JPWO2010044268A1 - 露光装置及びその組立て方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

露光装置及びそれに付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する全体フレーム（５０）が、複数のユニット（５２，５４，５６）から構成されている。さらに、複数のユニット（５２，５４，５６）のそれぞれが、例えば、照明系（ＩＯＰ）、マスクステージを駆動するリニアモータの固定子（７１ａ，７２ａ）、及びマスク搬送装置９０を支持している。この場合、複数のユニット（５２，５４，５６）から１つの全体フレーム（５０）を構築することで、フレーム全体として十分な強度を持たせることができる。従って、大型の露光装置を容易に組み立てることができる。

Description

本発明は、露光装置及びその組立て方法、並びにデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、例えば液晶表示素子などのフラットパネル型の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程において使用される露光装置及びその組立て方法、並びに前記露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

液晶表示素子などのフラットパネル型の電子デバイス（マイクロデバイス）の製造においては、マスクに形成されたパターンを感光性基板上に転写するフォトリソグラフィの手法が用いられている。このフォトリソグラフィの手法を用いた製造工程では、マスクが２次元平面内で移動するマスクステージに載置されており、そのマスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して少なくとも２次元平面内で移動する基板ステージに載置されている感光性基板上に投影する投影露光装置が用いられている（例えば、特許文献１参照）。

近年、液晶表示素子をはじめとするフラットパネル型の電子デバイス（マイクロデバイス）が大型化している。それに伴い、マスク及び基板（それらとともにマスクステージ及び基板ステージ）が大型化し、さらにマスクステージ及び基板ステージのストロークが伸長している。そのため、マスクステージ及び基板ステージを支持する架台も大型化している。また、マスクステージ、基板ステージ、投影光学系、照明光学系、並びにこれらを支持する架台などの露光装置本体の全体が、骨組み構造から成るフレームと、該フレームに組み付けられたパネルとによって構成されるチャンバ内に収納されている。

ところで、露光装置の構成各部は、それを輸送・搬送する車両・航空機などの輸送・搬送手段の積載重量等の制限、あるいは輸送・搬送能力などにより、その大きさ、重量などが制限される。このため、特にチャンバを構成するフレームなどはその組立状態では、輸送・搬送手段で搬送することはできず、組立て前のバラバラの状態で工場内に運び込み、その場で組立てていた。フレーム以外の大型の装置についても、同様の事情が存在した。

従って、工場での組立て作業に長時間を要し、装置の立ち上げに長期間（長時間）を要していた。この他、従来の露光装置では、マスク及び基板（並びにマスクステージ及び基板ステージ）の大型化に伴い、振動、地震などに対して装置の十分な強度を確保することが困難となりつつあった。

米国特許出願公開第２００８／００３０７０２号明細書

本発明は、上述の事情の下でなされたものであり、第１の観点からすると、エネルギビームを照射して物体上にパターンを形成する露光装置であって、前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから構成されるフレームと；を備える露光装置である。

これによれば、パターン生成装置及びパターン生成装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから構成されるフレームを備えていることから、各ユニットの大きさを、輸送・搬送手段の重量制限、輸送・搬送能力などを考慮して、設定することができる。さらに、複数のユニットのそれぞれが構成各部の少なくとも一部を支持することができるので、フレームに加わる荷重を分散することができる。また、複数のユニットから１つのフレームを構築するので、フレーム全体として十分な強度を持たせることが容易である。従って、大型の露光装置を、容易、かつ短期間で組み立てることが可能となる。また、フレームの強度を十分なレベルにすることができるので、振動、地震などにも対応でき、大型、大重量の露光装置の精度向上を図ることが可能になる。

本発明は、第２の観点からすると、本発明の露光装置を用いて物体を露光することと、前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法である。

本発明は、第３の観点からすると、エネルギビームを照射して物体上にパターンを生成するパターン生成装置と、該パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから構成されるフレームと、を備える露光装置の組立て方法であって、装置設置のための準備作業を行うことと；前記パターン生成装置のビーム源を含む一部を除く本体部の組立て、及び前記フレームの部組として複数のユニットを組立て、前記複数のユニットの一部の第１ユニットの上に前記ビーム源からのエネルギビームを射出する照明系を搭載することと；しかる後、前記本体部を内部に収容した状態で前記フレームを組立てるために、部組された前記第１ユニットを含む前記複数のユニットを所定の手順でドッキングすることと；を含む露光装置の組立て方法である。

一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。 全体フレームを除く露光装置の構成を概略的に示す図である。 全体フレームの構成を概略的に示す図である。 全体フレームを構成する第１の門型ユニットの構成を概略的に示す図である。 全体フレームを構成する第２の門型ユニットの構成を概略的に示す図である。 全体フレームを構成する連結ユニットの構成を概略的に示す図である。 全体フレーム及びそれに支持される露光装置本体及び付設装置の構成各部の配置を示す図である。 全体フレーム内に配置される本体部の構成を概略的に示す図である。 一実施形態の露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。 図１に示される露光装置１００から露光装置本体（本体部１００’を含む）とユニット５６とを取り除いた残部を示す斜視図である。 図１０からユニット５４及びユニット５２を取り除き、安全柵の配置を示す図である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その１）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その２）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その３）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その４）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その５）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その６）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その７）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その８）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その９）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その１０）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その１１）である。 露光装置の組み立ての手順を説明するための図（その１２）である。

以下、本発明の一実施形態を、図１〜図２３に基づいて説明する。

図１には、一実施形態の露光装置１００の全体構成が一部省略して示されている。また、図２には、後述する全体フレーム５０を取り去った露光装置１００の構成が概略的に示されている。

露光装置１００は、骨組み構造物である全体フレーム５０と、該全体フレーム５０によって、照明系ＩＯＰが支持された露光装置本体とを備えている。露光装置本体は、図２に示されるように、露光用照明光（露光光）でマスクＭを照明し、マスクＭを介した照明光を、投影ユニットＰＵ（投影光学系）を介して表面にレジスト（感光剤）が塗布されたガラスプレート（以下、プレートと略述する）Ｐに投射し、プレートＰ上にマスクＭに形成されたパターンの像を形成する。露光装置本体は、照明系ＩＯＰと本体部１００’とを含む。なお、照明系ＩＯＰの少なくとも一部（例えば照明光学系を含む）が本体部に含まれていても良い。

本実施形態では、全体フレーム５０によって、露光装置本体に付設されるマスク搬送装置（以下、適宜、マスクローダとも呼ぶ）９０等も支持されている。なお、露光装置本体の構成等については、後に詳述する。

全体フレーム５０は、図３に示されるように、３つのフレームユニット（以下、ユニットと略述する）５２，５４及び５６を備え、該３つのユニット５２，５４及び５６が、互いに連結されることで構成されている。連結方法については、後述する。以下では、便宜上、ユニット５２，５４及び５６の連結方向が、Ｙ軸方向であるものとして説明を行う（図３参照）。また、全体フレーム５０が設置された床面（又はベースプレート）Ｆに平行な面内でＹ軸方向に垂直な方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に平行な方向をＺ軸方向とする。

ユニット５２，５４及び５６のそれぞれは、Ｙ軸方向の幅（長さ）よりＸ軸方向の幅（長さ）が長く設定されている。

ユニット５２は、図４に示されるように、Ｙ軸方向から見て門の形状を有する門型ユニットである。ユニット５２は、全体の外観が矩形のメッシュ状の構造体（例えば管材等の一般構造材を組み合わせた構造体の他、メッシュ状の矩形の板部材なども含む）から成り、ＸＹ平面に平行に配置された天井部５２ｃと、天井部５２ｃの＋Ｘ端部、−Ｘ端部に上端がそれぞれ固定され、天井部５２ｃを下方から支持する一対の脚部５２ａ，５２ｂとを有する。天井部５２ｃは、荷重を支える水平材（ビーム）として機能する。

脚部５２ａ，５２ｂのそれぞれは、所定の間隔で配置された複数本（例えば３本）の柱と、これらを連結する複数本（例えば４本）の梁部材とから成る。天井部５２ｃには、開口部５２ｄが形成されている。

ユニット５４は、図５に示されるように、−Ｙ方向から見て門の形状を有する門型ユニットである。ユニット５４は、全体の外観が矩形のメッシュ状の構造体（例えば管材等の一般構造材を組み合わせた構造体の他、メッシュ状の矩形の板部材なども含む）から成り、ＸＹ平面に平行に配置された天井部５４ｃと、天井部５４ｃの＋Ｘ端部、−Ｘ端部に上端がそれぞれ固定され、天井部５４ｃを下方から支持する一対の脚部５４ａ，５４ｂと、脚部５４ａ，５４ｂとともに天井部５４ｃを下方から支持する脚部５４ｄとを有する。天井部５４ｃは、荷重を支える水平材（ビーム）として機能する。ユニット５４は、Ｘ軸方向の長さは、ユニット５２とほぼ同一であるが、Ｙ軸方向の長さは、ユニット５２より短い。また、ユニット５４は、ユニット５２より高さが低い。

脚部５４ａ、５４ｂのそれぞれは、所定間隔で配置された２本の柱と、これらを連結する複数本（例えば２本）の梁部材とから成る。また、脚部５４ｄは、脚部５４ａ、５４ｂで支持されていない天井部５４ｃの＋Ｙ側の端部を下方から支持する複数本（例えば２本）の柱と、これらの複数本の柱相互を連結する複数本（例えば２本）の梁部材とを含む。脚部５４ｄは、脚部５４ａ、５４ｂに梁部材を介して連結されている。

上述のユニット５２，５４は、図３に示されるように、Ｙ軸方向に離間して、配置されている。図３に示されるように、ユニット５２の脚部５２ａを構成する＋Ｙ側の柱と、ユニット５４の脚部５４ａを構成する−Ｙ側の柱とが、梁部材から成る２本の接続部材５８を用いて接続（連結）されている。同様に、ユニット５２の脚部５２ｂを構成する＋Ｙ側の柱と、ユニット５４の脚部５４ｂを構成する−Ｙ側の柱とが、梁部材から成る２本の接続部材５８を用いて接続されている。

ユニット５６は、図３に示されるように、高さの異なるユニット５２，５４を連結する連結ユニットである。詳述すると、ユニット５６は、図６に示されるように、例えば、全体の外観が矩形のメッシュ状の構造体（例えば管材等の一般構造材を組み合わせた構造体の他、メッシュ状の矩形の板部材なども含む）から成る天井部５６ｃと、天井部５６ｃの−Ｙ端部、＋Ｙ端部に上端がそれぞれ固定された高さの異なる２つの脚部５６ａ，５６ｂと、を有する。脚部５６ｂは、ほぼ等間隔で配置された複数本（例えば４本）の柱と、これら複数本の柱を連結する複数本（例えば３本）の梁部材とによって構成されている。脚部５６ａは、脚部５６ｂと同様に構成されているが、ユニット５２とユニット５４との高さの差だけ、脚部５６ｂよりＺ軸方向の長さ（寸法）が短い。また、脚部５６ａ，５６ｂの＋Ｘ側端部同士は、梁部材によって連結されている。

図３に示されるように、ユニット５２の天井部５２ｃの＋Ｙ側の端部の上面に、ユニット５６の脚部５６ａの下端が固定され、ユニット５４の天井部５４ｃの−Ｙ側の端部の上面に、ユニット５６の脚部５６ｂの下端が固定されている。このようにして、連結ユニット５６を用いて２つの門型ユニット５２，５４を連結することで、３つのユニット５２，５４，５６が一体化された、十分な強度を有する、全体フレーム５０が構築されている。なお、ユニット５２，５４，５６相互間の固定は、ねじ等を用いて行われているが、溶接によっても良い。なお、全体フレーム５０に、例えば防塵等のための壁材（又はパネル）を取り付けても良い。

また、全体フレーム５０を構成する３つのユニット５２，５４，５６のそれぞれは、車両等の搬送手段・輸送手段の重量制限を超えない程度の重量及び大きさになっている。ただし、少なくても１つのユニットが、重量制限を超える場合であっても、本実施形態では、各ユニットが、脚部と天井部との複数のパーツから構成されているので、パーツ毎に、輸送して、現場で各ユニットを組み立てるようにすれば、重量制限の問題は解消する。

以下、露光装置本体の構成等について、図２、図７、図８、図９に基づいて説明する。ここで、必要に応じて、露光装置本体及びその付属装置の構成各部の、全体フレーム５０による支持方法などについても併せて説明する。

図７には、全体フレーム５０及び全体フレーム５０に支持される露光装置本体及びその付属装置の構成各部の配置が示され、図８には、全体フレーム５０の内部に配置される本体部１００’の構成が斜視図にて概略的に示されている。また、図９には、露光装置１００の制御系の主要な構成がブロック図にて示されている。制御系は、装置全体を統括制御するマイクロコンピュータ（あるいはワークステーション）などを含む主制御装置２０を中心として構成されている。

露光装置本体は、図２に示されるように、照明系ＩＯＰ、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、マスクＭに形成されたパターンをプレートＰ上に投影する投影ユニットＰＵ、プレートＰを保持するプレートステージＰＳＴ等を備えている。

照明系ＩＯＰは、例えば米国特許出願公開第２００１／００３３４９０号明細書、米国特許第５,７２９,３３１号明細書、及び米国特許第６,２８８,７７２号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。すなわち、照明系ＩＯＰは、コヒーレントな露光光、例えば紫外域の輝線（例えばｇ線、ｉ線など）を射出する超高圧水銀ランプから成る光源、及び該光源に送光光学系を介して接続された照明光学系を含む。照明系ＩＯＰは、露光光をマスクＭに向けて射出する。なお、光源としては、超高圧水銀ランプに限らず、ＡｒＦエキシマレーザ（出力波長１９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）などのパルスレーザ光源、あるいは固体レーザ装置などを用いることができる。

照明系ＩＯＰは、図７に示されるように、ユニット５２の天井部５２ｃ上に、搭載されている。この場合、照明系ＩＯＰは、＋Ｙ側端部の下端に設けられた射出端部（照明系ＩＯＰの一部を構成する照明光学系の一部）を、前述した天井部５２ｃの開口５２ｄの内部に挿入した状態で、天井部５２ｃ上に搭載されている。すなわち、照明系ＩＯＰは、ユニット５２の天井部５２ｃによって下方から支持されている。図７では、全体フレーム５０の内部に配置される本体部１００’は図示が省略されている。

ここで、本体部１００’の構成について、図８に基づいて、かつ適宜他の図面を参照しつつ説明する。

本体部１００’は、図８に示されるように、床面Ｆ上に設置されたボディＢＤ（図２参照）と、該ボディＢＤに搭載されたマスクステージＭＳＴ、プレートステージＰＳＴ、及び投影ユニットＰＵ（図８では図示省略、図２参照）、並びにマスクステージＭＳＴを駆動するマスクステージ駆動系ＭＳＤ及びプレートステージＰＳＴを駆動するプレートステージ駆動系ＰＳＤ（図８ではいずれも図示せず、図９参照）等を備えている。

ボディＢＤは、図８に示されるように、Ｙ軸方向に所定間隔を隔てて平行に配置され、それぞれの長手方向（Ｘ軸方向）の両端部が防振システム（支持部材）６５を介して床面Ｆ上に支持された一対の架台６６ａ、６６ｂと、一対の架台６６ａ、６６ｂの上面に設置されたＹ軸方向に長い長方形板状の定盤６８と、架台６６ａ，６６ｂの±Ｘ端部上に載置されたＹ軸方向を長手方向とする一対の補助架台６４ａ，６４ｂと、一対の補助架台６４ａ，６４ｂ上に設置されたＸ軸方向を長手方向とする長方形板状の架台６２とを含む。一対の架台６６ａ、６６ｂのそれぞれは、長手方向の両端部近傍に一対の段部が形成され、それらの段部下側の面（内部底面）は、段部上側の面と平行になっている。そして、一対の架台６６ａ、６６ｂの内部底面上に定盤６８は設置されている。

ボディＢＤを構成する一対の架台６６ａ、６６ｂと一対の補助架台６４ａ，６４ｂとは、上記説明からも明らかなように、井形状に組み立てられている。また、架台６２は、後述するように投影ユニットＰＵ（投影光学系の鏡筒を含む）を支持する鏡筒定盤の役目を果たすので、以下では、鏡筒定盤６２と呼ぶ。

上述の説明から明らかなように、ボディＢＤは、全体フレーム５０とは独立に、床面Ｆ上に設置されている。

マスクステージＭＳＴは、図２から明らかなように、照明系ＩＯＰの下方に配置されている。ここで、マスクステージＭＳＴ上には、パターンが形成されたマスクＭが載置されている。

マスクステージＭＳＴは、鏡筒定盤６２上に設置されたＹ軸方向に延びる一対のガイド６３ａ，６３ｂ上に不図示のエアベアリング等を介して非接触で支持されている。マスクステージＭＳＴは、マスクステージ駆動系ＭＳＤにより、ガイド６３ａ，６３ｂ上で、Ｙ軸方向に所定のストローク内で駆動可能であり、Ｘ軸方向及びＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）に微小駆動可能である。

詳述すると、マスクステージ駆動系ＭＳＤは、一対のリニアモータ７１、７２を含む。ここで、図２及び図７より明らかなように、一対のリニアモータ７１，７２を構成する一対の固定子７１ａ，７２ａが、ユニット５２，５４（を構成する天井部５２ｃ，５４ｃ）に、吊り下げ支持されている。固定子７１ａ，７２ａは、ユニット５２，５４の配列方向（すなわち連結方向であるＹ軸方向）を長手とし、互いにＸ軸方向に離間して配置されている。

なお、固定子７１ａ，７２ａのそれぞれを複数のパーツに分解し、複数のパーツの一部と残りの一部とをそれぞれユニット５２，５４を用いて支持しても良い。

固定子７１ａ，７２ａは、図８に示されるように、断面Ｕ字状の磁石ユニットから成る。一方の固定子７１ａの内部には、Ｙ軸方向に沿って交番磁界が形成されるように、複数の永久磁石がＹ軸方向に沿って所定ピッチで配置されている。この場合、相互に隣接する永久磁石同士、相互に対向する永久磁石同士は、極性が異なる。

他方の固定子７２ａの内部には、固定子７１ａ側と同様の配置で、複数の永久磁石がＹ軸方向に沿って配列されている。これに加え、固定子７２ａの内部には、Ｙ軸方向に細長く延びる例えば各２つの永久磁石が、上下の対向面にそれぞれ配置されている。この場合も、相互に隣接する永久磁石同士、相互に対向する永久磁石同士は、極性が異なる。

マスクステージＭＳＴの±Ｘ端部には、固定子７１ａ、７２ａの内部空間に挿入され、固定子７１ａ、７２ａのそれぞれとともに、リニアモータ７１、７２をそれぞれ構成する電機子ユニット（コイルユニット）から成る可動子７１ｂ，７２ｂが、突設されている。可動子７１ｂ，７２ｂには、対応する固定子７１ａ，７２ａ側の磁石の配置に対応する配置で、複数の電機子コイルが配置されている。この場合、リニアモータ７１は、可動子７１ｂに対するＹ軸方向の駆動力（推力）を発生するＹリニアモータである。一方、リニアモータ７２は、可動子７２ｂに対するＹ軸方向の駆動力（推力）に加え、Ｘ軸方向の駆動力（推力）をも発生するＸＹ２次元のリニアモータである。この場合、可動子７２ｂのＹ軸方向のストロークは、固定子７２ａの長さと同程度であるが、Ｘ軸方向のストロークは、固定子のＸ軸方向の幅より短い。

マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内での位置は、マスクステージＭＳＴに設けられた（又は形成された）反射面に測長ビームを照射するマスクステージ干渉計ＭＳＩ（図９参照）により計測される。その計測結果は、主制御装置２０に供給される（図９参照）。主制御装置２０は、供給された計測結果に基づいて、マスクステージ駆動系ＭＳＤを介してマスクステージＭＳＴを駆動し、マスクステージＭＳＴの位置（及び速度）を制御する。なお、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号などに開示されているように、エンコーダシステムによってマスクステージＭＳＴの位置情報を計測しても良い。

投影ユニットＰＵは、図２に示されるように、マスクステージＭＳＴの下方で、鏡筒定盤６２に支持されている。投影ユニットＰＵは、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書などに開示される投影光学系と同様の構成の投影光学系を有している。すなわち、投影ユニットＰＵは、千鳥状に配置された複数の投影光学系を含み、この複数の投影光学系は、Ｘ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。本実施形態では、複数の投影光学それぞれとしては、例えば両側テレセントリックでな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。複数の投影光学系はそれぞれ投影光学モジュールなどとも呼ぶことができる。

このため、照明系ＩＯＰからの露光光によってマスクＭ上の複数の照明領域が照明されると、投影光学系の第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるマスクＭを通過した露光光により、投影光学系を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、投影光学系の第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感光剤）が塗布されたプレートＰ上で前記照明領域に共役な露光光の照射領域（露光領域）に形成される。そして、マスクステージＭＳＴとプレートステージＰＳＴとの同期駆動によって、複数の照明領域（露光光）に対してマスクＭを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、複数の露光領域（露光光）に対してプレートＰを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、プレートＰ上のショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭのパターンが転写される。

プレートステージＰＳＴは、図２に示されるように、投影ユニットＰＵの下方に配置されている。ここで、プレートステージＰＳＴ上には、プレートＰが載置されている。プレートステージＰＳＴは、図８に示されるように、定盤６８上にＸ軸方向に離間して設置されたＹ軸方向を長手方向とする一対のガイド６９ａ，６９ｂの上にエアベアリング等を介して非接触で支持されている。プレートステージＰＳＴは、プレートステージ駆動系ＰＳＤにより、ガイド６９ａ，６９ｂ上で、Ｙ軸方向に所定のストローク内で駆動可能であり、Ｘ軸方向、θｚ方向、Ｚ軸方向及びＸＹ平面に対する傾斜方向（Ｘ軸回りの回転方向（θｘ方向）及びＹ軸回りの回転方向（θｙ方向））にも微小駆動可能である。

詳述すると、プレートステージ駆動系ＰＳＤは、一対のリニアモータ７３、７４を含む。一対のリニアモータ７３、７４を構成する固定子７３ａ，７４ａは、図８に示されるように、ともにＹ軸方向を長手とする断面Ｕ字状部材から成り、長手方向の両端がそれぞれ架台６６ａ，６６ｂの前述した各段部の上面に支持されている。ここで、固定子７３ａ，７４ａは互いにＸ軸方向に離間し、それらの中央に位置する配置で定盤６８が、架台６６ａ，６６ｂの前述した内部底面上に設置されている。固定子７３ａは、前述の固定子７１ａと同様に構成されるとともに、固定子７４ａは前述の固定子７２ａと同様に構成されている。

プレートステージＰＳＴの＋Ｘ端部には、可動子７３ｂが突設されている。可動子７３ｂは、固定子７３ａの内部空間に先端部が挿入された状態となっている。可動子７３ｂは、前述した可動子７１ｂと同様の電機子ユニット（コイルユニット）によって構成され、固定子７３ａとともに前述のリニアモータ７１と同様のＹリニアモータ７３を構成する。また、プレートステージＰＳＴの−Ｘ端部には、可動子７４ｂが突設されている。可動子７４ｂは、固定子７４ａの内部空間に先端部が挿入された状態となっている。可動子７４ｂは、前述した可動子７２ｂと同様の電機子ユニット（コイルユニット）によって構成され、固定子７４ａとともに前述のリニアモータ７２と同様のＸＹ２次元リニアモータ７４を構成する。

プレートステージＰＳＴは、リニアモータ７３、７４によってＹ軸方向に長ストロークで駆動されると共に、Ｘ軸方向及びθｚ方向に微小駆動される。

プレートステージ駆動系ＰＳＤは、この他、プレートステージＰＳＴを、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向に駆動するＺ・チルト駆動装置（不図示）を含む。Ｚ・チルト駆動装置は、一例としてプレートステージＰＳＴをそれぞれＺ軸方向に微小駆動する、例えばボイスコイルモータを含む、３つ（又は４つ）のＺ駆動装置によって構成することができる。

プレートステージＰＳＴのＸＹ平面内での位置（及び傾斜（θｘ回転及びθｙ回転））は、プレートステージＰＳＴに設けられた（あるいは形成された）反射面に測長ビームを照射するプレートステージ干渉計ＰＳＩ（図９参照）を用いて計測され、その計測結果は、主制御装置２０に供給される（図９参照）。主制御装置２０は、供給された計測結果に基づいて、プレートステージ駆動系ＰＳＤを介してプレートステージＰＳＴを駆動し、プレートステージＰＳＴの位置（及び速度）を制御する。なお、マスクステージＭＳＴ側と同様に、エンコーダシステムによってプレートステージＰＳＴの位置情報を計測しても良い。

前述の如く、ボディＢＤは、全体フレーム５０とは独立に、床面Ｆ上に設置されている。従って、ボディＢＤの各部に搭載されたマスクステージＭＳＴ、投影ユニットＰＵ、及びプレートステージＰＳＴなどは、全体フレーム５０とは独立に、床面Ｆ上に設置されている。

また、本実施形態の露光装置１００には、プレートステージＰＳＴに載置されるプレートＰの面位置（表面のＺ軸方向の位置）を計測する面位置計測系ＡＦ（図９参照）が備えられている。面位置計測系ＡＦとして、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書に開示されている計測系が用いられている。

本体部１００’は、さらに、プレートステージＰＳＴの上方に配置された複数のアライメント系ＡＬ（図８では不図示、図９参照）を含む。アライメント系ＡＬは、投影ユニットＰＵとともに鏡筒定盤６２に吊り下げ支持されている。

アライメント系ＡＬとして、例えば、画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。アライメント系ＡＬの検出結果（対象マークの位置情報）は、アライメント信号処理系（不図示）を介して主制御装置２０に供給される（図９参照）。

また、プレートステージＰＳＴ上には、複数のマーク板（不図示）が設置されている。ここで、マーク板（不図示）の表面の高さは、プレートステージＰＳＴ上に載置されるプレートＰのそれとほぼ等しい。マーク板（不図示）の表面には、上述のアライメント系ＡＬにより検出される基準マークが形成されている。

また、プレートステージＰＳＴの内部には、上述の複数のマーク板（不図示）のうちの幾つかの下方に、レンズ系と撮像素子（ＣＣＤ等）とをそれぞれ含むマーク像検出系ＭＤ（図９参照）が、それぞれ、配置されている。マーク像検出系ＭＤは、露光光ＩＬにより照明されたマスクＭ上のアライメントマーク（不図示）の投影光学系及びレンズ系による像と、基準マークのレンズ系による像とを同時に検出し、基準マーク（の像）を基準とするアライメントマーク（の像）の位置を計測する。その計測結果は、主制御装置２０に供給される（図９参照）。なお、検出系ＭＤはマーク像を撮像する方式に限られるものでなく、プレートステージＰＳＴの上面に設けられる光透過部を介して露光光ＩＬを検出する方式などでも良い。

本実施形態の露光装置１００には、マスクステージＭＳＴ上にマスクＭを搬送するマスク搬送装置９０が、付設されている。マスク搬送装置９０は、例えば図７に示されるように、ユニット５６（を構成する天井部５６ｃ）に吊り下げ支持されている。マスク搬送装置９０は、例えば図２及び図７に示されるように、天井部５６ｃに吊り下げ状態で固定され、Ｘ軸方向に延びるレール部材９１と、該レール部材９１に設けられた不図示のガイドに沿ってレール部材９１の下方でＸ軸方向に移動可能なマスクローダ本体９２とを備えている。レール部材９１は、その−Ｘ側の端部が、図１からもわかるように、全体フレーム５０の外部に突出している。本実施形態では、マスクステージＭＳＴに対するマスクＭのロード及びマスクステージＭＳＴからのマスクＭのアンロードは、上方から、行われる。そのため、マスクローダ本体９２は、全体フレーム５０外部のマスクの受け渡し位置と、マスクステージＭＳＴ上方のマスクステージＭＳＴに対するマスクの受け渡し位置との間で往復移動可能に構成されている。

さらに、本実施形態の露光装置１００では、本体部１００’の外側に安全柵が配置されている。図１に示される露光装置１００から露光装置本体（本体部１００’を含む）とユニット５６とを取り除いた残部を示す斜視図である図１０及び図１０からユニット５４及びユニット５２を取り除いた図１１に示されるように、例えば、本体部１００’の＋Ｙ側には、平面視Ｕ字状の安全柵ＳＲ_１が配置されている。安全柵ＳＲ_１は、図１０から分かるように、ユニット５４の内部に配置されている。また、本体部１００’の−Ｘ側には、図１０及び図１１に示されるように、安全柵ＳＲ_２、ＳＲ_３が配置されている。安全柵ＳＲ_２は、ユニット５４とユニット５２との間、より詳しくは脚部５４ｂと脚部５２ｂとの間に配置されている。また、安全柵ＳＲ_３は、ユニット５４の内部、具体的には、脚部５４ｂの内側に配置されている。その他の場所にも、安全柵が設けられている。これらの安全柵は、チャンバの内部を二重構造にし、チャンバの内部に入った作業者等が、本体部１００’の特定の一部に誤って接触するのを防止するために、設けられている。その特定の一部は、例えば精密な部分、危険な部分などである。

次に、液晶表示素子の製造工場（クリーンルーム）における露光装置１００の組み立ての手順について、図１２〜図２３に基づいて説明する。

まず、工場（クリーンルーム）内で、装置設置のための墨出し、すなわち装置設置位置の決定及びアンカーボルトの取り付け位置の決定のための床面の寸法計測、全体フレーム５０の設置位置高さ計測、その他の準備作業の後、本体部１００’の組立て、及び全体フレーム５０の部組（すなわち３つのユニット５２，５４，５６の組立て）が、並行して行われる。このとき、照明系ＩＯＰを、その射出端部（照明系ＩＯＰの一部を構成する照明光学系の一部）を、前述した天井部５２ｃの開口５２ｄの内部に挿入した状態で、ユニット５２の天井部５２ｃ上に搭載する。本体部１００’は、本体部１００’の一部をそれぞれ構成する各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。本体部１００’の組立ては、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。

しかる後、全体フレームのドッキング、すなわち、上述の全体フレーム５０の部組で部組された３つのユニット５２，５４，５６を、以下の手順でドッキングする。

まず、図１２に示されるように、ユニット５２の位置出し工具１０２ａ、１０２ｂ及び１０２ｃを、ユニット５２にそれぞれ取り付ける。なお、このとき、ユニット５２には、工具用の手摺り１０３が取り付けられている。

次に、ユニット５２を不図示の吊り工具を介して不図示の門型リフターで吊り上げ、位置出し工具１０２ａ、１０２ｂ及び１０２ｃを、ボディＢＤに押し当てながらユニット５２を降ろす。このとき、図１３に示される位置出し工具当て面１０４ａ、１０４ｂ及び１０４ｃに、位置出し工具１０２ａ、１０２ｂ及び１０２ｃのそれぞれが押し当てられる。

なお、位置出し工具１０２ａ、１０２ｂ及び１０２ｃを用いることなく、上述の墨だしで決定された墨だし線に合わせて、ユニット５２を設置する方法を採用しても良い。

次に、不図示の吊り工具及び位置出し工具１０２ａ、１０２ｂ及び１０２ｃを、ユニット５２から取り外し、ユニット５２にアンカーボルト及び残パネルを取り付ける。図１４には、このアンカーボルト等の取り付けが終了した状態が示されている。

次に、図１５に示されるように、ユニット５４、ユニット５６及びマスクローダ９０を、本体部１００’の＋Ｙ側に移動させる。この移動は、不図示の門型リフター及び／又はエアーホバーを用いて、作業者によって行われる。

次に、図１６に示されるように、ユニット５４に位置出し工具１０６ａ、１０６ｂを取り付ける。

次に、ユニット５４を、図１７に示される位置から、不図示の吊り工具を介して不図示の門型リフターで吊り上げ、位置出し工具１０６ａ、１０６ｂで位置決めして所定の位置（図１８に示される位置）に降ろす。

次に、不図示の吊り工具及び位置出し工具１０６ａ及び１０６ｂを、ユニット５４から取り外し、ユニット５４にアンカーボルト及び残パネルを取り付ける。図１８には、このアンカーボルト等の取り付けが終了した状態が示されている。

次に、図１９に示されるように、ユニット５６に、ブリッジフレーム１０８を取り付ける。なお、図１９では、ユニット５６の脚部５６ａ、５６ｂに、移動用のキャスターが取り付けられている。

次に、図２０に示されるように、ユニット５６を不図示の吊り工具を介して不図示の門型リフターで吊り上げ、台車１１０上に搭載されたマスクローダ９０上に降ろし、ユニット５６とマスクローダ９０とを締結する。ユニット５６とマスクローダ９０とを締結後、マスクローダ９０と台車１１０との接続（締結）を解除する。

次に、図２１に示されるように、マスクローダ９０が締結されたユニット５６を不図示の吊り工具を介して不図示の門型リフターで吊り上げ、ユニット５４とユニット５２との間に降ろし、ユニット５６をユニット５４とユニット５２とに締結する。この締結の際に障害となるキャスターは、締結に先立ってユニット５６の脚部から外される。図２２には、ユニット５６がユニット５４とユニット５２とに締結された状態が示されている。

そして、ブリッジフレーム１０８を正規位置に取り付け、ユニット５６から吊り工具を外し、ユニット５２とユニット５４との間に、両者を連結する複数の接続部材５８を取り付ける。そして、残りのユニット（ドライバー、空圧ボックス等）を、ユニット５２，５４，５６に載せ、マスクローダ用の作業用足場を取り付け、ユニット５４から工具用の手摺りを取り外す。これにより、全体フレームのドッキングが終了する。図２３には、全体フレームのドッキングが終了した状態が示されている。その後、全体フレームの外面に複数のパネルを組み付けてチャンバを構成する。これにより、露光装置１００の組み立てが終了する。その後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、安全柵の設置作業等については、説明を省略した。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、露光装置本体及び露光装置本体に付設される装置（例えば搬送装置９０等）の構成各部の少なくとも一部を支持する複数、ここでは３つのユニット５２、５４、５６から構成される全体フレーム５０を備えている。このため、ユニット５２、５４、５６それぞれの大きさを、車両等の輸送・搬送手段の重量制限、輸送・搬送能力のなどを考慮して、設定することができる。さらに、複数のユニット５２，５４，５６のそれぞれが上記構成各部の少なくとも一部を支持することができるので、全体フレーム５０に加わる荷重を分散することができる。また、複数のユニット５２，５４，５６から１つの全体フレーム５０を構築するので、全体フレーム５０全体として十分な強度を持たせることが容易である。本実施形態では、各ユニットとして強度の高い門型ユニットが採用されているので、この点においても、強度の向上を図ることができる。従って、大型の露光装置を、容易に、かつ短期間（短時間）で組み立てることが可能となる。

また、本実施形態の露光装置１００によると、前述の如く、全体フレーム５０全体として十分な強度を持たせることが容易であるので、振動、地震などにも十分に対応でき、大型、大重量の露光装置の精度向上を図ることが可能になる。

また、本実施形態の露光装置１００によると、ボディＢＤは、全体フレーム５０とは独立して、かつ防振システム６５介して床面Ｆ上に設置されている。そして、マスクステージＭＳＴを駆動する一対のリニアモータ７１，７２の固定子７１ａ，７２ａは、全体フレーム５０に吊り下げ支持されている。このため、リニアモータ７１，７２によってマスクステージＭＳＴを駆動する際に、固定子７１ａ，７２ａに作用する駆動力の反力は、その固定子を介して全体フレーム５０に伝達され、該全体フレーム５０を介して機械的に床（大地）に逃がされる。すなわち、固定子７１ａ，７２ａが、例えば米国特許第５，８７４，８２０号明細書に開示されるリアクションフレームとして機能する。従って、マスクステージＭＳＴを駆動する駆動力の反力などが、ボディＢＤの一部に支持された投影ユニットＰＵの振動要因となることがない。なお、例えば特開平８−６３２３１号公報（対応する英国特許出願公開第２２９０６５８号明細書）などに開示されているように、固定子７１ａ，７２ａを全体フレーム５０に吊り下げ支持された支持部材に対して移動可能な構成とし、上記反力の作用により、運動量保存の法則に従って固定子７１ａ，７２ａをマスクステージＭＳＴ（可動子７１ｂ，７２ｂ）と反対方向に移動させることによって、上記反力が投影ユニットＰＵの振動要因となるのを排除しても良い。すなわち、固定子７１ａ，７２ａを、いわゆるカウンタマスとしても良い。

また、本実施形態の露光装置１００によると、マスクローダ９０のレール部材９１がユニット５６の天井部５６ｃから吊り下げられ、マスクローダ本体９２が、レール部材９１に沿って、全体フレーム５０外部のマスクの受け渡し位置とマスクステージＭＳＴ上方のマスクステージＭＳＴに対するマスクの受け渡し位置との間で往復移動するように構成されている。これにより、上方から、マスクステージＭＳＴに対するマスクのロード、及びマスクステージＭＳＴからのマスクのアンロードができるようになっている。また、マスク搬送に伴って生じるマスクローダ９０の振動が、全体フレーム５０とは独立に、床面Ｆ上に設置されたボディＢＤ（本体部１００’）への伝達されるのを抑制（阻止）でき、露光精度の向上を図ることができる。

なお、上記実施形態では、２つの門型ユニット５２，５４と、該門型ユニット５２，５４を連結する連結ユニット５６との３つのユニットによって、全体フレーム５０を構成したが、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、門型ユニットは、１つ又は３つ以上設けられていても良く、連結ユニットは複数設けられていても良い。例えば、門型ユニットが３つ以上設けられる場合、その３つ以上の門型ユニットを用いて固定子７１ａ，７２ａを支持しても良い。これにより、マスクステージＭＳＴのストロークの伸長が容易になる。ただし、門型ユニット及び連結ユニットの少なくとも一方は、必ずしも設けられていなくても良い。

また、上記実施形態中のユニット５２，５４，５６が、大きすぎて又は重すぎて、輸送手段で輸送できない場合などには、ユニット５２，５４，５６を、例えば、脚部と天板部とに分割して搬送するようにしても良い。すなわち、複数のユニット（５２，５４，５６）の少なくとも１つを、複数の部材に分割可能に構成し、搬送（輸送）時はその複数の部材に分割し、その分割可能に構成した少なくとも１つのユニットを現地で組み立て、組立てたその少なくとも１つのユニットを他のユニットと組み合わせて設置しても良い。

要は、上述した露光装置本体などのパターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから全体フレームが構成されるのであれば、そのユニットの数は、問わない。

なお、上述した 安全柵は、その機能から、仕切部材、保護部材、あるいは隔壁部材などとも呼ぶことができる。従って、例えば安全柵を仕切部材として用いる場合、チャンバの内部空間を仕切ることで、例えばその内部空間の空調効率を高めることができる。

また、全体フレーム５０の内側かつ安全柵の外側に、プレートＰの除電を行うイオナイザが配置され、メンテナンスなどのために作業員（又はオペレータなど）が露光装置内部に入る場合、イオナイザがオフされて初めて全体フレーム５０内に立ち入り可能となる。また、全体フレーム５０内に入った作業員は、安全柵を通して露光装置本体の動作状態を目視可能となっている。

また、露光装置本体などのパターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから全体フレームが構成される上記実施形態の露光装置は、露光装置の製造工場からデバイス製造工場への輸送だけでなく、他のデバイス製造工場に露光装置を移設するための輸送、及び／又は組立などにも有効である。

なお、上記実施形態では、マスクステージ干渉計ＭＳＩを用いてマスクステージＭＳＴの位置を、またプレートステージ干渉計ＰＳＩを用いてプレートステージＰＳＴの位置を、計測することとした。しかし、これに限らず、マスクステージ干渉計ＭＳＩに代えて、エンコーダ（複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を用いても良い。あるいは、マスクステージ干渉計ＭＳＩとエンコーダとを併用しても良い。同様に、プレートステージ干渉計ＰＳＩに代えてエンコーダ（複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を用いても良い。あるいは、プレートステージ干渉計ＰＳＩとエンコーダとを併用しても良い。

また、上記実施形態において、露光光として、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。

なお、上記実施形態では、投影ユニットＰＵが、複数の投影光学系を備えたマルチレンズ方式である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数は１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。

また、上記実施形態では投影光学系として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。

また、上記実施形態では、非液浸タイプの露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、例えば米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書等に開示されるように、投影光学系と露光対象の基板との間に液体を供給し、その液体を介して露光光を基板に投射する液浸露光方式の露光装置に対して、本発明を適用することもできる。

なお、上記実施形態においては、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。

なお、上記実施形態の全体フレームなどのフレームを備えた本発明の露光装置は、サイズ（外径、対角線、一辺の少なくとも１つを含む）が５００ｍｍ以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の大型基板を露光する露光装置に対して適用することが特に有効である。これは、基板の大型化に対応すべく本発明がなされているからである。

なお、上記実施形態では、本発明が走査露光を行う投影露光装置に適用された場合について説明したが、これに限らず、本発明は、投影光学系を用いない、プロキシミティ方式の露光装置にも適用することができる。また、本発明は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッパ）あるいはステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。

また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。

また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。

なお、これまでの説明で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開公報、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。

《デバイス製造方法》
次に、上記実施形態の露光装置１００をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法について説明する。上記実施形態の露光装置１００では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることができる。

〈パターン形成工程〉
まず、上述した露光装置１００を用いて、パターン像を感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に形成する、いわゆる光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成される。

〈カラーフィルタ形成工程〉
次に、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列された、又はＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルタを形成する。

〈セル組み立て工程〉
次に、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有する基板、及びカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。例えば、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。

〈モジュール組立工程〉
その後、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。

この場合、パターン形成工程において、上記実施形態の露光装置を用いて高スループットかつ高精度でプレートの露光が行われるので、結果的に、液晶表示素子の生産性を向上させることができる。

本発明の露光装置は、液晶表示素子のようなフラットパネル型の大型の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するのに適している。

Claims (25)

1. エネルギビームを照射して物体上にパターンを形成する露光装置であって、
   前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と；
   前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから構成されるフレームと；
   を備える露光装置。
2. 請求項１に記載の露光装置において、
   前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、所定平面内の一軸方向に連結されて、前記フレームの少なくとも一部を構成する露光装置。
3. 請求項２に記載の露光装置において、
   前記一部のユニットは、前記一軸方向に関する幅よりも長い前記所定平面内で前記一軸に垂直な方向に関する幅を有する露光装置。
4. 請求項２又は３に記載の露光装置において、
   前記一部のユニットは、前記所定平面内で前記一軸に垂直な方向に離間する一対の脚部と、該一対の脚部によって前記所定平面に平行に支持される天井部とを有する門型ユニットを含む露光装置。
5. 請求項４に記載の露光装置において、
   前記門型ユニット同士を固定する接続部材をさらに備える露光装置。
6. 請求項４又は５に記載の露光装置において、
   前記複数のユニットは、前記門型ユニット同士を連結する少なくとも１つの連結ユニットを含む露光装置。
7. 請求項６に記載の露光装置において、
   前記連結ユニットは、２つの前記門型ユニットのそれぞれに固定される一対の脚部と該一対の脚部によって支持される天井部とを有する露光装置。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
   前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記エネルギビームを発生する、前記パターン生成装置のビーム源を支持する露光装置。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
   前記パターン生成装置は、前記パターンが形成されたマスクを介して、前記エネルギビームを前記物体上に照射し、
   前記複数のユニットの少なくとも一部は、前記マスクを保持して移動する移動体の駆動装置が有する一対の固定子を支持する露光装置。
10. 請求項９に記載の露光装置において、
    前記一対の固定子は、それぞれ、前記一部のユニットの配列方向を長手方向とし、且つ、互いに、前記配列方向に垂直な方向に離間する露光装置。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記パターン生成装置は、前記パターンが形成されたマスクを介して、前記エネルギビームを前記物体上に照射し、
    前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記移動体上に前記マスクを搬送する搬送装置を支持する露光装置。
12. 請求項１１に記載の露光装置において、
    前記一部のユニットは、前記搬送装置を、前記マスクが保持される前記移動体の面に対向する位置に支持する露光装置。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を吊り下げ支持する露光装置。
14. 請求項１３に記載の露光装置において、
    前記吊り下げ支持される前記構成各部の少なくとも一部は、前記パターン生成装置のビーム源からのエネルギビームが経由する照明光学系を含む露光装置。
15. 請求項１４に記載の露光装置において、
    前記ビーム源は、前記複数のフレームの少なくとも一部の上部に搭載される露光装置。
16. 請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を前記フレームの内側に支持する露光装置。
17. 請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を上部に搭載する露光装置。
18. 請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記複数のユニットのうちの少なくとも一部は、前記パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を前記フレーム外に突出させて支持する露光装置。
19. 請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記パターン生成装置は、少なくともビーム源を含む一部を除く、本体部が、前記フレームの内側に配置される露光装置。
20. 請求項１９に記載の露光装置において、
    前記フレームの内側でかつ前記本体部の外側に配置された仕切り部材を兼ねる保護部材をさらに備える露光装置。
21. 請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
    前記物体は、サイズが５００ｍｍ以上の基板を含む露光装置。
22. 請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
    前記露光された物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。
23. デバイスとしてフラットパネルディスプレイを製造する請求項２２に記載のデバイス製造方法。
24. エネルギビームを照射して物体上にパターンを生成するパターン生成装置と、該パターン生成装置及び該装置に付設される装置の構成各部の少なくとも一部を支持する複数のユニットから構成されるフレームと、を備える露光装置の組立て方法であって、
    装置設置のための準備作業を行うことと；
    前記パターン生成装置のビーム源を含む一部を除く本体部の組立て、及び前記フレームの部組として複数のユニットを組立て、前記複数のユニットの一部の第１ユニットの上に前記ビーム源からのエネルギビームを射出する照明系を搭載することと；
    しかる後、前記本体部を内部に収容した状態で前記フレームを組立てるために、部組された前記第１ユニットを含む前記複数のユニットを所定の手順でドッキングすることと；を含む露光装置の組立て方法。
25. 請求項２４に記載の露光装置の組立て方法において、
    前記ドッキングすることでは、
    前記照明系が搭載された前記第１ユニットを吊り上げて前記本体部に対して位置出しした状態で降ろし、
    前記複数のユニットのうちの第２ユニットを吊り上げて前記第１ユニットに対して位置決めした状態で降ろし、
    前記第１ユニットと前記第２ユニットとを連結する連結ユニットを吊り上げて前記第１ユニットと前記第２ユニットとの間に降ろし、前記連結ユニットを前記第１ユニットと前記第２ユニットとに締結する露光装置の組立て方法。