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JPS6277603A - プロセス制御装置 - Google Patents

プロセス制御装置

Info

Publication number
JPS6277603A
JPS6277603A JP21711685A JP21711685A JPS6277603A JP S6277603 A JPS6277603 A JP S6277603A JP 21711685 A JP21711685 A JP 21711685A JP 21711685 A JP21711685 A JP 21711685A JP S6277603 A JPS6277603 A JP S6277603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
value
coefficient
deviation
target value
lagging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21711685A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Hiroi
広井 和男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP21711685A priority Critical patent/JPS6277603A/ja
Publication of JPS6277603A publication Critical patent/JPS6277603A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は外乱抑制特性と目標値追従特性の双方を最適に
調整できるプロセス制御装置に関するものである。
[発明の技術的青用と問題点] プロセス制御装置では、比例ゲインKp、槓分時間TI
、微分時間−roの各制御定数の状態によってその応答
特性が決定される。通常これ等制御定数Kp 、TI 
、TDは制御対象に対して外乱りが加わった場合にこの
影響を早急に抑制し得る状態すなわち、外乱抑制最適特
性状態に調整されているのが一般的である。しかし、こ
の場合目標値を変更すると、制御が行ぎ過ぎてしまい目
標値の変化に制御量が追従できずメーバーシュートを生
じてしまう。逆に、目標値の変化に制御量が最適に追従
する状態すなわら目標値追従最適特性状態に制御定数を
設定しておくと、外乱りに対づる抑制特性が非常にuく
なり、応答性が長期化してしまう。このように前記制御
定数Kp、TI 、TDは外乱抑制最適特性状態と目標
値追従最適特性状態とでは調整する個が大きく異なり、
このことはCHR(Chern、 Hrones 、 
Reswick)法等による制御定数の調整公式により
理解できる。
このため従来より外乱抑制特性と目標値追従特刊の双方
に対して調整を可能とする2自由度PID it、+制
御装置が開発されている。
この従来における2自由度PID制御装置は第4図に示
すように、目標値SVに対して係数部101で係数αが
乗算され加算部103へ導かれる。
一方、目標価S■は1次遅れフィルタ105で一次遅れ
演算され、次いで係数部107で係数βが乗算された後
、加篩部103へ導かれ、係数部101の出力値αSV
と加ね合成される。
加算手段103の出力信号(加算信号)は、減幹部10
9に導かれ、測定値PVとの偏差ε4がp出されて加算
手段111に導かれる。
また、−次遅れフィルタ105の出力信号は減算部11
3において、測定値PVとの偏差ε5が算出されて積分
手段115に導かれる。そして積分演算された信号が加
算手段111で偏差ε4に加算され、この加算信号に対
して比例ゲイン部117で比例ゲインKpが乗算され、
操作信号MVとして制御対象119に供給される。これ
によって測定値PVが目標:(的SVと等しくなるよう
に調整制御されている。
しかしながら、上記従来のプロセス制御装置には以下の
ような問題点がある。
■ 係数α−〇、係数β−1.−次遅れフィルタ標値フ
ィルタ伺PI調節)の揚台、目標値S■の変動に対する
制御は、 となる。上記(1)の式の第1項        を比
例項、第2項1/TI −8を積分項とすると、比例項
かられかるように、−次遅れフィルタ105の時定数T
oを変えると、応答が変化するとともにゲインも変化す
る。また、積分時間TIを変えると、ゲインが複雑に変
化してしまう。すなわら、時定数’T’o、8!(分時
間TIの変化に対し、ゲイン変化は一義的に定まらず、
互いに干渉し合って?!7雑に変化し調整が非常にむず
かしい。
■係数β−0として、係数αと一次遅れフィルタ■制御
の場合、目標値Svに対する等価積分動作は、 となる。上記(2)式の第1項1/TI −8を基本積
フィルタ105の時定数TOの応答が変化するとともに
ゲインro/TIも変化する。また、積分時間TIを変
えてもゲインTo/TIが変化し、時定数To 、積分
時間11の変化に対し、応答ゲインが一義的に定まらず
、干渉し合って複雑に変化し、調整が非常にむずかしい
従って、上記■、■で示したように上記従来装置は調整
が複雑なため、多数の装置を用いるプラント等では全く
実用的でないという問題点があった。
[発明の目的〕 本発明の目的は、外乱抑制特性と目標値特性の双方を最
適に制御することが可能なプロセス制御装置を提供する
ことにある。
[発明の概要] 上記目的を達成するために本発明は、調節しようとする
目標値に対して進み/遅れ演算をし、補正目標価として
出力する進み/遅れ演算手段と、補正目標値と制御対象
からの測定値との偏差値について積分演算を行う積分手
段と、目標値に対し予め設定された調整演算を行う第1
の調整手段と、補正目標値に対し予め設定された調整演
算を行う第2の調整手段と、第1の調整手段及び第2の
調整手段の出力合成値と測定値との偏差を演算する偏差
演算手段とを備え、積分手段と偏差演算手段からの出力
値に基づいて制御対象を調節するようにした。
[発明の実施例] 第1図は本発明に係る装置の一実施例の構成を示ずブロ
ック図である。
本実旅例では、従来例に示した一次遅れフィルタ105
に変えて、進み/遅れ演算部21が設けられている。そ
の演算式は、 1−tT工・S          °(3)とされて
いる。但し、TXは積分時間、γは可変パラメータ、S
は複素変数である。
図において、目標値SVは係数部1で係数αが乗算され
るとともに、進み/遅れ演算部5で進み/遅れ演算がさ
れている。この進み/遅れ演算部5の出力値は減算部1
3へ供給されるとともに、係数部7で係数βが乗算され
た後、加算手段3へ供給される。
減質部13では進み/遅れ:9i nがされた目標値S
V、!:Jり定1iTi P Vの偏差ε1が求められ
、この偏差ε1が梢分演ね部15へ供給される。積分役
10部15ては偏差ε1に夕・]する積分演紳がされる
一方、前記加口手段3では、係数部1の出力(+fiと
係数部7の出力値とが加算合成され、減筒手段9におい
てこの加Ω値と測定値PVとの偏差ε2が求められてい
る。
そして、(’s? lε2と積分波p部15の出力値ど
が加算部11で加ね合成され、この加算値は比例ゲイン
部17で比例ゲインK11lが乗算さ、れ、操作信号M
Vとして制御対象19に供給される。
第1図からも明らかなように、測定価PVの変化に対し
ては また、目標値SVの変化に対しては、 の演算調整がされる。ここで比例ゲインKp、積分時間
TIとしては外乱抑制最適パラメータが設定される。
ここで上記(5)式において、係数α=0.β係数β=
1とすると、 となる。上記(6)式でγは比例項、1/Tr −8は
積分項である。
上記(6)式から明らかなように、目標isVに対づる
比例ゲインは、係数γのみを変更することで一義的に決
定される。
従って、前記従来例の(1)式に比べ、係数γのみの可
変で、応答特性に影響を与えることなく、ゲインを一義
的に決定することができる。
上記(5)式において、係数β=0とし、係数αと進み
/遅れ演算部5の演Ω式(3)を可変とする完全2自由
度P I III御の場合について、目標値SVに対す
る等価積分動作は、前記(5)式より1fT1.s  
   丁1.S となる。上記(7)式で第1項は基本積分項、第2項は
積分調整項である。
上記(7〉式の積分調整項は外乱に対づる積分時間TI
が決定覆ると、γのみの可変にJ:りそのゲインを一義
的に決定覆ることができる。
従って、目標(iri S Vに対づる積分時間は、外
乱に対づる積分、すなわち上記基本積分項から積分調整
項を増減することで、等価積分時間が調整でき、外乱抑
制特性にも目標値追従特性にも双方に最適な制御を可能
とした2自由度P I D ilr’制御装置が実現で
きる。
以上お)明したように、本実施例によれば、(6)式に
示した目標値フィルタ付PI制御とした場合、目標値変
化に対する比例ゲインは、係数γそのものとなり一義的
に決定覆”ることが可能となる。また応答の速さもγ−
0で遅く、γ=1で速くなり、応答と対比しているので
、装置の調整が極めて容易となる。
また、(7)式で示した完全2自由度PI制御とした場
合、目標値変化に対する積分時間を最適に調整づ−るこ
とができ、この場合には外乱抑制に対重る積分時間TI
が決定されるとγの値のみによって積分時間の調整ゲイ
ンを一義的に決定でき、装置の調整が簡単になる。
従って、本実施例装置はプラントに多数使用されても、
不完全2自由度、完全2自由度などの高機能の制御が容
易に実現でき、個々の制御性を限界まで改善でさ、プラ
ント全体の運転特性を飛躍的に改善することが可能とな
る。
第2図は本発明に係る装置の他の実施例の構成を示すブ
ロック図である。
本実施例は、前記第1図に示した実施例に測定値微分動
作を付加したものであり、不完全微分演算部21を介し
て微分演篩された測定値PVが加口部11へ供給され、
偏差ε2および積分演算部15の出ツノどともに加p合
成されている。
また、不完全微分演算部21の制御式は、Tt+、S 11力・To’s とされている。但し、Toは微分時間、ηは制御パラメ
ータでその値は0.1〜0.3とされる。
このように本実施例にあっても第1図実施例と同様の効
果を有するとともに測定値Pvに微分動作を流すことで
制御応答性の改善を図ることができる。
第3図は本発明に係る装置のさらに他の実施例の構成を
示すブロック図である。
本実施例は、目標値Svに対して係数部23で係数θを
乗韓し、その出力値と測定値PVとの偏差ε3を減算部
25で求め、偏差ε3に不完全微分演算部21で微分動
作が施された後、加算部11に供給されて偏差ε2と積
分演算部15の出力とともに加算合成されるようになっ
ている。
この実施例にあっても、前記第1図実施例と同様の効果
を有するとともに、目標値Sv及び測定値Pvの双方に
微分動作を付加してその制御応答性が改善されている。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、外乱抑制特性と目
標値追従特性の双方を最適に調整可能な優れたプロセス
制御装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る装置の一実施例の構成を示づ一ブ
ロック図、第2図は本発明に係る装置の他の実施例の構
成を示すブロック図、第3図は本発明に係る装置のさら
に他の実施例の構成を示すブロック図、第4図は従来例
の構成を示すブロック図である。 5・・・進み/遅れ演算部 7・・・係数部 15・・・積分演算部 17・・・比例ゲイン部 19・・・制御対象 SV・・・目標値 MV・・・操作信号 PV・・・測定値 r−−−’−−−−−−−−−−−一−−−コL−−−
−−m−−−−−m−−−−−」尤1図 ローーーー”−−−−m 「−−−−−−−−−−−−−−−−−−−”7第3図 L      −J 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 調節しようとする目標値に対して進み/遅れ演算をし、
    補正目標値として出力する進み/遅れ演算手段と、補正
    目標値と制御対象からの測定値との偏差値について積分
    演算を行う積分手段と、目標値に対し予め設定された調
    整演算を行う第1の調整手段と、補正目標値に対し予め
    設定された調整演算を行う第2の調整手段と、第1の調
    整手段及び第2の調整手段の出力合成値と測定値との偏
    差を演算する偏差演算手段とを備え、積分手段と偏差演
    算手段からの出力値に基づいて制御対象を調節するプロ
    セス制御装置。
JP21711685A 1985-09-30 1985-09-30 プロセス制御装置 Pending JPS6277603A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21711685A JPS6277603A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 プロセス制御装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP21711685A JPS6277603A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 プロセス制御装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6277603A true JPS6277603A (ja) 1987-04-09

Family

ID=16699103

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21711685A Pending JPS6277603A (ja) 1985-09-30 1985-09-30 プロセス制御装置

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JP (1) JPS6277603A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0315911A (ja) * 1989-03-20 1991-01-24 Fanuc Ltd サーボモータのフィードフォワード制御方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0315911A (ja) * 1989-03-20 1991-01-24 Fanuc Ltd サーボモータのフィードフォワード制御方法

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