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JPS62127318A - 積層板用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

積層板用エポキシ樹脂組成物

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Publication number
JPS62127318A
JPS62127318A JP26916385A JP26916385A JPS62127318A JP S62127318 A JPS62127318 A JP S62127318A JP 26916385 A JP26916385 A JP 26916385A JP 26916385 A JP26916385 A JP 26916385A JP S62127318 A JPS62127318 A JP S62127318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glycidyl ether
bisphenol
poly
isopropenylphenyl
resin composition
Prior art date
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Granted
Application number
JP26916385A
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English (en)
Other versions
JPH0662736B2 (ja
Inventor
Yoshiki Toyoshima
豊嶋 芳樹
Tsutomu Takahashi
勉 高橋
Noriaki Saito
憲明 斉藤
Tadashi Ikushima
忠司 幾島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP60269163A priority Critical patent/JPH0662736B2/ja
Publication of JPS62127318A publication Critical patent/JPS62127318A/ja
Publication of JPH0662736B2 publication Critical patent/JPH0662736B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、耐熱性並びにドリル加工性にfIれた積層板
用エポキシ樹脂組成物に関する。
〈従来の技術〉 近年、Ic、LSI等を中心とする電子機器産業の発展
は目覚ましく、これらの電子機器は、コンピュータはも
ちろんのこと、家電製品、自動車等にも大量に取り入れ
られてきている。これらの電子機器を取り付けるノS板
等には、主としてエポキシ樹脂積層板が用いられている
この種の積層板に対する要求物性としては、単に耐熱性
のはかドリル加工性、寸法安定性、耐薬品性などが言わ
れている。特に、近年重密度配線が行なわれ≠るように
なり、ドリル加工性の要求が厳しくなっている。すなわ
ち、ドリル加工時の摩擦熱に耐え得るだけの耐熱性と共
にドリル加工時の:t、++ a、亀裂発生のより少い
ことが要求される。現在、積層板用のエポキン樹脂組成
物は、ビスフェノールA型グリシジルエーテルと、耐執
性を向上させるため0−クレゾールノボラックのグリシ
ジルエーテルまたは、フェノールノボラ7りのグリシジ
ルエーテルのl昆合物が用いられている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、耐熱性向上のためO−クレゾールノボラ
ックやフェノールノボラックのグリシジルエーテルを加
えることにより、ガラス転移温度は上がり、耐熱性は増
すが、弾性率も上がるためドリル加工時に亀裂が生じ度
なバランスのとれた組成物が要求されている。
く問題を解決するための手段〉 本発明は、ビスフェノールA型グリノジルエーテル50
〜99重量部 一般式 (1) (式中、R3−R1は水素、炭素数1−1゜のアルキル
基、ハロゲンから選ばれた基であり、nは平均2〜50
の数である。) で表わされるポリ (イソプロペニルフェニルグリシジ
ルエーテル)類1〜50重量部及び硬化剤とからなる積
層板用エボキソ樹脂組成物である。
本発明において用いるビスフェノールA型グリシシンエ
ーテルとは、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンか
ら得られるビスフェノールAのグリシジルエーテルおよ
び得られたビスフェノールAのグリシジルエーテルにビ
スフェノールAまたはテトラブロムビスフェノールへの
ようなハロゲン1換ビスフエノール八を付加して得られ
る付加物、更にはビスフェノールAおよびハロゲン1換
ビスフエノール八 混合ビスフェノールへのグリシジルエーテルを含む。t
1燃性が要求される用途にはこのテトラブロムビスフェ
ノールAを用いて得られる付加物および上記の混合ビス
フェノールAのグリシジルエーテルが望ましい。
−C式(1)で表わされるポリ(イソプロペニルフェニ
ルグリシジルエーテル> mを例示すると、0−3m−
1P−13種のポリ (イソプロペニルフェニルグリシ
ジルエーテル)、ポリ (2,6−シメチルー4−イソ
プロペニルフェニルグリシジルエーテル)、ポリ(2,
6−ジプロムー4−イソプロペニルフェニルグリシジル
エーテル)、及びこれらの共重合体などである。
これらの製造方法は、該イソプロペニルフェノールをカ
チオン重合または、アルカリ触媒下の熱重合等の方法に
より該イソプロペニルフェノールの重合体とし、さらに
エピクロルヒドリンと反応させグリシジルエーテル化す
ることにより得られる。また、該イソプロペニルフェノ
ールをエピクロルヒドリンと反応させグリシジルエーテ
ル化し、これを次にヨウ化水素またはヨウ化水素とハロ
ゲンの混合触媒等の特定の触媒でカナオン重合させるこ
とによっても得られる。
ビスフェノールA型グリシジルエーテルと該ポリ (イ
ソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)類の混合物
100重量部中、該ポリ (イソプロペニルフェニルグ
リシジルエーテル)類が1〜50重量部、好ましくは5
〜30重量部である。
この割合のグリシジルエーテル混合物に、別の種類のグ
゛Jノノルエーテルを少M7N合して用いても良い。
本発明における硬化剤は特に限定されるものではなく、
従来公知の種々の硬化剤をグリノジルエーテルのエポキ
シ当世と化学量論的には\等量ないし、その約半量用い
ることができる。硬化剤としては、例えば、「プリント
配線用材料と加工技術J CMCテクニカルレポート1
k17(発行所、株式会社ソーエムシー)などに記載さ
れているように、ンノアンジアミド、ジフェニルノアミ
ノメタン、ジフェニルジアミノスルホンなどが使用され
る。
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じ、更に、
硬化促進剤、充填剤、表面処理剤などが添加されてもよ
い。
硬化促進剤としては、用いる硬化剤の種類によって公知
のものから適宜選択することができる0例えば、硬化剤
がジシアンジアミドのときには、2−エチル−4−メチ
ルイミダヅール、ヘンシルジメチルアミンなどが例示さ
れる。
充填剤としては、ンリカ、アルミナ、水酸化アルミニウ
ム、タルク、雲母などが用いられる。
表面処理剤としては、 T −グリソドキノプロピルト
リメトキソシラン、β−(3゜4−エポキンシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシンラン、 γ −アミノプロ
ピルトリメトキシシランなどが例示される。
積層板は、例えば前記した「プリント配線用材料と加工
技術」に記載された方法で製造することができ、積層板
用の基材としては、有機、無機の天然繊維、ガラス繊維
、合成繊維による布、不織布、マットなどであり、具体
例としてはガラス布、ポリエステル布、紙、テトロン布
などである。
〈発明の効果〉 積層板に用いられるエポキシ樹脂は、汎用のビスフェノ
ールA型グリシジルエーテルに耐熱性を向上させるため
、従来からO−クレゾールノボラックグリシジルエーテ
ルや、フェノールノボラックグリシジルエーテルを混入
して用いられている。
しかし、これらのノボラフタグリシジルエーテルでは、
耐熱性を増すことはできるが、反面弾性率も高くなり、
跪(なって割れ易(なり、ドリル加工性が悪くなる。
本発明の組成物は、ポリ (イソプロペニルフェニルグ
リシジルエーテル)類とビスフェノールA型グリシジル
エーテルの混合物からなる。
工性が優れている。
〈実施秒0 エポキシ当世とは、グリシジルエーテル基1モル当りの
ダラム当量で定義される。また、故平均重合麿は、茅気
圧浸透圧法(コロナ社製、分子量測定装置117型)に
より測定した数平均分子量から計算したものである。ま
た、ガラス転移温度及び弾性率はレオログラフソリッド
(東洋精機■製)で測定した。
参考例1 (1)イソプロペニルフェノールの重合体の合成 特公昭38−1368の実施例1の記載に従ってビスフ
ェノールAを熱分解し、得られた混合’1F+(+)−
イソプロペニルフェノール43wt%、フェノール42
wt%、p−イソプロペニルフェノールのオリゴマーI
Qwt%)300gに、43wt%N a O)(水ン
容i3gを加え、減圧下(20To r r)フェノー
ルを留出させながら150℃まで加熱する。さらに、1
50℃で6時間保温し、重合を完結させる0重合終了後
、反応物を多聞の希MCI水溶液中に投入し、重合物を
析出させ、p−イソプロペニルフェノールの重合体を得
た。
(2)ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジルエー
テル)の合成 温度計、分離管、滴下ロート、攪拌器を取り付けたle
フフスコに(1)で得られたp−イ゛ノプロペニルフェ
ノールのm 合体135 gをエピクロルヒドリンノ7
0モルに(8解するl詰変73°C1圧力250mmH
[Xに保ち、8時間で48%N a O)I水溶液を連
続的に添加した。この間エピクロルヒドリンと水とを共
沸させて液化し分離管で有機層と水層とに分離し、水層
は系外に除去し有機層は系内に循環した。反応終了後1
時間保温し未反応のエピクロルヒドリンを茎発除去し、
反応生成物をメチルイソブチルケトンに溶解した。次に
副生塩をF別したのちメチルイソブチルケトンを突発し
て除去してポリ (p−イソプロペニルフェニルグリシ
ジルエーテル)H”4た。xポキソ当攪は211.数平
均重合度は3.9であった。
参考例2 重合温度150℃を180℃に変更した以外は参考例1
と同様な方法でポリ (p−イソプロペニルフェニルグ
リシジルエーテル)ヲ得た。エポキシ当量は217、数
平均重合度は、6.3であった。
参考例3 (1)イソプロペニルフェニルグリシジルエーテルの合
成 p−イソプロペニルフェノールの重合体のかわりにp−
イソプロペニルフェノール1゜0モルを用いた以外は、
参考例1の(2)と同様な条件で反応させ、p−イソプ
ロペニルフェニルグリシジルエーテルヲ得た。
(2)ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジルエー
テル)の合成 (1)で得られた、p−イソプロペニルフェニルグリシ
ジルエーテル19gをモレキュラーシーブズ4Aで脱水
した塩化メチレン181gに溶解し、−20℃に冷却し
、ヨウ化水素0.128g、トルエン2.5gを加え、
15分間保温した。メタノール100gを入れて反応を
停止した後、lQwt%のチオ硫酸ナトリウム水溶液1
00gで洗浄した後、溶媒及び残モノマーを留出により
除去し、ポリ (p−イソプロペニルフェニルグリシジ
ルエーテル)を得た。エポキシ当量は209、数平均重
合度は9.1であった。
参考例4 ヨウ化水素0.128g、トルエン2.5gのかわりに
ヨウ化水素0.128g、)ルエン2.5gとヨウ素0
.254g、 トルエン2.5gを用いた以外は参考例
3と同様に重合し、ポリ (p−イソプロペニルフェニ
ルグリシジルエーテル)を得た。エポキシ当量は213
、数平均重合度は37であった。
実施例1および2 市販のビスフェノールAのグリシジルエーテルのスミエ
ポキシ■ESA−011(住処化学工業■製エポキシ当
1490)と、ポリ(イソプロペニルフェニルグリシジ
ルエーテル)とを、表1に示す量をメチルエチルケトン
25gに溶解し、エボキン樹脂フェスとした。
このフェスに、ジシアンジアミド4.0g。
2−エチル−4−メチルイミダゾール0.1g1メチル
セロソルブ40gを加えて、均一混合した。
続いて、該混合物を金型に注入し、溶剤を乾燥して除去
したのち160℃で100Kg/−の条件で10分間プ
レス成形した。
さらに180℃で1時間かけて硬化させ成形物を得た。
その成形物のガラス転移温度及び20℃での弾性率を測
定した。結果を表1に示す。
比較例1 ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)
を用いない以外は実施例1と同様に行った。結果を表1
に示す。
比較例2〜3 グリシジルエーテルのスミエポキシ■ESCN−220
(住友化学工業■製エポキシ当量215、数平均重合度
4.8)を用いた以外は実施例1と同様に行った。結果
を表1に示す。
実施例3〜7 ビスフェノールへのグリシジルエーテルにスミボキシ■
ESB−500(住処化学工業■製エポキン当量489
、臭素含有ht20重量%)を用い、ポリ (イソプロ
ペニルフェニルグリシジルエーテル)の種類と盪を表1
に示すごとくに変えた以外は、実施例1と同様に行った
。結果を表1に示す。
比較例4〜6 ビスフェノールAのグリシジルエーテルにスミポキシ■
ESB−500を用いた以外は、入 比較例夕〜3と同様に行った。結果を表1に示す。
手続補正3(自発) 昭和61年 6月2q日 昭和60年 特許願第269163号 2、発明の名称 積層板用エポキシ樹脂組成物 3、補正をする者 事件との関係 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地名 称  (
209)住友化学工業株式会社代表者   森   英
 雄 4、代理人 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地住友化学1業
株式会社内     、 氏 名  弁理士(8597)諸 石 光 煕連絡先 
置 (06) 220−34045、補正の対象 明   細   書 1、発明の名称 積層板用エポキシ樹脂組成物 2、特許請求の範囲 ill  ヒ゛スフエノーノレA型グリンジノレエーテ
ノレ50〜99重量部、 一般式(1) (式中、R1−R4は水素、炭素数1〜lOのアルキル
基、ハロゲンから選ばれた基であり、nは平均2〜50
の数である.)で表わされるポリ (イソブロペニルフ
エニルクリシジルエーテル)111〜50重量部及び硬
化剤とからなる積層板用エポキシ樹脂組成物。
3、発明の詳細な説明 《産業上の利用分野》 本発明は、耐熱性並びにドリル加工性に優れた積層板用
エポキシ樹脂組成物に関する。
(従来の技術〉 近年、IC,LSI等を中心とする電子機器産業の発展
は目覚ましく、これらの電子機器は、コンピュータはも
ちろんのこと、家電製品、自動車等にも大量に取り入れ
られてきている。
これらの電子機器を取り付ける基板等には、王としてエ
ポキシ樹脂積層板が用いられている。
この種の積層板に対する要求物性としては、単に耐地性
のほかドリル加工性、寸法安定性、耐薬品性などが言わ
れている。
特に、近年高密度配線が行なわれるようになり、ドリル
加工性の要求が厳しくなっている。
すなわち、ドリル加工時のIIj擦熱に耐え得るだけの
耐熱性と共にドリル加工時の剥離、亀裂発生のより少い
ことが要求される。
現在、積層板用のエポキシ樹脂組成物は、ビスフェノー
ルA型グリンジルエーテルと、耐熱性を向上させるため
O−タレゾールノボラックのグリシジルエーテルまたは
、フェノールノボラックのグリシジルエーテルの混合物
が用いられている。
く発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、耐熱性向上のため0−タレゾールノボラ
ックやフェノールノボラックのグリシジルエーテルを加
えることにより、ガラス転移温度は上がり、耐熱性は増
すが、弾性率も上がるためドリル加工時に亀裂が生じ易
くなる。
そこでガラス転移温度が高く、弾性率も適度なハランス
のとれた組成物が要求されている。
《問題を解決するための手段〉 本発明は、ビスフェノールA型グリンジルエーテル50
〜99重量部 一般式(1) (式中、R−〜R“は水素、炭素数1−10のアルキル
基、ハロゲンから選ばれた基であり、nは平均2〜50
の数である。)で表わされるポリ (イソプロペニルフ
ェニルグリシジルエーテル)11〜50重量部及び硬化
剤とからなる積IJ仮用エボキン樹脂組成物である。
本発明において用いるビスフェノールA型グリシツルエ
ーテルとは、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンか
ら得られるビスフェノールAのグリシジルエーテル及び
得られたビスフェノールへのグリシジルエーテルにビス
フェノールAまたはテトラブロムビスフェノールAのよ
うなハロゲン置換ビスフェノールAを付加して得られる
付加物、更にはビスフェノールA及びハロゲン置換ビス
フェノールAとエピクロルヒドリンから得られる混合ビ
スフェノールAのグリシジルエーテルを含む。
難燃性が要求される用途にはこのテトラブロムビスフェ
ノールAを用いて得られる付加物及び上記の混合ビスフ
ェノールAのグリシジルエーテルが望ましい。
一般式(1)で表わされるポリ (イソプロペニルフェ
ニルグリシジルエーテル)類を例示すると、0−1m−
1P−23種のポリ (イソプロペニルフェニルグリシ
ジルエーテル)、ポリ(2,6−シメチルー4−イソプ
ロペニルフェニルグリシジルエーテル)、ポリ (2,
6−ジプロムー4−イソプロペニルフェニルグリシジル
エーテル)、及びこれらの共重合体などである。
これらの製造方法は、咳イソプロペニルフェノールをカ
チオン重合により該イソプロペニルフェノールの重合体
とし、さらにエピクロルヒドリンと反応させグリシジル
エーテル化することにより得られる。
また、該イソプロペニルフェノールをエピクロルヒドリ
ンと反応させグリシジルエーテル化し、これを次にヨウ
化水素またはヨウ化水素とハロゲンの混合触媒等の特定
の触媒でカチオン重合させることによっても得られる。
ビスフェノールA型グリシジルエーテルと該ポリ (イ
ソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)類の混合物
100重量部中、該ポリ (イソプロペニルフェニルグ
リシジルエーテル)類が1〜50重量部、好ましくは5
〜30!量部である。
この割合のグリシジルエーテル混合物に、別の種類のグ
リシジルエーテルを少量混合して用いても良い。
本発明における硬化剤は特に限定されるものではなく、
従来公知の種々の硬化剤をグリシジルエーテルのエポキ
シ当量と化学量論的にほり等量ないし、その約半量用い
ることができる。
硬化剤としては、例えば、[プリント配線用材料と加工
技術J CMCテクニカルレポート磁17(発行所、株
式会社シーエムシー)などに記載されているように、ジ
シアンジアミド、ジフェニルジアミノメタン、ジフェニ
ルジアミノスルホンなどが使用される。
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じ、更に、
硬化促進剤、充填剤、表面処理剤などが添加されてもよ
い。
硬化促進剤としては、用いる硬化剤のlllftによっ
て公知のものから適宜選択することができる。
例えば、硬化剤がジシアンジアミドのときには、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、ヘンシルジメチルアミ
ンなどが例示される。
充填剤としては、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウ
ム、タルク、雲母などが用いられる。
表面処理剤としては、T−グリシドキンプロピルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)エチルトリメトキンンラン、T−アミノプロピルトリ
メトキンンランなどが例示される。
積層板は、例えば前記した「プリント配線用材料と加工
技術」に記載された方法で製造することができ、積層板
用の基材としては、を機、無機の天然繊維、ガラス繊維
、合成繊維による布、不織布、マットなどであり、具体
例とじてはガラス布、ポリエステル布、紙、テトロン布
などである。
〈発明の効果ン 積層板に用いられるエポキシ当量は、汎用のビスフェノ
ールA型グリンジルエーテルに耐熱性を向上させるため
、従来のO−クレゾールノボラノクグリソジルエーテル
や、フェノールノボラックグリシノルエーテルを混入し
て用いられている。
しかし、これらのノボラノクグリンジルエーテルでは、
耐熱性を増すことはできるが、反面弾性率も高くなり、
脆くなって割れ易くなり、ドリル加工性が悪(なる。
本発明の組成物は、ポリ (イソプロペニルフェニルグ
リシジルエーテル)類とビスフェノールA型グリンジル
エーテルの混合物からなる。
この組成物では、耐熱性はより高くなるが弾性率は適度
に抑えられており、割れにくく、ドリル加工性が優れて
いる。
〈実施例〉 エポキシ当量とは、グリノジルエーテル基1モル当たり
のダラム当量で定義される。
また、数平均重合度は、茎気圧浸過圧法(コロナ社製、
分子量測定値で117型)により測定した数平均分子量
から計算したものである。
また、ガラス転移温度及び弾性率はレオログラフソリッ
ド(東洋精機■製)で測定した。
参考例1 +11  イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル
の合成 特公昭38−1368の実施例1の記載に従ってビスフ
ェノールAを熱分解し、得られた混合物を精製してp−
イソプロペニルフェノールを得た。
温度計、分離管、滴下ロート、撹拌器を取り付けた1!
フラスコに、該p−イソプロペニルフェノール135g
をエピクロルヒドリン7゜0モルに溶解し温度73℃、
圧力250mmHgに保ち、8時間で48%NaOH水
溶液を連続的に添加した。
この間エピクロルヒドリンと水とを共沸させて液化し分
離管で有機層と水層とに分離し、水層は系外に除去し有
機層は系内に循環した。
反応終了後1時間保温し未反応のエピクロルヒドリンを
蒸発除去し、反応生成物をメチルイソブチルケトンに)
客筋した。
次に副生塩をデ別したのちメチルイソブチルケトンを蕩
発し除去してp−イソプロペニルフェニルグリシジルエ
ーテルを得た。
(2)  ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジル
エーテル)の合成 illで得うれた、p−イソプロペニルフェニルグリシ
ジルエーテル19gをモレキュラーシーブズ4Aで脱水
した塩化メチレン181gに溶解し、−20℃に冷却し
、ヨウ化水素0.128g、トルエン2.5gを加え、
15分間保温した。
メタノール100gを入れて反応を停止した後、10w
t%のチオ硫酸ナトリウム水溶液100g″?:洗浄し
た後、溶媒及び残モノマーを留出により除去し、ポリ 
(p−イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)を
得た。
エポキシ当量は209、数平均重合度は9゜1であった
参考例2 ヨウ化水素0.128g、トルエン2.5gのかわりに
ヨウ化水素0.128g、トルエン2.5gとヨウ素0
.254g、トルエン2゜5gを用いた以外は参考例[
と同様に重合し、ポリ (p−イソプロペニルフェニル
グリシジルエーテル)を得た。
エポキシ当量は213、数平均重合度は37であった。
実施例1〜4 ビスフェノールAのグリシジルエーテルとテトラブロム
ビスフェノールAの付加物であるスミボキシ■ESB−
500(住処化学工業■製エポキシ当量489、臭素含
有!t20重量%)と参考例1及び2で得たポリ (イ
ソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)とを、表1
に示す量をメチルエチルケトン ポキン樹脂フェスとした。
このフェスに、ノンアンジアミド4.0g。
2−エチル−4−メチルイミダゾール0.1g、メチル
セロソルブ40gを加えて、均一混合した。
続いて、該混合物を金型に注入し、溶剤を乾燥して除去
したのち160℃でI OOK g / cm2の条件
で10分間プレス成形した。
さらに180℃で1時間かけて硬化させ成形物を得た。
その成形物のガラス転移温度及び20℃での弾性率を測
定した。
結果を表1に示す。
比較例1 ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)
を用いない以外は実施例1と同様に行った。
結果を表1に示す。
比較例2〜3 ポリ (イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル)
に代えてO−クレゾールノボラノクグリンジルエーテル
のスミエボキノ■ESCN−220(住処化学工業1I
it製エポキン当ff12+5、数平均重合度4.8)
を用いた以外は実施例1及び2と同様に行った。
結果を表1に示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ビスフェノールA型グリシジルエーテル50〜9
    9重量部、 一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1〜R_4は水素、炭素数1〜10のアル
    キル基、ハロゲンから選ばれた基であり、nは平均2〜
    50の数である。) で表わされるポリ(イソプロペニルフェニルクリシジル
    エーテル)類1〜50重量部及び硬化剤とからなる積層
    板用エポキシ樹脂組成物。
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