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KR100451577B1 - 다기능성 에폭시 모노머를 포함하는 감광성 수지 조성물 - Google Patents

다기능성 에폭시 모노머를 포함하는 감광성 수지 조성물 Download PDF

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KR100451577B1
KR100451577B1 KR10-1999-0041796A KR19990041796A KR100451577B1 KR 100451577 B1 KR100451577 B1 KR 100451577B1 KR 19990041796 A KR19990041796 A KR 19990041796A KR 100451577 B1 KR100451577 B1 KR 100451577B1
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Abstract

본 발명은 알칼리 수용액을 현상액으로 사용하여 패턴 형성이 가능한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 액정 디스플레이 제조 공정에서 칼라 필터(color filter) 및 TFT(thin film transistor)의 회로 보호막(passivation)이나 광 시야각용 돌기(protrusion)막으로 사용할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 이를 위하여, 카르본산을 함유한 공중합 매트릭스 수지, 2 개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유한 다기능성 아크릴 모노머, 광중합개시제, 및 용매를 포함하는 알칼리 수용액에 현상 가능한 감광성 조성물에 있어서, 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머를 더욱 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 광중합에 의한 가교 이외에, 열중합에 의한 가교도 형성할 수 있기 때문에, 종래의 광중합 만을 이용한 감광성 수지 조성물에 비하여 알칼리 현상시 그 선폭이 6 내지 8 ㎛인 미세패턴까지도 형성할 수 있을 뿐만 아니라 열안정성이 우수하고 황변이 없다.

Description

다기능성 에폭시 모노머를 포함하는 감광성 수지 조성물{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING MULTI-FUNCTIONAL EPOXY MONOMERS}
[산업상 이용분야]
본 발명은 알칼리 수용액을 현상액으로 사용하여 패턴 형성이 가능한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 액정 디스플레이 제조 공정에서 칼라 필터(color filter) 및 TFT(thin film transistor)의 회로 보호막(passivation)이나 광 시야각용 돌기(protrusion)막으로 사용할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
[종래 기술]
자외선을 이용하여 알칼리 수용액에서 현상이 가능한 미세 패턴을 형성하는 감광성 조성물은 형성된 패턴의 기계적 물성, 특히 내열성이 매우 중요하다. 이러한 감광성 수지 조성물은 인쇄 회로 기판에 사용되는 드라이 필름 포토레지스트(dry film photoresist), 반도체 회로 제작용 포토레지스트 등으로 이용되어 왔으며, 그 외에도 EL(electroluminescene), LCD(liquid crystal display) 등의 디스플레이 분야에서도 널리 사용되고 있다.
최근의 LCD 분야에서는 액정 화면의 천연색을 구현하기 위한 컬러 필터 포토레지스트(color filter photoresist)나 액정소자를 구동하는 TFT(thin film transistor) 기판의 보호막 뿐만 아니라 광 시야각을 구현하는 돌기(protrusion)막으로도 그 용도가 확대되고 있다. 특히 안료가 포함되지 않는 투명한 감광성 수지 조성물은 컬러 필터의 보호막이나 TFT 기판의 보호막으로 매우 중요한 역활을 하는데, 종래의 감광성 조성물은 주로
a) 알칼리 수용액에 의하여 용해되거나 적어도 팽윤되는 매트릭스 수지;
b) 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 모노머;
c) 광중합 개시제; 및
d) 상기 a), b), 및 c)의 성분들을 용해할 수 있는 용매
로 이루어져 있으며, 필요에 따라서는 제막 성능을 향상시키거나 기판과의 접착력을 향상시키는 여러 가지 첨가제 들을 포함한다.
상기 a)의 매트릭스 수지는 일반적으로 카르본산, 무수카르본산, 또는 수산화기, 아미노기, 아미드기 등을 함유하는 구조를 포함하는 고분자 중합체로 이루어져 있으며, 노볼락계 페놀수지 또는 아크릴계 수지의 단독 또는 공중합체 형태로 이용된다. 특히 아크릴계 매트릭스 수지는 아크릴산 또는 메타아크릴산과 이들의 알킬에스테르, 아릴에스테르의 단독 또는 치환체 중에서 한가지 이상의 화합물을 이용한 공중합체가 주로 사용된다.
미국 특허 제4,629,680호과 미국 특허 제4,139,391호에는 벤질 메타아크릴레이트/메타아크릴산의 공중합체를 사용하는 예가 기재되어 있고, 일본특허 공개공보 소54-34327호에는 메틸 메타아크릴레이트/2-에틸헥실메타아크릴레이트/메타아크릴산의 공중합체가 개시되어 있으며, 일본특허 공개공보 소55-6210호에는 메틸메타아크릴레이트/에틸아크릴레이트/아크릴산의 공중합체가 기재되어 있다. 이외에도 일본특허 공개공보 평9-23059호에는 알릴아크릴레이트(allylacrylate), 하이드록시알킬아크릴레이트, 및 메타아크릴산을 이용한는 공중합체가 기재되어 있다.
상기 b)의 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 모노머는 잘 알려져 있는 다기능성 아크릴 모노머로, 트리메틸올 프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사메타아크릴레이트 등이 있다.
상기 c)의 광중합 개시제는 벤조페논 또는 그의 유도체, 아세토페논계 유도체, 트리아진계 유도체 등이 사용되고 있다.
이러한 성분들을 포함하는 종래의 감광성 조성물은 에틸렌성 불포화기를 함유하는 다기능성 모노머들이 매트릭스 수지 속에 균일하게 분포되어 있다가 자외선이 조사되면 광중합개시제에 의해 생성된 라디칼에 의해 가교가 일어나서 그물 구조를 형성하게 된다. 이 그물구조가 형성된 부분은 알칼리 현상액에 용해되지 않으므로 패턴을 이루게 된다.
그러나 이러한 방식은 가교의 밀도가 충분하게 크지 못하기 때문에 미세 패턴의 형성이 어렵고, 기계적 물성도 우수하지 못하고, 특히 고온에서 내열성이 좋지 않아서 원하는 패턴 형태의 절대 크기를 계속 유지하지 못하고 황변 현상을 나타내는 경우가 많았다.
따라서 이러한 현상을 방지하기 위하여 에틸렌성 불포화기를 함유하는 모노머를 과다하게 사용하게 되는데, 이러한 과다 사용은 고온에서의 황변 현상이 심해지고, 비노광 부분의 용해도가 저하되어 분해능이 낮아지는 단점이 있다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위하여,
광에 의해 가교를 형성한 후, 다시 후처리 공정으로 열에 의한 열중합으로 매트릭스 간의 가교를 형성하여 전체 가교 밀도를 증가시킬 수 있는 열중합 모노머를 더욱 포함하는 알칼리 현상 가능한 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 현상 공정에서 현상액으로부터의 용해도 차이를 극대화하여 형성되는 패턴의 분해능이 향상된 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 내열성이 우수하여 막의 강도가 견고하고, 황변 현상이 없는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여,
카르본산을 함유한 공중합 매트릭스 수지, 2 개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유한 다기능성 아크릴 모노머, 광중합개시제, 및 용매를 포함하는 알칼리 수용액에 현상 가능한 감광성 조성물에 있어서,
하기 화학식 1로 표시되는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시모노머를 더욱 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 식에서,
n과 m은 각각 0 내지 4의 정수이고,
R은 탄소수 1 내지 15의 알킬 또는 아릴기,
한 개 이상의 에스테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에스테르, 또는
아릴에스테르,
한 개 이상의 에테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에테르, 또는
아릴에테르,
한 개 이상의 설파이드 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 화합물, 및
탄소수 3 내지 15의 알킬3차아민 또는 아릴3차아민으로 이루어진 군으로부터
선택되고,
A는 하기 화학식 2로 나타내고, B는 하기 화학식 3으로 나타내며;
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 3의 식에서,
R'는 탄소수 3 내지 6의 시클로알칸 또는 시클로알칸 에테르이다.
이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.
[작 용]
본 발명은 감광성 수지 조성물에 있어서, 가교제 역활을 하는 종래의 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 다기능성 아크릴 모노머 이외에 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머를 더욱 포함시킴으로써, 종래의 감광성 수지 조성물과 같이 광에 의해 가교를 형성한 후, 추가적으로 후처리 공정으로 열에 의해 에폭시기를 매트릭스의 주사슬과 화학반응시켜서 매트릭스 사이에 가교를 형성하여 전체 가교 밀도를 증가시킬 수 있는 감광성 수지 조성물이다. 따라서 본 발명의 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상액을 이용한 현상 공정에서 현상액으로부터의 용해도 차이가 극대화되어 종래의 광중합에 의한 가교만을 이용하는 감광성 수지 조성물에 비하여 형성되는 패턴의 분해능이 우수하고, 또한 내열성이 우수하여 막의 강도가 견고하고, 황변 현상이 거의 없다.
상기 화학식 1 에서 에폭시기는 A 및/또는 B 에서 2 내지 4 개로 존재하며, 바람직하게는 2 내지 3 개이다.
열중합 모노머인 상기 화학식 1로 나타내는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머는 감광성 수지 조성물 내에서 0.05 내지 20 중량% 포함되는 것이 바람직하다. 0.05 중량% 미만의 사용은 열중합 효과가 없으며, 20 중량% 그 이상의 사용은 상대적으로 패턴에서의 분해능이 낮아진다.
상기 다기능성 에폭시 모노머의 바람직한 예는 펜타디엔디에폭시드, 에틸렌글리콜 디글시딜에테르, 트리메틸올에탄 트리글리시딜에테르, 1,2,7,8-디에폭시에탄, 씨넨 다이옥사이드, 비스(3-글리시디옥시)테트라메틸다이실옥산, 2,3-에폭시프로필-4-(2,3-에폭시프로폭시)벤조에이트, 1,4-비스(2'3'-에폭시프로필)옥타플루오로-N-부탄, 및 비스[4-(2,3-에폭시-프로필다이오)페닐]-설파이드 등이다.
한편, 카르본산을 함유하는 매트릭스 수지는 수 평균 분자량이 5,000 내지 100,000이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10,000 내지 50,000 정도이다.
이러한 카르본산을 함유하는 매트릭스 수지는 하기 화학식 4로 나타내는 2원 또는 3원 공중합체가 바람직하다.
[화학식 4]
상기 식에서,
A 는 하기 화학식 5로 나타내는 화합물이며,
B 및 B'는 서로 상이하며, 하기 화학식 6 또는 화학식 7로 나타내는 화합물
이며;
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
상기 화학식 5, 6, 및 7의 식에서,
R1은 수소 또는 메틸이며,
R2는 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 하이드록시기가 치환된 알킬기이거나,
치환되었거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 12의 아릴기이며,
R3는 벤젠,
탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 또는 탄소수 1
내지 6의 알킬 치환기를 포함하는 벤젠, 또는
수산화기 또는 할로겐이 치환된 벤젠이다.
이러한 매트릭스 공중합체 수지는 감광성 수지 조성물 내에서 10 내지 80 중량% 포함되는 것이 바람직하며, 특히 20 내지 70 중량%가 더욱 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물에 사용되는 2 개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유한 다기능성 아크릴 모노머는 광중합개시제에 의하여 가교되며, 트리메틸올 프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타메나아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사메타아크릴레이트, 솔비톨 트리아크릴레이트 또는 솔비톨 테트라아크릴레이트 등이 바람직하다. 그 사용량은 전체 수지 조성물에서 5 내지 60 중량%가 바람직하고, 10 내지 50 중량%가 더욱 바람직하다.
본 발명에 사용될 수 있는 광중합 개시제는 벤조페논 또는 벤조페논의 유도체로 벤조페논, 비스-4,4'-디메틸아미노벤조페논, 비스-4,4'디에틸벤조페논, 아세토페논 유도체로 1-히드록시씨클로헥실 페닐키톤, 2,2-디메톡시-2-페닐 아세토페논, 3-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포릴리노페닐-1-부탄-1온), 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-(몰포리닐)-1-프로판온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 트리아진계 유도체로 2-부톡시스티릴-5-트리클로로메틸-1,3,4-옥시디아졸, 2-나프틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,4-옥사디자졸 등이 있다. 이러한 광중합 개시제의 감광성 수지 조성물 내 함량은 0.05 내지 20 중량%가 바람직하며, 0.1 내지 15 중량%가 더욱 바람직하다.
용매는 아크릴고분자 중합에 사용될 수 있는 것으로, 메틸에틸키톤, 씨클로헥사논, 메틸이소부틸키톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 디메틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸메틸아세테이트, 클로로포름, 메틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸아세테이트 등이 바람직하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라서 소포제, 계면활성제, 열중합 방지제, 자외선 흡수제, 접착력 증진제, 표면 평탄화제 등의 첨가제가 소량 첨가될 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 각 성분들을 호모지나이저(homogenizer) 또는 믹서를 사용하여 균일한 상태로 혼합, 유지한 후, 0.1 내지 5 ㎛의 필터를 사용하여 여과한 다음 유리기판 등에 코팅하게 된다.
코팅은 스핀코팅(spin coating)이나 롤코팅(roll coating) 등을 이용하여 0.1 내지 50 ㎛ 두께의 박막을 형성한 후, 50∼150 ℃의 가열판이나 오븐에서 약 20 초 내지 10 분간 전처리하게 된다.
전처리에 의해 얻어진 박막은 포토마스크를 사용하여 패턴을 형성하게 되는데, 이때 사용할 수 있는 자외선 광원은 g 선(436 ㎚), h 선(405 ㎚), i 선(365 ㎚)을 모두 포함하는 200 W 수은/제논 램프가 바람직하다.
노광시키는 감도는 i 선 감도 측정기로 측정할 때 50∼500 mJ/㎠ 정도가 적당하다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 네거티브형 포토레지스트이므로 자외선이 조사된 부분에서 가교 반응이 일어나서 자외선에 노출되지 않은 부분과 용해도 차이를 보인다. 그 다음에 산도(pH value) 가 10.0 내지 12.0 인 알칼리 현상액을 스프레이하거나 퍼들링(puddling)하여 원하는 패턴을 형성하게 되는데, 이때 형성된 패턴은 200∼300 ℃ 정도의 온도에서 30 분 내지 2 시간 동안 후처리한다.
최종적으로 형성된 패턴의 두께와 표면 상태는 프로파이로미터(profilometer)로 확인하였고, 기계적 물성은 주로 열안정성을 기준으로 측정하였다. 내열성은 황변 현상의 정도로 측정하였는데, 400 ㎚에서의 투과율을 기준으로 비교하였다.
이하의 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 이들 만으로 한정되는 것이 아니다.
[실시예]
비교예 1
하기 표 1에 나타낸 조성으로 일반적인 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
상기 조성물을 호모지나이저로 혼합하고 0.2 ㎛의 테프론 필터로 여과한 후 유리기판에 스핀코팅하였다.
도포된 유리기판을 100 ℃에서 2 분간 전처리한 후, 포토마스크를 이용하여 패턴을 형성시켰다. 이때 사용된 노광량은 200 mJ/㎠ 이었고, 현상액으로 1 분 50 초 동안 현상한 후, 250 ℃의 오븐에서 30 분간 후처리하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.0 ㎛이었고, 분해능은 10 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 75 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 60 내지 65 %를 나타내었다.
비교예 2
노광량을 150 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 1.54 ㎛이었고, 분해능은 25 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 70 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 58 내지 60 %를 나타내었다.
비교예 3
노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
그러나 패턴은 알칼리 수용액으로 현상 중에 유실되었다.
실시예 1
하기 표 2와 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.2 ㎛이었고, 분해능은 8 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 85 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 75 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 2
하기 표 3과 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.4 ㎛이었고, 분해능은 7 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 87 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 75 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 3
하기 표 4와 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.3 ㎛이었고, 분해능은 8 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 85 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 75 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 4
하기 표 5와 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.45 ㎛이었고, 분해능은 6 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 86 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 75 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 5
하기 표 6과 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.3 ㎛이었고, 분해능은 7 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 87 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 77 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 6
하기 표 7과 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.45 ㎛이었고, 분해능은 6 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 88 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 77 내지 80 %를 나타내었다.
실시예 7
하기 표 8과 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.55 ㎛이었고, 분해능은 7 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 87 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 75 내지 79 %를 나타내었다.
실시예 8
하기 표 9와 같은 감광성 수지 조성물을 제조하고, 노광량을 100 mJ/㎠ 으로 변경하여 패턴을 형성하는 것 외에는 상기 비교예 1과 같은 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조, 코팅, 시험하였다.
최종 형성된 박막의 두께는 2.40 ㎛이었고, 분해능은 6 ㎛이었다.
250 ℃ 열처리 후의 두께 유지율은 열처리 전의 두께에 대하여 89 % 수준이었으며, 400 ㎚에서의 투과율은 78 내지 81 %를 나타내었다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 광중합에 의한 가교 이외에, 열중합에 의한 가교도 형성할 수 있기 때문에, 종래의 광중합 만을 이용한 감광성 수지 조성물에 비하여 알칼리 현상시 그 선폭이 6 내지 8 ㎛인 미세패턴까지도 형성할 수 있을 뿐만 아니라 열안정성이 향상되어 250 ℃ 열처리하는 후처리 공정의 두께 유지율 85 % 이상, 투과율 75 % 이상을 나타내며 황변도 거의 없다.

Claims (6)

  1. 카르본산을 함유한 공중합 매트릭스 수지, 2 개 이상의 에틸렌성 불포화기를 함유한 다기능성 모노머, 광중합개시제, 및 용매를 포함하는 알칼리 수용액에 현상 가능한 감광성 조성물에 있어서,
    하기 화학식 1로 표시되는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머를 더욱 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    상기 식에서,
    n과 m은 각각 0 내지 4의 정수이고,
    R은 탄소수 1 내지 15의 알킬 또는 아릴기,
    한 개 이상의 에스테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에스테르, 또는
    아릴에스테르,
    한 개 이상의 에테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에테르, 또는
    아릴에테르,
    한 개 이상의 설파이드 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 화합물, 및
    탄소수 3 내지 15의 알킬3차아민 또는 아릴3차아민으로 이루어진 군으로부터
    선택되고,
    A는 하기 화학식 2로 나타내고, B는 하기 화학식 3으로 나타내며;
    [화학식 2]
    [화학식 3]
    상기 식에서,
    R'는 탄소수 3 내지 6의 시클로알칸 또는 시클로알칸 에테르이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1로 나타내는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머의 조성물 내 함량이 0.05 내지 20 중량%인 감광성 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 화학식 1로 나타내는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭시 모노머가 펜타디엔디에폭시드, 에틸렌글리콜 디글시딜에테르, 트리메틸올에탄 트리글리시딜에테르, 1,2,7,8-디에폭시에탄, 씨넨 다이옥사이드, 비스(3-글리시디옥시)테트라메틸다이실옥산, 2,3-에폭시프로필-4-(2,3-에폭시프로폭시)벤조에이트, 1,4-비스(2'3'-에폭시프로필)옥타플루오로-N-부탄, 및 비스[4-(2,3-에폭시-프로필다이오)페닐]-설파이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 감광성 수지 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 카르본산을 함유한 공중합 매트릭스 수지가 하기 화학식 4로 나타내는 화합물인 감광성 수지 조성물:
    [화학식 4]
    상기 식에서,
    A 는 하기 화학식 5로 나타내는 화합물이며,
    B, B' 는 서로 상이하며, 하기 화학식 6 또는 화학식 7로 나타내는 화합물
    이며,
    [화학식 5]
    [화학식 6]
    [화학식 7]
    상기 화학식 5, 6, 및 7의 식에서,
    R1은 수소 또는 메틸이며,
    R2는 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 하이드록시기가 치환된 알킬기이거나,
    치환되었거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 12의 아릴기이며,
    R3는 벤젠,
    탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 또는 탄소수 1
    내지 6의 알킬 치환기를 포함하는 벤젠, 또는
    수산화기 또는 할로겐이 치환된 벤젠이다.
  5. 감광성 수지 조성물에 있어서,
    a) 하기 화학식 1로 나타내는 2 개 이상의 에폭시기를 함유한 다기능성 에폭
    시 모노머 0.05 내지 20 중량%
    b) 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 다기능성 모노머 5 내지 60
    중량%;
    c) 하기 화학식 4로 나타내는 매트릭스 수지 10 내지 80 중량%;
    d) 광중합 개시제 0.05 내지 20 중량%; 및
    e) 용매 나머지
    를 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    상기 식에서,
    n과 m은 각각 0 내지 4의 정수이고,
    R은 탄소수 1 내지 15의 알킬 또는 아릴기,
    한 개 이상의 에스테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에스테르, 또는
    아릴에스테르,
    한 개 이상의 에테르 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 알킬에테르, 또는
    아릴에테르,
    한 개 이상의 설파이드 결합을 갖는 탄소수 2 내지 15의 화합물, 및
    탄소수 3 내지 15의 알킬3차아민 또는 아릴3차아민으로 이루어진 군으로부터
    선택되고,
    A는 하기 화학식 2로 나타내고, B는 하기 화학식 3으로 나타내며;
    [화학식 2]
    [화학식 3]
    상기 식에서,
    R'는 탄소수 3 내지 6의 시클로알칸 또는 시클로알칸 에테르이며;
    [화학식 4]
    상기 식에서,
    A 는 하기 화학식 5로 나타내는 화합물이며,
    B, B' 는 서로 상이하며, 하기 화학식 6 또는 화학식 7로 나타내는 화합물
    이며;
    [화학식 5]
    [화학식 6]
    [화학식 7]
    상기 화학식 5, 6, 및 7의 식에서,
    R1은 수소 또는 메틸이며,
    R2는 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 하이드록시기가 치환된 알킬기이거나,
    치환되었거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 12의 아릴기이며,
    R3는 벤젠,
    탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기, 또는 탄소수 1
    내지 6의 알킬 치환기를 포함하는 벤젠, 또는
    수산화기 또는 할로겐이 치환된 벤젠이다.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 조성물에 소포제, 계면활성제, 열중합 방지제, 자외선 흡수제, 접착력 증진제, 표면 평탄화제로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 첨가제를 더욱 포함하는 감광성 수지 조성물.
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