JPS6158086B2 - - Google Patents
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- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は側鎖に水素原子を有するポリシランと
有機チタン化合物または有機ジルコニウム化合物
から誘導された新規なポリメタロシランおよびそ
の製造方法に関するものである。 ポリシランから炭化ケイ素含有セラミツクスを
製造することは公知である。例えばJournal of
The American Cermmic Sociaty 61,504
〔1978〕にはウエストらによつてメチルフエニル
ジクロロシランおよびアルカリ金属とジメチルジ
クロロシランを反応させることによつて合成し
た。ポリシランを高温で焼成してβ−炭化ケイ素
を生じることができることが報告されている。 しかしながら、ポリシランの多くは、低級ポリ
シラン例えばドデカメチルペンタシランやドデカ
メチルシクロヘキサシランまた高級ポリシラン、
例えばポリジメチルシランのようなものは常圧、
不活性雰囲気下のもと加熱、焼成していくといず
れもほとんど飛散してしまうという欠点があつ
た。 そこで本発明者は、熱安定性の高いポリシラン
を得ることを目的に鋭意研究した結果、主として
−(Si−Si−)結合単位からなるポリシラン部分と−(
Ti−O−)構造単位の有機チタン化合物または−(
Zr−O−)構造単位の有機ジルコニウム化合物とか
ら誘導された新規なポリメタロシランおよびその
製造方法を見い出した。 本発明によれば、主鎖骨格が主として−(Si−Si
−)結合単位からなりケイ素の側鎖に水素原子、低
級アルキル基、アリール基、フエニル基またはシ
リル基を有するポリシラン部分と、該ポリシラン
部分のケイ素原子の少なくとも1部が酸素原子を
介して金属原子M(ただしMはチタンまたはジル
コニウムを表わす)と結合している部分とからな
り、該ポリシラン部分の−(Si−Si−)結合単位の全
数対−(M−O−)の構造単位の全数の比率が2:1
から500:1の範囲内にある数平均分子量がおよ
そ500〜10000のポリメタロシランが提供される。 更に本発明によれば一般式(R1・R2・Si)n
で表わされる還状ポリシラン(ただし、n≧4,
R1,R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル基、
アリール基、フエニル基またはシリル基のいずれ
か1つを示す)あるいは一般式
有機チタン化合物または有機ジルコニウム化合物
から誘導された新規なポリメタロシランおよびそ
の製造方法に関するものである。 ポリシランから炭化ケイ素含有セラミツクスを
製造することは公知である。例えばJournal of
The American Cermmic Sociaty 61,504
〔1978〕にはウエストらによつてメチルフエニル
ジクロロシランおよびアルカリ金属とジメチルジ
クロロシランを反応させることによつて合成し
た。ポリシランを高温で焼成してβ−炭化ケイ素
を生じることができることが報告されている。 しかしながら、ポリシランの多くは、低級ポリ
シラン例えばドデカメチルペンタシランやドデカ
メチルシクロヘキサシランまた高級ポリシラン、
例えばポリジメチルシランのようなものは常圧、
不活性雰囲気下のもと加熱、焼成していくといず
れもほとんど飛散してしまうという欠点があつ
た。 そこで本発明者は、熱安定性の高いポリシラン
を得ることを目的に鋭意研究した結果、主として
−(Si−Si−)結合単位からなるポリシラン部分と−(
Ti−O−)構造単位の有機チタン化合物または−(
Zr−O−)構造単位の有機ジルコニウム化合物とか
ら誘導された新規なポリメタロシランおよびその
製造方法を見い出した。 本発明によれば、主鎖骨格が主として−(Si−Si
−)結合単位からなりケイ素の側鎖に水素原子、低
級アルキル基、アリール基、フエニル基またはシ
リル基を有するポリシラン部分と、該ポリシラン
部分のケイ素原子の少なくとも1部が酸素原子を
介して金属原子M(ただしMはチタンまたはジル
コニウムを表わす)と結合している部分とからな
り、該ポリシラン部分の−(Si−Si−)結合単位の全
数対−(M−O−)の構造単位の全数の比率が2:1
から500:1の範囲内にある数平均分子量がおよ
そ500〜10000のポリメタロシランが提供される。 更に本発明によれば一般式(R1・R2・Si)n
で表わされる還状ポリシラン(ただし、n≧4,
R1,R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル基、
アリール基、フエニル基またはシリル基のいずれ
か1つを示す)あるいは一般式
【式】で表
わされる鎖状ポリシラン(ただし、n≧3,
R1,R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル、ア
リール基、フエニル基またはシリル基のいずれか
1つを示す)のうちより選ばれ、且つ前記ポリシ
ランのケイ素の側鎖の少なくとも1部に水素原子
を有している数平均分子量200〜5000のポリシラ
ンに対して、 一般式 MX4 (ただし、式中のMはチタンまたはジルコニウ
ムを表わし、Xは炭素数1〜20個を有するアルコ
キシ基、フエノキシ基またはアセチルアセトキシ
基を示す) で表わされる有機金属化合物を混合し、得られた
混合物を反応に対して不活性な雰囲気下において
加熱反応して、前記ポリシランのケイ素原子の少
なくとも1部を、前記有機金属化合物の金属原子
と酸素原子を介して結合させることを特徴とする
数平均分子量がおよそ500〜10000の新規なポリメ
タロシランの製造法が提供される。 以下本発明をより具体的に説明する。 本発明の新規なポリメタロシランは次に図示す
るような1官能性、2官能性、3官能性または4
官能性部分から構成されている。 (ただしRは水素原子、低級アルキル基、アリ
ール基、フエニル基またはシリル基を表わし、
M,Xは前記と同じ意味を有する)すなわち1官
能性部分は主として−(Si−Si−)結合単位からなる
ポリシランのポリマー鎖に有機チタン化合物また
は有機ジルコニウム化合物がペンダント側鎖とし
て結合しており、2官能性、3官能性および4官
能性部分では、2個以上のポリシラン同志が、有
機チタン化合物または有機ジルコニウム化合物に
より架橋されている。 前記ポリシラン自体および前記有機金属化合物
は公知であるが、前記ポリシランと前記有機金属
化合物とからなるポリメタロシランはこれまで知
られていなかつた。すなわち、本発明の新規なポ
リメタロシランが主として−(Si−Si−)結合単位か
らなるポリシランと異なる構造を有するポリマー
であることは、ゲルパーミエーシヨンクロマトグ
ラフィー(GPC)および赤外吸収スペクトル
(IR)によつて確認することができる。 第1図は後述の参考例1に記載の方法で得られ
たポリシランのGPC、第2図は後述の実施例1
に記載の方法に従い、前記のポリシランとチタン
アルコキシドとを10:1(重量比)で反応させる
ことによつて得られた本発明の新規ポリチタノシ
ランのGPCである(いずれの場合にも重合体10
mgをテトラヒドロフラン10mlに溶かした溶液を測
定に供した)。第2図は第1図と比べると、横軸
の溶出量60および65ml付近において第1図には見
られない新たなピークが出現している。これは本
発明の方法により得られた新規ポリチタノシラン
は、ポリシランと有機チタン化合物との単なる混
合物ではなく、両者が反応により結合することに
よつて、ポリシランに比べて高分子量化した有機
金属重合体であることを意味するものである
〔GPCではピークの横軸(溶出量)の数値の低い
程、それに対応する分子量は高い〕。次に第3図
は後述の参考例1に記載の方法で得られたポリカ
ルボシランのIR、第4図は後述の実施例1に記
載の方法に従い、前記のポリシランとチタンアル
コキシドとを10:1(重量比)で反応させること
によつて得られた本発明の新規ポリチタノシラン
のIRである。そして第3図のIRにおける1250cm
-1および2100cm-1の吸収はそれぞれ出発原料のポ
リシランに存在するSi−CH3及びSi−Hに対応す
る吸収である。第4図に示した新規ポリチタノシ
ランのIRにおいても、前記2つの吸収は存在す
るが、Si−H吸収強度(2100cm−1)/Si−C
H3吸収強度(1250cm−1)のの比率にお いて第3図と第4図を比較すると、第3図のIR
ではこの比率が0.25であるのに対して第4図では
0.10と減少している。このことは、ポリシランと
チタンアルコキシドとの反応により、ポリシラン
中のSi−H結合の一部が消失し、それによつてポ
リシランがチタンアルコキシドと反応すること、
およびポリシラン同志がチタンアルコキシドによ
り架橋することを示している。また、Si−O−Ti
結合の生成に起因すると考えられる1080cm-1付近
のピークの増大も認められる。 すなわち、実施例1の方法で製造された本発明
の新規ポリチタノシランは、ポリシランの主鎖骨
格中に存在する構造単位−(Si−Si−)のケイ素原子
に側鎖基として結合している水素原子の一部が脱
離し、そのケイ素原子がチタンアルコキシドの結
合単位−(Ti−O−)のチタン原子と酸素原子を介
して結合して生成するものである。 第5図は後述の参考例2に記載の方法で得られ
たポリシランのIR、第6図は後述実施例3に記
載の方法により得られた本発明の新規ポリジルコ
ノシランのIRである。 第3図と同様に第5図においても1250cm-1およ
び2100cm-1の吸収はそれぞれポリシランのSi−
CH3およびSi−Hに対応する。第6図に示した新
規ポリジルコノシランのIRにおいても、前記2
つの吸収は存在するが、
Si−H吸収強度(2100cm−1)/Si−CH3吸
収強度(1250cm−1)の比率において第5 図と第6図を比較すると、第5図ではこの比率が
0.72であるのに対して第6図では0.28と減少して
いる。このことはポリシランとジルコニウムアル
コキシドとの反応により、ポリシラン中のSi−H
結合の一部が消失し、それによつてポリシランが
ジルコニウムアルコキシドと反応すること、およ
びポリシラン同志がジルコニウムアルコキシドに
より架橋することを示している。またSi−O−Zr
結合の生成に起因すると考えられる960cm-1付近
のピークの増大も認められる。 すなわち、実施例3の方法で製造された本発明
の新規ポリジルコノシランは、ポリシランの主鎖
骨格中に存在する構造単位−(Si−Si−)のケイ素原
子に側鎖基として結合している水素原子の一部が
脱離し、そのケイ素原子がジルコニウムアルコキ
シドの結合単位−(Zr−O−)のチタン原子と酸素原
子を介して結合して生成するものである。 本発明の新規ポリメタロシランを製造するため
本発明の方法は、ポリシランおよび有機チタン化
合物または有機ジルコニウム化合物を、無溶媒ま
たは有機溶媒中で、且つ反応に対して不活性な雰
囲気中において加熱反応し、ポリシランのケイ素
原子の少なくとも1部を、有機チタン化合物また
は有機ジルコニウム化合物のチタン原子またはジ
ルコニウム原子と酸素原子を介して結合させる方
法である。ポリシランを無溶媒で反応させてもよ
いが、有機溶媒を用いても反応を行なうことがで
きる。好ましい溶媒としては例えばn−ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒド
ロフラン等があげられる。また反応に対して不活
性な雰囲気、例えば、窒素、アルゴン、水素等の
雰囲気中において反応を行うことが必要であり、
空気中のような酸化性雰囲気中で行うと、原料の
ポリシラン及び有機チタン化合物または有機ジル
コニウム化合物の酸化が生じるため好ましくな
い。 反応温度は広い範囲にわたつて変更することが
でき、例えば有機溶媒を使用する場合には、その
有機溶媒の沸点以下の温度に加熱してもよいが、
数平均分子量の高い重合体を得る場合には、引続
き有機溶媒の沸点以上に加熱して有機溶媒を留去
させて反応を行うことが好ましい。反応温度は一
般に500℃以下にすることが好ましい。反応時間
は特に重要ではないが、通常、1〜10時間程度で
ある。反応は一般に常圧付近で行うのが好まし
く、真空中や高い減圧中で反応を行うと、低分子
成分が系外に留出するため収率が低下するので好
ましくない。本発明の方法を実施するためには、
不活性ガスを反応系に気流として送りこみながら
反応を行うのが好ましく、その理由は、これによ
り反応器内の圧力がほぼ常圧に保たれ、温度上昇
や反応中に放出される炭化水素ガス、例えばメタ
ンのようなガスによる圧力上昇を防ぐことができ
るからである。 本発明の方法において、新規ポリメタロシラン
を製造するための出発原料の一つとして使用する
ポリシランは、数平均分子量が200〜5000の、前
記一般式 (R1・R2・Si)oあるいは
R1,R2はそれぞれ水素原子、低級アルキル、ア
リール基、フエニル基またはシリル基のいずれか
1つを示す)のうちより選ばれ、且つ前記ポリシ
ランのケイ素の側鎖の少なくとも1部に水素原子
を有している数平均分子量200〜5000のポリシラ
ンに対して、 一般式 MX4 (ただし、式中のMはチタンまたはジルコニウ
ムを表わし、Xは炭素数1〜20個を有するアルコ
キシ基、フエノキシ基またはアセチルアセトキシ
基を示す) で表わされる有機金属化合物を混合し、得られた
混合物を反応に対して不活性な雰囲気下において
加熱反応して、前記ポリシランのケイ素原子の少
なくとも1部を、前記有機金属化合物の金属原子
と酸素原子を介して結合させることを特徴とする
数平均分子量がおよそ500〜10000の新規なポリメ
タロシランの製造法が提供される。 以下本発明をより具体的に説明する。 本発明の新規なポリメタロシランは次に図示す
るような1官能性、2官能性、3官能性または4
官能性部分から構成されている。 (ただしRは水素原子、低級アルキル基、アリ
ール基、フエニル基またはシリル基を表わし、
M,Xは前記と同じ意味を有する)すなわち1官
能性部分は主として−(Si−Si−)結合単位からなる
ポリシランのポリマー鎖に有機チタン化合物また
は有機ジルコニウム化合物がペンダント側鎖とし
て結合しており、2官能性、3官能性および4官
能性部分では、2個以上のポリシラン同志が、有
機チタン化合物または有機ジルコニウム化合物に
より架橋されている。 前記ポリシラン自体および前記有機金属化合物
は公知であるが、前記ポリシランと前記有機金属
化合物とからなるポリメタロシランはこれまで知
られていなかつた。すなわち、本発明の新規なポ
リメタロシランが主として−(Si−Si−)結合単位か
らなるポリシランと異なる構造を有するポリマー
であることは、ゲルパーミエーシヨンクロマトグ
ラフィー(GPC)および赤外吸収スペクトル
(IR)によつて確認することができる。 第1図は後述の参考例1に記載の方法で得られ
たポリシランのGPC、第2図は後述の実施例1
に記載の方法に従い、前記のポリシランとチタン
アルコキシドとを10:1(重量比)で反応させる
ことによつて得られた本発明の新規ポリチタノシ
ランのGPCである(いずれの場合にも重合体10
mgをテトラヒドロフラン10mlに溶かした溶液を測
定に供した)。第2図は第1図と比べると、横軸
の溶出量60および65ml付近において第1図には見
られない新たなピークが出現している。これは本
発明の方法により得られた新規ポリチタノシラン
は、ポリシランと有機チタン化合物との単なる混
合物ではなく、両者が反応により結合することに
よつて、ポリシランに比べて高分子量化した有機
金属重合体であることを意味するものである
〔GPCではピークの横軸(溶出量)の数値の低い
程、それに対応する分子量は高い〕。次に第3図
は後述の参考例1に記載の方法で得られたポリカ
ルボシランのIR、第4図は後述の実施例1に記
載の方法に従い、前記のポリシランとチタンアル
コキシドとを10:1(重量比)で反応させること
によつて得られた本発明の新規ポリチタノシラン
のIRである。そして第3図のIRにおける1250cm
-1および2100cm-1の吸収はそれぞれ出発原料のポ
リシランに存在するSi−CH3及びSi−Hに対応す
る吸収である。第4図に示した新規ポリチタノシ
ランのIRにおいても、前記2つの吸収は存在す
るが、Si−H吸収強度(2100cm−1)/Si−C
H3吸収強度(1250cm−1)のの比率にお いて第3図と第4図を比較すると、第3図のIR
ではこの比率が0.25であるのに対して第4図では
0.10と減少している。このことは、ポリシランと
チタンアルコキシドとの反応により、ポリシラン
中のSi−H結合の一部が消失し、それによつてポ
リシランがチタンアルコキシドと反応すること、
およびポリシラン同志がチタンアルコキシドによ
り架橋することを示している。また、Si−O−Ti
結合の生成に起因すると考えられる1080cm-1付近
のピークの増大も認められる。 すなわち、実施例1の方法で製造された本発明
の新規ポリチタノシランは、ポリシランの主鎖骨
格中に存在する構造単位−(Si−Si−)のケイ素原子
に側鎖基として結合している水素原子の一部が脱
離し、そのケイ素原子がチタンアルコキシドの結
合単位−(Ti−O−)のチタン原子と酸素原子を介
して結合して生成するものである。 第5図は後述の参考例2に記載の方法で得られ
たポリシランのIR、第6図は後述実施例3に記
載の方法により得られた本発明の新規ポリジルコ
ノシランのIRである。 第3図と同様に第5図においても1250cm-1およ
び2100cm-1の吸収はそれぞれポリシランのSi−
CH3およびSi−Hに対応する。第6図に示した新
規ポリジルコノシランのIRにおいても、前記2
つの吸収は存在するが、
Si−H吸収強度(2100cm−1)/Si−CH3吸
収強度(1250cm−1)の比率において第5 図と第6図を比較すると、第5図ではこの比率が
0.72であるのに対して第6図では0.28と減少して
いる。このことはポリシランとジルコニウムアル
コキシドとの反応により、ポリシラン中のSi−H
結合の一部が消失し、それによつてポリシランが
ジルコニウムアルコキシドと反応すること、およ
びポリシラン同志がジルコニウムアルコキシドに
より架橋することを示している。またSi−O−Zr
結合の生成に起因すると考えられる960cm-1付近
のピークの増大も認められる。 すなわち、実施例3の方法で製造された本発明
の新規ポリジルコノシランは、ポリシランの主鎖
骨格中に存在する構造単位−(Si−Si−)のケイ素原
子に側鎖基として結合している水素原子の一部が
脱離し、そのケイ素原子がジルコニウムアルコキ
シドの結合単位−(Zr−O−)のチタン原子と酸素原
子を介して結合して生成するものである。 本発明の新規ポリメタロシランを製造するため
本発明の方法は、ポリシランおよび有機チタン化
合物または有機ジルコニウム化合物を、無溶媒ま
たは有機溶媒中で、且つ反応に対して不活性な雰
囲気中において加熱反応し、ポリシランのケイ素
原子の少なくとも1部を、有機チタン化合物また
は有機ジルコニウム化合物のチタン原子またはジ
ルコニウム原子と酸素原子を介して結合させる方
法である。ポリシランを無溶媒で反応させてもよ
いが、有機溶媒を用いても反応を行なうことがで
きる。好ましい溶媒としては例えばn−ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒド
ロフラン等があげられる。また反応に対して不活
性な雰囲気、例えば、窒素、アルゴン、水素等の
雰囲気中において反応を行うことが必要であり、
空気中のような酸化性雰囲気中で行うと、原料の
ポリシラン及び有機チタン化合物または有機ジル
コニウム化合物の酸化が生じるため好ましくな
い。 反応温度は広い範囲にわたつて変更することが
でき、例えば有機溶媒を使用する場合には、その
有機溶媒の沸点以下の温度に加熱してもよいが、
数平均分子量の高い重合体を得る場合には、引続
き有機溶媒の沸点以上に加熱して有機溶媒を留去
させて反応を行うことが好ましい。反応温度は一
般に500℃以下にすることが好ましい。反応時間
は特に重要ではないが、通常、1〜10時間程度で
ある。反応は一般に常圧付近で行うのが好まし
く、真空中や高い減圧中で反応を行うと、低分子
成分が系外に留出するため収率が低下するので好
ましくない。本発明の方法を実施するためには、
不活性ガスを反応系に気流として送りこみながら
反応を行うのが好ましく、その理由は、これによ
り反応器内の圧力がほぼ常圧に保たれ、温度上昇
や反応中に放出される炭化水素ガス、例えばメタ
ンのようなガスによる圧力上昇を防ぐことができ
るからである。 本発明の方法において、新規ポリメタロシラン
を製造するための出発原料の一つとして使用する
ポリシランは、数平均分子量が200〜5000の、前
記一般式 (R1・R2・Si)oあるいは
【式】
(ただし、式中のRおよびnは前記と同じ意味
を示し、ケイ素の側鎖の少なくとも1部に水素原
子を有している。)で表わされる主鎖骨格を有し
ている。なお、ポリシランの末端基のケイ素原子
には前記の側鎖の他に、水酸基またはアルコキシ
基が結合していてもよい。 ポリシランの製造方法自体は公知であり、本発
明において出発原料として使用するポリシランは
そのような公知方法によつて製造することができ
る。 すなわち、本発明の出発原料である側鎖に水素
原子を有するポリシランは、アルカリ金属を使用
したポリシラン製造方法において出発物質として
ハロゲン化ケイ素のケイ素の側鎖に水素原子を含
むハロゲン化ケイ素化合物を用いることにより製
造される。 すなわち、一般式 R1R2XSiH(ただしR1,R2は水素原子、低級ア
ルキル基、フエニル基、シリル基またはハロゲン
を示す。またXはハロゲンを表わす)で表わされ
るケイ素の側鎖に水素原子を含むハロゲン化ケイ
素化合物(i)を10〜100部用いこれに対してケイ素
の側鎖に水素原子を含まないハロゲン化ケイ素化
合物(ii)を90〜0部の範囲で用いることにより好都
合に側鎖に少なくとも1部に水素原子を有するポ
リシランを製造することができる。 次にハロゲン化ケイ素化合物を具体的に挙げる
と (i) R1R2XSiHで表わされるハロゲン化ケイ素化
合物を具体的に挙げれば、 CH3HSiCl2,CH3HSiBr2,(C2H5)HSiCl2,
(C2H5)HSiBr2,(C6H5)HSiCl2,(C6H5)
HSiBr2,H2SiCl2,HSiCl3,CH3SiHCl,n−
C4H9SiHCl2,(C2H5)2HSiCl,(CH2=CHH2)
HSiCl2などが挙げられる。 (ii) 水素原子を側鎖に含まないハロゲン化ケイ素
化合物を具体的に挙げれば、 (CH3)2SiCl2,(CH3)(C6H5)SiCl2,
(CH3)3SiCl,CH3SiCl3,C2H5SiCl3,(n−
C3H7)2SiCl2,(CH3)2SiBr,(C6H5)3SiBr,
CH2=CH(CH3)2SiCl2,C2H5SiCl3,
(C2H5)2SiBr2などが挙げられる。 (i)の群の中から少なくとも1つ以上のハロゲン
化水素化合物を10〜100部、と(ii)の群の中から選
ばれるハロゲン化ケイ素化合物90〜0部との混合
物をLi,Na,Kもしくはこれらの混合物または
これらの合金の存在下に反応させてることにより
得られる。この方法により得られるポリシランは
分子量に応じ淡黄色液体または白色の固体として
得られ、場合により乾燥状態では発火性を示すこ
ともあるので、側鎖の水素含有率は(Si−H結合
単位のモル%)30モル%以下になるようにするの
が望ましい。 本発明の方法による新規なポリメタロシランを
製造するための他の出発原料として使用する有機
金属化合物は、 一般式 MX4 (ただし、式中のMはチタンまたはジルコニウ
ムを表わしXは炭素数1〜20を有するアルコキシ
基、フエノキシ基またはアセチルアセトキシ基を
示す)で表わされる。 本発明の方法においては、前記ポリシランと前
記有機金属化合物とを混合し、得られた混合物を
反応に対して不活性な雰囲気下において加熱反応
してポリメタロシランを製造する。この反応によ
りポリシランのケイ素原子に結合していた水素原
子が脱離し、そのケイ素原子が有機チタン化合物
または有機ジルコニウム化合物のチタン原子また
はジルコニウム原子と酸素原子を介して結合す
る。 本発明の方法で製造される新規なポリメタロシ
ランは、数平均分子量が約500〜10000のポリマー
であり、そして通常50〜400℃に加熱することに
より溶融する熱可塑性物質であるから、様々な形
状を有する成形体とすることである。特に本発明
のように有機チタン化合物または有機ジルコニウ
ム化合物によつてポリシランが架橋されることに
より生成する新規なポリメタロシランは熱分解が
抑制されるためこれを800℃以上の温度で真空
中、不活性ガス雰囲気中または非酸化性ガス雰囲
気中で焼成することにより高収率で主としてSi−
Ti−C系またはSi−Zr−C系からなる無機成形体
に転換させることができる。このような成形体の
例としては、繊維、フイルム、被覆膜、粉末など
が挙げられる。 本発明の新規なポリメタロシランは焼成残留率
が大きいため、これらのSi,Ti,およびCまたは
Si,ZrおよびCよりなる製品を得る際の歩留りが
よいので極めて有利なポリマーである。また本発
明の新規なポリメタロシランは前記の成形体以外
に他の焼結用結合剤や含浸剤としても用いること
ができる。 参考例 1 2四つ口フラスコに無水ベンゼン500mlとナ
トリウム50gとカリウム20gよりなるナトリウム
−カリウム合金を入れておきこれにおよそ73℃で
メチルジクロロシラン20.0g、トリメチルクロロ
シラン85.0gおよびジメチルジクロロシラン80.0
gの混合物を約2時間で滴下し、そのまま15時間
反応を行なつた。反応後、過し、ベンゼン層か
らベンゼンを留去することにより白色スラリー状
のポリシランを得た。その数平均分子量は350で
あつた。また、n・m・rによるSi−H結合単位
のモル%を算出したところおよそ4モル%であつ
た。 参考例 2 2四つ口フラスコに無水ベンゼン500mlとナ
トリウム50gとカリウム15gよりなるナトリウム
−カリウム合金を入れておき、これにおよそ70℃
でメチルジクロロシラン45.0g、ジメチルジクロ
ロシラン50.0g、トリメチルクロロシラン90.0g
の混合物を約2時間で滴下し、そのまま15時間反
応を行なつた。反応後過し、ベンゼン層からベ
ンゼンを留去することにより淡黄色スラリー状の
ポリシランを得た。その数平均分子量は460であ
つた。また、このポリシランのn・m・rによる
Si−H結合単位のモル%を算出したところおよそ
20モル%であつた。 実施例 1 参考例1により得られたポリシラン20gにチタ
ンイソプロポキシド2.0gを添加し、窒素気流下
に340℃で10時間反応を行なうことにより数平均
分子量が650のシリコンおよびチタンを含有する
黒色の有機金属架橋重合体を得た。このGPCを
第2図に、赤外吸収スペクトルを第4図に示し
た。 実施例 2 参考例2により得られたポリシラン30gにチタ
ンイソプロポキシド14gを添加し、窒素気流下に
200℃で2時間反応を行なうことにより数平均分
子量が1300のシリコンおよびチタンを含有する黒
色の有機金属架橋重合体を得た。このもののn・
m・rによりSi−H結合単位を算出したところお
よそ3%であり、17モル%のSi−H結合単位が反
応に関与したことがわかる。熱天秤によりその焼
成残存量の測定を行なつた。窒素雰囲気下、10
℃/minの加熱速度で試料15.9mgを1300℃まで焼
成したところ、73.0%の焼成残存率を示した。ま
た1700℃での焼成を行ないX線回折の測定結果を
行なつたところ主としてSi−Ti−C系からなる無
機物が確認された。 実施例 3 参考例2により得られたポリシラン20gにジル
コニウムイソプロポキシド9gを添加し、窒素気
流下に150℃で2時間反応を行なうことにより、
橙色の有機ジルコニウム架橋重合体を得た。数平
均分子量970のシリコン・ジルコニウムを含む赤
外吸収スペクトルを第6図に示した。窒素ガス雰
囲気下で1700℃までの焼成物はX線回折の測定を
行なつたところ主としてSi−Zr−C系からなる無
機物を確認した。
を示し、ケイ素の側鎖の少なくとも1部に水素原
子を有している。)で表わされる主鎖骨格を有し
ている。なお、ポリシランの末端基のケイ素原子
には前記の側鎖の他に、水酸基またはアルコキシ
基が結合していてもよい。 ポリシランの製造方法自体は公知であり、本発
明において出発原料として使用するポリシランは
そのような公知方法によつて製造することができ
る。 すなわち、本発明の出発原料である側鎖に水素
原子を有するポリシランは、アルカリ金属を使用
したポリシラン製造方法において出発物質として
ハロゲン化ケイ素のケイ素の側鎖に水素原子を含
むハロゲン化ケイ素化合物を用いることにより製
造される。 すなわち、一般式 R1R2XSiH(ただしR1,R2は水素原子、低級ア
ルキル基、フエニル基、シリル基またはハロゲン
を示す。またXはハロゲンを表わす)で表わされ
るケイ素の側鎖に水素原子を含むハロゲン化ケイ
素化合物(i)を10〜100部用いこれに対してケイ素
の側鎖に水素原子を含まないハロゲン化ケイ素化
合物(ii)を90〜0部の範囲で用いることにより好都
合に側鎖に少なくとも1部に水素原子を有するポ
リシランを製造することができる。 次にハロゲン化ケイ素化合物を具体的に挙げる
と (i) R1R2XSiHで表わされるハロゲン化ケイ素化
合物を具体的に挙げれば、 CH3HSiCl2,CH3HSiBr2,(C2H5)HSiCl2,
(C2H5)HSiBr2,(C6H5)HSiCl2,(C6H5)
HSiBr2,H2SiCl2,HSiCl3,CH3SiHCl,n−
C4H9SiHCl2,(C2H5)2HSiCl,(CH2=CHH2)
HSiCl2などが挙げられる。 (ii) 水素原子を側鎖に含まないハロゲン化ケイ素
化合物を具体的に挙げれば、 (CH3)2SiCl2,(CH3)(C6H5)SiCl2,
(CH3)3SiCl,CH3SiCl3,C2H5SiCl3,(n−
C3H7)2SiCl2,(CH3)2SiBr,(C6H5)3SiBr,
CH2=CH(CH3)2SiCl2,C2H5SiCl3,
(C2H5)2SiBr2などが挙げられる。 (i)の群の中から少なくとも1つ以上のハロゲン
化水素化合物を10〜100部、と(ii)の群の中から選
ばれるハロゲン化ケイ素化合物90〜0部との混合
物をLi,Na,Kもしくはこれらの混合物または
これらの合金の存在下に反応させてることにより
得られる。この方法により得られるポリシランは
分子量に応じ淡黄色液体または白色の固体として
得られ、場合により乾燥状態では発火性を示すこ
ともあるので、側鎖の水素含有率は(Si−H結合
単位のモル%)30モル%以下になるようにするの
が望ましい。 本発明の方法による新規なポリメタロシランを
製造するための他の出発原料として使用する有機
金属化合物は、 一般式 MX4 (ただし、式中のMはチタンまたはジルコニウ
ムを表わしXは炭素数1〜20を有するアルコキシ
基、フエノキシ基またはアセチルアセトキシ基を
示す)で表わされる。 本発明の方法においては、前記ポリシランと前
記有機金属化合物とを混合し、得られた混合物を
反応に対して不活性な雰囲気下において加熱反応
してポリメタロシランを製造する。この反応によ
りポリシランのケイ素原子に結合していた水素原
子が脱離し、そのケイ素原子が有機チタン化合物
または有機ジルコニウム化合物のチタン原子また
はジルコニウム原子と酸素原子を介して結合す
る。 本発明の方法で製造される新規なポリメタロシ
ランは、数平均分子量が約500〜10000のポリマー
であり、そして通常50〜400℃に加熱することに
より溶融する熱可塑性物質であるから、様々な形
状を有する成形体とすることである。特に本発明
のように有機チタン化合物または有機ジルコニウ
ム化合物によつてポリシランが架橋されることに
より生成する新規なポリメタロシランは熱分解が
抑制されるためこれを800℃以上の温度で真空
中、不活性ガス雰囲気中または非酸化性ガス雰囲
気中で焼成することにより高収率で主としてSi−
Ti−C系またはSi−Zr−C系からなる無機成形体
に転換させることができる。このような成形体の
例としては、繊維、フイルム、被覆膜、粉末など
が挙げられる。 本発明の新規なポリメタロシランは焼成残留率
が大きいため、これらのSi,Ti,およびCまたは
Si,ZrおよびCよりなる製品を得る際の歩留りが
よいので極めて有利なポリマーである。また本発
明の新規なポリメタロシランは前記の成形体以外
に他の焼結用結合剤や含浸剤としても用いること
ができる。 参考例 1 2四つ口フラスコに無水ベンゼン500mlとナ
トリウム50gとカリウム20gよりなるナトリウム
−カリウム合金を入れておきこれにおよそ73℃で
メチルジクロロシラン20.0g、トリメチルクロロ
シラン85.0gおよびジメチルジクロロシラン80.0
gの混合物を約2時間で滴下し、そのまま15時間
反応を行なつた。反応後、過し、ベンゼン層か
らベンゼンを留去することにより白色スラリー状
のポリシランを得た。その数平均分子量は350で
あつた。また、n・m・rによるSi−H結合単位
のモル%を算出したところおよそ4モル%であつ
た。 参考例 2 2四つ口フラスコに無水ベンゼン500mlとナ
トリウム50gとカリウム15gよりなるナトリウム
−カリウム合金を入れておき、これにおよそ70℃
でメチルジクロロシラン45.0g、ジメチルジクロ
ロシラン50.0g、トリメチルクロロシラン90.0g
の混合物を約2時間で滴下し、そのまま15時間反
応を行なつた。反応後過し、ベンゼン層からベ
ンゼンを留去することにより淡黄色スラリー状の
ポリシランを得た。その数平均分子量は460であ
つた。また、このポリシランのn・m・rによる
Si−H結合単位のモル%を算出したところおよそ
20モル%であつた。 実施例 1 参考例1により得られたポリシラン20gにチタ
ンイソプロポキシド2.0gを添加し、窒素気流下
に340℃で10時間反応を行なうことにより数平均
分子量が650のシリコンおよびチタンを含有する
黒色の有機金属架橋重合体を得た。このGPCを
第2図に、赤外吸収スペクトルを第4図に示し
た。 実施例 2 参考例2により得られたポリシラン30gにチタ
ンイソプロポキシド14gを添加し、窒素気流下に
200℃で2時間反応を行なうことにより数平均分
子量が1300のシリコンおよびチタンを含有する黒
色の有機金属架橋重合体を得た。このもののn・
m・rによりSi−H結合単位を算出したところお
よそ3%であり、17モル%のSi−H結合単位が反
応に関与したことがわかる。熱天秤によりその焼
成残存量の測定を行なつた。窒素雰囲気下、10
℃/minの加熱速度で試料15.9mgを1300℃まで焼
成したところ、73.0%の焼成残存率を示した。ま
た1700℃での焼成を行ないX線回折の測定結果を
行なつたところ主としてSi−Ti−C系からなる無
機物が確認された。 実施例 3 参考例2により得られたポリシラン20gにジル
コニウムイソプロポキシド9gを添加し、窒素気
流下に150℃で2時間反応を行なうことにより、
橙色の有機ジルコニウム架橋重合体を得た。数平
均分子量970のシリコン・ジルコニウムを含む赤
外吸収スペクトルを第6図に示した。窒素ガス雰
囲気下で1700℃までの焼成物はX線回折の測定を
行なつたところ主としてSi−Zr−C系からなる無
機物を確認した。
第1図は参考例1のポリシランのGPC、第2
図は実施例1で得られた反応生成物のGPC、第
3図は参考例1のポリシランの赤外吸収スペクト
ル、第4図は実施例1で得られた反応生成物の赤
外吸収スペクトル、第5図は参考例2のポリシラ
ンの赤外吸収スペクトル、第6図は実施例3で得
られた反応生成物の赤外吸収スペクトルをそれぞ
れ示す。
図は実施例1で得られた反応生成物のGPC、第
3図は参考例1のポリシランの赤外吸収スペクト
ル、第4図は実施例1で得られた反応生成物の赤
外吸収スペクトル、第5図は参考例2のポリシラ
ンの赤外吸収スペクトル、第6図は実施例3で得
られた反応生成物の赤外吸収スペクトルをそれぞ
れ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 主鎖骨格が主として−(Si−Si−)結合単位から
なりケイ素の側鎖に水素原子、低級アルキル基、
アリール基、フエニル基またはシリル基を有する
ポリシラン部分と、該ポリシラン部分のケイ素原
子の少なくとも1部が酸素原子を介して金属原子
M(ただしMはチタンまたはジルコニウムを表わ
す)と結合している部分とからなり、該ポリシラ
ン部分の−(Si−Si−)結合単位の全数対−(M−O−
)
の構造単位の全数の比率が2:1から500:1の
範囲内にある数平均分子量がおよそ500〜10000の
ポリメタロシラン。 2 一般式(R1・R2・Si)nで表わされる環状
ポリシラン(ただし、n≧4,R1,R2はそれぞ
れ水素原子、低級アルキル基、アリール基、フエ
ニル基またはシリル基のいずれか1つを示す)あ
るいは一般式【式】で表わされる鎖状ポリ シラン(ただし、n≧3,R1,R2はそれぞれ水
素原子、低級アルキル基、アリール基、フエニル
基またはシリル基のいずれか1つを示す)のうち
より選ばれ、且つ前記ポリシランのケイ素の側鎖
の少なくとも1部に水素原子を有している数平均
分子量200〜5000のポリシランに対して、 一般式 MX4 (ただし、式中のMはチタンまたはジルコニウ
ムを表わし、Xは炭素数1〜20個を有するアルコ
キシ基、フエノキシ基またはアセチルアセトキシ
基を示す) で表わされる有機金属化合物を混合し、得られた
混合物を反応に対して不活性な雰囲気下において
加熱反応して、前記ポリシランのケイ素原子の少
なくとも1部を、前記有機金属化合物の金属原子
と酸素原子を介して結合させることを特徴とする
数平均分子量がおよそ500〜10000のポリメタロシ
ランの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9494182A JPS58213023A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | ポリメタロシランおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9494182A JPS58213023A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | ポリメタロシランおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58213023A JPS58213023A (ja) | 1983-12-10 |
JPS6158086B2 true JPS6158086B2 (ja) | 1986-12-10 |
Family
ID=14123970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9494182A Granted JPS58213023A (ja) | 1982-06-04 | 1982-06-04 | ポリメタロシランおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58213023A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4537942A (en) * | 1984-02-10 | 1985-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polyhydridosilanes and their conversion to pyropolymers |
US4611035A (en) * | 1984-02-10 | 1986-09-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polyhydridosilanes and their conversion to pyropolymers |
US4762895A (en) * | 1987-08-10 | 1988-08-09 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of preceramic metallopolysilanes and the polymers therefrom |
US4906710A (en) * | 1988-10-31 | 1990-03-06 | Dow Corning Corporation | Preceramic metallopolysilanes |
DE4036988A1 (de) * | 1990-11-20 | 1992-05-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von metallopolysilanen und deren verwendung |
US5292830A (en) * | 1991-06-20 | 1994-03-08 | Tonen Corporation | Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same |
JP4214113B2 (ja) * | 2002-07-23 | 2009-01-28 | 大阪瓦斯株式会社 | 電子写真感光体及びそれを用いた電子写真装置 |
JP4948666B2 (ja) | 2010-08-17 | 2012-06-06 | キヤノン株式会社 | 帯電部材及びその製造方法 |
WO2015057394A1 (en) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | United Technologies Corporation | Preceramic polymer for ceramic including metal boride |
-
1982
- 1982-06-04 JP JP9494182A patent/JPS58213023A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58213023A (ja) | 1983-12-10 |
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