JPS62150251A - デ−タベ−ス型フオトマスク検査装置 - Google Patents
デ−タベ−ス型フオトマスク検査装置Info
- Publication number
- JPS62150251A JPS62150251A JP60295105A JP29510585A JPS62150251A JP S62150251 A JPS62150251 A JP S62150251A JP 60295105 A JP60295105 A JP 60295105A JP 29510585 A JP29510585 A JP 29510585A JP S62150251 A JPS62150251 A JP S62150251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection
- data
- data base
- photomask
- computer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明に、半導体集積回路の製造に使用するフォトマス
クの検査装置に関するものである。
クの検査装置に関するものである。
概してフォトマスク検査装置には次の工うなものがある
。
。
げ）フォトマスクの欠陥を検査する装置幹）フォトマス
クのバタン素子の寸法を検査する装置 （ハ）フォトマスク間の重ね合わせ精度を検査する装置 に）フォトマスクの名称や製造ＮＯＩ検査する装置〔従
来分野〕 従来、フォトマスク検査装置に、メカニカル−スイッチ
やキーボードにニジ検査に必要となる稀々のデータを設
定し、検査終了後、そのデータを印字したり、磁気媒体
に出力したりしていた。
クのバタン素子の寸法を検査する装置 （ハ）フォトマスク間の重ね合わせ精度を検査する装置 に）フォトマスクの名称や製造ＮＯＩ検査する装置〔従
来分野〕 従来、フォトマスク検査装置に、メカニカル−スイッチ
やキーボードにニジ検査に必要となる稀々のデータを設
定し、検査終了後、そのデータを印字したり、磁気媒体
に出力したりしていた。
次に得られた検査データを解析する場合は印字されたも
の全集計したり磁気媒体を計算機に入力してデータ処理
上していた。
の全集計したり磁気媒体を計算機に入力してデータ処理
上していた。
この工うに従来の検査におけるデータの流れ。
取扱いＫｉ、個々の工程単位において、人手？介す、入
力・出力を伴うので間違い易く、また検査に必要なデー
タと、検査の結果、得られたデータを統合的に取扱って
いないため、データ解析において、同じく人手を介す要
素が多くなり、データ解析に多大なる時間を要するとい
う欠点があった。
力・出力を伴うので間違い易く、また検査に必要なデー
タと、検査の結果、得られたデータを統合的に取扱って
いないため、データ解析において、同じく人手を介す要
素が多くなり、データ解析に多大なる時間を要するとい
う欠点があった。
本発明の目的に、フォトマスクの検査に必要なデータと
検査の結果、得られたデータを統合的にデータベースと
して取扱う、ソフトウェアを有したフォトマスク検査装
置を提供するものである。
検査の結果、得られたデータを統合的にデータベースと
して取扱う、ソフトウェアを有したフォトマスク検査装
置を提供するものである。
本発明の構ＩＲは実施例の第１図に示すように大きく分
けて検査系とデータベース系からなる。
けて検査系とデータベース系からなる。
検査系はコントローラ１．検査機２．ＶＤＴ（ビデオデ
ィスプレイターミナル）３からなり、データベース系は
計算機４．設計・仕様データベース５、検査データベー
ス６、ｖＩＪＴ７．プリンタ８工りなっている。
ィスプレイターミナル）３からなり、データベース系は
計算機４．設計・仕様データベース５、検査データベー
ス６、ｖＩＪＴ７．プリンタ８工りなっている。
従来技術の場合は、検査系のみで使用されたり、または
第２囚のように検査系にデータ保存用の磁気媒体１１や
プリンタ１２を使用したｖ７ｃｒ！ｔ、が使用されてい
た。
第２囚のように検査系にデータ保存用の磁気媒体１１や
プリンタ１２を使用したｖ７ｃｒ！ｔ、が使用されてい
た。
本発明の装置でフォトマスクの検査ｔする際は。
第１図において、ＶＤＴ３でデータベースのキーとなる
情報を指定すればコントローラｌ、侶号線Ｐを通り計算
機４のソフトウェアにエリ、検査に必要なデータを、設
計・仕様データベース５から読出し、信号線Ｐを通シ、
コントローラ１に設定される。
情報を指定すればコントローラｌ、侶号線Ｐを通り計算
機４のソフトウェアにエリ、検査に必要なデータを、設
計・仕様データベース５から読出し、信号線Ｐを通シ、
コントローラ１に設定される。
検査機２によるフォトマスクの検査が終了すると、検査
データはコントローラ１．信号線Ｐｉ通クシ計算機のソ
フトウェアに工や、検査データベース６に書込まれる。
データはコントローラ１．信号線Ｐｉ通クシ計算機のソ
フトウェアに工や、検査データベース６に書込まれる。
検査データが検査データベース６に蓄積しであるので、
データ解析を行なう場合は、ＶＤＴ７より、計算機４に
あるソフトウェアを指定することにより検査データの集
計、グラフ化１表作成、製品履歴一覧等の処理結果ｔ、
ＶＬ）Ｔ７やプリンタ８に出力することができる。
データ解析を行なう場合は、ＶＤＴ７より、計算機４に
あるソフトウェアを指定することにより検査データの集
計、グラフ化１表作成、製品履歴一覧等の処理結果ｔ、
ＶＬ）Ｔ７やプリンタ８に出力することができる。
本発明は、フォトマスクの検査に必要となる。
設計番仕様データと検査にニジ得られた検査データを統
合的にデータベース化し、さらに検査データを活用する
ソフトウェアをもった検査装置を提供するものである。
合的にデータベース化し、さらに検査データを活用する
ソフトウェアをもった検査装置を提供するものである。
本発明の装置によれば、従来の装置に要した検査毎に人
手による種々の設計書仕様データの設定が不要になるば
かりか、間違った設定が避けられ検査の信頼性が向上し
、かつ省力化、迅速化につながる。
手による種々の設計書仕様データの設定が不要になるば
かりか、間違った設定が避けられ検査の信頼性が向上し
、かつ省力化、迅速化につながる。
従来、データの収集、集計、整理、処理に何段階も人手
勿介さなければならなかったデータ解析も検査データベ
ースと計算機４のソフトウェアを使用することにより、
必要なときに必要なデータ解析が迅速かつ正確に行なう
ことができる。
勿介さなければならなかったデータ解析も検査データベ
ースと計算機４のソフトウェアを使用することにより、
必要なときに必要なデータ解析が迅速かつ正確に行なう
ことができる。
本発明の装置ヲ活用することに！＃）、７オトマスク検
査の信頼性が同上し、検査業務、検査データ解析の迅速
化を促すことができる。ひいては、フォトマスクの品質
管理、品質保証の向上に寄与することになる。さらに本
発明の装置は、データベース系の計算機４に複数台の検
査系を連結して検査装置として検査系の規模拡大を図る
こともできるし、計算機９と他の計算機を連結し、その
計算機のもつデータベースやソフトウェアを応用すると
いう検査装置としてデータベース系の規模拡大を図るこ
ともできる。
査の信頼性が同上し、検査業務、検査データ解析の迅速
化を促すことができる。ひいては、フォトマスクの品質
管理、品質保証の向上に寄与することになる。さらに本
発明の装置は、データベース系の計算機４に複数台の検
査系を連結して検査装置として検査系の規模拡大を図る
こともできるし、計算機９と他の計算機を連結し、その
計算機のもつデータベースやソフトウェアを応用すると
いう検査装置としてデータベース系の規模拡大を図るこ
ともできる。
第１ｒｌ！ＪＨ本発明のデータベース型フォトマスク検
査装置の一実施例の構成を示す。第２囚は従来技術にお
けるフォトマスク検査装置の構成を示す。 図中の英数字は、１・・・・・・コントローラ、２・・
・・・・検査機、３．７・・・・・・ＶＤＴ、４・・・
・・・計算機、５・・・・・・設計・仕様データベース
、６・・・・・・検査データベース、８．１２・・・・
・・プリンタ、１１・・・・・・磁気媒体、Ｐ・・・・
・・信号線金示す。 ＼、−・
査装置の一実施例の構成を示す。第２囚は従来技術にお
けるフォトマスク検査装置の構成を示す。 図中の英数字は、１・・・・・・コントローラ、２・・
・・・・検査機、３．７・・・・・・ＶＤＴ、４・・・
・・・計算機、５・・・・・・設計・仕様データベース
、６・・・・・・検査データベース、８．１２・・・・
・・プリンタ、１１・・・・・・磁気媒体、Ｐ・・・・
・・信号線金示す。 ＼、−・
Claims (3)
- （１）検査系とデータベース系を独立した形で有するフ
ォトマスクの検査装置。 - （２）検査とデータベース系の間で、データのやり取り
を行なう特許請求の範囲第（１）項記載のフォトマスク
検査装置。 - （３）検査データベースを構築し、処理するソフトウェ
アを有する特許請求の範囲第（１）項記載のフォトマス
ク検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60295105A JPS62150251A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | デ−タベ−ス型フオトマスク検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60295105A JPS62150251A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | デ−タベ−ス型フオトマスク検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62150251A true JPS62150251A (ja) | 1987-07-04 |
Family
ID=17816359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60295105A Pending JPS62150251A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | デ−タベ−ス型フオトマスク検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62150251A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997035337A1 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-25 | Hitachi, Ltd. | Process control system |
| KR100526648B1 (ko) * | 2001-11-28 | 2005-11-08 | 미츠비시 후소 트럭 앤드 버스 코포레이션 | 차량용 동력 전달 장치의 제어 회로 이상 판정 장치 |
| US7859659B2 (en) | 1998-03-06 | 2010-12-28 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic scatterometer system |
-
1985
- 1985-12-24 JP JP60295105A patent/JPS62150251A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997035337A1 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-25 | Hitachi, Ltd. | Process control system |
| US7859659B2 (en) | 1998-03-06 | 2010-12-28 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic scatterometer system |
| US7898661B2 (en) | 1998-03-06 | 2011-03-01 | Kla-Tencor Corporation | Spectroscopic scatterometer system |
| KR100526648B1 (ko) * | 2001-11-28 | 2005-11-08 | 미츠비시 후소 트럭 앤드 버스 코포레이션 | 차량용 동력 전달 장치의 제어 회로 이상 판정 장치 |
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