JPS63172941A - 化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法 - Google Patents
化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法Info
- Publication number
- JPS63172941A JPS63172941A JP394587A JP394587A JPS63172941A JP S63172941 A JPS63172941 A JP S63172941A JP 394587 A JP394587 A JP 394587A JP 394587 A JP394587 A JP 394587A JP S63172941 A JPS63172941 A JP S63172941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- samples
- magnetic field
- diffusion
- convection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 8
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 238000005304 joining Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 abstract 1
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 6
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、ある種の化合物及び合金等は地上の通常は相
分離もしくは偏析によって、製造が困難でありその高品
質及び高均一化をはかるため原料設計に欠かせない、溶
融液中の拡散係数測定方法に関する。
分離もしくは偏析によって、製造が困難でありその高品
質及び高均一化をはかるため原料設計に欠かせない、溶
融液中の拡散係数測定方法に関する。
(従来の技術)
ある種の化合物や合金等を製造するとき、重力による偏
析や界面での不安定性が大きな問題となっている。その
ため通常の加熱、溶融、再固化の工程で固化方向にわた
って均一な化合物もしくは。
析や界面での不安定性が大きな問題となっている。その
ため通常の加熱、溶融、再固化の工程で固化方向にわた
って均一な化合物もしくは。
合金を得ることが困難であった。
不純物の偏析を支配する偏析係数は不純物の融液中での
拡散定数の関数となっている。このため高品質で均一な
化合物もしくは合金を製作するため、液体中の拡散速度
の測定ということが非常に重要となってくる。しかし通
常の融液でははげしい対流の影響により拡散定数の正確
な測定は不可能であった。
拡散定数の関数となっている。このため高品質で均一な
化合物もしくは合金を製作するため、液体中の拡散速度
の測定ということが非常に重要となってくる。しかし通
常の融液でははげしい対流の影響により拡散定数の正確
な測定は不可能であった。
(発明が解決しようとする問題点)
前項で記述したことに鑑み、高品質で均一な化合物もし
くは合金を得るためには原料融液対流の影響は非常に大
きな問題となる。そのため、いまだに正確な拡散速度測
定は行なわれていな、い。
くは合金を得るためには原料融液対流の影響は非常に大
きな問題となる。そのため、いまだに正確な拡散速度測
定は行なわれていな、い。
(問題点を解決するための手段)
この発明は、前記の点に鑑みられたものであり、均一な
液体界面を得るため2種類の小片試料を交互に多数接合
したものを原料とする。この原料、を磁場印加で対流を
少なくした疑似無重力状態で加熱溶融再固化して、1質
量分析器等で接合方向での元素分布を測定する。また接
合方向に対して温度勾配をつけることにより、拡散速度
の温度依存性又は化合物もしくは合金の組成に同一元素
がある場合には異なった同位体を分離して使うことによ
る各々の拡散定数の測定方法をあたえるものである。
液体界面を得るため2種類の小片試料を交互に多数接合
したものを原料とする。この原料、を磁場印加で対流を
少なくした疑似無重力状態で加熱溶融再固化して、1質
量分析器等で接合方向での元素分布を測定する。また接
合方向に対して温度勾配をつけることにより、拡散速度
の温度依存性又は化合物もしくは合金の組成に同一元素
がある場合には異なった同位体を分離して使うことによ
る各々の拡散定数の測定方法をあたえるものである。
(作用)
本発明の骨子は、磁場を印加してローレンツ力によって
対流のない状態下で融液中の拡散速度を正確に求めるた
め、2種類の小片試料を交互に多数接合して、両方の試
料が融解する温度下で、原料の接合方向に温度勾配をつ
けることを特徴とする。
対流のない状態下で融液中の拡散速度を正確に求めるた
め、2種類の小片試料を交互に多数接合して、両方の試
料が融解する温度下で、原料の接合方向に温度勾配をつ
けることを特徴とする。
(実施例)
以下本発明の実施例について図面を参照しながら説明す
る。
る。
試料として例えばGarbとInSbの2元化合物を用
い、電気炉中で加熱溶融固化した例について説明する。
い、電気炉中で加熱溶融固化した例について説明する。
磁場を印加し、対流を抑圧した状態を形成し原料の加熱
、溶融、固化を終了させる実験を行った・ 第1図はこの実施例で用いた電気炉の構成図を示す、電
気炉には例えばここでは急熱急冷ができるフラッシュラ
ンプ加熱炉1を用いた。その周囲には電磁石2が配設し
てあり磁場が印加できるようになっている。まず最初に
、対流をなくすためローレンツ力による磁場の強さがど
れ位必要なのかを調べた。該電気炉中にIQOgのGa
Sb原料3を入れた石英るっぽ4を設置し、750”C
の融点以上の温度に加熱しその対流を調べる代りに電磁
石の励磁電流を変えて磁場温度を変え、温度ゆらぎを温
度計5で調べてみた結果、第2図に示すようになり、3
000ガウス以上では温度ゆらぎがなくなり対流が抑制
されていて、無対流状態が作り出せることが分かった。
、溶融、固化を終了させる実験を行った・ 第1図はこの実施例で用いた電気炉の構成図を示す、電
気炉には例えばここでは急熱急冷ができるフラッシュラ
ンプ加熱炉1を用いた。その周囲には電磁石2が配設し
てあり磁場が印加できるようになっている。まず最初に
、対流をなくすためローレンツ力による磁場の強さがど
れ位必要なのかを調べた。該電気炉中にIQOgのGa
Sb原料3を入れた石英るっぽ4を設置し、750”C
の融点以上の温度に加熱しその対流を調べる代りに電磁
石の励磁電流を変えて磁場温度を変え、温度ゆらぎを温
度計5で調べてみた結果、第2図に示すようになり、3
000ガウス以上では温度ゆらぎがなくなり対流が抑制
されていて、無対流状態が作り出せることが分かった。
拡散実験用の試料は例えば第3図に示すようにCaSb
層6、InSbM47それぞれを200amの厚さに研
磨し上下から300−の厚さの保護用のシリコン板8で
はさんだ5x50−の大きさのサンドイッチ構造となっ
ている。Sbの出所がInSbの方なのかGaSbの方
からなのかを区別するために同位体を用い1例えばIn
Sb側のsbには”’Sb、GaSb側のsbには11
!sbをそれぞれ用いたe InSbとGaSbをそれ
ぞれり、2.3枚交互にはり合せた複数のサンドイッチ
構成の試料を該電気炉中に配設し。
層6、InSbM47それぞれを200amの厚さに研
磨し上下から300−の厚さの保護用のシリコン板8で
はさんだ5x50−の大きさのサンドイッチ構造となっ
ている。Sbの出所がInSbの方なのかGaSbの方
からなのかを区別するために同位体を用い1例えばIn
Sb側のsbには”’Sb、GaSb側のsbには11
!sbをそれぞれ用いたe InSbとGaSbをそれ
ぞれり、2.3枚交互にはり合せた複数のサンドイッチ
構成の試料を該電気炉中に配設し。
上記磁場を3400ガウス印加しGaSbの融点以上に
加熱してInSbとGaSbとを溶融させた。保護用の
Si板は溶融させずに、はとんど自由表面をなくし、表
面張力による対流の影響を少なくするためのものである
。1分後に冷却させて試料を該電気炉より取り出し切断
して観察した結果GaSbとInSbとが明らかに溶融
していることが認められ、さらに相互拡散していること
も分かった。相互拡散は〜1μsの幅で生じていた。
加熱してInSbとGaSbとを溶融させた。保護用の
Si板は溶融させずに、はとんど自由表面をなくし、表
面張力による対流の影響を少なくするためのものである
。1分後に冷却させて試料を該電気炉より取り出し切断
して観察した結果GaSbとInSbとが明らかに溶融
していることが認められ、さらに相互拡散していること
も分かった。相互拡散は〜1μsの幅で生じていた。
以上の説明では薄いサンドイッチ構造で説明したが、さ
らに重ね合せる場合、側面の自由表面の割合が増し表面
張力の影響が大きくなるため、全体の形状を円筒状にし
石英等の保護管内に配設して側面の自由表面をなくし、
より精密な拡散定数や温度係数等を求めることができる
。
らに重ね合せる場合、側面の自由表面の割合が増し表面
張力の影響が大きくなるため、全体の形状を円筒状にし
石英等の保護管内に配設して側面の自由表面をなくし、
より精密な拡散定数や温度係数等を求めることができる
。
本発明は以上説明したように、2種類の小片試料を交互
に多数接合し、磁場中の無対流状態下で試料の加熱溶解
、再固化を行うことにより、より正確な拡散速度が測定
できる。これにより従来不可能であった液体中の拡散速
度の決定ができ高品質で均一な材料を得ることができる
。また材料や融液の拡散現象の理解への重要な測定法と
なりその工業的、材料学的にその意味は大きい。
に多数接合し、磁場中の無対流状態下で試料の加熱溶解
、再固化を行うことにより、より正確な拡散速度が測定
できる。これにより従来不可能であった液体中の拡散速
度の決定ができ高品質で均一な材料を得ることができる
。また材料や融液の拡散現象の理解への重要な測定法と
なりその工業的、材料学的にその意味は大きい。
第1図は本発明の実施例で使用した電気炉の概要を示す
図、第2図は融液対流と磁場強度を示す図、第3図は本
発明で用いた接合型試料を示す図である。 1・・・フラッシュランプ 2・・・電磁石3・・・
Garb 4・・・石英るつぼ5・・
・温度計 6・・・GaSbウェハ7・・
・InSb ウェハ 8・・・Siウェハ代
理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹花喜久男 温度ゆs *” < °c )
図、第2図は融液対流と磁場強度を示す図、第3図は本
発明で用いた接合型試料を示す図である。 1・・・フラッシュランプ 2・・・電磁石3・・・
Garb 4・・・石英るつぼ5・・
・温度計 6・・・GaSbウェハ7・・
・InSb ウェハ 8・・・Siウェハ代
理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹花喜久男 温度ゆs *” < °c )
Claims (3)
- (1)複数の化合物もしくは複数の合金を重ね合せて試
料とし、磁場を印加し対流のない状態をつくり、所定の
温度分布をもって加熱、溶融、再固化させ、その元素分
析を行い、元素の溶融液下の拡散速度を求めることを特
徴とする化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法
。 - (2)上記試料は所定の元素分布をもつ2種類の化合物
もしくは合金を交互に複数個接合したものである特許請
求の範囲第1項記載の化合物及び合金の溶融状態での拡
散定数測定法。 - (3)上記磁場の磁場強度は3000ガウス以上である
特許請求の範囲第1項記載の化合物及び合金の溶融状態
での拡散定数測定法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP394587A JPS63172941A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP394587A JPS63172941A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63172941A true JPS63172941A (ja) | 1988-07-16 |
Family
ID=11571257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP394587A Pending JPS63172941A (ja) | 1987-01-13 | 1987-01-13 | 化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63172941A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7040804B2 (en) | 2002-12-18 | 2006-05-09 | The Institute Of Space And Astronautical Science | Method for measuring diffusion coefficient in conductive melts, and apparatus for measuring the same |
-
1987
- 1987-01-13 JP JP394587A patent/JPS63172941A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7040804B2 (en) | 2002-12-18 | 2006-05-09 | The Institute Of Space And Astronautical Science | Method for measuring diffusion coefficient in conductive melts, and apparatus for measuring the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wallace et al. | Specific heat of high purity iron by a pulse heating method | |
Niblett et al. | The internal friction of cold-worked copper at low temperatures | |
Kim et al. | Thermal-strain-induced splitting of heavy-and light-hole exciton energies in CuI thin films grown by vacuum evaporation | |
Bloomquist et al. | Thermocouple temperature measurements in shock‐compressed solids | |
McLaughlin et al. | Optical detection of transverse spin-Seebeck effect in permalloy film using Sagnac interferometer microscopy | |
JPS63172941A (ja) | 化合物及び合金の溶融状態での拡散定数測定法 | |
Kaddeche et al. | Macrosegregation and convection in the horizontal Bridgman configuration I. Dilute alloys | |
Chin et al. | The role of diffusion in determining the controlling creep mechanisms in Al-Zn solid-solutions: Part I | |
Hatta et al. | Specific heat of SnxGe1-xTe crystals at the structural phase transition | |
CN111522086B (zh) | 热复合的光栅制作工艺 | |
CN114216754A (zh) | 梯度成分非晶合金试样及其高通量制备方法 | |
Shaw et al. | Thermomigration of carbon in metals | |
Matsuno | Measurements of equilibrium vacancy concentration in bismuth | |
Herlach et al. | Integrated source-specimen system for high-temperature positron annihilation experiments | |
Leger et al. | Internal friction in hydrogen-charged aluminium alloys | |
Namazu et al. | Uniaxial tensile and shear deformation tests of gold–tin eutectic solder film | |
Kinoshita et al. | Increase of Si0. 5Ge0. 5 Bulk Single Crystal Size as Substrates for Strained Ge Epitaxial Layers | |
Koda et al. | Faraday Rotation due to Excitons in Evaporated CuCl Films | |
Manuel et al. | Thin films heat capacity measurements in the 3He temperature range | |
Narayan et al. | Experimental determination of ternary partition coefficients in Fe-Ni-X alloys | |
Wagendrstel | Resistometric investigation of initial interdiffusion in Ag Au thin film couples | |
Fjekshus | On the reaction between platinum and sulfur, selenium or tellurium. I. Preparation of PtS, PtSe0. 8 and PtTe | |
Güntherodt et al. | Light scattering in metallic compounds and thin supported layers | |
US4041447A (en) | Bonded magnetic bubble memory | |
Belyaev | Change of the Physical Parameters of Semiconductor Crystals Under Thermocyclic Treatment |