JPS63289426A - フ−リエ変換分光分析計 - Google Patents
フ−リエ変換分光分析計Info
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- JPS63289426A JPS63289426A JP12379087A JP12379087A JPS63289426A JP S63289426 A JPS63289426 A JP S63289426A JP 12379087 A JP12379087 A JP 12379087A JP 12379087 A JP12379087 A JP 12379087A JP S63289426 A JPS63289426 A JP S63289426A
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- Japan
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- fourier transform
- xenon flash
- flash lamp
- interference
- moving mirror
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- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims 1
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Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフーリエ変換分光分析計に係り、特に紫外およ
び可視領域の分析に適したフーリエ変換分光分析計に関
する。
び可視領域の分析に適したフーリエ変換分光分析計に関
する。
従来、紫外、可視域の分光分析計では、回折格子などの
分散素子を用いる分光器で構成されることが多く、この
場合には、重水素放電ランプやタングステンランプ等が
用いられてきた。しかし、近年分析の高感度化が求めら
れ、そのために光強度の強い光源を用いることが必要と
なってきている。紫外域で光強度の強い水源としてキセ
ノンフラッシュランプがある。このキセノンフラッシュ
ランプを用いた分光分析計としては、特開昭６０−２１
４２２９などがある。
分散素子を用いる分光器で構成されることが多く、この
場合には、重水素放電ランプやタングステンランプ等が
用いられてきた。しかし、近年分析の高感度化が求めら
れ、そのために光強度の強い光源を用いることが必要と
なってきている。紫外域で光強度の強い水源としてキセ
ノンフラッシュランプがある。このキセノンフラッシュ
ランプを用いた分光分析計としては、特開昭６０−２１
４２２９などがある。
キセノンフラッシュランプを用いた分光分析計では、キ
セノンフラッシュランプの発光位置や発光強度のバラツ
キが大きいため、必然的に複数回の測定を行って測定値
の信頼性を向上させなければならない。従来の分散型の
分光分析計では各波長において複数回の測定を行わねば
ならず、広い波長域のスペクトルを測定するには多大の
時間を要し、かつキセノンフラッシュランプの寿命内に
おける測定回数が少ないという問題があった。また分散
型の分光分析計では、発光位置のバラツキは波長精度を
悪くしていた。
セノンフラッシュランプの発光位置や発光強度のバラツ
キが大きいため、必然的に複数回の測定を行って測定値
の信頼性を向上させなければならない。従来の分散型の
分光分析計では各波長において複数回の測定を行わねば
ならず、広い波長域のスペクトルを測定するには多大の
時間を要し、かつキセノンフラッシュランプの寿命内に
おける測定回数が少ないという問題があった。また分散
型の分光分析計では、発光位置のバラツキは波長精度を
悪くしていた。
本発明の目的は、キセノンフラッシュランプを用いて、
短時間に、しかも信頼性の高い測定値を得ることにある
。
短時間に、しかも信頼性の高い測定値を得ることにある
。
上記目的は、キセノンフラッシュランプを光源とし、フ
ーリエ変換分光装置を用いることにより達成される。
ーリエ変換分光装置を用いることにより達成される。
フーリエ変換分光分析計においては、各波長での値は移
動鏡の多くの異った位置での干渉光出力から計算により
求められるから、キセノンフラッシュランプを光源とし
た時、その値は必然的に多くのフラッシュの平均値とな
る。また分散型の分光分析計で問題となる発光位置のバ
ラツキは、光検出器に受光面の感度が均一なホトダイオ
ードなどを用いれば影響を受けなくなる。
動鏡の多くの異った位置での干渉光出力から計算により
求められるから、キセノンフラッシュランプを光源とし
た時、その値は必然的に多くのフラッシュの平均値とな
る。また分散型の分光分析計で問題となる発光位置のバ
ラツキは、光検出器に受光面の感度が均一なホトダイオ
ードなどを用いれば影響を受けなくなる。
以上のように、キセノンフラッシュランプの発光位置１
発光強度のバラツキにもかかわらず、信頼度の高い測定
値を得ることができる。
発光強度のバラツキにもかかわらず、信頼度の高い測定
値を得ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。１は
キセノンフラッシュランプ、２はランプ１の１点灯電源
、１２はビームスプリッタ、１３は固定鏡、１４は移動
鏡、１５は試料セル、１６および１８はホトダイオード
等の光検出器、１７はレーザ、１９は信号処理回路、２
０および２１はレンズである。キセノンフラッシュラン
プ１から発した光はレンズ２０により平行光線となり、
ビームスプリッタ１２により２方向に分けられる。
キセノンフラッシュランプ、２はランプ１の１点灯電源
、１２はビームスプリッタ、１３は固定鏡、１４は移動
鏡、１５は試料セル、１６および１８はホトダイオード
等の光検出器、１７はレーザ、１９は信号処理回路、２
０および２１はレンズである。キセノンフラッシュラン
プ１から発した光はレンズ２０により平行光線となり、
ビームスプリッタ１２により２方向に分けられる。
一方の光は固定鏡１３により反射され、ビームスプリッ
タ１２にもどる。他方の光は移動鏡１４により反射され
ビームスプリッタ１２にもどる。これらの光は干渉し、
レンズ２１により集光され試料セル１５を通過して光検
出器１６に入射する。
タ１２にもどる。他方の光は移動鏡１４により反射され
ビームスプリッタ１２にもどる。これらの光は干渉し、
レンズ２１により集光され試料セル１５を通過して光検
出器１６に入射する。
移動鏡１４の位置をモニタするためにレーザ１７から出
た光も上記と同様に干渉させ、その干渉光を光検出器１
８に入射させる。すなわち、信号処理回路１９において
、移動鏡１４の移動により生ずるレーザ光の干渉出力に
同期して点灯電源２へ信号を送りキセノンフラッシュラ
ンプ１を発光させ、この時に信号処理回路１９に光検出
器１６の信号を取り込む。データの取り込みが終了した
後、信号処理回路１９ではフーリエ変換を行って、吸収
スペクトルを得るように構成されている。′スペクトル
が移動鏡１４の各位置においてキセノンフラッシュラン
プ１の一回だけの発光によるデータから得られたもので
あっても、フーリエ変換によりそのスペクトルは多数の
発光による平均化された信頼性の高いものである。しか
し、さらに信頼性を高めるため、移動鏡１４の各位置に
おいて複数回発光させるように構成することもできる。
た光も上記と同様に干渉させ、その干渉光を光検出器１
８に入射させる。すなわち、信号処理回路１９において
、移動鏡１４の移動により生ずるレーザ光の干渉出力に
同期して点灯電源２へ信号を送りキセノンフラッシュラ
ンプ１を発光させ、この時に信号処理回路１９に光検出
器１６の信号を取り込む。データの取り込みが終了した
後、信号処理回路１９ではフーリエ変換を行って、吸収
スペクトルを得るように構成されている。′スペクトル
が移動鏡１４の各位置においてキセノンフラッシュラン
プ１の一回だけの発光によるデータから得られたもので
あっても、フーリエ変換によりそのスペクトルは多数の
発光による平均化された信頼性の高いものである。しか
し、さらに信頼性を高めるため、移動鏡１４の各位置に
おいて複数回発光させるように構成することもできる。
第２図に本発明の他の実施例の主要部を示した。
３０は傾斜鏡であって、ビームスプリッタ１２との間の
光路差が位置により異なるようになっている。３１はホ
トダイオードアレイである。第１図の実施例との違いは
、光路差の異なる干渉光がホトダイオードアレイ３１に
よって同時に検出できることである。これにより移動鏡
を設ける必要がなく短時間でスペクトルを得ることがで
きるようになる。さらに大きな光路差が必要な場合には
、傾斜鏡３０を移動させ、大きな光路差は移動により、
小さな光路差はホトダイオードアレイによ゛す得るよう
に構成することもできる。
光路差が位置により異なるようになっている。３１はホ
トダイオードアレイである。第１図の実施例との違いは
、光路差の異なる干渉光がホトダイオードアレイ３１に
よって同時に検出できることである。これにより移動鏡
を設ける必要がなく短時間でスペクトルを得ることがで
きるようになる。さらに大きな光路差が必要な場合には
、傾斜鏡３０を移動させ、大きな光路差は移動により、
小さな光路差はホトダイオードアレイによ゛す得るよう
に構成することもできる。
フーリエ変換分光分析計では、測定できる波長域は光源
の発光スペクトルに依存し、本発明によれば、紫外域か
ら可視域にわたる広い波長域で高感度の分光分析ができ
る。さらにフーリエ変換分光分析計の光源とすることで
、キセノンフラッシュランプの欠点であった発光位置９
発光強度のバラツキの影響を受けにくい分光分析計が構
成できる。
の発光スペクトルに依存し、本発明によれば、紫外域か
ら可視域にわたる広い波長域で高感度の分光分析ができ
る。さらにフーリエ変換分光分析計の光源とすることで
、キセノンフラッシュランプの欠点であった発光位置９
発光強度のバラツキの影響を受けにくい分光分析計が構
成できる。
第１図、第２図は本発明の実施例を示す概略図である。
・
１・・・キセノンフラッシュランプ、２・・・電源、１
２・・・ビームスプリッタ、１３・・・固定鏡、１４・
・・移動鏡、１５・・・試料セル、１６．１８・・・光
検出器、１７・・・レーザ、１９・・・信号処理回路、
３０・・・傾斜Ｙ １ 口 ′ｆＪ ２ 図 Ｉ ★ｔ／ンフフソシｄンフ。 ２ 電ノ月（ ｔ４− Ａ−シ會力１１邑 ２０．２１トンに
２・・・ビームスプリッタ、１３・・・固定鏡、１４・
・・移動鏡、１５・・・試料セル、１６．１８・・・光
検出器、１７・・・レーザ、１９・・・信号処理回路、
３０・・・傾斜Ｙ １ 口 ′ｆＪ ２ 図 Ｉ ★ｔ／ンフフソシｄンフ。 ２ 電ノ月（ ｔ４− Ａ−シ會力１１邑 ２０．２１トンに
Claims (1)
- １、光源、ビームスプリッタ、上記ビームスプリッタに
より分けられた光の干渉手段、干渉光の検出手段、検出
信号の処理手段とを具備してなるフーリエ変換分光分析
計において、上記光源としてキセノンフラッシュランプ
を用いることを特徴とするフーリエ変換分光分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379087A JPS63289426A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | フ−リエ変換分光分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379087A JPS63289426A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | フ−リエ変換分光分析計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63289426A true JPS63289426A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14869364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12379087A Pending JPS63289426A (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | フ−リエ変換分光分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63289426A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006300661A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Kobe Steel Ltd | 干渉計，フーリエ分光装置 |
| JP2006300792A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Kobe Steel Ltd | 干渉計，フーリエ分光装置 |
| JP2008514945A (ja) * | 2004-10-01 | 2008-05-08 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック（セーエヌエルエス） | コヒーレンス分光分析装置 |
| CN109029929A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-12-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 拍瓦级高功率激光系统靶面焦点精确定位的方法 |
| WO2020152772A1 (ja) * | 2019-01-22 | 2020-07-30 | 株式会社島津製作所 | マイケルソン干渉計 |
-
1987
- 1987-05-22 JP JP12379087A patent/JPS63289426A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008514945A (ja) * | 2004-10-01 | 2008-05-08 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック（セーエヌエルエス） | コヒーレンス分光分析装置 |
| JP2006300661A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Kobe Steel Ltd | 干渉計，フーリエ分光装置 |
| JP2006300792A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Kobe Steel Ltd | 干渉計，フーリエ分光装置 |
| CN109029929A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-12-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 拍瓦级高功率激光系统靶面焦点精确定位的方法 |
| WO2020152772A1 (ja) * | 2019-01-22 | 2020-07-30 | 株式会社島津製作所 | マイケルソン干渉計 |
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