extracted image thus obtained is sent from the area determining unit 1504 to the image memory 1505 and temporarily stored in the image memory 1505.

이 화상 메모리(1505)에 격납된 추출 화상은, 영역 설정부(1513)로부터 보내오는 계측 대상 영역의 경계선 등을 나타내는 그래픽 화상과 표시 합성부(1506)에서 합성되고, 이렇게 하여 얻어진 합성 화상은 D/A 변환기(1507)를 통하여, 화상 모니터로 보내지고, 화상 모니터가의 도시하지 않은 화면상에는, 2차원 CCD로 촬영되고 영역 판정부(1504)에서 마스킹 처리된 생(生)화상 데이터나, 각 표시 라인의 농도 분포(휘도 분포)를 나타내는 라인 브라이트 파형 등과 함께 표시되는 것이다. 또한, 이 표시 양태에 관해서는, 후에 화면 설명도를 참조하면서 상세히 설명한다. The extracted image stored in the image memory 1505 is synthesized by the display image synthesizer 1506 and the graphic image representing the boundary line of the measurement target region and the like sent from the area setting unit 1513, and the synthesized image obtained in this manner is D Raw image data sent to the image monitor via the / A converter 1507 and captured by a two-dimensional CCD on a screen not shown by the image monitor and masked by the area determination unit 1504, or each It is displayed with the line bright waveform etc. which show the density distribution (luminance distribution) of a display line. In addition, this display aspect is demonstrated in detail, referring a screen explanatory drawing later.

이와 같이, 이 실시 형태에 있어서의 변위 센서에서는, 계측 대상물체상에 계측용의 광스폿을 형성하기 위한 레이저 다이오드를 포함하는 투광 수단과, 광스 폿이 형성된 계측 대상물체를 소정의 각도로부터 촬영하는 2차원 CCD를 포함하는 수광 수단과, 수광 수단으로부터 얻어지는 화상중의 광스폿 상(像)의 1정보에 의거하여 목적으로 하는 변위를 산출하는 연산 수단을 갖고 있다. As described above, in the displacement sensor in this embodiment, the projection means including the laser diode for forming the optical spot for measurement on the measurement target object and the measurement target object on which the optical spot is formed are photographed from a predetermined angle. It has a light receiving means including a two-dimensional CCD and an arithmetic means for calculating the target displacement based on one information of the light spot image in the image obtained from the light receiving means.

또한, 수광 수단으로부터 얻어지는 화상으로부터 광스폿 상의 영상 신호의 크기와 상관(相關)이 있는 화상적(畵像的) 특징을 추출하는 특징 추출 수단과, 추출된 화상적 특징과 소정의 기준치와의 비교에 의거하여, 투광 수단의 투광 게인 조정 요소 및/또는 수광 수단의 수광 게인 조정 요소를 조작함에 의해, 변위 산출 연산에 이용하는 광스폿 상의 영상 신호의 크기를 적정 상태로 제어하는 제어 수단을 구비하고 있다. Further, feature extraction means for extracting an image characteristic correlated with the magnitude of a video signal on a light spot from an image obtained from the light receiving means, and comparing the extracted image feature with a predetermined reference value And control means for controlling the magnitude of the video signal on the light spot used for the displacement calculation operation by operating the light transmitting gain adjusting element of the light transmitting means and / or the light receiving gain adjusting element of the light receiving means. .

본 발명이 적용된 변위 센서로, 유리 기판의 두께를 설정할 때의 화면 표시의 한 예가 도 16 내재 도 18에 도시되어 있다. 도 16 내재 도 18을 참조하여 설정 순서를 상세히 설명한다. With the displacement sensor to which the present invention is applied, an example of the screen display when setting the thickness of the glass substrate is shown in Figs. 16 to 18 will be described in detail the setting procedure.

우선, 도 16(a)에는 설정 시작시의 메뉴 화면이 도시되어 있다. 이 예에서는 어플리케이션의 선택 가지로서, 「표면 변위」, 「스폿 변위」, 「최대 높이」, 「홈, 패여짐」, 「단차」, 「투명체 두께」, 「단차(2센서)」, 「두께(2센서)」라는 항목이 표시되어 있고, 도 16(a)에서는 이들의 항목중 「투명체 두께」가 선택되고, 화면 우측에는 대응하는 표시가 되어 있다. First, Fig. 16A shows a menu screen at the start of setting. In this example, as the application branch, "surface displacement", "spot displacement", "maximum height", "groove, dent", "step", "transparent body thickness", "step difference (2 sensors)", "thickness" (2 sensors) ”is displayed, and in Fig. 16A," transparent body thickness "is selected from these items, and a corresponding display is displayed on the right side of the screen.

「투명체 두께」를 선택하면, 도 16(b)의 화면이 나타내여진다. 화면 상반분에는 투명체의 표면의 광상(1601)과, 투명체 이면의 광상(1602)이 표시되어 있고, 「표면의 측정 영역 지정입니다」와 가이드문(文)이 표시된다. 처음에 투명체의 표 면 광상의 측정 영역을 지정하기 위해 커서(1603)을 표면 광상(1601)에 맞추어 지정 처리를 행한다. 표면의 측정 영역 지정이 행하여지면, 계속해서 이면의 측정 영역을 지정시키기 위해 도 17(a)의 화면이 표시되고「2면만을 측정 영역 내로 하여 주시요」라고 가이드문이 표시된다. 표면의 경우와 마찬가지로 투명체 이면 광상(1602)에 커서(1603)을 맞추어 지정 처리를 행한다. When "transparent body thickness" is selected, the screen of FIG. 16 (b) is displayed. In the upper half of the screen, an optical image 1601 on the surface of the transparent body and an optical image 1602 on the rear surface of the transparent body are displayed, and "the measurement area designation of the surface" and a guide sentence are displayed. First, in order to designate the measurement area of the surface optical image of the transparent body, the cursor 1603 is set in accordance with the surface optical image 1601 for designation processing. When the measurement area designation of the surface is performed, the screen of Fig. 17A is displayed in order to continue to designate the measurement area on the back side, and the guide sentence is displayed, "Please make only two surfaces into the measurement area." Similarly to the case of the surface, the cursor 1603 is aligned with the optical image 1602 on the back surface of the transparent body, and designation processing is performed.

투명체의 표면 및 이면의 측정 영역 지정이 종료되면 도 17(b)의 화면이 표시되고, 굴절율의 보정을 행하기 위한 처리 순서가 나타내여진다. 동 도면에서는 「포인트 1의 측정치를 입력하여 주시요」라는 가이드문이 표시되어 있다. 지정한 대로 포인트 1의의 측정치를 입력하면, 뒤이어 도 18(a)의 화면이 표시되고 「2점 사이의 거리를 입력하여 주시요」라는 가이드문이 표시된다. 이곳에 관해서도 앞의 경우와 마찬가지로 2점 사이의 거리를 입력하고, 다음의 스텝으로 진행한다. When the measurement area designation of the front surface and the back surface of the transparent body is finished, the screen of Fig. 17B is displayed, and the processing procedure for correcting the refractive index is shown. In the figure, the guide sentence "Please input the measurement value of point 1" is displayed. When the measured value of point 1 is input as specified, the screen of FIG. 18 (a) is displayed next, and the guide sentence "Please input the distance between two points" is displayed. Also in this case, enter the distance between two points as in the previous case, and proceed to the next step.

마지막으로 확인을 위해 도 18(b)의 화면이 표시되고, 항목명과 이 설정을 등록하는지 여부의 선택 가지가 제시된다. 이대로 등록하는 경우에는 「등록」, 정정을 행하고 싶는 경우에는 「되돌림」, 설정 그 자체를 취소하는 경우에는 「캔슬」을 각각 선택한다. Finally, the screen of Fig. 18B is displayed for confirmation, and an item name and a selection branch of whether or not to register this setting are presented. In this case, "registration" is selected for registration, "return" for correction, and "cancellation" for canceling the setting itself.

본 발명이 적용된 변위 센서의 화면 구성의 한 예가 도 19에 도시되어 있다. 동 도면에서 1901은 포토 마스크 이면의 광상이 표시되는 에어리어(0), 1902는 유리 기판 표면의 광상이 표시되는 에어리어(1), 1903은 포토 마스크 이면의 광상, 1904는 유리 기판 표면의 광상, 1905는 포토 마스크 이면의 라인 브라이트 표시, 1906은 유리 기판 표면의 라인 브라이트 표시, 1907은 에어리어(0)의 수광 감도와 에어리어(0) 내의 광상의 피크 값, 1908은 에어리어(1)의 수광 감도와 에어리어(1) 내의 광상의 피크 값을 각각 나타내고 있다. An example of the screen configuration of the displacement sensor to which the present invention is applied is shown in FIG. 19. In the figure, 1901 denotes an area (0) in which an optical image on the back side of the photomask is displayed, 1902 denotes an area (1) in which an optical image on the surface of the glass substrate is displayed, 1903 denotes an image on the back surface of the photomask, 1904 an image on the surface of the glass substrate, Is the line bright display on the back of the photomask, 1906 is the line bright display on the surface of the glass substrate, 1907 is the light receiving sensitivity of the area (0) and the peak value of the light image in the area (0), 1908 is the light receiving sensitivity and area of the area (1) The peak value of the optical image in (1) is shown, respectively.

이상 본 발명의 한 실시 형태에 관해 기술한 바와 같이, 본 발명의 변위 센서에 의하면 간단한 조작으로 투명체 이면의 광상에 의한 영향을 완전하게 배제하는 것이 가능하고, 여러가지의 용도에 적용 가능하다. 예를 들면, 실시예에서는, 라인 빔을 조사하였지만, 라인 빔 대신에 스폿 빔을 조사한 경우에는, 다른 부분은 같은 구성인 채로, 또는 2차원 촬상 소자에 바꾸어 1차원 촬상 소자를 이용함에 의해서도 마찬가지로 변위 계측이 가능하다.As described above with respect to one embodiment of the present invention, according to the displacement sensor of the present invention, it is possible to completely exclude the influence of the optical image on the back surface of the transparent body by simple operation, and can be applied to various applications. For example, in the embodiment, when the line beam is irradiated, but when the spot beam is irradiated instead of the line beam, the displacement is similarly maintained by using the one-dimensional imaging element with the other parts having the same configuration or by replacing the two-dimensional imaging element. Measurement is possible.

이상의 구성으로 분명한 바와, 본 발명에 의하면 계측 대상 영역 종점이 계측 대상 영역중의 측정점 좌표에 의해 정해지기 때문에, 투명체의 표면과 이면의 반사율의 차에 의하지 않고, 항상 투명체의 표면을 계측 가능한 변위 센서를 제공 가능하다.As is apparent from the above configuration, according to the present invention, since the end point of the measurement target region is determined by the measurement point coordinates in the measurement target region, the displacement sensor capable of always measuring the surface of the transparent body regardless of the difference in reflectance between the front surface and the rear surface of the transparent body It is possible to provide.

Claims (14)

제 1의 투명판의 하나의 면을 계측 대상 영역 내에 포함되도록 고정하여 배치하고, 상기한 면에 대향시켜서 소정의 거리 이상 떨어진 위치로부터 제 2의 투명판을 접근시키면서, 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하고, 상기 계측 대상 영역을 빔의 조사 각도와는 다른 각도로부터 촬상 소자에 의해 촬상하고, 상기 제 1의 투명판의 상기 빔을 반사하는 반사면 및 상기 제 2의 투명판의 상기 빔을 반사하는 반사면의 광상에 의거하여 변위를 계측하는 방법으로서, One surface of the first transparent plate is fixed and disposed so as to be included in the measurement target area, and the beam is directed toward the measurement target area while approaching the second transparent plate from a position apart from a predetermined distance by facing the surface. Irradiates the image to be measured by the imaging element from an angle different from the irradiation angle of the beam, and reflects the reflective surface reflecting the beam of the first transparent plate and the beam of the second transparent plate. As a method of measuring the displacement based on the optical image of the reflecting surface, 변위의 계측에 앞서서, Before measuring the displacement, 제 1의 계측 대상 영역을, 상기 촬상 소자의 시야 내에, 상기 제 1의 투명판의 하나의 면에 의한 반사면의 광상이 촬상될 수 있는 범위로 설정하고, The 1st measurement object area | region is set in the visual field of the said imaging element in the range which the optical image of the reflective surface by one surface of the said 1st transparent plate can be imaged, 제 2의 계측 대상 영역을, 상기 제 2의 투명판이 상기 하나의 면에 대향하는 소정의 거리 이상 떨어진 위치에 존재하는 상태에서는, 제 2의 투명판의 제 1의 투명판에 대해 먼 측의 면에 의한 반사면의 광상을 포함하지 않고, 또한, 상기 제 1의 계측 대상 영역과 겹쳐지지 않는 범위로 설정하고, In a state in which the second measurement target region is located at a position away from the predetermined distance opposite to the one surface by the second transparent plate, the surface far from the first transparent plate of the second transparent plate. It is set in the range which does not include the optical image of the reflecting surface by and does not overlap with the said 1st measurement object area | region, 변위의 계측에서는, In the measurement of the displacement, 상기 제 1의 투명판의 반사면에 대향하는 소정의 거리 이상 떨어진 위치로부터 제 2의 투명판을 접근시키면서, 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하여 상기 촬상 소자에 의해 반복 촬상하고, Irradiating a beam toward the measurement target area while repeatedly approaching the second transparent plate from a position at least a predetermined distance facing the reflective surface of the first transparent plate, and repeatedly photographing by the imaging device, 촬상마다, 상기 제 2의 계측 대상 영역에 관해, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면의 광상의 나열 방향에 관해 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측에 있는 단부의 위치를, 제 2의 계측 대상 영역 내에 존재하는 반사면의 광상을 기준으로 하여 일정한 범위 내로 되도록 추종시키고, For each imaging, the position of the end portion on the side opposite to the first measurement target region with respect to the alignment direction of the optical image of the reflecting surfaces in the first and second measurement target regions with respect to the second measurement target region, Based on the optical image of the reflecting surface existing in the measurement target region of 2 to be within a predetermined range, 상기 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역의 감도를, 각 계측 대상 영역 내에 존재하는 가장 수광량이 큰 반사면상 또는 소정의 조건에 의해 선택한 반사면상의 수광량에 의거하여 자동 조정하고, 감도 조정하여 얻어진 각각의 계측 대상 영역 내에 존재하는 대상물의 반사면의 광상으로부터 측정점 좌표를 각각 결정하고, 결정된 측정점 좌표에 의거하여 상기 제 1의 계측 대상 영역 내의 반사면의 변위와, 상기 제 2의 계측 대상 영역의 반사면의 변위를 계측하는 것을 특징으로 하는 변위 계측 방법. The sensitivity of the first and second measurement target areas is automatically adjusted based on the light reception amount on the reflective surface having the largest amount of light received in each measurement target area or on the reflection surface selected by a predetermined condition, and each obtained by sensitivity adjustment. The measurement point coordinates are respectively determined from the optical image of the reflecting surface of the object existing in the measurement target region of H, and the displacement of the reflection surface in the first measurement target region and half of the second measurement target region based on the determined measurement point coordinates. Displacement measuring method characterized by measuring the displacement of the slope. 제 1항에 기재된 방법에 의해 얻어진 제 1의 계측 대상 영역 내의 반사면의 변위와, 상기 제 2의 계측 대상 영역의 반사면의 변위로부터, 제 1의 투명판과 제 2의 투명판과의 간격을 산출하는 것을 특징으로 하는 갭 계측 방법. The distance between a 1st transparent plate and a 2nd transparent plate from the displacement of the reflection surface in the 1st measurement object area | region obtained by the method of Claim 1, and the displacement of the reflection surface of the said 2nd measurement object area | region. The gap measurement method characterized by calculating the. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2의 계측 대상 영역의 단부를 추종시키는, 영역 내에 존재하는 반사면의 광상을 기준으로 한 일정한 범위 내는, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면의 광상의 나열 방향에 관해, 해당 반사면의 광상의 폭보다 크고, 제 2의 투명판의 두께에 대응하는 촬상 소자의 시야 내에서의 간격보다 작은 것을 특징으로 하는 변위 계측 방법. Regarding the alignment direction of the optical images of the reflective surfaces in the first and second measurement target regions within a predetermined range based on the optical image of the reflective surfaces existing in the region, which follows the end of the second measurement target region, A displacement measuring method characterized by being larger than the width of the optical image of the reflective surface and smaller than an interval in the field of view of the imaging device corresponding to the thickness of the second transparent plate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2의 투명판을 상기 촬상 소자의 시야의 밖으로부터 접근시키는 것을 특징으로 하는 변위 계측 방법. A displacement measuring method, characterized in that the second transparent plate is approached from outside the field of view of the imaging device. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 빔이 라인 빔인 것을 특징으로 하는 변위 계측 방법. And the beam is a line beam. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 2의 투명판은 FPD(플랫 패널 디스플레이)에 사용되는 유리 기판이고, 상기 제 1의 투명판은 노광 처리를 위해 사용되는 마스크 유리인 것을 특징으로 하는 갭 계측 방법. The second transparent plate is a glass substrate used for an FPD (flat panel display), and the first transparent plate is a mask glass used for an exposure process. 소정의 계측 대상 영역을 향하여 빔을 조사하는 투광 수단과, Light transmitting means for irradiating a beam toward a predetermined measurement target area; 상기 계측 대상 영역을 빔의 조사 각도와는 다른 각도로부터 촬상하는 촬상 소자와, An imaging device for imaging the measurement target area from an angle different from the irradiation angle of the beam; 촬상 소자의 출력에 의거하여 계측 대상 영역 내의 물체의 변위를 계측하는 계측 수단과, Measuring means for measuring the displacement of the object in the measurement target region based on the output of the imaging element; 촬상 소자의 시야 내에 2 이상의 계측 대상 영역을 설정하는 것이 가능한 계 측 대상 영역 설정 수단과, Measurement subject region setting means capable of setting two or more measurement subject regions within the field of view of the imaging device; 촬상 소자로 촬영된 화상에 의거하여, 설정된 계측 대상 영역에 포함되는 1 또는 2 이상의 측정점 좌표의 결정을 행하는 측정점 좌표 결정 수단과, Measurement point coordinate determination means for determining one or two or more measurement point coordinates included in a set measurement target area based on an image picked up by an imaging element; 계측 대상물체의 반사면에 관한 계측 변위의 변동에 추종시켜서, 해당 계측 변위가 변동하는 계측 대상물체의 반사면을 포함하는 계측 대상 영역의, 하나의 계측 대상 영역 종단을 해당 계측 변위의 변동 방향으로 이동시키는 영역 자동 추종 수단을 구비하고, Following the variation of the measurement displacement with respect to the reflecting surface of the measurement object, one end of the measurement object region of the measurement object region including the reflection surface of the measurement object with which the measurement displacement is varied in the direction of the variation of the measurement displacement. It is provided with the area | region automatic tracking means to move, 계측 대상 영역은 적어도 제 1의 계측 대상 영역과 제 2의 계측 대상 영역을 가지며, 촬상 소자의 시야 내에 고정하여 존재하는 반사면에 대해서는 제 1의 계측 대상 영역을 설정하고, 계측 변위가 변동하는 계측 대상물체의 반사면에 대해서는, 해당 반사면을 포함하도록, 또한, 제 1의 계측 대상 영역 이외의 범위에 제 2의 계측 대상 영역을 설정하고, The measurement target region has at least a first measurement target region and a second measurement target region, and sets the first measurement target region with respect to the reflective surface which is fixed and exists in the field of view of the imaging device, and the measurement displacement varies. As for the reflective surface of the object, a second measurement target region is set in a range other than the first measurement target region so as to include the reflection surface. 영역 자동 추종 수단은, 제 1 및 제 2의 계측 대상 영역에서의 반사면의 광상의 나열 방향에 관해 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측에 있는 제 2의 계측 대상 영역의 종단을 이동시키는 것을 특징으로 하는 변위 센서. The area automatic tracking means moves the end of the second measurement target area on the side opposite to the first measurement target area with respect to the alignment direction of the optical image of the reflecting surfaces in the first and second measurement target areas. Displacement sensor. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 2의 계측 대상 영역은, 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 한쪽의 단부를 종단으로서 설정하는 것을 특징으로 하는 변위 센서. The second measurement target region sets one end portion in the direction of the measurement displacement in the field of view of the imaging device as a terminal. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 제 2의 계측 대상 영역의 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 제 1의 계측 대상 영역측의 단부의 좌표를, 제 1의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 설정하고, The coordinate of the edge part of the side of a 1st measurement object area | region in the direction of the measurement displacement in the visual field of the imaging element of a 2nd measurement object area | region is set based on the measurement point coordinate of the image contained in the 1st measurement object area | region, 제 2의 계측 대상 영역의 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 제 1의 계측 대상 영역과는 반대측의 단부의 좌표를, The coordinates of the edge part on the opposite side to the 1st measurement object area | region in the direction of the measurement displacement in the visual field of the imaging element of a 2nd measurement object area | region, 제 2의 계측 대상 영역에 화상이 포함되지 않은 경우에는, 촬상 소자의 시야 내의 계측 변위의 방향의 한쪽의 단부를 종단으로서 설정하고, When the image is not included in the second measurement target region, one end in the direction of the measurement displacement in the field of view of the imaging device is set as the terminal, 제 2의 계측 대상 영역에 화상이 포함되어 있는 경우에는, 제 2의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 종단을 설정하는 것을 특징으로 하는 변위 센서. When an image is contained in a 2nd measurement object area | region, a displacement sensor is set based on the measurement point coordinate of the image contained in a 2nd measurement object area | region. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 제 2의 계측 대상 영역중에 포함된 화상의 변위를 계측한 경우에는, 제 2의 계측 대상 영역중에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 제 2의 계측 대상 영역 종점의 좌표를 재설정하는 것을 특징으로 하는 변위 센서. In the case where the displacement of the image included in the second measurement target region is measured, the coordinates of the second measurement target region end point are reset based on the measurement point coordinates of the image included in the second measurement target region. Displacement sensor. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 목적으로 하는 변위 계측 대상이, FPD(플랫 패널 디스플레이)에 사용되는 유리 기판과, 유리 기판에 대한 노광 처리를 위해 사용되는 마스크 유리와의 갭인 것 을 특징으로 하는 변위 센서. A target displacement measurement object is a gap between a glass substrate used for an FPD (flat panel display) and a mask glass used for an exposure process on a glass substrate. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 2의 계측 대상 영역에 화상이 포함되어 있는 경우에 제 2의 계측 대상 영역에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 설정되고, 제 2의 계측 대상 영역의 측정점 좌표로부터 종단까지의 거리는, 유리 기판의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 변위 센서. When an image is contained in a said 2nd measurement object area | region, it is set based on the measurement point coordinate of the image contained in a 2nd measurement object area | region, The distance from the measurement point coordinate of a 2nd measurement object area | region to a terminal is glass Displacement sensor, characterized in that less than the thickness of the substrate. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제 2의 계측 대상 영역중에 포함된 화상의 측정점 좌표에 의거하여 제 2의 계측 대상 영역 종점의 좌표를 재설정되는 제 2의 계측 대상 영역의 측정점 좌표로부터 종단까지의 거리는, 유리 기판의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 변위 센서. The distance from the measurement point coordinates of the 2nd measurement object area | region to the terminal which resets the coordinate of a 2nd measurement object area | region end point based on the measurement point coordinate of the image contained in the said 2nd measurement object area | region is smaller than the thickness of a glass substrate. Displacement sensor, characterized in that. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 빔이 라인 빔인 것을 특징으로 하는 변위 센서.Displacement sensor, characterized in that the beam is a line beam.
KR1020060023415A 2005-03-15 2006-03-14 Displacement measuring method and displacement sensor KR100728483B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00074135 2005-03-15
JP2005074135 2005-03-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060101282A KR20060101282A (en) 2006-09-22
KR100728483B1 true KR100728483B1 (en) 2007-06-13

Family

ID=37632515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060023415A KR100728483B1 (en) 2005-03-15 2006-03-14 Displacement measuring method and displacement sensor

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR100728483B1 (en)
TW (1) TWI279522B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101922918A (en) * 2010-07-08 2010-12-22 上海雷尼威尔测量技术有限公司 Ambient light adaptive displacement measuring device and measuring method thereof

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4940800B2 (en) * 2006-07-12 2012-05-30 オムロン株式会社 Displacement sensor
JP7024285B2 (en) 2017-09-26 2022-02-24 オムロン株式会社 Displacement measuring device, system, and displacement measuring method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6455823A (en) * 1987-08-26 1989-03-02 Nec Corp Detecting method for displacement of positions of mask of wafer
JPH04208810A (en) * 1990-12-03 1992-07-30 Omron Corp Apparatus for outputting displacement signal
JPH10197212A (en) * 1997-01-08 1998-07-31 Omron Corp Optical displacement sensor, optical thickness sensor, displacement detecting method, and thickness detecting method
KR20040087142A (en) * 2003-04-04 2004-10-13 한국전자통신연구원 Gap measurement device for measuring a gap between a mask and a substrate using a laser displacement sensor, and measuring method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6455823A (en) * 1987-08-26 1989-03-02 Nec Corp Detecting method for displacement of positions of mask of wafer
JPH04208810A (en) * 1990-12-03 1992-07-30 Omron Corp Apparatus for outputting displacement signal
JPH10197212A (en) * 1997-01-08 1998-07-31 Omron Corp Optical displacement sensor, optical thickness sensor, displacement detecting method, and thickness detecting method
KR20040087142A (en) * 2003-04-04 2004-10-13 한국전자통신연구원 Gap measurement device for measuring a gap between a mask and a substrate using a laser displacement sensor, and measuring method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101922918A (en) * 2010-07-08 2010-12-22 上海雷尼威尔测量技术有限公司 Ambient light adaptive displacement measuring device and measuring method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
TW200643371A (en) 2006-12-16
KR20060101282A (en) 2006-09-22
TWI279522B (en) 2007-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11723758B2 (en) Intraoral scanning system with visual indicators that facilitate scanning
JP4940800B2 (en) Displacement sensor
JP3797422B2 (en) Visual displacement sensor
KR101824888B1 (en) Three dimensional shape measuring apparatus and measuring methode thereof
TWI665427B (en) Inclination measuring device and control system
US20050239525A1 (en) Gaming machine
US7342608B2 (en) Focus detecting method, focus detecting mechanism and image measuring device having focus detecting mechanism
TW201030582A (en) Display system having optical coordinate input device
KR20000048306A (en) Range finder and imager
US10591280B2 (en) Confocal displacement sensor
CN103970369A (en) Position detection apparatus, adjustment method, and adjustment program
EP3571976A1 (en) Endoscope apparatus
KR100728483B1 (en) Displacement measuring method and displacement sensor
EP3407600A1 (en) Three-dimensional measurement device with annotation features
JP4985913B2 (en) Displacement sensor
JP5266952B2 (en) Optical measuring apparatus and measuring method
US7362451B2 (en) Sensor device
EP1589502A1 (en) Gaming machine
JP2010286244A (en) Transmission type size measuring device
JPH0694417A (en) Pointing device for spot light and measuring device for three-dimensional position
JP2008045926A (en) Optical displacement sensor and its control method
US20110166560A1 (en) Skin care laser device
WO2021131238A1 (en) Endoscope device, operation method thereof, and program for endoscope device
JP2005300527A (en) Displacement sensor
JP2002107127A (en) Shape-measuring apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130524

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140530

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150515

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160517

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180517

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190515

Year of fee payment: 13