JPS62169439A - Holder - Google Patents
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- JPS62169439A JPS62169439A JP1009186A JP1009186A JPS62169439A JP S62169439 A JPS62169439 A JP S62169439A JP 1009186 A JP1009186 A JP 1009186A JP 1009186 A JP1009186 A JP 1009186A JP S62169439 A JPS62169439 A JP S62169439A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
不発明は、半導体集積回路の製造工程等に用いて好適な
半導体ウェーハの保持具に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor wafer holder suitable for use in semiconductor integrated circuit manufacturing processes and the like.
半導体集積回路(以下においてICという)は、半導体
ウェーハに形成されるのであるが、ICの製造工程は複
雑多岐にわたるものである。この間、半導体ウェーハは
10クト毎に所定の処理が行われることがあり、また1
枚毎に運搬具から抜きとられて所定の処理が行われるこ
ともある。例えば、酸化、拡散工程でのウエーノ・チャ
ージ、更に横歪工程でのウェーハ個々の取り扱い時に上
記作業が必要になる。Semiconductor integrated circuits (hereinafter referred to as ICs) are formed on semiconductor wafers, and the manufacturing process for ICs is complex and diverse. During this period, the semiconductor wafer may be subjected to a predetermined process every 10th wafer, and once every 10th wafer is processed.
In some cases, each sheet is extracted from the carrier and subjected to a predetermined process. For example, the above operations are required when wafer charging is performed during oxidation and diffusion processes, and when handling individual wafers during transverse strain processes.
このような場合、従来は実公昭53−48591号公報
に示すようなビンセフトラ用いて、半導体ウェーハを保
持し、所定の移し代え等を行っていた。In such a case, conventionally, the semiconductor wafer was held using a VINCEFTRA as shown in Japanese Utility Model Publication No. 53-48591, and predetermined transfers and the like were performed.
更にエアーコンプレクサの空気吸入を利用して、半導体
ウェーハの側面を真空吸着し、この吸着によっ1半導体
ウェーハな保持する真空ビンセクトも使用されている。Furthermore, a vacuum binsect is also used, which uses air suction from an air compressor to vacuum-suction the side surface of a semiconductor wafer, and holds the semiconductor wafer by this suction.
一方、半導体ウェーハの直径は、ICの歩留の向上を図
るため、更にデバイスプロセス技術の向上等があいまっ
て、次第に大径になってさた。例えは、従来は直径75
mm程度のものが使用されていたのであるが、最近では
150mmにもなり、特にメモリ用ICは150mmの
半導体ウェーノーに形成されることが多い。On the other hand, the diameter of semiconductor wafers has gradually become larger in order to improve the yield of ICs, combined with improvements in device process technology. For example, conventionally the diameter was 75
Previously, the diameter was about 150 mm, but recently the diameter has increased to 150 mm, and memory ICs in particular are often formed on 150 mm semiconductor wafers.
そして半導体ウェーハが径大になるにつれ工、その重量
も大になっχいる。As semiconductor wafers become larger in diameter, their weight also increases.
本発明者の検討によると、ビンセクトによる保持では、
半導体ウェーハの両側面に傷がつぎやすく、また一点支
持であるから半導体ウェーハが径大かつM量大である場
合、安定に保持することが困難であることが判明した。According to the inventor's study, retention by Vinsect:
It has been found that both sides of the semiconductor wafer are easily scratched, and since the semiconductor wafer is supported at one point, it is difficult to stably hold the semiconductor wafer if it has a large diameter and a large M amount.
真空ピンセy)については、真空吸着力が弱いので、保
持している間に落下等の不測の事故が発生しやすいこと
が明らかになった。As for the vacuum tweezers (y), it has become clear that because the vacuum suction force is weak, unforeseen accidents such as falling while holding the tweezers are likely to occur.
すなわち、上記何れの保持具であっても径大かつ重量大
の半導体ウエーノ・ヲ安定に保持することができない。In other words, any of the above-mentioned holders cannot stably hold a large diameter and heavy semiconductor wafer.
ピンセットによって半導体ウェーハに微小な傷がついて
も、その部分に良品のICY形成するととができす、歩
留が低下する。Even if a semiconductor wafer is slightly scratched by the tweezers, it will be difficult to form a good ICY on that part, resulting in a decrease in yield.
また不安定な保持では、落下による半導体クエーへの割
れや欠けのみでなく、半導体クエーハの一部が他の物体
にあたって割れや欠は等の事故になることも多い。In addition, if the semiconductor wafer is held unstable, not only will the semiconductor wafer be cracked or chipped due to a fall, but a portion of the semiconductor wafer may also hit another object, causing accidents such as cracking or chipping.
本発明の目的は、径大かつ重量大の半導体ウェーハな傷
付けることなく、安定に保持することのできる半導体ウ
ェーハの保持具は提供することにある。An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer holder that can stably hold a large diameter and heavy semiconductor wafer without damaging it.
本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、不
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description and accompanying drawings.
L問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうちの代表的なものの概
l!ヲ簡単に述べれば、下記の通りである。Means for Solving Problem L] Outline of typical inventions disclosed in this application! Briefly stated, it is as follows.
すなわち、ガイド部となる円筒の外部の一端に半導体ウ
ェーハの外縁部を支持する支持部を形成した第1支持体
と、上記円筒体内を手指の操作により移動する棒状体か
らなる可動部の一端に上記半導体ウェーハの外縁部を支
持する支持部を形成した第2支持体とを設け、上記2の
支持部によって半導体ウェーハの外扉部?:2点支持す
るものである。That is, a first support body is formed with a support part that supports the outer edge of the semiconductor wafer at one end of the outside of a cylinder serving as a guide part, and a movable part consisting of a rod-shaped body that is moved within the cylinder body by finger operation. and a second support member formed with a support portion that supports the outer edge portion of the semiconductor wafer, and the second support portion supports the outer door portion of the semiconductor wafer. : Two points are supported.
上記した手段によれば、半導体ウエーノ・の外は部の2
点を2の支持部により挾着し、安定に保持することがで
きるので、半導体ウェーハを傷付けることなく、安定に
保持する、という不発明の目的を達成することができる
。According to the above-mentioned means, the outside of the semiconductor wafer is 2 parts.
Since the points can be clamped and stably held by the support parts 2, the inventive objective of stably holding the semiconductor wafer without damaging it can be achieved.
以下、第1図及び第2図を参照して本発明を適用した半
導体ウェーハの保持具の一実施例を説明する。なお、図
面は上記保持具の構造と半導体ウェーハの保持形態を示
すものである。Hereinafter, an embodiment of a semiconductor wafer holder to which the present invention is applied will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The drawings show the structure of the holder and the manner in which the semiconductor wafer is held.
本拠施例の特徴は、半導体ウェーハの外縁部を2点支持
により挾NL’C安定に保持し得るように構成したこと
にある。The main feature of the embodiment is that the outer edge of the semiconductor wafer is supported at two points so that the NL'C can be stably held.
保持具1は、第1支持体2と第2支持体11とによって
構成されている。The holder 1 includes a first support 2 and a second support 11.
先ず、第1支持体1について述べると、円筒状のガイド
部4の一端に環状の把手5が一体に形成され℃いる。こ
れらは合成樹脂によって一体成形されたものであってよ
い。First, regarding the first support body 1, an annular handle 5 is integrally formed at one end of a cylindrical guide portion 4. As shown in FIG. These may be integrally molded from synthetic resin.
第1の支持部6は、石英ガラスにて形成されたものであ
り、上記円筒状のガイド部4の外部に固定されている。The first support portion 6 is made of quartz glass and is fixed to the outside of the cylindrical guide portion 4 .
上記第1の支持部6には、第2図に示すように溝6aが
形成されていて、第1図に示すように半導体ウェーハ2
1の外縁部22の一部ヲ支持するように形成されている
。As shown in FIG. 2, a groove 6a is formed in the first support portion 6, and as shown in FIG.
It is formed so as to support a part of the outer edge 22 of 1.
次に、第2の支持部11について述べると、不発明でい
う可動部12は棒状に形成され、その一端には可動部1
2を手指によって上下方向、換言すれば矢印B−B’方
向に移動操作するための把手13が形成されている。ま
た、上記可動部の多端、換言すれば図示の下端部には、
石英ガラスにて形成された第2の支持部14が固定され
【いる。Next, referring to the second support part 11, the movable part 12 is formed into a rod shape, and one end of the movable part 12 is provided with a movable part 12.
A handle 13 is formed for moving the device 2 in the vertical direction, in other words, in the direction of the arrow BB'. In addition, at the other end of the movable part, in other words, at the lower end shown in the figure,
A second support portion 14 made of quartz glass is fixed.
第2の支持部14には、第2図に示すように溝14aが
形成されていて、半導体クエーハ21の外縁部22の一
部な支持するようになされている。As shown in FIG. 2, the second support portion 14 has a groove 14a formed therein so as to partially support the outer edge portion 22 of the semiconductor wafer 21. As shown in FIG.
次に、上記保持具1の使用方法を述べる。Next, a method of using the holder 1 will be described.
把手5を持って第1の支持部6に形成された溝6aに半
導体ウェーハ21の外縁部22’にはめ込む。この際、
把手13は下方に下げられたままであるから、第2の支
持部14は点線で示す位置にある。この時点で、第2の
支持部14の位置を更に考えると、上記溝6aに半導体
ウエーノ・21の一部がはめ合わされているのであるか
ら、第2の支持部14が第2図に矢印Cで示す方向に大
幅に移動することがない。Holding the handle 5, fit the outer edge 22' of the semiconductor wafer 21 into the groove 6a formed in the first support part 6. On this occasion,
Since the handle 13 remains lowered, the second support portion 14 is in the position shown by the dotted line. At this point, if we further consider the position of the second support part 14, since a part of the semiconductor wafer 21 is fitted into the groove 6a, the second support part 14 is located at the position indicated by the arrow C in FIG. It does not move significantly in the direction shown.
仮りに移動したとすれば、溝6aに接触している外縁部
22が割れたり、欠けたりするであろう。If it were to move, the outer edge 22 in contact with the groove 6a would be cracked or chipped.
すなわち、第1図の支持部6aY上記のようにはめ合わ
せることにより、第2の支持部14の位置が自ずと設定
される。That is, by fitting the support portion 6aY in FIG. 1 as described above, the position of the second support portion 14 is automatically set.
次に、手指により把手13を図示で上方に引き上げると
、可動部12が上記ガイド部4に案内されて上方、換言
すれば矢印B方向に引き上げられる。そして第2の支持
部14も一体にひきあげられ、溝14aに半導体ウェー
ハ21の外縁部22の一部がはめ込まれるようになる。Next, when the handle 13 is pulled upward as shown in the figure with a finger, the movable part 12 is guided by the guide part 4 and pulled upward, in other words, in the direction of arrow B. Then, the second support portion 14 is also pulled up, and a portion of the outer edge portion 22 of the semiconductor wafer 21 is fitted into the groove 14a.
この時点で、半導体ウェーハ21の保持が終了し、把手
5 、1:11もったままで、保持具17a/上方に持
ち上げると、これと一体に半導体ウェーハ21が持ち上
げられる。At this point, the holding of the semiconductor wafer 21 is completed, and by lifting the holder 17a/upward while holding the handle 5 1:11, the semiconductor wafer 21 is lifted together with the holder 17a.
ここで注目すべきは、半導体ウェーハ21が外縁部22
の2点によって支持されることである。What should be noted here is that the semiconductor wafer 21 is
This is supported by two points.
しかも半導体ウェーハ21は、把手13を持ち上げる力
によって互いに対抗する2方向から挾着されている。従
って、半導体ウェーハ21は、保持具1から離脱するこ
とがなく、安定した保持が行われる。Furthermore, the semiconductor wafer 21 is clamped from two opposing directions by the force of lifting the handle 13. Therefore, the semiconductor wafer 21 does not come off from the holder 1 and is stably held.
更に注目すべきことは、半導体ウェーハ21の平面部に
は、保持具1の何れの部分も接触していないことである
。半導体ウェーハ21の外周部の一部が、僅かに第1及
び第2の支持部6.14に接触するものの、その接触位
置はもともとIC形成時の利用区分から外れた位置であ
る。What should be further noted is that no part of the holder 1 is in contact with the flat surface of the semiconductor wafer 21. Although a portion of the outer periphery of the semiconductor wafer 21 slightly contacts the first and second support portions 6.14, the contact position is originally outside the usage category during IC formation.
故に、半導体ウェーハ21の利用区分に上記保持を行う
際に不所望な傷が付くことがなく、ICの歩留向上がな
される。Therefore, when the usage section of the semiconductor wafer 21 is held as described above, undesired scratches are not caused, and the yield of ICs is improved.
(11第1の支持部で半導体ウェーハの外縁部の一部を
支持し、第1の支持部に対し距離制御可能な第2の支持
部で上記半導体ウェーハの外縁部の他の一部を支持する
ことにより、半導体ウェーハ?:、2点で支持するとい
う作用で、半導体ウェーハの保持が確実になる、という
効果が得られる。(11 A first support part supports a part of the outer edge of the semiconductor wafer, and a second support part whose distance can be controlled with respect to the first support part supports another part of the outer edge of the semiconductor wafer. By doing so, it is possible to obtain the effect that the semiconductor wafer can be held securely by supporting the semiconductor wafer at two points.
121 上記+11により、半導体ウェーハの移し代
え等を行う際に半導体ウェーハが落下する、等の不所望
な事故を未然に低減することができる。121 According to +11 above, it is possible to prevent an undesirable accident such as a semiconductor wafer falling when transferring a semiconductor wafer or the like.
+31 上記(11により、半導体ウェーハのIC形
成区分に保持具が接触することがなく、半導体ウェーハ
の傷を低減し得るとい5作用で、製品の歩留を向上でき
る、という効果が得られる。+31 According to the above (11), the holder does not come into contact with the IC-forming section of the semiconductor wafer, and damage to the semiconductor wafer can be reduced.5 Effects such as improving the product yield can be obtained.
(41第1の支持部によって半導体ウェーハの外縁部の
一部を支持した時点で、W、2の支持部の位置が自ずと
設定され、次いで第2の支持部がガイド部に案内されつ
つ移動するように構成したので、保持作業が手早く行わ
れるという作用で、作業性が向上する、という効果が得
られろ。(41 When a part of the outer edge of the semiconductor wafer is supported by the first support part, the position of the support part W and 2 is automatically set, and then the second support part moves while being guided by the guide part. With this structure, the holding work can be carried out quickly, thereby improving work efficiency.
[51第1の支持部と第2の支持部との距離は、ガイド
部と可動部とにより所望の距離に可変し得るので、保持
する半導体ウエーノ1の大ざさに関りなく、各種半導体
ウエーノ・の保持でざるという作用で、保持具の利用度
が向上する、という効果が得られる。[51 Since the distance between the first support part and the second support part can be changed to a desired distance by the guide part and the movable part, it can be used for various semiconductor wafers regardless of the size of the semiconductor wafer 1 to be held.・The effect of improving the utilization of the holder is achieved by not holding the holder.
以上に不発明者によってなされた発明を実施例にもとづ
き具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その賛旨を逸脱しない範囲で種々変形
可能であることはいうまでもない。Although the invention made by the non-inventor has been specifically explained based on the examples above, the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Needless to say.
例えば、溝6 a * 14 aは、半導体ウェーハ・
の太ぎさに合わせた円弧状に形成し壬もよい。この場合
、半導体ウエーノ・が第1図に示す左右方向に位置ずれ
することがな(、半導体ウエーノ1の保持が更に確実に
なる。For example, the groove 6a * 14a is a semiconductor wafer.
It can be formed into an arc shape to match the thickness of the bag. In this case, the semiconductor wafer 1 will not be displaced in the left-right direction shown in FIG. 1 (and the semiconductor wafer 1 can be held even more reliably).
ガイド部と′o]動部とは、断面角形に形成してもよい
。この場合、可動部と第2の支持部の回動が阻止される
ことになり、第2の支持部の位置決めが更に良好になる
。The guide portion and the moving portion may be formed to have a rectangular cross section. In this case, rotation of the movable part and the second support part is prevented, and the positioning of the second support part becomes even better.
また、上記保持具のうち、例えば第1の支持部に窒気吸
入孔を形成し、上記2点支持と同時に真空吸着を行うよ
うに構成してもよい。In addition, a nitrogen suction hole may be formed in, for example, the first support part of the above-mentioned holder, and vacuum suction may be performed simultaneously with the above-mentioned two-point support.
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られろ効果?:簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。What effects can be obtained by typical inventions disclosed in this application? : A brief explanation is as follows.
すなわち、半導体ウェーハを外縁部の2点によって支持
し得るので、半導体ウェーハの保持が確実になるととも
に、半導体ウェーハの渦部vi付けることがない。That is, since the semiconductor wafer can be supported by two points on the outer edge, the semiconductor wafer can be held securely and the vortex vi of the semiconductor wafer will not be formed.
第1図は不発明の一実施例を示す半導体ウェーハの保持
具の説明図、
第2図は第1図のA−・X線に沿う断面図を示すもので
ある。
1・・・保持具、2・・・第1支持体、4・・・ガイド
部、5・・・把手、6・・・第1の支持部、11・・・
第2支持体、12・・・可動部、14・・・第2の支持
部、21・・・半導体ウェーハ、22・・・半導体ウェ
ーハの外縁部。FIG. 1 is an explanatory diagram of a semiconductor wafer holder showing an embodiment of the invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line A-X in FIG. 1. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Holder, 2... First support body, 4... Guide part, 5... Handle, 6... First support part, 11...
Second support body, 12...Movable part, 14...Second support part, 21...Semiconductor wafer, 22...Outer edge of semiconductor wafer.
Claims (1)
持部とガイド部とが設けられた第1支 持体と、 (2)上記ガイド部によって案内される可動部と、上記
可動部の一端に形成され上記第1 の支持部との間隔が所望の間隔に制御され る第2の支持部とが設けられた第2支持体 と、 からなり、上記第1及び第2支持部によって上記半導体
ウェーハの外縁部を挾着して保持することを特徴とする
保持具。[Claims] 1. (1) a first support body provided with a first support part that supports the outer edge of a semiconductor wafer and a guide part; (2) a movable part guided by the guide part; and a second support member provided with a second support part formed at one end of the movable part and whose distance from the first support part is controlled to a desired distance; A holder characterized in that an outer edge portion of the semiconductor wafer is clamped and held by a second support portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1009186A JPS62169439A (en) | 1986-01-22 | 1986-01-22 | Holder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1009186A JPS62169439A (en) | 1986-01-22 | 1986-01-22 | Holder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62169439A true JPS62169439A (en) | 1987-07-25 |
Family
ID=11740661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1009186A Pending JPS62169439A (en) | 1986-01-22 | 1986-01-22 | Holder |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62169439A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371641U (en) * | 1988-05-25 | 1991-07-19 | ||
US5499447A (en) * | 1993-12-17 | 1996-03-19 | Nec Corporation | Method for manufacturing a printed circuit board having electrodes on end surface of substrate |
-
1986
- 1986-01-22 JP JP1009186A patent/JPS62169439A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371641U (en) * | 1988-05-25 | 1991-07-19 | ||
US5499447A (en) * | 1993-12-17 | 1996-03-19 | Nec Corporation | Method for manufacturing a printed circuit board having electrodes on end surface of substrate |
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