JPS63308540A - 赤外線ガス分析計 - Google Patents
赤外線ガス分析計Info
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- JPS63308540A JPS63308540A JP62145958A JP14595887A JPS63308540A JP S63308540 A JPS63308540 A JP S63308540A JP 62145958 A JP62145958 A JP 62145958A JP 14595887 A JP14595887 A JP 14595887A JP S63308540 A JPS63308540 A JP S63308540A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 36
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 62
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/37—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using pneumatic detection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、各種の排気や大気に含まれたガスを分析する
赤外線ガス分析計に関するものである6(従来の技術) 各種の排気や大気に含まれたガスを分析する赤外線ガス
分析計は、ガスが特定の波長域の光線を吸収することを
活用しで、そのガスを分析するも= 1 − のである。
赤外線ガス分析計に関するものである6(従来の技術) 各種の排気や大気に含まれたガスを分析する赤外線ガス
分析計は、ガスが特定の波長域の光線を吸収することを
活用しで、そのガスを分析するも= 1 − のである。
しかし、例えばCOを測定する場合に、その測定ガスに
Co2が含まれている場合のように、測定成分ガスによ
る光線の吸収波長域と吸収波長域が一部重なるような干
渉成分ガスが測定ガスに含まれていると、この干渉成分
ガスによる光線の吸収か生じ、それか測定精度を低下さ
せる。このため、ガス分析計は、干渉成分光による影響
を少なくするように構成されている。
Co2が含まれている場合のように、測定成分ガスによ
る光線の吸収波長域と吸収波長域が一部重なるような干
渉成分ガスが測定ガスに含まれていると、この干渉成分
ガスによる光線の吸収か生じ、それか測定精度を低下さ
せる。このため、ガス分析計は、干渉成分光による影響
を少なくするように構成されている。
干渉成分光による影響を少なくしたガス分析計としで、
例えば第3図に示されたものが知られている。
例えば第3図に示されたものが知られている。
このガス分析計は、比較ガスを封入した比較セル1と測
定ガスが供給される測定セル2とが並行状に配置され、
かつ測定セル2には測定ガスの供給口2aと排出口2b
とが設けられている。そしで、セル1.2の一側に光源
3a、3bが、他側にコンデンサマイクロホンなどの検
出器6がそれぞれ配置され、検出器6とセル1.2の間
に干渉成分光を反射し、測定成分光を透過する干渉フィ
ルタ7a、7bが設けられたものである。
定ガスが供給される測定セル2とが並行状に配置され、
かつ測定セル2には測定ガスの供給口2aと排出口2b
とが設けられている。そしで、セル1.2の一側に光源
3a、3bが、他側にコンデンサマイクロホンなどの検
出器6がそれぞれ配置され、検出器6とセル1.2の間
に干渉成分光を反射し、測定成分光を透過する干渉フィ
ルタ7a、7bが設けられたものである。
前記光源3a、3bの反射ミラー5a、5bは、球面状
にわん曲させたもので、光源3a、3bから出たすべて
の波長域の光線を各セル1.2の方に反射するものであ
る。8はチョッパ、9は前置増幅器である。
にわん曲させたもので、光源3a、3bから出たすべて
の波長域の光線を各セル1.2の方に反射するものであ
る。8はチョッパ、9は前置増幅器である。
このガス分析計によるガスの分析は、光源3a、3bの
光をチョッパ8て断続光として前記セル1゜2に入射す
る。そしで、干渉フィルタ7a、7bを透過して検出器
6に入った各光線の星の差に基づいて測定ガスの分析を
するものてあっで、干渉成分光を干渉フィルタ7b、
7bで反射し、それが検出器6に入ることを阻止しで、
干渉成分光に起因する分析精度の低下を防ぐものである
。
光をチョッパ8て断続光として前記セル1゜2に入射す
る。そしで、干渉フィルタ7a、7bを透過して検出器
6に入った各光線の星の差に基づいて測定ガスの分析を
するものてあっで、干渉成分光を干渉フィルタ7b、
7bで反射し、それが検出器6に入ることを阻止しで、
干渉成分光に起因する分析精度の低下を防ぐものである
。
(問題点を解決するための手段)
前記従来のガス分析J1は、干渉成分光を干渉フィルタ
7a、7bで反射しで、干渉成分光か検出器に入ること
を防ぐものであるか、干渉フィルタ7a、7bにおける
、反射波長域の光線の反射率は、100%反射するので
はなく、0,1〜0.001%は透適するものである。
7a、7bで反射しで、干渉成分光か検出器に入ること
を防ぐものであるか、干渉フィルタ7a、7bにおける
、反射波長域の光線の反射率は、100%反射するので
はなく、0,1〜0.001%は透適するものである。
したがっで、1回の透過が0.01%ても、100回く
り返されれば、合計して1%透過したのと同じになる。
り返されれば、合計して1%透過したのと同じになる。
そしで、また干渉フィルタ7a、7bで大部分反射され
た干渉成分光は、セル1゜2の内面や反射ミラー5a、
5bで反射されで、再度干渉フィルタ7a、7bに達す
ることを反復する。
た干渉成分光は、セル1゜2の内面や反射ミラー5a、
5bで反射されで、再度干渉フィルタ7a、7bに達す
ることを反復する。
したがっで、干渉フィルタ7a、7bて反射された干渉
成分光が、セル1,2の内面や反射ミラー5a、5bで
反射されることを反復すると、その都度の透過する成分
の和が増大してゆき、結果的に、干渉フィルタ7a、7
bを透過し検出器6に入って分析精度を低下させる問題
がある。
成分光が、セル1,2の内面や反射ミラー5a、5bで
反射されることを反復すると、その都度の透過する成分
の和が増大してゆき、結果的に、干渉フィルタ7a、7
bを透過し検出器6に入って分析精度を低下させる問題
がある。
本発明は、上記のような問題を解決するものであっで、
干渉フィルタで反射した干渉成分光か再度干渉フィルタ
に到達することをなくしで、干渉フィルタを透過する干
渉成分光を最低限にすることてきるガス分析計をうろこ
とを目的とするものである。
干渉フィルタで反射した干渉成分光か再度干渉フィルタ
に到達することをなくしで、干渉フィルタを透過する干
渉成分光を最低限にすることてきるガス分析計をうろこ
とを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明のガス分析計は、ガスセルの一側に光源が、他側
に検出器がそれぞれ配置され、かつ測定成分ガスの吸収
波長域の光線を透過し、干渉成分ガスの吸収波長域の光
線を反射する干渉フィルタが設けられたガス分析計にお
いで、測定成分ガスの吸収波長域の光線を反射し、干渉
成分ガスの吸収波長域の光線を透過する干渉フィルタで
、前記光源の反射ミラーが構成されたことを特徴とする
ものである。
に検出器がそれぞれ配置され、かつ測定成分ガスの吸収
波長域の光線を透過し、干渉成分ガスの吸収波長域の光
線を反射する干渉フィルタが設けられたガス分析計にお
いで、測定成分ガスの吸収波長域の光線を反射し、干渉
成分ガスの吸収波長域の光線を透過する干渉フィルタで
、前記光源の反射ミラーが構成されたことを特徴とする
ものである。
(作 用)
このガス分析計は、その光源から出された光線においで
、ガスセルの方に進んだ光線は、ガスセルを通過して干
渉フィルタに達するが、ここで測定成分光は干渉フィル
タを透過して検出器に入る。
、ガスセルの方に進んだ光線は、ガスセルを通過して干
渉フィルタに達するが、ここで測定成分光は干渉フィル
タを透過して検出器に入る。
しかし、干渉成分光は干渉フィルタて大部分反射され、
再度ガスセルを通過して光源の反射ミラーに達するか、
この反射ミラーは干渉成分光を透過するように構成され
ているから、前記干渉成分光は、反射ミラーを透過して
除去されるものであっで、干渉フィルタで反射された干
渉成分光が、再度ガスセルの方に進むことをほとんどな
くなる。
再度ガスセルを通過して光源の反射ミラーに達するか、
この反射ミラーは干渉成分光を透過するように構成され
ているから、前記干渉成分光は、反射ミラーを透過して
除去されるものであっで、干渉フィルタで反射された干
渉成分光が、再度ガスセルの方に進むことをほとんどな
くなる。
−戸 −
一方、光源から出た光線においで、反射ミラーの方に進
んだ光線の測定成分光は、反射ミラーで反射されてガス
セルに入射されるが、干渉成分光は、そのまま反射ミラ
ーを透過して除去されるものである。
んだ光線の測定成分光は、反射ミラーで反射されてガス
セルに入射されるが、干渉成分光は、そのまま反射ミラ
ーを透過して除去されるものである。
(実施例)
本発明のガス分析計の実施例を第1図について説明する
。
。
第1図においで、1は比較ガスを封入した比較セルで、
この比較セル1と並行状に測定ガスが供給される測定セ
ル2が配置され、かつ測定セルには、測定ガスの供給口
2aと排出口2bが設けられている。そしで、比較セル
1、測定セル2の一側に光源3a、3bが、他側にコン
デンサマイクロホンなどの検出器6がそれぞれ配置され
、検出器6と比較セル1、測定セル2の間に干渉成分光
を反射し、測定成分光を透通ずる干渉フィルタ7a、7
bが設けられている。8はチョッパ、9は前置増幅器で
ある。
この比較セル1と並行状に測定ガスが供給される測定セ
ル2が配置され、かつ測定セルには、測定ガスの供給口
2aと排出口2bが設けられている。そしで、比較セル
1、測定セル2の一側に光源3a、3bが、他側にコン
デンサマイクロホンなどの検出器6がそれぞれ配置され
、検出器6と比較セル1、測定セル2の間に干渉成分光
を反射し、測定成分光を透通ずる干渉フィルタ7a、7
bが設けられている。8はチョッパ、9は前置増幅器で
ある。
−〇 −
4a、4bは前記光源3a、3bの反射ミラーで、これ
は前記干渉フィルタ7a、7bと同じような、干渉フィ
ルタで構成されたものであっで、干渉成分光を透過し、
測定成分光を反射する。
は前記干渉フィルタ7a、7bと同じような、干渉フィ
ルタで構成されたものであっで、干渉成分光を透過し、
測定成分光を反射する。
このガス分析計は、光源3a、3bの光線のそれぞれが
チョフパ8で断続光にされて比較セル1と測定セル2に
入射される。これらの光線は一部が、比較セル1と測定
セル2のそれぞれのガスで吸収されで、干渉フィルタ7
a、7bに到達するが、干渉フィルタ7a、7bは、測
定成分光を透過させ、干渉成分光は反射する。
チョフパ8で断続光にされて比較セル1と測定セル2に
入射される。これらの光線は一部が、比較セル1と測定
セル2のそれぞれのガスで吸収されで、干渉フィルタ7
a、7bに到達するが、干渉フィルタ7a、7bは、測
定成分光を透過させ、干渉成分光は反射する。
そしで、干渉フィルタ7a、7bで反射された干渉成分
光は、比較セル1または測定セル2の内面で反射される
などして光源3a、3bの反射ミラー4a、4bに到達
する。しかし、この反射ミラー4a、4bは測定成分光
は反射するが、干渉成分光を透過する干渉フィルタで構
成されているから、前記干渉フィルタ7a、7bで反射
された干渉成分光を透過させて除去する。
光は、比較セル1または測定セル2の内面で反射される
などして光源3a、3bの反射ミラー4a、4bに到達
する。しかし、この反射ミラー4a、4bは測定成分光
は反射するが、干渉成分光を透過する干渉フィルタで構
成されているから、前記干渉フィルタ7a、7bで反射
された干渉成分光を透過させて除去する。
また、光源3a、3bから反射ミラー4a、4bの方に
進んだ光線は、その測定成分光は反射されて比較セル1
と測定セル2に入射されるが、干渉成分光はそのまま反
射ミラー4a、4bを透過し除去されるものである。
進んだ光線は、その測定成分光は反射されて比較セル1
と測定セル2に入射されるが、干渉成分光はそのまま反
射ミラー4a、4bを透過し除去されるものである。
すなわち、干渉成分光は干渉フィルタ7a、7bで1度
反射されてから、または直接に反射ミラー4a、4bを
透過して除去されるものである。
反射されてから、または直接に反射ミラー4a、4bを
透過して除去されるものである。
したがっで、前記従来のガス分析計のように、干渉成分
光が干渉フィルタと反射ミラーとで反射されることを反
復することにより、わずがな干渉成分光であっても、限
りなくくり返されることで増大することがなく、干渉フ
ィルタ7a、7bを透過する干渉成分光の量を最少限に
しで、分析精度を大11に向上させることが可能である
。
光が干渉フィルタと反射ミラーとで反射されることを反
復することにより、わずがな干渉成分光であっても、限
りなくくり返されることで増大することがなく、干渉フ
ィルタ7a、7bを透過する干渉成分光の量を最少限に
しで、分析精度を大11に向上させることが可能である
。
そしで、反射ミラーの反射波長域の光線の反射は、99
.9%と高いから、感度の低下はほとんどなく、干渉成
分光の影響を除くことができる。
.9%と高いから、感度の低下はほとんどなく、干渉成
分光の影響を除くことができる。
なお、この実施例では、干渉フィルタ7a、7bを比較
セル1、測定セル2と検出器6との間に配置しているが
、比較セル1、測定セル2と光源3a、3bとの間に干
渉フィルタ7a、7bを配置することもてきる。
セル1、測定セル2と検出器6との間に配置しているが
、比較セル1、測定セル2と光源3a、3bとの間に干
渉フィルタ7a、7bを配置することもてきる。
第2図は別実層側を示すものである。
この実施例は、第1図に示したガス分析計に対しで、さ
らに反射ミラー4a、4bを透過した干渉成分光を測定
成分光とする、ガスセルと検出器とを備えたガス分析計
Aを配置したもので、2種の成分ガスを同時に分析する
ことが可能である。
らに反射ミラー4a、4bを透過した干渉成分光を測定
成分光とする、ガスセルと検出器とを備えたガス分析計
Aを配置したもので、2種の成分ガスを同時に分析する
ことが可能である。
すなわち、測定セル2に供給された測定ガスに含まれた
一つの成分ガスを、検出器6て検出分析するとともに、
他の成分ガスをガス分析計Aで分析することができる。
一つの成分ガスを、検出器6て検出分析するとともに、
他の成分ガスをガス分析計Aで分析することができる。
また、第2図に示したガス分析tt Aを補助検出器に
代えで、反射ミラー4a、4bを透過した干渉成分光に
基づいて干渉成分ガスを分析するようにすれば、前記補
助検出器と検出器6との分析結果から、干渉補償方式と
同様に、干渉成分光の干渉を補償してガス分析を行うこ
とも可能で、一層精度が高い分析を行うことができる。
代えで、反射ミラー4a、4bを透過した干渉成分光に
基づいて干渉成分ガスを分析するようにすれば、前記補
助検出器と検出器6との分析結果から、干渉補償方式と
同様に、干渉成分光の干渉を補償してガス分析を行うこ
とも可能で、一層精度が高い分析を行うことができる。
前記各実施例ては、検出器6としてコンデンサー 〇
− マイクロホンが使用されているが、焦電、半導体、熱電
対などの任意のものを使用することも可能である。そし
で、チョッパ8を設けることなく、測定ガスと比較ガス
とをガスセルに交互に供給する流体変調方式のガス分析
計に適用することも可能である。
− マイクロホンが使用されているが、焦電、半導体、熱電
対などの任意のものを使用することも可能である。そし
で、チョッパ8を設けることなく、測定ガスと比較ガス
とをガスセルに交互に供給する流体変調方式のガス分析
計に適用することも可能である。
(発明の効果)
本発明のガス分析計は上記のように、光源から出された
光線の干渉成分光を干渉フィルタて反射しで、干渉成分
光が検出器に入ることを防いでいる。そしで、前記干渉
フィルタで反射された干渉成分光は、前記光源の反射ミ
ラーに到達するが、この反射ミラーを、干渉成分光を透
過し、測定成分光を反射する干渉フィルタで構成してい
る。
光線の干渉成分光を干渉フィルタて反射しで、干渉成分
光が検出器に入ることを防いでいる。そしで、前記干渉
フィルタで反射された干渉成分光は、前記光源の反射ミ
ラーに到達するが、この反射ミラーを、干渉成分光を透
過し、測定成分光を反射する干渉フィルタで構成してい
る。
したがっで、干渉フィルタで反射された前記干渉成分光
が反射ミラーに到達すると、その干渉成分光を反射ミラ
ーを透過させて除去することができる。
が反射ミラーに到達すると、その干渉成分光を反射ミラ
ーを透過させて除去することができる。
しかも、前記反射ミラーを構成する干渉フィルタは そ
れを透過させろ波長域の光線は、その人 1n− 射方向に影響されることなく透過させるから、前記干渉
フィルタで反射された干渉成分光のぼほすべてを透過さ
せて確実に除去することができる。
れを透過させろ波長域の光線は、その人 1n− 射方向に影響されることなく透過させるから、前記干渉
フィルタで反射された干渉成分光のぼほすべてを透過さ
せて確実に除去することができる。
すなわち、干渉成分光は1度干渉フィルタで反射される
と反射ミラーを透過して除去される。
と反射ミラーを透過して除去される。
したがっで、従来例のガス分析計のように、干渉成分光
が干渉フィルタと光源の反射ミラーとで反射されで、こ
れらの間を往復状態になることによっで、それを透過す
る干渉成分光か増加する問題を解決することが可能であ
っで、干渉成分光に起因して分析精度か低下する問題を
解決することができ、高精度でガスを分析することが可
能である。
が干渉フィルタと光源の反射ミラーとで反射されで、こ
れらの間を往復状態になることによっで、それを透過す
る干渉成分光か増加する問題を解決することが可能であ
っで、干渉成分光に起因して分析精度か低下する問題を
解決することができ、高精度でガスを分析することが可
能である。
第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図は別実層
側の断面図、第3図は従来例の断面図である。 ]:比較セル、2:測定セル、3a・3b:光源、4a
・4b :反射ミラー、6:検出器、7a −7b
:干渉フィルタ。
側の断面図、第3図は従来例の断面図である。 ]:比較セル、2:測定セル、3a・3b:光源、4a
・4b :反射ミラー、6:検出器、7a −7b
:干渉フィルタ。
Claims (1)
- ガスセルの一側に光源が、他側に検出器がそれぞれ配置
され、かつ測定成分ガスの吸収波長域の光線を透過し、
干渉成分ガスの吸収波長域の光線を反射する干渉フィル
タが設けられたガス分析計において、測定成分ガスの吸
収波長域の光線を反射し、干渉成分ガスの吸収波長域の
光線を透過する干渉フィルタで、前記光源の反射ミラー
が構成されたことを特徴とする赤外線ガス分析計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14595887A JPH0827234B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14595887A JPH0827234B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63308540A true JPS63308540A (ja) | 1988-12-15 |
JPH0827234B2 JPH0827234B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=15396962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14595887A Expired - Lifetime JPH0827234B2 (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0827234B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006098387A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-04-13 | Osaka Gas Co Ltd | シロキサン含有ガス中のシロキサンの分析装置および分析方法 |
JP2011033636A (ja) * | 2004-09-02 | 2011-02-17 | Osaka Gas Co Ltd | シロキサン含有ガス中のシロキサンの分析装置および分析方法 |
WO2016002928A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 宇部興産株式会社 | 赤外線ガス分析装置、及びその使用方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5323634A (en) * | 1976-08-17 | 1978-03-04 | Seikosha Kk | Method of recording by multiipin electrode |
JPS61154555U (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-25 |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP14595887A patent/JPH0827234B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5323634A (en) * | 1976-08-17 | 1978-03-04 | Seikosha Kk | Method of recording by multiipin electrode |
JPS61154555U (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-25 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006098387A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-04-13 | Osaka Gas Co Ltd | シロキサン含有ガス中のシロキサンの分析装置および分析方法 |
JP2011033636A (ja) * | 2004-09-02 | 2011-02-17 | Osaka Gas Co Ltd | シロキサン含有ガス中のシロキサンの分析装置および分析方法 |
JP4660273B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-03-30 | 大阪瓦斯株式会社 | シロキサン含有ガス中のシロキサンの分析装置および分析方法 |
WO2016002928A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 宇部興産株式会社 | 赤外線ガス分析装置、及びその使用方法 |
JPWO2016002928A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2017-04-27 | 宇部興産株式会社 | 赤外線ガス分析装置、及びその使用方法 |
US9835551B2 (en) | 2014-07-04 | 2017-12-05 | Ube Industries, Ltd. | Infrared gas analysis device, and method for using same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0827234B2 (ja) | 1996-03-21 |
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