KR100362684B1 - 유동층반응로의 분산판 차압조절장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 예열로(40), 예비환원로(30), 최종환원로(20)로 이루어진 3단 유동층 반응로, 이와 연결되는 용융가스화로(10)로 구성되고, 광석 및 환원가스의 흐름이 이루어지는 제 1,2,3광석도관(23)(33)(43), 제 1,2,3가스도관(11)(22)(32)을 갖추며, 상기 환원가스가 통과하는 노즐부재(72)를 복수개 갖는 제 1,2 및 3차단판(24)(34)(44)을 상기 반응로(20)(30)(40)에 각각 갖추는 한편, 배가스관(61)을 통해 최종배출되는 배가스가 통과하는 습식제진기(70)를 갖추어 용철을 제조하는 설비에 있어서, 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 상부면에는 상기 노즐부재(72)의 노즐공(72a)과 겹쳐지는 조절공(3)을 복수개 천공한 조절판(1)을 수평이동가능하게 갖추고, 상기 조절판(1)은 상기 노즐공(72a)과 조절공(3)이 서로 겹쳐지는 범위에 비례하여 상기 노즐공(72a)의 출구경크기를 조절하여 이를 통한 분산판에서의 차압을 제어할 수 있도록 실린더부재(2)의 로드선단에 연결구성하는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 제공한다.

Description

유동층 반응로의 분산판 차압조절장치{device for adjusting the differential pressure of distributor in fluidized bed}

본 발명은 유동층 반응로를 이용하여 분철광석을 환원시키는 공정에서 유동층 반응로내에 설치된 분산판의 차압을 조절할수 있는 장치에 관한 것으로, 보다상세히는 철광석은 예열로, 예비환원로 및 최종환원로등으로 이루어진 다단 유동층 반응로내로 광석을 차례로 장입하면서 용융가스화로에서 발생된 환원가스를 각 반응로의 하부로 공급하여 장입된 광석과 상호 교류하여 환원반응을 연속적으로 진행시켜 용철을 생산하는 공정중 반응기내에 설치된 분산판에서의 차압이 증가하여 조업이 불안정하거나 중단하는 것을 억제할 수 있도록 분산판의 노즐부재의 출구경 크기를 적절히 조절하여 분산판의 차압을 저하시켜 안정적이고 지속적인 조업을 수행할 수 있는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치에 관한 것이다.

일반적으로 철광석을 환원하여 용선을 생산하는 방법으로는 고로를 이용하는 방법이 주로 이용되었다.

그러나, 고로법은 제조공정의 효율성을 위하여 원료를 코킹 및 소결공정의 전처리를 거쳐 사용되며, 이러한 전처리 공정은 막대한 투자비가 소요되고, 환경을 오염시키며, 자원수급상의 문제가 발생되었다.

이러한 고로법의 문제점을 극복하고 분철광석과 일반탄을 사전처리 없이 직접 사용하는 새로운 용선제조 방법으로 근래에는 용융환원법이 대두되고 있으며, 그 대표적인 예가 미국특허 제 4,978,378호를 들을 수 있다. 상기 미국특허 제 4,978,378호에 제시된 방법은 원철광석과 일반탄을 직접 사용하므로써 기존의 고로법과 비교하여 소결공정 및 코킹공정등 원료의 전처리 생략으로 공정 및 설비의 단순화를 달성할 수 있었다.

한편, 일반적인 용철제조설비는 도 3에 도시한 바와같이, 예열로(40), 예비환원로(30) 및 최종환원로(40)등으로 이루어진 3단의 유동환원 반응로와 석탄충진층이 형성되어 있는 용융가스화로(10)로 구성되어 있는바, 최상단의 반응기인 예열로(40)에 연속적으로 광석장입빈(60)의 광석장입관(63)을 통하여 장입되는 상온의 분철광석은 제 1,2 및 3광석도관(43)(33)(23)을 통하여 상기 3단의 유동환원로를 차례로 거치면서 상기 용융가스화로(10)로부터 제 1,2 및 3가스도관(11)(22)(32)을 통해 공급되는 고온의 환원기류와 접촉함으로서 승온 및 90%이상의 환원이 이루어진 고온의 환원분광으로 전환되어 배출되며, 상기 환원분광은 석탄충진층이 형성되어 있는 용융가스화로(10)내로 연속적으로 장입되어 상기 석탄충진층내에서 용융됨으로서 용선으로 전환되어 상기 용융가스화로(10)외부로 배출된다.

또한, 상기 융용가스화로(10)에 있어서는 로상부에서 괴상의 일반탄이 연속적으로 공급되어 로내부에 일정한 높이의 석탄충진층이 형성하게 되며, 상기 충진층외벽하단에 형성되어 있는 복수개의 풍구를 통해 상기 충진층내로 산소가 취입되어 충진층내에 석탄이 연소되고, 상기 연소가스가 충진층을 상승하면서 고온의 환원기류로 전환된다.

그리고, 상기 예열로(40)에서 배출되는 배가스는 배가스도관(42)을 통하여 습식제진기(50)로 공급되어 분진을 제거한 다음 배기관(51)에 연결된 스택을 통하여 외부로 배출되는 것이다.

그리고, 유동층 반응로인 예열로(40), 예비환원로(30) 및 최종환원로(20)에는 하부로부터 공급되는 환원가스에 의해서 로내부로 장입된 광석을 일정높이의 유동층 높이로 유동화시킬 수 있도록 도 1에 도시한 바와같이, 내화벽돌로 축조된 각 반응로(20)(30)(40)의 내벽에 조립홈(74)을 환고리형으로 함몰형성하고, 이에 환원가스가 통과할수 있도록 노즐공(72a)을 관통형성한 노즐부재(72)를 복수개 장착한 분산판(24)(34))(44)의 외주테두리를 끼워 설치하였다.

이러한 분산판(24)(34)(44)을 장착한 유동층 반응로내에서 유동환원공정을 수행하는 과정에서 생산된 미분환원철이 용융가스화로(10)내로 장입되는 단계에 다량의 미분을 함유하고 있기 때문에, 상기 용융가스화로(10)에서 비산되는 다량의 미분은 용융가스화로(10)에서 생성된 환원가스에 함유된 채로 상단의 유동층 반응로에 공급되어 유동층 반응로에 설치된 각 분산판(24)(34)(44)의 각 노즐부재(72)의 노즐공(72a)을 차단시키고, 이로 인하여 상기 노즐공(72a)을 통한 환원가스의 공급흐름을 곤란하게 하였다.

즉, 광석이 광석 장입관(63)을 통하여 예열로(40), 예비환원로(30) 및 최종환원로(20)를 거치면서 유동환원되어 용융가스화로(10)로 장입되고, 용융가스화로(10)에서 생성된 환원가스가 가스상승관을 통하여 최종환원로(20), 예비환원로(30) 및 예열로(40) 하부로 통입되어 각 반응기의 제 1, 2, 3 분산판(24)(34)(44)을 통하여 유동층으로 공급되는 일련의 용철제조공정에서 통입되는 환원가스내 포함된 미분 및 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 상부의 유동층에서 떨어지는 낙광등에 의해서 상기 분산판(24)(34)(44)에 장착된 다수개의 노즐부재(72)의 노즐공(72a)이 점차 막히면서 반응로내의 분산판 차압을 증가시키고, 이로 인하여 정상적인 광석의 흐름 및 유동이 불가능해져 결국에는 조업을 중단시키는 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로서, 그 목적은 환원가스가 통과하는 분산판의 각 노즐부재의 노즐공 출구경크기를 간편하게 조절함으로서 유동층 반응로에 설치된 분산판의 상,하부에서의 차압을 항상 일정하게 유지하여 용철제조공정의 안정적인 조업을 가능하게 하고 장기화를 확보할 수 있는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 제공하고자 한다.

도 1은 유동층 반응로에 설치되는 차단판을 도시한 상세도,

도 2는 본 발명에 따른 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 도시한 상세도,

도 3은 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 채용한 용철제조설비를 도시한 개략도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1 ..... 조절판 2 ...... 실린더부재

3 ..... 조절공 11,22,32 ... 제 1,2 및 3가스도관

23,33,43 ... 제 1,2 및 3광석도관 24,34,44 ... 제 1,2 및 3차단판

28,38,48 ... 질소밸브 29,39,49 ... 질소퍼징용 가스라인

72 .... 노즐부재 72a .... 노즐공

상기 목적을 달성하기 위한 기술적인 구성으로써, 본 발명은

예열로, 예비환원로, 최종환원로로 이루어진 3단 유동층 반응로로, 이와 연결되는 용융가스화로로 구성되고, 광석 및 환원가스의 흐름이 이루어지는 제 1,2,3광석도관, 제 1,2,3가스도관을 갖추며, 상기 환원가스가 통과하는 노즐부재를 복수개 갖는 제 1,2 및 3차단판을 상기 반응로에 각각 갖추는 한편, 배가스관을 통해 최종배출되는 배가스가 통과하는 습식제진기를 갖추어 용철을 제조하는 설비에 있어서,

상기 제 1,2 및 3분산판의 상부면에는 상기 노즐부재의 노즐공과 겹쳐지는 조절공을 복수개 천공한 조절판을 수평이동가능하게 갖추고, 상기 조절판은 상기 노즐공과 조절공이 서로 겹쳐지는 범위에 비례하여 상기 노즐공의 출구경크기를 조절하여 이를 통한 분산판에서의 차압을 제어할 수 있도록 실린더부재의 로드선단에 연결구성됨을 특징으로 하는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 마련함에 의한다.

이하, 본 발명에 대해서 첨부된 도면에 따라 보다 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 도시한 상세도이고, 도 3은 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치를 채용한 용철제조설비를 도시한 개략도이다.

본 발명의 장치(200)는 도 2와 3에 도시한 바와같이, 각 반응로(20)(30)(40)내로 광석을 차례로 장입하면서 장입된 광석을 환원반응시킬 수 있도록 각 반응로 하부로 환원가스를 공급하여 용철을 제조하는 과정에서 상기 각 반응로(20)(30)(40)내에 설치된 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 노즐부재(72)가 환원가스와 더불어 상승되는 미분과 유동층내에서 하부로 낙하하는 철광석에 의해서 막히는 것에 의해서 상승되는 차압을 낮출 수 있도록 환원가스가 공급되는 상기 노즐부재(72)의 노즐공(72a) 출구경크기를 조절하는 것으로서, 이러한 장치(200)는 조절판(1)과 실린더부재(2)로 구성된다.

즉, 상기 조절판(1)은 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)에 장착된 노즐부재(72)와 대응되는 조절공(3)을 복수개 관통형성하여 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)상부면에 전후이동가능하게 각각 조립되는 원판부재로서, 상기 조절판(1)의 외주테두리는 유동층 반응로(20)(30)(40)의 각 내벽에 함몰형성되는 환고리형 상부조립홈(4)에 조립되며, 상기 상부조립홈(4)은 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 외주테두리가 조립되도록 상기 반응로(20)(30)(40)의 내벽에 형성된 조립홈(74)의 상부에 갖추어진다.

여기서, 상기 조절공(3)은 상기 노즐공(72)과의 완전겹침시 이와 일치되도록 상기 노즐공(72)의 내경과 동일하거나 이보다 크게 천공형성되며, 상기상부조립홈(4)의 외경크기는 상기 조절판(1)의 전후이동이 원활하게 이루어지도록 상기 조절판(1)의 외경크기보다 크게 형성하는 것이 바람직하다.

이러한 조절판(1)은 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)에 장착된 노즐부재(72)의 노즐공(72a)과 상기 조절공(3)이 서로 겹쳐지는 범위크기에 따라 환원가스가 하부로부터 공급되는 상기 노즐공(72)의 출구경크기를 조절할수 있도록 상기 반응로(20)(30)(40)의 외부측에 미도시된 고정부재로서 고정설치되는 실린더부재(2)의 로드선단에 연결구성된다.

이에 따라, 상기 반응로(20)(30)(40)에 각각 설치되어 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 상,하부에서의 차압을 측정하는 차압계(미도시)의 차압측정값과 설정된 차압값을 비교하여 정상적인 유동층 차압의 0.5배 이상이거나 0.2배이하일 때상기 노즐공(72)의 출구경 크기를 전후이동가능한 조절판(1)의 조절공(3)에 의해서 넓히거나 좁힘으로서, 이를 통하여 환원반응이 이루어지는 유동층내의 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 상,하부에서의 차압을 정상적인 유동층 차압의 0.2 내지 0.5배로 유지하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 반응로(20)(30)(40)의 내벽을 관통하는 상기 실린더부재(2)의 로드에는 연결부위의 틈새를 통한 내부압이 유출되는 것을 방지할 수 있도록 내열성 실링부재(9)가 설치되는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제 1,2 및 3가스도관(11)(22)(32)에는 상기 노즐부재(72)의 출구경이 미분 및 광석에 의하여 완전히 밀폐되어 차압상승이 급격히 높이거나, 상기 조절판(1)이 열팽창등에 의해 정상적으로 작동되지 않을 때 광석의 장입을 중단하고 상기 제 1,2 및 3광석도관(23)(33)(43)의 차단밸브(21)(31)(41)를 닫아 광석흐름이 중단된 상태에서 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 하부측으로 상온의 질소퍼징가스를 공급할 수 있도록 질소밸브(28)(38)(48)를 갖는 질소퍼징용 가스라인(29)(39)(49)을 연결구성한다.

이때, 상기 질소퍼지용 가스라인(29)(39)(49)을 통하여 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 하부측으로 공급되는 질소가스공급압력은 상기 환원가스가 역류하는 것을 방지하도록 환원가스의 공급압력보다 커야 한다.

상술한 바와같은 본 발명의 작용 및 효과에 대해서 설명한다.

도 3에 도시한 바와같이, 광석은 장입빈(60)으로부터 광석 장입관(63)을 통하여 예열로(40), 예비환원로(30) 및 최종환원로(20)를 거치면서 유동환원되어 용융가스화로(10)로 장입되고, 환원가스는 용융가스화로(10)에서 생성된 가스상승관을 통하여 최종환원로(20), 예비환원로(30) 및 예열로(40)의 각 하부로 차례대로 통입되면서 각 반응기의 제 1, 2, 3 분산판(24)(34)(44)을 통하여 유동층으로 공급되는 일련의 용융환원공정을 수행한다.

이러한 과정에서 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 하부측으로 통입되는 환원가스내 함유된 미분 및 상기 각 분산판(24)(34)(44)상부의 유동층에서 떨어지는 낙광등에 의해 상기 분산판(24)(34)(44)의 각 노즐부재(72)의 노즐공(72a)이 점차 막히면서 상기 분산판(24)(34)(44)에서의 차압이 증가하면, 정상적인 광석의 흐름 및 유동이 불가능해진다.

이러한 각 분산판(24)(34)(44)에서의 차압을 측정하는 차압계로서 차압을 감시하면서 용융환원공정을 수행하는 도중, 상기 차압계로서 측정된 차압값과 사전에 설정된 정상적인 유동층 차압을 서로 비교하여 그 차이가 0.5배 이상이 되었을 경우, 해당하는 반응로(20)(30)(40)의 분산판(24)(34)(44) 상부면에 설치된 조절판(1)을 이동시켜 상기 노즐공(72a)과 분산판(1)의 조절공(3)이 서로 겹쳐지면서 형성되는 노즐공의 출구경크기를 확대하여 분산판에서의 차압을 저하시킨다.

즉, 상기 분산판(24)(34)(44)에서의 차압값이 정상적인 유동층 차압의 0.5배이상으로 증가함이 검지되면, 해당하는 반응로(20)(30)(40)에 설치된 실린더부재(2)를 작동시켜 해당하는 분산판(24)(24)(44)상부에 전후이동가능하도록 조립된 조절판(1)을 도면상 좌측으로 이동시킨다. 이러한 경우, 상기 조절판(1)에 형성된 조절공(3)과 이와 대응하는 노즐부재(72)의 노즐공(72a)과의 겹침부위가 확대되면서 노즐공의 출구경을 확대시킬수 있기 때문에, 해당하는 분산판(24)(34)(44)에서의 상하부 차압을 저하시켜, 이로 인하여 차압을 정상적으로 낮출수 있는 것이다.

반면에, 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)에서 측정되는 차압이 정상적인 유동층 차압의 0.2배 이하로 저하되면, 상기와 반대로 해당하는 실린더부재(2)를 후진작동시켜 이에 연결된 조절판(1)을 도면상 우측으로 이동시킴으로서, 상기 조절판(1)의 조절공(3)과 노즐부재(72)의 노즐공(72a)사이의 겹침부위를 감소시켜 노즐공의 출구경 크기를 축소시킨다. 이러한 경우, 상기 분산판에서의 상하부 차압을 상승시켜 정상적인 값으로 조절할 수 있다.

따라서, 상기 조절판(1)은 상기 분산판(24)(34)(44)의 차압이 정상적인 유동층 차압의 0.2 내지 0.5배로 유지할 수 있도록 실린부재(2)에 의해서 전후작동되고, 상기 실린더부재(2)는 차압계에서 측정한 측정차압과 정상적인 차압값을 서로 비교하는 제어기에 의해 전,후동작이 제어되는 작동부재이다.

또한, 상기와 같은 용융환원공정중 상기 조절판(1)이 장시간 고온의 환원가스에 의해 열팽창되어 전후작동이 원활하게 이루어지지 않거나, 상기 분산판(24)(34)(44)의 차압이 급증하여 정상적인 유동층 차압과 거의 동일한 값까지 증가하면, 광석장입을 중단하고 제 1,2 및 3광석도관(23)(33)(43)의 차단밸브(21)(31)(41)를 작동시켜 광석흐름을 중단한 상태에서 해당하는 반응로(20)(30)(40)기의 하부에 연통설치된 제 1,2 및 3가스도관(11)(22)(32)으로부터 분기된 질소퍼징용 가스라인(29)(39)(49)의 질소밸브(28)(38)(48)를 개방한다.

이러한 경우, 상온의 질소가스가 해당하는 상기 분산판(24)(34)(44)하부측으로 공급되어 노즐부재(72)를 통과하여 유동층내로 공급되면서 실린더부재(2)에 의한 전후이동이 원활하게 이루어지도록 열팽창된 조절판(1)을 냉각시킨다. 연속하여 상기 질소퍼지가스에 의한 상기 조절판(1)의 냉각이 정상적으로 이루어지면, 상기 질소밸브(28)(38)(38)를 닫아 더 이상의 질소가스의 공급은 중단하고, 닫았던 차단밸브(21)(31)(41)를 개방하여 광석공급흐름을 재개하여 정상적인 조업이 다시 이루어지도록 한다.

<실시예>

1) 유동층 반응로 사양 및 조건

가. 예열로, 예비환원로, 최종환원로

- 축소부(분산판) 내경 : 0.3m

- 확대부 내경 : 0.7m

- 원추형 하부 각도 : 4도

- 경사부 높이(분산판 표면에서) : 4.0m

- 원통형 상부 높이 : 2.5m

- 분산판 하부 깊이 : 3.0m

나. 노즐

- 노즐 출구부 내경 : 10 mm

- 노즐 출구경 조절 범위 : 7∼10mm

다. 원료

분철광석(-8mm)

- 화학적 조성 : T. Fe : 62.17%, FeO : 0.51%, SiO₂: 5.5%, TiO₂: 0.11%,

Mn : 0.05%, S :0.012%, P : 0.65%, 결정수 : 2.32%

- 입도 분포 : -0.05mm : 4.6%, 0.05∼0.15mm : 5.4%, 0.15∼0.5mm : 16.8%,

0.5∼4.75mm : 59.4%, 4.75∼8mm : 13.8%

환원가스

- 화학조성

CO : 65%, H₂: 25%, CO₂: 5%, N₂: 5%

- 유동층내 온도

최종환원로: 850℃, 예비환원로 : 770℃, 예열로 : 680℃

- 유속

1.3∼1.5 m/s(반응기 1 분산판기준)

- 압력

2.5∼3.0 bar,g

- 미분첨가량

최고 100 g/N㎥

상기와 같은 유동층 반응로 및 실험 조건으로 실험시 통입가스내 다량의 미분(100g/N㎥)을 첨가하여 실험을 수행한 경우에는 시간의 경과와 함께 분산판 차압이 증가되고 이때, 조절판(1)을 실린더부재(2)로서 전후이동시켜 노즐부재(72)의 노즐공의 출구경 크기를 조절한 결과, 분산판 차압은 최고 250mbar에서 100mbar이하로 저하됨을 감지하였다.

또한, 상기 조절판(1)을 사용하지 않고 다량의 미분(100g/N㎥)만을 첨가하여 실험을 진행시킨 경우에는 실험지속시간이 약 40시간이었으나, 조절판(1)을 사용하여 분산판 차압을 조절하면서 실험을 진행시킨 경우는 60시간이상 지속하는 것이 가능하였다. 특히 각 반응로 하부의 질소퍼징용 가스라인을 연결하여 실험을 진행시킬 경우에는 상기 조절판(1)이 작동이 원활할 뿐만 아니라 실험 지속시간도 연장되어 70시간 이상도 가능함을 알수있었다.

상술한 바와같은 본 발명에 의하면, 반응로에 설치되는 분산판의 상부면에 다수개의 조절공을 갖는 조절판과, 이를 전후이동시키는 실린더부재를 갖춤으로서 조절공과 겹쳐지는 노즐부재의 노즐공 출구경크기를 조절하여 분산판의 차압을 일정하게 유지하여 용철제조공정을 조업중단없이 안정적으로 수행하고, 장기조업을 보장할 수 있는 효과가 얻어진다.

본 발명은 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진자는 용이하게 알수 있음을 밝혀두고자 한다.

Claims (3)

1. 예열로(40), 예비환원로(30), 최종환원로(20)로 이루어진 3단 유동층 반응로로, 이와 연결되는 용융가스화로(10)로 구성되고, 광석 및 환원가스의 흐름이 이루어지는 제 1,2,3광석도관(23)(33)(43), 제 1,2,3가스도관(11)(22)(32)을 갖추며, 상기 환원가스가 통과하는 노즐부재(72)를 복수개 갖는 제 1,2 및 3차단판(24)(34)(44)을 상기 반응로(20)(30)(40)에 각각 갖추는 한편, 배가스관(61)을 통해 최종배출되는 배가스가 통과하는 습식제진기(70)를 갖추어 용철을 제조하는 설비에 있어서,

   상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 상부면에는 상기 노즐부재(72)의 노즐공(72a)과 겹쳐지는 조절공(3)을 복수개 천공한 조절판(1)을 수평이동가능하게 갖추고, 상기 조절판(1)은 상기 노즐공(72a)과 조절공(3)이 서로 겹쳐지는 범위에 비례하여 상기 노즐공(72a)의 출구경크기를 조절하여 이를 통한 분산판 상하부의 차압을 조절할 수 있도록 실린더부재(2)의 로드선단에 연결구성됨을 특징으로 하는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 노즐공(72)의 출구경 크기는 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 차압을 정상적인 유동층 차압의 0.2 내지 0.5배로 유지할수 있도록 상기 실린더부재(2)에 의해서 전후이동되는 조절판(1)의 조절공(3)에 의해서 넓혈지거나 좁혀짐을 특징으로 하는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 제 1,2 및 3가스도관(11)(22)(32)에는 상기 노즐부재(72)의 출구경이 미분 및 광석에 의하여 완전히 밀폐되어 차압상승이 급격히 높이거나, 상기 조절판(1)이 열팽창되어 정상적으로 작동되지 않을 때 광석 장입중단 및 상기 제 1,2 및 3광석도관(23)(33)(43)의 차단밸브(21)(31)(41)를 닫아 광석흐름이 중단된 상태에서 상기 제 1,2 및 3분산판(24)(34)(44)의 하부측으로 상온의 질소퍼징가스를 공급할 수 있도록 질소밸브(28)(38)(48)를 갖는 질소퍼징용 가스라인(29) (39)(49)를 연결구성함을 특징으로 하는 유동층 반응로의 분산판 차압조절장치.