JPS6340734A

JPS6340734A - ガラス板への貫通孔の形成方法

Info

Publication number: JPS6340734A
Application number: JP18007786A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Takakusa; 高草　俊治
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1986-08-01
Filing date: 1986-08-01
Publication date: 1988-02-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、ガラス板への貫通孔の形成方法に係り、特に
、ガス放電型表示装置用制御板等に用いられるガラス板
などに小径孔を穿設する際、孔径のばらつきを少なくし
たフォトエツチングによるガラス板への貫通孔の形成方
法に関する。

［従来の技術］ガラス板に対し貫通孔を形成することは、その孔径が比
較的大きく、かつ高い精度を要求されないものである場
合、特に問題を生じることなく機械加工による公知技術
により対処することができた。

しかし、貫通孔の孔径が０．５■以下の小径孔であり、
かつ、一定間隔で多数形成する必要があるとき、これを
機械加工によって行なうことは困難であり、かつ、量産
性の点からも適当な方法とはいえなかった。

このため、孔径が０．５ｍｍ以下の微小な貫通孔をガラ
ス板に形成しようとするときは、一般にフォトエツチン
グの手法が用いられてきた。

［発明の解決しようとする問題点］ところで、上記のフォトエツチングの手法を用いた場合
、貫通孔４相互間のピッチを約０．３〜０．４■とした
第３図に示すパターンのもとで、第４図に示す最大孔径
部又ｌが０．２５〜０．３５ｍｍ、最小孔径部交２が０
．１±０．０２ｍｍである貫通孔４を板厚０．１〜０．
０２ｍ厘のガラス板ｌに正確に形成しようとしても、孔
径が一定せず、ばらつきが多くなり、また、ガラス板ｌ
の全面にわたり上記仕様の精度を確保することは非常に
困難であった。

本発明者の研究によれば、このような好ましくない現象
が生ずるのは、フォトエツチングにおいてマスク材とし
て用いられるフォトレジスト２が疎水性で水に濡れにく
い性質を有しているため、微細図形をエツチングする際
、エツチング液が第１図ないし第２図におけるガラス板
露出部３を十分に濡らさず、このような濡れの悪い部位
に対してのエツチングの開始が遅れてしまうことに起因
するものであるとの知見を得た。

本発明は、このような知見に基づき完成されたものであ
り、ガラス板に対し、予め設定された一定数値の貫通孔
を仕様どおりに正確に形成するガラス板への貫通孔の形
成方法を提供することにその目的がある。

［問題点を解決するための手段］このような目的を達成するため、本発明は次のように構
成した。

すなわち、本発明は、フォトエツチングによりガラス板
に多数の微小な貫通孔を形成するガラス板への貫通孔の
形成方法にあって、エツチングは、界面活性剤を用いる
ことで濡れ性を良化させて行なうことにその構成上の特
徴がある。

本発明においてガラス板ｌは、種々の組成のものを用い
ることができ、その板厚は略０．１〜０．５ｍｍのもの
を用いるのが好ましい。

フォトレジスト材料としては、ネガ、ポジいずれのタイ
プのものを使用してもよく、また、ガラス板との接着性
を良くするため、予め、金属の下地層を設け、あるいは
シラン系のカップリング剤を使用することもできる。

また、ガラス板１には、貫通孔４が形成される部位を隠
蔽しない限り、電極を形成する目的で予め金属層を形成
しておくこともできる。

エツチング液としては、フッ酸やフッ化アンモニウムを
使用することができ、混触に用いる添加物としては塩酸
、硝酸、酢酸等が好適である。

エツチングに際して用いられる界面活性剤としては、フ
ッ素系界面活性剤を使用するのが好ましく、その使用方
法については、エツチング液に予め添加して使用する方
法のほか、フッ素系界面活性剤を適量溶解させた水溶液
を用意しておき、この水溶液にガラス板１を浸漬して引
き上げてからエツチング液に再び浸漬するという二浴法
を用いることもできる。フッ素系界面活性剤の添加量は
、いずれの方法による場合であっても、　０．０００１
〜ｌＯ重量％とすることが好ましい。

また、上記の二浴法によるときは、水溶液にガラス板ｌ
を浸漬した後、再度、ポストベーク処理をしてもよく、
その場合であっても、濡れ性に変化が生ずることはない
。

なお、フッ素系界面活性剤は、アルコール類と併用する
こともできる。

［作用・効果］本発明はこのようにして構成されているので、エツチン
グに際し、マスク材として機能するフォトレジスト２が
疎水性であり、濡れ性が悪いとしても、フォトレジスト
２が除去されて円形となって露出しているガラス板露出
部２については、界面活性剤により濡れ性の改善を図る
ことができる。

したがって、エツチング液は、ガラス板露出部３内にお
けるフォトレジスト２の周面である境界面にもよくなじ
ませて付着させることができるので、エツチングを同時
に開始させることで、エツチング形状の不揃いをなくす
ることがで慧る。

［実施例］以下、図面を参酌して、本発明の実施例について説明す
る。

ガラス板１は、外寸が３００　Ｘ３００　ａｍで板厚が
０．１５ｍ腸のソーダガラスを用いて形成されている。

このガラス板ｌの両面には、フォトレジスト２を介して
第１図に示すようなバターニングが行なわれる結果、第
２図に示すように、貫通孔４を形成するためのガラス板
露出部３を除き、ガラス板１両側の全面がフォトレジス
ト２で被覆される。

このための処理作業は、一般にフォトエツチングと称さ
れる一連の作業により行なわれる。

すなわち、ガラス板ｌの洗浄とベークとを行なった後、
レジスト塗布、プレベータ、フォトマスりを介しての露
光、現象、ポストベークという一連の工程を経ることで
行なわれる。

この際のガラス板露出部３相互間のピッチは、ｘ、Ｙ方
向とも０．３　＋＋＋＋ｓであり、ガラス板露出部３の
口径は、０．１　ｍｍである。

次いで、このようなパターンでフォトレジスト２が被覆
されたガラス板ｌは、０．１重量％のフッ素系界面活性
剤（商品名：サーフロンＳ　−１５１、旭硝子製）を溶
かした３０℃の純水中に浸漬され、１０ｃ＋＋＋／分の
一定速度で引き上げることでこれを被着する。

しかる後、風乾し、再度のポストベーク処理を行なった
後、エツチング処理を行なう。このエツチング処理は、
３０℃に調温した５０％のフッ素水溶液からなるエツチ
ング液を用いて行なわれるもので、エツチング時間につ
いては、形成しようとする貫通孔４の孔径により異なる
が、５〜１０分間の範囲で適宜設定することができる。

このような条件のもとでエツチング処理を行つ゛た後は
、洗浄とレジスト剥離とを行なって全工程を終了する。

このような処理工程を経た製品（実施例）と、フッ素系
界面活性剤を用いないで処理した製品（比較例）とを比
較したところ、第４図における最小孔径部交２を０．１
　ａｍと設定した場合における比較例については、面内
でのばらつきが０．０３〜０．０１ｍ１の範囲となって
いた。

一方、実施例については、面内のばらつきがいずれも０
．０９〜０．１０ｍｍの範囲にあり、設定値０．１　ａ
ｍとの関係で界面活性剤を用いたことによる顕著な効果
のあることが確認された。

【図面の簡単な説明】

第１図は、フォトレジストでパターニングした一例を示
す平面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図
は、貫通孔を設けた後の一例を示す平面図、第４図は、
第３図のＢ−Ｂ線断面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

１、フォトエッチングによりガラス板に多数の微小な貫
通孔を形成するガラス板への貫通孔の形成方法において
、エッチングは、界面活性剤を用いて濡れ性を良化させ
て行なうことを特徴とするガラス板への貫通孔の形成方
法。