JPS61278537A - Production of prepreg for printed wiring board - Google Patents
Production of prepreg for printed wiring boardInfo
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- JPS61278537A JPS61278537A JP12175685A JP12175685A JPS61278537A JP S61278537 A JPS61278537 A JP S61278537A JP 12175685 A JP12175685 A JP 12175685A JP 12175685 A JP12175685 A JP 12175685A JP S61278537 A JPS61278537 A JP S61278537A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は印刷配線板用プリプレグの製造方法に関するも
のである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing prepreg for printed wiring boards.
印刷配線板の高密度化に伴い、多層化、スルーホールの
小径化などが進み、ドリル加工性の良好な印刷配線板用
材料が要求されている。ドリル加工性のなかでも、スミ
アの発生は内層回路鋼とスルーホールめっき銅との導通
を妨げることによって、著しくスルーホール信頼性を損
なう。スミアを除去するために印刷配線板メーカーでは
スミア除去処理を行うが、濃硫酸、フッ化水素酸などを
用いるため安全上の間踊があり、まなスルーホール内壁
金めらし、信頼性を低下させる原因ともなる。スミアの
発生原因は、ドリル加工時の摩擦熱により軟化した樹脂
がドリルによりて内層回路銅断面に付着することだとい
われている。Tgcl)高い樹脂硬化物を用いることに
よって樹脂の軟化は防止できるが、樹脂硬度も大きくな
り、様々な問題が生じる。スミアの発生を低減させるも
のひとつの方法として、ドリル加工時に発生する摩擦熱
を少なくすることが考えられる。すなわち、樹脂の低j
l&!ll化をはかることによって摩擦熱の発生をおさ
え、樹脂の軟化を防ぐ方法である。As the density of printed wiring boards increases, the number of layers and through holes become smaller, and materials for printed wiring boards with good drillability are required. In terms of drillability, the occurrence of smear significantly impairs through-hole reliability by interfering with conduction between the inner layer circuit steel and the through-hole plating copper. In order to remove smear, printed wiring board manufacturers carry out a smear removal process, but there are safety precautions as concentrated sulfuric acid, hydrofluoric acid, etc. are used, and the inner wall of the through hole becomes gold-plated, reducing reliability. It can also be a cause. The cause of smear is said to be that the resin softened by the frictional heat during drilling attaches to the cross section of the inner layer circuit copper. Although softening of the resin can be prevented by using a cured resin with a high Tgcl), the hardness of the resin also increases, causing various problems. One way to reduce the occurrence of smear is to reduce the frictional heat generated during drilling. That is, the low j of the resin
l&! This is a method of suppressing the generation of frictional heat and preventing softening of the resin.
本発明は、エポキシ−ジシアンジアミド系多層材料のド
リル加工性改良、エポキシ−ポリフェノール系の保存安
定性および銅箔引きはがし強さの改良を目的とした印桐
配線板用プリプレグの製造方法に関する。The present invention relates to a method for producing prepreg for paulownia wiring boards, which aims to improve the drill workability of epoxy-dicyandiamide-based multilayer materials, the storage stability of epoxy-polyphenol-based materials, and the copper foil peeling strength.
本発明の印刷配線板用プリプレグの製造方法は、
(a) ビスフェノールAmエポキシ樹脂、テトラブ
ロモビスフェノールAおよびメトキシ基含有シリコーン
中間体を反応させて得られるシリコーン変性エポキシ樹
脂を1〜100重l1%含むエポキシ樹脂、
(b) 多官能フェノール、
(C) 硬化促進剤 および
(d) グアニジン誘導体
を必須成分として配合したフェノをガラス布またはガラ
ス不織布等の基材に含浸後、乾燥させることを特徴とす
る・
以下本発明の詳細な説明する。The method for producing a prepreg for printed wiring boards of the present invention includes: (a) containing 1 to 100 wt 1% of a silicone-modified epoxy resin obtained by reacting a bisphenol Am epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate; It is characterized by impregnating a base material such as glass cloth or glass nonwoven fabric with a phenol containing an epoxy resin, (b) a polyfunctional phenol, (C) a curing accelerator, and (d) a guanidine derivative as essential components, and then drying it. - The present invention will be explained in detail below.
(+り成分のエポキシ樹脂は、必須成分としてビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノール
Aおよびメトキシ基含有シリコーン中間体を反応させて
得られるシリコーン変性エポキシ樹脂を1〜100重量
%含んでいる。(The epoxy resin as a component contains 1 to 100% by weight of a silicone-modified epoxy resin obtained by reacting a bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate as an essential component.
ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、水酸基の少
ないものがよく、ヒドロキシル価0〜α08のものが好
ましい。ヒドロキシル価がそれより大きいと、得られた
シリコーン変性エポキシ樹脂が高分子量化して不均一な
硬化物を与える。ヒドロキシル価は水酸基当量の逆数に
100t−かけたもので、水酸基当量は塩化アセチル法
により測定した。As the bisphenol A type epoxy resin, one having few hydroxyl groups is preferable, and one having a hydroxyl value of 0 to α08 is preferable. If the hydroxyl value is higher than that, the obtained silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight and will give a non-uniform cured product. The hydroxyl value is the reciprocal of the hydroxyl equivalent multiplied by 100t, and the hydroxyl equivalent was measured by the acetyl chloride method.
テトラブロモビスフェノールAはエポキシ樹脂に難燃性
を付与するために用いられ、配合量はビスフェノールA
型エポキシat脂1ooxt部に対し、40〜80!量
部が好ましい。4Oxi部よシ少ないと、十分な難燃性
は得られず、80重量部よシ多いとシリコーン変性エポ
キシ樹脂が高分子量化してしまう。Tetrabromobisphenol A is used to impart flame retardancy to epoxy resins, and the amount of bisphenol A
40 to 80 for 10xt part of type epoxy AT resin! Parts by weight are preferred. If the amount is less than 40 parts by weight, sufficient flame retardancy cannot be obtained, and if it is more than 80 parts by weight, the silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight.
メトキシ基含有シリコーン中間体は、
や、この縮重合体であり、メトキシ基当量が50〜30
0のものを用いる。メトキシ基当量がこれよシ大きいと
シリコーン変性エポキシ樹脂が高分子量化してしまい、
不均一な硬化物を与える。また、これよシ小さいと、立
体障害の之め反応が十分に進まず、未反応のメトキシ基
が残存し、耐湿性1.耐熱性が低下する。シリコーン中
間体はビスフェノールA型エポキシ樹脂100重食部に
対し、α1〜50重量部用いるが、これより少ないとド
リル加工性に対する効果がなく、これより多いと、未反
応のメトキシ基が残存する。The methoxy group-containing silicone intermediate is or a condensation polymer thereof, and has a methoxy group equivalent of 50 to 30.
0 is used. If the methoxy group equivalent is larger than this, the silicone-modified epoxy resin will have a high molecular weight,
Gives an unevenly cured product. If it is smaller than this, the reaction will not proceed sufficiently due to steric hindrance, and unreacted methoxy groups will remain, resulting in a moisture resistance of 1. Heat resistance decreases. The silicone intermediate is used in an amount of α1 to 50 parts by weight per 100 parts of bisphenol A epoxy resin, but if the amount is less than this, there is no effect on drilling workability, and if the amount is more than this, unreacted methoxy groups remain.
これらの化合物を反応させる際に、触媒として第3級ア
ミン、第4級アンモニウム塩、イミダゾール、アルカリ
金属水酸化物、ハロゲン化ホスホニウム塩、スルホニウ
ム塩、第3級ホスフィン、有機チタネート化合物、有機
ジルコニウム化合物などを用いてもよい。第3級アミン
としては、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールア
ミン、ピリジンなどがある。第4級アンモニウム塩とし
てはベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウム
クロライド、テトラエテルアンモニウムブロマイド、テ
トラエテルアンモニウムクロライド、N−セチルピリジ
ニウムクロライドなどがある。When these compounds are reacted, tertiary amines, quaternary ammonium salts, imidazole, alkali metal hydroxides, halogenated phosphonium salts, sulfonium salts, tertiary phosphines, organic titanate compounds, organic zirconium compounds are used as catalysts. etc. may also be used. Examples of tertiary amines include benzyldimethylamine, triethanolamine, and pyridine. Examples of quaternary ammonium salts include benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium chloride, tetraethelammonium bromide, tetraethelammonium chloride, and N-cetylpyridinium chloride.
イミダゾールとしては2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミ4”
ソール、1−シアノエチル−2−7エニルイミダゾール
などがある。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化す
) IJウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが
ある。INQゲン化ホスホニウム塩としては、エチルト
リフェニルホスホニウムブロマイド、テトラ7二二ルホ
スホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロ
ライド、メチルトリフェニルホスホニウムアイオダイド
などがある。スルホニウム塩としてはトリフェニルスル
ホニウムクロライド、ベンジルジメチルスルホニラムク
Ωライド、ジメチルプロピルスルホニウムブロマイドな
どがある。第5級ホスフィンとしてはトリフェニルホス
フィン、トリブチルホスフィンナトがある。有機チタネ
ート化合物としては、テトラプロピルチタネート、テト
ラブチルチタネート、イングロビルトリイソステアロイ
ルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホ
ニルチタネート、イングロビルトリル(ジオクチルパイ
ロホスフェート)チタネート、テトライソプロビルビス
(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチ
ルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テト
ラ(2,2−ジアリルオ牟ジメチルー1−ブチル)ビス
(ジ−トリデシル)ホス21イトチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネ
ート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレン
チタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラオ
クチルチタネート、テトラステアリルチタネートなどが
ある。有機ジルコニウム化合物としては、酢酸ジルコニ
ウム、テトラキス(アセチルアセトネート)ジルコニウ
ム、ジノルマルグロボキシーアセチルアセトニルーステ
アリルオキシジルコニウム、ステアリルジルコニウム、
アセチルアセトンジルコニウム、ヒドロキシジルコニウ
ムトリル(アセチルアセトネート)なとがhる。Imidazole includes 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimi-4"
Sol, 1-cyanoethyl-2-7 enylimidazole, and the like. Examples of alkali metal hydroxides include IJium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. Examples of INQ genated phosphonium salts include ethyltriphenylphosphonium bromide, tetra72nylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, and methyltriphenylphosphonium iodide. Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium chloride, benzyldimethylsulfonyl chloride, and dimethylpropylsulfonium bromide. Examples of the tertiary phosphine include triphenylphosphine and tributylphosphine. Examples of organic titanate compounds include tetrapropyl titanate, tetrabutyl titanate, inglobil triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, inglobil tolyl (dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisoprobil bis (dioctyl phosphite) titanate, and tetra Octyl bis(ditridecyl phosphite) titanate, tetra(2,2-diallyldimethyl-1-butyl) bis(di-tridecyl) phos-21 ito titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) Examples include ethylene titanate, tetraisopropyl titanate, tetraoctyl titanate, and tetrastearyl titanate. Examples of organic zirconium compounds include zirconium acetate, tetrakis(acetylacetonate)zirconium, di-normal globoxyacetylacetonyl-stearyloxyzirconium, stearylzirconium,
Zirconium acetylacetone, hydroxyzirconium tolyl (acetylacetonate), etc.
こ九らの触媒をビスフェノールA型エポキシ樹脂100
重量部に対し、α001〜005M量部用いるが、それ
より少ないと触媒効果がなく、それより長いと樹脂中の
不純物として硬化物の電気特性などに影!#ヲ与える。The catalyst of Kokura is bisphenol A type epoxy resin 100
Use α001 to 005M parts per part by weight, but if it is less than that, there will be no catalytic effect, and if it is longer than that, it will become an impurity in the resin and affect the electrical properties of the cured product! #Give wo.
シリコーン変性エポキシ樹脂の合成反応の温度は、10
0〜200℃が好ましい。100℃より低いと反応が遅
く、反応時間が10時間以上かかる。200℃より高い
と触媒効果がなくなり、ま九テトラブロモビスフェノー
ルAが分解しはじめる。The temperature for the synthesis reaction of silicone-modified epoxy resin is 10
0 to 200°C is preferred. When the temperature is lower than 100°C, the reaction is slow and takes 10 hours or more. When the temperature is higher than 200°C, the catalytic effect is lost and tetrabromobisphenol A begins to decompose.
合成反応時間は何時間でもよいが、好ましくは2〜5時
間である。反応の終点はセチルトリメチルアンモニウム
ブロマイド−過塩素酸法によるエポキシ当量の測定によ
って確認される。The synthesis reaction time may be any number of hours, but is preferably 2 to 5 hours. The end point of the reaction is confirmed by measuring the epoxy equivalent by the cetyltrimethylammonium bromide-perchloric acid method.
測定したエポキシ当量が理論計算値の90〜110%に
あれば終点とする。90%未満では未反応物が多くなっ
て硬化が遅くなり、110%を越えると高分子量物が多
くなシ、プリプレグの外観が悪くなるので、好ましくな
い。If the measured epoxy equivalent is between 90% and 110% of the theoretically calculated value, it is considered as the end point. If it is less than 90%, there will be a large amount of unreacted substances and curing will be slow, and if it exceeds 110%, there will be a large amount of high molecular weight substances and the appearance of the prepreg will be poor, which is not preferable.
合成反応の際、不活性ガス置換はしてもしなくてもよい
。During the synthesis reaction, inert gas substitution may or may not be performed.
反応副生成物であるメタノールは蒸留によって系外に除
去し、必要があれば減圧蒸留によって除去する。Methanol, which is a reaction by-product, is removed from the system by distillation, and if necessary, by vacuum distillation.
以上の様にして得られたシリコーン変性エポキシ樹脂を
1〜100重量%用いる。1重1に%未満であるとドリ
ル加工性の向上が見られない。The silicone-modified epoxy resin obtained as described above is used in an amount of 1 to 100% by weight. If it is less than 1% by weight, no improvement in drilling workability will be observed.
シリコーン変性エポキシ樹脂以外の成分として用いられ
るエポキシ樹脂の種類については特に制限はなく、例え
ば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノ−A
−F mエポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラプク型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エボ
ギシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型
エボΦシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダ
ントイン型エポキシ樹脂、インシアヌレート型エポキシ
樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、およびそれらのハロ
ゲン化物、水素添加物などがあ夛、何種類かを併用する
こともできる。また、これらのエポキシ樹脂を混合する
方法、温度にも制限にない。There is no particular restriction on the type of epoxy resin used as a component other than the silicone-modified epoxy resin. For example, bisphenol A type epoxy resin, bispheno-A
-F m epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin There are many kinds of Φ resin, glycidylamine type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, incyanurate type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, and their halides and hydrogenated substances, and several types can be used together. . Furthermore, there are no restrictions on the method or temperature for mixing these epoxy resins.
(b)の多官能フェノールとしては、エポキシ樹脂と重
合すればどのようなものでもよく、例えば、ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、ポリビニルフェノール、ま
たはフェノール、クレゾール、アルキルフェノールカテ
コール、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどのノ
ボラック樹脂およびこれらのフェノール樹脂のハロゲン
化物などがある。これらのフェノール樹脂は、何種類か
を併用することもできる。配合量は、エポキシ基に対し
てフェノール注水酸基がCL5〜1.5当量の範囲であ
ることがドリル加工性の点から好ましい。The polyfunctional phenol (b) may be of any type as long as it can be polymerized with the epoxy resin, such as bisphenol A, bisphenol F, polyvinylphenol, or novolacs such as phenol, cresol, alkylphenol catechol, bisphenol A, and bisphenol F. These include resins and halides of these phenolic resins. Several types of these phenol resins can also be used in combination. The blending amount is preferably in the range of CL5 to 1.5 equivalents of phenol hydroxyl group to epoxy group from the viewpoint of drill workability.
(C)の硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、有
機リン化合物、第5級アミン、第4級アンモニウム塩な
どが用いられるが、イミノ基をアクリロニトリル、イン
シアネート、メラミンアクリレートなどでマスク化され
たイミダゾール化合物を用いると、従来の2倍以上の保
存安定性を持つプリプレグを得ることができる。As the curing accelerator (C), imidazole compounds, organic phosphorus compounds, 5th-class amines, quaternary ammonium salts, etc. are used, but imidazole with imino groups masked with acrylonitrile, incyanate, melamine acrylate, etc. By using the compound, it is possible to obtain prepregs that have storage stability that is more than twice that of conventional products.
ここで用いられるイミダゾール化合物としては、イミダ
ゾール、2−:r:チルイミダゾール、2−エチル−4
−メチルイミダゾール、 2−フェニルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチ
ルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4,
5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダシリン
、2−7エニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダシ
リン、2−ヘプタデシルイミダシリン、2−イソプロピ
ルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−
フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチルイミダ
シリン、2−イソプロピルイミダシリン、2,4−ジメ
チルイミダシリン、2−フェニル−4−メチルイミダシ
リンなどかあシ、マスク化剤としては、アクリロニトリ
ル、フェニレンジイソシアネート。The imidazole compounds used here include imidazole, 2-:r:tylimidazole, 2-ethyl-4
-methylimidazole, 2-phenylimidazole,
2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecyl imidazole, 4,
5-diphenylimidazole, 2-methylimidacillin, 2-7enylimidazoline, 2-undecylimidacilline, 2-heptadecylimidacilline, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-
As a masking agent, phenyl-4-methylimidazole, 2-ethylimidacilline, 2-isopropylimidacilline, 2,4-dimethylimidacyline, 2-phenyl-4-methylimidacyline, etc. , acrylonitrile, phenylene diisocyanate.
トルエンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネー
ト、ヘキナメテレンジイソシアネート、メチレンビスフ
ェニルインシアネート、メラミンアクリレートなどがあ
る。Examples include toluene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hequinamethelene diisocyanate, methylene bisphenyl incyanate, and melamine acrylate.
これらの硬化促進剤は何種類かを併用してもよく、配合
量はエポキシ樹脂100重量部に対しα01〜5重量部
が好ましい。101重量部より少ないと促進効果が小さ
く、5重量部より多いとドリル加工性が低下する。Several types of these curing accelerators may be used in combination, and the blending amount is preferably α01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than 101 parts by weight, the accelerating effect will be small, and if it is more than 5 parts by weight, drilling workability will be reduced.
(d)のグアニジン誘導体は銅箔引きはがし強さを向上
させるために必要なものである。グアニジン誘導体とし
てはジシアンジアミド、ジシアンジアミド−アニリン付
加物、ジシアンジアミド−メチルアニリン付加物、ジシ
アンジアミド−ジアミノジフェニルメタン付加物、ジシ
アンジアミド−ジクロロジアミノジフェニルメタン付加
物、ジシアンジアミド−ジアミノジフェニルエーテル付
加物などのジシアンジアミド誘導体、塩酸アミノグアニ
ジン、塩酸グアニジン、硝酸グアニジン、炭酸グアニジ
ン、リン酸グアニジンスル2アミン酸グアニジン、重炭
酸アミノグアニジンなどのグアニジン塩、アセチルグア
ニジン、ジアセチルグアニジン、プロピオニルグアニジ
ン、ジブロピオニルグアニジン、シアノアセチルグアニ
ジンコハク酸グアニジン、ジエチルシアノアセチルグア
ニジン、ジシアンシアミジン、N−オキシメチル−N′
−シアノグアニジン、アセチルグアニル尿素、N、N’
7ジカルボエトキシグアニジン、りQQグアニジン、ブ
ロモグアニジン、などがあり、これら何種類かを併用す
ることもてきる。配合量はエポキシ樹脂100Iift
部y対シテ[11〜1.01!jtf[:することが好
ましい。これより少ないと銅箔引きはがし強さが低下し
、これより多いとドリル加工性保存安定性が低下する。The guanidine derivative (d) is necessary to improve the peel strength of the copper foil. Examples of guanidine derivatives include dicyandiamide, dicyandiamide-aniline adduct, dicyandiamide-methylaniline adduct, dicyandiamide-diaminodiphenylmethane adduct, dicyandiamide-dichlorodiaminodiphenylmethane adduct, dicyandiamide-diaminodiphenyl ether adduct, aminoguanidine hydrochloride, and hydrochloric acid. Guanidine, guanidine nitrate, guanidine carbonate, guanidine phosphate, guanidine sulfate, guanidine salts such as aminoguanidine bicarbonate, acetylguanidine, diacetylguanidine, propionylguanidine, dibropionylguanidine, cyanoacetylguanidine, guanidine succinate, diethyl cyano Acetylguanidine, dicyancyamidine, N-oxymethyl-N'
-cyanoguanidine, acetylguanylurea, N, N'
Examples include 7 dicarboethoxyguanidine, riQQ guanidine, and bromoguanidine, and several of these can be used in combination. The blending amount is 100 Ift of epoxy resin.
Part y vs. shite [11~1.01! jtf[: It is preferable to do so. If the amount is less than this, the copper foil peeling strength will decrease, and if it is more than this, the drilling performance and storage stability will decrease.
ワニス作製の際の溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、N、 N−ジメチルホルムアミド、N、 N−ジ
メチルアセトアミド、メタノール、エタノールなどがあ
り、これらは、何種類か全混合して用いてもよい。Solvents used in varnish production include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, methanol, ethanol, etc. Some of these may be used as a mixture.
ま之、上記(a)、(b)、(e)、(d)は必須成分
でめり、他の化合物を混合することも可能である。However, the above (a), (b), (e), and (d) are essential components, and it is also possible to mix other compounds.
上記各成分を配合して得たワニスをガラス布ま念はガラ
ス不織布等の基材に含有後、乾燥炉中で80〜200℃
の範囲で乾燥させ、印刷配線板用プリプレグを得る。プ
リプレグは、加熱加圧して印刷配線板ま友は金属張積層
板を製造することに用いられる。After incorporating the varnish obtained by blending each of the above components into a base material such as a glass nonwoven fabric, it is heated at 80 to 200°C in a drying oven.
Dry within a range of 100 to obtain a prepreg for printed wiring boards. Prepreg is heated and pressed to produce printed wiring boards and metal-clad laminates.
以下、本発明の実施例を記載する。 Examples of the present invention will be described below.
本発明に使用し友エポキシ樹脂を以下の様に合成し友。The epoxy resin used in the present invention was synthesized as follows.
エポキシ当J1175のビスフェノールA型エポキシ樹
脂4000 g、テトラブロモビスフェノールA207
0g1 KR9218(商品名:信越化学工業■製、メ
トキシ基当量210のシリコーン中間体) 400 g
、テトラブチルチタネート(L5gを混合攪拌し、温度
150℃に4時間保つ次、その間、系中の揮発分を減圧
除去した。エポキシ当量576のシリコーン変性エポキ
シ樹脂Aを得た。Epoxy J1175 bisphenol A type epoxy resin 4000 g, tetrabromobisphenol A207
0g1 KR9218 (product name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silicone intermediate with methoxy group equivalent weight 210) 400 g
, tetrabutyl titanate (L5 g) were mixed and stirred and kept at a temperature of 150° C. for 4 hours, during which volatile components in the system were removed under reduced pressure. Silicone-modified epoxy resin A having an epoxy equivalent of 576 was obtained.
エポキシ当量190のビスフェノールA型エポキシ11
脂4000g、テトラブロモビスフェノールA2860
g、KR213(9品名:信越化学工業■製、メトキシ
基当量157のシリコーン中間体)540g、 ピリ
ジン0フ合攪拌し、温度120℃に2時間保つ友。その
間、系中の揮発分を減圧除去した。エポキシ当量565
のシリコーン変性エポキシ樹脂Bを得た。Bisphenol A epoxy 11 with epoxy equivalent weight 190
Fat 4000g, Tetrabromobisphenol A2860
g, 540 g of KR213 (9 product name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silicone intermediate with methoxy group equivalent weight 157), 540 g of pyridine, stirred and kept at a temperature of 120° C. for 2 hours. During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. Epoxy equivalent weight 565
A silicone-modified epoxy resin B was obtained.
エポキシ当−1190のビスフェノールA型エポキシ樹
脂4 0 0 0 g,テトラブロモビスフェノ−eA
2290g,KR2j7C商品名:信越化学工業■袈、
メトキシ基当量265のシリコーン中間体) 2 0
0 g,テトラゾΩビル2−メチルイミダゾール1.O
gy&:混合攪拌し、温度160℃に1時間保った。そ
の間、系中の揮発分を減圧除去し次。エポキシ当量55
8のシリコーン変性エボΦシ樹11Wct−i7’c。Epoxy-1190 bisphenol A epoxy resin 4000 g, tetrabromobispheno-eA
2290g, KR2j7C Product name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Silicone intermediate with methoxy group equivalent weight 265) 2 0
0 g, TetrazoΩvir 2-methylimidazole 1. O
gy&: The mixture was mixed and stirred, and the temperature was kept at 160°C for 1 hour. During that time, the volatile components in the system were removed under reduced pressure. Epoxy equivalent 55
8 silicone-modified Eboshiki 11Wct-i7'c.
エポキシ当量175のビスフェノールA型エポキシ樹脂
4 0 0 0 g,テトラブロモビスフェノールA2
070g,テトラメチルアンモニラムクΩライドα25
gt−混合攪拌し、温度160℃に2時間保りた。その
間、系中の揮発分を減圧除去した。エポキシ当量550
のエポキシ樹脂りを得九〇
以上得られ友エポキシ樹脂を用いて表1に示す配合でワ
ニスを作製した。Bisphenol A type epoxy resin with epoxy equivalent weight 175 4000 g, tetrabromobisphenol A2
070g, Tetramethylammonyl chloride α25
gt-mix with stirring and maintain the temperature at 160°C for 2 hours. During that time, volatile components in the system were removed under reduced pressure. Epoxy equivalent 550
An epoxy resin of 90 or more was obtained, and a varnish was prepared using the epoxy resin according to the formulation shown in Table 1.
上記実施例1〜5、比較例1および2のワニスを(11
nun厚のガラス布に含浸させ、160℃、10分間乾
燥してプリプレグを得次。The varnishes of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 (11
Next, a prepreg was obtained by impregnating a glass cloth with a thickness of 100 mL and drying it at 160°C for 10 minutes.
上記プリプレグ15枚と厚さ55μmO銅箔6枚を用い
て170℃で60分間、加熱加圧成形して6層印刷配線
板を作製し、ドリル加工性、銅箔引きはがし強さ、はん
だ耐熱性、プリプレグの保存安定性の試験を行った。ド
リル加工性試験は、6層印刷配線板を回転数60 kr
pm 。Using 15 sheets of the above prepreg and 6 sheets of O copper foil with a thickness of 55 μm, a 6-layer printed wiring board was fabricated by heat-pressing molding at 170°C for 60 minutes, and the results showed drilling workability, copper foil peeling strength, and soldering heat resistance. , the storage stability of prepreg was tested. The drill workability test was conducted by rotating a 6-layer printed wiring board at a rotation speed of 60 kr.
p.m.
送り速度五〇m/min、大枠1. Q mm1重ね枚
数2枚でf 20 Q Q hitsまで穴あけし、ス
ミ1発生率の測定を行った。Feed speed 50m/min, general frame 1. Holes were drilled to f 20 Q Q hits using 2 sheets of Q mm 1 stacked, and the incidence of stain 1 was measured.
特性試験結果を表2に示す。The characteristics test results are shown in Table 2.
測定はJIS C−6481に準じて行った。The measurement was performed according to JIS C-6481.
1)スミア発生率評価法
ドリル加工した6層配線板にスルーホールメッキをほど
こし、スルーホール部の切断面を顕微鏡にて5000h
its、 10000hits付近の20穴のIF3
J#lI鋼とスルーホールメッキ鋼との接続部分を観察
し、スミア発生率を評価した。スミア発生率は、1接続
箇所ごとに、接続高さに対する発生しているスミアの高
さの割合を算出し、平均した。1) Smear occurrence rate evaluation method Through-hole plating was applied to a drilled 6-layer wiring board, and the cut surface of the through-hole part was examined using a microscope for 5000 hours.
its, 20 holes IF3 near 10000 hits
The connection portion between the J#lI steel and the through-hole plated steel was observed, and the smear occurrence rate was evaluated. The smear occurrence rate was determined by calculating the ratio of the height of the smear to the connection height for each connection location, and averaging the ratio.
2)@箔引きはがし強さ測定法
外層鋼箔上に10mIII幅のラインを形成し、そのラ
インの90°方向の引きはがし強さを、50 m+e/
minの引きはがし速度で測定した。2) @Foil peeling strength measurement method A line with a width of 10mIII is formed on the outer layer steel foil, and the peeling strength in the 90° direction of the line is measured at 50m+e/
Measurements were made at a peeling speed of min.
3)内層鋼引きはがし強さ測定法
内層鋼箔の光沢面に酸化銅処理を行い、その酸化銅処理
面とプリプレグ層との引きはがし強さを、2)と同様の
条件で測定し友。3) Inner layer steel peel strength measurement method Copper oxide treatment was applied to the shiny surface of the inner layer steel foil, and the peel strength between the copper oxide treated surface and the prepreg layer was measured under the same conditions as in 2).
4)はんだ耐熱性
260℃のはんだに、20秒間′&漬後、外観を目視に
より評価し、ふくnのないものをOK、ふくれのあるも
のtNGとした。4) Solder heat resistance After dipping in solder at 260° C. for 20 seconds, the appearance was visually evaluated, and those without blisters were rated OK, and those with blisters were rated NG.
5)プリプレグゲルタイム
塗工直後のプリプレグの160℃でのゲルタイムを初期
値とし、温度20℃、湿度40%の条件で60日間保管
後のプリプレグの160℃でのゲルタイムを測定した。5) Prepreg Gel Time The gel time at 160°C of the prepreg immediately after coating was taken as the initial value, and the gel time at 160°C of the prepreg after being stored for 60 days at a temperature of 20°C and a humidity of 40% was measured.
表2に示される様に実施例1〜5では比較例1.2に比
ペスミア発生率、が低くなっている。As shown in Table 2, Examples 1 to 5 had a lower relative pestmia incidence rate than Comparative Example 1.2.
また実施例1〜5ではグアニジン誘導体、マスク化イミ
ダゾールを用いているので比較例IK比べ銅箔引きはが
し強さ、保存安定性は良好である。Further, since Examples 1 to 5 use a guanidine derivative and masked imidazole, the copper foil peeling strength and storage stability are better than that of Comparative Example IK.
仁のように本発明の印刷配綜板用プリプレグは従来技術
に比べ多重配線板のドリル加工性、および銅箔引きはが
し強さ、さらにプリプレグの保存安定性が向上した。The prepreg for printed heald boards of the present invention has improved drill workability for multiple wiring boards, copper foil peeling strength, and storage stability of the prepreg compared to the prior art.
Claims (1)
ロモビスフェノールAおよびメトキシ基含有シリコーン
中間体を反応させて得られるシリコーン変性エポキシ樹
脂を1〜100重量%含むエポキシ樹脂、 (b)多官能フェノール、 (c)硬化促進剤および (d)グアニジン誘導体 を必須成分として配合したワニスを基材に含浸後、乾燥
させることを特徴とする印刷配線板用プリプレグの製造
方法。 2、硬化促進剤がイミノ基がマスクされたイミダゾール
化合物であり)配合量がエポキシ樹脂100重量部に対
し0.05〜1.0重量部である特許請求の範囲第1項
記載の印刷配線板用プリプレグの製造方法。 3、グアニジン誘導体の配合量がエポキシ樹脂100重
量部に対し0.1〜2重量部である特許請求の範囲第1
項または第2項記載の印刷配線板用プリプレグの製造方
法。[Scope of Claims] 1. (a) An epoxy resin containing 1 to 100% by weight of a silicone-modified epoxy resin obtained by reacting a bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A, and a methoxy group-containing silicone intermediate, (b 1. A method for producing a prepreg for a printed wiring board, which comprises impregnating a base material with a varnish containing as essential components a) polyfunctional phenol, (c) a curing accelerator, and (d) a guanidine derivative, and then drying the varnish. 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the curing accelerator is an imidazole compound whose imino group is masked, and the blending amount is 0.05 to 1.0 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin. A method for manufacturing prepreg for use. 3. Claim 1, wherein the amount of the guanidine derivative is 0.1 to 2 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin.
2. A method for producing a printed wiring board prepreg according to item 1 or 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12175685A JPS61278537A (en) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Production of prepreg for printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12175685A JPS61278537A (en) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Production of prepreg for printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61278537A true JPS61278537A (en) | 1986-12-09 |
Family
ID=14819107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12175685A Pending JPS61278537A (en) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | Production of prepreg for printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61278537A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0339320A (en) * | 1989-07-05 | 1991-02-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Epoxy resin composition |
WO2000078838A1 (en) * | 1999-06-17 | 2000-12-28 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Epoxy resin composition and process for producing silane-modified epoxy resin |
JP2003055435A (en) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Electrical insulating resin composition, insulating material for electronic material and process for producing it |
-
1985
- 1985-06-05 JP JP12175685A patent/JPS61278537A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0339320A (en) * | 1989-07-05 | 1991-02-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Epoxy resin composition |
WO2000078838A1 (en) * | 1999-06-17 | 2000-12-28 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Epoxy resin composition and process for producing silane-modified epoxy resin |
US6525160B1 (en) | 1999-06-17 | 2003-02-25 | Arakawa Chemical Industries Ltd. | Epoxy resin composition and process for producing silane-modified epoxy resin |
JP2003055435A (en) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Electrical insulating resin composition, insulating material for electronic material and process for producing it |
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