JPS62234068A - 新規6,7−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 - Google Patents
新規6,7−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、新規なイソキノリン誘導体及びその製造法に
関するものである。
関するものである。
従来技術
本発明の原料化合物である一般式(■)の化合物として
は、6.7−ジベンジルオキシイソキノリン。
は、6.7−ジベンジルオキシイソキノリン。
6.7−シメトキシイソキノリン等を挙げることができ
るが、その製造方法については、ジャーナルオブジアメ
リカンケミカルソサエティ(Journal of t
he All1erican Chemical 5o
ciety)第79巻。
るが、その製造方法については、ジャーナルオブジアメ
リカンケミカルソサエティ(Journal of t
he All1erican Chemical 5o
ciety)第79巻。
3773頁(1957年)、ジェイケムソックパーキン
(J、Chem、Soc、Perkin)1..218
5頁(1974年)、同2190頁(1974年)など
に記載されている。
(J、Chem、Soc、Perkin)1..218
5頁(1974年)、同2190頁(1974年)など
に記載されている。
本発明化合物は1文献未記載の新規化合物であり、更に
優れた抗菌作用を有するセファロスポリン誘導体の中間
原料として有用である。
優れた抗菌作用を有するセファロスポリン誘導体の中間
原料として有用である。
生豆
本発明は一般式(1)
[式中、Rは水素原子又はアルカノイル基を示す]で表
される新規な化合物、その塩及び該化合物の製造法に関
するものである。
される新規な化合物、その塩及び該化合物の製造法に関
するものである。
次に本明細書に記載された各種記号及び用語について説
明下る。
明下る。
R’は低級アルキル基、アラルキル基、アロイル基、低
級アルコキシカルボニル基、若しくはR’は互いに結合
して環状アセタール、環状ケタール又はカルボネート基
を示し、加水分解若しくは接触還元によって除去可能な
水酸基保護基を意味する。
級アルコキシカルボニル基、若しくはR’は互いに結合
して環状アセタール、環状ケタール又はカルボネート基
を示し、加水分解若しくは接触還元によって除去可能な
水酸基保護基を意味する。
低級アルキル基とは炭素数1〜4のアルキル基を示し、
具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基等が挙
げられ、特に好ましい例としてはメチル基が挙げられる
。
具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基等が挙
げられ、特に好ましい例としてはメチル基が挙げられる
。
アラルキル基とはベンジル基、p−メトキシベンジル基
、フェネチル基等を示す。
、フェネチル基等を示す。
アルカノイル基とは、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基等が挙げられ、特にアセチル基が好ましい。
チリル基等が挙げられ、特にアセチル基が好ましい。
アロイル基とはベンゾイル基、トルオイル基等を示す。
低級アルコキシカルボニル基とは炭素数2〜5のメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボ二ル基、ブトキシカ
ルボニル基、インブトキシカルボニル基等を示し、特に
好ましい例としてはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられる。
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボ二ル基、ブトキシカ
ルボニル基、インブトキシカルボニル基等を示し、特に
好ましい例としてはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられる。
環状アセタールとはメチレンアセタール、エチリデンア
セタール等を示す。
セタール等を示す。
環状ケタールとはイソプロピリデンケタール等を示す。
次に本発明化合物の製造方法を説明する6本発明化合物
は一般式(■) ([I) [式中、R゛は水酸基の保護基(但し、R’がアルカノ
イル基の場合は除く)を示す]で表される化合物、又は
その塩の水酸基の保護基R1を除去し、要すればアシル
化することによって製造することができる。
は一般式(■) ([I) [式中、R゛は水酸基の保護基(但し、R’がアルカノ
イル基の場合は除く)を示す]で表される化合物、又は
その塩の水酸基の保護基R1を除去し、要すればアシル
化することによって製造することができる。
水酸基の保護基の除去方法はワイリイ(Wiley)社
より1981年に発行されたティ ダブリューグリーン
(T、 W、Greens)著のプロテクテイブグルー
プスインオーガニツク シンセシス(Protecti
veGroups in Organic 5ynth
esis)、ブレナムプレス(Plenug+ Pre
ss)社より1973年に発行されたジェイエフダブリ
ューマコミイ−(J、FJ、McOmie)著のプロテ
クティブグルーブスインオーガニツクケミストリ−(P
rotective Groups in Organ
ic Chemistry)などに記載されている方法
に準じて行うことができる。特に好ましい水酸基の保護
基としては、酸加水分解又は接触還元によって容易に除
去できるメチル基、ベンジル基、メチレンアセタール基
、エトキシカルボニル基、カルボネート基が好ましい。
より1981年に発行されたティ ダブリューグリーン
(T、 W、Greens)著のプロテクテイブグルー
プスインオーガニツク シンセシス(Protecti
veGroups in Organic 5ynth
esis)、ブレナムプレス(Plenug+ Pre
ss)社より1973年に発行されたジェイエフダブリ
ューマコミイ−(J、FJ、McOmie)著のプロテ
クティブグルーブスインオーガニツクケミストリ−(P
rotective Groups in Organ
ic Chemistry)などに記載されている方法
に準じて行うことができる。特に好ましい水酸基の保護
基としては、酸加水分解又は接触還元によって容易に除
去できるメチル基、ベンジル基、メチレンアセタール基
、エトキシカルボニル基、カルボネート基が好ましい。
l)酸加水分解による製造方法
一般式(II)の化合物を1〜10倍量、好ましくは、
5−1o倍量の酢酸と3〜10倍量、好ましくは、5〜
10倍量の臭化水素酸の溶液を窒素気流中、80〜12
0℃で、2〜30時間煮沸した後、冷却および/または
濃縮し、次いで要すれば、アシル化することにより本発
明化合物を製造することができる。
5−1o倍量の酢酸と3〜10倍量、好ましくは、5〜
10倍量の臭化水素酸の溶液を窒素気流中、80〜12
0℃で、2〜30時間煮沸した後、冷却および/または
濃縮し、次いで要すれば、アシル化することにより本発
明化合物を製造することができる。
2)迭違111は圭擾’JA’1lxl虹族一般式(I
I)の化合物を水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、イソプロパツール、酢酸、塩酸水溶液、臭化水素
酸水溶液、硫酸水溶液又はこれらの混合溶液に溶解し、
5〜10%パラジウム炭素を一般式(II)の化合物の
5−20%重量、好ましくは5〜10%重量用い、反応
温度20〜80℃反応時間2〜10時間接触還元し、要
すればアシル化することにより本発明化合物を製造する
ことができる。
I)の化合物を水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、イソプロパツール、酢酸、塩酸水溶液、臭化水素
酸水溶液、硫酸水溶液又はこれらの混合溶液に溶解し、
5〜10%パラジウム炭素を一般式(II)の化合物の
5−20%重量、好ましくは5〜10%重量用い、反応
温度20〜80℃反応時間2〜10時間接触還元し、要
すればアシル化することにより本発明化合物を製造する
ことができる。
上記アシル化反応は、酸加水分解又は接触還元による生
成物(6,7−シヒドロキシイソキノリン又はその塩)
を単離するか若しくは単離することなくそのまま行うこ
とができる。
成物(6,7−シヒドロキシイソキノリン又はその塩)
を単離するか若しくは単離することなくそのまま行うこ
とができる。
該アシル化反応は、6.7−シヒドロキシイソキノリン
又はその塩を必要に応゛じて反応に悪影響を及ぼさない
溶媒例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等の溶媒中、触媒量
若しくは過剰のルイス酸の存在下に、過剰のカルボン酸
無水物を反応温度10〜80℃で0.5〜48時間行う
、或いはアセトン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド又はこれらの混合溶媒中、2〜3当
量の脱酸剤の存在下に、2〜2.5当量のカルボン酸ハ
ロゲン化物又はカルボン酸無水物を反応温度0〜50℃
で0.5〜10時間行う。
又はその塩を必要に応゛じて反応に悪影響を及ぼさない
溶媒例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等の溶媒中、触媒量
若しくは過剰のルイス酸の存在下に、過剰のカルボン酸
無水物を反応温度10〜80℃で0.5〜48時間行う
、或いはアセトン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド又はこれらの混合溶媒中、2〜3当
量の脱酸剤の存在下に、2〜2.5当量のカルボン酸ハ
ロゲン化物又はカルボン酸無水物を反応温度0〜50℃
で0.5〜10時間行う。
反応終了後、反応液から本発明化合物N)又はその塩を
単all製するには、溶媒抽出、再結晶、クロマトグラ
フィー等公知の分離手段により行うことができる。
単all製するには、溶媒抽出、再結晶、クロマトグラ
フィー等公知の分離手段により行うことができる。
ルイス酸としては、例えばトリフルオロ酢酸。
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、硫
酸、三フッ化ホウ素等が挙げられる。
酸、三フッ化ホウ素等が挙げられる。
脱酸剤としては1例えば炭酸水素ナトリウム。
炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸
化マグネシウム等のアルカリ金属塩、トリエチルアミン
、エチルジイソプロピルアミン、N−メチルモルホリン
、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン等の有機アミン
が挙げられる。
化マグネシウム等のアルカリ金属塩、トリエチルアミン
、エチルジイソプロピルアミン、N−メチルモルホリン
、ピリジン、N、N−ジメチルアニリン等の有機アミン
が挙げられる。
カルボン酸無水物としては無水酢酸、無水プロピオン酸
、無水ブチリル酸が挙げられる。
、無水ブチリル酸が挙げられる。
カルボン酸、ハロゲン化物としては、塩化アセチル、塩
化プロピオニル、塩化ブチリルが挙げられる。
化プロピオニル、塩化ブチリルが挙げられる。
本発明化合物は常法により酢酸塩、塩酸塩、臭化水素酸
塩、確酸塩、硝酸塩及び過塩素酸塩等の無機酸塩、又メ
タンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有機
スルホン酸塩等とすることができる。
塩、確酸塩、硝酸塩及び過塩素酸塩等の無機酸塩、又メ
タンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有機
スルホン酸塩等とすることができる。
尚、一般式(■)の化合物は、ジャーナルオブジアメリ
カン、ケミカルソサエティ(Journal ofth
e American Cbesical 5ocie
ty)79巻、3773頁(1957年)、同2190
頁(1974年)等に記載の方法に準じて製造すること
ができる。
カン、ケミカルソサエティ(Journal ofth
e American Cbesical 5ocie
ty)79巻、3773頁(1957年)、同2190
頁(1974年)等に記載の方法に準じて製造すること
ができる。
次に実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例
実施例1
6.7−シヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・1
水和物の製造 (A)3.4−ジベンジルオキシベンズアルデヒド73
g(0,23モル)をベンゼン500酩に溶解し、アミ
ノアセトアルデヒドジエチルアセタール25d(0,2
3モル)を加え、5時間還流攪拌して生成する水を分離
除去する1反応溶液を減圧上濃縮して、2−[N−(3
,4−ジベンジルオキシベンジリデン)アミノコアセト
アルデヒドジエチルアセタールの残渣を得る。二の残渣
をメタノール700dに溶解し、室温で水素化ホウ素ナ
トリウム6.0g(0,16モル)を加え、15分間攪
拌する1反応溶液を減圧上濃縮し、残渣を酢酸エチルに
溶解した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下amし、2−[N−(3,4−ジベン
ジルオキシベンジル)アミノコアセトアルデヒドジエチ
ルアセタールの残渣を得る。この残渣を乾燥テトラヒド
ロフラン600dに溶解し。
水和物の製造 (A)3.4−ジベンジルオキシベンズアルデヒド73
g(0,23モル)をベンゼン500酩に溶解し、アミ
ノアセトアルデヒドジエチルアセタール25d(0,2
3モル)を加え、5時間還流攪拌して生成する水を分離
除去する1反応溶液を減圧上濃縮して、2−[N−(3
,4−ジベンジルオキシベンジリデン)アミノコアセト
アルデヒドジエチルアセタールの残渣を得る。二の残渣
をメタノール700dに溶解し、室温で水素化ホウ素ナ
トリウム6.0g(0,16モル)を加え、15分間攪
拌する1反応溶液を減圧上濃縮し、残渣を酢酸エチルに
溶解した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下amし、2−[N−(3,4−ジベン
ジルオキシベンジル)アミノコアセトアルデヒドジエチ
ルアセタールの残渣を得る。この残渣を乾燥テトラヒド
ロフラン600dに溶解し。
p−トルエンスルホニルクロライド39.8g(0,2
1モル)及びトリエチルアミン5M(0,42モル)を
加え、室温で17.5時間攪拌する。反応溶液を減圧下
e4縮し、残渣を酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫呻ナトリウムで脱水後、減圧上
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
10%酢酸エチル・ヘキサン)に付し、2−[:N−p
−トリルスルホニル−N−(3,4−ジベンジルオキシ
ベンジル)アミノコアセトアルデヒドジエチルアセター
ル70g(収率54.3%)を得る。
1モル)及びトリエチルアミン5M(0,42モル)を
加え、室温で17.5時間攪拌する。反応溶液を減圧下
e4縮し、残渣を酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫呻ナトリウムで脱水後、減圧上
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
10%酢酸エチル・ヘキサン)に付し、2−[:N−p
−トリルスルホニル−N−(3,4−ジベンジルオキシ
ベンジル)アミノコアセトアルデヒドジエチルアセター
ル70g(収率54.3%)を得る。
m、p、75℃
T R(KBr)cffl:1600,1520,14
60,1340,1250゜1160.113O N M R(DMSO−d、 )δ:1.0O(6H,
t、J=7.5Hz)。
60,1340,1250゜1160.113O N M R(DMSO−d、 )δ:1.0O(6H,
t、J=7.5Hz)。
2.35(3H,s)、3.07(2H,d、、l’6
Hz)、3.20−3.60(4H,m)、4.32(
2H,s)、4.35(LH,d。
Hz)、3.20−3.60(4H,m)、4.32(
2H,s)、4.35(LH,d。
J=6Hz)、4.90(2H,s)、5.08(2H
,s)。
,s)。
6.60−7.80(17+1.m)
(B)上記(A)で得た化合物22.1g(39ミリモ
ル)をジオキサン300或に溶解し、6N=塩酸28威
を加えた後、窒素雰囲気暗所下で5.5時間還流攪拌す
る。反応溶液を20%水酸化ナトリウム水溶液でpF[
10,oに調整し、減圧下濃縮後、残渣を酢酸エチルで
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで脱水後、減圧下a縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(2%メタノール・クロロホル
ム)で精製することにより6,7−ジペンジルオキシイ
ソキノリン8.6g(収率64%)を得る。
ル)をジオキサン300或に溶解し、6N=塩酸28威
を加えた後、窒素雰囲気暗所下で5.5時間還流攪拌す
る。反応溶液を20%水酸化ナトリウム水溶液でpF[
10,oに調整し、減圧下濃縮後、残渣を酢酸エチルで
抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで脱水後、減圧下a縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(2%メタノール・クロロホル
ム)で精製することにより6,7−ジペンジルオキシイ
ソキノリン8.6g(収率64%)を得る。
m、p、97℃
I R(KBr)cffl:1620,1580,15
00,1240,1140゜00O N M R(DMSO−d、 ) 6 :5.30(4
H,s)、7.25−7.80(13H,+n)、8.
30(IH,d、J=6Hz)、9.02(Ill、5
)(C)上記(B)で得た化合物7:8g(23ミリモ
ル)をメタノール150d及び40%臭化水素酸1.7
mθの混合液に溶解し、10%パラジウム炭素触媒1,
5gを加え、水素雰囲気下、50〜60℃で7.5時間
攪拌する。反応溶液を濾過し、濾液を減圧上濃縮する。
00,1240,1140゜00O N M R(DMSO−d、 ) 6 :5.30(4
H,s)、7.25−7.80(13H,+n)、8.
30(IH,d、J=6Hz)、9.02(Ill、5
)(C)上記(B)で得た化合物7:8g(23ミリモ
ル)をメタノール150d及び40%臭化水素酸1.7
mθの混合液に溶解し、10%パラジウム炭素触媒1,
5gを加え、水素雰囲気下、50〜60℃で7.5時間
攪拌する。反応溶液を濾過し、濾液を減圧上濃縮する。
残渣をN−臭化水素酸水溶液より再結晶して、標記化合
物4.75g(収率79.4%)を得る。
物4.75g(収率79.4%)を得る。
頂、p、205℃
I R(KBr)a?I:1630,1610,152
0.14B0,1430゜30O N M R(DMSO−d、 )δニア、50(IH,
s)、7.70(l)I、s)。
0.14B0,1430゜30O N M R(DMSO−d、 )δニア、50(IH,
s)、7.70(l)I、s)。
8.10(11(、ABq、J=6Hz)、8.30(
IH,ABq、J=6Hz)9.42(IH,5) CsHtNO,−HB r ” H,Oとしての元素
桁値CHN Br 計算値 41.56 3.88 5.39 30.72
実測値 41.51 3.85 5.24 30.10
実施例2 6.7−シヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・1
水和物の製造 61,7−シメトキシイソキノリン1.9g(10ミリ
モル)を酢酸15或及び40%臭化水素酸15或の混合
液に溶解し、窒素雰囲気下、24時間還流攪拌する6反
応溶液を減圧上濃縮し、残渣をト臭化水素酸水溶液より
再結晶して、標記化合物2.3g(収率88゜4%)を
得る。水晶の融点、赤外吸収スペクトル及び核磁気共鳴
スペクトルは実施例1の化合物に一致する。
IH,ABq、J=6Hz)9.42(IH,5) CsHtNO,−HB r ” H,Oとしての元素
桁値CHN Br 計算値 41.56 3.88 5.39 30.72
実測値 41.51 3.85 5.24 30.10
実施例2 6.7−シヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・1
水和物の製造 61,7−シメトキシイソキノリン1.9g(10ミリ
モル)を酢酸15或及び40%臭化水素酸15或の混合
液に溶解し、窒素雰囲気下、24時間還流攪拌する6反
応溶液を減圧上濃縮し、残渣をト臭化水素酸水溶液より
再結晶して、標記化合物2.3g(収率88゜4%)を
得る。水晶の融点、赤外吸収スペクトル及び核磁気共鳴
スペクトルは実施例1の化合物に一致する。
実施例3
6.7−ジアセドキシイソキノリンの製造6.7−ジア
セドキシイソキノリン・臭化水素酸・l水和物500m
g(1、9ミリモル)をトリフルオロ酢酸lO−に懸濁
し、室温で無水酢酸2.0d(21ミリモル)を加え、
同温度で24時間攪拌する0反応溶液を減圧下にa縮し
、残渣に水及び酢酸エチルを加えた後、水層を5%炭酸
水素ナトリウム水溶液でpH8,0に調整し、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下に濃縮して、標記化合
物440a+g(収率93゜4%)を得る。
セドキシイソキノリン・臭化水素酸・l水和物500m
g(1、9ミリモル)をトリフルオロ酢酸lO−に懸濁
し、室温で無水酢酸2.0d(21ミリモル)を加え、
同温度で24時間攪拌する0反応溶液を減圧下にa縮し
、残渣に水及び酢酸エチルを加えた後、水層を5%炭酸
水素ナトリウム水溶液でpH8,0に調整し、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下に濃縮して、標記化合
物440a+g(収率93゜4%)を得る。
I R(KBr)aW :1770.1620.150
0.1460.1380゜20O N M R(1)MSO−d、 ’)δ:2.39(6
H,s)、7.85(IH,d。
0.1460.1380゜20O N M R(1)MSO−d、 ’)δ:2.39(6
H,s)、7.85(IH,d。
J=6.0Hz)、7.90(IH,s)、8.05(
In、s)、8.53(IH,d、J=6.0Hz)、
9.30(Ill、s)発明の効果 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、更にセ
フェム核の3位に6,7−シヒドロキシイソキノリニウ
ムメチル基、又は6.7−ジアセドキシイソキノリニウ
ムメチル基等の6.7−ジアルカノイルオキシイソキノ
リウムメチル基を有する下記式[式中、Rは水素原子又
はアルカノイル基及びR″はアシル基を示す]で表され
るセファロスポリン誘導体は、イソキノリン核が無置換
又はモノヒドロキシ置換の化合物と比較して、ダラム陰
性菌、特にシュードモナスエルギノーサ(Pseudo
monasaeruginosa)、シュードモナスセ
パシア(Pseudomonas cepacia)及
びアシネトバクタ−カルコアセティカス(Acinet
obacter calcoaceticus)などの
ブドウ糖非発酵ダラム陰性桿菌(glucose no
n−fermentative gram−negat
ive rods)に対し、抗菌力が著しく強力である
ことを見出しているが、本発明化合物は、その中間原料
として有用な化合物である。
In、s)、8.53(IH,d、J=6.0Hz)、
9.30(Ill、s)発明の効果 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、更にセ
フェム核の3位に6,7−シヒドロキシイソキノリニウ
ムメチル基、又は6.7−ジアセドキシイソキノリニウ
ムメチル基等の6.7−ジアルカノイルオキシイソキノ
リウムメチル基を有する下記式[式中、Rは水素原子又
はアルカノイル基及びR″はアシル基を示す]で表され
るセファロスポリン誘導体は、イソキノリン核が無置換
又はモノヒドロキシ置換の化合物と比較して、ダラム陰
性菌、特にシュードモナスエルギノーサ(Pseudo
monasaeruginosa)、シュードモナスセ
パシア(Pseudomonas cepacia)及
びアシネトバクタ−カルコアセティカス(Acinet
obacter calcoaceticus)などの
ブドウ糖非発酵ダラム陰性桿菌(glucose no
n−fermentative gram−negat
ive rods)に対し、抗菌力が著しく強力である
ことを見出しているが、本発明化合物は、その中間原料
として有用な化合物である。
Claims (2)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子又はアルカノイル基を示す]で表
される化合物又はその塩。 - (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1は水酸基の保護基(但し、R^1がアル
カノイル基の場合は除く)を示す]で表される化合物又
はその塩の水酸基の保護基を除去し、次いで要すれば、
アシル化することを特徴とする 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、Rは水素原子又はアルカノイル基を示す]で表
される化合物又はその塩の製造法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61269804A JPH0749420B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 新規6,7−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
EP87103970A EP0238060B1 (en) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
CA000532358A CA1296012C (en) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | 6,7-dihydroxy-isoquinoline derivatives |
AT87103970T ATE71384T1 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und antibakterielle mittel. |
DE8787103970T DE3775798D1 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und antibakterielle mittel. |
KR1019870002518A KR950001027B1 (ko) | 1986-03-19 | 1987-03-19 | 세팔로스포린 유도체의 제조 방법 |
US07/029,903 US4782155A (en) | 1986-03-19 | 1987-03-25 | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
KR1019940029965A KR950004702B1 (ko) | 1986-03-19 | 1994-11-15 | 이소퀴놀린 유도체의 제조방법 |
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JP61269804A JPH0749420B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 新規6,7−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
Related Parent Applications (1)
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Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61269804A Expired - Lifetime JPH0749420B2 (ja) | 1986-03-19 | 1986-11-14 | 新規6,7−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH0749420B2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP61269804A patent/JPH0749420B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
EXPERIENTIA=1977 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0749420B2 (ja) | 1995-05-31 |
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