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JPS62188919A - レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 - Google Patents

レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置

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Publication number
JPS62188919A
JPS62188919A JP22576485A JP22576485A JPS62188919A JP S62188919 A JPS62188919 A JP S62188919A JP 22576485 A JP22576485 A JP 22576485A JP 22576485 A JP22576485 A JP 22576485A JP S62188919 A JPS62188919 A JP S62188919A
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light
test sample
pulse
oscillator
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JP22576485A
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Takaharu Koga
古賀 隆治
Katsusuke Mizuno
水野 克輔
Koichi Sakai
弘一 酒井
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Osaka Oxygen Industries Ltd
Okayama University NUC
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Osaka Oxygen Industries Ltd
Okayama University NUC
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Publication date
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/71Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
    • G01N21/718Laser microanalysis, i.e. with formation of sample plasma

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  • Pathology (AREA)
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  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザ多段励起直接発光分析方法及び装置に
関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする問題点従来の発
光分光分析方法は、C,P、S、A、s。
Sn等の分析をする場合、真空分光器を用いて、波長が
200nm以下の真空紫外域の発光スペクトル金光検出
器でとらえていた。真空紫外域の光は空気等のガスによ
って吸収される。それがため従来の発光分析装置では、
励起発光装置と分光分析装置とを一体化しなければ々ら
なかった。一般に分光分析装置では、分析の精度を上昇
させるために清浄な室内に設置しなければならない。そ
のため励起発光装置と分光分析装置とが一体となってい
る従来の発光分析装置を作業現場等に設置してリアルタ
イムでその場分析を行なうことはできなかった。
このため、本発明者は広範な研究をおこない、レーザパ
ルスの多段励起によって、被検試料を蒸発・励起すれば
、標的分析元素の発光線スペクトル光のうち200 n
m以上の長波長成分を特に強く発光させることができる
ことを発見し、本発明に至った。
本発明の構成 本発明の第1番目の発明は、第1のレーザ発振器からの
第1のレーザパルスを被検試料上に集光して被検試料を
励起し、次いでQ、1nsから1゜μθ後に第2発振器
からの第2のレーザパルスを第1のレーザパルスと同一
光軸で被検試料の同一位置に集光するか又は第1のレー
ザパルスの光軸と平行又はほぼ平行な光軸で第1のレー
ザ光パルスの被検試料上への集光位置の極近傍の位置に
集光し、さらに被検試料を励起し、波長200nm以上
の発光線スペクトル光を反射鏡、レンズ、および/また
は光ファイバー等の手段により分光分析器に導き、分光
分析することからなるレーザ多段励起直接発光分析方法
に関する。
本発明の第2番目の発明は分光分析器、第1のレーザ発
振器電気的遅延装置に連結した第2のレーザ発振器を固
定し、前記第1のレーザ発振器の出射口近傍に必要に応
じて光路変更のためのプリズムおよび/または誘電体多
層膜鏡を固定し7.2つのレーザ発振器からのレーザビ
ームを重ねるため第1のレーザビーム上に波長板および
第2のレーザビームを曲げるだめの偏光ビームスプリッ
タ−を設けるか、又は2つのレーザビームを近接してイ
行又はほぼ平行になるように第2のレーザビーム用のレ
ーザ光反射鏡を設け、2つのレーザビーム中に集光レン
ズを固定し、被検試料からの発光線スペクトルを分光分
析器に伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光
ファイバー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分
析装置に関する。
本発明の第3番目の発明は、第2番目の発明において第
1のレーザ発振器と電気的遅延装置に連結しまた第2の
レーザ発振器とを位置的に逆にした場合の態様である。
本発明の発光装置の原理について説明する。
本発明のレーザ多段励起直接発光分析装置は、被検試料
にレーザ光パルスを二発集光し目的分析元素種類に対応
した200 nm以上の長波長の固有線スペクトル光の
光強度を従来より強め、検出感度及び精度を向上させる
方法を用いている。
被検試料を発光させるために、捷ずt・−ザパルスを1
発、被検試料上に集光する。すると、被検試料」、にプ
ラズマができる。このプラズマは、レーザパルスのエネ
ルギーによ!フ被検試料の含有元素の原子が励起されて
できたものであり、レーザパルスが被検試料に集光され
てから数nθから数十neの時間をおいて各々の元素固
有の線スペクトル光を発光する。その発光の時間的変化
を第1図に示す。第1図は、横軸に時間をとり縦軸に発
光強度をとったものである。この図は、本発明にかかる
研究過程で得られたものであり、鉄(Fe)の線スペク
トル光の位置である259.3nmの波長で100 m
JのQスイッチRUBYレーザ光を焦点距離50龍の溶
融石英製のレンズによシ低炭素鋼に集光し、てできたプ
ラズマを分光分析したものを模式的にあられしたもので
ある。
発光の過程は、レーザ光パルスが被検試料にあたってか
ら、30n6から4μs程度の時間、連続スペクトル光
を放射する。固有線スペクトル光は、数十n8の時間を
おいてから放射される。固有線スペクトル光の発光時間
は、元素の種類及び元素の含有量および個々の固有線ス
ペクトル光によって異る。通常のレーザ励起の発光分析
では、測光装置、例えば光電子増倍管によりこの固有線
スペクトル光強度を測光し、元素の濃度を分析する。こ
の発光過程から本発明者らは、レーザ光が被検試料に当
ってから固有線スペクトル光が出てくるまでの時間に原
子がどのように励起されていくのか、広範な研究を、お
こない、各々の元素の固有線スペクトル光のうち長波長
成分の強度を強める方法を発明した。
固有線スペクトル光の発光現象は、励起された原子のエ
ネルギー状態の変化によっておこり、電子の軌道間の遷
移の確率の高いものが、そのエネルギ一単位間の差に相
当する波長の光を放出する。
また、固有線スペクトル光の強度は個々のエネルギー準
位間にある原子の数に比例し、当該準位により多くの原
子を励起できれば、発光強度は強くなる。
本発明は、この理論にのつとシレーザ光、6ルスを1発
被検試料に集光し、できた試料雲にもう一度レーザ光パ
ルスを集光し効率の良い励起を行ない長波長にある固有
線スペクトル光に対応する励起状態の原子の存在確率を
増加せしめより発光しやすい条件をつくり、また、より
多くの原子を励起し発光強度を強め、検出感度、精度を
向上させた。
本発明のレーザ多段励起直接発光分析装置において、分
光分析器は従来公知のものを使用する。
分光分析器は光検出器例えば光電子増倍管および/また
はホトダイオード9アレイなどの多チャンネル光検出器
を備えている分光器と例えば光検出器からの電気信号の
増幅器、電気信号処理装置、光検出器からのデータを計
算処理し、濃度値を出力するコンピュータを備えている
ものを含む。しかし分光分析器は200 nm以上の波
長の発光スイクトルを分析するものであればどのような
ものでも使用できる。本発明では200 nm以上の長
波長の光を分析するため、分光器は、真空装置を備えて
いなくてもよく、光検出器も従来より長波長に感度のあ
るものを使用できる。
レーザ発振器は、レーザ光の発振部分であり、レーザに
電力を供給する電源部分は、外部に備えつけ、電気ケー
ブルによってレーザ発振器に供給してもよい。発振周期
は1発/分〜100 Kppsである。レーザ光パルス
は、半値半幅で1μθec以下、 10 mJ/ pu
lse以上のエネルギーが必要であり、波長はなるべく
固有線スにクトル光の波長から離れているものを使用す
る。2台のレーザ装置は、同じ波長のものでなくてもよ
い。またレーザ光パルスのエネルギーもおなしでなくて
もよい。
電気的遅延回路は、0.1nsから10n8程度まで、
任意にレーザの発振を遅らせ、励起する効率を目的分析
元素によって変化させ、より効率を向上させる。
2台のレーザ発振器からのレーザ光パルスt[−の被検
試料の同−箇所又はほぼ同一箇所に集光させるためには
、どちらか一方のレーザ光光軸にもう一方のレーザ光・
々ルスの光軸を合わせる方法と2つの光軸を近接平行に
し、被検試料に集光する2方法がある。前者の方法の一
例として、直線偏波のレーザ光パルスを1/2波長板に
入射させ偏波方向を変更し、2方向からの直線偏波のレ
ーザ光パルスを同一光軸上を通過するように、2方向か
らの光軸の交点に偏光ビームスプリッタ−をおき、一方
のレーザ光パルスを透過し、もう一方のレーザ光パルス
を反射させて光軸を合わせる方法がある。後者の方法と
して、2つの光軸のレーザ光パルスをレーザ反射鏡を用
いて、殆ど同軸とみなせるくらい近接、平行させ、被検
試料上に集光する方法がある。レーザ光パルスの反射鏡
、およびレンズは、レーザ光パルスの波長、単一パルス
あたりの光エネルギー量を考え、材質等を決めなくては
ならない。
励起されてできたプラズマからの光を分光分析器まで導
くのは、紫外域に高い透過効率を有する光ファイバーを
用いてもよい。
このレーザ多段励起直接発光分析装置を例えば、鉄鋼精
練現場の工程管理分析に応用する場合、従来、溶融被検
試料をサンプリング・冷却固化し、分析室へ搬送し、ス
パーク放電励起により固有線スペクトル光を分析してい
た方法に代わり、鉄鋼精練現場にレーザ発振器を備え励
起・発光を鉄鋼精練現場でおこない得られるプラズマ光
を光ファイバーにより分析室に伝送し分析室で清浄状態
で保持されている分光分析器によって目的元素の濃度を
算出し現場の精練処理を行なうことができる。
連続分析の可能性も非常に高いと考えられる。
また、非接触で分析ができること、および遠距離から分
析をおこなえることが非常に重要なことである。又各現
場に励起発光装置を数台を設置し、その数台の励起発光
装置からの発光スペクトルを清浄な室内に設置し1台の
分光分析器で分析できる。
本発明ではさらに1台又は数台のレーザ発振器を設置し
て、第2のレーザパルスで集光後、0]ns〜10μs
後にさらに1又は2以上のレーザパルスを被検試料の同
一位置に集光させてもよい。
本発明の装置を図面により説明する。
第2図は、レーザ多段励起直接発光分析装置のフローシ
ートである。
lは、第1のレーザ発振器、1′は第2のレーザ発振器
、2は分光器、3は光検出器、4は増幅器、5は電気信
号処理装置、6は電子制御器、7はレーザのコントロー
ラ、8は電気的遅延装置、9はプリズム、10は1/2
波長板、11は偏光ビームスプリッタ−112は集光レ
ンズ、13は被検試料、14は光ファイバー、15は光
フアイバー集光レンズ、16はレーザ電源、18はレー
ザ発振器である。
このうち、2の分光器、3の光検出器、4の増幅器、5
の電気信号処理装置、6の電子制御器が分光分析器を構
成している。分光分析器としてこのような5つの部分か
ら構成されることは必要の要件ではなく、他の分光分析
器も使用できる。
第2図において第1のレーザ発振器の位置に電気的遅延
装置8に連結した第2のレーザ発振器を設け、第2のレ
ーザ発振器の位置に第1のレーザ発振器を設け、第2の
レーザ発振器からの第2のレーザパルスを1/2波長板
10を通し、第1のレーザ発振器からの第1のレーザパ
ルスを偏光ビームスプリッタ−11により、屈曲させて
もよい。
横型のレーザ発振器を図示したが縦型レーザ発振器を使
用できる。このような装置で発光分析を行なう場合、2
つのレーザパルスの焦点位置に被検試料13を置き、2
つのレーザ発振器からのレーザパルスを時間的間隔を置
いて被検試料13上に集光させ、その試料を励起させ、
その発光スペクトルを光ファイバー14で分光分析器に
導き、分析を行なう。
第3図は、レーザ多段励起直接発光分析装置の別の態様
例である。17はレーザ光反射鏡である。
この第3図に示す態様では2つのレーザ光の光軸を近接
して平行又はほぼ平行になるように第2のレーザ用のレ
ーザ光反射光を設けた例である。
第4図は、レーザ多段励起直接発光分析装置の別の態様
例である。19は現場、20は光学台である。
第4図において点線から左側の部分は現場に設置し、点
線から右側の部分は清浄な室に設置できる。
第2図において6のコンピューターから1のレーザ発振
器のコントローラーと18のレーザ発振器に発射の信号
゛が伝送される。すると、1のレーザ発振器からレーザ
光パルスが発射される。18のレーザ発振器は8の遅延
回路により所定の時間遅延された後発射される。1のレ
ーザ発振器から発射されたレーザ光パルスによって13
の被検試料は励起されプラズマ状態となる。その瞬間、
あるいは、蒸気状態の瞬間、18のレーザ発振器から発
射され7’c L/ −サ光パルスが蒸気状あるいはプ
ラズマ状の試料に集光され、より高密度なプラズマが被
検試料上にできる。
プラズマから放射される光は、15の光フアイバー集光
レンズによって効率よ<14の光ファイバーに取り込め
られ、2の分光器まで伝送される。その後、2の分光器
によシ波長別に分光され長波長の固有線スペクトル光の
位置に精密におかれた3の光検出器によって線ス深りト
ル光が検出され、光電変換され4の増幅器を経由し、5
の電気信号処理装置によってサンプルホールド、アナロ
グ−デジタル変換をおこない、6のコンピュータとのデ
ータ転送のための制御をおこない、6のコンピュータに
取シ込まれる。6のコンピュータでは、とりこまれたデ
ータの演算処理が行なわれ、濃度計算値が出力される。
また、第1図の態様例では2台のレーザ発振器からのレ
ーザ光パルスを130被検試料上の同一箇所に集光する
ために1のレーザ発振器は直線偏波のレーザ光パルスを
出力するものとし、この偏波面を1/2波長板によって
回転し偏光ビームスプリッタ−を透過させ、18のレー
ザ発振器からのレーザ光パルスは、偏光ビームスプリッ
タ−によシ反射され、光軸を同一として被検試料に集光
させる構造である。
第3図は、2台のレーザ発振器からのレーザ光パルスを
13の被検試料上の同一箇所に集光するために18のレ
ーザ発振器からのレーザ光パルスを17のレーザ反射鏡
によって反射させ、1のレーザ発振器の光軸に近接平行
させて13の被検試料に集光させる構造である。
第4図は、現場の工程管理分析にレーザ多段励起発光分
析装置を使用するときの態様例である。
lおよび18のレーザ発振器、9のプリズム、10の1
/2波長板および11の偏光ビームスプリッタ−を、現
場の環境に対応した構造の20の光学台に固定し、従来
の分析室には、7のレーザのコントローラー、16のレ
ーザ電源、2,3,4.6.8からなる分光分析器を備
え、13の被検試料および20の光学台は、現場に備え
つけておく。固有線スペクトル光の2の分光器までの伝
送は14の光ファイバーによっておこ力い、高精度な分
光分析を容易に行なうことができる。
本発明における被検試料は固体、液体または気体の状態
であっても良い。又被検試料が溶融金属である場合第5
〜6図に示すような消耗型サンプリングプローブを用い
る。そのサンプリングプローブは、下端閉鎖型の筒状を
々しており、それの下端又は下端近くの壁面に溶融金属
取入口を設け、そのプローブが測定すべき溶融金属のス
ラグ層を通過する間、その溶融スラグが、その取入口か
らプローブの中に入らないような構成を有している。
第5図は消耗型サンプリングプローブの一態様例を示す
113は紙管、125は溶融金属取出口、131はその
取出口に取付けた溶融金属の温度で溶融又は燃焼する金
属板、130は鉄、セラミック又はシェルモールド製の
鋳型、128は溶融金属温度測定センサー、溶融金属中
の含有酸素量測定センサー又は測温と酸素量測定を兼ね
るセンサー、129はり−)’線、126はメス型のコ
ネクター、114はレベルセンサーである。
第6図K、消耗型サンプリングプローブの構造の別の態
様例を示す。
第6図は、外側に材質を紙製または鉄製の円筒管113
を配置し、その内部に砂あるいは鉄の型130を固定し
、型の表面の下部に、金属のコーティングをほどこし、
鋳型下部側面に、溶融金属取入口125を有し、スラグ
遮蔽板131を取入口に取シ付け、型上部に1メス型コ
ネクタを有し、その下部、壁面にガス排出口135を有
し、下端部は、耐火セメント136によって閉鎖してい
る。
発明の効果 第1表にレーザ多段励起直接発光分析装置及び方法によ
る実験結果を記載する。この表は、固有線メイクトル光
(以下、Sとする)の時間積分強度を分子に、連続光成
分(以下、Bとする)の時間積分強度を分母にとり、レ
ーザ光パルス単発の場合とレーザ光、2ルスが二元の場
合について値S/Bにより波長300nmyの線スペク
トルの検出感度の違いを比較したものである。値S/B
は、大きいほど検出感度が高いことになり、検出感度を
比較するときの目安となる。
第5図から、レーザ光パルス単発の時のS/Bとレーザ
光パルスが二元の時のS/Bを比較するとレーザ光・ξ
ルスが二元の時の方が3倍から10倍はどS/Bが大き
い。これは、すなわち、従来のレーザ光パルス単発の方
法よりレーザ光パルス二元の方法が分析感度の改善に効
果があることを表すものである。
このように、レーザ多段励起直接発光分析装置及び方法
を利用すれば、発光量の少なかった長波長の固有線スペ
クトル光を強めて分析に供することができる。
第5図の実験結果は、波長1.06μm、パルス幅12
n日、パルスエネルギー850 mJの直線偏波のNa
:YAG レーザ発振器を第1段目のレーザ発振器とし
、波長106μm、パルス幅15 n Bb ’ξルス
エネルギー500 mJの直線偏波のNa:YAGレー
ザ発振器を第2段目のレーザ発振器とl〜、低炭素鋼、
溶融はんだ、ニッケル系ステンレス鋼、全被検試料とし
、第1段目のレーザ光パルスを被検試料上に集光してか
ら40nθ後に第2段目のレーザ光パルスを被検試料上
に集光し、集光してできだプラズマからの光を紫外光用
光ファイバーで、Czerny−Turner型の1m
常圧分光器に伝送、分光した後、光検出器である光電子
増倍管にて光電変換し、増幅し電気的処理装置にて積分
操作などをしたのち、コンぎユータにより演算し出力し
たものである。
固有線スはりトル光の値Sは、固有線スRりトル光のあ
る波長の光の強度から、固有線スペクトル光のない波長
の光の強度を差し引いたものであり、連続光の値Bは、
固有線スペクトル光のない波長におけるの光の強度とし
て求めたものである1、但、分光器の出射スリット幅を
一定と考えている。
以上のことから、本発明のレーザ多段励起直接発光分析
装置によυ300 nm以上の長波長の固有線メイクト
ル光を強く発光させ、長波長の固有線スハクトル光によ
る分光分析を可能にした。これにより、分光分析器の光
学系装置の簡略化および、メンテナンスの簡略化をはか
り1分析時間をほとんど極限まで短くすることができた
第  1  表
【図面の簡単な説明】
第1図はレーザパルスが被検試料に集光された際のその
発光量の時間的変化を示すグラフである。 第2図乃至第4図は本発明の好ましい装置のフローシー
トである。 第5図乃至第6図はサンプリングプローブの概略図であ
る。 (外5名) 時間[μS] 第2図 第3図 第4図 手続補正書 昭和60年11月/を日 2、発明の名称 レーザ多段励起直接発光分析方法及び装置6、補正をす
る者 事件との関係  特許出願人 住所 名称 岡山大学長 住所 名称 大阪酸累工業株式会社 4、代理人 5、補正の対象 明細書の〔特許請求の範囲〕と〔発明の詳細な説明〕の
欄(別 紙) (1)  特許請求の範囲を次のように訂正する。 「(1)第1のレーザ発振器からの第1のレーザパルス
を被検試料上に集光して被検試料乞励起し。 次いでQ、1nsかも10μs後に第2発振器からの第
2のレーザパルスを第1のレーザパルスト同一元軸で被
検試料の同一位置に集光するか又は第1のレーザパルス
の光軸と平行又はほぼ平行な光軸で第1のレーザパルス
の被検試料上への集光位置の極近傍の位置に集光し、さ
らに被検試料を励起し。 波長200nm以上の発光線スペクトル九ン反射鏡。 レンズ、および/また哄光ファイバー等の手段により分
光分析器に導き1分光分析することからなるレーザ多段
励起直接発光分析方法。 (2)  第2のレーザパルスによる被検試料上への集
光後さらに1又は2以上のレーザパルスを時間的間隔装
置いて被検試料の同一位置又はそれの極近傍位置に集光
することからなる特許請求の範囲第1項記載の方法。 (5)  分光分析器、第1のレーザ発振器電気的遅延
装置に連結し1こ第2のレーザ発振器を固定し、前記第
1のレーザ発振器の出射口近傍に必要に応じて光路変更
のためのプリズムおよび/または誘電体多層膜鏡を固定
し、2つのレーザ発振器からのレーザビームラ重ねるた
め第1のレーザビーム上に波長板および第2のレーザビ
ームを曲げるための偏光ビームスプリッタ−乞設けるか
。 又は2つのレーザビーム乞近接して平行又ははば平行に
なるように第2のレーザビーム用のレーザ光反射鏡を設
け、2つのレーザビーム中に集光レンズを固定し、被検
試料からの発光線スペクトルを分光分析器に伝送するた
めの反射鏡、レンズおよび/または元ファイバー等の手
段2設けたレーザ多段励起直接発光分析装置。 (4)  分光分析器、第1のレーザ発振器、電気的遅
延装置に連結した第2のレーザ発振器を固定し。 前記第2のレーザ発振器の出射口近傍に必要に応じて光
路変更のためのプリズムおよび/または誘電体多層膜鏡
を固定し、2つのレーザ発振器からのレーザビームを重
ねるため第2のレーザビーム上に波長板および第10V
−ザビームを曲けるための偏光ビームスプリッタ−を設
けるか、又は2つのレーザビームを近接して平行又はほ
ぼ平行になるように第1のレーザビーム用のレーザ光反
射鏡を設け、2つのレーザビーム中に集光レンズヶ固定
し、被検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に伝
送するための反射鏡、レンズおよび/または元ファイバ
ー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置。 」 (2)明細書を次のように訂正する。 頁 行  訂正前  訂正後 4  1 ルを        ル光強度5 12 発
振器       発振器。 9 15 ルを        ル元を12 20 7
はし      7は1のし14 10 反射光   
    反射鋭頁 行  訂正前  訂正後 14 16  と18のレーザ発録器  (削除する)
14 18 18        1′15  5  
 @ 16  5−波長板      10の一波長板16 
4 し偏光  ・    子11の偏光16  4  
18        1’16 5 偏光ビーム   
  11の偏光ビーム16  10  18     
   7’16  20  16         8
の電気的遅延回路、1616  20  4.6,8 
    4,5.617 5 2の分光器     分
光器217 17 取出口       取入ロア  
1B 18  9 表面の下fA      表面18 10
 インク       インク12フ頁 行  訂正前
  訂正後 18 11 取入口       取入口12518 
12  コネクタ      コネクタ12619 6
 第5図     第1表 21  下4 溶融はんだ中    ステンレス鋼中2
1  下2 ステンレス鋼中   溶融はんだ中(31
図面第2図、第5図、第4図、第5図及び第6図を添附
のものに訂正する。 第2図 第3図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1のレーザ発振器からの第1のレーザパルスを
    被検試料上に集光して被検試料を励起し、次いで0.1
    nsから10μs後に第2発振器からの第2のレーザパ
    ルスを第1のレーザパルスと同一光軸で被検試料の同一
    位置に集光するか又は第1のレーザパルスの光軸と平行
    又はほぼ平行な光軸で第1のレーザ光パルスの被検試料
    上への集光位置の極近傍の位置に集光し、さらに被検試
    料を励起し、波長200nm以上の発光線スペクトル光
    を反射鏡、レンズ、および/または光ファイバー等の手
    段により分光分析器に導き、分光分析することからなる
    レーザ多段励起直接発光分析方法。
  2. (2)第2のレーザパルスによる被検試料上への集光後
    さらに1又は2以上のレーザパルスを時間的間隔を置い
    て被検試料の同一位置又はそれの極近傍位置に集光する
    からなる特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)分光分析器、第1のレーザ発振器。 電気的遅延装置に連結した第2のレーザ発振器を固定し
    、前記第1のレーザ発振器の出射口近傍に必要に応じて
    光路変更のためのプリズムおよび/または誘電体多層膜
    鏡を固定し、2つのレーザ発振器からのレーザビームを
    重ねるため第1のレーザビーム上に波長板および第2の
    レーザビームを曲げるための偏光ビームスプリッターを
    設けるか、又は2つのレーザビームを近接して平行又は
    ほぼ平行になるように第2のレーザビーム用のレーザ光
    反射鏡を設け、2つのレーザビーム中に集光レンズを固
    定し、被検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に
    伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光ファイ
    バー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置
  4. (4)分光分析器、第1のレーザ発振器電気的遅延装置
    に連結した第2のレーザ発振器を固定し、前記第2のレ
    ーザ発振器の出射口近傍に必要に応じて光路変更のため
    のプリズムおよび/または誘電体多層膜鏡を固定し、2
    つのレーザ発振器からのレーザビームを重ねるため第2
    のレーザビーム上に波長板および第1のレーザビームを
    曲げるための偏光ビームスプリッターを設けるか、又は
    2つのレーザビームを近接して平行又はほぼ平行になる
    ように第1のレーザビーム用のレーザ光反射鏡を設け、
    2つのレーザビーム中に集光レンズを固定し、被検試料
    からの発光線スペクトルを分光分析器に伝送するための
    反射鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の手段を
    設けたレーザ多段励起直接発光分析装置。
JP22576485A 1985-10-09 1985-10-09 レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 Granted JPS62188919A (ja)

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