KR100487656B1 - 반도체 기판과 ″l″형 스페이서 사이에 에어 갭을구비하는 반도체 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents
반도체 기판과 ″l″형 스페이서 사이에 에어 갭을구비하는 반도체 소자 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (20)
- 반도체 기판에 형성되고 서로 이격된 소오스 및 드레인;상기 소오스 및 상기 드레인 사이의 채널 영역 상부에 배치된 게이트 패턴;상기 게이트 패턴의 측벽들을 덮는 수직부(vertical portion) 및 상기 수직부의 하부로부터 연장된 수평부(lateral portion)로 구성되되, 상기 수평부는 상기 소오스 및 상기 드레인에 중첩된 "L"형 스페이서; 및상기 "L"형 스페이서 및 상기 게이트 패턴 사이에 개재되어 적어도 상기 "L"형 스페이서의 상기 수평부 및 상기 소오스/드레인 사이에 에어 갭을 제공하는 지지부를 포함하는 반도체 소자.
- 제 1 항에 있어서,상기 소오스/드레인은,상기 "L"형 스페이서의 상기 수평부와 중첩되는 반도체 기판 내에 형성된 저농도 소오스/드레인; 및상기 "L"형 스페이서의 상기 수평부 옆의 상기 반도체 기판 내에 형성된 고농도 소오스/드레인을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자.
- 제 1 항에 있어서,상기 L형 스페이서는,산화막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자.
- 제 1 항에 있어서,상기 지지부는,폴리실리콘 또는 질화막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자.
- 제 1 항에 있어서,상기 게이트 패턴과 상기 지지부 사이에 개재된 버퍼 절연막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자.
- 반도체 기판 상에 게이트 패턴을 형성하고,상기 게이트 패턴을 포함하는 상기 반도체 기판 전면 상에 지지막, 스페이서 절연막 및 희생막을 차례로 형성하고,상기 희생막, 상기 스페이서 절연막 및 상기 지지막을 이방성 식각하여 상기 게이트 패턴의 측벽들을 덮는 "L"형의 단면을 갖는 지지막 패턴, 상기 지지막 패턴을 덮는 "L"형의 단면을 갖는 스페이서 및 상기 스페이서를 덮는 희생막 패턴을 형성하되, 상기 "L"형 스페이서는 상기 반도체 기판의 표면에 대하여 수직한 수직부 및 상기 수직부의 하부로부터 연장된 수평부로 구성되고,상기 지지막 패턴을 등방성 식각하여 적어도 상기 "L"형 스페이서의 상기 수평부 및 상기 반도체 기판 사이에 에어 갭을 제공하고,상기 게이트 패턴을 이온주입 마스크로 사용하여 상기 반도체 기판 내에 불순물 이온들을 주입하여 상기 게이트 패턴의 양 옆의 상기 반도체 기판 내에 소오스 및 드레인을 형성하는 것을 포함하는 반도체 소자의 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 지지막 및 상기 희생막은 동일한 물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 희생막 패턴은,상기 지지막 패턴을 등방성 식각하면서 동시에 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 스페이서 절연막은,산화막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 지지막은,폴리실리콘막 또는 질화막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 지지막은,반절연 폴리실리콘막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 희생막은,폴리실리콘막 또는 질화막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 소오스/드레인을 형성하는 것은,상기 L형 스페이서의 상기 수평부와 중첩되는 상기 반도체 기판 내에 저농도 소오스/드레인을 형성하고,상기 L형 스페이서의 상기 수평부 옆의 상기 반도체 기판 내에 고농도 소오스/드레인을 형성하는 것을 포함하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 게이트 패턴과 상기 지지막 사이에 버퍼 절연막을 형성하는 것을 더 포함하는 반도체 소자 제조 방법.
- 반도체 기판 상에 게이트 패턴을 형성하고,상기 게이트 패턴을 포함하는 상기 반도체 기판 전면 상에, 상기 게이트 패턴에 대해 식각선택비를 갖는 물질로 버퍼 절연막을 형성하고,상기 버퍼 절연막 상에 지지막, 스페이서 절연막 및 희생막을 차례로 형성하되, 상기 지지막 및 상기 희생막을 상기 스페이서 절연막에 대해 식각선택비를 갖는 동일한 물질로 형성하고,상기 희생막, 상기 스페이서 절연막 및 상기 지지막을 이방성 식각하여 상기 게이트 패턴의 측벽들을 덮는 "L"형의 단면을 갖는 지지막 패턴, 상기 지지막 패턴을 덮는 "L"형의 단면을 갖는 스페이서 및 상기 스페이서를 덮는 희생막 패턴을 형성하되, 상기 "L"형 스페이서는 상기 반도체 기판의 표면에 대하여 수직한 수직부 및 상기 수직부의 하부로부터 연장된 수평부로 구성되고,상기 희생막 패턴을 완전히 제거함과 동시에 상기 지지막 패턴을 등방성 식각하여 적어도 상기 "L"형 스페이서의 상기 수평부 및 상기 반도체 기판 사이에 에어 갭을 제공하고,상기 게이트 패턴을 이온주입 마스크로 사용하여 상기 반도체 기판 내에 불순물 이온들을 주입하여 상기 게이트 패턴의 양 옆의 상기 반도체 기판 내에 소오스 및 드레인을 형성하는 것을 포함하는 반도체 소자의 제조 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 게이트 패턴은,폴리실리콘막으로 이루어지는 게이트 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제 16 항에 있어서,상기 버퍼 절연막은,산화막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
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