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JPWO2020080279A1 - Method of manufacturing conductors, conductors, superconducting power transmission lines, superconducting magnet devices and superconducting magnetic shield devices - Google Patents

Method of manufacturing conductors, conductors, superconducting power transmission lines, superconducting magnet devices and superconducting magnetic shield devices Download PDF

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JPWO2020080279A1 JP2020553147A JP2020553147A JPWO2020080279A1 JP WO2020080279 A1 JPWO2020080279 A1 JP WO2020080279A1 JP 2020553147 A JP2020553147 A JP 2020553147A JP 2020553147 A JP2020553147 A JP 2020553147A JP WO2020080279 A1 JPWO2020080279 A1 JP WO2020080279A1
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Abstract

鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む第1層を形成する導電体の製造方法において、(AE1−xAx)(Fe1−yTMy)2(As1−zPz)2・・・(化1)出発材料を、第1元素E1及び第2元素E2を含む気体(G1)に接触させるステップS4を有する。AEは、アルカリ土類金属元素であり、Aは、アルカリ金属元素であり、TMは、遷移金属元素である。xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。第1元素E1は、AEを含み、第2元素E2は、ヒ素を含む。(AE1-xAx) (Fe1-yTMy) in a method for producing a conductor in which a first layer containing the first compound represented by the following composition formula (Chemical Formula 1) is formed on at least the surface of a starting material containing iron. 2 (As1-zPz) 2 ... (Chemical formula 1) It has step S4 in which the starting material is brought into contact with a gas (G1) containing the first element E1 and the second element E2. AE is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, and TM is a transition metal element. x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8. The first element E1 contains AE and the second element E2 contains arsenic.

Description

本発明は、導電体の製造方法、導電体、超伝導送電線、超伝導磁石装置及び超伝導磁気シールド装置に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a conductor, a conductor, a superconducting power transmission line, a superconducting magnet device, and a superconducting magnetic shield device.

鉄系超伝導体の臨界温度Tは、例えば58K程度であり、銅酸化物系超伝導体の臨界温度に次いで高い。また、鉄系超伝導体の上部臨界磁場Hc2は、例えば100Tよりも大きく、銅酸化物系超伝導体の上部臨界磁場に次いで大きい。そのため、鉄系超伝導体は、強磁場を発生させる超伝導磁石装置等、強磁場応用が期待されている。 The critical temperature T c of the iron-based superconductor is, for example, about 58 K, which is the second highest after the critical temperature of the copper oxide-based superconductor. Further, the upper critical magnetic field Hc2 of the iron-based superconductor is larger than, for example, 100T, and is the second largest after the upper critical magnetic field of the copper oxide-based superconductor. Therefore, iron-based superconductors are expected to be applied to strong magnetic fields such as superconducting magnet devices that generate strong magnetic fields.

このような鉄系超伝導体として、鉄(Fe)とヒ素(As)等の第15族元素との化合物である鉄ニクタイドが知られており、鉄ニクタイドとして、(AE,A)(Fe,TM)(As,Pn)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素、Pnはニクトゲン元素)が知られている。このうち、BaFeAsは、上記した(AE,A)(Fe,TM)(As,Pn)の一組成であり、Ba122とも称される。As such an iron-based superconductor, iron nickamide, which is a compound of iron (Fe) and a Group 15 element such as arsenic (As), is known, and as iron nickamide, (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, Pn) 2 (AE is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, TM is a transition metal element, and Pn is a nictogen element) are known. Of these, BaFe 2 As 2 is one composition of (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, Pn) 2 described above, and is also referred to as Ba 122.

非特許文献1には、鉄系超伝導体であるBa(Fe1−xCoAs単結晶の上部臨界磁場Hc2の異方性が、2程度であり、銅酸化物系超伝導体の異方性よりも小さいことが記載されている。そのため、鉄系超伝導体の焼結体よりなる超伝導バルク体については、隣り合う2個の結晶粒の各々の配向方向のなす角度が0°から離れた場合でも、当該2個の結晶粒の間の界面を横切って流れる臨界電流密度が大きく減少することはない。従って、鉄系超伝導体の焼結体よりなる超伝導バルク体については、超伝導バルク体を形成する際に、結晶粒の配向方向を制御する必要がないので、大型の超伝導バルク体を容易に形成することができる。In Non-Patent Document 1, the anisotropy of the upper critical magnetic field H c2 of the iron-based superconductor Ba (Fe 1-x Co x ) 2 As 2 single crystal is about 2, and the cuprate superconductor It is described that it is smaller than the anisotropy of the conductor. Therefore, for a superconducting bulk body made of a sintered body of an iron-based superconductor, the two crystal grains are formed even if the orientation direction of each of the two adjacent crystal grains is separated from 0 °. The critical current density flowing across the interface between them does not decrease significantly. Therefore, for a superconducting bulk body made of a sintered body of an iron-based superconductor, it is not necessary to control the orientation direction of crystal grains when forming the superconducting bulk body, so that a large superconducting bulk body can be used. It can be easily formed.

特開2017−82318号公報(特許文献1)には、化学式AA’FeAsで表される鉄系化合物において、AはCaであり、A’はK、Rh及びCsから選ばれる少なくとも1つの元素であり、又は、AはSr及びEuから選ばれる少なくとも一つの元素であり、A’はRb及びCsから選ばれる少なくとも1つの元素であり、AFeAs層とA’FeAs層とが交互に積層した結晶構造を有し、結晶構造の空間群は、単純正方晶P4/mmmである技術が開示されている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-82318 (Patent Document 1), in the iron-based compound represented by the chemical formula AA'Fe 4 As 4 , A is Ca and A'is at least one selected from K, Rh and Cs. One element, or A is at least one element selected from Sr and Eu, A'is at least one element selected from Rb and Cs, AFe 2 As 2 layer and A'Fe 2 As 2 A technique is disclosed in which the layers have a crystal structure in which layers are alternately laminated, and the space group of the crystal structure is a simple square crystal P4 / mm.

特開2014−227329号公報(特許文献2)には、鉄系超伝導材料において、ThCrSiの結晶構造を持つ鉄系超伝導体と、BaXO(XはZr、Sn、Hf、Tiのうち1種又は2種以上を表す)で示される粒径30nm以下のナノ粒子とを有し、ナノ粒子が1×1021−3以上の体積密度で分散している技術が開示されている。Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-227329 (Patent Document 2) describes iron-based superconductors having a crystal structure of ThCr 2 Si 2 and BaXO 3 (X is Zr, Sn, Hf, Ti) in iron-based superconducting materials. Disclosed is a technique in which nanoparticles having a particle size of 30 nm or less and having nanoparticles having a particle size of 30 nm or less and having nanoparticles dispersed in a volume density of 1 × 10 21 m -3 or more are disclosed. There is.

特開2017−82318号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-82318 特開2014−227329号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-227329

A. Yamamoto et al., “Small anisotropy, weak thermal fluctuations, and high field superconductivity in Co-doped iron pnictide Ba(Fe1-xCox)2As2”, Applied Physics Letters 94 (2009) 062511A. Yamamoto et al., “Small anisotropy, weak thermal fluctuations, and high field superconductivity in Co-doped iron pnictide Ba (Fe1-xCox) 2As2”, Applied Physics Letters 94 (2009) 062511 A. S. Sefat et al., “Superconductivity at 22 K in Co-Doped BaFe2As2 Crystals”, Physical Review Letters 101 (2008) 117004A. S. Sefat et al., “Superconductivity at 22 K in Co-Doped BaFe2As2 Crystals”, Physical Review Letters 101 (2008) 117004

このような(AE,A)(Fe,TM)(As,Pn)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素、Pnはニクトゲン元素)については、生成機構が明らかになっていない。そのため、例えば大気圧よりも減圧されていない雰囲気下で、基材の表面層上に、(AE,A)(Fe,TM)(As,P)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素)を主成分とし、且つ、厚膜形状の超伝導体よりなる導電層を形成することは、困難である。Such (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, Pn) 2 (AE is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, TM is a transition metal element, and Pn is a nictogen element) are generated. The mechanism has not been clarified. Therefore, for example, in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, P) 2 (AE is an alkaline earth metal element, A) is placed on the surface layer of the base material. Is an alkali metal element, TM is a transition metal element) as a main component, and it is difficult to form a conductive layer made of a thick film-shaped superconductor.

また、上記した課題は、基材の表面層上に、(AE,A)(Fe,TM)(As,P)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素)を主成分とし、且つ、厚膜形状であるが、超伝導性を有しない導電層を形成する場合にも共通する課題である。Further, the above-mentioned problem is that (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, P) 2 (AE is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, and TM is a transition on the surface layer of the base material. It is also a common problem when forming a conductive layer containing (metal element) as a main component and having a thick film shape but not having superconductivity.

本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下でも、基材の表面層上に、(AE,A)(Fe,TM)(As,P)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素)を主成分とし、且つ、厚膜形状の導電層を有する導電体を形成することができる導電体の製造方法を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and the (AE, A) (AE, A) ( Fe, TM) 2 (As, P) 2 (AE is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, TM is a transition metal element) as the main component, and a conductor having a thick film-shaped conductive layer. It is an object of the present invention to provide a method for producing a conductor that can be formed.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。 A brief description of typical inventions disclosed in the present application is as follows.

本発明の一態様としての導電体の製造方法は、鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む第1層を形成する導電体の製造方法である。
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。当該導電体の製造方法は、出発材料を、第1元素及び第2元素を含む第1気体に接触させ、出発材料に含まれる鉄と、第1気体に含まれる第1元素及び第2元素とを反応させることにより、出発材料の少なくとも表面に第1層を形成する(a)工程を有する。第1元素は、AEを含み、第2元素は、ヒ素を含み、xが0<x<1を満たすとき、第1元素は、更にAを含み、yが0<y<0.5を満たすとき、出発材料は、更にTMを含み、且つ、(a)工程では、出発材料に含まれるTM及び鉄と、第1気体に含まれる第1元素及び第2元素とを反応させることにより、出発材料の少なくとも表面に第1層を形成し、zが0<z<0.8を満たすとき、第2元素は、更にリンを含む。
The method for producing a conductor as one aspect of the present invention is to form a first layer containing the first compound represented by the following composition formula (Chemical Formula 1) on at least the surface of a starting material containing iron. It is a manufacturing method.
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, A is at least one element selected from the group consisting of K and Na, and TM is Cr, Mn, Co and Ni. It is at least one element selected from the group consisting of, x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8. .. In the method for producing the conductor, the starting material is brought into contact with a first gas containing the first element and the second element, and iron contained in the starting material and the first element and the second element contained in the first gas are used. Has the step (a) of forming a first layer on at least the surface of the starting material by reacting. The first element contains AE, the second element contains arsenic, and when x satisfies 0 <x <1, the first element further contains A and y satisfies 0 <y <0.5. When the starting material further contains TM, and in step (a), the starting material is started by reacting TM and iron contained in the starting material with the first and second elements contained in the first gas. When a first layer is formed on at least the surface of the material and z satisfies 0 <z <0.8, the second element further comprises phosphorus.

また、他の一態様として、(a)工程では、第1元素及び第2元素を含む固体原料と出発材料とを加熱し、固体原料を加熱することにより第1気体を発生させ、発生した第1気体に、加熱された状態の出発材料を接触させてもよい。 Further, as another aspect, in the step (a), the solid raw material containing the first element and the second element and the starting material are heated, and the solid raw material is heated to generate the first gas, and the generated first gas is generated. 1 The starting material in a heated state may be brought into contact with the gas.

また、他の一態様として、(a)工程では、固体原料を第1温度に加熱し、出発材料を第2温度に加熱し、固体原料を第1温度に加熱することにより第1気体を発生させ、発生した第1気体に、第2温度に加熱された状態の出発材料を接触させてもよい。 As another aspect, in the step (a), the solid raw material is heated to the first temperature, the starting material is heated to the second temperature, and the solid raw material is heated to the first temperature to generate the first gas. The generated first gas may be brought into contact with the starting material heated to the second temperature.

また、他の一態様として、(a)工程では、固体原料を700℃以上の第3温度に加熱し、出発材料を700℃以上の第4温度に加熱し、固体原料を第3温度に加熱することにより第1気体を発生させ、発生した第1気体に、第4温度に加熱された状態の出発材料を接触させてもよい。 As another aspect, in the step (a), the solid raw material is heated to a third temperature of 700 ° C. or higher, the starting material is heated to a fourth temperature of 700 ° C. or higher, and the solid raw material is heated to a third temperature. By doing so, the first gas may be generated, and the generated first gas may be brought into contact with the starting material heated to the fourth temperature.

また、他の一態様として、当該導電体の製造方法は、(a)工程の前に、出発材料と固体原料とを、気密可能な容器内に配置する(b)工程と、(b)工程の後、(a)工程の前に、容器内を真空状態にするか、又は、容器内の雰囲気を不活性ガスにより置換する(c)工程と、を有してもよい。 Further, as another aspect, in the method for producing the conductor, the starting material and the solid raw material are arranged in an airtight container before the step (a), and the step (b) and the step (b). After that, before the step (a), there may be a step (c) in which the inside of the container is evacuated or the atmosphere in the container is replaced with an inert gas.

また、他の一態様として、当該導電体の製造方法は、(a)工程の後、第3元素を含む第2気体又は第1液体に第1層を接触させることにより、第1層に含まれるAEの一部を第3元素により置換する(d)工程を有し、第3元素は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含んでもよい。 Further, as another aspect, the method for producing the conductor is included in the first layer by bringing the first layer into contact with a second gas or a first liquid containing a third element after the step (a). It has the step (d) of substituting a part of the AE with a third element, and the third element may contain at least one element selected from the group consisting of K and Na.

また、他の一態様として、当該導電体の製造方法は、(a)工程の後、第4元素を含む第3気体又は第2液体に第1層を接触させることにより、第1層に含まれるヒ素の一部を第4元素により置換する(e)工程を有し、第4元素は、リンを含んでもよい。 Further, as another aspect, the method for producing the conductor is included in the first layer by bringing the first layer into contact with a third gas or a second liquid containing a fourth element after the step (a). It has a step (e) of substituting a part of arsenic with a fourth element, and the fourth element may contain phosphorus.

また、本発明の一態様としての導電体の製造方法は、鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む第1層を形成する導電体の製造方法である。
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。当該導電体の製造方法は、出発材料を、第1元素を含む第1気体に接触させ、出発材料に含まれる鉄と、第1気体に含まれる第1元素とを反応させることにより、出発材料の少なくとも表面に、鉄とヒ素とを含む第2化合物を含む第2層を形成する(a)工程と、(a)工程の後、出発材料を、第2元素を含む第2気体に接触させ、第2層に含まれる第2化合物と、第2気体に含まれる第2元素とを反応させることにより、出発材料の少なくとも表面に第1層を形成する(b)工程と、を有する。第1元素は、ヒ素を含み、第2元素は、AEを含み、xが0<x<1を満たすとき、第2元素は、更にAを含み、yが0<y<0.5を満たすとき、出発材料は、更にTMを含み、且つ、(a)工程では、出発材料に含まれるTM及び鉄と、第1気体に含まれる第1元素とを反応させることにより、出発材料の少なくとも表面に、TM及び鉄とヒ素とを含む第2化合物を含む第2層を形成し、zが0<z<0.8を満たすとき、第1元素は、更にリンを含む。
Further, in the method for producing a conductor as one aspect of the present invention, a conductor containing a first layer containing a first compound represented by the following composition formula (Chemical Formula 1) is formed on at least the surface of a starting material containing iron. It is a method of manufacturing a body.
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, A is at least one element selected from the group consisting of K and Na, and TM is Cr, Mn, Co and Ni. It is at least one element selected from the group consisting of, x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8. .. In the method for producing the conductor, the starting material is brought into contact with a first gas containing the first element, and iron contained in the starting material is reacted with the first element contained in the first gas to cause the starting material. After the steps (a) and (a) of forming a second layer containing the second compound containing iron and arsenic on at least the surface of the above, the starting material is brought into contact with the second gas containing the second element. , The step (b) of forming the first layer on at least the surface of the starting material by reacting the second compound contained in the second layer with the second element contained in the second gas. The first element contains arsenic, the second element contains AE, and when x satisfies 0 <x <1, the second element further contains A and y satisfies 0 <y <0.5. When the starting material further contains TM, and in step (a), at least the surface of the starting material is formed by reacting TM and iron contained in the starting material with the first element contained in the first gas. A second layer containing TM and a second compound containing iron and arsenic is formed, and when z satisfies 0 <z <0.8, the first element further contains phosphorus.

また、他の一態様として、(a)工程では、第1元素を含む第1固体原料と出発材料とを加熱し、第1固体原料を加熱することにより第1気体を発生させ、発生した第1気体に、加熱された状態の出発材料を接触させ、(b)工程では、第2元素を含む第2固体原料と出発材料とを加熱し、第2固体原料を加熱することにより第2気体を発生させ、発生した第2気体に、加熱された状態の出発材料を接触させてもよい。 As another aspect, in the step (a), the first solid raw material containing the first element and the starting material are heated, and the first solid raw material is heated to generate a first gas, and the generated first gas is generated. The heated starting material is brought into contact with the 1 gas, and in the step (b), the second solid raw material containing the second element and the starting material are heated, and the second solid raw material is heated to heat the second gas. The generated second gas may be brought into contact with the starting material in a heated state.

また、他の一態様として、当該導電体の製造方法は、(b)工程の後、第3元素を含む第3気体又は第1液体に第1層を接触させることにより、第1層に含まれるAEの一部を第3元素により置換する(c)工程を有し、第3元素は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含んでもよい。 Further, as another aspect, the method for producing the conductor is included in the first layer by bringing the first layer into contact with a third gas or a first liquid containing a third element after the step (b). It has the step (c) of substituting a part of the AE with a third element, and the third element may contain at least one element selected from the group consisting of K and Na.

また、他の一態様として、当該導電体の製造方法は、(b)工程の後、第4元素を含む第4気体又は第2液体に第1層を接触させることにより、第1層に含まれるヒ素の一部を第4元素により置換する(d)工程を有し、第4元素は、リンを含んでもよい。 Further, as another aspect, the method for producing the conductor is included in the first layer by bringing the first layer into contact with a fourth gas or a second liquid containing a fourth element after the step (b). It has the step (d) of substituting a part of the arsenic with a fourth element, and the fourth element may contain phosphorus.

本発明の一態様としての導電体は、金属鉄を主成分として含む第1層と、第1層と積層された第2層と、を有し、第2層は、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む。
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。
The conductor as one aspect of the present invention has a first layer containing metallic iron as a main component and a second layer laminated with the first layer, and the second layer has the following composition formula (formulation). Contains the first compound represented by 1).
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, A is at least one element selected from the group consisting of K and Na, and TM is Cr, Mn, Co and Ni. It is at least one element selected from the group consisting of, x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8. ..

また、他の一態様として、当該導電体は、第1層と第2層との間に介在する介在物を有し、介在物は、組成式FeAsで表される第2化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄を含んでもよい。Further, as another aspect, the conductor has inclusions interposed between the first layer and the second layer, and the inclusions are a second compound represented by the composition formula Fe 2 As, or , Iron in which arsenic is dissolved may be contained.

また、他の一態様として、第2層は、超伝導性を有してもよい。 Further, as another aspect, the second layer may have superconductivity.

また、他の一態様として、当該導電体は、第1面及び第1面と反対側の第2面よりなる線状形状又は板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材を有し、第1層は、基材の第1面又は第2面の表面層であってもよい。 Further, as another aspect, the conductor has a linear shape or a plate shape composed of a first surface and a second surface opposite to the first surface, and is a base material containing metallic iron as a main component. The first layer may be the surface layer of the first surface or the second surface of the base material.

また、他の一態様として、当該導電体は、第3面及び第3面と反対側の第4面よりなる板状形状をそれぞれ備え、且つ、金属鉄をそれぞれ主成分として含む複数の基材を有し、第1層は、複数の基材の各々の第3面又は第4面の表面層であり、複数の基材は、複数の基材の各々の厚さ方向に積層されていてもよい。 Further, as another aspect, the conductor has a plate-like shape composed of a third surface and a fourth surface opposite to the third surface, and a plurality of base materials each containing metallic iron as a main component. The first layer is the surface layer of the third surface or the fourth surface of each of the plurality of base materials, and the plurality of base materials are laminated in the thickness direction of each of the plurality of base materials. May be good.

本発明の一態様としての超伝導送電線は、当該導電体を備え、基材は、線状形状を備えている。 The superconducting power transmission line as one aspect of the present invention includes the conductor, and the base material has a linear shape.

本発明の一態様としての超伝導磁石装置は、当該導電体を備えている。 The superconducting magnet device as one aspect of the present invention includes the conductor.

本発明の一態様としての超伝導磁気シールド装置は、当該導電体を備えている。 The superconducting magnetic shield device as one aspect of the present invention includes the conductor.

本発明の一態様を適用することで、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下でも、基材の表面層上に、(AE,A)(Fe,TM)(As,P)(AEはアルカリ土類金属元素、Aはアルカリ金属元素、TMは遷移金属元素)を主成分とし、且つ、厚膜形状の導電層を有する導電体を形成することができる。 By applying one aspect of the present invention, (AE, A) (Fe, TM) 2 (As, P) 2 (AE) can be placed on the surface layer of the base material even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure. Is an alkaline earth metal element, A is an alkali metal element, and TM is a transition metal element), and a conductor having a thick film-shaped conductive layer can be formed.

実施の形態の導電体の一例を示す一部断面を含む斜視図である。It is a perspective view which includes a partial cross section which shows an example of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the conductor of an embodiment. 実施の形態の第1変形例の導電体の一部断面を含む斜視図である。It is a perspective view which includes a partial cross section of the conductor of the 1st modification of embodiment. 実施の形態の第2変形例の導電体の一部断面を含む斜視図である。It is a perspective view which includes a partial cross section of the conductor of the 2nd modification of embodiment. 実施の形態の導電体の製造工程の一部を示すプロセスフロー図である。It is a process flow diagram which shows a part of the manufacturing process of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の製造工程中の一部断面を含む斜視図である。It is a perspective view which includes a partial cross section in the manufacturing process of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の製造工程中の断面図である。It is sectional drawing in the manufacturing process of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の製造工程中の断面図である。It is sectional drawing in the manufacturing process of the conductor of an embodiment. 実施の形態の導電体の製造工程中の断面図である。It is sectional drawing in the manufacturing process of the conductor of an embodiment. 実施の形態の変形例の導電体の製造工程の一部を示すプロセスフロー図である。It is a process flow diagram which shows a part of the manufacturing process of the conductor of the modification of embodiment. 実施の形態の変形例の導電体の製造工程中の断面図である。It is sectional drawing in the manufacturing process of the conductor of the modification of embodiment. 実施の形態の変形例の導電体の製造工程中の断面図である。It is sectional drawing in the manufacturing process of the conductor of the modification of embodiment. 比較例及び実施例1乃至3の導電体の表面のXRD法によるθ−2θスペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the θ-2θ spectrum by the XRD method of the surface of the conductor of the comparative example and Examples 1 to 3. 実施例4及び5の導電体の表面のXRD法によるθ−2θスペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the θ-2θ spectrum by the XRD method of the surface of the conductor of Examples 4 and 5. 実施例4の導電体の電気抵抗の温度依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature dependence of the electric resistance of the conductor of Example 4. 実施例4の導電体の電気抵抗の温度依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature dependence of the electric resistance of the conductor of Example 4. 実施例5の導電体の電気抵抗の温度依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the temperature dependence of the electric resistance of the conductor of Example 5. 実施例8の導電体の表面付近での断面の反射電子(BSE)像を示す写真である。It is a photograph which shows the reflected electron (BSE) image of the cross section in the vicinity of the surface of the conductor of Example 8. 実施例8の導電体の別の例の表面付近での断面の反射電子(BSE)像を示す写真である。It is a photograph which shows the reflected electron (BSE) image of the cross section in the vicinity of the surface of another example of the conductor of Example 8. 実施例9の導電体を形成する前の純Feワイヤよりなる出発材料の写真である。It is a photograph of the starting material made of pure Fe wire before forming the conductor of Example 9. 図21に示した出発材料をAsを含む気体に接触させた後の出発材料の写真である。It is a photograph of the starting material after contacting the starting material shown in FIG. 21 with a gas containing As. 図22に示した出発材料をBaを含む気体に接触させて実施例9の導電体が形成された後の出発材料の写真である。It is a photograph of the starting material after the starting material shown in FIG. 22 was brought into contact with a gas containing Ba to form the conductor of Example 9. 実施例10の導電体の表面付近での断面の反射電子(BSE)像を示す写真である。It is a photograph which shows the reflected electron (BSE) image of the cross section in the vicinity of the surface of the conductor of Example 10. 図24の写真をトレースすることにより実施例10の導電体の表面付近での断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross section in the vicinity of the surface of the conductor of Example 10 by tracing the photograph of FIG. 24.

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。 It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the gist of the invention are naturally included in the scope of the present invention. Further, in order to clarify the description, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the embodiment, but this is just an example, and the interpretation of the present invention is used. It is not limited.

また本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Further, in the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures may be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.

更に、実施の形態で用いる図面においては、構造物を区別するために付したハッチング(網掛け)を図面に応じて省略する場合もある。 Further, in the drawings used in the embodiments, hatching (shading) attached to distinguish the structures may be omitted depending on the drawings.

なお、以下の実施の形態においてA〜Bとして範囲を示す場合には、特に明示した場合を除き、A以上B以下を示すものとする。 In the following embodiments, when the range is indicated as A to B, A or more and B or less are indicated unless otherwise specified.

(実施の形態)
<導電体>
始めに、本発明の一実施形態である実施の形態の導電体について説明する。
(Embodiment)
<Conductor>
First, the conductor of the embodiment which is one embodiment of the present invention will be described.

図1は、実施の形態の導電体の一例を示す一部断面を含む斜視図である。図1では、導電体の一部を除去して透視した状態を示し、導電体のうち除去された部分を二点鎖線で示している。図2は、実施の形態の導電体の一例を示す断面図である。 FIG. 1 is a perspective view including a partial cross section showing an example of the conductor of the embodiment. In FIG. 1, a state in which a part of the conductor is removed and seen through is shown, and the removed part of the conductor is shown by a chain double-dashed line. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the conductor of the embodiment.

図1及び図2に示すように、本実施の形態の導電体10は、層11と、層11と積層された層12と、を有する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the conductor 10 of the present embodiment has a layer 11 and a layer 12 laminated with the layer 11.

層11は、金属鉄を主成分として含む。ここで、金属鉄とは、例えば酸化鉄等の、鉄原子と鉄以外の元素の原子とがイオン結合又は共有結合した化合物ではなく、鉄原子同士が金属結合した金属であって、且つ、鉄を主成分として含有、即ち重量分率で50%以上の鉄を含有する金属を意味する。また、層11が、金属鉄を主成分として含む、とは、層11が重量分率で50%以上の金属鉄を含むことを意味する。 The layer 11 contains metallic iron as a main component. Here, metallic iron is not a compound in which an iron atom and an atom of an element other than iron, such as iron oxide, are ion-bonded or covalently bonded, but a metal in which iron atoms are metal-bonded to each other, and iron. Means a metal containing as a main component, that is, iron containing 50% or more by weight. Further, the fact that the layer 11 contains metallic iron as a main component means that the layer 11 contains metallic iron in a weight fraction of 50% or more.

層12は、以下の組成式(化2)で表される化合物を含む。
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化2)
AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。即ち、AEは、アルカリ土類金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、Aは、アルカリ金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、TMは、遷移金属元素のうち少なくとも一種の元素である。また、上記組成式(化2)において、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。なお、上記組成式(化2)は、上記組成式(化1)と同一の化合物を表す。
The layer 12 contains a compound represented by the following composition formula (Chemical formula 2).
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 2)
AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, A is at least one element selected from the group consisting of K and Na, and TM is Cr, Mn, Co and Ni. It is at least one element selected from the group consisting of. That is, AE is at least one element of alkaline earth metal elements, A is at least one element of alkali metal elements, and TM is at least one element of transition metal elements. Further, in the above composition formula (Formula 2), x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8. The composition formula (Chemical formula 2) represents the same compound as the composition formula (Chemical formula 1).

このような場合、後述する図6乃至図10を用いて説明するように、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下でも、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を主成分として含む基材の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を容易に形成することができる。 In such a case, as will be described with reference to FIGS. 6 to 10 described later, a base material containing iron as a main component having various volumes and various shapes even in an atmosphere where the pressure is not reduced from atmospheric pressure. A layer 12 having a thick film shape of, for example, 10 μm or more can be easily formed on the layer 11 as a surface layer, and a conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be easily formed.

上記組成式(化2)で表される化合物において、xがx=0を満たし、yがy=0を満たし、zがz=0を満たすとき、上記組成式(化2)で表される化合物は、以下の組成式(化3)で表される。
AEFeAs・・・(化3)
AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。
In the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2), when x satisfies x = 0, y satisfies y = 0, and z satisfies z = 0, it is represented by the above composition formula (Chemical formula 2). The compound is represented by the following composition formula (Chemical Formula 3).
AEFe 2 As 2 ... (Chemical 3)
AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr.

また、上記組成式(化3)で表される化合物において、AEがBaであるとき、上記組成式(化3)で表される化合物は、以下の組成式(化4)で表される。
BaFeAs・・・(化4)
Further, in the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 3), when AE is Ba, the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 3) is represented by the following composition formula (Chemical formula 4).
BaFe 2 As 2 ... (Chemical formula 4)

以下では、上記組成式(化4)で表される化合物を、Ba122と称する。Ba122の結晶構造は、複数のFeAs層と、複数のBa層とを有し、FeAs層とBa層とが交互に積層されている。Hereinafter, the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 4) is referred to as Ba122. The crystal structure of Ba122 has a plurality of Fe 2 As 2 layers and a plurality of Ba layers, and Fe 2 As 2 layers and Ba layers are alternately laminated.

例えば、上記組成式(化2)においてxがx>0を満たすか、又は、yがy>0を満たすとき、即ち、上記組成式(化3)で表される化合物に含まれるAEの一部がAにより置換されたか、又は、上記組成式(化3)で表される化合物に含まれるFeの一部がTMにより置換されたとき、上記組成式(化2)で表される化合物は、常温よりも低い臨界温度よりも更に低い温度に冷却された状態で、超伝導性を有する。これにより、本実施の形態の導電体を、超伝導体としての各種の用途に用いることができる。 For example, when x satisfies x> 0 or y satisfies y> 0 in the above composition formula (Chemical formula 2), that is, one of the AEs contained in the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 3). When the part is replaced by A or a part of Fe contained in the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 3) is replaced by TM, the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2) is It has superconductivity when cooled to a temperature lower than the critical temperature lower than room temperature. As a result, the conductor of the present embodiment can be used for various purposes as a superconductor.

上記組成式(化4)で表される化合物(Ba122)に含まれるBaの一部がKにより置換される場合、Ba122に電荷担体としての正孔が導入されることにより、Ba122が超伝導性を有し、超伝導性を有するBa122の臨界温度Tは、例えば38K程度である。また、上記組成式(化4)で表される化合物(Ba122)に含まれるFeの一部がCoにより置換される場合、Ba122に電荷担体としての電子が導入されることにより、Ba122が超伝導性を有し、超伝導性を有するBa122の臨界温度Tは、例えば27K程度である。When a part of Ba contained in the compound (Ba122) represented by the above composition formula (Chemical formula 4) is replaced by K, Ba122 becomes superconducting by introducing holes as charge carriers into Ba122. It has a critical temperature T c of Ba122 having superconductivity, for example, about 38K. Further, when a part of Fe contained in the compound (Ba122) represented by the above composition formula (Chemical formula 4) is replaced by Co, Ba122 becomes superconducting by introducing an electron as a charge carrier into Ba122. having sex, the critical temperature T c of Ba122 having superconductivity, for example, about 27K.

図1及び図2に示すように、好適には、本実施の形態の導電体10は、面13a及び面13aと反対側の面13bよりなる板状形状又はテープ線材のような線状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を有し、層11は、基材13の面13a又は面13bの表面層である。 As shown in FIGS. 1 and 2, preferably, the conductor 10 of the present embodiment has a plate-like shape composed of a surface 13a and a surface 13b opposite to the surface 13a, or a linear shape such as a tape wire rod. It also has a base material 13 containing metallic iron as a main component, and the layer 11 is a surface layer of the surface 13a or the surface 13b of the base material 13.

これにより、各種の体積及び各種の形状を有する鉄部材として、各種の汎用的な鉄板を用いることができるので、導電体の製造コストを低減することができる。 As a result, various general-purpose iron plates can be used as the iron members having various volumes and various shapes, so that the manufacturing cost of the conductor can be reduced.

図3は、実施の形態の導電体の他の例を示す断面図である。図3に示すように、本実施の形態の導電体10は、層11と層12との間に介在する介在物14を有してもよく、介在物14は、以下の組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含んでもよい。
FeAs・・・(化5)
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the conductor of the embodiment. As shown in FIG. 3, the conductor 10 of the present embodiment may have an inclusion 14 interposed between the layer 11 and the layer 12, and the inclusion 14 has the following composition formula (Chemical formula 5). ), Or iron in which arsenic is dissolved may be contained.
Fe 2 As ... (Chemical formula 5)

後述する図6乃至図10を用いて説明するように、本実施の形態の導電体の製造方法により導電体10を製造する場合において、ヒ素を含む固体原料を加熱することによりヒ素を含む気体を発生させ、発生したヒ素を含む気体に、加熱された状態の鉄を含む出発材料を接触させる際に、出発材料に含まれる鉄と、気体に含まれるヒ素とが反応することにより、層11と層12との間に、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む介在物14が形成されることがある。言い換えれば、層11と層12との間に、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む介在物14が形成されている場合、導電体10が、本実施の形態の導電体の製造方法により製造されたものであることが分かる。 As will be described with reference to FIGS. 6 to 10 described later, in the case of producing the conductor 10 by the method for producing the conductor of the present embodiment, the gas containing arsenic is produced by heating the solid raw material containing arsenic. When the generated gas containing arsenic is brought into contact with the starting material containing heated iron, the iron contained in the starting material reacts with the arsenic contained in the gas to cause the layer 11 and the layer 11. An inclusion 14 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is dissolved may be formed between the layer 12 and the layer 12. In other words, when an inclusion 14 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is dissolved is formed between the layer 11 and the layer 12, the conductor 10 is formed. However, it can be seen that it was produced by the method for producing a conductor of the present embodiment.

後述する図24及び図25を用いて説明するように、好適には、層11と層12との間に介在する介在物14は、層14bと、層14cと、を含む。層14cは、層14bと層12との間に配置されている。層14bは、層本体14dと、層本体14d中に分散配置された複数の粒子14eと、を含む。層14cは、ヒ素が固溶した鉄を含み、層本体14dは、上記組成式(化5)で表される化合物を含み、粒子14eは、ヒ素が固溶した鉄を含む。このような場合、出発材料13cの表面に上記組成式(化2)で表される層12を容易に形成することができるので、例えば長尺の導電体を容易に製造することができる。 As will be described with reference to FIGS. 24 and 25, which will be described later, preferably, the inclusion 14 interposed between the layer 11 and the layer 12 includes the layer 14b and the layer 14c. The layer 14c is arranged between the layer 14b and the layer 12. The layer 14b includes a layer body 14d and a plurality of particles 14e dispersed in the layer body 14d. The layer 14c contains iron in which arsenic is dissolved, the layer body 14d contains the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5), and the particles 14e contain iron in which arsenic is dissolved. In such a case, since the layer 12 represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) can be easily formed on the surface of the starting material 13c, for example, a long conductor can be easily manufactured.

本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を超伝導線材として備えた送電線を、超伝導送電線10aとして用いることができる。即ち、本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を備えた超伝導送電線10aを実現することができる。 When the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, a transmission line provided with the conductor 10 of the present embodiment as a superconducting wire can be used as the superconducting power transmission line 10a. That is, when the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, the superconducting power transmission line 10a provided with the conductor 10 of the present embodiment can be realized.

また、本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を超伝導線材としてコイル状に巻回してなる超伝導コイルを、超伝導磁石装置10bとして用いることができる。即ち、本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を備えた超伝導磁石装置10bを実現することができる。 When the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, a superconducting coil formed by winding the conductor 10 of the present embodiment into a coil as a superconducting wire is used as the superconducting magnet device 10b. be able to. That is, when the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, the superconducting magnet device 10b provided with the conductor 10 of the present embodiment can be realized.

また、本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を超伝導線材としてコイル状に巻回してなる超伝導コイルを、超伝導磁気シールド装置10cとして用いることができる。即ち、本実施の形態の導電体10が超伝導性を有する場合、本実施の形態の導電体10を備えた超伝導磁気シールド装置10cを実現することができる。 When the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, a superconducting coil formed by winding the conductor 10 of the present embodiment into a coil as a superconducting wire is used as a superconducting magnetic shield device 10c. Can be used. That is, when the conductor 10 of the present embodiment has superconductivity, the superconducting magnetic shield device 10c provided with the conductor 10 of the present embodiment can be realized.

<導電体の変形例>
次に、本実施の形態の導電体の各種の変形例について説明する。
<Modification example of conductor>
Next, various modifications of the conductor of the present embodiment will be described.

図4は、実施の形態の第1変形例の導電体の一部断面を含む斜視図である。図4では、導電体の一部を除去して透視した状態を示し、導電体のうち除去された部分を二点鎖線で示している。 FIG. 4 is a perspective view including a partial cross section of the conductor of the first modification of the embodiment. In FIG. 4, a state in which a part of the conductor is removed and seen through is shown, and the removed part of the conductor is shown by a chain double-dashed line.

図4に示すように、本第1変形例の導電体10は、線状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を有し、層11は、基材13の表面層である。また、層12は、層11と積層されている。 As shown in FIG. 4, the conductor 10 of the first modification has a linear shape and has a base material 13 containing metallic iron as a main component, and the layer 11 is a surface layer of the base material 13. Is. Further, the layer 12 is laminated with the layer 11.

これにより、各種の体積及び各種の形状を有する鉄部材として、各種の汎用的な鉄ワイヤを用いることができるので、導電体の製造コストを低減することができる。 As a result, various general-purpose iron wires can be used as the iron members having various volumes and various shapes, so that the manufacturing cost of the conductor can be reduced.

本第1変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第1変形例の導電体10を超伝導線材として備えた送電線を、超伝導送電線10aとして用いることができる。また、本第1変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第1変形例の導電体10を超伝導線材としてコイル状に巻回してなる超伝導コイルを、超伝導磁石装置10b又は超伝導磁気シールド装置10cとして用いることができる。 When the conductor 10 of the first modification has superconductivity, a transmission line provided with the conductor 10 of the first modification as a superconducting wire can be used as the superconducting transmission line 10a. Further, when the conductor 10 of the first modification has superconductivity, the superconducting coil formed by winding the conductor 10 of the first modification into a coil as a superconducting wire is used as a superconducting magnet device 10b. Alternatively, it can be used as a superconducting magnetic shield device 10c.

図5は、実施の形態の第2変形例の導電体の一部断面を含む斜視図である。図5では、導電体の一部を除去して透視した状態を示し、導電体のうち除去された部分を二点鎖線で示している。 FIG. 5 is a perspective view including a partial cross section of the conductor of the second modification of the embodiment. In FIG. 5, a state in which a part of the conductor is removed and seen through is shown, and the removed part of the conductor is shown by a chain double-dashed line.

図5に示すように、本第2変形例の導電体10は、面13a(図2参照)及び面13aと反対側の面13b(図2参照)よりなる板状形状をそれぞれ備え、且つ、金属鉄をそれぞれ主成分として含む複数の基材13を有し、層11は、複数の基材13の各々の面13a又は面13bの表面層であり、複数の基材13は、複数の基材13の各々の厚さ方向に積層されている。また、複数の基材13の各々において、層12は、層11と積層されている。 As shown in FIG. 5, the conductor 10 of the second modification has a plate-like shape composed of a surface 13a (see FIG. 2) and a surface 13b (see FIG. 2) opposite to the surface 13a, respectively. It has a plurality of base materials 13 each containing metallic iron as a main component, the layer 11 is a surface layer of each surface 13a or surface 13b of the plurality of base materials 13, and the plurality of base materials 13 are a plurality of groups. The materials 13 are laminated in each thickness direction. Further, in each of the plurality of base materials 13, the layer 12 is laminated with the layer 11.

このような場合、薄い鉄板をそれぞれ有する複数の導電体を厚さ方向に積層することにより、基材としての厚い鉄板の表面に層12を形成することができるので、導電体の製造コストを増大させずに基材の体積を容易に増加させることができる。 In such a case, by laminating a plurality of conductors having thin iron plates in the thickness direction, the layer 12 can be formed on the surface of the thick iron plate as the base material, which increases the manufacturing cost of the conductors. The volume of the base material can be easily increased without causing it.

また、本第2変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第2変形例の導電体10よりなる超伝導バルク体を、超伝導磁石装置10b又は超伝導磁気シールド装置10cとして用いることができる。即ち、本第2変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第2変形例の導電体10を備えた超伝導磁石装置10b又は超伝導磁気シールド装置10cを実現することができる。 When the conductor 10 of the second modification has superconductivity, the superconducting bulk body made of the conductor 10 of the second modification is used as the superconducting magnet device 10b or the superconducting magnetic shield device 10c. be able to. That is, when the conductor 10 of the second modification has superconductivity, the superconducting magnet device 10b or the superconducting magnetic shield device 10c provided with the conductor 10 of the second modification can be realized.

本第2変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第2変形例の導電体10を超伝導線材として備えた送電線を、超伝導送電線10aとして用いることができる。また、本第2変形例の導電体10が超伝導性を有する場合、本第2変形例の導電体10を超伝導線材としてコイル状に巻回してなる超伝導コイルを、超伝導磁石装置10b又は超伝導磁気シールド装置10cとして用いることができる。 When the conductor 10 of the second modification has superconductivity, a transmission line provided with the conductor 10 of the second modification as a superconducting wire can be used as the superconducting transmission line 10a. When the conductor 10 of the second modification has superconductivity, a superconducting coil formed by winding the conductor 10 of the second modification into a coil as a superconducting wire is used as a superconducting magnet device 10b. Alternatively, it can be used as a superconducting magnetic shield device 10c.

<導電体の製造方法>
次に、本実施の形態の導電体の製造方法を説明する。本実施の形態の導電体の製造方法は、鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、上記組成式(化2)で表される化合物を含む層を形成するものである。また、上記組成式(化2)において、AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。即ち、AEは、アルカリ土類金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、Aは、アルカリ金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、TMは、遷移金属元素のうち少なくとも一種の元素である。また、上記組成式(化2)において、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。
<Manufacturing method of conductor>
Next, a method for manufacturing the conductor of the present embodiment will be described. In the method for producing a conductor of the present embodiment, a layer containing a compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is formed on at least the surface of a starting material containing iron. Further, in the above composition formula (Chemical formula 2), AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, and A is at least one element selected from the group consisting of K and Na. , TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni. That is, AE is at least one element of alkaline earth metal elements, A is at least one element of alkali metal elements, and TM is at least one element of transition metal elements. Further, in the above composition formula (Formula 2), x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8.

なお、本実施の形態の導電体の製造方法は、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させる点で、出発材料に含まれる鉄とヒ素とを反応させることにより、鉄とヒ素とを含む化合物を形成した後、鉄とヒ素とを含む化合物とBaとを反応させる実施の形態の導電体の製造方法と異なる。 In the method for producing a conductor of the present embodiment, iron and arsenic contained in the starting material are reacted at the same time, and iron and arsenic contained in the starting material are reacted to form iron and arsenic. This is different from the method for producing a conductor according to the embodiment in which Ba is reacted with a compound containing iron and arsenic after forming a compound containing.

図6は、実施の形態の導電体の製造工程の一部を示すプロセスフロー図である。図7は、実施の形態の導電体の製造工程中の一部断面を含む斜視図である。図7では、出発材料の一部を除去して透視した状態を示し、出発材料のうち除去された部分を二点鎖線で示している。図8乃至図10は、実施の形態の導電体の製造工程中の断面図である。 FIG. 6 is a process flow diagram showing a part of the conductor manufacturing process of the embodiment. FIG. 7 is a perspective view including a partial cross section during the manufacturing process of the conductor of the embodiment. FIG. 7 shows a state in which a part of the starting material is removed and seen through, and the removed part of the starting material is shown by a chain double-dashed line. 8 to 10 are cross-sectional views of the conductor of the embodiment during the manufacturing process.

まず、出発材料13cと固体原料15とを用意する(図6のステップS1)。 First, the starting material 13c and the solid raw material 15 are prepared (step S1 in FIG. 6).

このステップS1では、図7に示すように、鉄を含む出発材料13cを用意する。鉄を含む出発材料13cとして、面13a及び面13aと反対側の面13b(図2参照)よりなる板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を、用意する。上記組成式(化2)においてyが0<y<0.5を満たすとき、出発材料13cは、更にTMを含む。前述したように、上記組成式(化2)におけるTMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。 In this step S1, as shown in FIG. 7, a starting material 13c containing iron is prepared. As the starting material 13c containing iron, a base material 13 having a plate-like shape composed of a surface 13a and a surface 13b opposite to the surface 13a (see FIG. 2) and containing metallic iron as a main component is prepared. When y satisfies 0 <y <0.5 in the above composition formula (Formula 2), the starting material 13c further contains TM. As described above, TM in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni.

好適には、出発材料13cとして、例えば炭素等の不純物の含有量の少ない純鉄を用いることができる。これにより、上記組成式(化2)で表される化合物を含む層12(後述する図9参照)を容易に形成することができる。 Preferably, as the starting material 13c, pure iron having a low content of impurities such as carbon can be used. Thereby, the layer 12 (see FIG. 9 described later) containing the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2) can be easily formed.

また、このステップS1では、図8に示すように、第1元素E1及び第2元素E2を含む固体原料15を用意する。第1元素E1は、上記組成式(化2)におけるAEを含み、第2元素E2は、ヒ素(As)を含む。前述したように、上記組成式(化2)におけるAEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。 Further, in this step S1, as shown in FIG. 8, a solid raw material 15 containing the first element E1 and the second element E2 is prepared. The first element E1 contains AE in the above composition formula (Chemical formula 2), and the second element E2 contains arsenic (As). As described above, AE in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr.

第1元素E1がAEを含み、第2元素E2がヒ素を含むとき、固体原料15として、例えば組成式BaAsで表される固体原料を用いることができる。固体原料15として、BaAsで表される固体原料を用いる場合、第1元素E1に対する第2元素E2のモル比が2になり、上記組成式(化4)で表される化合物の組成に等しくなるので、Ba122を含む層12を容易に形成することができる。なお、固体原料15中でBaとAsとが反応していてもよく、BaとAsとが反応していなくてもよい。When the first element E1 contains AE and the second element E2 contains arsenic, as the solid raw material 15, for example, a solid raw material represented by the composition formula BaAs 2 can be used. When a solid raw material represented by BaAs 2 is used as the solid raw material 15, the molar ratio of the second element E2 to the first element E1 is 2, which is equal to the composition of the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 4). Therefore, the layer 12 including Ba122 can be easily formed. In the solid raw material 15, Ba and As may be reacting with each other, and Ba and As may not be reacting with each other.

また、上記組成式(化2)においてxが0<x<1を満たすとき、第1元素E1は、更に上記組成式(化2)におけるAを含み、上記組成式(化2)においてzが0<z<0.8を満たすとき、第2元素E2は、更にリン(P)を含む。前述したように、上記組成式(化2)におけるAは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。 Further, when x satisfies 0 <x <1 in the above composition formula (Chemical formula 2), the first element E1 further contains A in the above composition formula (Chemical formula 2), and z in the above composition formula (Chemical formula 2). When 0 <z <0.8 is satisfied, the second element E2 further contains phosphorus (P). As described above, A in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of K and Na.

次に、図8に示すように、出発材料13cと固体原料15とを、気密可能な容器16内に配置する(図6のステップS2)。 Next, as shown in FIG. 8, the starting material 13c and the solid raw material 15 are placed in the airtight container 16 (step S2 in FIG. 6).

このステップS2では、固体原料15が出発材料13cから離隔している状態か、固体原料15が出発材料13cと離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cとは混合されていない状態か、固体原料15が出発材料13cから離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cと分離されている状態か、又は、固体原料15が配置された領域が出発材料13cが配置された領域と分離されている状態で、出発材料13cと固体原料15とを配置する。 In this step S2, the solid raw material 15 is separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15 is not separated from the starting material 13c and is in contact with the starting material 13c but is not mixed with the starting material 13c. The solid raw material 15 is not separated from the starting material 13c but is in contact with the starting material 13c, but is separated from the starting material 13c, or the region where the solid raw material 15 is arranged is separated from the region where the starting material 13c is arranged. In this state, the starting material 13c and the solid raw material 15 are arranged.

次に、図8に示すように、容器16内を真空状態にするか、又は、容器16内の雰囲気を不活性ガスにより置換する(図6のステップS3)。不活性ガスとして、例えばアルゴン(Ar)等の第18族元素よりなる希ガスを用いることができる。 Next, as shown in FIG. 8, the inside of the container 16 is evacuated, or the atmosphere inside the container 16 is replaced with an inert gas (step S3 in FIG. 6). As the inert gas, a noble gas made of a Group 18 element such as argon (Ar) can be used.

次に、図9に示すように、出発材料13cを、第1元素E1及び第2元素E2を含む気体G1に接触させる(図6のステップS4)。 Next, as shown in FIG. 9, the starting material 13c is brought into contact with the gas G1 containing the first element E1 and the second element E2 (step S4 in FIG. 6).

このステップS4では、第1元素E1及び第2元素E2を含む固体原料15と出発材料13cとを加熱し、固体原料15を加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1に、加熱された状態の出発材料13cを接触させ、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G1に含まれる第1元素E1及び第2元素E2とを反応させることにより、図9に示すように、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11上に、層12を形成する。なお、上記組成式(化2)においてyが0<y<0.5を満たすとき、ステップS4では、出発材料13cに含まれるTM及び鉄と、気体G1に含まれる第1元素E1及び第2元素E2とを反応させることにより、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11上に、層12を形成する。 In this step S4, the solid raw material 15 containing the first element E1 and the second element E2 and the starting material 13c are heated, and the solid raw material 15 is heated to generate a gas G1 which is heated by the generated gas G1. As shown in FIG. 9, the starting material 13c is brought into contact with the starting material 13c in a fresh state, and the iron contained in the starting material 13c is reacted with the first element E1 and the second element E2 contained in the gas G1. The layer 12 is formed on the layer 11 which is at least the surface layer of the base material 13 as a base material. When y satisfies 0 <y <0.5 in the above composition formula (Chemical Formula 2), in step S4, TM and iron contained in the starting material 13c and the first elements E1 and 2 contained in the gas G1. By reacting with the element E2, the layer 12 is formed on the layer 11 which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c.

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を容易に形成することができる。 In such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, the thickness of, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a film shape can be easily formed, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be easily formed.

前述したように、ステップS2を行った後、ステップS4を行う前は、固体原料15が出発材料13cから離隔している状態か、固体原料15が出発材料13cと離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cとは混合されていない状態か、固体原料15が出発材料13cから離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cと分離されている状態か、又は、固体原料15が配置された領域が出発材料13cが配置された領域と分離されている状態である。そのため、ステップS4では、出発材料13cの表面を拡散するか、又は、出発材料13cの表面から内部に拡散した第1元素E1及び第2元素E2と、出発材料13cに含まれる鉄とが反応することにより、初めて層12が形成されることになる。従って、本実施の形態の導電体の製造方法は、鉄、第1元素E1及び第2元素E2を含む粉末を加熱することにより、粉末から発生した気体に含まれる第1元素E1及び第2元素E2を、粉末に含まれる鉄と反応させる方法とは、全く異なる。また、後述するように、長尺のワイヤとしての導電体を形成する場合には、本実施の形態の導電体の製造方法は、粉末から発生した気体に含まれる第1元素E1及び第2元素E2を、粉末に含まれる鉄と反応させる方法に比べ、長尺のワイヤとしての導電体を極めて容易に形成することができる。 As described above, after the step S2 and before the step S4, the solid raw material 15 is separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15 is not separated from the starting material 13c and is in contact with the starting material 13. However, it is not mixed with the starting material 13c, or the solid raw material 15 is not separated from the starting material 13c but is in contact with the starting material 13c but separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15 is arranged. The region is separated from the region where the starting material 13c is arranged. Therefore, in step S4, the first element E1 and the second element E2 diffused in the surface of the starting material 13c or diffused inward from the surface of the starting material 13c react with the iron contained in the starting material 13c. As a result, the layer 12 is formed for the first time. Therefore, in the method for producing a conductor of the present embodiment, the first element E1 and the second element contained in the gas generated from the powder are heated by heating the powder containing iron, the first element E1 and the second element E2. It is completely different from the method of reacting E2 with the iron contained in the powder. Further, as will be described later, when forming a conductor as a long wire, the method for producing a conductor according to the present embodiment is the first element E1 and the second element contained in the gas generated from the powder. Compared with the method of reacting E2 with iron contained in the powder, a conductor as a long wire can be formed extremely easily.

好適には、ステップS4では、固体原料15を、熱処理温度としての温度T1に加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T2に加熱し、固体原料15を温度T1に加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1に、温度T2に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。なお、温度T1と温度T2とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。また、気体G1に代えて、液体を発生させ、発生した液体に、出発材料13cを接触させてもよい。 Preferably, in step S4, the solid raw material 15 is heated to the temperature T1 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated to the temperature T2 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15 is heated to the temperature T1 to obtain a gas. G1 is generated, and the generated gas G1 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T2. The temperature T1 and the temperature T2 may be equal to each other or different from each other. Further, instead of the gas G1, a liquid may be generated, and the starting material 13c may be brought into contact with the generated liquid.

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を更に容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を更に容易に形成することができる。 In such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, the thickness of, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a film shape can be formed more easily, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be formed more easily.

或いは、好適には、ステップS4では、固体原料15を700℃以上の温度T1に加熱し、出発材料13cを700℃以上の温度T2に加熱し、固体原料15を温度T1に加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1に、温度T2に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。このような場合も、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を更に容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を更に容易に形成することができる。なお、温度T1と温度T2とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。 Alternatively, preferably, in step S4, the solid raw material 15 is heated to a temperature T1 of 700 ° C. or higher, the starting material 13c is heated to a temperature T2 of 700 ° C. or higher, and the solid raw material 15 is heated to a temperature T1 to obtain a gas. G1 is generated, and the generated gas G1 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T2. Even in such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a thick film shape can be formed more easily, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be formed more easily. The temperature T1 and the temperature T2 may be equal to each other or different from each other.

なお、ステップS4では、出発材料13cを、第1元素E1及び第2元素E2を含む気体G1に接触させることができればよいので、例えば容器16とは別に設けられ、且つ、内部が容器16内と連通した容器(図示は省略)内に固体原料15を配置し、当該容器内で例えば固体原料15を加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1を容器16内に供給し、供給された気体G1に、加熱された状態の出発材料13cを接触させてもよい。 In step S4, since it is sufficient that the starting material 13c can be brought into contact with the gas G1 containing the first element E1 and the second element E2, for example, it is provided separately from the container 16 and the inside is inside the container 16. A solid raw material 15 is placed in a communicating container (not shown), gas G1 is generated by heating, for example, the solid raw material 15 in the container, and the generated gas G1 is supplied and supplied into the container 16. The heated starting material 13c may be brought into contact with the gas G1.

また、ステップS4では、ヒ素を含む固体原料15を加熱することによりヒ素を含む気体G1を発生させ、発生したヒ素を含む気体G1に、加熱された状態の鉄を含む出発材料13cを接触させる際に、出発材料13cを加熱する温度T2によっては、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G1に含まれるヒ素とが反応することにより、図10に示すように、層11と層12との間に、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む介在物14が形成されることがある。従って、層11と層12との間に上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む介在物14が形成されている場合、導電体10が、本実施の形態の導電体の製造方法により製造されたものであることが分かる。 Further, in step S4, when the solid raw material 15 containing arsenic is heated to generate a gas G1 containing arsenic, and the generated gas G1 containing arsenic is brought into contact with the starting material 13c containing heated iron. In addition, depending on the temperature T2 at which the starting material 13c is heated, the iron contained in the starting material 13c reacts with the arsenic contained in the gas G1 to react between the layers 11 and 12 as shown in FIG. In some cases, inclusions 14 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is dissolved may be formed. Therefore, when an inclusion 14 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is dissolved is formed between the layer 11 and the layer 12, the conductor 10 is formed. It can be seen that it was produced by the method for producing a conductor of the present embodiment.

好適には、ステップS4の後、第3元素E3を含む気体G2(図9参照)又は第3元素E3を含む液体L1(図9参照)に層12を接触させることにより、層12に含まれるAEの一部を第3元素E3により置換する(図6のステップS5)。第3元素E3は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む。 Preferably, after step S4, the layer 12 is included in the layer 12 by contacting the layer 12 with a gas G2 containing the third element E3 (see FIG. 9) or a liquid L1 containing the third element E3 (see FIG. 9). A part of AE is replaced with the third element E3 (step S5 in FIG. 6). The third element E3 contains at least one element selected from the group consisting of K and Na.

ステップS4にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、第1元素E1がAを含まず、且つ、xがx=0を満たす場合でも、ステップS4の後、ステップS5を行うことにより、上記組成式(化2)で表される化合物において、xが0<x<1を満たすようにすることができる。なお、ステップS4にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、第1元素E1がAを含み、且つ、xが0<x<1を満たす場合でも、ステップS5を行うことができる。 In the compound contained in the layer 12 formed in step S4 and represented by the above composition formula (Chemical formula 2), even when the first element E1 does not contain A and x satisfies x = 0. By performing step S5 after step S4, x can satisfy 0 <x <1 in the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2). In the compound contained in the layer 12 formed in step S4 and represented by the above composition formula (Chemical formula 2), the first element E1 contains A and x is 0 <x <1. Even if it is satisfied, step S5 can be performed.

好適には、ステップS4の後、第4元素E4を含む気体G3(図9参照)又は第4元素E4を含む液体L2(図9参照)に層12を接触させることにより、層12に含まれるヒ素の一部を第4元素E4により置換する(図6のステップS6)。第4元素E4は、リンを含む。 Preferably, after step S4, the layer 12 is included in the layer 12 by contacting the layer 12 with a gas G3 containing the fourth element E4 (see FIG. 9) or a liquid L2 containing the fourth element E4 (see FIG. 9). A part of arsenic is replaced with the fourth element E4 (step S6 in FIG. 6). The fourth element E4 contains phosphorus.

ステップS4にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、zがz=0を満たす場合でも、ステップS4の後、ステップS6を行うことにより、上記組成式(化2)で表される化合物において、zが0<z<0.8を満たすようにすることができる。なお、ステップS4にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、zが0<z<0.8を満たす場合でも、ステップS6を行うことができる。 By performing step S6 after step S4 even when z satisfies z = 0 in the compound contained in the layer 12 formed in step S4 and represented by the above composition formula (Chemical formula 2). , In the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2), z can satisfy 0 <z <0.8. In the compound contained in the layer 12 formed in step S4 and represented by the above composition formula (Formula 2), step S6 is performed even when z satisfies 0 <z <0.8. Can be done.

また、図6では、ステップS4の後、ステップS5、ステップS6を順次行う場合を例示しているが、ステップS4の後、ステップS5とステップS6とを行う順番は任意であり、或いは、ステップS5とステップS6とを同時に行ってもよい。 Further, in FIG. 6, a case where step S5 and step S6 are sequentially performed after step S4 is illustrated, but the order in which step S5 and step S6 are performed after step S4 is arbitrary, or step S5. And step S6 may be performed at the same time.

例えば、基材13として、線状形状又は板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を用い、基材13が巻回された送り出しリールと、基材13が巻き取られる巻き取りリールとを容器16内に設けるか、又は、送り出しリールと巻き取りリールとの間に容器16を設け、送り出しリール及び巻き取りリールを一定速度で回転させ、送り出しリールから送り出された基材13が、容器16内の一定位置を一定速度で通過する際に、基材13の表面に層12を形成し、表面に層12が形成された基材13が、巻き取りリールに巻き取られるようにする。このようにして、例えば実施の形態の導電体の第1変形例で説明したような、線状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を有し、層11は、基材13の表面層であるような、長尺のワイヤとしての導電体を形成することができる。 For example, as the base material 13, a base material 13 having a linear shape or a plate shape and containing metallic iron as a main component is used, and a delivery reel around which the base material 13 is wound and a base material 13 are wound up. The take-up reel to be used is provided in the container 16, or the container 16 is provided between the delivery reel and the take-up reel, and the delivery reel and the take-up reel are rotated at a constant speed to deliver the base from the delivery reel. When the material 13 passes through a fixed position in the container 16 at a constant speed, a layer 12 is formed on the surface of the base material 13, and the base material 13 having the layer 12 formed on the surface is wound on a take-up reel. To be able to. In this way, for example, as described in the first modification of the conductor of the embodiment, the base material 13 has a linear shape and contains metallic iron as a main component, and the layer 11 is a base. It is possible to form a conductor as a long wire, such as the surface layer of the material 13.

<導電体の製造方法の変形例>
次に、本実施の形態の導電体の製造方法の変形例を説明する。本変形例の導電体の製造方法は、出発材料に含まれる鉄と、ヒ素とを反応させることにより、鉄とヒ素とを含む化合物を形成した後、鉄とヒ素とを含む化合物と、Baとを反応させることにより、層12を形成する点で、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させる導電体の製造方法と異なる。
<Modification example of conductor manufacturing method>
Next, a modified example of the method for manufacturing the conductor of the present embodiment will be described. The method for producing the conductor of this modification is to form a compound containing iron and arsenic by reacting iron contained in the starting material with arsenic, and then using a compound containing iron and arsenic and Ba. Is different from the method for producing a conductor in which iron, arsenic, and Ba contained in the starting material are reacted at the same time in that the layer 12 is formed by reacting with the above.

後述する実施例8を用いて説明するように、実施の形態の導電体の製造工程では、出発材料13cを、Ba及びAsを含む気体G1(図9参照)に接触させたときのBa122の生成過程において、第1段階で、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G1に含まれるヒ素と、が反応することにより、ヒ素が固溶した鉄即ち(Fe,As)が形成され、第2段階で、ヒ素が固溶した鉄即ち(Fe,As)と、気体G1に含まれるヒ素と、が反応することにより、主としてFeAsが形成され、第3段階として、FeAsとBaとAsとが反応することにより、BaFeAs(Ba122)が形成されると考えられる。即ち、Ba122の生成過程の前半部分では、Baはあまり反応に寄与していないと考えられる。従って、出発材料13cを、Ba及びAsを含む気体G1(図9参照)に接触させることに代えて、出発材料13cを、まずAsを含む気体に接触させ、出発材料に含まれる鉄と、ヒ素とを反応させることにより、鉄とヒ素とを含む化合物を形成した後、鉄とヒ素とを含む化合物と、Baとを反応させることによっても、層12を形成することができると考えられる。これにより、導電体の製造工程中において同時に制御するパラメータの数を削減することができるので、上記組成式(化2)で表される層12を含む導電体を再現性良く製造することができる。As will be described with reference to Example 8 described later, in the process of producing the conductor of the embodiment, formation of Ba122 when the starting material 13c is brought into contact with the gas G1 containing Ba and As (see FIG. 9). In the process, in the first step, iron contained in the starting material 13c and arsenic contained in the gas G1 react to form iron in which arsenic is solid-dissolved, that is, (Fe, As), and the second step. in iron arsenic in a solid solution i.e. (Fe, as) and the arsenic contained in the gas G1, by react, formed mainly Fe 2 as, a third step, Fe 2 as the Ba and as It is considered that BaFe 2 As 2 (Ba122) is formed by the reaction with and. That is, it is considered that Ba does not contribute much to the reaction in the first half of the process of forming Ba122. Therefore, instead of contacting the starting material 13c with the gas G1 containing Ba and As (see FIG. 9), the starting material 13c is first brought into contact with the gas containing As, and iron and arsenic contained in the starting material. It is considered that the layer 12 can also be formed by reacting Ba with the compound containing iron and arsenic after forming the compound containing iron and arsenic by reacting with. As a result, the number of parameters to be controlled at the same time during the manufacturing process of the conductor can be reduced, so that the conductor including the layer 12 represented by the composition formula (Chemical formula 2) can be manufactured with good reproducibility. ..

本変形例の導電体の製造方法も、実施の形態の導電体の製造方法と同様に、鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、上記組成式(化2)で表される化合物を含む層を形成するものである。また、上記組成式(化2)において、AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。即ち、AEは、アルカリ土類金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、Aは、アルカリ金属元素のうち少なくとも一種の元素であり、TMは、遷移金属元素のうち少なくとも一種の元素である。また、上記組成式(化2)において、xは、0≦x<1を満たし、yは、0≦y<0.5を満たし、zは、0≦z<0.8を満たす。 In the method for producing the conductor of this modification, similarly to the method for producing the conductor of the embodiment, a layer containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is formed on at least the surface of the starting material containing iron. It is what forms. Further, in the above composition formula (Chemical formula 2), AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, and A is at least one element selected from the group consisting of K and Na. , TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni. That is, AE is at least one element of alkaline earth metal elements, A is at least one element of alkali metal elements, and TM is at least one element of transition metal elements. Further, in the above composition formula (Formula 2), x satisfies 0 ≦ x <1, y satisfies 0 ≦ y <0.5, and z satisfies 0 ≦ z <0.8.

図11は、実施の形態の変形例の導電体の製造工程の一部を示すプロセスフロー図である。図12及び図13は、実施の形態の変形例の導電体の製造工程中の断面図である。 FIG. 11 is a process flow diagram showing a part of the manufacturing process of the conductor of the modified example of the embodiment. 12 and 13 are cross-sectional views during the manufacturing process of the conductor of the modified example of the embodiment.

まず、出発材料13cと固体原料15aと固体原料15bとを用意する(図11のステップS11)。 First, the starting material 13c, the solid raw material 15a, and the solid raw material 15b are prepared (step S11 in FIG. 11).

このステップS11では、図12に示すように、鉄を含む出発材料13cを用意する。鉄を含む出発材料13cとして、例えば側周面13dを含む線状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材13を、用意する。上記組成式(化2)においてyが0<y<0.5を満たすとき、出発材料13cは、更にTMを含む。前述したように、上記組成式(化2)におけるTMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。 In this step S11, as shown in FIG. 12, a starting material 13c containing iron is prepared. As the starting material 13c containing iron, for example, a base material 13 having a linear shape including a side peripheral surface 13d and containing metallic iron as a main component is prepared. When y satisfies 0 <y <0.5 in the above composition formula (Formula 2), the starting material 13c further contains TM. As described above, TM in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni.

好適には、出発材料13cとして、例えば炭素等の不純物の含有量の少ない純鉄を用いることができる。これにより、後述するステップS14において説明するように、出発材料13cに含まれる鉄と、ヒ素と、を含む化合物を含む層14a(図12参照)を容易に形成することができる。 Preferably, as the starting material 13c, pure iron having a low content of impurities such as carbon can be used. Thereby, as described in step S14 described later, the layer 14a (see FIG. 12) containing the compound containing iron and arsenic contained in the starting material 13c can be easily formed.

また、このステップS11では、図12に示すように、少なくともヒ素(As)を含む第5元素E5を含む固体原料15aを用意する。即ち、固体原料15aは、少なくともヒ素を含む。 Further, in this step S11, as shown in FIG. 12, a solid raw material 15a containing at least the fifth element E5 containing arsenic (As) is prepared. That is, the solid raw material 15a contains at least arsenic.

固体原料15aが少なくともヒ素を含むものであればよいので、固体原料15aとして、第5元素E5、及び、後述する上記組成式(化2)におけるAEを含む第6元素E6、を含む固体原料15aを用いることができ、このような場合、例えば組成式BaAsで表される固体原料を用いることができる。固体原料15aとして、BaAsで表される固体原料を用いる場合、出発材料13cに含まれる鉄と、固体原料15aに含まれるヒ素と、を含む化合物を含む層14aを容易に形成することができる。なお、固体原料15a中でBaとAsとが反応していてもよく、BaとAsとが反応していなくてもよい。Since the solid raw material 15a may contain at least arsenic, the solid raw material 15a containing the fifth element E5 and the sixth element E6 containing AE in the above composition formula (Chemical Formula 2) described later as the solid raw material 15a. In such a case, for example, a solid raw material represented by the composition formula BaAs 2 can be used. When the solid raw material represented by BaAs 2 is used as the solid raw material 15a, the layer 14a containing the compound containing iron contained in the starting material 13c and arsenic contained in the solid raw material 15a can be easily formed. .. In the solid raw material 15a, Ba and As may be reacting with each other, and Ba and As may not be reacting with each other.

また、このステップS11では、図13に示すように、少なくとも上記組成式(化2)におけるAEを含む第6元素E6を含む固体原料15bを用意する。前述したように、上記組成式(化2)におけるAEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。第6元素E6がAEを含むとき、固体原料15bとして、例えば金属単体バリウム(Ba)等Baを含む固体原料を用いることができる。また、カリウム(K)を添加するときは、バリウムとカリウムとの合金を含む固体原料、又は、金属単体バリウム及び金属単体カリウムを一緒に載置した状態での固体原料を用いることができる。 Further, in this step S11, as shown in FIG. 13, a solid raw material 15b containing at least the sixth element E6 containing AE in the above composition formula (Chemical Formula 2) is prepared. As described above, AE in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr. When the sixth element E6 contains AE, as the solid raw material 15b, for example, a solid raw material containing Ba such as elemental metal barium (Ba) can be used. When potassium (K) is added, a solid raw material containing an alloy of barium and potassium, or a solid raw material in which barium as a metal and potassium as a metal are placed together can be used.

また、上記組成式(化2)においてxが0<x<1を満たすとき、第6元素E6は、更に上記組成式(化2)におけるAを含み、上記組成式(化2)においてzが0<z<0.8を満たすとき、第5元素E5は、更にリン(P)を含む。前述したように、上記組成式(化2)におけるAは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素である。 Further, when x satisfies 0 <x <1 in the above composition formula (Chemical formula 2), the sixth element E6 further contains A in the above composition formula (Chemical formula 2), and z in the above composition formula (Chemical formula 2). When 0 <z <0.8 is satisfied, the fifth element E5 further contains phosphorus (P). As described above, A in the above composition formula (Chemical formula 2) is at least one element selected from the group consisting of K and Na.

次に、図12に示すように、図6のステップS2と同様のステップを行って、出発材料13cと固体原料15aとを、気密可能な容器16内に配置する(図11のステップS12)。 Next, as shown in FIG. 12, the same steps as in step S2 of FIG. 6 are performed to arrange the starting material 13c and the solid raw material 15a in the airtight container 16 (step S12 of FIG. 11).

このステップS12では、固体原料15aが出発材料13cから離隔している状態か、固体原料15aが出発材料13cと離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cとは混合されていない状態か、固体原料15aが出発材料13cから離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cと分離されている状態か、又は、固体原料15aが配置された領域が出発材料13cが配置されている領域と分離されている状態で、出発材料13cと固体原料15aとを配置する。 In this step S12, the solid raw material 15a is separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15a is not separated from the starting material 13c and is in contact with the starting material 13c but is not mixed with the starting material 13c. The solid raw material 15a is not separated from the starting material 13c but is in contact with the starting material 13c, but is separated from the starting material 13c, or the region where the solid raw material 15a is arranged is the region where the starting material 13c is arranged. In the separated state, the starting material 13c and the solid raw material 15a are arranged.

次に、図示は省略するものの、図6のステップS3と同様のステップを行って、容器16内を真空状態にするか、又は、容器16内の雰囲気を不活性ガスにより置換する(図11のステップS13)。不活性ガスとして、例えばアルゴン(Ar)等の第18族元素よりなる希ガスを用いることができる。 Next, although not shown, the same steps as in step S3 of FIG. 6 are performed to create a vacuum inside the container 16 or to replace the atmosphere inside the container 16 with an inert gas (FIG. 11). Step S13). As the inert gas, a noble gas made of a Group 18 element such as argon (Ar) can be used.

次に、図12に示すように、出発材料13cを、第5元素E5を含む気体G4に接触させる(図6のステップS14)。 Next, as shown in FIG. 12, the starting material 13c is brought into contact with the gas G4 containing the fifth element E5 (step S14 in FIG. 6).

このステップS14では、第5元素E5を含む固体原料15aと出発材料13cとを加熱し、固体原料15aを加熱することにより気体G4を発生させ、発生した気体G4に、加熱された状態の出発材料13cを接触させ、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G4に含まれる第5元素E5とを反応させることにより、図12に示すように、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11上に、出発材料13cに含まれる鉄と、固体原料15aに含まれるヒ素と、を含み、且つ、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む層14aを形成する。なお、上記組成式(化2)においてyが0<y<0.5を満たすとき、ステップS14では、出発材料13cに含まれるTM及び鉄と、気体G4に含まれる第5元素E5とを反応させることにより、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11上に、TM及び鉄とヒ素とを含む化合物を形成する。 In this step S14, the solid raw material 15a containing the fifth element E5 and the starting material 13c are heated, and the solid raw material 15a is heated to generate the gas G4, and the generated gas G4 is used as the starting material in a heated state. By contacting 13c and reacting the iron contained in the starting material 13c with the fifth element E5 contained in the gas G4, as shown in FIG. 12, at least on the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c. On a certain layer 11, iron contained in the starting material 13c and arsenic contained in the solid raw material 15a are contained, and the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is solid-dissolved. , To form a layer 14a containing. When y satisfies 0 <y <0.5 in the above composition formula (Chemical formula 2), in step S14, TM and iron contained in the starting material 13c are reacted with the fifth element E5 contained in the gas G4. By doing so, a compound containing TM and iron and arsenic is formed on the layer 11 which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c.

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10(図13参照)を容易に形成することができる。 In such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, the thickness of, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a film shape can be easily formed, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 (see FIG. 13) can be easily formed.

前述したように、ステップS12を行った後、ステップS14を行う前は、固体原料15aが出発材料13cから離隔している状態か、固体原料15aが出発材料13cと離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cとは混合されていない状態か、固体原料15aが出発材料13cから離隔してはおらず接触しているものの出発材料13cと分離されている状態か、又は、固体原料15aが配置された領域が出発材料13cが配置されている領域と分離されている状態である。そのため、ステップS14では、出発材料13cの表面を拡散するか、又は、出発材料13cの表面から内部に拡散した第5元素E5と、出発材料13cに含まれる鉄とが反応することにより、初めて層14aが形成されることになる。従って、本変形例の導電体の製造方法は、鉄及び第5元素E5を含む粉末を加熱することにより、粉末から発生した気体に含まれる第5元素E5を、粉末に含まれる鉄と反応させる方法とは、全く異なる。 As described above, after the step S12 and before the step S14, the solid raw material 15a is separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15a is not separated from the starting material 13c and is in contact with the starting material 13c. However, it is not mixed with the starting material 13c, or the solid raw material 15a is not separated from the starting material 13c but is in contact with the starting material 13c but separated from the starting material 13c, or the solid raw material 15a is arranged. The region is separated from the region where the starting material 13c is arranged. Therefore, in step S14, the layer is formed for the first time when the surface of the starting material 13c is diffused or the fifth element E5 diffused from the surface of the starting material 13c to the inside reacts with the iron contained in the starting material 13c. 14a will be formed. Therefore, in the method for producing a conductor of this modification, the powder containing iron and the fifth element E5 is heated to react the fifth element E5 contained in the gas generated from the powder with the iron contained in the powder. It's completely different from the method.

次に、図13に示すように、出発材料13cを、第6元素E6を含む気体G5に接触させる(図6のステップS15)。 Next, as shown in FIG. 13, the starting material 13c is brought into contact with the gas G5 containing the sixth element E6 (step S15 in FIG. 6).

このステップS15では、図11のステップS12と同様に、出発材料13cと固体原料15bとを、気密可能な容器16内に配置した後、図11のステップS13と同様に、容器16内を真空状態にするか、又は、容器16内の雰囲気を不活性ガスにより置換する。そして、第6元素E6を含む固体原料15bと出発材料13cとを加熱し、固体原料15bを加熱することにより気体G5を発生させ、発生した気体G5に、加熱された状態の出発材料13cを接触させ、層14a(図12参照)に含まれ、且つ、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄と、気体G5に含まれる第6元素E6と、を反応させることにより、図13に示すように、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11上に、上記組成式(化2)で表される化合物を含む層12を形成する。 In this step S15, the starting material 13c and the solid raw material 15b are placed in the airtight container 16 as in step S12 of FIG. 11, and then the inside of the container 16 is in a vacuum state as in step S13 of FIG. Or, the atmosphere in the container 16 is replaced with an inert gas. Then, the solid raw material 15b containing the sixth element E6 and the starting material 13c are heated, and the solid raw material 15b is heated to generate a gas G5, and the generated gas G5 is brought into contact with the heated starting material 13c. The compound contained in the layer 14a (see FIG. 12) and represented by the above composition formula (Chemical formula 5) or iron in which arsenic is solid-dissolved and the sixth element E6 contained in the gas G5 are formed. By reacting, as shown in FIG. 13, a layer 12 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is formed on the layer 11 which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c. ..

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を容易に形成することができる。 In such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, the thickness of, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a film shape can be easily formed, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be easily formed.

好適には、ステップS14では、固体原料15aを、熱処理温度としての温度T3に加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T4に加熱し、固体原料15aを温度T3に加熱することにより気体G4を発生させ、発生した気体G4に、温度T4に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。なお、温度T3と温度T4とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。また、気体G4に代えて、液体を発生させ、発生した液体に、出発材料13cを接触させてもよい。 Preferably, in step S14, the solid raw material 15a is heated to the temperature T3 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated to the temperature T4 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15a is heated to the temperature T3 to obtain a gas. G4 is generated, and the generated gas G4 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T4. The temperature T3 and the temperature T4 may be equal to each other or different from each other. Further, instead of the gas G4, a liquid may be generated, and the starting material 13c may be brought into contact with the generated liquid.

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、層14aを更に容易に形成することができる。 In such a case, the layer 14a can be further easily formed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure. Can be formed into.

また、好適には、ステップS15では、固体原料15bを、熱処理温度としての温度T5に加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T6に加熱し、固体原料15bを温度T5に加熱することにより気体G5を発生させ、発生した気体G5に、温度T6に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。なお、温度T5と温度T6とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。また、気体G5に代えて、液体を発生させ、発生した液体に、出発材料13cを接触させてもよい。 Further, preferably, in step S15, the solid raw material 15b is heated to the temperature T5 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated to the temperature T6 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15b is heated to the temperature T5. The gas G5 is generated by the above method, and the generated gas G5 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T6. The temperature T5 and the temperature T6 may be equal to each other or different from each other. Further, instead of the gas G5, a liquid may be generated, and the starting material 13c may be brought into contact with the generated liquid.

このような場合、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を更に容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を容易に形成することができる。また、出発材料13cを、Asを含む気体G4(図12参照)に接触させる際の温度等の条件、及び、出発材料13cを、Baを含む気体G5(図13参照)に接触させる際の温度等の条件、を個別に制御することができるので、層12を有する導電体10を再現性良く製造することができる。 In such a case, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, the thickness of, for example, 10 μm or more is placed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having a film shape can be formed more easily, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be easily formed. Further, conditions such as the temperature at which the starting material 13c is brought into contact with the gas G4 containing As (see FIG. 12) and the temperature at which the starting material 13c is brought into contact with the gas G5 containing Ba (see FIG. 13). Since the conditions such as the above can be individually controlled, the conductor 10 having the layer 12 can be manufactured with good reproducibility.

或いは、好適には、ステップS14では、固体原料15aを840〜900℃の温度T3に加熱し、出発材料13cを840〜900℃の温度T4に加熱し、固体原料15aを温度T3に加熱することにより気体G4を発生させ、発生した気体G4に、温度T4に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。温度T3及び温度T4が840℃以上の場合、温度T3及び温度T4が840℃未満の場合に比べ、層11上に鉄とヒ素とを含む融液が発生しやすくなること等により、層11と層14aとの間の密着性が向上し、層14aの品質が向上する。また、温度T3及び温度T4が900℃以下の場合、温度T3及び温度T4が900℃を超える場合に比べ、層14aに含まれるヒ素が気化しにくくなること又は層11上で鉄とヒ素とを含む融液が発生する量が多くなり過ぎないこと等により、層14aの品質が向上する。従って、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、層14aを更に容易に形成することができる。なお、温度T3と温度T4とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。 Alternatively, preferably, in step S14, the solid raw material 15a is heated to a temperature T3 of 840 to 900 ° C., the starting material 13c is heated to a temperature T4 of 840 to 900 ° C., and the solid raw material 15a is heated to a temperature T3. Gas G4 is generated by the above method, and the generated gas G4 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T4. When the temperature T3 and the temperature T4 are 840 ° C. or higher, a melt containing iron and arsenic is more likely to be generated on the layer 11 as compared with the case where the temperature T3 and the temperature T4 are lower than 840 ° C. The adhesion with the layer 14a is improved, and the quality of the layer 14a is improved. Further, when the temperature T3 and the temperature T4 are 900 ° C. or lower, the arsenic contained in the layer 14a is less likely to vaporize or iron and arsenic are separated on the layer 11 as compared with the case where the temperature T3 and the temperature T4 exceed 900 ° C. The quality of the layer 14a is improved by not increasing the amount of the melt contained in the layer too much. Therefore, the layer 14a is more easily formed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure. be able to. The temperature T3 and the temperature T4 may be equal to each other or different from each other.

或いは、好適には、ステップS15では、固体原料15bを700〜840℃の温度T5に加熱し、出発材料13cを700〜840℃の温度T6に加熱し、固体原料15bを温度T5に加熱することにより気体G5を発生させ、発生した気体G5に、温度T6に加熱された状態の出発材料13cを接触させる。温度T5及び温度T6が700℃以上の場合、温度T5及び温度T6が700℃未満の場合に比べ、固体原料15bに含まれるAEが気化しやすくなること等により、層12を容易に形成することができる。また、温度T5及び温度T6が840℃以下の場合、温度T5及び温度T6が840℃を超える場合に比べ、鉄とヒ素とを含む融液が発生しにくくなり、層14a及び層12に含まれるヒ素が気化しにくくなること等により、層12を容易に形成することができる。従って、大気圧よりも減圧されていない雰囲気下であっても、各種の体積及び各種の形状を有する鉄を含む基材13の表面層としての層11上に、例えば10μm以上の厚膜形状を有する層12を更に容易に形成することができ、層11と層12とを有する導電体10を更に容易に形成することができる。なお、温度T5と温度T6とは、互いに等しくてもよく、互いに異なってもよい。 Alternatively, preferably, in step S15, the solid raw material 15b is heated to a temperature T5 of 700 to 840 ° C., the starting material 13c is heated to a temperature T6 of 700 to 840 ° C., and the solid raw material 15b is heated to a temperature T5. The gas G5 is generated by the above method, and the generated gas G5 is brought into contact with the starting material 13c heated to the temperature T6. When the temperature T5 and the temperature T6 are 700 ° C. or higher, the AE contained in the solid raw material 15b is more easily vaporized than when the temperature T5 and the temperature T6 are lower than 700 ° C., so that the layer 12 can be easily formed. Can be done. Further, when the temperature T5 and the temperature T6 are 840 ° C. or lower, the melt containing iron and arsenic is less likely to be generated as compared with the case where the temperature T5 and the temperature T6 exceed 840 ° C., and are contained in the layers 14a and 12. The layer 12 can be easily formed because arsenic is less likely to vaporize. Therefore, even in an atmosphere where the pressure is not reduced below the atmospheric pressure, a thick film shape of, for example, 10 μm or more is formed on the layer 11 as the surface layer of the base material 13 containing iron having various volumes and various shapes. The layer 12 having the layer 12 can be formed more easily, and the conductor 10 having the layer 11 and the layer 12 can be formed more easily. The temperature T5 and the temperature T6 may be equal to each other or different from each other.

また、ステップS14又はステップS15では、出発材料13cを、第5元素E5を含む気体G4又は第6元素E6を含む気体G5に接触させることができればよいので、例えば容器16とは別に設けられ、且つ、内部が容器16内と連通した容器(図示は省略)内に固体原料15a又は固体原料15bを配置し、当該容器内で例えば固体原料15a又は固体原料15bを加熱することにより気体G4又は気体G5を発生させ、発生した気体G4又は気体G5を容器16内に供給し、供給された気体G4又は気体G5に、加熱された状態の出発材料13cを接触させてもよい。 Further, in step S14 or step S15, it is sufficient that the starting material 13c can be brought into contact with the gas G4 containing the fifth element E5 or the gas G5 containing the sixth element E6. Gas G4 or gas G5 by arranging the solid raw material 15a or the solid raw material 15b in a container (not shown) whose inside communicates with the inside of the container 16 and heating, for example, the solid raw material 15a or the solid raw material 15b in the container. May be generated, the generated gas G4 or the gas G5 is supplied into the container 16, and the supplied starting material 13c may be brought into contact with the supplied gas G4 or the gas G5.

また、ステップS15では、出発材料13cを加熱する温度T6によっては、図13に示すように、層11と層12との間に、上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む層14aが介在物14として残留することがある。従って、層11と層12との間に上記組成式(化5)で表される化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄、を含む介在物14が形成されている場合、導電体10が、本変形例の導電体の製造方法又は実施の形態の導電体の製造方法により製造されたものであることが分かる。 Further, in step S15, depending on the temperature T6 for heating the starting material 13c, as shown in FIG. 13, between the layer 11 and the layer 12, the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 5) or arsenic The layer 14a containing the solid-dissolved iron may remain as inclusions 14. Therefore, when an inclusion 14 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5) or iron in which arsenic is dissolved is formed between the layer 11 and the layer 12, the conductor 10 is formed. It can be seen that it was manufactured by the method for manufacturing the conductor of this modification or the method for manufacturing the conductor of the embodiment.

後述する図24及び図25を用いて説明するように、好適には、ステップS15では、層12を形成するとともに、層14aを残留させることにより層11と層12との間に介在物14として配置された層14bを形成し、層14bと層12との間に配置された層14cを形成する。層14cは、ヒ素が固溶した鉄を含む。このような場合、出発材料13cの表面に上記組成式(化2)で表される層12を容易に形成することができるので、例えば長尺の導電体を容易に製造することができる。 As will be described later with reference to FIGS. 24 and 25, preferably, in step S15, the layer 12 is formed and the layer 14a is left as an inclusion 14 between the layer 11 and the layer 12. The arranged layer 14b is formed, and the layer 14c arranged between the layer 14b and the layer 12 is formed. Layer 14c contains iron in which arsenic is dissolved. In such a case, since the layer 12 represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) can be easily formed on the surface of the starting material 13c, for example, a long conductor can be easily manufactured.

また、後述する図24及び図25を用いて説明するように、好適には、ステップS15にて形成される層14bは、層本体14dと、層本体14d中に分散配置された複数の粒子14eと、を含む。層本体14dは、上記組成式(化5)で表される化合物を含み、粒子14eは、ヒ素が固溶した鉄を含む。このような場合、出発材料13cの表面に上記組成式(化2)で表される層12を容易に形成することができるので、例えば長尺の導電体を容易に製造することができる。 Further, as described later with reference to FIGS. 24 and 25, preferably, the layer 14b formed in step S15 is the layer body 14d and a plurality of particles 14e dispersedly arranged in the layer body 14d. And, including. The layer body 14d contains the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 5), and the particles 14e contain iron in which arsenic is dissolved. In such a case, since the layer 12 represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) can be easily formed on the surface of the starting material 13c, for example, a long conductor can be easily manufactured.

好適には、ステップS15の後、図6のステップS5と同様に、第3元素E3を含む気体G2(図13参照)又は第3元素E3を含む液体L1(図13参照)に層12を接触させることにより、層12に含まれるAEの一部を第3元素E3により置換する(図11のステップS16)。第3元素E3は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む。 Preferably, after step S15, the layer 12 is brought into contact with the gas G2 containing the third element E3 (see FIG. 13) or the liquid L1 containing the third element E3 (see FIG. 13) in the same manner as in step S5 of FIG. By doing so, a part of the AE contained in the layer 12 is replaced with the third element E3 (step S16 in FIG. 11). The third element E3 contains at least one element selected from the group consisting of K and Na.

ステップS15にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、第6元素E6がAを含まず、且つ、xがx=0を満たす場合でも、ステップS15の後、ステップS16を行うことにより、上記組成式(化2)で表される化合物において、xが0<x<1を満たすようにすることができる。なお、ステップS15にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、第6元素E6がAを含み、且つ、xが0<x<1を満たす場合でも、ステップS16を行うことができる。 Even when the sixth element E6 does not contain A and x satisfies x = 0 in the compound contained in the layer 12 formed in step S15 and represented by the above composition formula (Formula 2). By performing step S16 after step S15, x can satisfy 0 <x <1 in the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2). In the compound contained in the layer 12 formed in step S15 and represented by the above composition formula (Chemical formula 2), the sixth element E6 contains A and x is 0 <x <1. Even if it is satisfied, step S16 can be performed.

好適には、ステップS15の後、図6のステップS6と同様に、第4元素E4を含む気体G3(図13参照)又は第4元素E4を含む液体L2(図13参照)に層12を接触させることにより、層12に含まれるヒ素の一部を第4元素E4により置換する(図11のステップS17)。第4元素E4は、リンを含む。 Preferably, after step S15, the layer 12 is brought into contact with the gas G3 containing the fourth element E4 (see FIG. 13) or the liquid L2 containing the fourth element E4 (see FIG. 13), as in step S6 of FIG. By doing so, a part of the arsenic contained in the layer 12 is replaced with the fourth element E4 (step S17 in FIG. 11). The fourth element E4 contains phosphorus.

ステップS15にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、zがz=0を満たす場合でも、ステップS15の後、ステップS17を行うことにより、上記組成式(化2)で表される化合物において、zが0<z<0.8を満たすようにすることができる。なお、ステップS15にて形成された層12に含まれ、且つ、上記組成式(化2)で表される化合物において、zが0<z<0.8を満たす場合でも、ステップS17を行うことができる。 By performing step S17 after step S15 even when z satisfies z = 0 in the compound contained in the layer 12 formed in step S15 and represented by the above composition formula (Chemical formula 2). , In the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2), z can satisfy 0 <z <0.8. In the compound contained in the layer 12 formed in step S15 and represented by the above composition formula (Formula 2), step S17 is performed even when z satisfies 0 <z <0.8. Can be done.

また、図6では、ステップS15の後、ステップS16、ステップS17を順次行う場合を例示しているが、ステップS15の後、ステップS16とステップS17とを行う順番は任意であり、或いは、ステップS16とステップS17とを同時に行ってもよい。 Further, in FIG. 6, a case where step S16 and step S17 are sequentially performed after step S15 is illustrated, but the order in which step S16 and step S17 are performed after step S15 is arbitrary, or step S16. And step S17 may be performed at the same time.

本変形例の導電体の製造方法でも、実施の形態の導電体の製造方法と同様に、送り出しリールから送り出された基材13が、容器16内の一定位置を一定速度で通過する際に、基材13の表面に層12を形成し、表面に層12が形成された基材13が、巻き取りリールに巻き取られるようにすることにより、長尺のワイヤとしての導電体を形成することができる。 In the conductor manufacturing method of the present modification, as in the conductor manufacturing method of the embodiment, when the base material 13 fed from the feeding reel passes through a fixed position in the container 16 at a constant speed, A conductor 12 as a long wire is formed by forming a layer 12 on the surface of the base material 13 and allowing the base material 13 having the layer 12 formed on the surface to be wound on a take-up reel. Can be done.

以下、実施例に基づいて本実施の形態を更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail based on the examples. The present invention is not limited to the following examples.

(比較例及び実施例1乃至3)
比較例及び実施例1乃至3の導電体を形成した。比較例及び実施例1乃至3の導電体において、上記組成式(化2)即ち上記組成式(化4)で表される化合物が形成されたか否かを、表1に示す。表1では、上記組成式(化4)で表される化合物が形成された場合を○で示し、上記組成式(化4)で表される化合物が形成されなかった場合を×で示している。なお、実施例1乃至3の導電体は、実施の形態の導電体の製造方法により形成されたものであり、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させたものである。
(Comparative Examples and Examples 1 to 3)
The conductors of Comparative Examples and Examples 1 to 3 were formed. Table 1 shows whether or not the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2), that is, the above composition formula (Chemical formula 4) was formed in the conductors of Comparative Examples and Examples 1 to 3. In Table 1, the case where the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 4) is formed is indicated by ◯, and the case where the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 4) is not formed is indicated by ×. .. The conductors of Examples 1 to 3 were formed by the method for producing a conductor of the embodiment, and iron, arsenic, and Ba contained in the starting material were reacted at the same time.

Figure 2020080279
Figure 2020080279

表1に示すように、比較例の導電体では、上記組成式(化4)で表される化合物即ちBa122を形成できなかったが、実施例1乃至3の導電体では、上記組成式(化4)で表される化合物を形成することができた。以下、詳細について説明する。 As shown in Table 1, the conductor of Comparative Example could not form the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 4), that is, Ba122, but the conductors of Examples 1 to 3 had the above composition formula (Chemical formula). The compound represented by 4) could be formed. The details will be described below.

[導電体の形成]
まず、出発材料13c(図7参照)と固体原料15(図8参照)とを用意した。
[Formation of conductor]
First, a starting material 13c (see FIG. 7) and a solid raw material 15 (see FIG. 8) were prepared.

出発材料13cとして、板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材、即ち純Fe板を用意した。具体的には、純Fe板として、レーザー加工機を用いて、10mmの長さ、3mmの幅、及び、0.5mmの厚さを有する板状形状に純Fe板を加工したものを、用いた。 As the starting material 13c, a base material having a plate-like shape and containing metallic iron as a main component, that is, a pure Fe plate was prepared. Specifically, as a pure Fe plate, a plate obtained by processing a pure Fe plate into a plate shape having a length of 10 mm, a width of 3 mm, and a thickness of 0.5 mm using a laser processing machine is used. board.

また、固体原料15として、BaAsよりなる固体原料を用意した。具体的には、アルゴン(Ar)雰囲気下で、モル比でBa:As=1:2になるように単体金属を秤量し、ボールミルを用いて混合した。そして、混合された単体金属をペレット状に成型して固体原料15を得た。Further, as the solid raw material 15, a solid raw material made of BaAs 2 was prepared. Specifically, the elemental metals were weighed so that the molar ratio was Ba: As = 1: 2 under an argon (Ar) atmosphere, and mixed using a ball mill. Then, the mixed simple substance metal was molded into pellets to obtain a solid raw material 15.

次に、出発材料13cと固体原料15とを、気密可能な容器16(図8参照)内に配置し、容器16内を真空状態にした。 Next, the starting material 13c and the solid raw material 15 were placed in an airtight container 16 (see FIG. 8), and the inside of the container 16 was evacuated.

具体的には、BaAsよりなる固体原料15と、純Fe板よりなる出発材料13cと、をステンレス鋼よりなる管(ステンレス管)内に配置し、内部に固体原料15と出発材料13cとが配置されたステンレス管を石英管中に真空状態で封入した。Specifically, the solid raw material 15 made of BaAs 2 and the starting material 13c made of pure Fe plate are arranged in a pipe made of stainless steel (stainless steel pipe), and the solid raw material 15 and the starting material 13c are placed inside. The arranged stainless steel tube was sealed in a quartz tube in a vacuum state.

次に、出発材料13cと固体原料15とを加熱処理することにより、出発材料13cを、Ba及びAsを含む気体G1(図9参照)に接触させた。具体的には、Ba及びAsを含む固体原料15を、熱処理温度としての温度T1で加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T2で加熱し、固体原料15を温度T1で加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1に、温度T2で加熱された状態の出発材料13cを接触させた。そして、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G1に含まれるBa及びAsとを反応させることにより、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11(図9参照)上に、層12(図9参照)を形成した。 Next, the starting material 13c and the solid raw material 15 were heat-treated to bring the starting material 13c into contact with the gas G1 containing Ba and As (see FIG. 9). Specifically, the solid raw material 15 containing Ba and As is heated at the temperature T1 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated at the temperature T2 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15 is heated at the temperature T1. Gas G1 was generated by the above method, and the generated gas G1 was brought into contact with the starting material 13c heated at the temperature T2. Then, by reacting the iron contained in the starting material 13c with Ba and As contained in the gas G1, the layer 11 (see FIG. 9), which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c, is subjected to the reaction. Layer 12 (see FIG. 9) was formed.

ここで、温度T2を温度T1と等しくし、温度T1がそれぞれ600℃、700℃、800℃、900℃である場合を、比較例、実施例1、実施例2、実施例3とした。 Here, the cases where the temperature T2 is equal to the temperature T1 and the temperatures T1 are 600 ° C., 700 ° C., 800 ° C., and 900 ° C., respectively, are referred to as Comparative Example, Example 1, Example 2, and Example 3.

[X線回折法による評価]
形成された比較例及び実施例1乃至3の導電体について、X線回折(X‐ray diffraction:XRD)法による評価を行った。図14は、比較例及び実施例1乃至3の導電体の表面のXRD法によるθ−2θスペクトルを示すグラフである。図14では、測定されたθ−2θスペクトルに加えて、Ba122のθ−2θスペクトルとして知られているものを表示している。
[Evaluation by X-ray diffraction method]
The formed comparative examples and the conductors of Examples 1 to 3 were evaluated by the X-ray diffraction (XRD) method. FIG. 14 is a graph showing θ-2θ spectra of the surfaces of the conductors of Comparative Examples and Examples 1 to 3 by the XRD method. In FIG. 14, in addition to the measured θ-2θ spectrum, what is known as the θ-2θ spectrum of Ba122 is displayed.

図14に示すように、熱処理温度としての温度T1が600℃である比較例の導電体のXRD法によるθ−2θスペクトルにおいては、FeAsに起因するピークは観測されたものの、Ba122に起因するピークは観測されなかった。そのため、温度T1が600℃の場合、基材13に含まれる鉄と気体G1に含まれるヒ素とが反応してFeAsが生成するものの、Ba122は生成しないことが明らかになった。As shown in FIG. 14, in the θ-2θ spectrum of the conductor of the comparative example in which the temperature T1 as the heat treatment temperature is 600 ° C. by the XRD method, a peak due to Fe 2 As was observed, but it was caused by Ba122. No peak was observed. Therefore, it was clarified that when the temperature T1 is 600 ° C., iron contained in the base material 13 reacts with arsenic contained in the gas G1 to generate Fe 2 As, but Ba 122 is not produced.

一方、熱処理温度としての温度T1がそれぞれ700℃、800℃、900℃である実施例1、実施例2、実施例3の導電体のXRD法によるθ−2θスペクトルにおいては、Ba122に起因するピークが観測された。そのため、温度T1が700〜900℃の場合、Ba122が生成することが明らかになった。 On the other hand, in the θ-2θ spectra of the conductors of Example 1, Example 2, and Example 3 in which the temperatures T1 as the heat treatment temperatures are 700 ° C., 800 ° C., and 900 ° C., respectively, the peaks are caused by Ba122. Was observed. Therefore, it was clarified that Ba122 was produced when the temperature T1 was 700 to 900 ° C.

即ち、ステップS4において、固体原料15を700℃以上の温度T1に加熱し、出発材料13cを700℃以上の温度T2に加熱し、固体原料15を温度T1に加熱することにより気体G1を発生させ、発生した気体G1に、温度T2に加熱された状態の出発材料13cを接触させることにより、上記組成式(化2)で表される化合物を含む層12が形成されることが明らかになった。 That is, in step S4, the solid raw material 15 is heated to a temperature T1 of 700 ° C. or higher, the starting material 13c is heated to a temperature T2 of 700 ° C. or higher, and the solid raw material 15 is heated to a temperature T1 to generate gas G1. It has been clarified that the layer 12 containing the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is formed by contacting the generated gas G1 with the starting material 13c in a state of being heated to the temperature T2. ..

また、温度T1が700〜900℃の範囲では、温度T1の上昇に伴って、FeAsに起因するピークの強度が減少し、且つ、Ba122に起因するピークの強度が増加し、温度T1が900℃の場合、FeAsに起因するピークは観測されず、Ba122に起因するピークの強度は最大となった。そのため、温度T1が700〜900℃の範囲では、温度T1の上昇に伴って、Ba122の含有量に対するFeAsの含有量の割合が減少し、温度T1が900℃の場合、略単相のBa122が得られた。Further, when the temperature T1 is in the range of 700 to 900 ° C., the intensity of the peak caused by Fe 2 As decreases and the intensity of the peak caused by Ba122 increases as the temperature T1 rises, so that the temperature T1 becomes higher. At 900 ° C., no peak caused by Fe 2 As was observed, and the intensity of the peak caused by Ba122 became maximum. Therefore, when the temperature T1 is in the range of 700 to 900 ° C., the ratio of the content of Fe 2 As to the content of Ba122 decreases as the temperature T1 rises, and when the temperature T1 is 900 ° C., it is substantially single-phase. Ba122 was obtained.

更に、図14に示すように、実施例3(900℃)の導電体のθ−2θスペクトルにおいては、実施例2(800℃)の導電体のθ−2θスペクトル、及び、実施例1(700℃)の導電体のθ−2θスペクトルに比べて、Ba122の(110)面に相当するピークの強度が強くなっていた。そのため、Ba122は、例えばその結晶粒がc軸方向に優先成長したと考えられる。 Further, as shown in FIG. 14, in the θ-2θ spectrum of the conductor of Example 3 (900 ° C.), the θ-2θ spectrum of the conductor of Example 2 (800 ° C.) and Example 1 (700 ° C.) The intensity of the peak corresponding to the (110) plane of Ba122 was stronger than that of the θ-2θ spectrum of the conductor (° C.). Therefore, it is considered that the crystal grains of Ba122 have grown preferentially in the c-axis direction, for example.

なお、Ba122の格子定数については、実施例1(700℃)、実施例2(800℃)及び実施例3(900℃)のいずれにおいても、熱処理温度としての温度T1が700〜900℃の場合、測定された格子定数a及びcについては、それぞれ非特許文献2に記載された格子定数a及びcの値である、0.3963nm、1.3022nmに略近い値が得られた。従って、格子定数a及びcの測定値からも、実施例1乃至3において、Ba122が得られたと考えられる。 Regarding the lattice constant of Ba122, in all of Example 1 (700 ° C.), Example 2 (800 ° C.) and Example 3 (900 ° C.), when the temperature T1 as the heat treatment temperature is 700 to 900 ° C. Regarding the measured lattice constants a and c, values substantially close to 0.3963 nm and 1.3022 nm, which are the values of the lattice constants a and c described in Non-Patent Document 2, respectively, were obtained. Therefore, it is considered that Ba122 was obtained in Examples 1 to 3 from the measured values of the lattice constants a and c.

以上の結果より、実施例1乃至3の導電体において、Fe板にバリウム及びヒ素を含む気体を接触させることにより、Ba122を形成できることが明らかになった。 From the above results, it was clarified that Ba122 can be formed in the conductors of Examples 1 to 3 by bringing a gas containing barium and arsenic into contact with the Fe plate.

(実施例4及び5並びに実施例6乃至8)
実施例4及び5の導電体を形成した。実施例4及び5の導電体において、上記組成式(化2)で表される化合物が形成されたか否かを、表2に示す。表2では、上記組成式(化2)で表される化合物が形成された場合を○で示している。なお、実施例4及び5の導電体も、実施例1乃至3の導電体と同様に、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させたものである。
(Examples 4 and 5 and Examples 6 to 8)
The conductors of Examples 4 and 5 were formed. Table 2 shows whether or not the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) was formed in the conductors of Examples 4 and 5. In Table 2, the case where the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is formed is indicated by ◯. The conductors of Examples 4 and 5 are also those in which iron, arsenic, and Ba contained in the starting material are reacted at the same time, similarly to the conductors of Examples 1 to 3.

Figure 2020080279
Figure 2020080279

まず、固体原料としてBa0.60.4Asを用いたこと以外は、実施例3と同様の条件により、実施例4の導電体を形成した。その結果、上記組成式(化2)で表される化合物として、Ba0.60.4FeAs(表2では「(Ba,K)FeAs」と表記)を形成することができた。First, the conductor of Example 4 was formed under the same conditions as in Example 3 except that Ba 0.6 K 0.4 As 2 was used as the solid raw material. As a result, Ba 0.6 K 0.4 Fe 2 As 2 (denoted as “(Ba, K) Fe 2 As 2 ” in Table 2) is formed as the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2). I was able to.

実施例4では、固体原料15として、Ba0.60.4Asよりなる固体原料を用意した。具体的には、アルゴン(Ar)雰囲気下で、モル比でBa:K:As=0.6:0.4:2になるように単体金属を秤量し、ボールミルを用いて混合した。そして、混合された単体金属をペレット状に成型して固体原料15を得た。In Example 4, as the solid raw material 15, a solid raw material made of Ba 0.6 K 0.4 As 2 was prepared. Specifically, the elemental metals were weighed so that the molar ratio was Ba: K: As = 0.6: 0.4: 2 under an argon (Ar) atmosphere, and mixed using a ball mill. Then, the mixed simple substance metal was molded into pellets to obtain a solid raw material 15.

なお、固体原料中のBaとKとの組成比は6:4であるが、蒸気となって、鉄板と反応するため、固溶したBaとKとの組成比は厳密には6:4と異なる虞がある。そのため、表2では、「(Ba,K)FeAs」と表記している。The composition ratio of Ba and K in the solid raw material is 6: 4, but since it becomes steam and reacts with the iron plate, the composition ratio of solid-dissolved Ba and K is strictly 6: 4. May be different. Therefore, in Table 2, it is described as "(Ba, K) Fe 2 As 2 ".

また、詳細な説明は省略するが、上記組成式(化2)において、AEが、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、Aが、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、xが、0<x<1を満たし、第1元素E1が、更にAを含む、各種の組成である場合も、同様に、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。 Further, although detailed description will be omitted, in the above composition formula (Chemical Formula 2), AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, and A is selected from the group consisting of K and Na. Similarly, when the above composition formula (Chemical formula 2) is used in the case where x is at least one kind of element, x satisfies 0 <x <1, and the first element E1 further contains A. The compound represented could be formed.

一方、出発材料としてFe0.92Co0.08を用いたこと以外は、実施例3と同様の条件により、実施例5の導電体を形成した。その結果、上記組成式(化2)で表される化合物として、Ba(Fe0.92Co0.08Asを形成することができた。On the other hand, the conductor of Example 5 was formed under the same conditions as in Example 3 except that Fe 0.92 Co 0.08 was used as the starting material. As a result, Ba (Fe 0.92 Co 0.08 ) 2 As 2 could be formed as the compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2).

実施例5では、出発材料13cとして、円板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材、即ちFe、Co混合ペレットを用意した。具体的には、Fe、Co混合ペレットとして、アルゴン(Ar)雰囲気下で、モル比でFe:Co=0.92:0.08になるように単体金属を秤量し、錠剤成型器を用いて、7mmの直径、及び、0.5mmの厚さを有する円板状形状に加工したものを、用いた。なお、実施例5では、固体原料は、BaAsのままであった。In Example 5, as the starting material 13c, a base material having a disk-like shape and containing metallic iron as a main component, that is, Fe and Co mixed pellets was prepared. Specifically, as Fe and Co mixed pellets, a simple substance metal is weighed so that the molar ratio is Fe: Co = 0.92: 0.08 under an argon (Ar) atmosphere, and a tablet molding machine is used. , 7 mm in diameter and 0.5 mm in thickness, processed into a disk-like shape was used. In Example 5, the solid raw material remained BaAs 2.

なお、詳細な説明は省略するが、上記組成式(化2)において、TMが、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、yが、0<y<0.5を満たし、出発材料が、更にTMを含む、各種の組成である場合も、同様に、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。 Although detailed description will be omitted, in the above composition formula (Chemical Formula 2), TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni, and y is 0 <y <. Similarly, when 0.5 was satisfied and the starting material had various compositions including TM, the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) could be formed in the same manner.

[X線回折法による評価]
形成された実施例4及び5の導電体について、XRD法による評価を行った。図15は、実施例4及び5の導電体の表面のXRD法によるθ−2θスペクトルを示すグラフである。図15では、測定されたθ−2θスペクトルに加えて、実施例4及び5と同条件(実施例3と同条件)で、且つ、KもCoも含有しない実施例(便宜上実施例6と称する。)のθ−2θスペクトル、及び、Ba122のθ−2θスペクトルとして知られているものを、表示している。なお、図15では、実施例6のθ−2θスペクトルを「Non doped」と表記し、Ba122のθ−2θスペクトルとして知られているものを、「BaFeAs data」と表記している。
[Evaluation by X-ray diffraction method]
The formed conductors of Examples 4 and 5 were evaluated by the XRD method. FIG. 15 is a graph showing the θ-2θ spectra of the surfaces of the conductors of Examples 4 and 5 by the XRD method. In FIG. 15, in addition to the measured θ-2θ spectrum, the same conditions as in Examples 4 and 5 (same conditions as in Example 3) and containing neither K nor Co (referred to as Example 6 for convenience). ), And what is known as the θ-2θ spectrum of Ba122 is displayed. In FIG. 15, the θ-2θ spectrum of Example 6 is referred to as “Non-doped”, and what is known as the θ-2θ spectrum of Ba122 is referred to as “BaFe 2 As 2 data”.

図15に示すように、実施例4についても、実施例3(実施例6)と同様に、略単相のBa122、即ち(Ba,K)FeAsが得られた。また、図15に示すように、実施例5についても、実施例3(実施例6)と同様に、略単相のBa122、即ちBa(Fe0.92Co0.08Asが得られた。As shown in FIG. 15, in Example 4, similarly to Example 3 (Example 6), substantially single-phase Ba122, that is, (Ba, K) Fe 2 As 2, was obtained. Further, as shown in FIG. 15, in Example 5, similarly to Example 3 (Example 6), a substantially single-phase Ba 122, that is, Ba (Fe 0.92 Co 0.08 ) 2 As 2, was obtained. Was done.

[電気抵抗測定による評価]
形成された実施例4及び5の導電体について、電気抵抗測定による評価を行った。図16及び図17は、実施例4の導電体の電気抵抗の温度依存性を示すグラフである。図18は、実施例5の導電体の電気抵抗の温度依存性を示すグラフである。図16乃至図18の横軸は、温度を示し、図16乃至図18の縦軸は、電気抵抗を300Kにおける電気抵抗で規格化した値を示す。図17は、0〜300Kの温度範囲を示す図16のグラフのうち超伝導転移付近の温度範囲である35〜40Kの温度範囲を示し、図18は、超伝導転移付近の温度範囲である15〜30Kの温度範囲を示す。
[Evaluation by measuring electrical resistance]
The formed conductors of Examples 4 and 5 were evaluated by measuring electrical resistance. 16 and 17 are graphs showing the temperature dependence of the electrical resistance of the conductor of Example 4. FIG. 18 is a graph showing the temperature dependence of the electrical resistance of the conductor of Example 5. The horizontal axis of FIGS. 16 to 18 indicates the temperature, and the vertical axis of FIGS. 16 to 18 indicates a value obtained by normalizing the electric resistance with the electric resistance at 300K. FIG. 17 shows a temperature range of 35 to 40 K, which is a temperature range near the superconducting transition in the graph of FIG. 16 showing a temperature range of 0 to 300 K, and FIG. 18 shows a temperature range near the superconducting transition. The temperature range of ~ 30K is shown.

図16及び図17に示すように、実施例4の導電体については、約38Kで明瞭な超伝導転移が観測された。また、図示は省略するが、零磁場冷却(Zero-Field Cooling:ZFC)した実施例4の導電体に対して5Kで1Oeの磁場を印加して40Kまで昇温した際の磁化の温度依存性を測定したところ、約37Kで超伝導転移のオンセットが観測された。従って、実施例4の導電体、即ち(Ba,K)FeAsが超伝導性を有することが明らかになった。As shown in FIGS. 16 and 17, a clear superconducting transition was observed at about 38 K for the conductor of Example 4. Although not shown, the temperature dependence of magnetization when a magnetic field of 1 Oe is applied at 5 K to the conductor of Example 4 that has been subjected to zero-field cooling (ZFC) and the temperature is raised to 40 K. Was measured, and an onset of superconducting transition was observed at about 37K. Therefore, it was revealed that the conductor of Example 4, that is, (Ba, K) Fe 2 As 2, has superconductivity.

また、図18に示すように、実施例5の導電体については、約25Kで明瞭な超伝導転移が観測された。従って、実施例5の導電体、即ちBa(Fe0.92Co0.08Asが超伝導性を有することが明らかになった。Further, as shown in FIG. 18, a clear superconducting transition was observed at about 25 K for the conductor of Example 5. Therefore, it was revealed that the conductor of Example 5, that is, Ba (Fe 0.92 Co 0.08 ) 2 As 2, has superconductivity.

ここで、固体原料中のBaとKとの組成比を6:4以外の組成にしたこと以外は、実施例1乃至3のいずれかと同様の条件により、互いに異なる複数のBaとKとの組成比を有する導電体である実施例7の導電体を形成した。従って、実施例6及び7の導電体も、実施例1乃至3の導電体と同様に、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させたものである。そして、実施例4及び実施例7の導電体について、XRD法により結晶軸の長さを解析し、解析された結晶軸の長さから実施例4及び実施例7の導電体におけるBaとKとの組成比を推定した。その結果、合成条件によってBaとKとの組成比は異なり、BaとKとの原子数の和に対するKの原子数であるKドープ量は、20〜60%であることが分かった。即ち、AがKである場合に、上記組成式(化2)で表される化合物が容易に合成される好適なxの範囲は、0.2≦x≦0.6であることが明らかになった。 Here, the composition of a plurality of Ba and K different from each other under the same conditions as in any of Examples 1 to 3 except that the composition ratio of Ba and K in the solid raw material is set to a composition other than 6: 4. The conductor of Example 7, which is a conductor having a ratio, was formed. Therefore, the conductors of Examples 6 and 7 are also those in which iron, arsenic, and Ba contained in the starting material are reacted at the same time, similarly to the conductors of Examples 1 to 3. Then, the lengths of the crystal axes of the conductors of Examples 4 and 7 were analyzed by the XRD method, and Ba and K in the conductors of Examples 4 and 7 were obtained from the analyzed crystal axis lengths. The composition ratio of was estimated. As a result, it was found that the composition ratio of Ba and K differed depending on the synthesis conditions, and the K-doping amount, which is the number of atoms of K with respect to the sum of the number of atoms of Ba and K, was 20 to 60%. That is, when A is K, it is clear that the suitable range of x in which the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) is easily synthesized is 0.2 ≦ x ≦ 0.6. became.

[走査型電子顕微鏡による評価]
温度T1が800℃であること以外は実施例4と同様の条件で形成された実施例8の導電体について、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)による評価を行い、エネルギー分散型X線分析(Energy Dispersive X-ray spectrometry:EDX)による元素マッピングと超伝導体部分の組成分析を行った。従って、実施例8の導電体も、実施例1乃至3の導電体と同様に、出発材料に含まれる鉄とヒ素及びBaとを同時に反応させたものである。
[Evaluation by scanning electron microscope]
The conductor of Example 8 formed under the same conditions as in Example 4 except that the temperature T1 is 800 ° C. was evaluated by a scanning electron microscope (SEM), and energy dispersive X-rays were evaluated. Element mapping by analysis (Energy Dispersive X-ray microscopy: EDX) and composition analysis of the superconductor part were performed. Therefore, the conductor of Example 8 is also the same as the conductors of Examples 1 to 3, in which iron, arsenic, and Ba contained in the starting material are reacted at the same time.

図19は、実施例8の導電体の表面付近での断面の反射電子(Backscattered electron:BSE)像を示す写真である。図19における右側の部分が、鉄を主成分とする層11であり、図19における左側の部分が、上記組成式(化2)で表される層12である。なお、図19では、便宜上、層11を「鉄」と表記し、層12即ち超伝導体部分を「反応層」と表記し、「鉄」と「反応層」との間の境界を白色の破線で示している。 FIG. 19 is a photograph showing a backscattered electron (BSE) image of a cross section near the surface of the conductor of Example 8. The right side portion in FIG. 19 is the iron-based layer 11, and the left side portion in FIG. 19 is the layer 12 represented by the above composition formula (Chemical formula 2). In FIG. 19, for convenience, the layer 11 is referred to as "iron", the layer 12, that is, the superconductor portion is referred to as "reaction layer", and the boundary between "iron" and "reaction layer" is white. It is shown by a broken line.

元素マッピングの図示は省略するものの、「反応層」の部分には、Ba、As及びKが分布しており、Kが添加されたBa122、即ち(Ba,K)FeAsが生成されていることが確認された。Although the element mapping is omitted, Ba, As and K are distributed in the "reaction layer" part, and Ba 122 to which K is added, that is, (Ba, K) Fe 2 As 2 is generated. It was confirmed that there was.

次に、図19において、「No.1」、「No.2」及び「No.3」と表記された3つの測定箇所における組成分析を行った。その結果を、表3に示す。なお、「No.1」及び「No.2」の測定箇所は、「反応層」即ち超伝導体部分に配置され、「No.3」の測定箇所は、「鉄」に配置されている。また、表3における組成分析結果は、Ba、K、Fe及びAsの各元素の含有量の合計が100になるように表示されている。 Next, in FIG. 19, composition analysis was performed at three measurement points labeled "No. 1", "No. 2" and "No. 3". The results are shown in Table 3. The measurement points of "No. 1" and "No. 2" are arranged in the "reaction layer", that is, the superconductor portion, and the measurement points of "No. 3" are arranged in "iron". Further, the composition analysis results in Table 3 are displayed so that the total content of each element of Ba, K, Fe and As is 100.

Figure 2020080279
Figure 2020080279

表3に示すように、「No.1」及び「No.2」、即ち「反応層」に配置された測定箇所において、Ba、K、Fe及びAsのいずれもが検出され、凡そ(Ba+K):Fe:A=1:2:2の関係が成り立つ。そのため、「反応層」の部分がBa122であることが確認された。また、「No.3」、即ち「反応層」から白色の破線を超えて「鉄」側に配置された測定箇所において、Ba及びKのいずれも全く検出されず、Asがわずかしか検出されず、Feが主として検出される。そのため、「鉄」の部分が鉄であることが確認された。 As shown in Table 3, all of Ba, K, Fe and As were detected at the measurement points arranged in "No. 1" and "No. 2", that is, the "reaction layer", and approximately (Ba + K). : Fe: A = 1: 2: 2 relationship holds. Therefore, it was confirmed that the portion of the "reaction layer" was Ba122. In addition, neither Ba nor K was detected at all and only a small amount of As was detected at the measurement point arranged on the "iron" side beyond the white broken line from "No. 3", that is, the "reaction layer". , Fe is mainly detected. Therefore, it was confirmed that the "iron" part was iron.

以上の結果より、Fe板にBa、K及びAsを含む気体を接触させることにより、Kが添加されたBa122を形成できることが明らかになった。 From the above results, it was clarified that Ba122 to which K was added can be formed by contacting the Fe plate with a gas containing Ba, K and As.

なお、詳細な説明は省略するが、上記組成式(化2)において、zが、0<z<0.8を満たし、第2元素E2が、更にリンを含む、各種の組成である場合も、同様に、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。 Although detailed description will be omitted, in the above composition formula (Chemical formula 2), z may satisfy 0 <z <0.8, and the second element E2 may further contain phosphorus in various compositions. Similarly, the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) could be formed.

図20は、実施例8の導電体の別の例の表面付近での断面の反射電子(BSE)像を示す写真である。図20の最下層(1を付した部分)は、ヒ素が固溶した鉄を含む層であり、図20の中間層(2を付した部分)は、FeAsとBa122とを含む層であり、図20の最上層(3を付した部分)は、Ba122を含む層12である。詳細な説明は省略するが、各層の組成については、図19を用いて説明した場合と同様に、EDXにより確認された。FIG. 20 is a photograph showing a reflected electron (BSE) image of a cross section near the surface of another example of the conductor of Example 8. The bottom layer (part marked with 1) in FIG. 20 is a layer containing iron in which arsenic is solid-solved, and the intermediate layer (part marked with 2 ) in FIG. 20 is a layer containing Fe 2 As and Ba 122. Yes, the uppermost layer (the portion marked with 3) in FIG. 20 is the layer 12 containing Ba122. Although detailed description is omitted, the composition of each layer was confirmed by EDX as in the case described with reference to FIG.

図20では、便宜上、最下層を「(Fe,As)」と表記し、中間層を「FeAs & Ba122」と表記し、最上層を「Ba122」と表記し、最下層と中間層との間の境界、及び、中間層と最上層との間の境界を、白色の実線で示している。また、図20の最上層側が、出発材料13cの表面側であり、図20の最下層側が、出発材料13cの中心側であり、As及びBaは、図20の最上層側から図20の最下層側に向かって拡散したことになる。このような場合、出発材料13cを、Ba及びAsを含む気体G1(図9参照)に接触させたときのBa122の生成過程については、図20の最下層がBa122の生成過程の第1段階を示し、図20の中間層がBa122の生成過程の第2段階を示し、図20の最上層がBa122の生成過程の第3段階を示している、と考えられる。In FIG. 20, for convenience, the bottom layer is described as "(Fe, As)", the intermediate layer is described as "Fe 2 As &Ba122", the top layer is described as "Ba122", and the bottom layer and the intermediate layer are used. The boundary between the layers and the boundary between the intermediate layer and the uppermost layer are shown by a solid white line. Further, the uppermost layer side of FIG. 20 is the surface side of the starting material 13c, the lowermost layer side of FIG. 20 is the central side of the starting material 13c, and As and Ba are from the uppermost layer side of FIG. 20 to the outermost layer of FIG. 20. It means that it diffused toward the lower layer side. In such a case, regarding the process of forming Ba122 when the starting material 13c is brought into contact with the gas G1 containing Ba and As (see FIG. 9), the lowermost layer of FIG. 20 is the first stage of the process of forming Ba122. It is considered that the middle layer of FIG. 20 shows the second stage of the formation process of Ba122, and the uppermost layer of FIG. 20 shows the third stage of the formation process of Ba122.

即ち、出発材料13cを、Ba及びAsを含む気体G1(図9参照)に接触させたときのBa122の生成過程において、図20の最下層(1を付した部分)に「(Fe,As)」と表記したように、第1段階で、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G1に含まれるヒ素と、が反応することにより、ヒ素が固溶した鉄即ち(Fe,As)が形成されたと考えられる。また、第2段階で、図20の中間層(2を付した部分)に「FeAs & Ba122」と表記したように、ヒ素が固溶した鉄即ち(Fe,As)と、気体G1に含まれるヒ素と、が反応することにより、主としてFeAsが形成されたと考えられる。また、第3段階で、図20の最上層(3を付した部分)に「Ba122」と表記したように、FeAsとBaとAsとが反応することにより、BaFeAs(Ba122)が形成されたと考えられる。That is, in the process of forming Ba122 when the starting material 13c is brought into contact with the gas G1 (see FIG. 9) containing Ba and As, the bottom layer (the portion marked with 1) of FIG. 20 is "(Fe, As). In the first stage, iron contained in the starting material 13c and arsenic contained in the gas G1 react to form iron in which arsenic is solid-dissolved, that is, (Fe, As). It is thought that it was. Further, in the second stage, as described as "Fe 2 As & Ba 122" in the intermediate layer (the portion marked with 2) in FIG. 20, arsenic-dissolved iron, that is, (Fe, As) and gas G1 It is considered that Fe 2 As was mainly formed by the reaction with the contained arsenic. Further, in the third stage, as described as "Ba122" in the uppermost layer (the portion marked with 3) in FIG. 20, Fe 2 As, Ba, and As react with each other to cause BaFe 2 As 2 (Ba122). Is considered to have been formed.

(実施例9及び10)
実施例9及び10の導電体を形成した。実施例9及び10の導電体では、上記組成式(化4)で表される化合物を形成することができた。なお、実施例9及び10の導電体は、実施の形態の変形例の導電体の製造方法により製造されたものであり、出発材料に含まれる鉄と、ヒ素とを反応させることにより、鉄とヒ素とを含む化合物を形成した後、鉄とヒ素とを含む化合物と、Baとを反応させたものである。以下、詳細について説明する。
(Examples 9 and 10)
The conductors of Examples 9 and 10 were formed. In the conductors of Examples 9 and 10, the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 4) could be formed. The conductors of Examples 9 and 10 were produced by the method for producing a conductor of a modified example of the embodiment, and by reacting iron contained in a starting material with arsenic, iron and iron were produced. After forming a compound containing arsenic, a compound containing iron and arsenic is reacted with Ba. The details will be described below.

[導電体の形成]
まず、出発材料13c(図12参照)と、固体原料15a(図12参照)と、固体原料15b(図13参照)と、を用意した。
[Formation of conductor]
First, a starting material 13c (see FIG. 12), a solid raw material 15a (see FIG. 12), and a solid raw material 15b (see FIG. 13) were prepared.

出発材料13cとして、線状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材、即ち純Feワイヤを用意した。具体的には、純Feワイヤとして、1.45mmの直径、及び、20mmの長さを有するものを、用いた。 As the starting material 13c, a base material having a linear shape and containing metallic iron as a main component, that is, a pure Fe wire was prepared. Specifically, as a pure Fe wire, a wire having a diameter of 1.45 mm and a length of 20 mm was used.

また、固体原料15aとして、BaAsよりなる固体原料を用意した。具体的には、アルゴン(Ar)雰囲気下で、モル比でBa:As=1:2になるように単体金属を秤量し、ボールミルを用いて混合した。そして、混合された単体金属をペレット状に成型して固体原料15aを得た。また、固体原料15bとして、金属単体バリウム(Ba)よりなる固体原料を用意した。Further, as the solid raw material 15a, a solid raw material made of BaAs 2 was prepared. Specifically, the elemental metals were weighed so that the molar ratio was Ba: As = 1: 2 under an argon (Ar) atmosphere, and mixed using a ball mill. Then, the mixed simple substance metal was molded into pellets to obtain a solid raw material 15a. Further, as the solid raw material 15b, a solid raw material made of elemental metal barium (Ba) was prepared.

次に、出発材料13cと固体原料15aとを、気密可能な容器16(図8参照)内に配置し、容器16内を真空状態にした。 Next, the starting material 13c and the solid raw material 15a were placed in an airtight container 16 (see FIG. 8), and the inside of the container 16 was evacuated.

具体的には、BaAsよりなる固体原料15aと、純Feワイヤよりなる出発材料13cと、をステンレス鋼よりなる管(ステンレス管)内に配置し、内部に固体原料15aと出発材料13cとが配置されたステンレス管を石英管中に真空状態で封入した。Specifically, the solid raw material 15a made of BaAs 2 and the starting material 13c made of pure Fe wire are arranged in a pipe made of stainless steel (stainless steel pipe), and the solid raw material 15a and the starting material 13c are placed inside. The arranged stainless steel tube was sealed in a quartz tube in a vacuum state.

次に、出発材料13cと固体原料15aとを加熱処理することにより、出発材料13cを、Asを含む気体G4(図12参照)に接触させた。具体的には、Ba及びAsを含む固体原料15aを、熱処理温度としての温度T3で加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T4で加熱し、固体原料15aを温度T3で加熱することにより気体G4を発生させ、発生した気体G4に、温度T4で加熱された状態の出発材料13cを接触させた。そして、出発材料13cに含まれる鉄と、気体G4に含まれるAsとを反応させることにより、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11(図12参照)上に、鉄とヒ素とを含む化合物を含む層14a(図12参照)を形成した。 Next, the starting material 13c and the solid raw material 15a were heat-treated to bring the starting material 13c into contact with the gas G4 containing As (see FIG. 12). Specifically, the solid raw material 15a containing Ba and As is heated at the temperature T3 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated at the temperature T4 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15a is heated at the temperature T3. Gas G4 was generated by the above method, and the generated gas G4 was brought into contact with the starting material 13c heated at the temperature T4. Then, by reacting the iron contained in the starting material 13c with the As contained in the gas G4, iron and iron are formed on the layer 11 (see FIG. 12) which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c. A layer 14a (see FIG. 12) containing a compound containing arsenic was formed.

次に、出発材料13cと固体原料15bとを加熱処理することにより、出発材料13cを、Baを含む気体G5(図13参照)に接触させた。具体的には、出発材料13cと固体原料15bとを、気密可能な容器16内に配置し、容器16内を真空状態にした。次に、Baを含む固体原料15bを、熱処理温度としての温度T5で加熱し、出発材料13cを、熱処理温度としての温度T6で加熱し、固体原料15bを温度T5で加熱することにより気体G5を発生させ、発生した気体G5に、温度T6で加熱された状態の出発材料13cを接触させた。そして、層14aに含まれる化合物と、気体G5に含まれるBaとを反応させることにより、出発材料13cとしての基材13の少なくとも表面層である層11(図13参照)上に、層12(図13参照)を形成した。 Next, the starting material 13c and the solid raw material 15b were heat-treated to bring the starting material 13c into contact with the gas G5 containing Ba (see FIG. 13). Specifically, the starting material 13c and the solid raw material 15b were placed in an airtight container 16, and the inside of the container 16 was evacuated. Next, the solid raw material 15b containing Ba is heated at the temperature T5 as the heat treatment temperature, the starting material 13c is heated at the temperature T6 as the heat treatment temperature, and the solid raw material 15b is heated at the temperature T5 to obtain the gas G5. The generated gas G5 was brought into contact with the starting material 13c heated at the temperature T6. Then, by reacting the compound contained in the layer 14a with the Ba contained in the gas G5, the layer 12 (see FIG. 13) is placed on the layer 11 (see FIG. 13) which is at least the surface layer of the base material 13 as the starting material 13c. (See FIG. 13) was formed.

ここで、温度T4を温度T3と等しくし、温度T6を温度T5と等しくし、温度T5を800℃とし、温度T3がそれぞれ750℃、900℃である場合を、実施例9、実施例10とした。 Here, the cases where the temperature T4 is equal to the temperature T3, the temperature T6 is equal to the temperature T5, the temperature T5 is 800 ° C., and the temperature T3 is 750 ° C. and 900 ° C., respectively, are referred to as Example 9 and Example 10. bottom.

実施例9の導電体を形成する前の純Feワイヤよりなる出発材料の写真を、図21に示す。図21に示した出発材料をAsを含む気体に接触させた後の出発材料の写真を、図22に示す。図22に示した出発材料をBaを含む気体に接触させて実施例9の導電体が形成された後の出発材料の写真を、図23に示す。なお、図21乃至図23における出発材料と一緒に撮影された方眼紙の最小目盛は1mmである。 A photograph of the starting material made of pure Fe wire before forming the conductor of Example 9 is shown in FIG. A photograph of the starting material after contacting the starting material shown in FIG. 21 with a gas containing As is shown in FIG. FIG. 23 shows a photograph of the starting material after the starting material shown in FIG. 22 was brought into contact with a gas containing Ba to form the conductor of Example 9. The minimum scale of the graph paper photographed together with the starting material in FIGS. 21 to 23 is 1 mm.

図21に示すように、実施例9の導電体を形成する前の純Feワイヤは、金属光沢を有していた。次に、純FeワイヤにAsを含む気体を接触させることにより、純Feワイヤの表面に、FeAs又はAsが固溶したFeが形成されたが、図22に示すように、一部は金属光沢を有していた。次に、純FeワイヤにBaを含む気体を接触させることにより、純Feワイヤの表面に、Ba122が形成されたが、図23に示すように、黒色の層が形成された。また、詳細な説明は省略するが、後述する図24及び図25を用いて説明した場合と同様に、図23の層がBa122を含むものであることが、EDXにより確認された。As shown in FIG. 21, the pure Fe wire before forming the conductor of Example 9 had a metallic luster. Next, by bringing a gas containing As into contact with the pure Fe wire, Fe 2 As or Fe in which As was dissolved was formed on the surface of the pure Fe wire. It had a metallic luster. Next, by bringing a gas containing Ba into contact with the pure Fe wire, Ba122 was formed on the surface of the pure Fe wire, but as shown in FIG. 23, a black layer was formed. Further, although detailed description will be omitted, it was confirmed by EDX that the layer of FIG. 23 contains Ba122, as in the case described with reference to FIGS. 24 and 25 described later.

一方、実施例10の導電体については、SEMによる評価を行い、EDXによる元素マッピングと超伝導体部分の組成分析を行った。図24は、実施例10の導電体の表面付近での断面の反射電子(BSE)像を示す写真である。図24の左側が、出発材料の表面側であり、図24の右側が、出発材料の中心側である。図25は、図24の写真をトレースすることにより実施例10の導電体の表面付近での断面を模式的に示す図である。なお、図25のうち領域RG1が、図24の写真に表示された領域に対応している。また、図25では、理解を簡単にするために、層本体14dのハッチングを省略している。 On the other hand, the conductor of Example 10 was evaluated by SEM, element mapping by EDX, and composition analysis of the superconductor portion were performed. FIG. 24 is a photograph showing a reflected electron (BSE) image of a cross section near the surface of the conductor of Example 10. The left side of FIG. 24 is the surface side of the starting material, and the right side of FIG. 24 is the center side of the starting material. FIG. 25 is a diagram schematically showing a cross section of the conductor of Example 10 near the surface by tracing the photograph of FIG. 24. The area RG1 in FIG. 25 corresponds to the area displayed in the photograph of FIG. 24. Further, in FIG. 25, hatching of the layer main body 14d is omitted for easy understanding.

図24及び図25に示すように、実施例10の導電体は、層11と、層14bと、層14cと、層12と、よりなる4層構造を有していた。層14bは、層11と層12との間に配置され、層14cは、層14bと層12との間に配置されていた。また、層14bは、母相としての層本体14dと、層本体14d中に分散配置された複数の粒子14eと、を含んでいた。なお、層14bは、前述した図12を用いて説明した層14aが残留したものと考えられる。また、前述した図10及び図13を用いて説明した介在物14は、層14bと、層14cと、を含むことになる。 As shown in FIGS. 24 and 25, the conductor of Example 10 had a four-layer structure including a layer 11, a layer 14b, a layer 14c, and a layer 12. The layer 14b was arranged between the layers 11 and 12, and the layer 14c was arranged between the layers 14b and 12. Further, the layer 14b contained a layer body 14d as a matrix phase and a plurality of particles 14e dispersedly arranged in the layer body 14d. In addition, it is considered that the layer 14a described with reference to FIG. 12 described above remains in the layer 14b. Further, the inclusions 14 described with reference to FIGS. 10 and 13 described above include the layer 14b and the layer 14c.

EDXによる組成分析を行ったところ、層12において、Ba、Fe及びAsのいずれもが検出され、それらの元素の存在割合(原子数比)は、百分率で、Ba:Fe:As=13.3%:52.0%:34.7%であり、Ba:Fe:A=1:2:2の関係に近いことから、層12がBa122、即ちBaFeAsを含むものであると考えられる。また、層14cにおいて、Fe及びAsが検出され、それらの元素の存在割合(原子数比)は、百分率で、Fe:As=92.5%:7.5%であり、Fe:As=2:1の関係から遠く離れていることから、層14cが、Asが固溶したFeを含むものであると考えられる。When the composition was analyzed by EDX, all of Ba, Fe and As were detected in the layer 12, and the abundance ratio (atomic number ratio) of these elements was a percentage, Ba: Fe: As = 13.3. %: 52.0%: 34.7%, which is close to the relationship of Ba: Fe: A = 1: 2: 2, and it is considered that the layer 12 contains Ba122, that is, BaFe 2 As 2. Further, Fe and As were detected in the layer 14c, and the abundance ratio (atomic number ratio) of these elements was Fe: As = 92.5%: 7.5% in percentage, and Fe: As = 2 Since it is far from the 1: 1 relationship, it is considered that the layer 14c contains Fe in which As is dissolved.

また、層14bに含まれる層本体14dにおいて、Fe及びAsが検出され、それらの元素の存在割合(原子数比)は、百分率で、Fe:As=67.8%:32.2%であり、Fe:As=2:1の関係に近いことから、層本体14dがFeAsを含むものであると考えられる。また、層14bに含まれる粒子14eにおいて、Fe及びAsが検出され、それらの元素の存在割合(原子数比)は、百分率で、Fe:As=92.1%:7.9%であり、Fe:As=2:1の関係から遠く離れていることから、粒子14eがAsが固溶したFeを含むものであると考えられる。Further, Fe and As were detected in the layer body 14d contained in the layer 14b, and the abundance ratio (atomic number ratio) of these elements was Fe: As = 67.8%: 32.2% in percentage. Since the relationship is close to Fe: As = 2: 1, it is considered that the layer body 14d contains Fe 2 As. Further, Fe and As were detected in the particles 14e contained in the layer 14b, and the abundance ratio (atomic number ratio) of these elements was Fe: As = 92.1%: 7.9% in percentage. Since it is far from the relationship of Fe: As = 2: 1, it is considered that the particles 14e contain Fe in which As is dissolved.

なお、図示は省略するが、出発材料13cを、Asを含む気体G4(図12参照)に接触させた後であって、出発材料13cを、Baを含む気体(図13参照)に接触させる前は、実施例10の導電体は、層11と、層14cと、層本体14dと層本体14d中に分散配置された複数の粒子14eとを含む層14bと、よりなる3層構造を有していた。層14cは、層11と層14bとの間に配置されていた。即ち、図12に示した層14aは、層14cと、層14bと、を含んでいた。 Although not shown, it is after the starting material 13c is brought into contact with the gas G4 containing As (see FIG. 12) and before the starting material 13c is brought into contact with the gas containing Ba (see FIG. 13). The conductor of Example 10 has a three-layer structure including a layer 11, a layer 14c, and a layer 14b including a layer body 14d and a plurality of particles 14e dispersed in the layer body 14d. Was there. The layer 14c was arranged between the layer 11 and the layer 14b. That is, the layer 14a shown in FIG. 12 included the layer 14c and the layer 14b.

従って、900℃の温度で出発材料13cをAsを含む気体G4(図12参照)に接触させたとき、層11に含まれるFeと、気体G4に含まれるAsと、が反応することにより、Asが固溶したFeが形成して融解し、融解したAsが固溶したFeが900℃から温度を下降させる際に相分離することにより、FeAsを含む層本体14dと、Asが固溶したFeを含む粒子14eと、を含む層14bが形成されたと考えられる。また、次に、800℃の温度で出発材料13cをBaを含む気体G5(図13参照)に接触させたとき、層14bの層本体14dに含まれるFeAsと、気体G5に含まれるBaと、が反応することにより、Ba122、即ちBaFeAsが形成され、一部のFeAsが、Asが固溶したFeに還元されたと考えられる。Therefore, when the starting material 13c is brought into contact with the gas G4 containing As (see FIG. 12) at a temperature of 900 ° C., the Fe contained in the layer 11 reacts with the As contained in the gas G4 to cause As. The solid-melted Fe is formed and melted, and the melted As is phase-separated when the temperature is lowered from 900 ° C., so that the layer body 14d containing Fe 2 As and As are solid-dissolved. It is considered that the particles 14e containing Fe and the layer 14b containing the same Fe were formed. Next, when the starting material 13c is brought into contact with the gas G5 containing Ba (see FIG. 13) at a temperature of 800 ° C., Fe 2 As contained in the layer body 14d of the layer 14b and Ba contained in the gas G5. It is considered that Ba122, that is, BaFe 2 As 2, was formed by the reaction of and, and a part of Fe 2 As was reduced to Fe in which As was dissolved.

なお、詳細な説明は省略するが、出発材料13cを、Asを含む気体G4(図12参照)に接触させる際の温度が、840〜900℃の範囲内で且つ900℃以外の場合も、出発材料13cを、Asを含む気体G4に接触させる際の温度が、900℃である場合と、同様の結果が得られた。また、次に、出発材料13cを、Baを含む気体G5(図13参照)に接触させる際の温度が、700〜840℃の範囲内で且つ800℃以外の場合も、出発材料13cを、Baを含む気体G5に接触させる際の温度が、800℃である場合と、同様の結果が得られた。 Although detailed description is omitted, the starting material 13c is also started when the temperature at the time of contacting the starting material 13c with the gas G4 containing As (see FIG. 12) is within the range of 840 to 900 ° C. and other than 900 ° C. Similar results were obtained when the temperature at which the material 13c was brought into contact with the gas G4 containing As was 900 ° C. Next, when the temperature at which the starting material 13c is brought into contact with the gas G5 containing Ba (see FIG. 13) is within the range of 700 to 840 ° C and other than 800 ° C, the starting material 13c is also provided with Ba. The same result as when the temperature at the time of contacting with the gas G5 containing the above was 800 ° C. was obtained.

以上の結果より、実施例9及び10の導電体において、出発材料13cに含まれる鉄と、ヒ素とを反応させることにより、鉄とヒ素とを含む化合物を形成した後、鉄とヒ素とを含む化合物と、Baとを反応させる場合でも、出発材料に含まれる鉄と、ヒ素と、Baとを同時に反応させる場合と同様に、Ba122を形成できることが明らかになった。 From the above results, in the conductors of Examples 9 and 10, iron and arsenic are contained after forming a compound containing iron and arsenic by reacting iron contained in the starting material 13c with arsenic. It has been clarified that even when the compound and Ba are reacted, Ba122 can be formed in the same manner as when iron, arsenic and Ba contained in the starting material are reacted at the same time.

また、実施例9及び10では、出発材料13cを、Asを含む気体G4(図12参照)に接触させる際の温度等の条件、及び、出発材料13cを、Baを含む気体G5(図13参照)に接触させる際の温度等の条件、を個別に制御することができ、導電体の製造工程中において同時に制御するパラメータの数を削減することができるので、層12を有する導電体10を再現性良く製造することができる。 Further, in Examples 9 and 10, the conditions such as the temperature at which the starting material 13c is brought into contact with the gas G4 containing As (see FIG. 12) and the starting material 13c are referred to the gas G5 containing Ba (see FIG. 13). ) Can be individually controlled, and the number of parameters to be controlled at the same time during the conductor manufacturing process can be reduced, so that the conductor 10 having the layer 12 can be reproduced. It can be manufactured with good properties.

なお、詳細な説明は省略するが、上記組成式(化2)において、AEが、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、xが、0<x<1を満たし、Aが、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、第6元素E6が、更にAを含む、各種の組成である場合も、同様に、層12に含まれる化合物として、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。また、上記組成式(化2)において、yが、0<y<0.5を満たし、出発材料が、更にTMを含み、TMが、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素である、各種の組成である場合も、同様に、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。また、上記組成式(化2)において、zが、0<z<0.8を満たし、第5元素E5が、更にリンを含む、各種の組成である場合も、同様に、層12に含まれる化合物として、上記組成式(化2)で表される化合物を形成することができた。 Although detailed description will be omitted, in the above composition formula (Chemical Formula 2), AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr, and x satisfies 0 <x <1. Similarly, when A is at least one element selected from the group consisting of K and Na and the sixth element E6 has various compositions further containing A, the compound contained in the layer 12 is similarly selected. The compound represented by the above composition formula (Chemical formula 2) could be formed. Further, in the above composition formula (Chemical Formula 2), y satisfies 0 <y <0.5, the starting material further contains TM, and TM is selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni. Similarly, in the case of various compositions, which are at least one kind of element, the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) could be formed. Further, in the above composition formula (Chemical formula 2), when z satisfies 0 <z <0.8 and the fifth element E5 further contains phosphorus, the layer 12 is similarly contained. As the compound to be used, the compound represented by the above composition formula (Chemical Formula 2) could be formed.

以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on the embodiment thereof, the present invention is not limited to the embodiment and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。 Within the scope of the idea of the present invention, those skilled in the art can come up with various modified examples and modified examples, and it is understood that these modified examples and modified examples also belong to the scope of the present invention.

例えば、前述の各実施の形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。 For example, a person skilled in the art appropriately adds, deletes, or changes the design of each of the above-described embodiments, or adds, omits, or changes the conditions of the process of the present invention. As long as it has a gist, it is included in the scope of the present invention.

本発明は、導電体の製造方法、導電体、超伝導送電線、超伝導磁石装置及び超伝導磁気シールド装置に適用して有効である。 The present invention is effective when applied to a method for manufacturing a conductor, a conductor, a superconducting power transmission line, a superconducting magnet device, and a superconducting magnetic shield device.

10 導電体
10a 超伝導送電線
10b 超伝導磁石装置
10c 超伝導磁気シールド装置
11、12 層
13 基材
13a、13b 面
13c 出発材料
13d 側周面
14 介在物
14a、14b、14c 層
14d 層本体
14e 粒子
15、15a、15b 固体原料
16 容器
G1、G2、G3、G4、G5 気体
L1、L2 液体

10 Conductor 10a Superconducting transmission line 10b Superconducting magnet device 10c Superconducting magnetic shield device 11, 12 Layer 13 Base material 13a, 13b Surface 13c Starting material 13d Side peripheral surface 14 inclusions 14a, 14b, 14c Layer 14d Layer body 14e Particles 15, 15a, 15b Solid raw material 16 Container G1, G2, G3, G4, G5 Gas L1, L2 Liquid

Claims (19)

鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む第1層を形成する導電体の製造方法において、
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
(a)前記出発材料を、第1元素及び第2元素を含む第1気体に接触させ、前記出発材料に含まれる鉄と、前記第1気体に含まれる前記第1元素及び前記第2元素とを反応させることにより、前記出発材料の少なくとも表面に前記第1層を形成する工程、
を有し、
前記AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記xは、0≦x<1を満たし、
前記yは、0≦y<0.5を満たし、
前記zは、0≦z<0.8を満たし、
前記第1元素は、前記AEを含み、
前記第2元素は、ヒ素を含み、
前記xが0<x<1を満たすとき、前記第1元素は、更に前記Aを含み、
前記yが0<y<0.5を満たすとき、前記出発材料は、更に前記TMを含み、且つ、前記(a)工程では、前記出発材料に含まれる前記TM及び鉄と、前記第1気体に含まれる前記第1元素及び前記第2元素とを反応させることにより、前記出発材料の少なくとも表面に前記第1層を形成し、
前記zが0<z<0.8を満たすとき、前記第2元素は、更にリンを含む、導電体の製造方法。
In a method for producing a conductor, which forms a first layer containing a first compound represented by the following composition formula (Chemical formula 1) on at least the surface of a starting material containing iron.
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
(A) The starting material is brought into contact with a first gas containing the first element and the second element, and iron contained in the starting material and the first element and the second element contained in the first gas are combined with each other. To form the first layer on at least the surface of the starting material,
Have,
The AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr.
A is at least one element selected from the group consisting of K and Na.
The TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni.
The x satisfies 0 ≦ x <1 and
The y satisfies 0 ≦ y <0.5, and
The z satisfies 0 ≦ z <0.8, and
The first element contains the AE and
The second element contains arsenic and
When the x satisfies 0 <x <1, the first element further comprises the A.
When the y satisfies 0 <y <0.5, the starting material further contains the TM, and in the step (a), the TM and iron contained in the starting material and the first gas. By reacting the first element and the second element contained in the above, the first layer is formed on at least the surface of the starting material.
A method for producing a conductor, wherein when z satisfies 0 <z <0.8, the second element further contains phosphorus.
請求項1に記載の導電体の製造方法において、
前記(a)工程では、前記第1元素及び前記第2元素を含む固体原料と前記出発材料とを加熱し、前記固体原料を加熱することにより前記第1気体を発生させ、発生した前記第1気体に、加熱された状態の前記出発材料を接触させる、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 1,
In the step (a), the solid raw material containing the first element and the second element and the starting material are heated, and the solid raw material is heated to generate the first gas, and the generated first gas is generated. A method for producing a conductor, in which the starting material in a heated state is brought into contact with a gas.
請求項2に記載の導電体の製造方法において、
前記(a)工程では、前記固体原料を第1温度に加熱し、前記出発材料を第2温度に加熱し、前記固体原料を前記第1温度に加熱することにより前記第1気体を発生させ、発生した前記第1気体に、前記第2温度に加熱された状態の前記出発材料を接触させる、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 2,
In the step (a), the solid raw material is heated to a first temperature, the starting material is heated to a second temperature, and the solid raw material is heated to the first temperature to generate the first gas. A method for producing a conductor, in which the starting material heated to the second temperature is brought into contact with the generated first gas.
請求項2に記載の導電体の製造方法において、
前記(a)工程では、前記固体原料を700℃以上の第3温度に加熱し、前記出発材料を700℃以上の第4温度に加熱し、前記固体原料を前記第3温度に加熱することにより前記第1気体を発生させ、発生した前記第1気体に、前記第4温度に加熱された状態の前記出発材料を接触させる、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 2,
In the step (a), the solid raw material is heated to a third temperature of 700 ° C. or higher, the starting material is heated to a fourth temperature of 700 ° C. or higher, and the solid raw material is heated to the third temperature. A method for producing a conductor, in which the first gas is generated and the generated first gas is brought into contact with the starting material in a state of being heated to the fourth temperature.
請求項2に記載の導電体の製造方法において、
(b)前記(a)工程の前に、前記出発材料と前記固体原料とを、気密可能な容器内に配置する工程、
(c)前記(b)工程の後、前記(a)工程の前に、前記容器内を真空状態にするか、又は、前記容器内の雰囲気を不活性ガスにより置換する工程、
を有する、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 2,
(B) A step of arranging the starting material and the solid raw material in an airtight container before the step (a).
(C) After the step (b) and before the step (a), the step of evacuating the inside of the container or replacing the atmosphere in the container with an inert gas.
A method for producing a conductor.
請求項2乃至5のいずれか一項に記載の導電体の製造方法において、
(d)前記(a)工程の後、第3元素を含む第2気体又は第1液体に前記第1層を接触させることにより、前記第1層に含まれる前記AEの一部を前記第3元素により置換する工程、
を有し、
前記第3元素は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to any one of claims 2 to 5,
(D) After the step (a), by bringing the first layer into contact with a second gas or a first liquid containing a third element, a part of the AE contained in the first layer is made into the third layer. The process of substituting with elements,
Have,
A method for producing a conductor, wherein the third element contains at least one element selected from the group consisting of K and Na.
請求項2乃至6のいずれか一項に記載の導電体の製造方法において、
(e)前記(a)工程の後、第4元素を含む第3気体又は第2液体に前記第1層を接触させることにより、前記第1層に含まれるヒ素の一部を前記第4元素により置換する工程、
を有し、
前記第4元素は、リンを含む、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to any one of claims 2 to 6.
(E) After the step (a), by bringing the first layer into contact with a third gas or a second liquid containing the fourth element, a part of arsenic contained in the first layer is made into the fourth element. Replacing with,
Have,
A method for producing a conductor, wherein the fourth element contains phosphorus.
鉄を含む出発材料の少なくとも表面に、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含む第1層を形成する導電体の製造方法において、
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
(a)前記出発材料を、第1元素を含む第1気体に接触させ、前記出発材料に含まれる鉄と、前記第1気体に含まれる前記第1元素とを反応させることにより、前記出発材料の少なくとも表面に、鉄とヒ素とを含む第2化合物を含む第2層を形成する工程、
(b)前記(a)工程の後、前記出発材料を、第2元素を含む第2気体に接触させ、前記第2層に含まれる前記第2化合物と、前記第2気体に含まれる前記第2元素とを反応させることにより、前記出発材料の少なくとも表面に前記第1層を形成する工程、
を有し、
前記AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記xは、0≦x<1を満たし、
前記yは、0≦y<0.5を満たし、
前記zは、0≦z<0.8を満たし、
前記第1元素は、ヒ素を含み、
前記第2元素は、前記AEを含み、
前記xが0<x<1を満たすとき、前記第2元素は、更に前記Aを含み、
前記yが0<y<0.5を満たすとき、前記出発材料は、更に前記TMを含み、且つ、前記(a)工程では、前記出発材料に含まれる前記TM及び鉄と、前記第1気体に含まれる前記第1元素とを反応させることにより、前記出発材料の少なくとも表面に、前記TM及び鉄とヒ素とを含む前記第2化合物を含む前記第2層を形成し、
前記zが0<z<0.8を満たすとき、前記第1元素は、更にリンを含む、導電体の製造方法。
In a method for producing a conductor, which forms a first layer containing a first compound represented by the following composition formula (Chemical formula 1) on at least the surface of a starting material containing iron.
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
(A) The starting material is brought into contact with a first gas containing the first element, and iron contained in the starting material is reacted with the first element contained in the first gas to cause the starting material. A step of forming a second layer containing a second compound containing iron and arsenic, at least on the surface of the
(B) After the step (a), the starting material is brought into contact with a second gas containing a second element, and the second compound contained in the second layer and the second gas contained in the second gas. A step of forming the first layer on at least the surface of the starting material by reacting the two elements.
Have,
The AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr.
A is at least one element selected from the group consisting of K and Na.
The TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni.
The x satisfies 0 ≦ x <1 and
The y satisfies 0 ≦ y <0.5, and
The z satisfies 0 ≦ z <0.8, and
The first element contains arsenic and
The second element contains the AE and
When the x satisfies 0 <x <1, the second element further contains the A.
When the y satisfies 0 <y <0.5, the starting material further contains the TM, and in the step (a), the TM and iron contained in the starting material and the first gas. By reacting with the first element contained in the above, the second layer containing the second compound containing TM and iron and arsenic is formed on at least the surface of the starting material.
A method for producing a conductor, wherein when z satisfies 0 <z <0.8, the first element further contains phosphorus.
請求項8に記載の導電体の製造方法において、
前記(a)工程では、前記第1元素を含む第1固体原料と前記出発材料とを加熱し、前記第1固体原料を加熱することにより前記第1気体を発生させ、発生した前記第1気体に、加熱された状態の前記出発材料を接触させ、
前記(b)工程では、前記第2元素を含む第2固体原料と前記出発材料とを加熱し、前記第2固体原料を加熱することにより前記第2気体を発生させ、発生した前記第2気体に、加熱された状態の前記出発材料を接触させる、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 8,
In the step (a), the first solid raw material containing the first element and the starting material are heated, and the first solid raw material is heated to generate the first gas, and the generated first gas is generated. In contact with the heated starting material,
In the step (b), the second solid raw material containing the second element and the starting material are heated, and the second solid raw material is heated to generate the second gas, and the generated second gas is generated. A method for producing a conductor, in which the starting material in a heated state is brought into contact with the starting material.
請求項9に記載の導電体の製造方法において、
(c)前記(b)工程の後、第3元素を含む第3気体又は第1液体に前記第1層を接触させることにより、前記第1層に含まれる前記AEの一部を前記第3元素により置換する工程、
を有し、
前記第3元素は、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素を含む、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 9,
(C) After the step (b), by bringing the first layer into contact with a third gas or a first liquid containing a third element, a part of the AE contained in the first layer is made into the third layer. The process of substituting with elements,
Have,
A method for producing a conductor, wherein the third element contains at least one element selected from the group consisting of K and Na.
請求項9又は10に記載の導電体の製造方法において、
(d)前記(b)工程の後、第4元素を含む第4気体又は第2液体に前記第1層を接触させることにより、前記第1層に含まれるヒ素の一部を前記第4元素により置換する工程、
を有し、
前記第4元素は、リンを含む、導電体の製造方法。
In the method for producing a conductor according to claim 9 or 10.
(D) After the step (b), by bringing the first layer into contact with a fourth gas or a second liquid containing the fourth element, a part of arsenic contained in the first layer is made into the fourth element. Replacing with,
Have,
A method for producing a conductor, wherein the fourth element contains phosphorus.
金属鉄を主成分として含む第1層と、
前記第1層と積層された第2層と、
を有し、
前記第2層は、以下の組成式(化1)で表される第1化合物を含み、
(AE1−x)(Fe1−yTM(As1−z・・・(化1)
前記AEは、Ba及びSrからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記Aは、K及びNaからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記TMは、Cr、Mn、Co及びNiからなる群から選択された少なくとも一種の元素であり、
前記xは、0≦x<1を満たし、
前記yは、0≦y<0.5を満たし、
前記zは、0≦z<0.8を満たす、導電体。
The first layer containing metallic iron as the main component and
The second layer laminated with the first layer and
Have,
The second layer contains the first compound represented by the following composition formula (Chemical formula 1).
(AE 1-x A x ) (Fe 1-y TM y ) 2 (As 1-z P z ) 2 ... (Chemical formula 1)
The AE is at least one element selected from the group consisting of Ba and Sr.
A is at least one element selected from the group consisting of K and Na.
The TM is at least one element selected from the group consisting of Cr, Mn, Co and Ni.
The x satisfies 0 ≦ x <1 and
The y satisfies 0 ≦ y <0.5, and
The z is a conductor satisfying 0 ≦ z <0.8.
請求項12に記載の導電体において、
前記第1層と前記第2層との間に介在する介在物を有し、
前記介在物は、組成式FeAsで表される第2化合物、又は、ヒ素が固溶した鉄を含む、導電体。
In the conductor according to claim 12,
It has inclusions intervening between the first layer and the second layer.
The inclusion is a conductor containing a second compound represented by the composition formula Fe 2 As or iron in which arsenic is dissolved.
請求項12又は13に記載の導電体において、
前記第2層は、超伝導性を有する、導電体。
In the conductor according to claim 12 or 13,
The second layer is a conductor having superconductivity.
請求項14に記載の導電体において、
第1面及び前記第1面と反対側の第2面よりなる線状形状又は板状形状を備え、且つ、金属鉄を主成分として含む基材を有し、
前記第1層は、前記基材の前記第1面又は前記第2面の表面層である、導電体。
In the conductor according to claim 14,
It has a linear or plate shape consisting of a first surface and a second surface opposite to the first surface, and has a base material containing metallic iron as a main component.
The first layer is a conductor which is a surface layer of the first surface or the second surface of the base material.
請求項14に記載の導電体において、
第3面及び前記第3面と反対側の第4面よりなる板状形状をそれぞれ備え、且つ、金属鉄をそれぞれ主成分として含む複数の基材を有し、
前記第1層は、前記複数の基材の各々の前記第3面又は前記第4面の表面層であり、
前記複数の基材は、前記複数の基材の各々の厚さ方向に積層されている、導電体。
In the conductor according to claim 14,
It has a plate-like shape consisting of a third surface and a fourth surface opposite to the third surface, and has a plurality of base materials each containing metallic iron as a main component.
The first layer is a surface layer of the third surface or the fourth surface of each of the plurality of base materials.
The plurality of base materials are conductors in which the plurality of base materials are laminated in the thickness direction of each of the plurality of base materials.
請求項15に記載の導電体を備えた超伝導送電線において、
前記基材は、線状形状を備えている、超伝導送電線。
In the superconducting power transmission line provided with the conductor according to claim 15.
The base material is a superconducting power transmission line having a linear shape.
請求項15又は16に記載の導電体を備えた超伝導磁石装置。 A superconducting magnet device comprising the conductor according to claim 15 or 16. 請求項15又は16に記載の導電体を備えた超伝導磁気シールド装置。

A superconducting magnetic shield device comprising the conductor according to claim 15 or 16.

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