KR100281125B1 - Nonvolatile Ferroelectric Memory Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 레퍼런스 셀 및 메인 셀에 의한 비트라인 유도전압을 일정하게 유지시키고 안정된 센싱동작 구현을 위한 것으로, 복수개의 서브 셀 어레이들과, 상기 각 서브 셀 어레이들을 가로지르는 방향으로 형성되는 복수개의 메인 글로벌 비트라인 및 적어도 한 쌍의 레퍼런스 글로벌 비트라인들과, 상기 각 메인 글로벌 비트라인 및 레퍼런스 글로벌 비트라인에 대응하여 형성되는 메인 로컬 비트라인 및 레퍼런스 로컬 비트라인들과, 상기 각 로컬 비트라인과 해당 글로벌 비트라인 사이에 구성되는 스위칭 소자들을 포함하여 이루어지는 메인 셀 어레이부; 상기 메인 셀 어레이부의 하부 또는 상부에 형성되며 상기 한 쌍의 레퍼런스 글로벌 비트라인중 일비트라인을 통해 인가되는 신호를 센싱하여 레퍼런스 전압을 출력하는 레퍼런스 센스앰프로 구성되는 레퍼런스 비트라인 컨트롤부; 상기 레퍼런스 비트라인 컨트롤부의 일측에 형성되며 상기 메인 글로벌 비트라인마다 연결되어 상기 레퍼런스 전압을 받아 해당 글로벌 비트라인을 통해 인가되는 신호를 센싱하는 복수개의 메인 센스앰프들로 구성되는 메인 비트라인 컨트롤부; 상기 메인 셀 어레이부의 일측에 형성되어 셀 선택을 위한 구동신호를 출력하는 워드라인 구동부; 상기 메인 셀 어레이부의 다른 일측에 형성되어 상기 워드라인 구동부의 구동신호와 함께 셀 선택을 위한 구동신호를 출력하는 플레이트라인 구동부를 포함하여 구성된다.The present invention is to implement a stable sensing operation and to maintain a constant bit line induced voltage by the reference cell and the main cell, a plurality of sub-cell array and a plurality of main is formed in a direction crossing each of the sub-cell array A global bitline and at least one pair of reference global bitlines, a main local bitline and reference local bitlines formed corresponding to each of the main global bitline and the reference global bitline, and each of the local bitlines A main cell array unit including switching elements configured between global bit lines; A reference bit line control unit formed at a lower portion or an upper portion of the main cell array unit and configured as a reference sense amplifier configured to sense a signal applied through one bit line among the pair of reference global bit lines and output a reference voltage; A main bit line control unit formed at one side of the reference bit line control unit and configured to include a plurality of main sense amplifiers connected to each of the main global bit lines to receive the reference voltage and sense a signal applied through the corresponding global bit line; A word line driver formed on one side of the main cell array unit and outputting a driving signal for cell selection; And a plate line driver formed on the other side of the main cell array unit to output a drive signal for cell selection together with a drive signal of the word line driver.
Description
본 발명은 반도체 메모리장치에 관한 것으로 특히, 비휘발성 강유전체 메모리장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly, to a nonvolatile ferroelectric memory device.
일반적으로 반도체 기억소자로 많이 사용되는 DRAM(Dynamic Random Access Memory)정도의 데이터 처리속도를 갖고, 전원의 오프(off)시에도 데이터가 보존되는 강유전체 메모리 즉, FRAM(Ferroelectric Random Access Memory)이 차세대 기억소자로 주목받고 있다.A next generation memory is a ferroelectric memory, or FRAM (Ferroelectric Random Access Memory), which has a data processing speed of about DRAM (Dynamic Random Access Memory), which is commonly used as a semiconductor memory device, and preserves data even when the power supply is turned off. It is attracting attention as an element.
FRAM은 DRAM과 거의 유사한 구조를 갖는 기억소자로서 커패시터의 재료로 강유전체를 사용하여 강유전체의 특성인 높은 잔류분극을 이용한 것이다.FRAM is a memory device having a structure almost similar to that of DRAM, and uses a ferroelectric as a material of a capacitor and uses high residual polarization characteristic of the ferroelectric.
이와 같은 잔류분극 특성으로 인해 전계를 제거하여도 데이터가 지워지지 않는다.Due to this residual polarization characteristic, data is not erased even when the electric field is removed.
도 1은 일반적인 강유전체의 히스테리시스 루프를 나타낸 특성도이다.1 is a characteristic diagram showing a hysteresis loop of a general ferroelectric.
도 1에서와 같이, 전계에 의해 유기된 분극이 전계를 제거하여도 잔류분극(또는 자발분극)의 존재로 인하여 소멸되지 않고 일정량(d,a상태)을 유지하고 있는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 1, it can be seen that the polarization induced by the electric field maintains a constant amount (d, a state) without being eliminated due to the presence of residual polarization (or spontaneous polarization) even when the electric field is removed.
상기 d, a상태를 각각 1, 0으로 대응시켜 기억소자로 응용한 것이다.The d and a states correspond to 1 and 0, respectively, and are applied as a memory device.
이하, 종래 기술에 따른 비휘발성 강유전체 메모리소자를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a nonvolatile ferroelectric memory device according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 두 개의 단위 셀로 이루어진 종래 비휘발성 강유전체 메모리 셀의 구성도이다.2 is a block diagram of a conventional nonvolatile ferroelectric memory cell composed of two unit cells.
일방향으로 형성된 워드라인(W/L)과, 워드라인(W/L1과 나란히 형성된 플레이트 워드라인(P/L)(이하, "플레이트 라인"이라 칭함)과, 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)에 교차하는 방향으로 형성된 복수개의 비트라인(...,Bit_n,Bit_n+1,...)들과, 상기 각 비트라인과 상기 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)과의 사이에 단위 셀(C111,C121,...)이 형성된다.Word line W / L formed in one direction, plate word line P / L (hereinafter referred to as "plate line") formed in parallel with word line W / L1, word line W / L and plate A plurality of bit lines (..., Bit_n, Bit_n + 1, ...) formed in a direction crossing the line (P / L), the bit lines, the word lines (W / L) and plate lines Unit cells C111, C121, ... are formed between (P / L).
즉, 단위 셀은 1개의 트랜지스터(T1)과 1개의 강유전체 커패시터(FC1)으로 이루어진다.In other words, the unit cell includes one transistor T1 and one ferroelectric capacitor FC1.
이와 같은 종래 강유전체 메모리 장치에 따른 구동회로를 설명하면 다음과 같다.Referring to the driving circuit according to the conventional ferroelectric memory device as follows.
도 3a 내지 3b는 종래 강유전체 메모리소자를 구동하기 위한 구동회로를 도시하였다.3A to 3B show a driving circuit for driving a conventional ferroelectric memory device.
종래 1T/1C구조의 강유전체 메모리를 구동하기 위한 구동회로는 레퍼런스전압을 발생하는 레퍼런스전압 발생부(1)와, 복수개의 트랜지스터(Q1~Q4), 커패시터(C1)등으로 이루어진다.The driving circuit for driving a ferroelectric memory having a conventional 1T / 1C structure includes a reference voltage generator 1 for generating a reference voltage, a plurality of transistors Q1 to Q4, a capacitor C1, and the like.
상기 레퍼런스전압 발생부(1)에서 출력되는 레퍼런스전압을 바로 센스앰프에 공급할 수가 없으므로 인접한 두 개의 비트라인의 레퍼런스전압을 안정화시키는 레퍼런스전압 안정화부(2)와, 복수개의 트랜지스터(Q6~Q7), 커패시터(C2~C3)등으로 이루어져 인접한 비트라인에 각각 로직값 "1"과 "0"의 레퍼런스전압을 저장하고 있는 제 1 레퍼런스전압 저장부(3)와, 트랜지스터(Q5)로 이루어져 인접한 두 개의 비트라인을 등전위화(Eqalizing)시키는 제 1 이퀄라이저부(4)와, 서로 다른 워드라인 및 플레이트 라인에 연결되어 데이터를 저장하는 제 1 메인 셀 어레이부(5)와, 복수개의 트랜지스터(Q10~Q15), P-센스앰프(PSA)등으로 이루어져 상기 제 1 메인 셀 어레이부(5)의 복수개의 셀 중 상기 워드라인에 의해 선택된 셀의 데이터를 센싱하는 제 1 센스앰프부(6)와, 서로 다른 워드라인 및 플레이트 라인에 연결되어 데이터를 저장하는 제 2 메인 셀 어레이부(7)와, 복수개의 트랜지스터(Q28~Q29) 및 커패시터(C9~C10)등으로 이루어져 인접한 비트라인에 각각 로직값 "1"과 "0"의 레퍼런스전압을 저장하고 있는 제 2 레퍼런스전압 저장부(8)와, 복수개의 트랜지스터(Q16~Q25), N-센스앰프(NSA)등으로 이루어져 상기 제 2 메인 셀 어레이부(7)의 데이터를 센싱하여 출력하는 제 2 센스앰프부(9)를 포함하여 구성된다.Since the reference voltage output from the reference voltage generator 1 cannot be directly supplied to the sense amplifier, a reference voltage stabilizer 2 for stabilizing the reference voltages of two adjacent bit lines, a plurality of transistors Q6 to Q7, The first reference voltage storage unit 3 and the transistors Q5 which store the reference voltages of logic values "1" and "0" in adjacent bit lines formed of capacitors C2 to C3, respectively, A first equalizer 4 for equalizing the bit lines, a first main cell array 5 connected to different word lines and plate lines for storing data, and a plurality of transistors Q10 to Q15 And a first sense amplifier unit 6 configured to sense data of a cell selected by the word line from among a plurality of cells of the first main cell array unit 5, including a P-sense amplifier (PSA), and the like. Other A second main cell array unit 7 connected to the draw line and the plate line to store data, and a plurality of transistors Q28 to Q29, capacitors C9 to C10, and the like, each have a logic value of "1". A second reference voltage storage unit 8 storing reference voltages of " and " and " 0 ", a plurality of transistors Q16 to Q25, an N-sense amplifier NSA, and the like. And a second sense amplifier unit 9 for sensing and outputting data of 7).
이와 같이 구성된 종래 강유전체 메모리소자에 따른 데이터 입출력 동작은 다음과 같다.The data input / output operation according to the conventional ferroelectric memory device configured as described above is as follows.
도 4는 종래 기술에 따른 강유전체 메모리소자의 쓰기 모드(write mode)의 동작을 나타낸 타이밍도이고, 도 5는 읽기 모드(read mode)의 동작을 나타낸 타이밍도이다.4 is a timing diagram illustrating an operation of a write mode of a ferroelectric memory device according to the related art, and FIG. 5 is a timing diagram illustrating an operation of a read mode.
먼저, 쓰기 모드의 경우, 외부에서 인가되는 칩 인에이블신호(CSBpad)가 하이(high)에서 로우(low)로 활성화되고, 동시에 쓰기 인에이블신호(WEBpad)를 하이에서 로우로 인가하면 쓰기 모드가 시작된다.First, in the write mode, the chip enable signal CSBpad applied from the outside is activated from high to low. At the same time, if the write enable signal WEBpad is applied from high to low, the write mode is activated. Begins.
이어, 쓰기 모드에서의 어드레스 디코딩이 시작되면, 해당 워드라인에 인가되는 펄스가 "로우"에서 "하이"로 천이되어 셀이 선택된다.Then, when address decoding starts in the write mode, a pulse applied to the corresponding word line transitions from "low" to "high" so that the cell is selected.
이와 같이, 워드라인이 "하이"상태를 유지하고 있는 구간에서 해당 플레이트 라인에는 차례로 일정구간의 "하이"신호와 일정구간의 "로우"신호가 인가된다.As described above, in the section in which the word line maintains the "high" state, the "high" signal and the "low" signal of the predetermined section are sequentially applied to the corresponding plate line.
그리고 선택된 셀에 로직값 "1" 또는 "0"을 쓰기 위하여 해당 비트라인에 쓰기 인에이블신호(WEBpad)에 동기되는 "하이" 또는 "로우"신호를 인가한다.In order to write a logic value "1" or "0" to the selected cell, a "high" or "low" signal is applied to the corresponding bit line in synchronization with the write enable signal WEBpad.
즉, 비트라인에 "하이" 신호를 인가하고, 워드라인에 인가되는 신호가 "하이" 상태인 구간에서 플레이트 라인에 인가되는 신호가 "로우"이면 강유전체 커패시터에는 로직값 "1"이 기록된다.That is, when the signal "high" is applied to the bit line and the signal applied to the plate line is "low" in the period in which the signal applied to the word line is "high", the logic value "1" is written in the ferroelectric capacitor.
그리고 비트라인에 "로우" 신호를 인가하고, 플레이트 라인에 인가되는 신호가 "하이" 신호이면 강유전체 커패시터에는 로직값 "0"이 기록된다.When a low signal is applied to the bit line and the signal applied to the plate line is a high signal, a logic value "0" is written to the ferroelectric capacitor.
이와 같은 쓰기 모드의 동작으로 셀에 저장된 데이터를 읽어내기 위한 동작은 다음과 같다.The operation for reading data stored in the cell by the operation of the write mode is as follows.
먼저, 외부에서 칩 인에이블신호(CSBpad)를 "하이"에서 "로우"로 활성화시키면, 해당 워드라인이 선택되기 이전에 모든 비트라인은 이퀄라이저 신호에 의해 "로우" 전압으로 등전위 된다.First, when the chip enable signal CSBpad is externally activated from "high" to "low", all bit lines are equipotentially "low" voltage by the equalizer signal before the corresponding word line is selected.
즉, 도 3a 내지 도 3b에서 이퀄라이저부(4)에 "하이" 신호를 인가하고, 트랜지스터(Q18,Q19)에 "하이" 신호를 인가하면, 비트라인은 상기 트랜지스터(Q19)를 통해 접지되므로 저전압(Vss)으로 등전위 된다.That is, when the "high" signal is applied to the equalizer unit 4 and the "high" signal is applied to the transistors Q18 and Q19 in FIGS. 3A to 3B, since the bit line is grounded through the transistor Q19, a low voltage is applied. Equipotential to (Vss).
그리고 트랜지스터(Q5,Q18,Q19)를 오프시켜 각 비트라인을 비활성화시킨 다음, 어드레스를 디코딩하고, 디코딩된 어드레스에 의해 해당 워드라인에는 "로우" 신호가 "하이" 신호로 천이되어 해당 셀을 선택한다.The transistors Q5, Q18, and Q19 are turned off to deactivate each bit line, and then the address is decoded. The decoded address causes a "low" signal to transition to a "high" signal to select the corresponding cell. do.
선택된 셀의 플레이트 라인에 "하이" 신호를 인가하여 강유전체 메모리에 저장된 로직값 "1"에 상응하는 데이터를 파괴시킨다.A "high" signal is applied to the plate line of the selected cell to destroy the data corresponding to the logic value "1" stored in the ferroelectric memory.
만약, 강유전체 메모리에 로직값 "0"이 저장되어 있다면 그에 상응하는 데이터는 파괴되지 않는다.If the logic value "0" is stored in the ferroelectric memory, the corresponding data is not destroyed.
이와 같이 파괴된 데이터와 파괴되지 않은 데이터는 상기한 바와 같은 히스테리시스 루프의 원리에 의해 서로 다른 값을 출력하게 되어 센스앰프는 로직값 "1" 또는 "0"을 센싱하게 된다.The destroyed data and the unbroken data are outputted with different values according to the principle of the hysteresis loop as described above, so that the sense amplifier senses a logic value "1" or "0".
즉, 데이터가 파괴된 경우는 도 1의 히스테리시스 루프에서처럼 d에서 f로 변경되는 경우이고, 데이터가 파괴되지 않은 경우는 a에서 f로 변결되는 경우이다.In other words, when data is destroyed, it is a case where d is changed from f to f as in the hysteresis loop of FIG. 1, and when data is not destroyed, it is when a case is changed from a to f.
따라서, 일정시간이 경과한 후에 센스앰프가 인에이블되면, 데이터가 파괴된 경우는 증폭되어 로직값 "1"을 출력하고, 데이터가 파괴되지 않는 경우는 로직값 "0"을 출력한다.Therefore, if the sense amplifier is enabled after a certain time has elapsed, it is amplified when data is destroyed and outputs a logic value "1", and when data is not destroyed, a logic value "0" is output.
이와 같이, 센스앰프에서 데이터를 출력한 후에는 원래의 데이터로 복원하여야 하므로 해당 워드라인에 "하이" 신호를 인가한 상태에서 플레이트 라인을 "하이"에서 "로우"로 비활성화시킨다.As described above, after the data is output from the sense amplifier, the original data must be restored to deactivate the plate line from "high" to "low" while the "high" signal is applied to the corresponding word line.
이와 같은 1T/1C구조를 갖는 종래 강유전체 메모리소자에 있어서는 데이터 입출력 동작이 레퍼런스셀이 메인 셀보다 더욱 많은 동작을 하여야 한다.In the conventional ferroelectric memory device having such a 1T / 1C structure, the data input / output operation requires more operation of the reference cell than the main cell.
상기와 같은 종래 강유전체 메모리 장치는 다음과 같은 문제점이 있었다.The conventional ferroelectric memory device as described above has the following problems.
강유전체막의 특성이 완벽하게 확보되지 않은 상태에서 레퍼런스 셀 하나가 약 수백배 이상의 많은 메인 셀의 읽기 동작에 사용되도록 구성되어 있기 때문에 레퍼런스 셀이 메인 셀보다 더욱 많은 동작을 하여야 하므로 레퍼런스 셀의 열화특성이 급격히 악화되어 레퍼런스 전압이 안정하지 못하다.Since the reference cell is configured to be used for the read operation of many main cells more than several hundred times when the characteristics of the ferroelectric film are not completely secured, the reference cell needs to operate more than the main cell. The sharp deterioration causes the reference voltage to become unstable.
따라서, 소자의 동작특성을 악화시키고, 수명을 단축시킨다.Therefore, the operating characteristics of the device are deteriorated and the life is shortened.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 메인 셀과 레퍼런스 셀의 억세스되는 수를 같게함으로써 레퍼런스 셀에 의한 비트라인 유도전압과 메인 셀에 의한 비트라인 유도전압을 일정하게 유지시켜 동작특성을 향상시키고, 수명을 연장시킬 수 있는 비휘발성 강유전체 메모리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problem, and keeps the bit line induced voltage by the reference cell and the bit line induced voltage by the main cell constant by equalizing the number of accesses of the main cell and the reference cell. It is an object of the present invention to provide a nonvolatile ferroelectric memory device capable of improving operating characteristics and extending lifespan.
도 1은 일반적인 강유전체의 히스테리시스 루프를 나타낸 특성도1 is a characteristic diagram showing a hysteresis loop of a typical ferroelectric
도 2는 종래 기술의 비휘발성 강유전체 메모리소자에 따른 셀 구성도2 is a cell diagram illustrating a conventional nonvolatile ferroelectric memory device.
도 3a 내지 3b는 종래 강유전체 메모리소자를 구동하기 위한 구동회로3A to 3B illustrate a driving circuit for driving a conventional ferroelectric memory device.
도 4는 종래 기술에 따른 강유전체 메모리소자의 쓰기 모드(write mode)의 동작을 나타낸 타이밍도4 is a timing diagram illustrating an operation of a write mode of a ferroelectric memory device according to the related art.
도 5는 읽기 모드(read mode)의 동작을 나타낸 타이밍도5 is a timing diagram illustrating an operation of a read mode.
도 6은 본 발명의 비휘발성 강유전체 메모리 장치의 제 1 실시예에 따른 셀 어레이 구성도6 is a configuration diagram of a cell array according to a first embodiment of the nonvolatile ferroelectric memory device of the present invention.
도 7은 도 6을 반복적으로 구성하였을 경우의 셀 어레이를 나타낸 블록구성도FIG. 7 is a block diagram illustrating a cell array when the FIG. 6 is repeatedly configured.
도 8은 복수개의 서브 셀 어레이부들로 구성되는 메인 셀 어레이부의 구성도8 is a configuration diagram of a main cell array unit including a plurality of sub cell array units;
도 9는 도 6의 메인 셀 어레이부의 구성도9 is a configuration diagram of a main cell array unit of FIG. 6;
도 10은 도 8의 서브 셀 어레이부의 상세 구성도FIG. 10 is a detailed configuration diagram of the subcell array unit of FIG. 8.
도 11은 도 10의 "A"부분의 확대도11 is an enlarged view of a portion “A” of FIG. 10.
도 12는 도 6의 구성블록중에서 메인 셀 어레이부와 메인 비트라인 컨트롤부 및 레러펀스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 도면FIG. 12 is a block diagram of the main cell array unit, the main bit line control unit, and the response bit line control unit in the configuration block of FIG. 6;
도 13은 도 6의 구성블록중에서 메인 비트라인 컨트롤부와 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 도면FIG. 13 is a diagram illustrating the main bit line control unit and the reference bit line control unit in more detail among the building blocks of FIG. 6; FIG.
도 14는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비트라인 프리챠지 회로부를 보다 상세하게 나타낸 도면14 is a diagram illustrating in detail a bit line precharge circuit according to a first exemplary embodiment of the present invention.
도 15a는 본 발명에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 1 실시예를 나타낸 도면15A is a view showing a first embodiment of a bit line precharge level supply unit according to the present invention;
도 15b는 본 발명에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 2 실시예를 나타낸 도면15B is a view showing a second embodiment of the bit line precharge level supply unit according to the present invention;
도 15c는 본 발명에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 3 실시예를 나타낸 도면15C is a view showing a third embodiment of the bit line precharge level supply unit according to the present invention;
도 16a는 본 발명에 따른 레퍼런스 센스앰프를 간략화한 구성블록도16A is a block diagram illustrating a simplified configuration of a reference sense amplifier according to the present invention.
도 16b는 본 발명에 따른 레퍼런스 센스앰프의 다른 실시예의 구성블록도16B is a block diagram of another embodiment of a reference sense amplifier according to the present invention;
도 17a는 본 발명에 따른 레벨 쉬프터의 제 1 실시예를 나타낸 도면17A shows a first embodiment of a level shifter in accordance with the present invention;
도 17b는 본 발명에 따른 레벨 쉬프터의 제 2 실시예를 나타낸 도면Figure 17b illustrates a second embodiment of a level shifter in accordance with the present invention.
도 18은 본 발명 제 1 실시예의 비휘발성 강유전체 메모리 장치에 따른 센스앰프의 제 1 실시예를 상세하게 나타낸 도면FIG. 18 is a detailed view of a first embodiment of a sense amplifier in accordance with a nonvolatile ferroelectric memory device of the first embodiment of the present invention;
도 19는 본 발명 제 1 실시예의 비휘발성 강유전체 메모리 장치에 따른 센스앰프의 제 2 실시예를 나타낸 도면19 illustrates a second embodiment of a sense amplifier in accordance with a nonvolatile ferroelectric memory device of the first embodiment of the present invention.
도 20은 도 18의 센스앰프에 따른 동작타이밍도20 is an operation timing diagram according to the sense amplifier of FIG. 18.
도 21은 도 18의 센스앰프에 따른 리도모드시 동작타이밍도21 is an operation timing diagram in a lido mode according to the sense amplifier of FIG. 18.
도 22는 도 18의 센스앰프에 따른 라이트모드시 동작타이밍도FIG. 22 is an operation timing diagram in a write mode according to the sense amplifier of FIG. 18.
도 23a는 도 19의 센스앰프에 따른 동작타이밍도23A is an operation timing diagram according to the sense amplifier of FIG. 19.
도 23b는 도 19의 센스앰프에서 사용되는 신호들과 도 17b의 레벨쉬프터에서 사용되는 REFCON신호를 비교설명한 도면FIG. 23B is a view illustrating comparison between signals used in the sense amplifier of FIG. 19 and the REFCON signal used in the level shifter of FIG. 17B.
도 24는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 강유전체 메모리장치에 따른 셀 어레이의 구성도24 is a configuration diagram of a cell array in a nonvolatile ferroelectric memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 25는 도 24의 구성중 메인 셀 어레이부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 도면FIG. 25 is a diagram illustrating the main cell array unit in the configuration of FIG. 24 in more detail.
도 26은 도 24의 구성중 제 1 메인 비트라인 컨트롤부 및 제 1 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 도면FIG. 26 is a diagram illustrating the first main bit line control unit and the first reference bit line control unit in more detail.
도 27은 도 24의 구성중 제 2 메인 비트라인 컨트롤부 및 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 도면FIG. 27 is a diagram illustrating in more detail the second main bit line control unit and the second reference bit line control unit in the configuration of FIG. 24; FIG.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings
61,201: 메인 셀 어레이부 63 : 워드라인 구동부61,201: main cell array unit 63: word line driver
65 : 플레이트 라인 구동부 67 : 메인 비트라인 컨트롤부65: plate line driver 67: main bit line control unit
69 : 레퍼런스 비트라인 컨트롤부69: reference bit line control unit
61_1,61_2,61_3,... : 서브 셀 어레이부61_1,61_2,61_3, ...: sub cell array unit
75_1,75_2,... : 메인 센스앰프 77a : 레퍼런스 센스앰프75_1,75_2, ...: Main sense amplifier 77a: Reference sense amplifier
71_1,71_2,... : 비트라인 이퀄라이즈 스위치부71_1,71_2, ...: bit line equalization switch
72_1,72_2,... : 비트라인 프리챠지 스위칭부72_1,72_2, ...: bit line precharge switching unit
100 : 제 1 증폭부 103 : 제 2 증폭부100: first amplifying unit 103: second amplifying unit
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 비휘발성 강유전체 메모리장치는 복수개의 서브 셀 어레이들과, 상기 각 서브 셀 어레이들을 가로지르는 방향으로 형성되는 복수개의 메인 글로벌 비트라인 및 적어도 한 쌍의 레퍼런스 글로벌 비트라인들과, 상기 각 메인 글로벌 비트라인 및 레퍼런스 글로벌 비트라인에 대응하여 형성되는 메인 로컬 비트라인 및 레퍼런스 로컬 비트라인들과, 상기 각 로컬 비트라인과 해당 글로벌 비트라인 사이에 구성되는 스위칭 소자들을 포함하여 이루어지는 메인 셀 어레이부; 상기 메인 셀 어레이부의 하부 또는 상부에 형성되며 상기 한 쌍의 레퍼런스 글로벌 비트라인중 일 비트라인을 통해 인가되는 신호를 센싱하여 레퍼런스 전압을 출력하는 레퍼런스 센스앰프로 구성되는 레퍼런스 비트라인 컨트롤부; 상기 레퍼런스 비트라인 컨트롤부의 일측에 형성되며 상기 메인 글로벌 비트라인마다 연결되어 상기 레퍼런스 전압을 받아 해당 글로벌 비트라인을 통해 인가되는 신호를 센싱하는 복수개의 메인 센스앰프들로 구성되는 메인 비트라인 컨트롤부; 상기 메인 셀 어레이부의 일측에 형성되어 셀 선택을 위한 구동신호를 출력하는 워드라인 구동부; 그리고 상기 메인 셀 어레이부의 다른 일측에 형성되어 상기 워드라인 구동부의 구동신호와 함께 셀 선택을 위한 구동신호를 출력하는 플레이트 라인 구동부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.A nonvolatile ferroelectric memory device of the present invention for achieving the above object is a plurality of sub-cell arrays, a plurality of main global bit lines and at least one pair of reference global bits formed in a direction crossing each of the sub-cell arrays Lines, main local bit lines and reference local bit lines formed corresponding to the main global bit lines and the reference global bit lines, and switching elements configured between the local bit lines and the corresponding global bit lines. A main cell array unit; A reference bit line control unit formed at a lower portion or an upper portion of the main cell array unit and configured as a reference sense amplifier configured to sense a signal applied through one bit line among the pair of reference global bit lines and output a reference voltage; A main bit line control unit formed at one side of the reference bit line control unit and configured to include a plurality of main sense amplifiers connected to each of the main global bit lines to receive the reference voltage and sense a signal applied through the corresponding global bit line; A word line driver formed on one side of the main cell array unit and outputting a driving signal for cell selection; And a plate line driver formed on the other side of the main cell array unit to output a drive signal for cell selection together with a drive signal of the word line driver.
이하, 본 발명의 비휘발성 강유전체 메모리장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a nonvolatile ferroelectric memory device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비휘발성 강유전체 메모리장치에 따른 셀 어레이를 나타낸 블록구성도이다.6 is a block diagram illustrating a cell array according to a nonvolatile ferroelectric memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 6에 도시한 바와 같이, 메인 셀 어레이부(61), 상기 메인 셀 어레이부(61)의 일측에 형성된 워드라인 드라이버부(63), 상기 메인 셀 어레이부(61)의 또다른 일측에 형성된 플레이트 라인 구동부(65)와, 상기 메인 셀 어레이부(61)의 하측에 형성된 메인 비트라인 컨트롤부(67), 상기 메인 비트라인 컨트롤부(67)의 일측에 형성된 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(69)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 6, the main cell array unit 61, the word line driver unit 63 formed on one side of the main cell array unit 61, and the other side of the main cell array unit 61 are formed. A plate line driver 65, a main bit line control unit 67 formed below the main cell array unit 61, and a reference bit line control unit 69 formed on one side of the main bit line control unit 67. It is configured to include.
여기서, 상기 메인 셀 어레이부(61)는 내부적으로 또다시 여러개의 셀 어레이부들로 이루어져 있다.Here, the main cell array unit 61 is composed of several cell array units again internally.
이와 같은 도 6의 구성을 반복적으로 구성하면 도 7과 같은 구조를 갖는다.When the configuration of FIG. 6 is repeatedly configured, the structure shown in FIG. 7 is obtained.
한편, 도 8은 본 발명에 따른 메인 셀 어레이부의 상세 구성도로써, 앞에서도 언급한 바와 같이, 메인 셀 어레이부는 복수개의 셀 어레이부(이하, "서브 셀 어레이부"라 칭함)로 구성된다.8 is a detailed configuration diagram of the main cell array unit according to the present invention. As described above, the main cell array unit includes a plurality of cell array units (hereinafter, referred to as a “sub cell array unit”).
이와 같이 메인 셀 어레이부는 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,61_3,...61_n)들로 구성되며 2개의 서브 셀 어레이부가 동시에 활성화되지는 않는다.As such, the main cell array unit is composed of the sub cell array units 61_1, 61_2, 61_3,... 61_n, and the two subcell array units are not activated at the same time.
도 9는 도 8을 보다 상세하게 나타낸 도면이다.9 is a view illustrating FIG. 8 in more detail.
도 9에 도시한 바와 같이, 각 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,...)들을 가로질러 복수개의 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)들이 구성된다.As shown in FIG. 9, a plurality of global bit lines Blg_n, Blg_n + 1, ... are formed across the sub-cell array units 61_1, 61_2,...
그리고 각 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,...)내에는 각 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)에 대응하여 로컬 비트라인(BLL1_n,BLL2_n,...,BLLn_n)들이 구성된다.In addition, the local bit lines BLL1_n, BLL2_n, ..., BLLn_n correspond to the global bit lines BGL_n, Blg_n + 1, ... in the sub-cell array units 61_1, 61_2, ..., respectively. It is composed.
즉, 각 로컬 비트라인과 글로벌 비트라인 사이에는 스위칭소자(SW11,SW12,...SW1n)(SW21,SW22,...SW2n)(SWn1,SWn2,...SWnn)가 구성되어 스위칭소자에 의해 로컬 비트라인과 글로벌 비트라인이 전기적으로 연결된다.That is, switching elements SW11, SW12, ... SW1n (SW21, SW22, ... SW2n) (SWn1, SWn2, ... SWnn) are formed between each local bit line and the global bit line. The local bit line and the global bit line are electrically connected to each other.
도 10은 하나의 서브 셀 어레이부를 보다 상세하게 나타낸 것이다.10 shows one sub cell array unit in more detail.
도 10에 도시한 바와 같이, 워드라인(W/L)과 플레이트 라인(P/L)으로 이루어진 워드라인쌍이 여러쌍 반복적으로 구성된다.As shown in Fig. 10, a word line pair consisting of a word line W / L and a plate line P / L is repeatedly composed of several pairs.
그리고 상기 워드라인(W/L1,P/L1,...W/Ln,P/Ln)쌍들과 교차하는 방향으로 복수개의 글로벌 비트라인(...,BLG_n,BLG_n+1,...)들이 형성된다.And a plurality of global bit lines (..., BLG_n, BLG_n + 1, ...) in a direction crossing the word line (W / L1, P / L1, ... W / Ln, P / Ln) pairs. Are formed.
상기 쌍을 이루는 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)에 교차하는 로컬 비트라인마다 단위 셀(C111,C112,...,C11n/C121,C122,...,C12n/C1n1,C1n2,...,C1nn)이 연결된다.Unit cells C111, C112, ..., C11n / C121, C122, ..., C12n / C1n1 for each local bit line intersecting the paired word line (W / L) and plate line (P / L) , C1n2, ..., C1nn) are connected.
그리고 로컬 비트라인의 최종단과 해당 글로벌 비트라인 사이에는 스위칭 소자들이 구성되어 로컬 비트라인에 연결된 복수개의 셀중 선택된 셀의 데이터를 글로벌 비트라인으로 전달한다.Switching elements are configured between the last bit of the local bit line and the corresponding global bit line to transfer data of a selected cell among a plurality of cells connected to the local bit line to the global bit line.
상기와 같이 구성된 서브 셀 어레이부에 있어서, 셀을 선택하는 과정은 다음과 같다.In the sub cell array unit configured as described above, a process of selecting a cell is as follows.
전술한 바와 같이, 메인 셀 어레이부는 도 10과 같이 이루어지는 서브 셀 어레이부들의 반복적인 구성에 의해 구현된다.As described above, the main cell array unit is implemented by a repetitive configuration of the sub cell array units as shown in FIG. 10.
이와 같은 복수개의 서브 셀 어레이부들 중에서 하나의 서브 셀 어레이부만이 활성화되는데 그중에서도 한 쌍의 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)만이 활성화된다.Only one subcell array unit of the plurality of subcell array units is activated, among which only a pair of word lines W / L and plate lines P / L are activated.
따라서, 어느 한 쌍의 워드라인 및 플레이트 라인이 활성화되면, 상기 활성화된 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)에 연결된 단위 셀은 해당 로컬 비트라인을 통해 해당 글로벌 비트라인으로 전달된다.Therefore, when a pair of word lines and plate lines are activated, the unit cells connected to the activated word lines W / L and plate lines P / L are transferred to the corresponding global bit lines through the corresponding local bit lines. do.
글로벌 비트라인은 스위칭 소자를 통해 로컬 비트라인으로부터 전달된 셀 데이터를 비트라인 컨트롤부(도시되지 않음)로 전달한다.The global bitline transfers the cell data transferred from the local bitline to the bitline control unit (not shown) through the switching element.
비트라인 컨트롤부에는 각 글로벌 비트라인마다 센스앰프(도시되지 않음)가 연결된다.A sense amplifier (not shown) is connected to each global bit line to the bit line controller.
따라서, 상기 복수개의 센스앰프들 중에서 하나의 센스앰프에서 출력되는 데이터만이 데이터 라인을 통해 외부로 출력된다.Therefore, only data output from one sense amplifier among the plurality of sense amplifiers is output to the outside through the data line.
도 11은 도 10의 "A"부분을 보다 상세하게 도시한 것으로써, 워드라인(W/L)과 플레이트 라인(P/L) 그리고 로컬 비트라인 사이에 각각 단위 셀이 구성되고, 로컬 비트라인의 종단에는 스위칭 소자가 연결되어 해당 글로벌 비트라인에 연결되는 것을 보여준다.FIG. 11 illustrates a portion “A” of FIG. 10 in more detail, in which unit cells are formed between a word line (W / L), a plate line (P / L), and a local bit line, and a local bit line. At the end of, it shows that the switching element is connected to the corresponding global bit line.
상기 단위 셀은 각 1개의 트랜지스터와 1개의 강유전체 커패시터로 구성되며 각 트랜지스터의 게이트는 해당 워드라인에 연결되고, 강유전체 커패시터는의 일측단자는 상기 트랜지스터의 드레인(또는 소오스)과 연결되며 다른측 단자는 해당 플레이트 라인에 연결되어 있다.The unit cell is composed of one transistor and one ferroelectric capacitor, the gate of each transistor is connected to a corresponding word line, one terminal of the ferroelectric capacitor is connected to the drain (or source) of the transistor, and the other terminal is It is connected to the corresponding plate line.
도 12는 도 6의 상세 구성도로써, 메인 셀 어레이부(61)와 메인 비트라인 컨트롤부(67) 및 레러펀스 비트라인 컨트롤부(69)를 중심으로 도시한 것이다.FIG. 12 is a detailed configuration diagram of FIG. 6 and shows the main cell array unit 61, the main bit line control unit 67, and the response bit line control unit 69.
전술한 바와 같이, 메인 셀 어레이부(61)는 복수개의 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,...)들로 이루어진다.As described above, the main cell array unit 61 includes a plurality of sub cell array units 61_1, 61_2,...
그리고 상기 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,...)들을 가로지르는 메인 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)은 메인 비트라인 컨트롤부(67)와 연결되고, 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)은 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(69)와 연결되어 있다.The main global bit lines BLK_n, Blg_n + 1, ..., which cross the sub-cell array units 61_1, 61_2,..., Are connected to the main bit line control unit 67 and the reference global bit lines. BLRG_1 and BLRG_2 are connected to the reference bit line control unit 69.
여기서, 상기 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(69)는 두 개의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)을 수용한다.Here, the reference bit line controller 69 accommodates two reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2.
도면에도 도시된 바와 같이, 각 서브 셀 어레이부내에는 상기 메인 글로벌 비트라인과 대응하여 메인 로컬 비트라인들이 구성된다.As shown in the figure, in each sub cell array unit, main local bit lines are configured to correspond to the main global bit line.
일예로, 첫 번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n)에는 복수개의 메인 로컬 비트라인(BLL1_n,BLL2_n,...)들이 구성된다.For example, a plurality of main local bit lines BLL1_n, BLL2_n, ... are configured in the first main global bit line Blg_n.
그리고 해당 메인 로컬 비트라인과 해당 메인 글로벌 비트라인 사이에는 스위칭소자(SW11,SW21,...)들이 구성된다.The switching elements SW11, SW21, ... are configured between the corresponding main local bit line and the corresponding main global bit line.
상기 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)들과 대응해서 레퍼런스 로컬 비트라인(BLLR1_1,BLLR2_1,.../BLLR1_2,BLLR2_2,.../.../BLLR1_n,BLLR2_n,...)들이 구성된다.Reference local bit lines BLLR1_1, BLLR2_1, ... / BLLR1_2, BLLR2_2, ... / ... / BLLR1_n, BLLR2_n, ... are configured to correspond to the reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2. .
그리고 각 레퍼런스 로컬 비트라인과 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2) 사이에는 스위칭소자(SWR11,SWR21/SWR12,SWR22/SWR1n,SWR2n,...)들이 구성된다.The switching elements SWR11, SWR21 / SWR12, SWR22 / SWR1n, SWR2n, ... are formed between the reference local bit line and the reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2.
따라서, 서브 셀 어레이부(61_1,61_2,...)들중 임의의 서브 셀 어레이부가 선택되고, 해당 서브 셀 어레이부내의 메인 로컬 비트라인이 메인 글로벌 비트라인에 연결되어 최종적으로 메인 비트라인 컨트롤부(67)로 데이터가 전달된다.Accordingly, any sub cell array unit among the sub cell array units 61_1, 61_2, ... is selected, and the main local bit line in the sub cell array unit is connected to the main global bit line, thereby finally controlling the main bit line. Data is passed to the section 67.
이와 마찬가지로 해당 서브 셀 어레이부내의 레퍼런스 로컬 비트라인이 해당 레퍼런스 글로벌 비트라인에 연결되어 최종적으로 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(69)로 데이터가 전달된다.Similarly, the reference local bit line in the corresponding sub cell array unit is connected to the corresponding reference global bit line, and finally data is transferred to the reference bit line control unit 69.
한편, 도 13은 도 6의 구성블록중에서 메인 비트라인 컨트롤부와 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 나타내었다.FIG. 13 is a diagram illustrating the main bit line control unit and the reference bit line control unit in more detail.
도 13에 도시한 바와 같이, 메인 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)에 대응하여 각각 메인 센스앰프(SA1,SA2,...)(67_1,67_2,...)가 연결된다.As shown in FIG. 13, the main sense amplifiers SA1, SA2, ..., 67_1, 67_2, ... are connected to the main global bit lines Blg_n, Blg_n + 1, ..., respectively. do.
두 개의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)중 한 개가 레퍼런스 센스앰프(69_1)에 연결되고, 상기 레퍼런스 센스앰프(69_1)에서 출력하는 레퍼런스 전압(CREF)이 상기 메인 센스앰프(67_1,67_2,...)마다 공통으로 인가된다.One of two reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2 is connected to a reference sense amplifier 69_1, and a reference voltage CREF output from the reference sense amplifier 69_1 is connected to the main sense amplifiers 67_1 and 67_2. Commonly applied per ..)
이때, 서로 인접한 메인 글로벌 비트라인(BLG_n과 BLG_n+1 또는 BLG_n+1과 BLG_n+2,...) 사이에는 비트라인 프리챠지 회로부(BPC:Bitline Precharge Circuit)(68_1,68_2,...)가 구성된다.In this case, a bit line precharge circuit (BPC: 68_1, 68_2, ...) is disposed between the main global bit lines BLK_n and BLG_n + 1 or BLG_n + 1 and BLG_n + 2, which are adjacent to each other. Is composed.
여기서, 마지막 메인 글로벌 비트라인(BLG_n+n)과 상기 레퍼런스 센스앰프(69_1)에 연결된 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2) 사이에도 비트라인 프리챠지 회로부(70_1)가 구성된다.A bit line precharge circuit 70_1 is also configured between the last main global bit line Blg_n + n and the reference global bit line BRG_2 connected to the reference sense amplifier 69_1.
그리고 상기 레퍼런스 센스앰프(69_1)에 연결되지 않는 하나의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1)에는 일정한 전압(CONSTANT VOLTAGE)이 인가된다.A constant voltage CONSTANT VOLTAGE is applied to one reference global bit line BLRG_1 that is not connected to the reference sense amplifier 69_1.
한편, 도 14는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비트라인 프리챠지 회로부를 보다 상세하게 나타낸 것이다.14 illustrates the bit line precharge circuit in detail according to the first embodiment of the present invention.
도 14에 도시한 바와 같이, 복수개의 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)들과, 각 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,...)들 사이에 구성된 비트라인 이퀄라이즈 스위치부(BQESW)(71_1,71_2,...)와, 비트라인 프리챠지 레벨 공급부(도시되지 않음)로부터 출력되는 신호(BEQLEV)를 상기 각각의 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+1,As shown in FIG. 14, a bit line equalization configured between a plurality of global bit lines Blg_n, Blg_n + 1, ..., and each of the global bit lines Blg_n, Blg_n + 1, ... The switch unit BQESW 71_1, 71_2, ... and the signal BEQLEV output from the bit line precharge level supply unit (not shown) may be used for the respective global bit lines Blg_n, Blg_n + 1,
...)으로 스위칭하는 복수개의 비트라인 프리챠지 스위치부(BPCSW)(72_1,72_2,...)Bitline precharge switch unit (BPCSW) 72_1, 72_2, ... for switching to ...)
를 포함하여 구성된다.It is configured to include.
여기서, 상기 비트라인 이퀄라이즈 스위치부(71_1,71_2,...)나 상기 비트라인 프리챠지 스위치부(72_1,72_2,...)는 앤모스(NMOS) 트랜지스터를 포함한다.The bit line equalization switch unit 71_1, 71_2,..., Or the bit line precharge switch unit 72_1, 72_2,... Includes an NMOS transistor.
따라서, 상기 비트라인 프리챠지 레벨 공급부에서 출력되는 신호의 레벨은 상기 앤모스 트랜지스터의 문턱전압과 동일하거나 혹은 약간 크다.Therefore, the level of the signal output from the bit line precharge level supply unit is equal to or slightly higher than the threshold voltage of the NMOS transistor.
결과적으로 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 출력신호는 비트라인 프리챠지 스위치부(72_1,72_2,...)를 통해 해당 글로벌 비트라인의 레벨을 프리챠지 시킨다.As a result, the output signal of the bit line precharge level supply unit precharges the level of the corresponding global bit line through the bit line precharge switch unit 72_1, 72_2,...
그리고 상기 비트라인 이퀄라이즈 스위치부(71_1,71_2,...)는 스위치 제어신호에 의해 턴-온되어 인접한 두 개의 글로벌 비트라인을 동일한 레벨로 이퀄라이징(Equalizing)시킨다.The bit line equalization switch unit 71_1, 71_2,... Is turned on by a switch control signal to equalize two adjacent global bit lines to the same level.
한편, 도 15a는 비트라인 프리챠지 레벨을 공급하는 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 1 실시예에 따른 상세 구성도이다.15A is a detailed block diagram of the first embodiment of the bit line precharge level supply unit supplying the bit line precharge level.
도 15a에 도시한 바와 같이, 소오스가 전원단(Vcc)에 연결되고 비트라인 프리챠지 레벨 공급부를 활성화시키기 위한 활성화신호(EQLEN)에 의해 컨트롤되는 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와, 소오스가 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 연결되고, 드레인과 게이트가 공통으로 연결되는 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 대해 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와 더불어 병렬적으로 연결되며 게이트가 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)의 게이트와 공통으로 연결되는 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와, 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)에 시리얼하게 연결되고 게이트는 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)의 드레인에 연결되는 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)와, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 드레인에 게이트와 드레인이 공통으로 연결되고 소오스는 접지단(Vss)에 연결되는 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 드레인에 게이트가 연결되어 상기 드레인 전압에 의해 컨트롤되는 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와, 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와 마주보고 구성되어 드레인이 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 드레인과 공통으로 연결되는 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와, 상기 제 4, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN4,MN5)의 공통 드레인에 연결되고 소오스는 접지단에 연결되는 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와, 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 소오스와 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인 사이에 연결되는 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)와, 상기 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 소오스와 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인 사이에 연결되는 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 대해 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 함께 병렬적으로 구성되어 드레인과 게이트가 공통으로 연결되는 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와 마주보고 구성되어 게이트가 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 게이트와 공통으로 연결되는 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와, 게이트가 상기 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)의 드레인에 연결되고, 소오스는 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 드레인에 연결되는 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)와, 상기 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)의 드레인전압에 의해 컨트롤되며 상기 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와 시리얼하게 연결되는 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)와, 상기 제 9 트랜지스터(MN9)의 드레인에 에미터가 연결되고 콜렉터와 베이스가 공통으로 접지단에 연결되는 바이폴라 트랜지스터(PNP1)를 포함하여 구성된다.As shown in Fig. 15A, the first PMOS transistor MP1 and the source are connected to the power supply terminal Vcc and controlled by the activation signal EQLEN for activating the bit line precharge level supply. A second PMOS transistor MP2 connected to a drain of the first PMOS transistor MP1 and having a drain and a gate connected in common, and the second PMOS transistor with respect to a drain of the first PMOS transistor MP1; A first NMOS transistor MN1 connected in parallel with the transistor MP2 and having a gate connected to a gate of the second PMOS transistor MP2 in common, and serially connected to the second PMOS transistor MP2. Is connected to the drain of the second PMOS transistor MP2, and the gate and the drain are respectively connected to the drain of the NMOS transistor MN1. A third NMOS transistor MN3 connected in common with the source connected to the ground terminal Vss, and a fourth gate connected to a drain of the first NMOS transistor MN1 and controlled by the drain voltage. A fifth NMOS transistor MN5 configured to face the NMOS transistor MN4 and the fourth NMOS transistor MN4 and having a drain connected to a drain of the fourth NMOS transistor MN4 in common; A sixth NMOS transistor MN6 connected to a common drain of the fourth and fifth NMOS transistors MN4 and MN5 and a source connected to a ground terminal, a source of the fourth NMOS transistor MN4 and the source; The fourth PMOS transistor MP4 connected between the drain of the first PMOS transistor MP1 and the source of the fifth NMOS transistor MN5 and the drain of the first PMOS transistor MP1 are connected. Being A third PMOS having a PMOS transistor MP5 and a drain of the first PMOS transistor MP1 in parallel with the first NMOS transistor MN1 and having a drain and a gate connected in common. A seventh NMOS transistor MN7 configured to face the transistor MP3 and the third PMOS transistor MP3 and having a gate connected to the gate of the third PMOS transistor MP3 in common; An eighth NMOS transistor MN8 connected to the drain of the seventh NMOS transistor MN7, and a source connected to the drain of the third PMOS transistor MP3, and the fourth PMOS transistor MP4. A ninth NMOS transistor MN9 and a collector connected to the seventh NMOS transistor MN7 in series and controlled by a drain voltage of the NMOS transistor MN7, and an emitter is connected to a drain of the ninth transistor MN9, It is configured to include a bipolar transistor (PNP1) which base is connected to the ground terminal in common.
여기서, 상기 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)는 비트라인을 프리챠지 시키는 비트라인 프리챠지 전압에 의해 컨트롤된다.Here, the fifth NMOS transistor MN5 is controlled by a bit line precharge voltage for precharging the bit line.
이와 같은 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 동작을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.The operation of the bit line precharge level supply unit will now be described in detail.
도 15a에 도시한 바와 같이, 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 활성화신호가 정상동작시에 로우(low)로 천이하면 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)가 활성화되어 노드 N1의 전위를 하이 레벨로 만든다.As shown in FIG. 15A, when the activation signal of the bit line precharge level supply part transitions low during the normal operation, the first PMOS transistor MP1 is activated to bring the potential of the node N1 to the high level.
초기에 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 드레인쪽 전압 즉, 노드 N2가 로우이면 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)가 온(On)되어 노드 N2의 레벨도 상승하게 된다.Initially, when the drain side voltage of the second NMOS transistor MN2, that is, the node N2 is low, the second PMOS transistor MP2 is turned on to increase the level of the node N2.
따라서, 노드 N2에 게이트가 연결된 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)가 온되어 노드 N3의 레벨이 상승하게 된다.Accordingly, the first NMOS transistor MN1 having the gate connected to the node N2 is turned on to increase the level of the node N3.
노드 N3의 레벨이 상기 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)의 문턱전압 이상으로 상승하게 되면 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)가 온되어 전류를 접지단으로 방출하게 된다.When the level of the node N3 rises above the threshold voltage of the third NMOS transistor MN3, the third NMOS transistor MN3 is turned on to emit current to the ground terminal.
따라서, 노드 N3의 레벨은 상기 문턱전압으로 고정된다.Thus, the level of node N3 is fixed to the threshold voltage.
그리고 노드 N3의 레벨에 의해 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)가 온되므로 상기 노드 N2의 레벨은 점차 낮아지게 된다.Since the second NMOS transistor MN2 is turned on by the level of the node N3, the level of the node N2 is gradually lowered.
노드 N2의 레벨이 낮아지면 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 온(On)저항이 커지게 되어 결국 노드 N3에 공급하는 전류가 작아지게 된다.When the level of the node N2 is lowered, the on resistance of the first NMOS transistor MN1 increases, resulting in a decrease in current supplied to the node N3.
따라서, 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1) 및 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2) 및 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)의 피드백 루프(feedback loop)를 이용하여 문턱전압 레벨을 갖는 노드 N3의 전압을 얻게 된다.Accordingly, the threshold voltage level is provided by using a feedback loop of the first NMOS transistor MN1 and the second PMOS transistor MP2, the second NMOS transistor MN2, and the third NMOS transistor MN3. The voltage at node N3 is obtained.
한편, 초기에 노드 N7이 로우이면 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)가 온되어 노드 N7의 레벨이 상승하게 된다.On the other hand, if node N7 is initially low, the third PMOS transistor MP3 is turned on to raise the level of node N7.
노드 N7의 레벨이 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)의 문턱전압 이상으로 상승하게 되면 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)가 온되어 노드 N8에 연결된 바이폴라 트랜지스터(PNP1)를 통해 전류를 접지단으로 방출하게 된다.When the level of the node N7 rises above the threshold voltage of the seventh NMOS transistor MN7, the seventh NMOS transistor MN7 is turned on to discharge current to the ground terminal through the bipolar transistor PNP1 connected to the node N8. do.
여기서, 상기 바이폴라 트랜지스터(PNP1)는 PNP바이폴라 트랜지스터이다.Here, the bipolar transistor PNP1 is a PNP bipolar transistor.
따라서, 출력단 즉 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 출력단의 레벨은 노드 N3의 레벨과 같은 문턱전압 수준으로 고정된다.Therefore, the level of the output terminal, that is, the output terminal of the bit line precharge level supply unit, is fixed at the same threshold voltage level as that of the node N3.
여기서, 상기 바이폴라 트랜지스터(PMP1)는 콜렉터와 베이스가 공통으로 접지단에 연결되고 에미터는 노드 N8에 연결되는 PN다이오드 기능을 한다.Here, the bipolar transistor PMP1 functions as a PN diode in which a collector and a base are connected to a ground terminal in common, and an emitter is connected to a node N8.
또한, 문턱전압 레벨을 유지하는 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 출력단에 의해 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)가 온되므로 노드 N7의 전압은 낮아지게 된다.In addition, since the eighth NMOS transistor MN8 is turned on by the output terminal of the bit line precharge level supply unit maintaining the threshold voltage level, the voltage of the node N7 is lowered.
노드 N7의 전압이 낮아지게 되면 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)의 온(On)저항이 증가하여 상기 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 출력단에 인가되는 전류가 감소하게 된다.When the voltage of the node N7 decreases, the on resistance of the seventh NMOS transistor MN7 increases to decrease the current applied to the output terminal of the bit line precharge level supply unit.
따라서, 제 7, 제 8, 제 9 앤모스 트랜지스터(MN7,MN8,MN9)와 제 3 피모스 트랜지스터(MP3), 그리고 PN다이오드로 동작하는 바이폴라 트랜지스터(PNP1)의 피드백 루프를 이용하여 문턱전압 수준의 출력전압을 얻게 된다.Accordingly, threshold voltage levels are provided by using feedback loops of the seventh, eighth, and ninth NMOS transistors MN7, MN8, and MN9, the third PMOS transistor MP3, and the bipolar transistor PNP1 operating as a PN diode. The output voltage of is obtained.
여기서, 제 4, 제 5, 제 6 앤모스 트랜지스터(MN4,MN5,MN6)와 상기 제 4, 제 5 피모스 트랜지스터(MP4,MP5)가 증폭부를 구성하게 되므로, 제 4, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN4,MN5)의 입력에 따라 노드 N4의 출력을 증폭한다.Here, the fourth, fifth, and sixth NMOS transistors MN4, MN5, and MN6 and the fourth and fifth PMOS transistors MP4 and MP5 form an amplifier, and thus, the fourth and fifth NMOS transistors. Amplify the output of node N4 according to the input of (MN4, MN5).
이와 같이 동작하는 본 발명에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부에 있어서, 노드 N3의 전압이 어떻게 해서 출력단(비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 출력)의 전압과 같아지는지에 대해서 살펴본다.In the bit line precharge level supply unit according to the present invention operating as described above, how the voltage of the node N3 becomes equal to the voltage of the output terminal (output of the bit line precharge level supply unit) will be described.
노드 N3의 전압이 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 게이트 입력으로 사용되고, 출력단 전압은 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 게이트 입력으로 사용된다.The voltage of the node N3 is used as the gate input of the fourth NMOS transistor MN4, and the output terminal voltage is used as the gate input of the fifth NMOS transistor MN5.
만약 노드 N3의 전압이 상기 출력단의 전압보다 크면 노드 N4의 전압은 작아지고 노드 N5의 전압은 커지도록 증폭된다.If the voltage at node N3 is greater than the voltage at the output terminal, the voltage at node N4 is reduced and the voltage at node N5 is amplified.
작아진 노드 N4의 전압은 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)에 피드백되어 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)의 온(ON) 저항을 크게 하므로 출력단으로 방출되는 전류량이 감소되어 결국 출력단의 레벨을 상승시키게 된다.The smaller node N4 is fed back to the ninth NMOS transistor MN9 to increase the ON resistance of the ninth NMOS transistor MN9, thereby reducing the amount of current emitted to the output stage, thereby raising the output stage level. do.
만약 노드 N3의 전압의 상기 출력단의 전압보다 작으면 노드 N5의 전압은 작아지고 노드 N4의 전압은 커지게 된다.If the voltage of the node N3 is smaller than the voltage of the output terminal, the voltage of the node N5 becomes small and the voltage of the node N4 becomes large.
커진 노드 N4의 전압은 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)에 피드백되어 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)의 온(ON) 저항을 작게하므로 출력단으로 방출되는 전류량이 증가하게 되어 결국 출력단의 레벨을 감소시킨다.The increased voltage of the node N4 is fed back to the ninth NMOS transistor MN9 to reduce the ON resistance of the ninth NMOS transistor MN9, thereby increasing the amount of current discharged to the output stage, thereby reducing the level of the output stage. .
이때, 출력단의 레벨이 과도하게 감소하는 것을 막기 위해서 PN다이오드로 동작하는 바이폴라 트랜지스터(PNP1)가 노드 N8과 접지단 사이에 구성되어 즉, PN다이오드의 문턱전압 이하에서는 PN다이오드가 오프되어 더 이상의 전류 방출을 억제하게 된다.At this time, in order to prevent the level of the output terminal from being excessively reduced, a bipolar transistor PNP1 operating as a PN diode is configured between the node N8 and the ground terminal, that is, the PN diode is turned off below the threshold voltage of the PN diode so that a further current Suppress the release.
한편, 도 15b는 본 발명에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 2 실시예를 도시하였다.15B illustrates a second embodiment of the bit line precharge level supply unit according to the present invention.
도 15b에 도시한 바와 같이, 소오스가 전원단(Vcc)에 연결되고 비트라인 프리챠지 레벨 공급부를 활성화시키기 위한 활성화신호(BQLEN)에 의해 컨트롤되는 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와, 소오스가 각각 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 분기접속되고 게이트가 공통으로 연결되는 제 2 피모스 트랜지스터(MP2) 및 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 상기 접지전압을 선택적으로 출력하는 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와, 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(NM1) 사이에 연결되며 외부에서 인가되는 레퍼런스 전압(REF_IN)에 의해 컨트롤되는 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)와, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1) 사이에 연결되며 출력단(노드 1) 전압에 의해 컨트롤되는 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 분기 접속되며 게이트가 공통으로 연결된 제 4 피모스 트랜지스터(MP5) 및 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)와, 상기 제 4 피모스 트랜지스터(MP4) 및 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)의 게이트 전압에 의해 컨트롤되며 접지전압을 선택적으로 출력하는 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 소오스가 연결되고, 상기 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되는 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와, 상기 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 게이트와 드레인 사이에 연결되고 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되는 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 상기 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)와 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(NM4) 사이에 연결되는 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와, 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 상기 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)와 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4) 사이에 연결된 제 8 앤모스 트랜지스터(NM8)와, 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 드레인이 상기 출력단(노드 1)에 연결되는 제 9 앤모스 트랜지스터(NM9)와, 상기 제 9 앤모스 트랜지스터(NM9)의 소오스와 접지단(Vss) 사이에 연결되며 게이트와 드레인이 공통으로 연결된 제 10 트랜지스터(NM10)를 포함하여 구성된다.As shown in Fig. 15B, the first PMOS transistor MP1 and the source are connected to the power supply terminal Vcc and controlled by the activation signal BQLEN for activating the bit line precharge level supply, respectively. Of the second PMOS transistor MP2 and the third PMOS transistor MP3 and the third PMOS transistor MP3 branched to a drain of the first PMOS transistor MP1 and commonly connected to a gate thereof. A first NMOS transistor MN1 that is controlled by a drain voltage and selectively outputs the ground voltage, is connected between the second PMOS transistor MP2 and the first NMOS transistor NM1, and applied externally. The second NMOS transistor MN2 controlled by the reference voltage REF_IN and the third PMOS transistor MP3 and the first NMOS transistor MN1 are connected to an output terminal (no De 1) A fourth PMOS transistor MP5 and a fifth P branch connected to a third NMOS transistor MN3 controlled by a voltage, a drain of the first PMOS transistor MP1, and having a gate connected in common. A fourth NMOS transistor MN4 controlled by a gate voltage of the MOS transistor MP5, the gate voltages of the fourth PMOS transistor MP4 and the fifth PMOS transistor MP5, and selectively outputting a ground voltage; A source is connected to the drain of the first PMOS transistor MP1, and the fifth NMOS transistor MN5 and the fifth NMOS transistor MN5 are controlled by the drain voltage of the fifth PMOS transistor MP5. And the drain of the sixth NMOS transistor MN6 connected between the gate and the drain of the NMOS transistor MN2 and controlled by the drain voltage of the second NMOS transistor MN2. A seventh NMOS transistor MN7 and a drain voltage of the second NMOS transistor MN2 connected by the fourth PMOS transistor MP4 and the fourth NMOS transistor NM4. Controlled by the drain voltage of the eighth NMOS transistor NM8 and the second NMOS transistor MN2 connected between the fifth PMOS transistor MP5 and the fourth NMOS transistor MN4. A ninth NMOS transistor NM9 having a drain connected to the output terminal (node 1), a source connected to a source and ground terminal Vss of the ninth NMOS transistor NM9, and having a gate and a drain connected in common; It consists of 10 transistors NM10.
여기서, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3) 및 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)의 드레인과 게이트는 공통으로 연결된다.Here, the drain and the gate of the third PMOS transistor MP3 and the fourth PMOS transistor MP4 are connected in common.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부는 외부에서 입력되는 레퍼런스 전압과 출력단(노드 1)의 전압을 비교하여 출력단의 레벨이 항상 일정한 레벨이 되도록 한다.The bit line precharge level supply unit according to the second embodiment of the present invention configured as described above compares the reference voltage input from the outside with the voltage of the output terminal (node 1) so that the level of the output terminal is always a constant level.
즉, 출력단의 레벨은 비트라인에 연결되어 있으므로 레벨의 변동이 있을 수 있는데, 본 발명의 제 2 실시예와 같이 비트라인 프리챠지 레벨 공급부를 구성하여 입력되는 레퍼런스 전압의 레벨이 변동없이 출력단에 인가되도록하여 항상 안정한 출력레벨을 얻을 수 있다.That is, since the level of the output terminal is connected to the bit line, there may be a change in the level. As in the second embodiment of the present invention, the bit line precharge level supply unit is configured to apply the level of the input reference voltage to the output terminal without change. As a result, a stable output level can be obtained at all times.
한편, 도 15c는 본 발명의 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 제 3 실시예를 도시하였다.FIG. 15C shows a third embodiment of the bit line precharge level supply unit of the present invention.
도 15c에 도시한 바와 같이, 그 구성은 전술한 제 2 실시예와 유사하다. 다만, 출럭단의 레벨을 보다 안정화시키기 위해 다음과 같은 구성을 더 추가한 것이다.As shown in Fig. 15C, the configuration is similar to that of the second embodiment described above. However, to further stabilize the level of the troops, the following configuration was added.
즉, 도 15c에 도시한 바와 같이, 상기 전원단(Vcc)과 제 1 피모스 트랜지스터(MP1) 사이에 분기접속되고 비트라인 프리챠지 레벨 공급부를 활성화시키기 위한 활성화신호(BQLEN)에 의해 컨트롤되는 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)와, 상기 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)의 접지단(Vss) 사이에 시리얼하게 연결되는 제 7 피모스 트랜지스터(MP7) 및 제 11 앤모스 트랜지스터(MN11)를 구비한다.That is, as illustrated in FIG. 15C, the branch connected between the power supply terminal Vcc and the first PMOS transistor MP1 and controlled by the activation signal BQLEN for activating the bit line precharge level supply unit. A sixth PMOS transistor MP6 and a seventh PMOS transistor MP7 and an eleventh NMOS transistor MN11 connected in series between a ground terminal Vss of the sixth PMOS transistor MP6. .
여기서, 상기 제 7 피모스 트랜지스터(MP7)의 드레인과 게이트는 공통으로 연결되고, 상기 제 11 앤모스 트랜지스터(MN11)의 게이트는 드레인과 공통으로 연결되어 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 게이트에 인가된다.Here, the drain and the gate of the seventh PMOS transistor MP7 are connected in common, and the gate of the eleventh NMOS transistor MN11 is connected in common with the drain so that the gate of the second NMOS transistor MN2 is connected. Is applied to.
이와 같은 제 3 실시예에 따른 비트라인 프리챠지 레벨 공급부는 출력단의 레벨이 변동하게 되면 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인 전압 또한 변동하게 된다.The bit line precharge level supply unit according to the third exemplary embodiment also changes the drain voltage of the first PMOS transistor MP1 when the level of the output terminal changes.
상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인 전압의 변동은 결국, 출력단의 레벨이 변동하게 되는 원인을 제공하게 되므로 이러한 원인을 미연에 방지하기 위해 전원전압(Vcc)을 출력단(노드 1)이 영향을 미치지 않는 곳으로 인가한 것이다.Since the fluctuation of the drain voltage of the first PMOS transistor MP1 eventually causes the level of the output terminal to fluctuate, the output terminal (node 1) is influenced by the power supply voltage Vcc to prevent such a cause. Approved to places that do not have.
따라서, 출력단의 프리챠지 레벨을 보다 안정한 레벨로 인가할 수가 있다.Therefore, the precharge level of the output stage can be applied at a more stable level.
한편, 도 16a는 본 발명에 따른 레퍼런스 센스앰프의 간략화된 구성블록도이다.16A is a simplified block diagram of a reference sense amplifier according to the present invention.
도 16a에 도시한 바와 같이, 레퍼런스 비트라인 컨트롤부에 구성되는 레퍼런스 센스앰프는 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2)의 신호를 받아 상기 신호의 레벨을 쉬프팅하여 메인 센스앰프(67_1,67_2,...)에 인가되는 레퍼런스 전압(CREF)을 출력하는 레벨 쉬프터(80)와, 상기 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2)의 신호를 받아 레퍼런스 비트라인을 풀-다운시키는 풀-다운 컨트롤부(80a)로 구성된다.As shown in FIG. 16A, the reference sense amplifier configured in the reference bit line control unit receives the signal of the reference global bit line BLRG_2 and shifts the level of the signal to sense the main sense amplifiers 67_1, 67_2,... The level shifter 80 outputs a reference voltage CREF applied to the signal, and a pull-down control unit 80a which pulls down the reference bit line by receiving the signal of the reference global bit line BLRG_2.
한편, 도 16a에서와 같이, 레벨쉬프터(80)를 이용하여 레벨을 쉬프팅시켜 메인 센스앰프에 인가되는 레퍼런스전압을 출력하는 방법 이외에 도 16b에 도시한 바와 같이, 레벨쉬프터를 사용하지 않고, 풀-다운 및 풀-업 컨트롤부(81a)만을 구성하여 레퍼런스 글로벌 비트라인의 신호를 그대로 레퍼런스 전압(CREF)로 사용하는 것도 가능하다.On the other hand, as shown in Figure 16a, in addition to the method of outputting the reference voltage applied to the main sense amplifier by shifting the level using the level shifter 80, as shown in Figure 16b, without using the level shifter, It is also possible to configure only the down and pull-up control unit 81a to use the signal of the reference global bit line as the reference voltage CREF.
도 16b와 같이 레벨쉬프터를 사용하지 않아도 되는 경우는 대용량을 요구하지 않는 IC카드 등의 수백비트 이하를 요구하는 경우로써, 센스앰프의 갯수 또한 많지 않으므로 하이신호를 가지고도 충분한 레퍼런스 전압을 만들 수가 있기 때문이다.When the level shifter does not need to be used as shown in Fig. 16B, it requires a few hundred bits or less such as an IC card that does not require a large capacity. Since the number of sense amplifiers is not large, a sufficient reference voltage can be made even with a high signal. Because.
하지만, 도 16a와 같이, 센스앰프의 수가 많을 경우에는 레벨쉬프터를 이용하여 로우신호를 가지고 레퍼런스 전압을 만든다.However, as shown in FIG. 16A, when the number of sense amplifiers is large, a reference voltage is generated with a low signal using a level shifter.
여기서, 도 16a에 도시된 상기 레벨 쉬프터를 보다 상세하게 설명하기로 한다.Here, the level shifter shown in FIG. 16A will be described in more detail.
도 17a는 도 16a에 도시된 레벨 쉬프터의 제 1 실시예를 도시하였다.17A shows a first embodiment of the level shifter shown in FIG. 16A.
도 17a에 도시한 바와 같이, 레벨 쉬프터를 인에이블시키는 인에이블 신호(LSEN)에 의해 컨트롤되고, 소오스가 전원단(Vcc)에 연결된 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에서 분기 접속된 제 2 피모스 트랜지스터(MP2) 및 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와, 레퍼런스 글로벌 비트라인에 의해 컨트롤되며 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와 연결된 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3) 사이에 구성된 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)와, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 접지단(Vss) 사이에 구성된 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2) 사이에서 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와 병렬적으로 형성된 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)와, 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 출력신호에 의해 컨트롤되고 소오스가 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)에 연결되는 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와, 상기 접지단과 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4) 사이에 형성된 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와 출력단(CREF) 사이에 형성된 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)와, 상기 글로벌 비트라인의 신호에 의해 컨트롤되는 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와, 상기 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1) 사이에 형성된 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)와, 게이트가 상기 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)의 게이트와 공통으로 연결되고, 소오스는 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 연결되는 제 7 피모스 트랜지스터(MN7)와, 상기 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와 상기 제 7 피모스 트랜지스터(MP7) 사이에 형성된 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와, 상기 접지단(Vss)과 상기 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7) 사이에서 상기 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와 병렬로 연결되는 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 17A, the first PMOS transistor MP1 and the first PMOS transistor, which are controlled by the enable signal LSEN that enables the level shifter and whose source is connected to the power supply terminal Vcc, A first N-MOS transistor MP2 and a third PMOS transistor MP3 branched from the drain of the MP1 and a first N < " > controlled by a reference global bit line and connected to the second PMOS transistor MP2. A MOS transistor MN1, a second NMOS transistor MN2 configured between the first NMOS transistor MN1 and the third PMOS transistor MP3, the first NMOS transistor MN1, and a ground In parallel with the third PMOS transistor MP3 between the third NMOS transistor MN3 configured between the stage Vss and between the first PMOS transistor MP1 and the second NMOS transistor MN2. Fourth coat formed by A fourth NMOS transistor MN4 which is controlled by a transistor MP4, an output signal of the third PMOS transistor MP3 and whose source is connected to the first PMOS transistor MP1, the ground terminal and the The fifth NMOS transistor MN5 formed between the fourth NMOS transistor MN4, the fifth PMOS transistor MP5 formed between the first PMOS transistor MP1 and the output terminal CREF, and the global A sixth NMOS transistor MN6 controlled by a signal of a bit line, a sixth PMOS transistor MP6 formed between the sixth NMOS transistor MN6 and the first PMOS transistor MP1, A gate is connected in common with the gate of the sixth PMOS transistor MP6, and a source is connected to the seventh PMOS transistor MN7 connected to the drain of the first PMOS transistor MP1, and the sixth NMOS Transges The sixth NMOS transistor between the seventh NMOS transistor MN7 formed between the MN6 and the seventh PMOS transistor MP7, and the ground terminal Vss and the seventh NMOS transistor MN7. And an eighth NMOS transistor MN8 connected in parallel with MN6.
이와 같이 구성된 제 1 실시예에 따른 레벨 쉬프터의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the level shifter according to the first embodiment configured as described above is as follows.
도 17a에서 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 게이트에 인가되는 신호(LSEN)는 레벨 쉬프터를 활성화시키기 위한 신호이다.In FIG. 17A, the signal LSEN applied to the gate of the first PMOS transistor MP1 is a signal for activating the level shifter.
즉, 활성화신호(LSEN)가 동작시에 로우로 천이하여 정상적으로 신호(CREF)를 출력한다.That is, the activation signal LSEN goes low during operation to output the signal CREF normally.
칩이 비활성화시에는 LSEN신호를 하이로하여 전류흐름을 차단한다.When the chip is inactive, the LSEN signal is pulled high to block current flow.
LSEN이 로우로 천이되면 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)가 활성화되어 노드 N1을 하이 레벨로 만든다.When LSEN goes low, the first PMOS transistor MP1 is activated to bring the node N1 to the high level.
초기에 노드 N3가 로우이면 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)가 온되어 노드 N3의 레벨도 상승하게 된다.Initially, if node N3 is low, the fourth PMOS transistor MP4 is turned on to raise the level of node N3.
따라서, 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)가 온(ON)되어 출력단(CREF)의 레벨도 상승하게 되는데, 상기 출력단의 레벨은 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2)의 전압과 같거나 혹은 작게할 수 있다.Accordingly, the fourth NMOS transistor MN4 is turned on to increase the level of the output terminal CREF. The level of the output terminal may be equal to or smaller than the voltage of the reference global bit line BLRG_2.
여기서, 제 1, 제 2, 제 3 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2,MN3)와 제 2, 제 3 피모스 트랜지스터(MP2,MP3))들이 하나의 증폭부를 구성하게 되므로 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 입력에 따라 노드 N3의 출력이 증폭되어 나타난다.Here, since the first, second, and third NMOS transistors MN1, MN2, and MN3 and the second and third PMOS transistors MP2 and MP3 constitute one amplifier, the first NMOS transistor MN1 is formed. ) And the output of the node N3 are amplified by the input of the second NMOS transistor MN2.
상기 제 6, 제 7, 제 8 앤모스 트랜지스터(MN6,MN7,MN8)와 상기 제 6, 제 7 피모스 트랜지스터(MP6,MP7)도 하나의 증폭부를 구성하게 되므로 상기 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)의 입력에 따라 노드 N5의 출력이 증폭되어 나타난다.The sixth, seventh, and eighth NMOS transistors MN6, MN7, and MN8 and the sixth and seventh PMOS transistors MP6 and MP7 also form one amplifying unit, and thus the sixth NMOS transistor MN6. ) And the output of the node N5 are amplified according to the input of the seventh NMOS transistor MN7.
여기서, 제 1, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN1,MN5)의 사이즈가 상기 제 2, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN2,MN7) 보다 크도록 구성하면 상기 출력단(CREF)의 전압을 글로벌 비트라인보다 소자 크기 차이에 비례하여 크게할 수 있다.Here, when the size of the first and fifth NMOS transistors MN1 and MN5 is larger than the second and seventh NMOS transistors MN2 and MN7, the voltage at the output terminal CREF may be greater than that of the global bit line. It can be enlarged in proportion to the size difference.
반대로, 상기 제 1, 제 6 앤모스 트랜지스터(MN1,MN6)의 사이즈가 상기 제 2, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN2,MN7) 보다 작게 구성하면 출력단(CREF)의 전압을 글로벌 비트라인보다 소자 크기에 비례하여 작게할 수 있다.On the contrary, when the size of the first and sixth NMOS transistors MN1 and MN6 is smaller than the second and seventh NMOS transistors MN2 and MN7, the voltage of the output terminal CREF is larger than the global bit line. It can be made small in proportion to.
그리고 상기 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)의 사이즈와 제 2, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN2,MN7)의 사이즈가 동일하도록 구성하면 상기 출력단의 전압을 글로벌 비트라인의 전압과 같게할 수 있다.If the size of the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 and the size of the second and seventh NMOS transistors MN2 and MN7 are the same, the voltage at the output terminal may be equal to the voltage of the global bit line. can do.
여기서, 상기 제 1, 제 6 앤모스 트랜지스터(MN1,MN6)와 제 2,, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN2,MN7)의 사이즈가 동일할 경우 레벨 쉬프터의 동작을 설명하면 다음과 같다.Here, the operation of the level shifter when the sizes of the first and sixth NMOS transistors MN1 and MN6 and the second and seventh NMOS transistors MN2 and MN7 are the same will be described below.
먼저, 글로벌 비트라인의 전압이 출력단(CREF)보다 큰 경우, 상기 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)에 의해 노드 N2의 전압은 작아지고, 노드 N3의 전압은 커지도록 증폭된다.First, when the voltage of the global bit line is greater than the output terminal CREF, the voltage of the node N2 is reduced by the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 and the voltage of the node N3 is amplified to be large.
커진 노드 N3의 전압은 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)에 피드백되어 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 온(On)저항을 작게하므로 출력단(CREF)으로 전류가 유입되는 량이 증가하게 되어 결국 출력단의 전압을 상승시킨다.The increased voltage of the node N3 is fed back to the fourth NMOS transistor MN4 to reduce the on resistance of the fourth NMOS transistor MN4, thereby increasing the amount of current flowing into the output terminal CREF. Raise the voltage.
이후, 제 6, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN6MN7)에 의해 노드 N5의 전압은 작아지고 노드 N6의 전압은 커지도록 증폭된다.Thereafter, the voltage of the node N5 is reduced and the voltage of the node N6 is amplified by the sixth and seventh NMOS transistors MN6MN7.
작아진 노드 N5의 전압은 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)에 피드백되어 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 온(On)저항을 작게 하므로 출력단으로 전류가 유입되는 량이 증가하게 되어 결국 출력단의 전압을 상승시키게 된다.Since the voltage of the small node N5 is fed back to the fifth NMOS transistor MN5 and the fifth PMOS transistor MP5 to reduce the on resistance of the fifth NMOS transistor MN5, a current flows into the output terminal. The amount increases, resulting in an increase in the output voltage.
따라서, 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)에 의해 전압 상승이 빨리 일어나도록 한다.Therefore, the voltage rise occurs quickly by the fourth NMOS transistor MN4 and the fifth PMOS transistor MP5.
만일, 글로벌 비트라인의 전압이 출력단(CREF)의 전압보다 작은 경우, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)에 의해 노드 N2의 전압은 커지고 노드 N3의 전압은 작아지도록 증폭한다.If the voltage of the global bit line is smaller than the voltage of the output terminal CREF, the voltage of the node N2 is increased and the voltage of the node N3 is small by the first NMOS transistor MN1 and the second NMOS transistor MN2. Amplify to lose.
작아진 노드 N3의 전압은 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)에 피드백되어 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 온(On)저항을 크게하므로 출력단(CREF)으로 유입되는 전류량이 줄어들게 된다.The smaller node N3 is fed back to the fourth NMOS transistor MN4 to increase the on resistance of the fourth NMOS transistor MN4, thereby reducing the amount of current flowing into the output terminal CREF.
따라서, 출력단(CREF)의 전압을 감소시키게 된다.Therefore, the voltage at the output terminal CREF is reduced.
이후, 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)에 의해 노드 5의 전압은 커지고 노드 6 의 전압은 작아지도록 증폭된다.Thereafter, the voltage of the node 5 is increased by the sixth NMOS transistor MN6 and the seventh NMOS transistor MN7 so that the voltage of the node 6 is reduced.
커진 노드 N5의 전압은 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)에 피드백되어 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 온(On)저항을 작게하고, 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)의 온(On)저항을 크게한다.The increased voltage of the node N5 is fed back to the fifth NMOS transistor MN5 and the fifth PMOS transistor MP5 to reduce the on resistance of the fifth NMOS transistor MN5, thereby reducing the fifth PMOS transistor ( Increase the On resistance of MP5).
따라서, 출력단(CREF)으로 유입되는 전류량이 줄어 결과적으로 출력단의 전압을 하강시키게 된다.Therefore, the amount of current flowing into the output terminal CREF decreases, and as a result, the voltage of the output terminal decreases.
이로인해 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)에 의해 전압 하강이 빨리 일어난다.As a result, the voltage drop occurs quickly by the fifth NMOS transistor MN5.
한편, 도 17b는 본 발명의 레벨 쉬프터의 제 2 실시예를 도시하였다.Meanwhile, FIG. 17B shows a second embodiment of the level shifter of the present invention.
도 17b에 도시한 바와 같이, 레벨쉬프터를 인에이블시키는 인에이블 신호(LSEN)에 의해 컨트롤되고 소오스가 전원단(Vcc)에 연결된 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와, 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에서 분기 접속된 제 2 피모스 트랜지스터(MP2) 및 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)와, 레퍼런스 글로벌 비트라인의 신호(BLRG_2)에 의해 컨트롤되며 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와 연결된 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와, 소오스가 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 드레인에 공통으로 연결되며 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3) 사이에 연결된 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)와, 상기 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터 소오스와 접지단(Vss) 사이에 연결되며 상기 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되는 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와, 소오스가 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 공통으로 연결되며 게이트들이 공통으로 연결된 제 4 피모스 트랜지스터(MP4) 및 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)와, 상기 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2)신호에 의해 컨트롤되며 드레인이 상기 제 4 피모스 트랜지스터(MP4)의 드레인에 연결되는 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와, 출력단(노드 1)의 전압에 의해 컨트롤되며 드레인이 상기 제 5 피모스 트랜지스터(MP5)의 드레인에 연결되고 소오스는 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 소오스와 공통으로 연결된 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)와, 상기 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 상기 제 4, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN4)(MN5)의 소오스와 접지단(Vss) 사이에 연결된 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)와, 외부에서 인가되는 레퍼런스 전압 컨트롤신호(REFCON)에 의해 컨트롤되며 소오스가 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인에 연결되는 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)와, 소오스가 상기 제 6 피모스 트랜지스터(MP6)의 드레인에 연결되고 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되는 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와, 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 상기 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)의 드레인과 상기 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)의 드레인 사이에 연결되는 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)와, 상기 레퍼런스 전압 컨트롤신호(REFCON)에 의해 컨트롤되고 상기 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)와 접지단(Vss) 사이에 시리얼하게 연결된 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9) 및 제 10 앤모스 트랜지스터(MN10)와, 상기 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)의 드레인 전압에 의해 컨트롤되며 소오스는 상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)의 드레인으로부터 분기접속되고, 드레인은 출력단(노드 1)에 연결되는 제 7 앤모스 트랜지스터(MP7)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 17B, a first PMOS transistor MP1 controlled by an enable signal LSEN for enabling a level shifter and a source connected to a power supply terminal Vcc, and the first PMOS transistor ( The second PMOS transistor MP2 and the third PMOS transistor MP3 branched from the drain of the MP1 and the signal BLRG_2 of the reference global bit line are controlled by the second PMOS transistor MP2. The first NMOS transistor MN1 and a source are connected to the drain of the first NMOS transistor MN1 in common, and between the first NMOS transistor MN1 and the third PMOS transistor MP3. A third NMOS transistor MN2 connected between the first NMOS transistor source and the ground terminal Vss and controlled by a drain voltage of the second PMOS transistor MP2; A fourth PMOS transistor MP4 and a fifth PMOS transistor MP5 having a source transistor MN3, a source connected to a drain of the first PMOS transistor MP1, and gates commonly connected to each other; The fourth NMOS transistor MN4, which is controlled by the reference global bit line BLRG_2 signal and whose drain is connected to the drain of the fourth PMOS transistor MP4, and is controlled by the voltage of the output terminal (node 1) and is drained. A fifth NMOS transistor MN5 and a fifth NMOS transistor MN5 connected to a drain of the fifth PMOS transistor MP5 and connected to a source of the fourth NMOS transistor MN4 in common. And the sixth NMOS transistor MN6, which is controlled by the drain voltage of the N MOS transistor MN4 and MN5, connected between the source and the ground terminal Vss of the fourth and fifth NMOS transistors MN4 and MN5. A sixth PMOS transistor MP6 controlled by a reference voltage control signal REFCON and having a source connected to the drain of the first PMOS transistor MP1, and a source having a drain of the sixth PMOS transistor MP6. A seventh NMOS transistor MN7 connected to and controlled by the drain voltage of the third PMOS transistor MP3, and controlled by the drain voltage of the fourth NMOS transistor MN4 and the third PMOS An eighth NMOS transistor MN8 connected between the drain of the transistor MP3 and the drain of the seventh NMOS transistor MN7 and the reference voltage control signal REFCON and controlled by the seventh NMOS transistor The ninth NMOS transistor MN9 and the tenth NMOS transistor MN10 connected in series between the MN7 and the ground terminal Vss, and the drain of the fourth NMOS transistor MN4. The seventh NMOS transistor MP7 is controlled by the phosphorus voltage and the source is branched from the drain of the first PMOS transistor MP1, and the drain is connected to the output terminal (node 1).
도 18은 본 발명에 따른 센스앰프를 상세하게 도시하였다.18 illustrates in detail the sense amplifier according to the present invention.
먼저, 전술한 도 6의 구성이 반복됨에 따라 구현되는 도 7에서와 같이, 메인 비트라인 컨트롤부(67)는 두 개의 메인 셀 어레이부(61) 사이에 구성된다.First, as shown in FIG. 7, which is implemented as the above-described configuration of FIG. 6 is repeated, the main bit line control unit 67 is configured between two main cell array units 61.
따라서, 메인 비트라인 컨트롤부(65)를 구성하고 있는 센스앰프는 상부의 메인 셀 어레이부(61)와 하부의 메인 셀 어레이부(61)의 데이터를 모두 센싱할 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다.Therefore, the sense amplifier constituting the main bit line control unit 65 is preferably configured to sense data of both the upper main cell array unit 61 and the lower main cell array unit 61.
즉, 상부의 메인 셀 어레이부와 하부의 메인 셀 어레이부가 하나의 비트라인 컨트롤부를 공유할 수 있도록 구성한다.That is, the upper main cell array unit and the lower main cell array unit are configured to share one bit line control unit.
도면에서 BLGT는 상부의 셀 어레이부와 연결되는 메인 글로벌 비트라인이고, BLGB는 하부의 셀 어레이부와 연결되는 메인 글로벌 비트라인이다.In the figure, BLGT is a main global bit line connected to an upper cell array unit, and BLGB is a main global bit line connected to a lower cell array unit.
그리고 CREF는 상부의 레퍼런스 셀과 연결되는 레퍼런스 글로벌 비트라인이고, CREFB는 하부의 레퍼런스 셀과 연결되는 레퍼런스 글로벌 비트라인이다.CREF is a reference global bit line connected to the upper reference cell and CREFB is a reference global bit line connected to the lower reference cell.
그 구성을 보면, 소오스가 상기 BLGT 및 BLGB에 연결된 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와, 소오스가 상기 CREF 및 CREFB에 연결되고 게이트는 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 게이트에 공통연결된 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)와, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)를 통해 들어오는 BLGT 또는 BLGB신호를 증폭하는 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와, 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)를 통해 들어오는 CREF 또는 CREFB신호를 증폭하는 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)와, 소오스가 각각 전원단(Vcc)에 연결되고 드레인은 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 출력단과 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 출력단에 각각 연결되는 제 1 피모스 트랜지스터(MP1) 및 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)와,(상기 제 1 피모스 트랜지스터의 드레인은 제 2 피모스 트랜지스터의 게이트에 연결되고, 상기 제 2 피모스 트랜지스터의 드레인은 상기 제 1 피모스 트랜지스터의 게이트에 연결됨) 센스앰프 이퀄라이저 신호(SAEQ)에 의해 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 출력단과 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 출력단을 이퀄라이징시키는 제 3 피모스 트랜지스터(MP3)를 포함하여 구성된다.According to the configuration, a first NMOS transistor MN1 having a source connected to the BLGT and BLGB, a second source connected to the CREF and CREFB and a gate connected to the gate of the first NMOS transistor MN1 in common. NMOS transistor MN2, a third NMOS transistor MN3 that amplifies the BLGT or BLGB signal that enters through the first NMOS transistor MN1, and a CREF that enters through the second NMOS transistor MN2. Alternatively, the fourth NMOS transistor MN4 for amplifying the CREFB signal, a source are respectively connected to the power supply terminal Vcc, and a drain thereof is an output terminal of the first NMOS transistor MN1 and an output terminal of the second NMOS transistor MN2. A first PMOS transistor MP1 and a second PMOS transistor MP2 respectively connected to the drain (the drain of the first PMOS transistor is connected to a gate of the second PMOS transistor, and the second PMOS transistor The drain of the transistor is connected to the gate of the first PMOS transistor.) The output terminal of the first NMOS transistor MN1 and the output terminal of the second NMOS transistor MN2 are equalized by a sense amplifier equalizer signal SAEQ. And a third PMOS transistor MP3.
여기서, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 소오스와 상기 BLGT 사이에 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)가 구성되고, 상기 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)의 소오스와 상기 BLGB 사이에 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)가 더 구성된다.Here, a fifth NMOS transistor MN5 is formed between the source of the first NMOS transistor MN1 and the BLGT, and a sixth NMOS between the source of the first NMOS transistor MN1 and the BLGB. The transistor MN6 is further configured.
또한, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 소오스와 CREF 사이에 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)가 구성되고, 상기 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)의 소오스와 상기 CREFB 사이에 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)가 더 구성된다.Further, a seventh NMOS transistor MN7 is configured between the source and CREF of the second NMOS transistor MN2, and an eighth NMOS transistor (MN7) is disposed between the source and CREFB of the second NMOS transistor MN2. MN8) is further configured.
그리고 칼럼선택신호(COLSEL)에 의해 데이터 버스(Data Bus)와 센스앰프의 출력단을 선택적으로 스위칭하는 제 9 앤모스 트랜지스터(MN9)와, 데이터바버스(Data Bar Bus)와 센스앰프의 출력단을 스위칭하는 제 10 앤모스 트랜지스터(MN10)가 더 구성된다.The ninth NMOS transistor MN9 for selectively switching the output terminals of the data bus and the sense amplifier and the output terminals of the data bar bus and the sense amplifier are switched by the column selection signal COLSEL. The tenth NMOS transistor MN10 is further configured.
여기서, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)는 센스앰프와 BLGT간에 스위칭을 담당하고, 제 6 앤모스 트랜지스터(MN6)는 센스앰프와 BLGB간에 스위칭을 담당한다.Here, the fifth NMOS transistor MN5 is responsible for switching between the sense amplifier and BLGT, and the sixth NMOS transistor MN6 is responsible for switching between the sense amplifier and BLGB.
그리고 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)는 센스앰프와 CREF간에 스위칭을 담당하고, 제 8 앤모스 트랜지스터(MN8)는 센스앰프와 CREFB간에 스위칭을 담당한다.The seventh NMOS transistor MN7 is responsible for switching between the sense amplifier and CREF, and the eighth NMOS transistor MN8 is responsible for switching between the sense amplifier and CREFB.
이와 같이 구성된 센스앰프의 제 1 실시예의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the first embodiment of the sense amplifier configured as described above is as follows.
다음에서 설명할 센스앰프의 제 1 실시예에 따른 동작설명은 상부의 메인 셀 에 저장된 데이터를 센싱하는 경우에 해당한다.The operation description according to the first embodiment of the sense amplifier to be described below corresponds to the case of sensing data stored in the upper main cell.
즉, 도 18에 도시한 바와 같이, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)를 활성화시키는 활성화 신호(BSEL)와 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)를 활성화시키는 활성화 신호(RSEL)에 의해 제 5, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN5,MN7)가 활성화되면 상기 제 6, 제 8 앤모스 트랜지스터(MN6,MN8)는 비활성화 상태가 된다.That is, as illustrated in FIG. 18, the fifth and seventh signals are activated by the activation signal BSEL for activating the fifth NMOS transistor MN5 and the activation signal RSEL for activating the seventh NMOS transistor MN7. When the NMOS transistors MN5 and MN7 are activated, the sixth and eighth NMOS transistors MN6 and MN8 become inactive.
반대로 제 6, 제 8 앤모스 트랜지스터(MN6,MN8)가 활성화되면, 상기 제 5, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN5,MN7)는 비활성화 상태가 된다.In contrast, when the sixth and eighth NMOS transistors MN6 and MN8 are activated, the fifth and seventh NMOS transistors MN5 and MN7 are inactivated.
센스앰프가 초기의 증폭기간에는 칼럼선택 신호(COLSEL)에 의해 비활성화되어 외부의 데이터버스와 센스앰프 내부노드는 단절되게 된다.The sense amplifier is inactivated by the column select signal COLSEL between the initial amplifiers, so that the external data bus and the internal node of the sense amplifier are disconnected.
이때, 센스앰프를 활성화 시키기 위해 센스앰프 이퀄라이저 신호(SAEQ)에 의해 노드 SN3와 노드 SN4를 등전위시킨다.At this time, in order to activate the sense amplifier, the node SN3 and the node SN4 are equipotentialized by the sense amplifier equalizer signal SAEQ.
초기에 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)는 비활성화 상태를 유지하고 있다. 이후, 상기 노드 SN3와 SN4가 등전위가 되면 메인 셀의 데이터는 상부의 글로벌 비트라인(BLGT)에 전달된다.Initially, the first NMOS transistor MN1 and the second NMOS transistor MN2 are in an inactive state. Thereafter, when the nodes SN3 and SN4 become equipotential, data of the main cell is transferred to the upper global bitline BLGT.
그리고 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)를 통해 노드 SN1에 전달된다.The data is transferred to the node SN1 through the fifth NMOS transistor MN5.
레퍼런스 전압은 CREF로 전달되고, 이후, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN7)를 통해 노드 SN2에 전달된다.The reference voltage is transferred to CREF, and then to the node SN2 through the seventh NMOS transistor MN7.
메인 셀의 데이터와 레퍼런스 전압이 각각 노드 SN1과 SN2에 충분히 전달되고 나면, 센스앰프의 레퍼런스 전압을 접지전압으로 천이시킨다.After the data of the main cell and the reference voltage are sufficiently transmitted to the nodes SN1 and SN2, the reference voltage of the sense amplifier is shifted to the ground voltage.
이에 따라 입력전압인 노드 SN1,SN2만큼의 게이트 전압이 차이가 발생하므로 결국 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)에 흐르는 전류도 차이가 나고, 이상태로 증폭이 시작되어 증폭전압은 노드 SN3와 SN4에서 전압차로 나타난다.As a result, the gate voltages of the nodes SN1 and SN2, which are input voltages, are different. Therefore, the currents flowing through the third NMOS transistor MN3 and the fourth NMOS transistor MN4 also differ, and amplification starts in this state. The amplified voltage appears as a voltage difference at nodes SN3 and SN4.
상기 노드 SN3와 SN4에 유기되는 각각의 전압은 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)에 의해 다시 증폭된다.Each voltage induced at the nodes SN3 and SN4 is amplified again by the first PMOS transistor MP1 and the second PMOS transistor MP2.
상기 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)에서 충분히 증폭된 후, 상기 제 5, 제 7 앤모스 트랜지스터(MN5,MN7)를 비활성화 시킨다.After sufficiently amplifying the first PMOS transistor MP1 and the second PMOS transistor MP2, the fifth and seventh NMOS transistors MN5 and MN7 are inactivated.
또한, 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)를 활성화시켜 노드 SN3와 SN4의 증폭전압을 다시 SN1과 SN2에 피드백(feedback)하여 증폭을 계속 유지한다.In addition, the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 are activated to feed back the amplification voltages of the nodes SN3 and SN4 to SN1 and SN2 to maintain amplification.
이때, 피드백 루프가 완성되면, 제 9, 제 10 앤모스 트랜지스터(MN9,MN10)를 활성화시켜 외부의 데이터 버스 및 데이터바버스와 센스앰프와의 데이터 전달이 이루어지도록 한다.At this time, when the feedback loop is completed, the ninth and tenth NMOS transistors MN9 and MN10 are activated to transmit data to an external data bus and a data bus and a sense amplifier.
또한, 제 5 앤모스 트랜지스터(MN5)를 다시 활성화시켜 노드 SN1의 전압을 BLGT에 전달시켜 메인 셀에 피드백하여 재저장할 수 있도록 한다.In addition, the fifth NMOS transistor MN5 is reactivated to transfer the voltage of the node SN1 to the BLGT so as to be fed back to the main cell and restored.
이와 같은 센스앰프의 동작에 따르면, 제 3 앤모스 트랜지스터(MN3)와 제 4 앤모스 트랜지스터(MN4)가 제 1 증폭부(100)를 구성하고, 제 1 피모스 트랜지스터(MP1)와 제 2 피모스 트랜지스터(MP2)가 제 2 증폭부(103)를 구성하게 된다.According to the operation of the sense amplifier as described above, the third NMOS transistor MN3 and the fourth NMOS transistor MN4 form the first amplifier 100, and the first PMOS transistor MP1 and the second PMOS transistor. The MOS transistor MP2 forms the second amplifier 103.
여기서, 미설명 부호 SEN은 센스앰프 활성화 신호로써, 로우 액티브 신호이고, SALE신호는 제 1 앤모스 트랜지스터(MN1)와 제 2 앤모스 트랜지스터(MN2)를 활성화시키는 신호로써, 하이 액티브 신호이다.Here, reference numeral SEN denotes a sense amplifier activation signal, which is a low active signal, and the SALE signal, which activates the first NMOS transistor MN1 and the second NMOS transistor MN2, is a high active signal.
도 19는 본 발명의 센스앰프에의 제 2 실시예를 도시하였다.Fig. 19 shows a second embodiment of the sense amplifier of the present invention.
제 1 실시예에 따른 센스앰프와 비교하여 볼 때, 제 2 증폭부(103)가 서로 상이하다.Compared with the sense amplifier according to the first embodiment, the second amplifier 103 is different from each other.
즉, 제 1 실시예에 따른 제 2 증폭부(103)는 피모스인 제 1, 제 2 트랜지스터로 구성되고, 제 1 트랜지스터의 드레인이 제 2 트랜지스터의 게이트에 연결되고, 제 2 트랜지스터의 드레인은 제 1 트랜지스터의 게이트에 연결되는 구성을 갖는다.That is, the second amplifier 103 according to the first embodiment is composed of first and second transistors of PMOS, the drain of the first transistor is connected to the gate of the second transistor, and the drain of the second transistor is It has a configuration connected to the gate of the first transistor.
이에 반하여 제 2 실시예에 따른 제 2 증폭부(103)는 래치회로로 구성된다.On the contrary, the second amplifier 103 according to the second embodiment is constituted by a latch circuit.
즉, 피모스와 앤모스로 구성되는 제 1 인버터(103a)와 제 2 인버터(103b)로 구성되는데, 상기 제 1 인버터(103a)를 구성하고 있는 피모스 및 앤모스 트랜지스터의 공통 게이트는 상기 제 2 인버터(103b)를 구성하고 있는 피모스 트랜지스터의 드레인에 연결된다.That is, the first inverter 103a and the second inverter 103b including PMOS and NMOS are formed, and the common gate of the PMOS and NMOS transistors constituting the first inverter 103a is the second. It is connected to the drain of the PMOS transistor which comprises the inverter 103b.
그리고 제 2 인버터(103b)를 구성하고 있는 피모스 및 앤모스 트랜지스터의 공통 게이트는 상기 제 1 인버터(103a)를 구성하고 있는 피모스 트랜지스터의 드레인에 연결된다.The common gates of the PMOS and NMOS transistors constituting the second inverter 103b are connected to the drains of the PMOS transistors constituting the first inverter 103a.
또한, 제 1 실시예에 따른 센스앰프는 제 1 인버터(103a)의 앤모스 트랜지스터와 제 2 인버터(103b)의 앤모스 트랜지스터가 공통으로 접지단(Vss)에 연결되었으나 제 2 실시예에서는 센스앰프 인에이블 신호(SEN) 입력단에 연결된다.In addition, in the sense amplifier according to the first embodiment, the NMOS transistor of the first inverter 103a and the NMOS transistor of the second inverter 103b are commonly connected to the ground terminal Vss. It is connected to the enable signal SEN input terminal.
이와 같은 본 발명의 센스앰프의 제 2 실시예는 상기 제 2 증폭부(103)가 두 개의 인버터로 구성되어 있다는 것과, 상기 제 1, 제 2 인버터(103a)(103b)의 앤모스 트랜지스터가 센스앰프 인에이블 신호(SEN) 입력단에 연결된다는 것을 제외하면 제 1 실시예에 따른 센스앰프의 구성과 동일하므로 이하 생략한다.According to the second embodiment of the sense amplifier of the present invention, the second amplifier 103 is composed of two inverters, and the NMOS transistors of the first and second inverters 103a and 103b are sensed. Since it is the same as the configuration of the sense amplifier according to the first embodiment except that it is connected to the amplifier enable signal SEN input terminal, it will be omitted below.
이와 같은 센스앰프의 제 1 실시예의 동작 타이밍도를 도 20에 도시하였다.20 is an operation timing diagram of the first embodiment of such a sense amplifier.
그리고 도 21은 도 21은 리드모드(Read Mode)에서의 센스앰프의 동작타이밍도이고, 도 22는 라이트모드(Write Mode)에서의 센스앰프의 동작타이밍도이다.21 is an operation timing diagram of the sense amplifier in the read mode, and FIG. 22 is an operation timing diagram of the sense amplifier in the write mode.
도 20에 도시한 바와 같이, 워드라인(W/L)과 플레이트 라인(P/L)이 동시에 하이(high)로 천이되면 센스앰프 인에이블 신호(SEN)가 로우(low)로 활성화된다.As shown in FIG. 20, when the word line W / L and the plate line P / L simultaneously transition to high, the sense amplifier enable signal SEN is activated low.
그리고 도 18에 도시된 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)를 활성화시키는 신호(SALE)가 하이레벨로 활성화되면 칼럼선택신호가 하이로 천이된다.In addition, when the signal SALE for activating the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 shown in FIG. 18 is activated at a high level, the column selection signal transitions to high.
여기서, 리드모드시 센스앰프의 동작은 도 21에 도시한 바와 같이, 워드라인(W/L)과 플레이트 라인(P/L)이 둘 다 하이(high)인 구간에서 상기 도 18에 도시된 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)를 활성화시키는 신호(SALE)가 하이레벨로 천이되면, 칼럼선택신호가 순차적으로 하이레벨로 천이된다.Here, as shown in FIG. 21, the operation of the sense amplifier in the read mode is performed in the section in which the word line W / L and the plate line P / L are both high. When the signal SALE for activating the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 transitions to a high level, the column selection signal transitions to a high level sequentially.
여기서, 상기 칼럼선택신호의 천이동작은 t10구간까지 순차적으로 수행된다.Here, the transition operation of the column selection signal is sequentially performed up to the section t10.
이와 같은 리드모드와는 달리 라이트 모드의 경우에는 도 22에 도시된 바와 같이, 칼럼선택신호의 천이동작이 워드라인(W/L)과 플레이트 라인(P/W)이 둘 다 하이인 구간중에서 t6~t7구간내에서만 순차적으로 수행된다.Unlike the read mode as described above, in the write mode, as shown in FIG. 22, the transition operation of the column selection signal is t6 during the period in which both the word line (W / L) and the plate line (P / W) are high. It is executed sequentially only within the ~ t7 section.
즉, 칼럼선택신호(COLSEL1,COLSEL2,COLSEL3,...COLSELn)는 워드라인과 플레이트 라인이 둘 다 하이인 구간중에서 도 18에 도시된 제 1, 제 2 앤모스 트랜지스터(MN1,MN2)를 활성화시키는 신호(SALE)가 하이레벨로 천이되면 t6~t7구간내에서 순차적으로 천이된다.That is, the column select signals COLSEL1, COLSEL2, COLSEL3, ... COLSELn activate the first and second NMOS transistors MN1 and MN2 shown in FIG. 18 during a period in which both the word line and the plate line are high. When the signal SALE transitions to a high level, the signal SALE transitions sequentially within the t6 to t7 period.
이와 같이, 칼럼선택신호가 순차적으로 모두 천이되고 나면, 워드라인(W/L)은 로우로 천이되고, 상기 워드라인(W/L)이 로우에서 하이로 다시 천이될 때, 플레이트 라인(P/L)은 로우로 천이된다.As described above, after the column selection signals are all sequentially shifted, the word line W / L is shifted low, and when the word line W / L transitions again from low to high, the plate line P / L) transitions to low.
한편, 도 23a는 본 발명의 센스앰프의 제 2 실시예에 따른 동작타이밍도이다.23A is an operation timing diagram according to the second embodiment of the sense amplifier of the present invention.
도 23a에 도시된 바와 같이, 센스앰프 인에이블 신호(SEN)가 워드라인(W/L) 및 플레이트 라인(P/L)이 하이로 천이되는 동시에 로우로 활성화되는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 23A, it can be seen that the sense amplifier enable signal SEN is activated at the same time as the word line W / L and the plate line P / L transition high.
즉, 전술한 SALE신호보다 더 빨라 센스앰프 인에이블 신호(SEN)를 활성화시킴으로써, 센싱스피드를 개선시킬 수가 있다.That is, the sensing speed can be improved by activating the sense amplifier enable signal SEN faster than the above-described SALE signal.
한편, 도 23b는 본 발명에 따른 레벨쉬프터의 제 2 실시예에서 사용하는 REFCON신호와 센스앰프에서 사용하는 신호를 비교하여 도시한 동작타이밍도이다.23B is an operation timing diagram showing a comparison between a REFCON signal used in the second embodiment of the level shifter according to the present invention and a signal used in the sense amplifier.
도 23b에 도시한 바와 같이, 레벨쉬프터의 출력단 레벨을 안정화시키기 위한 컨트롤신호(REFCON)가 로우로 천이됨과 동시에 센스앰프 인에이블 신호(SEN)가 로우로 활성화되는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 23B, it can be seen that the control signal REFCON for stabilizing the output stage level of the level shifter goes low while the sense amplifier enable signal SEN is activated low.
즉, SALE신호가 하이로 활성화되기 이전에 미리 REFCON신호에 의해 레벨 쉬프터의 출력단의 레벨 변동을 보상하여 주므로써, 레벨 쉬프터로부터 레퍼런스 전압(CREF)을 받는 센스앰프가 안정된 센싱동작을 할 수 있다.That is, before the SALE signal is activated to high, the level change of the output stage of the level shifter is compensated for by the REFCON signal in advance, so that the sense amplifier receiving the reference voltage CREF from the level shifter can perform a stable sensing operation.
한편, 도 24은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 강유전체 메모리장치의 셀 어레이의 구성도이다.24 is a configuration diagram of a cell array of the nonvolatile ferroelectric memory device according to the second embodiment of the present invention.
도 24에 도시된 셀 어레이를 도 6과 비교할 때, 메인 비트라인 컨트롤부나 레퍼런스 비트라인 컨트롤부가 메인 셀 어레이부의 하측에만 구성되는 것이 아니라 상측에도 구성되어 있음을 알 수 있다.When the cell array shown in FIG. 24 is compared with FIG. 6, it can be seen that the main bit line control unit or the reference bit line control unit is configured not only on the lower side but also on the upper side.
이는 레이아웃을 보다 효율적으로 이용하기 위한 것이다.This is to use the layout more efficiently.
즉, 도 24에 도시한 바와 같이, 메인 셀 어레이부(201), 상기 메인 셀 어레이부(201)의 상측과 하측에 각각 형성된 제 1 메인 비트라인 컨트롤부(203a)와 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203b), 상기 메인 셀 어레이부(201)의 일측에 형성된 워드라인 구동부(205), 상기 메인 셀 어레이부(201)의 다른 일측에 형성된 플레이트 라인 구동부(207), 상기 제 1, 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203a,203b)의 일측에 형성된 제 1 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209a)와 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209b)로 구성된다.That is, as shown in FIG. 24, the main cell array unit 201, the first main bit line control unit 203a and the second main bit line control formed on the upper side and the lower side of the main cell array unit 201, respectively. The word line driver 205 formed on one side of the main cell array unit 201, the plate line driver 207 formed on the other side of the main cell array unit 201, and the first and second portions 203b. The first reference bit line control unit 209a and the second reference bit line control unit 209b formed on one side of the main bit line control units 203a and 203b are configured.
상기의 구성을 메인 셀 어레이부를 중심으로 보다 상세하게 나타낸 것을 도 25에 도시하였다.FIG. 25 illustrates the above configuration in more detail around the main cell array unit.
도 25에 도시한 바와 같이, 메인 셀 어레이부(201)에 구성된 메인 글로벌 비트라인중에서 홀수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+2,BLG_n+4,...)들은 하측에 구성된 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203b)에 연결되고, 짝수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n+1,BLG_n+3,BLG_n+5,...)들은 상측에 구성된 메인 비트라인 컨트롤부(203a)에 연결된다.As shown in FIG. 25, of the main global bit lines configured in the main cell array unit 201, the odd-numbered main global bit lines BLK_n, Blg_n + 2, Blg_n + 4, ... are arranged in the second main side. The bit line controller 203b is connected, and the even-numbered main global bit lines Blg_n + 1, Blg_n + 3, Blg_n + 5, ... are connected to the main bitline controller 203a configured at the upper side.
그리고 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)들은 메인 셀 어레이부(201)의 상, 하측에 형성된 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209a,209b)와 연결되는데, 상기 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209a,209b)는 두 개의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)을 수용한다.The reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2 are connected to reference bit line control units 209a and 209b formed at the upper and lower sides of the main cell array unit 201, and the reference bit line control units 209a and 209b are connected to each other. It accepts two reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2.
또한, 전술한 바와 같이, 메인 셀 어레이부(201)는 복수개의 서브 셀 어레이부(201_1,201_2,...)들로 구성된다.In addition, as described above, the main cell array unit 201 includes a plurality of sub cell array units 201_1, 201_2,...
각 서브 셀 어레이부에는 메인 글로벌 비트라인에 상응하여 메인 로컬 비트라인이 구성되는데, 일예로 첫 번째 메인 글로벌 비트라인(BRG_n)에 상응하여 복수개의 메인 로컬 비트라인(BLL1_n,BLL2_n,...,BLLn_n)이 구성된다.Each sub cell array unit includes a main local bit line corresponding to a main global bit line. For example, a plurality of main local bit lines BLL1_n, BLL2_n, ..., corresponding to the first main global bit line BRG_n. BLLn_n) is configured.
그리고 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)에도 레퍼런스 로컬 비트라인이 구성되는데, 일예로 첫 번째 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1)에 상응하여 복수개의 레퍼런스 로컬 비트라인(BLLR1_1,BLLR2_1,...,BLLRn_1)이 구성된다.Reference local bit lines are also configured in the reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2. For example, a plurality of reference local bit lines BLLR1_1, BLLR2_1, ..., BLLRn_1 correspond to the first reference global bit lines BLRG_1. This is made up.
여기서, 각 서브 셀 어레이부마다 형성된 메인 로컬 비트라인들은 해당 메인 글로벌 비트라인과 스위칭소자(SW11~SWnn)를 통해 연결 또는 단절된다.Here, the main local bit lines formed in each sub cell array unit are connected or disconnected through the corresponding main global bit lines and the switching devices SW11 to SWnn.
따라서, 스위칭소자들이 선택적으로 온/오프됨에 따라 해당 메인 로컬 비트라인이 메인 글로벌 비트라인과 연결된다.Therefore, as the switching elements are selectively turned on / off, the corresponding main local bit line is connected to the main global bit line.
여기서, 임의의 서브 셀 어레부 예를들어, 첫 번째 서브 셀 어레이부(201_1)내의 스위칭소자(SW11,SW12,SW13,...SW1n)들중 턴-온된 임의의 스위칭소자가 홀수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n 또는 BLG_n+2 또는 BLG_n+4,...)에 연결되어 있으면, 해당 메인 로컬 비트라인의 데이터는 상기 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203b)내의 메인 센스앰프(도시되지 않음)로 전달된다.Here, any of the sub-cell arrangements, for example, of the switching elements SW11, SW12, SW13, ... SW1n in the first sub-cell array 201_1 is turned on for the odd-numbered main global. When connected to the bit line Blg_n or BLG_n + 2 or BLG_n + 4, ..., the data of the corresponding main local bitline is not shown in the main sense amplifier (not shown) in the second main bitline control unit 203b. Is delivered to.
만일, 짝수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n+1 또는 BLG_n+3 또는 BLG_n+5,...)에 연결되어 있으면, 상기 제 1 메인 비트라인 컨트롤부(203a)내의 레퍼런스 센스앰프(도시되지 않음)로 데이터가 전달된다.If it is connected to an even-numbered main global bit line (BLG_n + 1 or BLG_n + 3 or BLG_n + 5, ...), a reference sense amplifier (not shown) in the first main bit line control unit 203a is shown. The data is passed through.
도 26은 도 24의 구성중 제 1 메인 비트라인 컨트롤부 및 제 1 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 도시한 것이다.FIG. 26 is a diagram illustrating the first main bit line control unit and the first reference bit line control unit in more detail.
도 26에 도시한 바와 같이, 제 1 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209a)에는 하나의 레퍼런스 센스앰프(204a)가 구성되고, 제 1 메인 비트라인 컨트롤부(203a)에는 짝수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n+1,BLG_n+3,BLG_n+5,...)마다 메인 센스앰프(206_n+1,206_n+3,206_n+5...)가 구성되어 있다.As shown in FIG. 26, one reference sense amplifier 204a is configured in the first reference bit line control unit 209a, and an even-numbered main global bit line Blg_n is provided in the first main bit line control unit 203a. The main sense amplifiers 206_n + 1,206_n + 3,206_n + 5 ... are configured for each of +1, Blg_n + 3, Blg_n + 5, ....
그리고 홀수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+2,BLG_n+4,...)은 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(도면에는 도시되지 않음)에 연결되므로 상기 제 2 메인 비트라인 컨트롤부에도 메인 센스앰프(도시되지 않음)가 구성된다.The odd-numbered main global bit lines Blg_n, BLG_n + 2, BLG_n + 4, ... are connected to a second main bit line controller (not shown), so that the second main bit line controller may be A sense amplifier (not shown) is constructed.
또한, 도 13에 도시된 본 발명의 제 1 실시예와 마찬가지로 인접한 메인 글로벌 비트라인 사이에는 비트라인 프리챠지 회로부(208a_1,208a_2,...)가 각각 구성된다.In addition, bit line precharge circuit units 208a_1, 208a_2,... Are arranged between adjacent main global bit lines as in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 13.
그리고 메인 글로벌 비트라인들중 마지막번째 메인 글로벌 비트라인과 상기 레퍼런스 센스앰프(204a)에 연결되는 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2) 사이에도 비트라인 프리챠지 회로부(210a)가 구성된다.The bit line precharge circuit 210a is also configured between the last main global bit line among the main global bit lines and the reference global bit line BLRG_2 connected to the reference sense amplifier 204a.
여기서, 상기 제 1 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(207a)는 두 개의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_1,BLRG_2)을 수용하는데, 이중 하나는 레퍼런스 센스앰프(204a)에 연결되고, 다른 하나는 일정한 전압(Constant Voltage)이 인가된다.Here, the first reference bit line control unit 207a accommodates two reference global bit lines BLRG_1 and BLRG_2, one of which is connected to the reference sense amplifier 204a and the other of which is a constant voltage. ) Is applied.
또한, 제 1 메인 비트라인 컨트롤부(203a)내의 메인 센스앰프(206_n+1,206_In addition, the main sense amplifiers 206_n + 1,206_ in the first main bit line control unit 203a.
n+3,...)에는 상기 레퍼런스 센스앰프(204a)에서 제공되는 레퍼런스 전압(CREF)이 공통으로 인가된다.n + 3, ...) is commonly applied with a reference voltage CREF provided from the reference sense amplifier 204a.
도 27은 도 24의 구성중 제 2 메인 비트라인 컨트롤부 및 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부를 중심으로 보다 상세하게 도시한 것이다.FIG. 27 illustrates the second main bit line control unit and the second reference bit line control unit in more detail.
도 27에 도시한 바와 같이, 상기 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203b)나 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209b)의 구성은 전술한 제 1 메인 비트라인 컨트롤부(203a) 및 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209a)의 구성과 동일하다.As shown in FIG. 27, the configuration of the second main bit line control unit 203b or the second reference bit line control unit 209b may include the first main bit line control unit 203a and the second reference bit. It is the same as the structure of the line control part 209a.
즉, 제 2 레퍼런스 비트라인 컨트롤부(209b)에는 하나의 레퍼런스 센스앰프(204b)가 구성되고, 제 2 메인 비트라인 컨트롤부(203b)에는 홀수번째 메인 글로벌 비트라인(BLG_n,BLG_n+2,...)마다 메인 센스앰프(206_n,206_n+2)가 구성된다.That is, one reference sense amplifier 204b is configured in the second reference bit line controller 209b, and the odd main global bit lines Blg_n, Blg_n + 2, and the second main bit line controller 203b are configured. The main sense amplifiers 206_n and 206_n + 2 are configured for each.
상기 레퍼런스 센스앰프(204b)에는 하나의 레퍼런스 글로벌 비트라인(BLRG_2)이 연결되고, 나머지 하나에는 일정한 전압이 인가된다.One reference global bit line BLRG_2 is connected to the reference sense amplifier 204b, and a constant voltage is applied to the reference sense amplifier 204b.
그리고 인접한 메인 글로벌 비트라인 사이에는 비트라인 프리챠지 회로부(208b_1,208b_2,...)가 구성되고, 상기 메인 센스앰프(206_n,206_n+2,...)에는 상기 레퍼런스 센스앰프(204b)에서 제공되는 레퍼런스 전압(CREF)이 공통으로 인가된다.Bit line precharge circuits 208b_1, 208b_2,... Are formed between adjacent main global bit lines, and the main sense amplifiers 206_n, 206_n + 2, ... are connected by the reference sense amplifier 204b. The reference voltage CREF provided is commonly applied.
여기서, 도면에는 도시하지 않았지만, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 서브 셀 어레이부의 상세 구성은 본 발명의 제 1 실시예에서 설명한 도 10과 동일하므로 이하 생략한다.Although not shown in the drawings, the detailed configuration of the sub-cell array unit according to the second embodiment of the present invention is the same as in FIG. 10 described in the first embodiment of the present invention, and will be omitted below.
그리고 본 발명의 제 2 실시예의 비휘발성 메모리장치에 따른 센스앰프 및 레벨 쉬프터, 비트라인 프리챠지 레벨 공급부의 구성은 전술한 본 발명의 제 1 실시예와 동일하다.The structures of the sense amplifier, the level shifter and the bit line precharge level supply unit according to the nonvolatile memory device of the second embodiment of the present invention are the same as those of the first embodiment of the present invention described above.
이상에서와 같이, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 비휘발성 강유전체 메모리 소자의 구동회로는 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the driving circuit of the nonvolatile ferroelectric memory device according to the first and second embodiments of the present invention has the following effects.
레퍼런스 셀이 한 번 억세스 될 때 메인 셀도 한 번 억세스 되므로 레퍼런스 셀과 메인 셀이 억세스되는 횟수가 동일하다.Since the main cell is accessed once when the reference cell is accessed once, the reference cell and the main cell are accessed the same time.
따라서, 메인 셀에 비해 레퍼런스 셀이 과도하게 억세스되는 종래 기술과는 달리 레퍼런스 셀에 의한 유도전압과 메인 셀에 의한 유도전압을 동일하게 유지시킬 수가 있으므로 소자의 수명을 연장시킬 수 있다.Therefore, unlike the prior art in which the reference cell is excessively accessed compared to the main cell, the induced voltage by the reference cell and the induced voltage by the main cell can be kept the same, thereby extending the life of the device.
그리고 센싱동작에 있어서 안정된 센스앰프의 레퍼런스전압을 공급할 수가 있으므로 안정된 센싱동작을 수행할 수 있다.In addition, since the reference voltage of the stable sense amplifier can be supplied in the sensing operation, the stable sensing operation can be performed.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100459214B1 (en) * | 2001-12-05 | 2004-12-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | nonvolatile ferroelectric memory device and method for operating main bit line load control block thereof |
KR100487417B1 (en) * | 2001-12-13 | 2005-05-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | nonvolatile ferroelectric memory device and method for operating write and read of multiple-bit data thereof |
KR100745602B1 (en) | 2005-12-09 | 2007-08-02 | 삼성전자주식회사 | Phase change memory device and memory cell array thereof |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100301822B1 (en) * | 1999-07-21 | 2001-11-01 | 김영환 | Sensing amp of nonvolatile ferroelectric memory device |
KR100447222B1 (en) * | 2001-09-17 | 2004-09-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | Ferroelectric memory and method for driving the same |
KR100459228B1 (en) * | 2002-01-26 | 2004-12-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Ferroelectric Random Access Memory Device and method for driving the same |
US6809949B2 (en) * | 2002-05-06 | 2004-10-26 | Symetrix Corporation | Ferroelectric memory |
KR100487920B1 (en) * | 2002-09-06 | 2005-05-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | Nonviolation ferroelectric memory device |
KR100492773B1 (en) * | 2002-12-02 | 2005-06-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | Ferroelectric Memory Device Comprising Extended Memory Region |
KR100506059B1 (en) * | 2002-12-09 | 2005-08-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | Nonviolation ferroelectric memory device |
JP4647313B2 (en) | 2005-01-06 | 2011-03-09 | 富士通セミコンダクター株式会社 | Semiconductor memory |
KR100657148B1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-12-13 | 매그나칩 반도체 유한회사 | Flash memory and reference cell control merthod of it |
KR100895389B1 (en) * | 2007-09-06 | 2009-04-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | Phase change memory device |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4433390A (en) * | 1981-07-30 | 1984-02-21 | The Bendix Corporation | Power processing reset system for a microprocessor responding to sudden deregulation of a voltage |
JPS59116685A (en) * | 1982-12-23 | 1984-07-05 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | Image display |
US4873664A (en) * | 1987-02-12 | 1989-10-10 | Ramtron Corporation | Self restoring ferroelectric memory |
US4888630A (en) * | 1988-03-21 | 1989-12-19 | Texas Instruments Incorporated | Floating-gate transistor with a non-linear intergate dielectric |
US5297007A (en) * | 1990-09-19 | 1994-03-22 | Rockwell International Corporation | E/M shielded RF circuit board |
US5371699A (en) * | 1992-11-17 | 1994-12-06 | Ramtron International Corporation | Non-volatile ferroelectric memory with folded bit lines and method of making the same |
JP3397427B2 (en) * | 1994-02-02 | 2003-04-14 | 株式会社東芝 | Semiconductor storage device |
US5701269A (en) * | 1994-11-28 | 1997-12-23 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory with hierarchical bit lines |
US5680344A (en) * | 1995-09-11 | 1997-10-21 | Micron Technology, Inc. | Circuit and method of operating a ferrolectric memory in a DRAM mode |
US5638318A (en) * | 1995-09-11 | 1997-06-10 | Micron Technology, Inc. | Ferroelectric memory using ferroelectric reference cells |
US5737260A (en) * | 1996-03-27 | 1998-04-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Dual mode ferroelectric memory reference scheme |
JPH09331032A (en) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
JPH1040682A (en) * | 1996-07-23 | 1998-02-13 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory |
US5680357A (en) * | 1996-09-09 | 1997-10-21 | Hewlett Packard Company | High speed, low noise, low power, electronic memory sensing scheme |
JPH10134596A (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-22 | Sony Corp | Semiconductor memory device |
JP3602939B2 (en) * | 1996-11-19 | 2004-12-15 | 松下電器産業株式会社 | Semiconductor storage device |
KR100242998B1 (en) * | 1996-12-30 | 2000-02-01 | 김영환 | Structure of cell array and sense amplifier |
JP3604524B2 (en) * | 1997-01-07 | 2004-12-22 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | Non-volatile ferroelectric memory |
US5872739A (en) * | 1997-04-17 | 1999-02-16 | Radiant Technologies | Sense amplifier for low read-voltage memory cells |
KR100261174B1 (en) * | 1997-12-12 | 2000-07-01 | 김영환 | Nonvolatile ferroelectric memory and method for manufacturing the same |
KR100287882B1 (en) * | 1998-11-03 | 2001-05-02 | 김영환 | Nonvolatile Ferroelectric Memory Device |
-
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100459214B1 (en) * | 2001-12-05 | 2004-12-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | nonvolatile ferroelectric memory device and method for operating main bit line load control block thereof |
KR100487417B1 (en) * | 2001-12-13 | 2005-05-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | nonvolatile ferroelectric memory device and method for operating write and read of multiple-bit data thereof |
KR100745602B1 (en) | 2005-12-09 | 2007-08-02 | 삼성전자주식회사 | Phase change memory device and memory cell array thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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