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JPWO2017038927A1 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス表示装置 Download PDF

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Abstract

本発明は、本発明は、外光反射の優れた抑制効果を維持しつつ、高い輝度を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、偏光子と、光学異方性層と、発光層とをこの順に有し、発光層が、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層と、第２色の光を発する複数の第２発光層と、第３色の光を発する複数の第３発光層とを有し、偏光子が、第１発光層から発光する第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域、第２発光層から発光する第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域、および、第３発光層から発光する第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域からなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence：ＥＬ）表示装置に関する。
有機ＥＬ表示装置は、自発光型の薄型表示装置であり、液晶表示装置と比較して視認性が高く、視野角依存性が少ないといった表示性能上の利点を有する。
また、有機ＥＬ表示装置は、ディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点に加え、フレキシブルな基板を用いることで、これまで実現できなかった形状の表示装置を実現できる可能性を有している。
一方、有機ＥＬ表示装置は、電極に酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）などの高屈折率の透明導電性材料を用いて屈折率の異なる層を積層したり、反射率の高い金属材料などを用いたりするため、外光がそれらの界面で反射し、コントラスト低下や内部反射による映り込みの問題が生じることが知られている。
そして、このような外光反射による問題を抑制するために、光出射面側に円偏光板を用いることが知られている（例えば、特許文献１および２など参照）。
特開平０９−１２７８８５号公報 国際公開第２０１３／１３７４６４号
特許文献１および２などの記載された有機ＥＬ表示装置は、円偏光板を用いているため外光反射の抑制効果は高いが、円偏光板に偏光子（直線偏光子）を用いる必要があるため、可視光透過率は４０〜５０％となり、必然的に有機ＥＬ表示装置の輝度が低くなるという問題点を有している。
すなわち、従来の有機ＥＬ表示装置では、外光反射の抑制と輝度の向上は、互いにトレードオフの関係にある。
そこで、本発明は、外光反射の優れた抑制効果を維持しつつ、高い輝度を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）などの各色に発光する発光層と、光学異方性層と、発光層の発光分画に対応するように透過率を変えた所定の領域を２以上含む偏光子と、を有する有機ＥＬ表示装置が、外光反射の優れた抑制効果を維持しつつ、高い輝度を発現することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
［１］ 偏光子と、光学異方性層と、発光層とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
発光層が、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層と、第２色の光を発する複数の第２発光層と、第３色の光を発する複数の第３発光層とを有し、
偏光子が、第１発光層から発光する第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域、第２発光層から発光する第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域、および、第３発光層から発光する第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域からなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［２］ 偏光子が、第１偏光領域、第２偏光領域、および、第３偏光領域をいずれも有する、［１］に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［３］ 第１偏光領域、第２偏光領域、および、第３偏光領域の各領域の境界にブラックマトリックスが設けられている、［１］または［２］に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［４］ 第１色、第２色および第３色の光のスペクトルの極大波長が互いに５０ｎｍ以上離れている、［１］〜［３］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［５］ 第１色、第２色および第３色の光のスペクトルの極大波長が、それぞれ、４３０〜４８０ｎｍ、５００〜５５０ｎｍ、および、６００〜６５０ｎｍである、［１］〜［４］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
［６］ 偏光子が、吸収型直線偏光子であり、
光学異方性層が、下記式（Ｉ）を満たす、［１］〜［５］のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ ・・・（１）
ここで、式（１）中、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
本発明によれば、外光反射の優れた抑制効果を維持しつつ、高い輝度を有する有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
本発明の有機ＥＬ表示装置の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、角度について「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書では、「可視光」とは、４００〜７００ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。
＜遅相軸＞
本明細書において、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。なお、光学異方性層の遅相軸という場合は、光学異方性層全体の遅相軸を意図する。
＜Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）＞
本明細書において、「Ｒｅ（λ）」および「Ｒｔｈ（λ）」とは、それぞれ、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。
Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲ（いずれも王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
ここで、測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにおいて算出される。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにおいて算出される。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）および数式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ＯＰＴＩＣ ＡＸＩＳ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにより算出される。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、偏光子と、光学異方性層と、発光層とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、発光層が、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層と、第２色の光を発する複数の第２発光層と、第３色の光を発する複数の第３発光層とを有する。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、偏光子が、第１発光層から発光する第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域、第２発光層から発光する第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域、および、第３発光層から発光する第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域からなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有する。
このような構成を有することにより、外光反射の優れた抑制効果を維持しつつ、高い輝度を発現することができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、特許文献１および２などに記載された従来の有機ＥＬ表示装置においては、上述した通り、外光反射抑制のために設けられた円偏光板に含まれる直線偏光子の存在により、発光層から発光する光の透過率が４０〜５０％になるため、有機ＥＬ表示装置の輝度が低下することになる。
これに対し、本発明では、偏光子として、発光層の発光分画に対応するように透過率を変えた所定の領域を２以上含む偏光子（以下、「パターン偏光子」ともいう。）を有していることにより、各領域において、発光層から発光する光（例えば、赤色光）を５０％より多く透過し、それ以外の光（例えば、青色光および緑色光）に対しては直線偏光子として働くため、有機ＥＬ表示装置の輝度が向上すると考えられる。なお、外光のうち、発光層から発光する光と同色の光については、発光層から発光する光とともに偏光子を透過することになるが、他の光については反射を抑制することができるため、外光反射の優れた抑制効果は維持することが可能となる。
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置の全体の構成について図１を用いて説明した後に、各部の構成を詳述する。
図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。
図１に示す有機ＥＬ表示装置１０は、視認側から、パターン偏光子７と、光学異方性層６と、発光層３とをこの順に有する。
また、図１に示す通り、発光層３は、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層３Ｒと、第２色の光を発する複数の第２発光層３Ｂと、第３色の光を発する複数の第３発光層３Ｇとを有する。
また、図１に示す通り、パターン偏光子７は、発光層３の第１発光層３Ｒから発光する第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域７ＢＧ、発光層３の第２発光層３Ｂから発光する第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域７ＲＧ、および、発光層３の第３発光層Ｇから発光する第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域７ＲＢからなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有する。なお、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０おいては、パターン偏光子７が上記群から選択される３つの領域をいずれも有する好適態様が示されている。
また、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０は、パターン偏光子７における各領域（例えば、第１偏光領域７ＢＧ）は、対応する発光層３における各発光層（例えば、第１発光層３Ｒ）からの光のみを受光するように、各領域と各発光層とが発光方向に対して互いに重なるように配置されており、図１に示すように、パターン偏光子７および発光層３には、各領域（各層）を区画するブラックマトリックス８を有していることが好ましい。
一方、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０は、上述した構成に加えて、従来公知の有機ＥＬ表示装置と同様、視認側から、透明基板５、透明電極（陰極）４、金属電極（陽極）２、薄膜トランジスタ（thin film transistor：ＴＦＴ）基板１とを有する態様が示されているが、本発明の有機ＥＬ表示装置は、透明基板５、透明電極４、金属電極２、および、ＴＦＴ基板１の構成（例えば、層構成）については特に限定されない。
〔パターン偏光子〕
本発明の有機ＥＬ表示装置が有するパターン偏光子は、上述した通り、第１発光層から発光する第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域、第２発光層から発光する第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域、および、第３発光層から発光する第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域からなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有するものである。
ここで、本明細書においては、各色（第１色〜第３色）の光の透過率とは、各発光層（例えば、第１発光層）から発光する各色の光の発光スペクトルと、各発光層（例えば、第１発光層）と各偏光領域（例えば、第１偏光領域）とを重ね合わせた際に各偏光領域を透過してくる光の透過光スペクトルとを、同一条件で測定した後に、発光スペクトルを波長４００〜７００ｎｍの間で積分した値を積分値Ｉとし、透過光スペクトルを波長４００〜７００ｎｍの間で積分した値を積分値ＩＩとし、積分値Ｉに対する積分値ＩＩの比率を透過率と定義する。
また、平均可視光透過率とは、波長４００〜７００ｎｍの可視光領域で１ｎｍ毎に光透過率を測定し、算術平均することにより求めた値をいう。
上記パターン偏光子の各偏光領域（第１偏光領域〜第３偏光領域）における各発光層から発光する各色の光の透過率は、６０％以上であり、８０％以下であるのが好ましく、７０％以下であるのがより好ましく、６５％以下であるのが更に好ましい。
また、パターン偏光子の各偏光領域は、いずれも平均可視光透過率が３０〜５５％であり、４０〜５５％であるのが好ましく、４５〜５５％であるのがより好ましく、５０〜５５％であるのが更に好ましい。
本発明においては、より高い輝度を有する有機ＥＬ表示装置が得られる理由から、パターン偏光子が、第１偏光領域、第２偏光領域、および、第３偏光領域をいずれも有しているのが好ましい。
また、同様の理由から、上記パターン偏光子は、吸収型直線偏光子であるのが好ましい。
上記パターン偏光子の各偏光領域（第１偏光領域〜第３偏光領域）の構成材料は、各発光層から発光する各色の光の透過率および平均可視光透過率が上述した値を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、第１発光層から発光する第１色が赤色である場合は、第１発光層に対応して設けられる第１偏光領域は、赤色の光を６０％以上透過させ、かつ、外光由来の反射光に含まれる青色および緑色の光に対しては直線偏光子として機能させる観点、すなわち、青色光および緑色光を吸収させる観点から、青色色素および緑色色素を含む二色性色素を用いるのが好ましい。
同様に、第２発光層から発光する第２色が青色である場合は、第２発光層に対応して設けられる第２偏光領域は、赤色色素および緑色色素を含む二色性色素を用いるのが好ましく、第３発光層から発光する第３色が緑である場合は、第３発光層に対応して設けられる第３偏光領域は、赤色色素および青色色素を含む二色性色素を用いるのが好ましい。
このような二色性色素としては、例えば、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、アントラキノン系、アゾ系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、テトラジン系などの公知の材料から適宜選択して用いることができ、具体的には、例えば、特開平９−７３０１５号公報の［００１２］〜［００２５］段落に記載の化合物を挙げることができる。
また、二色性色素は側鎖に配向性基を有する高分子であってもよい。
本発明においては、上記パターン偏光子における第１偏光領域、第２偏光領域および第３偏光領域の各領域の境界に、ブラックマトリックス（黒色隔壁）が設けられているのが好ましい。
このようなブラックマトリックスの形成方法としては、例えば、遮光性顔料（例えば、カーボンブラック）を含有する感光性樹脂組成物を用いる方法が挙げられる。具体的には、例えば、偏光領域を形成する前の支持体上に、感光性樹脂組成物を塗布し、パターン状の露光し、現像により、偏光領域を形成する部分を除去する方法が挙げられる。
また、このような黒色感光性樹脂組成物としては、例えば、特開２０１５−１３８１８０号公報の［００３７］〜［００６０］段落に記載された組成物、特開２０１５−１０２７９２号公報の［００２６］〜［００４４］段落に記載された組成物などが挙げられる。
本発明においては、上記パターン偏光子の作製方法は特に限定されないが、例えば、支持体上に配向膜を形成し、配向膜に対して配向処理（例えば、ラビング処理、光配向処理など）を施した後に、上述した二色性色素を含有する塗布液を塗布し、硬化させる方法等が挙げられる。
上記支持体としては、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
なお、本発明のパターン偏光子は、このような支持体を兼ねる態様であってもよい。
また、上記配向膜を形成する材料はポリマー材料であるのが好ましく、その具体例としては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行〜４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜;等が挙げられる。
また、使用可能な他の配向膜として光配向膜が挙げられ、例えば、国際公開第２００５／０９６０４１号の段落［００２４］〜［００４３］に記載されたポリアミド化合物やポリイミド化合物などのポリマー材料；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された光配向性基を有する液晶配向剤により形成される液晶配向膜；Ｒｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。
なお、本発明のパターン偏光子は、このような配向膜を兼ねる態様であってもよい。
本発明においては、パターン偏光子の厚みは特に限定されないが、支持体や配向膜を含まない偏光領域における厚みは、３００〜２０００ｎｍであるのが好ましく、４００〜１０００ｎｍであるのがより好ましい。
〔光学異方性層〕
本発明の有機ＥＬ表示装置が有する光学異方性層は、特に限定されず、従来公知の光学異方性層を適宜採用して用いることができる。
本発明においては、上記光学異方性層は、液晶性化合物を含む光学異方性層であるのが好ましい。なお、上記光学異方性層は、単層構造であっても、積層構造であってもよい。
＜液晶性化合物＞
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
本発明においては、外光反射の優れた抑制効果をより維持することができる理由から、光学異方性層が、下記式（１）を満たしているのが好ましい。
１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ ・・・（１）
ここで、式（１）中、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
また、本発明においては、広い波長領域においてλ／４板として機能し、円偏光板としてより好適に用いることができる理由から、光学異方性層が、λ／２板とλ／４板とを有する積層体であるのが好ましい。
なお、本明細書において、「円偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の円偏光板、および、表示装置に組み込まれる大きさに裁断された円偏光板の両者を含む意味で用いている。また、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする。
＜λ／２板＞
λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／２を満たす光学異方性層のことをいう。なお、この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。
本発明においては、λ／２板の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、２０５〜２７５ｎｍであるのが好ましく、２１５〜２６５ｎｍであるのがより好ましい。
波長５５０ｎｍで測定したλ／２板の厚み方向のレターデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、−２４０〜２４０ｎｍであることが好ましく、−１６０〜１６０ｎｍであることがより好ましい。
λ／２板の厚みは、特に制限されないが、表示装置の薄型化を図りやすくなる理由から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／２板の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
λ／２板は、光学特性の温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶性化合物（棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物）を用いて形成することがより好ましい。液晶性化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、λ／２板は、重合性基を有する棒状液晶性化合物または重合性基を有する円盤状液晶性化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。
＜λ／４板＞
λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす光学異方性層のことをいう。なお、この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。
本発明においては、λ／４板の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１００〜１５０ｎｍであるのが好ましく、１１０〜１４０ｎｍであるのがより好ましい。
波長５５０ｎｍで測定したλ／４板の厚み方向のレターデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、−１２０〜１２０ｎｍであることが好ましく、−８０〜８０ｎｍであることがより好ましい。
λ／４板の厚みは、特に制限されないが、表示装置の薄型化を図りやすくなる理由から、０．５〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／４板の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
λ／４板は、重合性基を有する液晶性化合物（棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
本発明においては、上述したλ／２板とλ／４板とを有する積層体を光学異方性層として用いる場合は、広い波長領域において円偏光板として機能する理由から、円偏光板が、上述した偏光子、λ／２板およびλ／４板をこの順に有しているのが好ましい。また、λ／４板の面内遅相軸とλ／２板の面内遅相軸とのなす角度は６０°であることが好ましい。
上述したλ／２板とλ／４板の形成方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、所定の基板（仮基板や、λ／２板およびλ／４板のいずれか一方を含む）に、重合性基を有する液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する。）を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより、製造することができる。なお、必要に応じて、後述する配向膜を用いてもよい。
上記組成物の塗布としては、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
上記組成物には、上述した液晶性化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
また、組成物には溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。
具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｔ−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
また、組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤など垂直配向促進剤、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤など水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。
本発明においては、上記光学異方性層の厚み（上述したλ／２板とλ／４板を有する場合はこれらの厚みの合計）については特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
〔発光層〕
本発明の有機ＥＬ表示装置が有する発光層は、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層と、第２色の光を発する複数の第２発光層と、第３色の光を発する複数の第３発光層とを有する。
ここで、上記発光層としては、いわゆる３色発光方式の有機ＥＬ表示装置に用いられる発光層と同様のものを用いることができる。
本発明においては、色再現性を向上できる理由から、第１色、第２色および第３色の光のスペクトルの極大波長が互いに５０ｎｍ以上離れているのが好ましく、第１色、第２色および第３色の光のスペクトルの極大波長が、それぞれ、４３０〜４８０ｎｍ、５００〜５５０ｎｍ、および、６００〜６５０ｎｍであるのがより好ましい。
上記発光層の構成としては、少なくとも活性層（狭義の発光層）を有するものであれば特に限定されず、陽極側から、正孔輸送層、活性層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。
また、正孔輸送層と陽極との間に正孔注入層が積層される態様；活性層と電子輸送層との間に電子輸送性中間層（正孔ブロック層）が積層されている態様；活性層と正孔輸送層との間に正孔輸送性中間層（電子ブロック層）が積層される態様；陰極と電子輸送層との間に電子注入層が積層される態様などが好適に挙げられる。
上記発光層の具体的な層構成として、下記が挙げられるが本発明はこれらの構成に限定されるものではない。
・（陽極側）正孔輸送層／活性層／電子輸送層（陰極側）
・（陽極側）正孔輸送層／活性層／ブロック層／電子輸送層（陰極側）
・（陽極側）正孔輸送層／活性層／ブロック層／電子輸送層／電子注入層（陰極側）
・（陽極側）正孔注入層／正孔輸送層／活性層／電子輸送層／電子注入層（陰極側）
・（陽極側）正孔注入層／正孔輸送層／活性層／ブロック層／電子輸送層（陰極側）
・（陽極側）正孔注入層／正孔輸送層／活性層／ブロック層／電子輸送層／電子注入層（陰極側）
・（陽極側）正孔注入層／正孔輸送層／励起子ブロック層／活性層／電子輸送層／電子注入層（陰極側）
このような各構成材料としては、例えば、特開２０１４−１９９２７４号公報の［００５８］〜［００８３］段落に記載された各構成材料や、特開２０１３−１６５０８９号公報の［００３９］〜［０１７７］段落に記載された有機材料（Ｂ）における発光材料などが挙げられる。
〔透明基板〕
本発明の有機ＥＬ表示装置は、図１に示す通り、透明基板を有していることが好ましい。
透明基板は、発光層から発光する光を散乱または減衰させない基板であることが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
このような透明基板としては、例えば、特開２００８−２７０７３６号公報の［００７０］〜［００７３］段落に記載された基板が挙げられる。
〔金属電極（陽極）〕
本発明の有機ＥＬ表示装置は、図１に示す通り、金属電極（陽極）を有していることが好ましい。
陽極は、通常、発光層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
また、陽極としては、例えば、特開２００８−２７０７３６号公報の［００７４］〜［００８１］段落に記載された陽極が挙げられる。
〔透明電極（陰極）〕
本発明の有機ＥＬ表示装置は、図１に示す通り、透明電極（陰極）を有していることが好ましい。
陰極は、通常、有機層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
また、陰極としては、例えば、特開２００８−２７０７３６号公報の［００８２］〜［００８９］段落に記載された陰極が挙げられる。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
［実施例１］
〔青色発光素子の作製〕
２．５ｃｍ×２．５ｃｍの酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜を有する、厚み０．７ｍｍのガラス基板（ＩＴＯ膜厚：７０ｎｍ）を洗浄容器に入れ、２−プロパノール中で超音波洗浄した後、３０分間、紫外線（ultraviolet：ＵＶ）−オゾン処理を行った。
次いで、ガラス基板のＩＴＯ膜上に、真空蒸着装置（トッキ社製、Ｓｍａｌｌ−ＥＬＶＥＳＳ）を用いて、真空蒸着法にて以下の有機化合物層を順次蒸着した。
・第１層（正孔注入層）：ＨＡＴ−ＣＮ（膜厚１０ｎｍ）
・第２層（正孔輸送層）：ＮＰＤ（膜厚３０ｎｍ）
・第３層（発光層）：ＡＤＮおよびＤＰＡＶＢi（質量比９７：３，膜厚３０ｎｍ）
・第４層（電子輸送層）：電子輸送材料Ｔ（膜厚４０ｎｍ）
次いで、上記第４層上に、フッ化リチウム１ｎｍおよび金属アルミニウム１００ｎｍをこの順に蒸着し、陰極とした。
陰極を蒸着した後の積層体を、大気に触れさせることなく、窒素ガスで置換したグローブボックス内に入れ、ガラス製の封止缶および紫外線硬化型の接着剤（ＸＮＲ５５１６ＨＶ、長瀬チバ（株）製）を用いて封止し、青色発光素子（以下、「発光素子Ｂ」ともう。）を作製した。
ＨＡＴ-ＣＮ
ＮＰＤ
ＡＤＮ
ＤＰＡＶＢi
電子輸送材料Ｔ
〔緑色発光素子の作製〕
上記発光素子Ｂの作製において、第３層（発光層）を以下のように変更した以外は、発光素子Ｂと同様に、緑色発光素子（以下、「発光素子Ｇ」ともう。）を作製した。
・第３層（発光層）：ＣＢＰおよび緑色発光材料Ｇ（質量比９７：６，膜厚３０ｎｍ）
ＣＢＰ
緑色発光材料Ｇ
〔赤色発光素子の作製〕
上記発光素子Ｂの作製において、第３層（発光層）を以下のように変更した以外は、発光素子Ｂと同様に、赤色発光素子（以下、「発光素子Ｒ」ともう。）を作製した。
第３層（発光層）：ＢＡｌｑおよび赤色発光材料Ｒ（質量比９７：６，膜厚３０ｎｍ）
ＢＡｌｑ
赤色発光材料Ｒ
＜各発光素子のスペクトル＞
作製した発光素子Ｂ、発光素子Ｇおよび発光素子Ｒの発光スペクトルを測定したところ、発光素子Ｂ、発光素子Ｇおよび発光素子Ｒの発光スペクトルが最大となる波長は、それぞれ、４６３ｎｍ、５１７ｎｍおよび６２２ｎｍであった。
［実施例２］
〔配向層１形成用塗布液ＡＬ−１の調製〕
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層１形成用塗布液ＡＬ−１として用いた。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層１形成用塗布液ＡＬ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記変性ポリビニルアルコール ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔偏光子：偏光領域ＲＧ形成用塗布液の調製〕
上述した発光素子Ｂ（青色発光素子）に対応する偏光子の偏光領域ＲＧ形成用の塗布液ＲＧを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光領域ＲＧ形成用塗布液ＲＧの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記二色性色素Ｐ ５２．６０質量部
下記二色性色素Ｃ ９．９５質量部
下記含フッ素化合物Ｆ ０．３２質量部
イルガキュア８１９(ＢＡＳＦ社製) ３．００質量部
クロロホルム １４６１．６０質量部
シクロペンタノン １６２．４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
二色性色素Ｐ
二色性色素Ｃ
含フッ素化合物Ｆ
〔偏光子：偏光領域ＲＢ形成用塗布液の調製〕
上述した発光素子Ｇ（緑色発光素子）に対応する偏光子の偏光領域ＲＢ形成用の塗布液ＲＢを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光領域ＲＢ形成用塗布液ＲＢの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記二色性色素Ｐ ５２．６０質量部
下記二色性色素Ｙ ７．１１質量部
上記二色性色素Ｃ ５．６９質量部
上記含フッ素化合物Ｆ ０．３２質量部
イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） ３．００質量部
クロロホルム １４６１．６０質量部
シクロペンタノン １６２．４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
二色性色素Ｙ
〔偏光子：偏光領域ＢＧ形成用塗布液の調製〕
上述した発光素子Ｒ（赤色発光素子）に対応する偏光子の偏光領域ＢＧ形成用の塗布液ＢＧを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光領域ＢＧ形成用塗布液ＢＧの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記二色性色素Ｐ ５２．６０質量部
上記二色性色素Ｙ ２８．４質量部
下記二色性色素Ｍ ５．６９質量部
上記含フッ素化合物Ｆ ０．３２質量部
イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） ３．００質量部
クロロホルム １４６１．６０質量部
シクロペンタノン １６２．４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
二色性色素Ｍ
〔パターン偏光子１の作製〕
＜配向層１ａの形成＞
市販のガラス基板上に、調製した配向層１形成用塗布液ＡＬ−１を塗布して乾燥し、配向層１ａを形成した。
次いで、形成した配向層１ａにラビング処理を施した。
＜偏光領域ＲＧの形成＞
ラビング処理を施した配向層１ａ上に、上述した偏光領域ＲＧ形成用塗布液ＲＧを、スピンコーターを用いて２０００ｒｐｍで１０秒間キャストした。
次いで、膜面温度１７０℃で３０秒間熟成した後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍJ／ｃｍ2）し、偏光領域ＲＧを形成した。なお、形成した偏光領域ＲＧのみの厚みを干渉膜厚計で測定したところ、４３７ｎｍであった。
形成した偏光領域ＲＧについて、可視光領域である４００〜７００ｎｍにおける平均可視光透過率を測定したところ、５２％であった。
また、形成した偏光領域ＲＧについて、上述した測定方法により、偏光領域ＲＧにおける発光素子Ｂ（青色発光素子）から発光する光の透過率を測定したところ、６１％であった。
＜偏光領域ＲＢの形成＞
ラビング処理を施した配向層１ａ上に、上述した偏光領域ＲＢ形成用塗布液ＲＢを、スピンコーターを用いて２０００ｒｐｍで１０秒間キャストした。
次いで、膜面温度１７０℃で３０秒間熟成後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍJ／ｃｍ2）し、偏光領域ＲＢを形成した。なお、形成した偏光領域ＲＢのみの厚みを干渉膜厚計で測定したところ、４５９ｎｍであった。
形成した偏光領域ＲＢについて、可視光領域である４００〜７００ｎｍにおける平均可視光透過率を測定したところ、５４％であった。
また、形成した偏光領域ＲＢについて、上述した測定方法により、偏光領域ＲＢにおける発光素子Ｇ（緑色発光素子）から発光する光の透過率を測定したところ、６１％であった。
＜偏光領域ＢＧの形成＞
ラビング処理を施した配向層１ａ上に、上述した偏光領域ＢＧ形成用塗布液ＢＧを、スピンコーターを用いて２０００ｒｐｍで１０秒間キャストした。
次いで、膜面温度１７０℃で３０秒間熟成後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍJ／ｃｍ2）し、偏光領域ＢＧを形成した。なお、形成した偏光領域ＢＧのみの厚みを干渉膜厚計で測定したところ、６０６ｎｍであった。
形成した偏光領域ＢＧについて、可視光領域である４００〜７００ｎｍにおける平均可視光透過率を測定したところ、４９％であった。
また、形成した偏光領域ＢＧについて、上述した測定方法により、偏光領域ＢＧにおける発光素子Ｒ（赤色発光素子）から発光する光の透過率を測定したところ、６３％であった。
［実施例３］
〔隔壁作製用黒色感光性樹脂組成物の調製〕
下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合し、１５０ｒｐｍ、１０分間攪拌した。
次いで、下記表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、および、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ、３０分間攪拌することにより、黒色感光性樹脂組成物を調製した。
なお、下記表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） １３．１％
・分散剤（下記化合物１） ０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７９．５３％
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万） ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３％
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４％
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ３０％
・メチルエチルケトン ７０％
〔黒色隔壁（ブラックマトリックス）の形成〕
市販のポリメチルメタクリレートフィルムを２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上記表１に記載の黒色感光性樹脂組成物を塗布した。
次いで、真空乾燥装置（ＶＣＤ、東京応化工業（株）製）を用いて３０秒間、溶媒の一部を除去して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃で３分間プリベークして黒色感光層Ｋ１を得た。
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と黒色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、黒色感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、水酸化カリウム系現像液（ＫＯＨおよびノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて、２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、パターニング画像を得た。
次いで、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ2にてポスト露光を行ってブラックマトリックスを得た。
なお、ポリメチルメタクリレートフィルム表面には、この黒色隔壁により隔てられた微細領域が形成された。
〔配向層１ｂの形成〕
黒色隔壁に囲まれた細部領域の凹部に、調製した配向層１形成用塗布液ＡＬ−１をピエゾ方式のヘッドを用いて、打滴し、乾燥し、配向層１ｂを形成した。
次いで、形成した配向層１ｂにラビング処理を施した。
〔パターン偏光子１の作製〕
配向層１ｂを有する凹部のうち、発光素子Ｂに対応する凹部に、偏光領域ＲＧ形成用塗布液ＲＧをピエゾ方式のヘッドを用いて、打滴した。同様に、発光素子Ｇに対応する凹部に偏光領域ＲＢ形成用塗布液ＲＢを打滴し、発光素子Ｒに対応する凹部に偏光領域ＢＧ形成用塗布液ＢＧを打滴した。なお、塗布液の打滴は、凹部に形成される偏光領域ＲＧ、偏光領域ＲＢ、および、偏光領域ＢＧの膜厚が、それぞれ４３７ｎｍ、４５９ｎｍ、６０６ｎｍとなるように調整した。
次いで、膜面温度１７０℃で３０秒間熟成した後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍJ／ｃｍ2）し、各偏光領域を形成することにより、パターン偏光子１を作製した。
［実施例４］
〔偏光子１の表面処理（配向層１ｃの形成）〕
実施例３で作製したパターン偏光子１の表面に、配向層１形成用塗布液ＡＬ−１を用いて配向層１ｃを形成した。
次いで、実施例３において配向層１ｂ表面に施したラビング方向に対して４５°の方向に、配向層１ｃ表面にラビング処理を施した。
〔光学異方性層１の作製〕
下記の組成の光学異方性層１（Ａプレート）用塗布液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層１用塗布液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記逆波長分散液晶性化合物Ｒ−３ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
下記含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
下記架橋性ポリマーＯ−２ ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――


ラビング処理を施した配向層１ｃの表面上に、光学異方性層用塗布液１をバーコーターを用いて塗布した。
次いで、膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層１を形成した。
この手順により、ポリメチルメタクリレートフィルムと偏光層１と光学異方性層１とからなる積層体を形成した。
なお、このようにして作製したポリメチルメタクリレートフィルムと偏光層１と光学異方性層１の積層体を、円偏光板１と呼称する。
また、光学異方性層１のＲｅおよびＲｔｈを上述した測定方法により測定したところ、波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍおよび波長６５０ｎｍにおけるＲｅは、それぞれ、１０８ｎｍ、１３０ｎｍおよび１３７ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは、６５ｎｍであった。
［実施例５］
〔配向層２付き仮支持体の作製〕
市販のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルムの表面に、下記の組成の配向層２形成用塗布液を用いて配向層２を形成し、ＰＥＴを仮支持体とする配向層２付き仮支持体を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層２形成用塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコールＰＶＡ１０３（クラレ社製） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔光学異方性層２の作製〕
下記の組成の光学異方性層２（Ｃプレート）用塗布液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層２用塗布液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶性化合物Ｂ０１ ８０質量部
下記液晶性化合物Ｂ０２ ２０質量部
下記垂直配向剤Ｓ０１ １質量部
下記垂直配向剤Ｓ０２ ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ（株）製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記重合体Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層２付き仮支持体の配向層２表面上に、調製した光学異方性層２用塗布液２をバーコーターを用いて塗布した。
次いで、膜面温度６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、光学異方性層２を作製した。
また、光学異方性層２のＲｅおよびＲｔｈを上述した測定方法により測定したところ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅは０ｎｍであり、Ｒｔｈは−６０ｎｍであった。
〔円偏光板２の作製〕
実施例４で作製した円偏光板１の光学異方性層１（Ａプレート）の側に、粘着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を用いて、光学異方性層２（Ｃプレート）と配向層２付き仮支持体との積層体の光学異方性層２側を貼合した。
貼合後に仮支持体を剥離して、円偏光板１と光学異方性層２との積層体を作製した。このように作製した円偏光板１と光学異方性層２との積層体を円偏光板２と呼称する。
［比較例１］
〔偏光子Ｋ形成用塗布液Ｋの調製〕
下記の組成の偏光子Ｋ形成用塗布液Ｋを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子Ｋ形成用塗布液Ｋの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記二色性色素Ｐ ５２．６０質量部
上記二色性色素Ｙ ８．３０質量部
上記二色性色素Ｍ ３．３０質量部
上記二色性色素Ｃ ５．０質量部
含フッ素化合物Ｆ ０．３２質量部
イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） ３．００質量部
クロロホルム １４６１．６０質量部
シクロペンタノン １６２．４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔配向層１ａの形成〕
市販のガラス基板上に、調製した配向層１形成用塗布液ＡＬ−１を塗布し、乾燥した。
次いで、形成した配向層１ａにラビング処理を施した。
〔偏光子Ｋの作製〕
ラビング処理を施した配向層１ａの面上に、調製した偏光子Ｋ形成用塗布液Ｋをスピンコーターで２０００ｒｐｍで１０秒間キャストした。
膜面温度１７０℃で３０秒間熟成後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍＪ／ｃｍ２）し、膜厚４８５ｎｍの偏光子Ｋを形成した。
作製した偏光子Ｋについて可視光領域である４００〜７００ｎｍにおける平均可視光透過率を測定したところ、５２％であった。
［比較例２］
〔配向層１ｄの形成〕
市販のポリメチルメタクリレートフィルム上に、調製した配向層１形成用塗布液ＡＬ−１を塗布し、乾燥した。
次いで、形成した配向層１ｄにラビング処理を施した。
〔偏光子Ｋの作製〕
ラビング処理を施した配向層１ｄの面上に、比較例１で調製した偏光子Ｋ形成用塗布液Ｋをスピンコーターで２０００ｒｐｍで１０秒間キャストした。
膜面温度１７０℃で３０秒間熟成後、膜面温度８０℃まで冷却し、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において膜面温度８０℃でＵＶを照射（照度１，２００ｍＪ／ｃｍ２）し、膜厚４８５ｎｍの偏光子Ｋを形成した。
［比較例３］
〔偏光子Ｋの表面処理（配向層１ｅの形成）〕
比較例２で作製した偏光子Ｋの表面に、調製した配向層１形成用塗布液ＡＬ−１を用いて配向層１ｅを形成した。
次いで、比較例２において配向層１ｄ表面に施したラビング方向に対して４５°の方向に、配向層１ｅ表面にラビング処理を施した。
〔円偏光板３の作製〕
光学異方性層１（Ａプレート）用塗布液１を塗布する表面を、配向層１ｃから配向層１ｅに変更した以外は、実施例４と同様の方法で、光学異方性層１を作製した。
このようにして作製したポリメチルメタクリレートフィルムと偏光層Ｋと光学異方性層１との積層体を、円偏光板３と呼称する。
［比較例４］
〔円偏光板４の作製〕
比較例３で作製した円偏光板３の光学異方性層１（Ａプレート）の側に、粘着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を用いて、実施例５で作製した光学異方性層２（Ｃプレート）と配向層２付き仮支持体との積層体の光学異方性層２側を貼合した。貼合後に仮支持体を剥離して、円偏光板３と光学異方性層２との積層体を作製した。このようにして作製した円偏光板３と光学異方性層２との積層体を円偏光板４と呼称する。
〔有機ＥＬ発光表示装置の作製〕
支持体としてのガラス基板上に、低温ポリシリコンからなるＴＦＴ駆動回路を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化膜を形成した。
この上に、透明導電膜としての酸化インジウム錫（ＩＴＯ）をスパッタリング法にて１２０ｎｍ形成してパターニングした。
次いで、アクリル樹脂により素子分離膜を形成し、陽極側透明電極基板を作製した。これを２−プロパノール中で超音波洗浄した後、３０分間、ＵＶ−オゾン処理を行った。
この透明電極膜上に、有機化合物および陰極材料を真空蒸着により成膜した。
有機化合物および陰極材料の真空蒸着による有機ＥＬ発光素子の成膜としては、ブルー（Ｂ）の画素は実施例１に記載の発光素子Ｂと同じ構成とし、グリーン（Ｇ）の画素は実施例１に記載の発光素子Ｇと同じ構成とし、レッド（Ｒ）の画素は実施例１の発光素子Ｒと同じ構成として成膜した。なお、ＲＧＢ画素は、それぞれをマトリクス状に配列した構成とし、パネルサイズは対角で３．７５インチ、画素数は縦３００、横４００とした。
また、保護膜として、窒化酸化シリコンを７００ｎｍ成膜し、保護層付きの有機ＥＬ表示素子を作製した。
〔有機ＥＬ発光素子へ円偏光板の実装および反射光の評価〕
作製した保護層付きの有機ＥＬ表示素子に、円偏光板１〜４を感圧粘着剤を用いて貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。この際、円偏光板１および２については、発光層の発光素子Ｂ、Ｇ、Ｒの各々に偏光領域ＲＧ、偏光領域ＲＢ、および、偏光領域ＢＧが積層されるように貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
作製した有機ＥＬ表示装置について、黒表示時の反射率を目視で評価したところいずれも同程度であった。一方、白色表示時の明るさを目視により評価したところ、円偏光板１および２を搭載した有機ＥＬ表示装置は、円偏光板３および４を搭載した有機ＥＬ表示装置より明るいことが明らかになった。
１ ＴＦＴ基板
２ 金属電極（陽極）
３ 発光層
３Ｒ 第１発光層
３Ｂ 第２発光層
３Ｇ 第３発光層
４ 透明電極（陰極）
５ 透明基板
６ 光学異方性層
７ パターン偏光子
７ＢＧ 第１偏光領域
７ＲＧ 第２偏光領域
７ＲＢ 第３偏光領域
８ ブラックマトリックス
１０ 有機ＥＬ表示装置

Claims (6)

  1. 偏光子と、光学異方性層と、発光層とをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
    前記発光層が、同一平面上に、少なくとも、第１色の光を発する複数の第１発光層と、第２色の光を発する複数の第２発光層と、第３色の光を発する複数の第３発光層とを有し、
    前記偏光子が、前記第１発光層から発光する前記第１色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第１偏光領域、前記第２発光層から発光する前記第２色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第２偏光領域、および、前記第３発光層から発光する前記第３色の光の透過率が６０％以上であり、かつ、平均可視光透過率が３０〜５５％となる第３偏光領域からなる群から選択される領域を、少なくとも２領域有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  2. 前記偏光子が、前記第１偏光領域、前記第２偏光領域、および、前記第３偏光領域をいずれも有する、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  3. 前記第１偏光領域、前記第２偏光領域、および、前記第３偏光領域の各領域の境界にブラックマトリックスが設けられている、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  4. 前記第１色、前記第２色および前記第３色の光のスペクトルの極大波長が互いに５０ｎｍ以上離れている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  5. 前記第１色、前記第２色および前記第３色の光のスペクトルの極大波長が、それぞれ、４３０〜４８０ｎｍ、５００〜５５０ｎｍ、および、６００〜６５０ｎｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  6. 前記偏光子が、吸収型直線偏光子であり、
    前記光学異方性層が、下記式（Ｉ）を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
    １２０≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ ・・・（１）
    ここで、式（１）中、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7325333B2 (ja) * 2017-11-30 2023-08-14 住友化学株式会社 光学異方性フィルム
WO2019176918A1 (ja) 2018-03-16 2019-09-19 富士フイルム株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置
CN110930883B (zh) * 2019-12-12 2021-09-10 昆山国显光电有限公司 显示面板和显示装置
US20240090277A1 (en) * 2021-02-04 2024-03-14 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
WO2024090167A1 (ja) * 2022-10-28 2024-05-02 富士フイルム株式会社 発光装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10260387A (ja) * 1997-01-31 1998-09-29 Sharp Corp フィルタおよび光学装置の製造方法
JP2005063841A (ja) * 2003-08-13 2005-03-10 Hitachi Ltd 発光型表示装置
JP2011081334A (ja) * 2009-09-14 2011-04-21 Fujifilm Corp カラーフィルタ及び発光表示素子
JP2013109090A (ja) * 2011-11-18 2013-06-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光膜、円偏光板及びそれらを用いた有機ｅｌ画像表示装置
JP2014006353A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2015227947A (ja) * 2014-05-30 2015-12-17 富士フイルム株式会社 積層体およびその製造方法、偏光板、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置
JP2016170369A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 住友化学株式会社 偏光板及び円偏光板

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09127885A (ja) 1995-10-30 1997-05-16 Sony Corp 表示素子
JP4011292B2 (ja) * 2001-01-15 2007-11-21 株式会社日立製作所 発光素子、及び表示装置
KR100783358B1 (ko) * 2001-04-27 2007-12-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 입체영상 표시장치 및 제조방법
KR20080092466A (ko) * 2006-02-02 2008-10-15 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치
KR100839414B1 (ko) * 2007-04-19 2008-06-19 삼성에스디아이 주식회사 전자 영상 기기
KR101127586B1 (ko) * 2010-02-24 2012-03-22 삼성모바일디스플레이주식회사 고투과 편광판 및 이를 구비하는 유기 발광 장치
JP5837766B2 (ja) * 2011-03-25 2015-12-24 株式会社有沢製作所 光回折素子及び光学ローパスフィルタ
JP5635571B2 (ja) * 2011-09-27 2014-12-03 富士フイルム株式会社 パターン位相差フィルム、パターン偏光板、画像表示装置、及び立体画像表示システム
KR101459128B1 (ko) * 2011-12-23 2014-11-07 제일모직주식회사 편광자 및 그 제조방법
JPWO2013100115A1 (ja) * 2011-12-27 2015-05-11 富士フイルム株式会社 円偏光板、及び円偏光板を有する有機ｅｌディスプレイ
JP5965675B2 (ja) * 2012-03-05 2016-08-10 富士フイルム株式会社 パターン位相差層を有する円偏光板、および該円偏光板を有する有機ｅｌディスプレイ素子
WO2013137464A1 (ja) 2012-03-15 2013-09-19 富士フイルム株式会社 光学積層体を有する有機ｅｌディスプレイ素子
CN103576370A (zh) * 2012-07-23 2014-02-12 天津富纳源创科技有限公司 偏光片
JP6216323B2 (ja) * 2012-10-04 2017-10-18 富士フイルム株式会社 円偏光板およびその製造方法、光学積層体
KR20150101010A (ko) * 2014-02-24 2015-09-03 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시장치
KR20160001513A (ko) * 2014-06-27 2016-01-06 삼성전자주식회사 편광 필름, 반사방지 필름 및 표시 장치
CN104319282B (zh) * 2014-09-23 2018-02-27 京东方科技集团股份有限公司 发光二极管显示面板
CN105774658B (zh) * 2015-01-14 2020-10-16 日东电工株式会社 车辆用影像显示镜
KR102338907B1 (ko) * 2015-02-13 2021-12-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법
US20180052359A1 (en) * 2015-03-17 2018-02-22 Sharp Kabushiki Kaisha Color filter substrate, sensor substrate and display device
KR102367295B1 (ko) * 2015-06-26 2022-02-23 도레이첨단소재 주식회사 반사편광자 및 이를 포함하는 백라이트 유닛

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10260387A (ja) * 1997-01-31 1998-09-29 Sharp Corp フィルタおよび光学装置の製造方法
JP2005063841A (ja) * 2003-08-13 2005-03-10 Hitachi Ltd 発光型表示装置
JP2011081334A (ja) * 2009-09-14 2011-04-21 Fujifilm Corp カラーフィルタ及び発光表示素子
JP2013109090A (ja) * 2011-11-18 2013-06-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光膜、円偏光板及びそれらを用いた有機ｅｌ画像表示装置
JP2014006353A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2015227947A (ja) * 2014-05-30 2015-12-17 富士フイルム株式会社 積層体およびその製造方法、偏光板、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置
JP2016170369A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 住友化学株式会社 偏光板及び円偏光板

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