KR100643393B1 - 진공챔버의 외기 유입 검출방법 - Google Patents
진공챔버의 외기 유입 검출방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 진공챔버의 외기 유입을 검출하는 방법에 있어서,상기 진공챔버에 공정가스를 유입시키는 단계와;상기 진공챔버 내에 존재하는 가스를 광검출하여 상기 공정가스와 상기 외기가 속한 파장(Wavelength)의 세기(Intensity)를 측정하는 단계와;측정된 파장 세기를 기초로 하여 상기 공정가스에 대한 상기 외기의 비율을 계산하는 단계; 및상기 비율이 소정의 한계값을 초과하는 경우 경고 표시를 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 외기 유입 검출방법.
- 제1항에 있어서,상기 공정가스 및 상기 외기가 속한 각 파장의 인근 파장의 세기 측정을 통해 상기 공정가스 및 상기 외기가 속한 각 파장의 영점(Background Level) 세기를 계산하는 단계와;상기 공정가스 및 상기 외기가 속한 각 파장 세기로부터 해당 파장의 영점 세기를 제하여(Subtraction) 상기 공정가스 및 상기 외기가 속한 각 파장의 순 파장 세기(Net Wavelength Intensity)를 계산하는 단계를 더 포함하고,상기 비율 계산 단계는,상기 공정가스가 속한 파장의 순 파장 세기에 대한 상기 외기가 속한 파장의 순 파장 세기의 비율을 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 외기 유입 검출방법.
- 제1항에 있어서,상기 외기가 속한 파장의 인근 파장의 세기 측정을 통해 상기 외기가 속한 파장의 영점(Background Level) 세기를 계산하는 단계와;상기 외기가 속한 파장의 세기로부터 해당 파장의 영점 세기를 제하여(Subtraction) 상기 외기가 속한 파장의 순 파장 세기를 계산하는 단계를 더 포함하고,상기 비율 계산 단계는,상기 공정가스가 속한 파장의 세기에 대한 상기 외기가 속한 파장의 순 파장 세기의 비율을 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 외기 유입 검출방법.
- 제1항에 있어서,상기 공정가스는 실리콘(Si)을 포함하는 것을 특징으로 하는 외기 유입 검출방법.
- 제1항에 있어서,상기 외기는 질소(N2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 외기 유입 검출방법.
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JP2003273024A (ja) | 2002-03-13 | 2003-09-26 | Toppan Printing Co Ltd | プラズマ監視装置及びプラズマ成膜プロセス監視装置、並びにプラズマ処理プロセスの制御方法 |
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- 2005-12-29 CN CNA2005101359703A patent/CN1940527A/zh active Pending
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