JPS6230006Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6230006Y2 JPS6230006Y2 JP15952585U JP15952585U JPS6230006Y2 JP S6230006 Y2 JPS6230006 Y2 JP S6230006Y2 JP 15952585 U JP15952585 U JP 15952585U JP 15952585 U JP15952585 U JP 15952585U JP S6230006 Y2 JPS6230006 Y2 JP S6230006Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- focusing device
- focusing
- incident
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は光学的走査装置に関し、特に走査ビ
ームを反射するために回転多面鏡等を用いた光ビ
ーム走査装置における回転多面鏡の回転軸の偏心
や軸心に対する鏡面の平行度誤差に起因する走査
線の偏位を光学的に補正する手段を備えた光ビー
ム走査装置に関する。
ームを反射するために回転多面鏡等を用いた光ビ
ーム走査装置における回転多面鏡の回転軸の偏心
や軸心に対する鏡面の平行度誤差に起因する走査
線の偏位を光学的に補正する手段を備えた光ビー
ム走査装置に関する。
回転多面鏡等を用いた光ビーム走査装置は、走
査ビームの分解能力が高く、比較的高速の走査速
度が得られることから、フイルム録画装置、レー
ザプリンタ、テレビジヨン画像表示装置、フアク
シミリ装置などの種々の公知の装置に広く用いら
れている。
査ビームの分解能力が高く、比較的高速の走査速
度が得られることから、フイルム録画装置、レー
ザプリンタ、テレビジヨン画像表示装置、フアク
シミリ装置などの種々の公知の装置に広く用いら
れている。
かかる光ビーム走査装置においては、画像の品
位から走査線に垂直な方向のスポツト運動は、走
査線ピツチの±５％〜±10％程度であることが必
要とされる。このため、回転多面鏡の軸心に対す
る鏡面の平行度誤差および回転軸の偏心誤差の合
計が±数秒以下であることが要請される。±数秒
の平行度誤差は多面鏡の現在の加工技術の限界値
であり、非常に高価な多面鏡となる上、多面鏡の
回転軸の偏心誤差を加算すると許容誤差を越えて
しまう。この様な困難を排除するために、いくつ
かの補正装置が提案されている。それらのうち、
光学的に補正を行なう方法は例えば、特開昭48−
49315及び特開昭48−98844に見られるが、これら
に開示された装置においては、補正用の円筒レン
ズに入射する光ビームは光軸にほぼ平行でなけれ
ばならないという制約がある。これは、円筒レン
ズに光ビームが光軸に対して斜入射すると光ビー
ムによる円筒レンズの切線は円ではなく橢円とな
るために非点収差を生じ、結果として円筒レンズ
の像面の彎曲が生じ集束レンズの像面と一致しな
くなり、したがつて所望の集束径が得られなくな
るためである。このため回転多面鏡の反射ビーム
が直接に円筒レンズに入射する構成の場合は、回
転多面鏡の反射ビームの振れ角は非常に小さくな
り、したがつて走査線長を長くとれないという欠
点があつた。又、回転多面鏡の反射ビームを集束
レンズを介して円筒レンズに入射する構成の場合
は、集束レンズの出射光は光軸にほぼ平行でなく
てはならず、したがつて走査線長を長くしようと
すれば集束レンズ及び円筒レンズの口径を走査線
長程度に大きくしなければならない。この様な大
口径の集束レンズは非常に高価であり実質的に製
造は困難であるという欠点があつた。
位から走査線に垂直な方向のスポツト運動は、走
査線ピツチの±５％〜±10％程度であることが必
要とされる。このため、回転多面鏡の軸心に対す
る鏡面の平行度誤差および回転軸の偏心誤差の合
計が±数秒以下であることが要請される。±数秒
の平行度誤差は多面鏡の現在の加工技術の限界値
であり、非常に高価な多面鏡となる上、多面鏡の
回転軸の偏心誤差を加算すると許容誤差を越えて
しまう。この様な困難を排除するために、いくつ
かの補正装置が提案されている。それらのうち、
光学的に補正を行なう方法は例えば、特開昭48−
49315及び特開昭48−98844に見られるが、これら
に開示された装置においては、補正用の円筒レン
ズに入射する光ビームは光軸にほぼ平行でなけれ
ばならないという制約がある。これは、円筒レン
ズに光ビームが光軸に対して斜入射すると光ビー
ムによる円筒レンズの切線は円ではなく橢円とな
るために非点収差を生じ、結果として円筒レンズ
の像面の彎曲が生じ集束レンズの像面と一致しな
くなり、したがつて所望の集束径が得られなくな
るためである。このため回転多面鏡の反射ビーム
が直接に円筒レンズに入射する構成の場合は、回
転多面鏡の反射ビームの振れ角は非常に小さくな
り、したがつて走査線長を長くとれないという欠
点があつた。又、回転多面鏡の反射ビームを集束
レンズを介して円筒レンズに入射する構成の場合
は、集束レンズの出射光は光軸にほぼ平行でなく
てはならず、したがつて走査線長を長くしようと
すれば集束レンズ及び円筒レンズの口径を走査線
長程度に大きくしなければならない。この様な大
口径の集束レンズは非常に高価であり実質的に製
造は困難であるという欠点があつた。
この考案の目的は、上述の従来装置の欠点を除
去した、通常容易に得られる安価なレンズの組合
わせで走査線の偏位を光学的に補正する手段を備
え、長尺の走査線長を達成する光ビーム走査装置
を提供することにある。
去した、通常容易に得られる安価なレンズの組合
わせで走査線の偏位を光学的に補正する手段を備
え、長尺の走査線長を達成する光ビーム走査装置
を提供することにある。
この考案によれば、光ビーム発生装置と、入射
する光ビームを受取つて反射する光ビームを走査
的に移動せしめる反射装置と、上記光ビーム発生
装置から入射する光ビームを集束する第一の集束
装置と、上記反射装置の反射点をほぼ入射側焦点
位置として上記反射装置から入射する光ビームに
対してリレー系を構成する第二及び第三の集束装
置と、入射する光ビームを上記反射装置の光ビー
ム走査方向と垂直な方向に集束する一方向集束性
を有する第四の集束装置と、入射する光ビームを
入射角θに対して、走査面上でＫ・θ（Ｋは定
数）の像高の位置に集束する第五の集束装置とを
含み、上記第一の集束装置から入射する光ビーム
を第四の集束装置と第二の集束装置を通過せしめ
て、上記反射装置の反射点上において上記反射装
置の光ビーム走査方向と垂直な方向には集束し上
記反射装置の光ビーム走査方向にはコリメートし
て前記反射装置の反射点に入射するように第一の
集束装置を配置し、上記第四の集束装置を上記第
四の集束装置の光ビーム集束位置が上記第二の集
束装置の光ビーム集束位置と同一位置になる様に
配置し上記反射装置で反射された光ビームを前記
の様に配置された第二の集束装置と、第四の集束
装置と、第三の集束装置と、第五の集束装置を通
過せしめて走査面に集束させることを特徴とする
光ビーム走査装置が得られる。
する光ビームを受取つて反射する光ビームを走査
的に移動せしめる反射装置と、上記光ビーム発生
装置から入射する光ビームを集束する第一の集束
装置と、上記反射装置の反射点をほぼ入射側焦点
位置として上記反射装置から入射する光ビームに
対してリレー系を構成する第二及び第三の集束装
置と、入射する光ビームを上記反射装置の光ビー
ム走査方向と垂直な方向に集束する一方向集束性
を有する第四の集束装置と、入射する光ビームを
入射角θに対して、走査面上でＫ・θ（Ｋは定
数）の像高の位置に集束する第五の集束装置とを
含み、上記第一の集束装置から入射する光ビーム
を第四の集束装置と第二の集束装置を通過せしめ
て、上記反射装置の反射点上において上記反射装
置の光ビーム走査方向と垂直な方向には集束し上
記反射装置の光ビーム走査方向にはコリメートし
て前記反射装置の反射点に入射するように第一の
集束装置を配置し、上記第四の集束装置を上記第
四の集束装置の光ビーム集束位置が上記第二の集
束装置の光ビーム集束位置と同一位置になる様に
配置し上記反射装置で反射された光ビームを前記
の様に配置された第二の集束装置と、第四の集束
装置と、第三の集束装置と、第五の集束装置を通
過せしめて走査面に集束させることを特徴とする
光ビーム走査装置が得られる。
この考案によつて、小口径のレンズの組み合せ
で、走査線の垂直方向の偏位を補正する機能を有
し、かつ長尺の走査線長を走査できる光ビーム走
査装置が得られる。
で、走査線の垂直方向の偏位を補正する機能を有
し、かつ長尺の走査線長を走査できる光ビーム走
査装置が得られる。
次に、図面を参照してこの考案を詳細に説明す
る。
る。
第１図ａ及びｂは各々この考案の光ビーム走査
装置の第一の実施例を示す平面図及び正面図であ
る。図において、光ビーム発生装置１の発生する
光ビームは、第一の集束装置２によつて集束さ
れ、ミラー９で光路を曲げられ、第四の集束装置
６と第二の集束装置４を経て、回転多面鏡３の反
射点上に、回転多面鏡３の光ビーム走査方向には
コリメートし、回転多面鏡３の光ビーム走査方向
に垂直な方向に集束して入射し反射される。回転
多面鏡３により走査的に反射された光ビームは、
回転多面鏡３の反射点に対して、第三の集束装置
５と共にリレー系を構成する第二の集束装置４に
入射し続いて第二の集束装置４の焦点面と同一位
置に焦点面を有し、回転多面鏡３の光ビーム走査
方向と垂直な方向に一方向の集束性を有する第四
の集束装置６を通過し、次いで、第三の集束装置
５によりコリメートされ、第五の集束装置７によ
り、走査面８上に集束し、回転多面鏡３の回転に
伴い走査面８上を走査する。本考案の光ビーム走
査装置においては、第二の集束装置４と第三の集
束装置５とがリレー系を構成しているので、一方
向集束性を有する。例えば円筒レンズである第四
の集束装置６に入射する光ビームは、光軸に平行
であり、像面の彎曲は生じない。又、本考案にお
いては、第五の集束装置７は入射する光ビームを
入射角θに対してＫ・θ（Ｋは定数）の像高の位
置に集束する。いわゆるｆ−θレンズであるが、
テレセントリツクな特性を有する必要がないため
この様な場合は入射位置をｆ−θレンズ入口に接
近させ、又ｆ−θレンズの最大画面の出射ビーム
と光軸のなす角を大きくとることによりｆ−θレ
ンズの口径を小く設計できることが当業者には知
られており、ｆ−θレンズを小口径なものにでき
る。又、リレー系を構成する第二の集束装置４及
び第三の集束装置５の焦点距離を適当に短かくす
ることにより、第四の集束装置６の口径を小さく
できる。第１図ｂの正面図には、光ビーム発生装
置１及び第一の集束装置２は省略してある。第１
図ｂの正面図には、走査線の偏位の補正を説明す
るために、回転多面鏡３の反射面が回転軸に対し
て傾いた場合の光ビームの光路を点線で、又、第
二の集束装置４、第三の集束装置５及び第四の集
束装置６及び第五の集束装置７の位置関係を説明
するために間隔を記入してある。
装置の第一の実施例を示す平面図及び正面図であ
る。図において、光ビーム発生装置１の発生する
光ビームは、第一の集束装置２によつて集束さ
れ、ミラー９で光路を曲げられ、第四の集束装置
６と第二の集束装置４を経て、回転多面鏡３の反
射点上に、回転多面鏡３の光ビーム走査方向には
コリメートし、回転多面鏡３の光ビーム走査方向
に垂直な方向に集束して入射し反射される。回転
多面鏡３により走査的に反射された光ビームは、
回転多面鏡３の反射点に対して、第三の集束装置
５と共にリレー系を構成する第二の集束装置４に
入射し続いて第二の集束装置４の焦点面と同一位
置に焦点面を有し、回転多面鏡３の光ビーム走査
方向と垂直な方向に一方向の集束性を有する第四
の集束装置６を通過し、次いで、第三の集束装置
５によりコリメートされ、第五の集束装置７によ
り、走査面８上に集束し、回転多面鏡３の回転に
伴い走査面８上を走査する。本考案の光ビーム走
査装置においては、第二の集束装置４と第三の集
束装置５とがリレー系を構成しているので、一方
向集束性を有する。例えば円筒レンズである第四
の集束装置６に入射する光ビームは、光軸に平行
であり、像面の彎曲は生じない。又、本考案にお
いては、第五の集束装置７は入射する光ビームを
入射角θに対してＫ・θ（Ｋは定数）の像高の位
置に集束する。いわゆるｆ−θレンズであるが、
テレセントリツクな特性を有する必要がないため
この様な場合は入射位置をｆ−θレンズ入口に接
近させ、又ｆ−θレンズの最大画面の出射ビーム
と光軸のなす角を大きくとることによりｆ−θレ
ンズの口径を小く設計できることが当業者には知
られており、ｆ−θレンズを小口径なものにでき
る。又、リレー系を構成する第二の集束装置４及
び第三の集束装置５の焦点距離を適当に短かくす
ることにより、第四の集束装置６の口径を小さく
できる。第１図ｂの正面図には、光ビーム発生装
置１及び第一の集束装置２は省略してある。第１
図ｂの正面図には、走査線の偏位の補正を説明す
るために、回転多面鏡３の反射面が回転軸に対し
て傾いた場合の光ビームの光路を点線で、又、第
二の集束装置４、第三の集束装置５及び第四の集
束装置６及び第五の集束装置７の位置関係を説明
するために間隔を記入してある。
図において、f2，f3，f4は各々第二の集束装置
４の焦点距離、第三の集束装置５の焦点距離及び
第四の集束装置６の焦点距離を表わす。第１図ｂ
で明らかな様に、回転多面鏡３の反射ビームは、
回転多面鏡３の反射面の傾きによらず、第五の集
束装置７に対して光軸に平行に入射するので、走
査面８上には走査線の偏位は生じない。
４の焦点距離、第三の集束装置５の焦点距離及び
第四の集束装置６の焦点距離を表わす。第１図ｂ
で明らかな様に、回転多面鏡３の反射ビームは、
回転多面鏡３の反射面の傾きによらず、第五の集
束装置７に対して光軸に平行に入射するので、走
査面８上には走査線の偏位は生じない。
第１図ａ，ｂは各々この考案の第一の実施例を
示す平面図及び正面図である。図において、１は
光ビーム発生装置、２は第一の集束装置、３は回
転多面鏡、４は第二の集束装置、５は第三の集束
装置、６は第四の集束装置、７は第五の集束装
置、８は走査面、９はミラーを各々表わす。
示す平面図及び正面図である。図において、１は
光ビーム発生装置、２は第一の集束装置、３は回
転多面鏡、４は第二の集束装置、５は第三の集束
装置、６は第四の集束装置、７は第五の集束装
置、８は走査面、９はミラーを各々表わす。
Claims (1)
- 光ビーム発生装置と、入射する光ビームを受取
つて反射する光ビームを走査的に移動せしめる反
射装置と、上記光ビーム発生装置から入射する光
ビームを集束する第一の集束装置と、上記反射装
置の反射点をほぼ入射側焦点位置として上記反射
装置から入射する光ビームに対してリレー系を構
成する第二及び第三の集束装置と、入射する光ビ
ームを上記反射装置の光ビーム走査方向と垂直な
方向に集束する一方向集束性を有する第四の集束
装置と、入射する光ビームを入射θに対して走査
面上でＫ・θ（Ｋは定数）の像高の位置に集束す
る第五の集束装置とを含み、上記第一の集束装置
から入射する光ビームを第四の集束装置と第二の
集束装置を通過せしめて前記反射装置の反射点上
において上記反射装置の光ビーム走査方向と垂直
な方向には集束し上記反射装置の光ビーム走査方
向にはコリメートして前記反射装置の反射点に入
射するように第一の集束装置を配置し上記第四の
集束装置をその光ビーム集束位置が上記第二の集
束装置の光ビーム集束装置と同一位置になる様に
配置し、上記反射装置で反射された光ビームと前
記の様に配置された第二の集束装置と、第四の集
束装置と、第三の集束装置と、第五の集束装置を
通過せしめて走査面に収束させることを特徴とす
る光ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15952585U JPS6230006Y2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15952585U JPS6230006Y2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61109420U JPS61109420U (ja) | 1986-07-11 |
| JPS6230006Y2 true JPS6230006Y2 (ja) | 1987-08-01 |
Family
ID=30717478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15952585U Expired JPS6230006Y2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6230006Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP15952585U patent/JPS6230006Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61109420U (ja) | 1986-07-11 |
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