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JPS62127321A - Novel carbazole substituted polysiloxane - Google Patents

Novel carbazole substituted polysiloxane

Info

Publication number
JPS62127321A
JPS62127321A JP25867786A JP25867786A JPS62127321A JP S62127321 A JPS62127321 A JP S62127321A JP 25867786 A JP25867786 A JP 25867786A JP 25867786 A JP25867786 A JP 25867786A JP S62127321 A JPS62127321 A JP S62127321A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polysiloxane
general formula
group
layer
siloxane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25867786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ラインホルト、イョット、レイラー
ライナー、ホフマン
ディートリヒ、ハーラー
ペーター、シュトローリーグル
ペーター、ノイマン
リュディガー、イデン
カール−ハインツ、エツバハ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JPS62127321A publication Critical patent/JPS62127321A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • G03G5/078Polymeric photoconductive materials comprising silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C08G77/382Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
    • C08G77/388Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明はgIll頼艮カルバゾール基な有する新説なポ
リシロキサンに関丁すものであり、こfLを便用して形
成される元11E4性固体状層は例えは電子写真記録材
料に使用されることかできる。従う℃本発明は特許請求
の範囲(1)乃至□□□によるV7n肌のポリシロキサ
ンを使用し壬製造されろすへ又ノもの、ことに元電導性
層体、電子写真記録材料をもその対象とするものである
Detailed Description of the Invention (Technical Field) The present invention is directed to a new type of polysiloxane having a carbazole group, and the solid layer having an elemental 11E4 structure formed by using this fL is For example, it can be used in electrophotographic recording materials. Accordingly, the present invention also relates to materials, especially electrically conductive layers, and electrophotographic recording materials manufactured using the V7n polysiloxane according to claims (1) to □□□. This is the target.

(従来技術) 元′亀4注有機化合物を含有する元電尋性固体層は、電
子写真記録材料、ことにコピーフィルム或は1子写真オ
フセット版に使用されろ。その作成の1こめに丁でに種
々の材料か提案されている。こび)場合、光電導性固体
層には、九t4注有愼化合物と共にこれに対し℃増感作
用をする感光性化合物を冷加するのが好ましい。元篭導
性化合物に分光感度を付与するため、元電尋注層には例
えは分光増感有機色素を祭加することができる。この元
to江層VC,百有されるべき増感性感元化合物とし′
1−は、尤嵐傳1層に照射される化字巌を吸収すること
により電荷担体を形成し、九′124注増に外部から賦
加さ几ろgL場の助勢下に上記′亀句担体を尋電注化合
物に転移させ得る有機染料或は有機顔料も七のカテゴリ
ーに)IJ4jる。使用されるこの増感性感元化合物の
種類及び元を導性ノー乃至電子写真記録材料の応用分野
により、光wL尋1有磯化合物の増感作用は羽′X的に
或は不等負的に行われる。
(Prior Art) Polymer-containing solid layers containing organic compounds are used in electrophotographic recording materials, especially in copy films or photographic offset plates. Various materials have been proposed for its creation. In this case, it is preferable to cool the photoconductive solid layer together with a photosensitive compound that has a sensitizing effect on the photoconductive solid layer. In order to impart spectral sensitivity to the base conductive compound, a spectral sensitizing organic dye, for example, can be added to the base conductive layer. This original VC layer is a sensitizing compound that should be used as a sensitizing compound.
1- forms charge carriers by absorbing the radiation irradiated on the first layer of the 9'124 layer, and with the help of the externally added 9'124 field, the above 'turquoise' Organic dyes or organic pigments that can transfer carriers to electropolymer compounds are also included in category 7). Depending on the type of this sensitizing sensitizing compound used and the field of application of the source from conductive to electrophotographic recording materials, the sensitizing effect of the sensitizing compound may be unequal or negative. It will be held in

均實増感性元$24注層の場合には、元亀専注有機化合
物及び増感性感光有機1ヒ合切は相互の均負な混合霧と
し又、場合により粕合削と共に、介在層中に存在する(
 ?lJえは西独%計lυ58836号明細書参照)。
In the case of a uniformly sensitized 24-layer injection layer, the Motoki exclusive organic compound and the sensitized photosensitive organic 1-layer are mixed with each other evenly, and in some cases, with lees aggregation, they are mixed into the intervening layer. exist(
? (Refer to specification No. 58836).

不等質増感作用の場合には、jt’4導性層はいわゆる
m層構造技術における多層、ことに2層に構成され、七
の第11−は増感性感元化合物を含有し、その上に配置
されろ第2層はxi4注有機化合物を百何する。このよ
うな尤竜導江層の重層#II遁は例えは西独特計出狐公
開222Ll 408号公報に6己献されている。
In the case of heterogeneous sensitization, the jt'4 conductive layer is composed of multiple layers, especially two layers, in the so-called m-layer structure technology, the seventh and eleventh layer containing the sensitizing sensitizing compound and its The second layer disposed on top contains a xi4 organic compound. Such a multilayer #II release of the Yuryudo River Formation is dedicated in 6 volumes in the Sei-toku Keidekitsune Publication No. 222Ll No. 408.

この公知の光電24江有機化合物とし又は、こと艮元゛
域導注固体;−に祭加する場合に元電尋性俸とし′″C
C艮好注馨示すボIJ −N−ビニルカルバシー ルか
挙けられる。このホl) −N−ビニル力ルパゾールは
、ルイス酸、ことに2.4.7−ドリニ10−9−フル
オリノ′ンと共fL電荷を転移させるよd壜の形四7c
おい°S尤戒尋憔体として元蒐尋法層に便用するのがt
if2 Lい。ま1こ光電尋注1の瑣感の1こめにポリ
−N−ビニルカルバノール或ハソの他υ)カルバゾール
基含有比合物を主体として、有機染料或は有機顔料を添
加することが丁でに提案され(お9、これにより光磁4
注カルバソール化合吻の分光感光性が高められ、かつ/
または電荷担体として形成される化合物にtト用する。
This known photovoltaic organic compound can be used as an organic compound, or as an organic compound when added to
An example of this is IJ-N-vinylcarbathyyl, which is highly recommended. -N-vinyllupazole transfers the fL charge together with Lewis acids, especially 2,4,7-dorini-10-9-fluorinone.
Hey °S It is convenient to use as a punishment for the former law class.
if2 L. However, in addition to poly-N-vinylcarbanol or other compounds containing carbazole groups, organic dyes or organic pigments can be added as the main component. (9), which led to the creation of optomagnetic 4
Note: The spectral sensitivity of the carbazole compound is increased and/
Alternatively, it can be used for compounds formed as charge carriers.

この点に関する従来技術とし又は、例えばヨーロッパ特
許出願公開tJLlbltJ88号、同(J061L1
89号、同t)061092号、同0131215号各
公報なりひに西独特許出願公開321337号公報を参
照さit度い。
The prior art in this regard includes, for example, European Patent Application Publication No. tJLlbltJ88,
89, 061092, 0131215, and West German Patent Application Publication No. 321337.

しかしなかも、上述し1こポリ−N−ビニルカルバゾー
ルの大さな欠点として、されり℃脆弱であることか挙げ
られり。ポリ−N−ビニルカルバゾールかり形成されゐ
光寛尋注固体層は硬賀であって、未軟狂に欠け、礒裂形
成Vこ対1−る耐性がない史にこれiエフt、電24注
1曽のγこy)の寺篭江担俸とし℃慣用されている金属
に鐘し接層性が弱い。このような欠点を回避jる1こめ
、ポリ−N−ビニルカルバゾールを主成分とする元寛尋
江層に種々のoT塑4jを隙加し、11こプライスマー
により該層を金属担体に接層させろ試みがなされている
。しかるにこの両省とも上bc層の、或はこれにより作
表された′電子写真記録材料の尤を尋特注を少なからず
損うという欠点がある。まTこ低分子型カルバゾール基
含有1ヒ合物を尤電導注俸として使用しても(例えば西
独特許出願公開3208337号公報参照)、このよ)
な材料に対して次第に増大しつつある要#IY満足さセ
ろ光電導性固体層をもたらし得ない。
However, one of the major drawbacks of poly-N-vinylcarbazole mentioned above is that it is fragile when exposed to temperature. The solid layer formed from poly-N-vinylcarbazole (note by Hirohiro Mitsuru) is hard, lacks insensitivity, and has no resistance to crack formation. It has weak adhesion to the metal that is commonly used as the Terakamoe holder of Isso's γ Koy). In order to avoid such drawbacks, various types of OT plastics are added to the Wonguanjinjie layer containing poly-N-vinylcarbazole as the main component, and the layer is bonded to a metal carrier using a plasticizer. Attempts are being made to layer them. However, both of these methods have the disadvantage that they considerably impair the customization of the electrophotographic recording materials produced by the upper BC layer. However, even if a low molecular weight carbazole group-containing compound is used as a conductive agent (for example, see West German Patent Application Publication No. 3208337),
There is an increasing demand for materials that cannot provide satisfactory photoconductive solid layers.

以上の次第であるので、この分封におい1本発明により
解決されるべきa術的昧趙は、艮好な光電纒特注を償う
ことなく、金属製担体材料に対し壬良好な接漕力を示す
可虎注、耐久性の光電24注膚な形成する、元電4fi
峙注の艮好な元′1導注1ヒ合吻を開発jることである
Based on the above, one technical problem to be solved by the present invention in this packaging is that it exhibits good contact force to the metal carrier material without compensating for the need for fancy photoelectric cables. Katora Note, Durable Photoelectric 24 Note Formation, Genden 4fi
The goal is to develop a beautiful front-to-back proboscis.

不発明により解決さ′nるべざ史に他の技術的課題は、
″it、電尋注有愼1し合物により、慣めて艮好な光電
4特性を示し、ことに可焼性、耐久性を有し、金属担体
に対する良好な接着性を有し、電子写真記録材料の調製
に過し1こvr現の光電4注固体層を開発することであ
る。
Other technical problems in history have been solved by non-invention.
``It is a combination of electronic and electronic materials that exhibits excellent photoelectric properties, especially scorchability, durability, good adhesion to metal carriers, and electronic The first step in the preparation of photographic recording materials is to develop a photoelectric solid layer.

(発明の要約) 上記υ)技術的課題は、側方に詰合されたカルバゾール
基を含有する本発明の新規なポリシロキサンにより基本
的に解決され、またこの側方に結合されfこカルバゾー
ル基を含’[7ろポリシロキサンを元′TIL24性有
機化合物とし1便用し、これに増感作用を■する感光性
化合物として有機染料或は有機顔料を配合することによ
り、止揚の第2の技術的課題も解決されろ。
(Summary of the Invention) The technical problem υ) above is basically solved by the novel polysiloxane of the present invention containing laterally packed carbazole groups, which are also bonded laterally to the carbazole groups. By using polysiloxane as a base TIL24 organic compound and adding an organic dye or organic pigment as a photosensitive compound that has a sensitizing effect, a second layer of siloxane can be obtained. Technical issues must also be resolved.

従って本発明の対象はポリマー主鎖に対し′c1111
万に結合されたカルバゾール基を含有するポリシロキサ
ンである。
The subject of the invention is therefore 'c1111' for the polymer backbone.
It is a polysiloxane containing 1,000-bonded carbazole groups.

ま1こ、この側方に位寛丁ゐカルバゾール基を有するポ
リシロキサンにより形成される尤[導性固体層も本発明
の対象である。
Furthermore, a conductive solid layer formed of a polysiloxane having a carbazole group located on the side thereof is also a subject of the present invention.

丈に、光電導注有磯化合物と、これに対し増感作用する
感光性化合物とから形成される光電4注固体層において
、上記光電場性化合物としてポリマー主鎖に対し側方に
結合されにカルバゾール基を含有するポリシロキサン1
1また上記増感作用化合物とし″′C有機染料もしくは
有機顔料を含有する光電導性固体層もlた本発明の対象
である。
In the photoconductive solid layer formed from a photoconductive compound and a photosensitive compound that sensitizes the photoconductive compound, the photoelectric field compound is bonded laterally to the polymer main chain. Polysiloxane containing carbazole group 1
A photoconductive solid layer containing an organic dye or organic pigment as the sensitizing compound is also a subject of the present invention.

更にまた4電性担体とこの上に形成された本発明による
ポリシロキサンを含有する光電導性層とから成る電子写
真記録材料もまた本発明の対象となる。
Furthermore, an electrophotographic recording material comprising a tetraelectric carrier and a photoconductive layer formed thereon containing the polysiloxane according to the invention is also a subject of the invention.

(発明の構成) 本発明の史に具体的な構成を以下に説明する。(Structure of the invention) A specific configuration of the present invention will be described below.

本発明による新規なカルバゾール基含有ポリシロキサン
ならびにこれを使用して形成される新規な光電尋注固体
Ifiは、憔めて良好で有利な緒特性の結合により看し
く秀れている。これは率艮ポリーN−ビニルカルバソー
ルと比肩し得る深山した尤電尋注を有するのみでさく、
金属表面に対する良好な接看性ン示す可焼性であり脆弱
でない増体な形成することかできる。従って、上記倉夙
なボリシロキサンは例えば複写技術において或は電子4
真印刷版に使用されるべき光電導性層及び′電子写真記
録材料の製造に有利に使用される。複写技術分野の複写
ノート乃至電子写真シートを本発明によるポリシロキサ
ン含有光1!導性層により形成τΦときは、その読いサ
イクル安定性、すなわち反榎使用(多数回の荷電及び放
電)にかかわらず全く板対を示さないことにより又もカ
ル℃いる。
The novel carbazole group-containing polysiloxanes according to the invention and the novel photovoltaic injection solids Ifi formed using the same are distinguished by a very good combination of advantageous properties. It only has a deep strength that can be compared to poly N-vinylcarbasol.
It can be formed into a combustible, non-brittle material that exhibits good access to metal surfaces. Therefore, the above-mentioned polysiloxanes in stock can be used, for example, in copying technology or electronically.
It is advantageously used in the production of photoconductive layers to be used in true printing plates and electrophotographic recording materials. The polysiloxane-containing light 1! When formed by a conductive layer, its read cycle stability is also compromised by its read cycle stability, ie, not exhibiting any plate pairing despite repeated use (multiple charging and discharging cycles).

本発明のポリシロキサンはポリシロキサン主鎖丁なわち
シロキサン繰返し単位、(−Sl−O+から成るポリマ
ー鎮を有し、その81原子の側方にカルバゾール基が結
合されている。−1’))vバゾール基は置換され又も
よいか、ポリシロキサンは非直侠カルバソール基をt有
丁7−のが好ましい。カルバゾール基は基本的に任意の
位置におい又ポリシロキサン主鎖と結合され得るが、カ
ルバゾール基はぜのN原子におい1ポリシロキサン主鎖
と、例えはアルキレン中間基を介し又、紹合さ几ること
か好ましい。
The polysiloxane of the present invention has a polysiloxane backbone chain consisting of a siloxane repeating unit (-Sl-O+), and a carbazole group is bonded to the side of its 81 atoms (-1')). The carbazole group may be substituted, but it is preferred that the polysiloxane has a non-direct carbazole group. The carbazole group can basically be bonded to the polysiloxane main chain at any position, but the carbazole group may be introduced to the polysiloxane main chain at the N atom between them, for example via an alkylene intermediate group. That's preferable.

本発明艮よるカルバゾール基含有ポリシロキサンの分子
量は、促ってヤの基礎ケな丁ポリシロキサン主鎖の分子
量は、基本的には広い転回にわ1こり食えられることが
できるか、でさるたけ太さいものを選択することが好ま
しい。ことに過当なポリシロキサンは、七〇十均本合度
(数平均)が約40乃至約lυυの範囲、或はそれ以上
のも0)、すなわち主鎖か数平均で約40個乃至ILI
IJ個の範囲或はそれ以上のシロキサン単位、+:51
−0→から傷取されるポリシロキサンが好ましい。
The molecular weight of the carbazole group-containing polysiloxane according to the present invention is determined by the molecular weight of the main chain of the polysiloxane, which basically depends on whether it can be accommodated in a wide range of rotations. It is preferable to choose a thick one. Particularly suitable polysiloxanes have a 700 uniformity (number average) in the range of about 40 to about lυυ (or even more than 0), i.e., a main chain with a number average of about 40 to about 40 ILI.
IJ siloxane units or more, +: 51
Polysiloxanes that are scratched from -0→ are preferred.

光電導性固体層を形成する1こめの元亀導怪物質として
作用する、不発明によるカルレノ(ゾール基含有ポリシ
ロキサンにおい壬は、$実上ポリシロキサン主鎖の81
原子のすべてが或は一部分かそσ)9111方におい℃
カルバゾールを有jる残基と結合することができろ。こ
のようなポリシロキサンは、そのシロキサン繰返し単位
の少くとも40%、好ましくは8tJ −LL)(J 
%が側方結合カルボキシル基と結合し℃いろのが有利で
ある。末端基は別とじ℃、ポリシロキサン主鎖の5lI
IA子の丁べ1が側方カル)くゾール基と結合し1いな
い場合に&工、ホ1ノシロキサン主鎖中のカルバゾール
基を含有しない七の他の81原子は、一般的に他の反応
、例えば架慣反応を生起し千すい箔注基を有するのが好
ヱしい。
The non-inventive Carleno (sol group-containing polysiloxane) which acts as the primary moiety that forms the photoconductive solid layer is actually the 81% of the polysiloxane backbone.
If all or some of the atoms are σ)9111℃
Can it combine with a residue containing carbazole? Such polysiloxanes contain at least 40% of their siloxane repeat units, preferably 8tJ-LL)(J
% is bonded with side-bonded carboxyl groups and is advantageously 0°C. The terminal groups are stored separately at 5lI of the polysiloxane main chain.
When the carbazole group of IA is not bonded to the lateral carbazole group, the other 81 atoms that do not contain a carbazole group in the siloxane main chain are generally other It is preferable to cause a reaction, for example, a crosslinking reaction, and to have a 1000-metre foil annotation.

本発明による、九′Itn性固体層などをv!4製する
kめの、カルバゾール基含有7% IJシロキサンは、
室温におい又固体状であう又も、高粘性乃至粘性であっ
てもよい。本発明によるポリシロキサンの基礎をなすポ
リシロキサン主鎖の1合度が尚い場合には、これからv
I4製される製品は一収的に室温におい又固体状である
か、或は少くとも高粘性であり、この場合ム合度か低減
するにともなう1常に粘度も低減する。同様にし1本発
明によるポリシロキサンの室温における状態は、カルバ
ゾール基がポリシロキサン主鎖と結合される部分に介在
するアルキレン中間基(スペイサ−)に依存し、このア
ルキレン中間基が長いほど粘度は低下し、しからさる構
造におい1本発明のカルバゾール基含有ポリシロキサン
のガラス転移点は逆転する。
In accordance with the present invention, a 9'Itn solid layer, etc. The 7% carbazole group-containing IJ siloxane manufactured by No. 4 is:
It may be solid at room temperature or may be highly viscous to viscous. If the degree of unity of the polysiloxane main chain forming the basis of the polysiloxane according to the invention is still low, then v
The products produced are solid at room temperature, or at least highly viscous, and as the viscosity decreases, the viscosity also decreases. Similarly, the state of the polysiloxane according to the present invention at room temperature depends on the alkylene intermediate group (spacer) present at the part where the carbazole group is bonded to the polysiloxane main chain, and the longer this alkylene intermediate group, the lower the viscosity. However, in this structure, the glass transition point of the carbazole group-containing polysiloxane of the present invention is reversed.

従9℃、室温におい℃固体状の本発明によるポリシロキ
サンにおい℃、カルバゾールtill鎖基とポリシロキ
サン主鎖との間の中間基アルキレンは宮に短鎖長のもの
である。
In the solid polysiloxane according to the invention at room temperature below 9°C, the intermediate alkylene group between the carbazole still chain group and the polysiloxane main chain is of very short chain length.

室温におい℃固体状の本発明によるポリシロキサンから
は、有利な悪球で直接的に%江「つであり脆弱でない元
’ME導性固体層が形成される。このような固体状ポリ
シロキサン国おい如、ポリシロキサン主鎖のすぺ又のS
t原子がカルノ(ゾール含有側方残基と結合され℃いろ
のか好ましいが、このポリシロキサン主鎖中の一部の8
1原子はカルノ(ゾール基でなく、一般的には、かつ好
ましくは、他の反応、例えば架橋反応に活性の基と結合
されることもできる。室温におい℃固体状のカル〕きゾ
ール基含有ポリシロキサンから調製される元%導注j−
は、金属表口に対し億め壬良好な接層性を有し、これは
ポリシロキサン中における5t−H結合部分を少くする
ことにより史艮良好にすることかできる。
The polysiloxanes according to the invention, which are solid at room temperature (°C), form conductive solid layers that are directly transparent and non-brittle in an advantageous manner. Hey, the S of the polysiloxane main chain
Preferably, the t atom is bonded to a carno(sol)-containing side residue, but some 8 in the polysiloxane backbone is
One atom contains a carno (but not a sol group), which is generally and preferably also bonded with a group active in other reactions, such as crosslinking reactions. Original % injection prepared from polysiloxane
The polysiloxane has excellent adhesion to the metal surface, and this can be improved by reducing the number of 5t-H bonding moieties in the polysiloxane.

室温において粘性の、或は高粘性の本発明によるカルボ
キシル基含有ポリシロキサンから嶋%注、非脆弱注の光
%尋江固俸層を形成する1こめには、例えば固体状ポリ
マー結合削を使用して、こ1シニ粘注或は重粘性カルバ
ゾール基含有ポリシロキサンを組込むことかでざる。し
かし7よがら、至温でV5注、或は高粘凹のカルバゾー
ル基含有ポリシロキサンから[祐54L注、非脆弱1の
尤電専注固俸層ゼ形成するためには、側方結合カルバゾ
ールMY’!するシロキサン繰返し単位σ〕ほかに、他
の反応に活性の基を打てる若干υ)シロキサン繰返し単
位をも含有づるポリノロキサンを便用するのが有利であ
る。このような反応活性基とし℃は、例えはボリア0−
1−+jン主鎖中のSl原子に結甘さ几る水素原子、エ
ポキシド基、イソシアナート基、I合口」能のオレフイ
ンニN粘合及びこれに類する蕪が挙げられる。元′−2
4性固体ノー形成のため、餉万力ルポキ/ル基のほかに
追加「りに他の活性基’kWする粘性乃至高粘性ポリシ
ロキサンには、場合により史に他の元114注層裕成分
を添加し1層形成し、そtしから増の架橋及び吠比を行
わせつつ、ポリシロキブン偵−基を全体的或は部分的に
反応させることかでさる、従−/壬、蔓已において粘性
或は高粘性のカルバゾール基含有ポリシロキサンにおい
壬、これが架構された固体状のit導性層の形成に関連
する場せ、活性基の個数は、このようなポリシロキサン
から形成される層の十分な架橋硬化が行われ得ろ程度に
大きなものでなければならない。
For example, solid polymer bond cutting is used to form a solid layer of a non-brittle material from the carboxyl group-containing polysiloxane of the present invention which is viscous or highly viscous at room temperature. Therefore, it is necessary to incorporate a highly viscous polysiloxane containing a polysiloxane or a heavy viscosity carbazole group. However, in order to form a non-brittle layer from carbazole group-containing polysiloxane with V5 or high viscosity at the lowest temperature, it is necessary to '! It is advantageous to use polynoroxanes which, in addition to the siloxane repeating units σ], also contain some siloxane repeating units υ) which provide active groups for other reactions. For example, boria 0-
Examples include a hydrogen atom, an epoxide group, an isocyanate group, an olefin, an olefin, and a similar type thereof, which are attached to the Sl atom in the main chain of 1-+j. Original'-2
Because of the formation of 4-functional solids, other active groups may be added in addition to the 4-functional solid group. is added to form one layer, and then the polysilokibane group is reacted in whole or in part while further crosslinking and bonding are carried out. In the case of viscous or highly viscous carbazole-containing polysiloxanes, where this is relevant for the formation of structured solid IT-conducting layers, the number of active groups in the layer formed from such polysiloxanes is It must be large enough to allow sufficient crosslinking and curing.

−収面に粘性或は高粘性のカルバゾール基含有ポリシロ
キサ/は、少くとも(7,5%の、好ましくは少くとも
1%の反応用、ことに架橋反応用活性基を有するシロキ
サン繰返し準位!官有する。粘性戚は高粘性の側方カル
バゾール基含有ポリシロキサン中に′j6けるこのよう
な活性基含有量上限は、層に一定の光電24性tもたら
丁1こめに十分な、側方に存在するカルバゾール基の個
数により決定されるべきである。従つ工、粘性乃至高粘
性側方カルバゾール基含有ポリシロキサンから架橋され
た元14性固坏層を形成するため、粘性或は高粘性のカ
ルバゾール基含有ポリシロキサン中には、この棟の活性
基を有するシロキサン繰返し単位を約2υ%を超えない
範囲で含有することが好ましい。
- a viscous or highly viscous polysiloxane containing carbazole groups with at least (7.5%, preferably at least 1%) of siloxane repeating levels with reactive, especially crosslinking active groups! The upper limit of the content of such active groups in the highly viscous lateral carbazole group-containing polysiloxane is that the viscosity of the lateral carbazole group is sufficient to give the layer a constant photoelectric property. The number of carbazole groups present in the polysiloxane should be determined by the number of carbazole groups present in the polysiloxane. The carbazole group-containing polysiloxane preferably contains no more than about 2 υ% of siloxane repeating units having active groups of this type.

本発明による、高弾性の元′wL導性固体層を形成する
vC通する粘性乃至高粘性カルバゾール基含有ポリシロ
キサンを架構する1こめ、ポリシロキサンの活性基は1
合可能の二ム結合の場合のように直接旧に、或は架橋剤
を介して相互に反応せしめられ得ろ。架橋剤としては、
例えは2個以上のオレフインニ皇結合を有する化合物、
丁tわちジオール或はポリオール、ジアミン或はポリア
ミン、ジカルボン酸或はポリカルボン緻、ジ或はポリカ
ルボン緻(7)環式アニヒドリド及びこれに類するもの
が考えられ、この架橋41の種類は公知の通り活性基の
種類に依存する。
According to the present invention, when constructing a VC-permeable viscous to highly viscous carbazole group-containing polysiloxane to form a highly elastic primary conductive solid layer, the active groups of the polysiloxane are
They can be reacted with each other directly, as in the case of dime bonds which can be combined, or via crosslinking agents. As a crosslinking agent,
For example, a compound having two or more olefinic bonds,
In other words, diol or polyol, diamine or polyamine, dicarboxylic acid or polycarbonate, di- or polycarbonate (7) cyclic anihydride, and the like can be considered, and the type of this bridge 41 is known. It depends on the type of active group as shown below.

本発明により光電4法固体層を形成するための光電導性
化合物とし又作用するべき不兄閃によるカルバゾール基
含有ポリシロキサンとしては、ことに以下の式(1)に
より表わされるシロキサン繰返し単位を有jるものか有
利である。
In particular, the carbazole group-containing polysiloxane produced by Fuensen, which is to act as a photoconductive compound for forming the photoconductive solid layer according to the present invention, has a siloxane repeating unit represented by the following formula (1). It is advantageous to be able to do so.

1こだし上記式中、Rムはことに1乃至6情の炭素原子
を有するアルキル基を H2)13は相互に無関係に水
素原子、アルキル基、アルコキシ蒸、アミン基、ヒドロ
キシ基或はハロゲン原子を、またnは2或はそれ以上の
整数をそれぞれ意味する。一般式(1)のシロキサン繰
返し単位におい℃、Rムはことにメチル或はエチルl意
味し、鉤にメチルが好ILい。一般式(1)のシロキサ
ン線返し単位中におけるカルバゾール基は、置換されて
いないもの、すなわちR1及びBMがそれぞれ水素を意
味するものであるのが有利である。aは2乃至22の範
囲の整数を意味する場合が好1しく、ことに有利である
のは3乃至11の範囲の整数を意味する場合である。
1) In the above formula, R is particularly an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and n means an integer of 2 or more. In the siloxane repeating unit of the general formula (1), C and R particularly mean methyl or ethyl, with methyl being preferred. The carbazole group in the siloxane line return unit of general formula (1) is advantageously unsubstituted, ie R1 and BM each represent hydrogen. Preferably, a denotes an integer in the range from 2 to 22, particularly preferably an integer in the range from 3 to 11.

本発明によるカッシバゾール基含有ポリシロキサンは、
実際上完全に一般式(1)のシロキサン株返し単位から
構成されろことかできろが、末端基を除いて、他のシロ
キサン株返し単位、ことVC以下の−i式(It)で示
さ1しる4L位をポリンロキサン鎖中に含有−!ろこと
もできろ。本発明による尤IL導性固体層 を形成するための元1を導性化合物とし℃は、側方カル
バゾール基含有ポリシロキサンがことに1景であり、l
k有利であるか、これは央際的には完全に−;ビ式(1
)のシロ千すン練返し単位のみから構成されるものと、
末端基を除い壬一般式(1)のシロキサン繰返し単位の
ほかに他のシロキサン繰返し単位、ことに一般式側にボ
される単位を若干菫ポリシロキサン鎖中に副次的に含有
するものも含む。
The cassibazole group-containing polysiloxane according to the present invention is
Although it may be composed virtually entirely of siloxane units of general formula (1), with the exception of the terminal groups, other siloxane units, namely -i of formula (It) below VC1 Contains the 4L position in the porinloxane chain-! You can also do roto. When element 1 is a conductive compound for forming the IL-conductive solid layer according to the present invention, polysiloxane containing lateral carbazole groups is particularly suitable, and l
k is advantageous, which means that the equation (1
) consisting only of the Shiro Sensun Neregaeshi unit;
In addition to the siloxane repeating unit of the general formula (1) excluding the terminal group, it also includes other siloxane repeating units, especially those containing some units attached to the general formula side in the violet polysiloxane chain. .

−y大組)のシロキサン繰返し単位中のR1は一般式(
1)のそれに対し又附与されTこと同じ意味を有し、ア
ルキル基、ことに1乃至6個の炭素原子乞有するアルキ
ル基、例えはメチル或はエチルを意味し、ことにメチル
を意味するのが好ましく・。R4は一般式III)のシ
ロキサン株返し単位中において、架欄可能の活性基、例
えばビニル基、(メタ)アクリラート基、インシアナー
ト基或はエポキシ基を含有する残基、ならびにことに水
素を意味する。
R1 in the siloxane repeating unit of the general formula (
In addition to that of 1), it has the same meaning as T and means an alkyl group, especially an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl or ethyl, especially methyl. It is preferable. R4 means, in the siloxane monomer units of the general formula III), residues containing crosslinkable active groups, such as vinyl groups, (meth)acrylate groups, incyanato groups or epoxy groups, and in particular hydrogen. .

本発明によるカルバゾール基含有ポリ/ロモプンであっ
てことに好ましいのは、末端基を除い℃、一般式(1)
の70キサン繰返し単位のみなら丁、場合により一般式
Gl)のシロキサン繰返し単位をも含有するものである
。この好lしいカルバゾール基含有70キサンにおいて
、一般式(1)及び(il)のシロキサン繰返し単位が
0.4乃至1 二tJ、6乃至υσ〕モル割合で組合さ
れ1おり、この軛v5はIJ、8乃至l:0.2乃至O
であるのが丈に好ましい。こQ)モル割合は一般式(1
)及び但)の70キサン繰返し単位合計量に対する、谷
繰返し単位量を示す。この待に好ましい本発明ポリシロ
キサンとじ℃、末端基を除き一般式(1)の―返し率鼠
のみから成り、鈑式中の符号nかことに5を超えない数
、例えば3,4或は5を意味する場合の、常温で固体状
のポリシロキサンが含まれろ。更にまた、末端基を除き
一般式(1)の繰返し単位が80乃至99.5モル襲、
−牧弐G[)の繰返し単位がtJ、5乃至20モル%を
占め、一般式(1)中の符号nが5を超えない数を、ま
1こ一般式(11)中のR4かことに水素を意味する場
合の常温におい℃固体状ポリシロキサンも特に好ましい
。末端基を除き一般式(1)の繰返し単位が約80乃至
99モルチ、一般式〇の繰返し単位がfJl乃至20モ
ル%を占める、室温において粘性乃至部活性の本発明ポ
リシロキサンも過当である。
Particularly preferred carbazole group-containing poly/romopuns according to the invention, excluding the terminal groups, have the general formula (1)
It contains only 70 xane repeating units, and optionally siloxane repeating units of the general formula Gl). In this preferred carbazole group-containing 70 xane, the siloxane repeating units of general formulas (1) and (il) are combined in a molar proportion of 0.4 to 12 tJ, 6 to υσ], and this yoke v5 is IJ , 8 to l: 0.2 to O
It is preferable for the length. The molar ratio of Q) is expressed by the general formula (1
) and proviso that the amount of valley repeating units is shown relative to the total amount of 70 xane repeating units. The most preferred polysiloxane of the present invention is composed of only the polysiloxane of the general formula (1) excluding the terminal groups, and the symbol n in the plate is particularly a number not exceeding 5, such as 3, 4 or 5, it includes polysiloxanes that are solid at room temperature. Furthermore, the repeating unit of general formula (1) excluding the terminal group is 80 to 99.5 moles,
- The repeating unit of Makini G[) occupies tJ, 5 to 20 mol%, and the number n in general formula (1) does not exceed 5, and R4 in general formula (11) Particularly preferred are polysiloxanes that are solid at room temperature (°C) when hydrogen is meant. Also suitable are polysiloxanes of the present invention which are viscous or partially active at room temperature and have about 80 to 99 mol% of the repeating units of the general formula (1) excluding the terminal groups, and about 20 mol% of the repeating units of the general formula (0).

このような本発明による1411鎖カルバゾール基をN
jるポリシロキサンは、有機化学におい1それ自体公卸
の方法により製造される。例えばH,フィンケルマン(
Flnkelmann )及びG、レハーゲ(neh−
ag* )のマクロモレキュラー、ケミストリー(Ma
krom、 Ch@m、 )速N l 、 31(19
8U)における論橘、C,アギレラ(Aguilera
)、E、リングスドルフ(Ring@dorf )、A
、シュネラー(Schnell@r)及びR,ツエンチ
ル(Zent@l )の1980年フローレンスにおけ
ろ巨大^分子に関するIUPAC協会シンポジウムの抄
録3L16における論稿、或は上ム己すングスドルフ及
びシュ洋う−の上記速報3.557(1982)におけ
る論稿などに示されろj5にポリ(シロキサン水素)を
反応条件下にN−アルケニルカルバゾールと反応させて
得られろ。
Such a 1411-chain carbazole group according to the present invention is
The polysiloxanes described above are manufactured by methods which are themselves publicly available in organic chemistry. For example, H. Finkelman (
Flnkelmann) and G, Lehage (neh-
ag*) macromolecules, chemistry (Ma
krom, Ch@m, ) speed N l , 31 (19
8U) Ron Tachibana, C. Aguilera (Aguilera)
), E, Ringsdorf (Ring@dorf), A
, Schnell@r and R. Zentill, 1980 Florence, IUPAC Association Symposium on Large Molecules, Abstracts 3L16; J5 can be obtained by reacting poly(siloxane hydrogen) with N-alkenylcarbazole under reaction conditions, as shown in the article in the above Bulletin 3.557 (1982).

N−7/L’ケニルカルハソールハ、J、ヘラ−(He
ifer)、D、J、ライマン(Lyma nン及びW
、A、ヒユーエツト(Hev@t t )の上式己マク
ロモレキュール、ケミストリー73.48(1964)
における論稿に示されろ合成手順により、カルバゾール
及びノ・ロゲン化アルキルから裏道される。この製造手
順はポリ(メチル−シロキサン水素)の挙例につい又そ
の巻本の反応図式により示され又いる。
N-7/L'Kenilcalhasol, J, Hera (He
ifer), D. J. Lyman and W.
, A. Hev@t t's above-mentioned macromolecules, Chemistry 73.48 (1964)
The synthetic procedure presented in the paper is backtracked from a carbazole and an alkyl norogenide. This preparation procedure is illustrated by the example of poly(methyl-siloxane hydrogen) and by the reaction scheme in that volume.

反応図式 HH2C−CH H,C−(r (CH2) n−2 止揚の反応1式中、符号nは上述し1こ一般式(1)に
KI′jると同様α)整数を意味する。ま1こ符号Xは
ボリア0−?サン中(1)/ロキブ/繰返し単位の11
数を、符号yは出発材料ボリア0キプンとアルケニル刀
ルパソ°−ルとの反応後における刀ルバソ°−ル基金自
ンロキサン繰返し単位の1固数ケ慧休する。
In the reaction scheme HH2C-CH H,C-(r (CH2) n-2), the symbol n means an integer (alpha) as in KI'j in general formula (1) described above. Ma1ko code X is Boria 0-? Sanchu (1) / Rokibu / Repeating unit 11
The number, the symbol y, represents the number of units of the natural loxane repeating unit after the reaction of the starting materials borium and the alkenyl compound.

この場合符+jyは符号Xと寺しいか或はこ几より小さ
い。y z xの場合には、出発材料ホリ/口千サンの
70キサン練返し単位か丁へ(j) ルハ7’ −ル基
によりtIL侯され℃いることにな1−0y (xの場
合には出発材料ポリシーキサンとアルケニルカルバゾー
ルとの反応に際し、出発材料ボリア0キプンのジロー?
ブン繰返し単位中における5i−H結合の一部分が反応
しアここと氏なる。こσ〕庵合得られたカルバゾール基
含有ポリ/ロキサンを史に反応させ℃、ポリシロキサン
中に慎然として存在する5i−H#i合において例えは
−数式(11)中の符号R4で衣わされるよ5な他の反
応注架構基を尋人し、上記結付の全都城は一邸におい1
こσ)ような基を含有1金1L合物と1−ることかでさ
る。本発明によルカルハソール基含有ポリシロキサンの
製造については後掲の実施ヤらにより史じ詳細に説明づ
°る。
In this case, the sign +jy is smaller than the sign X. In the case of y z In the reaction of the starting material polyxane and alkenylcarbazole, the starting material boria 0 kipun's Giraud?
A part of the 5i-H bond in the repeating unit reacts and becomes a part. [σ] The obtained carbazole group-containing poly/loxane is reacted with temperature at °C, and in the case of 5i-H#i, which exists modestly in the polysiloxane, - for example, the symbol R4 in formula (11) is 5 Other reactions Note: The structure of the building group is explained to the public, and the entire city of the above-mentioned connection is in one house.
This 1-gold 1L compound containing a group such as σ) is considered to be 1-. The production of polysiloxanes containing lucalhasol groups according to the present invention will be explained in detail by the following embodiments.

本発明による側鎖カルバゾール基金1がリシロキサンに
より、極めて良好な光電導性を呵する元或専注化合物か
提供されろ。従ってこれ=で光電導社化合物としてポリ
+ N−ビニルカルバゾールが使用さrして来1こ丁べ
てσ)分野において本発明によるポリシロキサンが便用
され得り。従来のポリ−N−ビニルカルバゾールがで5
でと91こ工5に、本発明によるカルバゾール基含有ポ
リシロキサンは、例えば光電尋性l―を形成するkめ、
ドーピング剤或は増感剤と共に元′1碑性化合物として
有利に使用される。これまでポリ−N−ビニルカルバゾ
ールと共に慣用され1米1こ、それ自体公知のドーピン
グ剤或は増感剤として、例えは〃ルバゾール柄と共に電
荷転移始体を形成する電子供与体を使用丁Φことができ
心。或は七の代りに、ルイス酸、?lJえは21417
−ドリニトロフルオレノン、2.4,5.7−チトラニ
トロフルオレノン、クロルアニル或はテトラシアノキノ
ンジメタンモffl用できる。
The side-chain carbazole base 1 according to the invention is provided by resiloxane as an original or proprietary compound with very good photoconductivity. Therefore, the polysiloxane according to the invention can be conveniently used in the field where poly+ N-vinylcarbazole has been used as a photoconductive compound. Conventional poly-N-vinylcarbazole is 5
5, the carbazole group-containing polysiloxane according to the present invention can be used, for example, to form a photovoltaic l-
It is advantageously used as a primary compound together with doping agents or sensitizers. Until now, it has been commonly used with poly-N-vinylcarbazole to use as a doping agent or sensitizer, which is known per se, for example an electron donor which forms a charge transfer initiation site together with the carbazole pattern. I can do it. Or Lewis acid instead of seven? lJEha21417
-Dolinitrofluorenone, 2,4,5,7-titranitrofluorenone, chloranil or tetracyanoquinone dimethane moffl can be used.

本発明民よるカルバゾール基含有ポリシロキサンは、尚
弾性、非脆弱性の元%導性固体層を形成丁@ために%に
有用である。
The carbazole group-containing polysiloxanes of the present inventors are useful for forming conductive solid layers that are still elastic, non-brittle.

この光′亀導性固体層を形成する1こめには、室温にお
い1固体状のカルバゾール基含有ポリシロキサンを使用
し℃、それ自体公知の方法により、例えばそのffl液
を注下し、l@媒を蒸散させろことにより七〇)まま光
電導性固体層が形成されり。粘性或は高粘性のカルバゾ
ール基含有ポリシロキサンを使用し1光蒐導性固体I−
を形成丁ゐfこめには、場合VL応じて架橋剤及び/或
は架橋開始剤と共に基体上に所滋の厚さの1−を形成し
、久いでこの粘性或は御粘性のカルバシーy基@Mボリ
ンロキサン中に含有されろ油性基VC,工り架構させる
。このj−の架構の=めB1−H結合にもTこらされる
#5社基とし壬はジエン或はポリエンが過当でめって、
これは例えば以下の式に示されるように七れ目体公知の
態様で5i−H結合に反応する。
To form this light-conducting solid layer, a solid carbazole group-containing polysiloxane is used at room temperature, and its ffl liquid is poured into it by a method known per se at 1°C. By allowing the medium to evaporate, a photoconductive solid layer is formed. 1-light conductive solid I- using viscous or highly viscous carbazole group-containing polysiloxane
In the process, depending on the VL, a film of a certain thickness is formed on the substrate together with a crosslinking agent and/or a crosslinking initiator, and then this viscous or viscous carboxy group is formed. @M The oil-filtering group VC contained in borin loxane forms a structure. The #5 company base, which is also affected by the = B1-H bond of this j- frame, is due to excessive diene or polyene.
This reacts with a 5i-H bond in a known manner as shown in the following formula, for example.

H,C−OH+CI、 +CH−CH2或は 上ae式中、UはO或は任意σ)整数を、Vは同様にU
叙χ意味する。こび)粘址或は尚枯社のカルバソール基
含有70キブン中における活性基としては、flJ エ
は本合口J吐のオレフインニi結合を有する残基、νり
えはビニル基或は(メタンァクリロイル基を有する残基
か挙げられ、光電導性層の架橋吠化は、史に栄慣削を厳
加することな(行われ得ろ。
H, C-OH+CI, +CH-CH2 or in the above ae formula, U is O or an arbitrary σ) integer, and V is similarly U
meaning. As active groups in the carbazole group-containing 70 compounds of Shokosha, flJ is a residue having an olefin-i bond, and ν is a vinyl group or (methaneacryloyl). However, cross-linking of the photoconductive layer may be carried out without imposing any serious restrictions on the structure of the photoconductive layer.

この5MJ@に、例えは熱1合開姑削或は元貞合開始4
jの工うな架構開姑剤を使用して、光電導性層の乗慣が
所定のバメーンのuII11形成を同時に行うこともで
さる。
For this 5MJ@, for example, heat 1 go open mother-in-law cutting or former sadaai start 4
It is also possible to simultaneously form UII11 of a predetermined component in the photoconductive layer by using a structure opening agent such as J.

本発明によQ小すシロキサンは、七の金属衣圓に対する
艮好な依7#注の故に、汲与シート或は電子写真印刷版
、ことに電子写真オフセット印刷版−SVfる元′砥尋
注層形地に軸に有用である。
The Q-siloxane according to the present invention is suitable for use in printing sheets or electrophotographic printing plates, especially electrophotographic offset printing plates, because of its excellent dependence on metal coatings. Useful for axes in layered terrain.

側鎖カルバゾール基含有ポリシロキサンを7tt導性化
合物とし壬、丁なわち活性機の作用下に電荷を担持する
化合物とし℃有する充電4注層は、そのほかに史にこの
層の感jt、注及び光電導性を増大させろ1こめの増感
作用をする1ヒ合物とし壬、有機染料或は有機顔料を含
有する。本発明による光電4注固体層を形成する1こめ
の増感作用を果す感光注1ヒ合物とし又は、ポリーN−
ビニルカルノ(ゾール或は低分子輩カルバゾール化合物
から形成されろ光電導性層の増感用とし又公知慣用の丁
べ又の有機染料或は有機jl#I科が原則的に便用可能
である。これに属するものとしては、分光増感性染料、
すなわち光電導性層の衿元感度を壇太さ七る有機染料な
らびに活性線の作用下に電荷担体を形成し得る染料、顔
料か挙げられる。増感作用を有する元蒐導性均員率−1
−1すなわち光電導性化合物と増感作用を有する16合
初とを単一の均*J*中に含有する元%4注層を形成す
る1こめの増感作用化合物とし又は、それ自体公知であ
り慣用され1いる溶解性の有機染料が物に過当である。
In addition to this, the charged 4-layer layer is made of polysiloxane containing a side chain carbazole group as a 7tt conductive compound, i.e., a compound that carries a charge under the action of an activator. In order to increase the photoconductivity, it contains an organic dye or an organic pigment which has a sensitizing effect. According to the present invention, a photosensitive compound having a sensitizing effect to form a photoconductor solid layer or a poly-N-
For sensitizing the photoconductive layer formed from vinylcarnosol or low-molecular-weight carbazole compounds, well-known and commonly used organic dyes or organic dyes can be used in principle. These include spectrally sensitizing dyes,
Namely, examples thereof include organic dyes which greatly increase the sensitivity of the photoconductive layer, as well as dyes and pigments which can form charge carriers under the action of actinic radiation. Original conductivity ratio with sensitizing effect -1
-1, that is, a photoconductive compound and a sensitizing compound having a sensitizing effect are contained in a single layer *J*, or as a sensitizing compound forming a layer, or as a sensitizing compound that is known per se. Soluble organic dyes, which are commonly used, are suitable.

これに対して有機顔料は、増感性を有する光電導性の異
種多層、丁なわ5増感作用化合物と光電導性化合物とが
相互に分離独ニした複数層中に含有されている光電導性
層に使用される。有機染料或は有機調料は、本発明によ
ろ光電導性固体層に対し、増感作用化合物について公知
慣用の菫におい℃添加される、例えば増感性光電導性の
均質率一層は、この光電導性層中に含有されろ光電導性
化合物に対し、一般的に約0.5乃至101111%の
電で使用される。
On the other hand, organic pigments have photoconductive properties in which a sensitizing compound and a photoconductive compound are separated from each other and are contained in different photoconductive multilayers with sensitizing properties. used for layers. According to the invention, an organic dye or an organic preparation is added to the photoconductive solid layer in a known and customary manner for sensitizing compounds. It is generally used in an amount of about 0.5 to 101111%, based on the photoconductive compound contained in the conductive layer.

ことに本発明による光電導性単−均IX層用に増感作用
をも1こら1化合物とじ1便用されるべき有機染料とし
ては、例えはトリアリールメタン染料、キサンチン染料
、シアニン架科、チアジン染料などが挙げられる。代表
的なものとじ又、ローダミ7B、ローダミン6G、マラ
キットグリーン、メチルバイオレット、クリスタルバイ
オレット、ペンカルローズ、チオシアニン、メチレンブ
ルーなどが挙げられる。また増感作用を有する光電尋性
異橿多虐用の増恐作用とし℃過当な染料或は顔料とし又
は、こと1こアゾ染料、フタロシアニン及びイソインド
リン染料か挙げられる。本発明による均質率一層の、及
び異種多層の何れのタイプのtt導導性にも過当であり
有利なものとじ又、−遍のペリレン−3,4:9.lU
−テトラカルボン#l誘導体から形成されろ染料乃至顔
料が李けもn心。
Particularly, the organic dyes to be used in the photoconductive single-uniform IX layer according to the invention, which have a sensitizing effect in one compound, include, for example, triarylmethane dyes, xanthine dyes, cyanine dyes, Examples include thiazine dyes. Representative examples include Rhodamine 7B, Rhodamine 6G, Malaquit Green, Methyl Violet, Crystal Violet, Pencal Rose, Thiocyanine, and Methylene Blue. In addition, dyes or pigments which have a sensitizing effect and have a sensitizing effect in excess of ℃ may be mentioned, such as azo dyes, phthalocyanine and isoindoline dyes. The homogeneous ratio according to the invention is reasonable and advantageous for both single-layer and heterogeneous multi-layer tt conductivity types. lU
- Dyes or pigments formed from tetracarboxylic #l derivatives are very common.

この可溶性及び非浴性のペリレン−3,4:9゜lO−
テトラカルボン酸鰐導体に属するものとしてペリレンテ
トラカルボン酸無水物のほかに、ペリレンテトラカルボ
ン酸エステル及びペリレンテトラカルボン酸アミドが挙
げられる。本発明による元t4性固体j−の1こめの増
感作用化合物とし又は、N、N−ビス(2,6−ジクロ
ルフェニル)−ペリレン−3、4: 9,1υ−テトク
カルボン酸ジイミドのほかに、ことに以下Q)一般式(
2)、QV)及び〜)Qノベリレン−3,4:9,1t
J−テトラカルボ/#1ジイミドvj4坏が過当である
This soluble and non-bath perylene-3,4:9゜O-
In addition to perylenetetracarboxylic anhydride, examples of tetracarboxylic acid conductors include perylenetetracarboxylic acid esters and perylenetetracarboxylic acid amides. In addition to N,N-bis(2,6-dichlorophenyl)-perylene-3,4:9,1υ-tetoccarboxylic acid diimide as a sensitizing compound of the t4-based solid j- according to the present invention, In particular, the following Q) general formula (
2), QV) and ~) Q Noberylene-3,4:9,1t
J-tetracarbo/#1 diimide vj4 ring is excessive.

(ハロゲン) 止揚の一般式(2)−(ト)中におい又、R6は水素原
子或はl乃至611i7Aの、ことに2乃至3個の炭素
原子を有し、場合によりヒドロキシ、アルコキシ、フェ
ニル、或はシクロアルキルにより直決され得ろアルキル
基を、Zはp−フェニルアゾアニリノ基、フェニルナオ
基或はアニリノ基を、R6は水素原子、アルキル、アリ
ール、アルアルキル或はアルカリールの各基を、R7は
水素原子、アルキルゑ或は芳香族環を、rはO乃至6を
、i、tは一般式旬或はq)の芳香族環骨核に対するノ
10ゲン直洪度、ことに敢大瞠可Nしハロゲン置換度の
45乃至75%の範囲におけろ寛快度をそれぞれ意味す
る。
(Halogen) In the general formula (2)-(g), R6 has a hydrogen atom or 1 to 611i7A, especially 2 to 3 carbon atoms, and optionally hydroxy, alkoxy, phenyl, Alternatively, cycloalkyl can be directly determined by an alkyl group, Z is a p-phenylazoanilino group, phenylnao group, or anilino group, and R6 is a hydrogen atom, an alkyl, aryl, aralkyl, or alkaryl group. , R7 is a hydrogen atom, an alkyl or an aromatic ring, r is O to 6, i, t are general formulas or q), and 10-gen dihydrogen to the aromatic ring bone, especially It means a degree of tolerance in the range of 45 to 75% of the degree of halogen substitution.

一般式40)の化合FIf−おい(、符号rか○でない
場合、こと((2乃至4の範囲σ)数を意味する場合に
は、R5は好ましくは水素原子を意l#、する。一般式
■において「=υであり、R5が場合によりtX換され
得る2乃至3個の炭素原子を有するアルキル基、例、t
は10ビル、l−ヒドロキシフロビル、l−メトキシフ
ーロビル、l−フェニルエチル或ハl−シクロヘキシエ
チルを意味丁心ジヘリレンテトラカルボン[8得体が惨
め℃有利である。また本発明による光電導性固体層の増
感の1こめに鉤に有利なものとし工、一般式(イ)にお
いてR7が水素原子或は低級アルキル基、例えばブチル
基を意味し、芳香族環骨核が塩素により置換されており
、その塩素化度が−j収弐的の芳香族環骨核に対し最大
限度の20乃至50%程度のものか卒げられる。
When the compound FIf-O (of the general formula 40) means a number ((range σ in the range of 2 to 4), when the symbol r or ○ is not present, R5 preferably represents a hydrogen atom.General In the formula (2), "=υ, and R5 is an alkyl group having 2 to 3 carbon atoms that can optionally be replaced with tX, e.g., t
means 10 biru, l-hydroxyfurovir, l-methoxyfurovir, l-phenylethyl or halicyclohexyethyl. Furthermore, in the sensitization of the photoconductive solid layer according to the present invention, R7 in the general formula (a) means a hydrogen atom or a lower alkyl group, such as a butyl group, and an aromatic ring The bone core is substituted with chlorine, and the degree of chlorination is about 20 to 50% of the maximum limit relative to the -j astringent aromatic ring bone core.

上述したような九電導性化合物及び壇Jへ作用化合安の
ほかに、本発明による元を導性固体層は、史に光電褥注
層用に慣用され1いる組成分、例えば結合剤、架+I4
4」、反応助剤、可塑剤或はカルバゾール基と亀荷私移
緒体を形成し得る電子供与体、例えば2,4.7−ドリ
ニトロフルオレノン’&含有することができる。本発明
による光電導性固体層の丑に有利な点は、そσ)調製の
ために光電4a化合物とじ又便用されるべき側鎖カルバ
ゾール基含有ポリシロキサンが結合剤或は可塑剤の追加
的併用を省略することができ(たとえ併用が可能であっ
ても)、しかも高い光電導性を維持しつつ高弾性、非脆
弱性の固体mをもたらし得ることである。
In addition to the electrically conductive compounds and the chemical compounds described above, the electrically conductive solid layer according to the present invention may contain components conventionally used for photovoltaic bed layers, such as binders, crosslinkers, etc. +I4
4, a reaction aid, a plasticizer, or an electron donor capable of forming a monomer with a carbazole group, such as 2,4,7-dolinitrofluorenone'&. The advantageous feature of the photoconductive solid layer according to the invention is that σ) The polysiloxane containing side chain carbazole groups to be used as the photoconductive 4a compound for its preparation can be prepared without the addition of a binder or plasticizer. It is possible to omit the combination use (even if the combination use is possible), and to produce a highly elastic, non-brittle solid m while maintaining high photoconductivity.

本発明により均質、単一層の尤%尋注固体鳩を形成する
1こめ、元11L尋注化付物として作用する本晃明カル
バソール基金、目ボリシロギサンな、増感作用化合物と
し゛(愼kg−’]°る有機栄料、ならびに場合により
史に他の奈加剤と均質((混・1uシ、この均’J[混
合物を所菫の厚さに成層゛rる。この場合上記組成分を
有機静脈にq誓に混合浴、叫させ、この溶成を担体上に
はどこし、溶媒を黒数さぜ℃乾線厚さη′v u・8乃
至40μmの上ム己組成分j―を形成するのが好ましい
。この層厚さく工用運に応じ℃相違し、電子写真印刷版
の場合はことに0.8乃至6μm、複写フィルムの場合
には約5乃至25μmとする。本発明による均質、早一
層の元を埠1固体層を調製するため、本発明の粘性或は
高活性ポリシロキサンは、史に他の結合剤馨併用する必
賛なく担体上に光電45層を形成し1こ後、上述し1こ
ようにポリシロキサン中の活性基の架橋硬化にエリ層を
同化する。
According to the present invention, a sensitizing compound, such as carbazole base, borishirogysan, which acts as an additive to form a homogeneous, single-layered solid layer, is used. In this case, the above components are added to the organic nutrient mixture and, if necessary, other additives and homogeneous ((mixed with 1 u), this homogeneous mixture is stratified to the desired thickness. Add a mixed bath to the mixture, place this melt on the carrier, and mix the solvent with a black number to form an upper layer with a dry line thickness of η′v u・8 to 40 μm. The thickness of this layer varies depending on the industrial operation and is preferably between 0.8 and 6 .mu.m for electrophotographic printing plates and about 5 and 25 .mu.m for copying films. To prepare a solid layer, the viscous or highly active polysiloxane of the present invention can be used in conjunction with other binders to form a photoelectric layer on a carrier. , as mentioned above in 1, thus assimilating the E-layer to the cross-linking curing of the active groups in the polysiloxane.

異檀多鳩の本発明による光電導性固体層は、それ自体公
知の方法で、すなわちfず担体上に増感作用有機染料或
は有機顔料の第1層を形成する。
The photoconductive solid layer according to the invention of Idantahato is produced in a manner known per se, ie by forming a first layer of a sensitizing organic dye or organic pigment on an fs carrier.

この第1F−は例えば担体上に増感作用化合物を真仝蒸
虐して形成されることかでさる。しかしながらこの第1
層形成は壇感性有機染料戚は有憬顛科を有機の、好まし
くは易揮発性の溶媒に早独で或はこのために慣用の結合
剤、ことに遮断層特注を示し得る結合剤と共に溶解させ
、担体上にほどこすのか好ましい。浴剤熱#!1恢、こ
の増感狂有機染料或はM機w4科の第1ノーは御飯的に
0.υ05乃主5μm、ことにυ、l乃至1.5μmの
厚さを有する。次いでこの第1層上に側鎖カルバゾール
基含有ポリシロキサンで、場合1こより他の併用范加剤
と共に第21−を形成jる。この第2層も本発明のポリ
シロキサンを同様に浴液とし1注下成J−するのが有利
である。こQ)乾燥後の7j−厚さは御飯的に約1乃至
40μm1好ましくは5乃至25μm1ことに7乃至1
5μmの範囲である。この異櫨多層元′ML24注層に
使用されるべき本発明ポリシロキサンは、上述し1こよ
5に粘性或は−粘性力ものを使用し、層形成後、七の架
m硬化により/Iiを固化することが好ましい。また層
形成用に便用される溶媒は、低沸点、易揮発性のもの、
例えはテトラヒドロフランの如さが好ましい。
The first F- is formed, for example, by steaming a sensitizing compound onto a carrier. However, this first
The layer formation can be carried out by dissolving the polymer in an organic, preferably readily volatile solvent, either alone or together with a binder customary for this purpose, especially a binder which can be used to customize the barrier layer. It is preferable to apply it on a carrier. Bath salt fever #! 1.The first no of this sensitizing organic dye or M machine w4 class is 0. It has a thickness of υ05 to 5 μm, in particular υ,1 to 1.5 μm. Next, on this first layer, a 21st layer is formed of a polysiloxane containing a side chain carbazole group together with other additives. This second layer is also advantageously formed by pouring the polysiloxane of the invention into a bath solution. Q) The thickness of 7j after drying is generally about 1 to 40 μm, preferably 5 to 25 μm, especially 7 to 1
The range is 5 μm. The polysiloxane of the present invention to be used for this multi-layer original 'ML24 injection layer is prepared by using the above-mentioned viscous or -viscous material in steps 1 and 5, and after layer formation, by curing the layer in step 7, /Ii is applied. It is preferable to solidify. In addition, solvents conveniently used for layer formation include those with low boiling points and easy volatility;
For example, tetrahydrofuran is preferred.

本発明によろ充電導性固体層は、従来のポリ−N−ビニ
ルカルバゾールから形成される元124性+mと同等の
秀れ1こ光電導性を示すのみでなく、金属表(8)に対
するより良好な接着性ならひに艮好な機械的特注、こと
に可涜性におい1従米のものを俊鴛する。従つマまた、
これは電子写真記録材料、例えば抜写技術分封における
汲写シート、電子写真材料用、こと′L蛋子写真オフセ
ット>力作>tS材料として力れ又いゐ。
The charging conductive solid layer according to the present invention not only exhibits excellent photoconductivity equivalent to that of the conventional poly-N-vinylcarbazole base material, but also exhibits better photoconductivity than the metal surface (8). If it has good adhesion, it will be suitable for mechanical customization, especially for those with a low level of sacrificial properties. Followers also
It is also useful as an electrophotographic recording material, such as a copying sheet for copying techniques, an electrophotographic material, and a tS material.

電子写真記録材料は、本発明による九′社導江固体j−
を導′電江担体上に形成することにより作製される。電
子写真材料用の専′1性担体としてi工、原則的に電子
写真記録材料用として公知慣用のテベ又の411注担体
材料が使用可能である。用途分封に応じ1錫、鉛、ビス
マス或はこれに類する金属を合成樹脂シート、好ましく
はポリエチレンテレフタラート或はポリブチレンテレフ
タラートのようなポリエステルの7−ト上に蒸看し1こ
ものか好ましい。本発明による光導電性固体層用の担体
として、導電性%妹紙も使用され得る。十坦扁平な担体
のほかに円筒状担体、例えは金属製円筒体或は金属表面
を有する円筒体も使用され得る。本発明による光電24
aの固庫膚は、電子写真6己録材料作製の1こめ、それ
自体公知慣用の態様で導′ML注担体上に形成されろ。
The electrophotographic recording material according to the present invention is a
It is fabricated by forming a conductive layer on a conductive carrier. As a specialized carrier for electrophotographic materials, it is possible to use, in principle, the well-known and customary Tebemata 411 carrier material for electrophotographic recording materials. Depending on the intended use, tin, lead, bismuth or similar metals are preferably vaporized on a synthetic resin sheet, preferably a sheet of polyester such as polyethylene terephthalate or polybutylene terephthalate. Conductive paper may also be used as a carrier for the photoconductive solid layer according to the invention. In addition to flat carriers, cylindrical carriers, for example metal cylinders or cylinders with a metal surface, can also be used. Photoelectric 24 according to the invention
During the preparation of the electrophotographic material, the solid layer in a is formed on the ML injection carrier in a manner known per se and commonly used.

好ましい方法は元電導!11.園体層tvI4製するの
と同時に、すなわち充電導性固体層を411L性担坏上
に浴液注下により形成することである。
The preferred method is original conduction! 11. At the same time as forming the garden layer tvI4, that is, a charging conductive solid layer is formed on the 411L support by pouring a bath solution.

電子写真記録材料は、このような材料作製のための公知
慣用の態様において、導電性担体と光電導性固体層との
間に、また多層光電導性層を有する記録材料の場合も各
光電導性層の間に、金属酸化物、例えば酸1ヒアルミニ
ウム或はポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリアク
リラート、ポリスチロールなどのようなポリマーから成
る遮断層を設けることかでさる。
Electrophotographic recording materials, in the known and customary manner for the preparation of such materials, have a structure between an electrically conductive carrier and a photoconductive solid layer, and also in the case of recording materials having multiple photoconductive layers, between each photoconductive layer. A barrier layer consisting of a metal oxide, such as hyaluminum acid, or a polymer such as polyamide, polyvinyl alcohol, polyacrylate, polystyrene, etc., can be provided between the secondary layers.

以下の実施例により本発明を史に詳細かつ具体的に説明
する。この実施例中において便用されろ部及びパーセン
トは特に説明が附されない限り1童に関するものである
。容Ii部割合はky当りのリットル容積である。すべ
ての実施例において記載されるカルバゾール!!換ポリ
シロキサン製造のための反応は音素雰囲気中において行
われる。
The present invention will be explained in more detail and concretely by way of the following examples. The units and percentages used in this example refer to one child unless otherwise specified. The volume Ii part ratio is the liter volume per ky. Carbazole described in all examples! ! The reaction for producing the converted polysiloxane is carried out in a phonetic atmosphere.

実施例1 ポリ〔メチル−(3−(9−カルバゾイル)プロピル)
−シロキサン〕の製造 3.6 都のポリ−(メチル−シロキサン水X)、!−
13,68gの9−アリルカルバゾールとを150容量
部の無水トルエンに俗解させ1こ。ヘキサクロロ白金酸
(インプロパツール中lυ%)の触媒同量を脩加した後
、該溶液を攪拌しつつ20時間にわたり80℃で加熱し
た。反応混合vlJを濾過し、生成ポリマーを氷冷ヘキ
サンに沈澱させた。2回反覆処理後、理論菫の86%に
相当する13.83 fiのカルバゾールWL換ボリシ
ロキサンン得た。48Cのガラス転移点l有するこのポ
リマーは、工R分スペクトル法、NMRスペクトル法、
ゲル浸透クロマトグラフ法及び元素分析により固定され
た。元素分析の結果は以下の通りであった。
Example 1 Poly[methyl-(3-(9-carbazoyl)propyl)]
-Siloxane] Production 3.6 Miyako's poly-(methyl-siloxane water X),! −
13.68 g of 9-allylcarbazole was dissolved in 150 parts by volume of anhydrous toluene. After adding a catalytic equivalent amount of hexachloroplatinic acid (lυ% in Impropatol), the solution was heated at 80° C. for 20 hours with stirring. The reaction mixture vlJ was filtered and the resulting polymer was precipitated into ice-cold hexane. After two repetitions, a carbazole WL-substituted polysiloxane of 13.83 fi, corresponding to 86% of the theoretical violet, was obtained. This polymer, which has a glass transition temperature of 48C, can be used for various methods such as chromatographic spectroscopy, NMR spectroscopy,
Fixed by gel permeation chromatography and elemental analysis. The results of elemental analysis were as follows.

元素分析        CHN (C!1.H17NO8l)   理論1直  71.
157   b、41   コ、24(267,38)
     実演10直  71.5LJ   6.70
 5.04実施例2 ポリ−〔メチル−(6−(9−カルバゾイル)ヘキシル
)−シロキサン」の製造 3.6sのポリ−(メチル−シロキサン水素)及び16
−46 Moの9−(5−へキセニル力ルパゾール)を
150谷駕部の無水トルエンに溶解させ、実施例1に記
載されたように反応させfこ。反応混合物を1値して浴
媒を除去し、室温で隔粘性の残渣ポリマーをヘキサンで
多数回洗浄した。
Elemental analysis CHN (C!1.H17NO8l) Theory 1st shift 71.
157 b, 41 ko, 24 (267,38)
Demonstration 10 shifts 71.5LJ 6.70
5.04 Example 2 Preparation of poly-[methyl-(6-(9-carbazoyl)hexyl)-siloxane] 3.6s of poly-(methyl-siloxane hydrogen) and 16
9-(5-hexenyllupazole) of -46 Mo was dissolved in 150 g of anhydrous toluene and reacted as described in Example 1. The reaction mixture was brought to one level, the bath medium was removed, and the residual polymer, which was viscous at room temperature, was washed multiple times with hexane.

収蓋17.35 r 、理論量の94%、このようにし
て得られ1こカルバゾール基含有ポリシロキサンは、カ
ラス転移点8℃であり又、実施例1と同様の分析を行っ
た。
The monocarbazole group-containing polysiloxane thus obtained, having a container capacity of 17.35 r and 94% of the theoretical amount, had a glass transition point of 8° C., and was analyzed in the same manner as in Example 1.

元素分析         CHN (C19)123 NO8i )   理論値  73
.74 7.49 4.53(309,47)    
実測値  73.(J4  7.44  4.81実施
例3 ポリ−〔メチル−(11−(9’−カルバゾイル)ラン
チシル−シロキサン〕の製造 3.6都のポリ−(メチル−シロキサン水素)及び21
.09sの9−(LL+−ウンデシルカルバゾール)を
実施例1のようにし1: 15υ容瀘部の無水トルエン
に溶解させ1こ。反応混合Wを1遇して溶媒を除去し、
室温におい℃油状のポリマーをヘキサンで多数回洗浄し
た。
Elemental analysis CHN (C19)123 NO8i) Theoretical value 73
.. 74 7.49 4.53 (309,47)
Actual value 73. (J4 7.44 4.81 Example 3 Preparation of poly-[methyl-(11-(9'-carbazoyl) lantissyl-siloxane)] 3.6 poly-(methyl-siloxane hydrogen) and 21
.. 09s 9-(LL+-undecylcarbazole) was prepared as in Example 1 and dissolved in anhydrous toluene in a 15μ volume filter. Remove the solvent by pouring the reaction mixture W once,
The oily polymer was washed multiple times with hexane at room temperature.

収蓋22.17部、理論量の97%。Contains 22.17 parts, 97% of the theoretical amount.

−23℃のガラス転鼠点を示す生成カルバゾール基含有
ポリシロキサンを実施例1におけると同様の方法で分析
した。
The resulting carbazole group-containing polysiloxane having a glass transition point of -23°C was analyzed in the same manner as in Example 1.

元系分仇 (c24 )133 NO8i )   坤!lit 
 75.94  h、763.69(379,61J)
n      ’ji[lll直  74.5L)  
 8.76  3.74実施例4 ポリ−〔メチル−(5−(9−カルバゾイル)ペンチル
)−ンロキブン]ノffff13.6sのポリ−(メテ
ルーシロキブン水素)及び16.95 iの9−(4−
ベンチルカルバゾールフを15Ll容量部の無水トルエ
ンに溶解させ、実施例1と同様にして反応させ、反応混
合物を処理した。
Former system branch enemy (c24) 133 NO8i) Gon! lit
75.94 h, 763.69 (379,61J)
n'ji [llll direct 74.5L)
8.76 3.74 Example 4 Poly-[methyl-(5-(9-carbazoyl)pentyl)-ronkiben]offff13.6s of poly-(methyl-silokibun hydrogen) and 16.95i of 9-( 4-
Benzylcarbazolf was dissolved in 15 Ll parts by volume of anhydrous toluene and reacted as in Example 1, and the reaction mixture was worked up.

理論量の93%に相当jる16.48部のカルバゾール
基含有ポリシロキサンを得1こ。実施例1と同様にして
分析した。ガラス転位点は15℃であった。
16.48 parts of carbazole group-containing polysiloxane, corresponding to 93% of the theoretical amount, was obtained. It was analyzed in the same manner as in Example 1. The glass transition point was 15°C.

元本分1tr          CHN(eta)l
暑lN08I)。埋@憧  73.2 7.2 4.7
(295,42)    央6111櫨 72.4 7
.2 4.5′A池例5及び6 筒接溜注可涜性1−の形成 芙す也νIJ l乃至4により製造された刀ルパゾール
基金有ポリシロ干サンの25%テトラヒドロフラン溶液
?七t′Lぞれ調製した。これらの溶液をそれぞれポリ
エチレンテレフタフートシートにコーティングされたア
ルミニウム面上に注下し”(65μm厚さの鳩を形成し
、80℃において15分間加熱乾燥して9μm厚さの乾
燥油を得た。このようにして得られ1こカルバゾール置
快ポリシロキサン層はアルミニウム面上に甲し分なく良
好に依溜し、また秀れγこ49部江を示した。それのみ
でなく、この実施例4に工ろポリシロキサン層は、全く
損s?:もたも丁ことなく鋭角円な折曲に耐え得た。
Principal amount 1tr CHN(eta)l
heat lN08I). Buried @ admiration 73.2 7.2 4.7
(295,42) Central 6111 Hashi 72.4 7
.. 2 4.5'A Pond Examples 5 and 6 25% tetrahydrofuran solution of polysilicone with lupasol foundation prepared by Fusuya νIJ 1-4. Seven t'L were prepared. Each of these solutions was poured onto the aluminum surface coated on a polyethylene tereft sheet (to form a 65 μm thick dove) and dried by heating at 80°C for 15 minutes to obtain a 9 μm thick dry oil. The thus obtained carbazole-substituted polysiloxane layer adhered well to the aluminum surface and exhibited excellent gamma resistance. The polysiloxane layer processed in No. 4 could withstand sharp circular bending without any loss.

比較の1こめボIJ + N−ビニルカルバゾールのI
LI慢テトラヒドロフラン浴液t、同様にポリエチレン
テレフタラートシートのアルミニウム面上に注下し、乾
燥(80℃で15分間)して8乃至9μm厚サノす燥l
曽を得た。このポリ−N−ビニルカルバゾール層ハ憔め
”CFiM<、ポリエチレンテレフタラートシートの軽
度の屈聞により上記層は無数の細片とTL/I℃飛牧し
た。ポリ−N−ビニルカルバゾール層はアルミニウム面
に対して実寅的匡全く接7il性をもたないことを示し
た。
Comparison 1: IJ + N-vinylcarbazole I
Similarly, the LI-rich tetrahydrofuran bath solution was poured onto the aluminum surface of a polyethylene terephthalate sheet and dried (at 80°C for 15 minutes) to form a 8 to 9 μm thick layer.
I got Zeng. When this poly-N-vinylcarbazole layer was torn apart, due to the slight bending of the polyethylene terephthalate sheet, the above layer was scattered with countless pieces at TL/I°C.The poly-N-vinylcarbazole layer was It was shown that there is no practical contact with the surface.

実施例7 元11L尋注の測定 実施例1により製造されたカルバゾール基含有ポリシロ
キサンで、実施例5及び6に記載され定ようにして層を
形成した。これはカルバゾール直換ポリシロキサンのほ
かに、なおポリシロキサン(r) 力/l/ ハゾール
基と錯体を形成するトリニトロフルオレノンを層全体に
対し5モルチ含有する。この層tコロナ放電により表面
蒐位十L5 kVに荷電させ、久いで該層ft15tJ
ワットのキセノンA圧Krで波長366 nm用の干渉
フィルタを弁し12分間にわたり照射し1こ。2分間の
照射後、表面電荷の97.7%が消失しに。手拭時間は
743 msであった。
Example 7 Measurement of Original 11L Thickness A layer was formed with the carbazole group-containing polysiloxane prepared according to Example 1 as described in Examples 5 and 6. In addition to the carbazole-converted polysiloxane, it also contains 5 moles of trinitrofluorenone, which forms a complex with the polysiloxane (r) power/l/ hazole group, based on the total layer. The surface of this layer t is charged to 15 kV by corona discharge, and after a while the layer ft15tJ
An interference filter for a wavelength of 366 nm was used with Watt's xenon A pressure Kr, and irradiation was performed for 12 minutes. After 2 minutes of irradiation, 97.7% of the surface charge disappeared. The towel cleaning time was 743 ms.

光電4社はポリ−N−ビニルカルバゾールのそれに相当
てる。
Koden's four companies are equivalent to that of poly-N-vinylcarbazole.

実施例8 実施例7と同様にして、ただしこの場合は実施例4によ
り製造されたカルバゾール基含有ポリシロキサンを使用
して元′wL4性層を形成し1こが、そのカルバゾール
基は層全体に対し5七ルチのトリニトロフルオレノンに
よりドーピングされている。
Example 8 A base layer was formed as in Example 7, but in this case the carbazole group-containing polysiloxane prepared according to Example 4 was used to form a base layer, except that the carbazole groups were present throughout the layer. On the other hand, it is doped with 57% trinitrofluorenone.

8.5 kV荷電の層を3分間露光照射して、表面電位
の88%が消失し1こ。半減時間はこの場合954 m
s。
When the layer charged at 8.5 kV was exposed to light for 3 minutes, 88% of the surface potential disappeared. The half-life time is 954 m in this case.
s.

であつ1こ。And one.

実施例9 ポリ−(メチル−11−(9−カルバゾイル)ウノデシ
ルーシロキサンーコーボリー(メチル−シロキサン水素
)の製造 3.6部のポリ−(メチル−シロキサン水素)と17.
2部の9− (H)−ウンデシルカルバシー)L/)を
150谷ii部の無水トルエンに俗情させ、実施例1と
同様に反応を進めた。
Example 9 Preparation of poly-(methyl-11-(9-carbazoyl)unodecyl-siloxane-coboly(methyl-siloxane hydrogen)) 3.6 parts of poly-(methyl-siloxane hydrogen) and 17.0 parts of poly-(methyl-siloxane hydrogen).
2 parts of 9-(H)-undecylcarbathy) L/) were mixed with 150 parts of anhydrous toluene, and the reaction proceeded in the same manner as in Example 1.

反応混合物を前述した処理をすることなく架橋フィルム
とし1こ、この反応混合物に0.9部の1゜21−ドコ
サジエンを添加した。このl’i!液からフィルムを形
成し、12L) ℃で架橋処理した。
The reaction mixture was made into a crosslinked film without the treatment described above, and 0.9 part of 1°21-docosadiene was added to the reaction mixture. This l'i! A film was formed from the solution and crosslinked at 12L)°C.

実施例1υ 実施例1により製造さn 74カルバゾール基含有不リ
シロキブンを使用して25%テトラヒドロフラン浴故ケ
調製した。この浴液の一部分をポリエチレンテレフタラ
ートにコーティングされたアルミニウム表面上に直接成
11〜乾燥(80℃で15分間)後の乾燥層厚さ’Y 
IIJμmとした。上6己浴液の残部に4・リシロキサ
ンに刈し0.6%のローダミンBを添加した。このよう
に増感処理し1こ浴液を同様にポリエチレンテレフタラ
ート7−トのアルミニウム面上に注下し又乾燥厚さ10
μm(7)層を形成し1こ。カルバゾール置換ポリシロ
キサンから成る固体層は何れもアルミニウム表向に対し
申し分のない艮好な接着性を示し、可読性も極め1力れ
1こものであった。
Example 1 A 25% tetrahydrofuran bath was prepared using the n74 carbazole group-containing monosiloxane prepared according to Example 1. A portion of this bath liquid is directly deposited on the aluminum surface coated with polyethylene terephthalate to give a dry layer thickness 'Y' after drying (15 minutes at 80°C).
IIJ μm. To the remainder of the above bath solution, 0.6% Rhodamine B was added to 4-lisiloxane. The sensitized bath solution was similarly poured onto the aluminum surface of polyethylene terephthalate to a dry thickness of 10 mm.
Form a layer of μm (7). All solid layers of carbazole-substituted polysiloxane exhibited excellent adhesion to the aluminum surface and excellent readability.

上記のカルバゾール*侠ポリシロキサンから形成されに
膚をコロナ放電により−8,5kV o)表面電位に荷
電し、次いで板層を151Jワツトのキセノン高圧灯に
より2分間照射し1こ。この照射による′1位降下なら
びに元lL尋注共に、ローダミンBKより増感した層の
方がこの処理をしなかった層よりも高かつ1こ。半減時
間、すなわち表面′1荷が元照射国よりその半分の櫃ま
で減少するに要する時間は約1uou ミ’)秒の大台
に乗る長い時間でめった。
The skin formed from the carbazole polysiloxane described above was charged to a surface potential of -8.5 kVo by corona discharge, and then the plate layer was irradiated for 2 minutes with a 151 J watt xenon high-pressure lamp. The layer sensitized by Rhodamine BK has a higher 1-position drop due to this irradiation than the layer sensitized by Rhodamine BK than the layer that did not undergo this treatment. The half-life time, that is, the time required for the surface load to reduce to half the size of the original irradiated country, was a long time on the order of about 1 uou mi') seconds.

実施例11 実施例1により装造されたカルバゾール基含有ポリシロ
キサンの25%テトラヒドロフラン溶液に、ポリシロキ
サンに対し7.5儂のN、N−ビス−シクロヘキシル−
ペリレン−3、4: 9.10−テトラカルボン酸ジイ
ミドを添加した。この溶液を注下し又ポリエチレンテレ
フタールシートのアルミニウム面上に乾燥厚さ10μm
の層を形成し、コロナ放電により+8.5vの六面′電
位を荷電させ、該層を15tJワツトのキセノン高圧灯
により光字密度lのグレーフィルタを介して1秒間照射
した。照射後人面砥位υ)65%が消失し、その半減時
間は584ミリ秒であった。
Example 11 A 25% tetrahydrofuran solution of the carbazole group-containing polysiloxane prepared according to Example 1 was added with 7.5° of N,N-bis-cyclohexyl-based on the polysiloxane.
Perylene-3,4: 9.10-tetracarboxylic acid diimide was added. Pour this solution onto the aluminum surface of a polyethylene terephthal sheet to a dry thickness of 10 μm.
A layer was formed, charged with a hexagonal potential of +8.5 V by corona discharge, and the layer was irradiated for 1 second with a 15 tJ watt xenon high-pressure lamp through a gray filter with a light density of 1. After irradiation, 65% of the human face position υ) disappeared, and the half-life time was 584 milliseconds.

比較実験例A 実施例11におけるようにし1、ただしカルバゾール基
含有ポリシロキサンの代りにポリ−N−ビニルカルバゾ
ールを使用して、光電場性層を形成した。#液V@製用
溶媒としてテトラヒドロフランとトルエンの混合v!J
(6:4)を使用した。これから形成された光電導性j
−は、実施例11におけろと同程度の充電24注を示し
たが、上記実施例みおけろ層に比較して脆く、ポリエチ
レンテレフタラートのシートを軽く屈曲し1こだけで無
数の小片に分裂し池数し1こ。このようにポリーN−ビ
ニルカルバソール層は、ポリエチレンテレフタラート上
のアルミニウム面艮対し実際上全く接盾注かないという
ことができる。
Comparative Experimental Example A A photoelectric field layer was formed in the same manner as in Example 11 except that poly-N-vinylcarbazole was used instead of the carbazole group-containing polysiloxane. #Mixture of tetrahydrofuran and toluene as a solvent for liquid V@ production v! J
(6:4) was used. Photoconductivity formed from this
- showed the same level of charge as in Example 11, but it was more brittle than the layer of Example 11, and when the polyethylene terephthalate sheet was slightly bent, it broke into countless small pieces. The number of divided ponds is 1. Thus, it can be said that the poly N-vinylcarbasole layer does not actually come into contact with the aluminum surface on the polyethylene terephthalate at all.

実施例12 実施例4により製造しγこカルバゾール基含有ポリシロ
キサンを使用して25%のテトラヒドロフランm液を調
製し、これにポリシロキサンに対して5%の1 、6 
、7.12−テトラクロルヘリレンー3.4:9.IL
)−テトラカルボン酸ジイミド−ビス−(n−ブチル)
ベンゾイミダゾール’L’tX加した。この溶液を使用
し℃、アルミニウム担体王国乾燥厚さioμmの光電場
性層を形成し1こ。この元[導性1−を実施例11にお
けるように荷電させ光照射し1こ。照射後fA而を位Q
)75頭が消失し1こ。半旗時間はこの場合39Ll 
ミ’J秒であっ1こ。
Example 12 A 25% tetrahydrofuran m solution was prepared using the γ-carbazole group-containing polysiloxane prepared according to Example 4, and 5% of 1,6 was added to the polysiloxane.
, 7.12-tetrachloroherylene-3.4:9. IL
)-Tetracarboxylic acid diimide-bis-(n-butyl)
Benzimidazole'L'tX was added. This solution was used to form a photoelectric field layer having a dry thickness of 1 io um on an aluminum carrier at 1°C. This element [conductivity 1-] was charged as in Example 11 and irradiated with light. After irradiation, the position Q
) 75 animals disappeared and 1 lost. In this case, half-mast time is 39Ll.
One minute in Mi'J seconds.

実施例13 4UfJのテトラクロルペリレン−3,4:9.1(J
−テトラヒドロカルボン酸ジイミド−ビス−ベンツイミ
ダゾールと60都のビニクルクロリド/マレイン酸イソ
フロビルエステル/アクリル酸共憲合体(74: 24
 : 2 )との混合物を、テトラヒドロフランとトル
エンの混合溶媒(3:l)に俗解させ、ポリエチレンテ
レフタラート7−ト上にコーティングされたアルミニウ
ム面上に注下して、乾燥後の厚さ約1μmの層を形成し
た。丈に実施例1により製造されたカルバゾール基含有
ポリシロキサンσ)25%テトラヒドロフラン溶欣溶液
の上に注下し、テトラヒドロフラン’r!!im除去し
に0形成されたポリシロキサン層の厚さは10μmであ
つ1こ。
Example 13 4UfJ of tetrachlorperylene-3,4:9.1 (J
-Tetrahydrocarboxylic acid diimide-bis-benzimidazole and 60% vinyl chloride/isoflobil maleate/acrylic acid co-constitutional combination (74:24
: 2) was mixed with a mixed solvent of tetrahydrofuran and toluene (3:l) and poured onto the aluminum surface coated on polyethylene terephthalate to give a thickness of about 1 μm after drying. layer was formed. Pour the carbazole group-containing polysiloxane σ) prepared according to Example 1 onto a 25% tetrahydrofuran solution, and add tetrahydrofuran'r! ! The thickness of the polysiloxane layer formed after im removal was 10 μm.

担体に対する良好な接着性を有する可憫注の光電尋憔ノ
ーか得られ1こ。この光′#を導性層をコロナ放電によ
り表面電位−8,5kVに荷電させ、久いで15Llワ
ツトのキセノン高圧灯により光密度lのクレーフィルり
を使用し11秒間元照射し1こ。この照射により81%
の電位か消失し、その半減時間は238ミリ秒であっに
0 また上記光電碑注層第1層の形成の1こののテトラクロ
ルペリレン−3,4:9,1(J−テトラカルボン酸−
ジイミド−ビスーベンツイミダゾール及’C)k+ 、
 N−ビス(フェニルエチル)−ペリレン−3,4:9
.1t)−テトラカルボン酸ジイミドの混合物(2:l
)’Y増感作用化合物とし1g加しTことぎも同様に極
めて良好な結果がも1こもされる。
A flexible photoelectric coating with good adhesion to the carrier was obtained. The conductive layer was charged with this light to a surface potential of -8.5 kV by corona discharge, and then irradiated for 11 seconds with a 15 Ll xenon high pressure lamp using a clay filter with a light density of 1. With this irradiation, 81%
The potential disappears, and its half-life time is 0 in 238 milliseconds.
diimide-bisubenzimidazole and 'C)k+,
N-bis(phenylethyl)-perylene-3,4:9
.. 1t)-Tetracarboxylic acid diimide mixture (2:l
)' When 1 g of Y sensitizing compound was added, very good results were also obtained with T Kotogi.

比較実験例B 実施例13におけると同様にして、1こだし上膚はポリ
シロキサン層ではなくポリ−N−ビニルカルバゾールな
便用し壬形成し1こ。このポリ−N−ビニルカルバゾー
ル層は同様に10μmのrL燥厚さとしuoこのように
し1得られ1こ九11L4性鬼子写真記録材料は、実施
例13の光電尋性特性と同等のものであったが、本対比
冥験例の層は扼く可決性か低り、ポリエチレンテレフタ
ラート7−トヲ屈曲することにエリ多数の小片となって
飛散しに0実施例14 アルミニウムをコーティングしたポリエチレンテレフタ
ラートシートに、まず実施例13に記載したよ5KN 
、N−ビス−(フェニルエチル)−ペリレン−3,4:
9.10−テトラカルボン酸−ジイミドとビニルクロリ
ド/マレイン酸午エステル/アクリル酸の共ム合体の混
合’m?:使用して1μm厚さの層を形成しに0この増
感作用化合物の第1層上に、実施例3によr)製造した
溶液でカルバゾール基含有ポリシロキサンの1υμm厚
さの固体層を形成した。実施例3により調製した反応混
合物に0.9部の1.21−ドコサジエンを姫加し、上
記第1N上にこの浴漱を注下して皮膜を形成し、120
℃で溶媒を蒸f&させ架橋する、このようにして作製さ
れた電子写真記録材料の元篭導特注は実施例13σ〕そ
れと同等でめった。
Comparative Experimental Example B In the same manner as in Example 13, the top layer was made of poly-N-vinylcarbazole rather than a polysiloxane layer. This poly-N-vinylcarbazole layer was similarly dried to a thickness of 10 μm, and the thus obtained 11L4 photorecording material had photovoltaic properties equivalent to that of Example 13. However, the layers in this comparative example were thicker and less permeable, and when the polyethylene terephthalate sheet was bent, it became scattered into many small pieces.Example 14 Polyethylene terephthalate sheet coated with aluminum First, as described in Example 13, 5KN
, N-bis-(phenylethyl)-perylene-3,4:
9. Mixture of 10-tetracarboxylic acid-diimide and vinyl chloride/maleic acid ester/acrylic acid co-combination. On this first layer of sensitizing compound, a 1 μm thick solid layer of carbazole group-containing polysiloxane was applied using the solution prepared according to Example 3. Formed. 0.9 parts of 1,21-docosadiene was added to the reaction mixture prepared in Example 3, and the bath residue was poured onto the 1N to form a film.
The custom-made electrophotographic recording material produced in this way, which was crosslinked by evaporating the solvent at a temperature of 0.degree. C., was similar to Example 13σ.

実施例15 実施例13と同様にし℃作製された菟子与真記録材料を
復与シートとして使用し、反覆テストに附L rs。こ
のシートにつき1.5時間内にIUIJ 1gのネガチ
プ装漕と露光を行つ1こ。この間、受容性、最大限装着
性、清在応力、暗黒電導性及び%位降下性は不変のまま
維持された。
Example 15 Using the same recording material as in Example 13, prepared at ℃, the recording material was used as a restoring sheet, and a repetition test was carried out at L rs. This sheet was loaded with 1g of IUIJ negative chips and exposed within 1.5 hours. During this time, acceptability, maximum wearability, clear stress, dark conductivity, and percent dropability remained unchanged.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ポリマー主鎖に対して側方に結合されたカルバゾ
ール基を含有することを特徴とするポリシロキサン。
(1) A polysiloxane characterized by containing a carbazole group bonded laterally to the polymer main chain.
(2)特許請求の範囲(1)によるポリシロキサンであ
って、下記の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (上記式中、R^1はアルキル基を、R^2、R^3は
相互に無関係に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
アミノ基、ヒドロキシ基或はハロゲン原子を、nは2も
しくはそれより大きい整数をそれぞれ意味する)で表わ
されるシロキサン繰返し単位を含有することを特徴とす
るポリシロキサン。
(2) A polysiloxane according to claim (1), which has the following general formula (I) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (I) (In the above formula, R^1 represents an alkyl group, R^2 and R^3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
A polysiloxane characterized by containing a siloxane repeating unit represented by an amino group, a hydroxyl group, or a halogen atom, where n is an integer of 2 or larger.
(3)特許請求の範囲(2)によるポリシロキサンであ
つて、上記一般式( I )で表わされるシロキサン繰返
し単位におけるR^1かメチル基であることを特徴とす
るポリシロキサン。
(3) A polysiloxane according to claim (2), characterized in that R^1 in the siloxane repeating unit represented by the above general formula (I) is a methyl group.
(4)特許請求の範囲(2)或は(3)によるポリシロ
キサンであつて、上記一般式( I )で表わされるシロ
キサン繰返し単位におけるR^2及びR^3がそれぞれ
水素原子を表わすことを特徴とするポリシロキサン。
(4) A polysiloxane according to claim (2) or (3), in which R^2 and R^3 in the siloxane repeating unit represented by the above general formula (I) each represent a hydrogen atom. Characteristic polysiloxane.
(5)特許請求の範囲(2)乃至(4)の何れかによる
ポリシロキサンであつて、上記一般式( I )で表わさ
れるシロキサン繰返し単位におけるnが2乃至22の範
囲における整数であることを特徴とするポリシロキサン
(5) A polysiloxane according to any one of claims (2) to (4), in which n in the siloxane repeating unit represented by the above general formula (I) is an integer in the range of 2 to 22. Characteristic polysiloxane.
(6)特許請求の範囲(2)乃至(5)の何れかによる
ポリシロキサンであつて、上記一般式( I )で表わさ
れるシロキサン繰返し単位により本質的に構成されてい
ることを特徴とするポリシロキサン。
(6) A polysiloxane according to any one of claims (2) to (5), characterized in that the polysiloxane is essentially composed of repeating siloxane units represented by the above general formula (I). Siloxane.
(7)特許請求の範囲(2)乃至(6)の何れかによる
ポリシロキサンであつて、室温において固体状であり、
末端基を除いて実質的にもつぱら上記式( I )で表わ
されるシロキサン繰返し単位から構成されており、式中
のnが5を超えない整数を表わすことを特徴とするポリ
シロキサン。
(7) A polysiloxane according to any one of claims (2) to (6), which is solid at room temperature;
A polysiloxane consisting essentially entirely of siloxane repeating units represented by the above formula (I), excluding the terminal groups, wherein n represents an integer not exceeding 5.
(8)特許請求の範囲(2)乃至(6)の何れかによる
ポリシロキサンであつて、上記一般式( I )で表わさ
れるシロキサン繰返し単位のほかに更に下記の一般式(
II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (上記式中R^1はアルキル基を、R^4は架橋可能の
活性基を意味する)で表わされるシロキサン繰返し単位
を追加的に含有することを特徴とするポリシロキサン。
(8) A polysiloxane according to any one of claims (2) to (6), which, in addition to the siloxane repeating unit represented by the above general formula (I), further has the following general formula (
II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the above formula, R^1 means an alkyl group, and R^4 means a crosslinkable active group). A polysiloxane characterized by containing.
(9)特許請求の範囲(8)によるポリシロキサンであ
つて、上記一般式(II)におけるR^1がメチル基であ
ることを特徴とするポリシロキサン。
(9) A polysiloxane according to claim (8), characterized in that R^1 in the general formula (II) is a methyl group.
(10)特許請求の範囲(8)或は(9)によるポリシ
ロキサンであつて、上記一般式(II)で表わされるシロ
キサン繰返し単位におけるR^4が水素原子であること
を特徴とするポリシロキサン。
(10) A polysiloxane according to claim (8) or (9), characterized in that R^4 in the siloxane repeating unit represented by the above general formula (II) is a hydrogen atom. .
(11)特許請求の範囲(8)或は(9)によるポリシ
ロキサンであつて、上記一般式(II)で表わされるシロ
キサン繰返し単位におけるR^4が(メタ)アクリロイ
ル基を含有する基であることを特徴とするポリシロキサ
ン。
(11) A polysiloxane according to claim (8) or (9), in which R^4 in the siloxane repeating unit represented by the above general formula (II) is a group containing a (meth)acryloyl group. A polysiloxane characterized by:
(12)特許請求の範囲(8)乃至(11)の何れかに
よるポリシロキサンであつて、上記一般式( I )で表
わされるシロキサン繰返し単位と上記一般式(II)で表
わされるシロキサン繰返し単位とを相互に80乃至99
.5%対20乃至0.5%のモル割合で含有することを
特徴とするポリシロキサン。
(12) A polysiloxane according to any one of claims (8) to (11), which comprises a siloxane repeating unit represented by the above general formula (I) and a siloxane repeating unit represented by the above general formula (II). mutually 80 to 99
.. A polysiloxane characterized in that it is contained in a molar ratio of 5% to 20 to 0.5%.
(13)特許請求の範囲(8)乃至(12)の何れかに
よるポリシロキサンであつて、室温において粘性油状で
あることを特徴とするポリシロキサン。
(13) A polysiloxane according to any one of claims (8) to (12), which is viscous and oily at room temperature.
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