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JPS6116815A - 光デイスク基板の製造方法 - Google Patents

光デイスク基板の製造方法

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Publication number
JPS6116815A
JPS6116815A JP59137250A JP13725084A JPS6116815A JP S6116815 A JPS6116815 A JP S6116815A JP 59137250 A JP59137250 A JP 59137250A JP 13725084 A JP13725084 A JP 13725084A JP S6116815 A JPS6116815 A JP S6116815A
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JP
Japan
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cured
epoxy resin
resin
coating
substrate
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JP59137250A
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English (en)
Inventor
Setsuo Suzuki
節夫 鈴木
Yuji Sakamoto
有史 坂本
Koji Morishita
森下　浩二
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク用エポキシ樹脂注型基板の製造方法
に関するものであり更に詳しくは基板の少くとも片面に
ハードコート層が付与された光ディスク用基板を１段で
製造する方法に係るものである。
〔従来技術〕
従来器ゆる光学記録媒体に用いられる基板はガラスまた
は透明な合成樹脂基板であって、合成樹脂基板の場合、
複屈折の無いという条件のために光学的に等方性である
材料が用いられて来てお鰺、ポリメチルメタアクリレー
ト、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ビニルクロラ
イドとビニルアセテートの共重合体等の射出成形基板が
提案されてきた。
然しなからこれらの中でも成形性、光学的透明性といっ
た点でポリメチルメタアクリレート（以下ｍという。）
の射出成形基板が？１とんどである。
然しながらＰＰＪｗＬの基板の場合、記録密度の向上に
伴ない媒体の高度の信頼性が要求され出して来ると以下
の欠点が大きな問題になりつつある。
１）耐熱性に劣るため、基板上に各種機能膜を蒸着する
に際して基板表面の温度が上昇し、変形が生じる。
２）熱可塑性樹脂であるためアクセス時の高速回転に際
して遠心力によるクリープを生じる場合がある。
３）吸湿性が大きいため吸湿変形が生じるとか、機能膜
の酸化を助長するといった問題が生じる。
４）射出成形で製造する為、成形歪が残り複屈折を生ず
る。
５）屈折率の調整が困難であり一つの屈折率に限定され
てしまう等である。
本願発明者らはかかる欠点を克服すべく、各種樹脂を用
いた基板について検討を行々い、エポキシ樹脂、有機多
塩基酸無水物、硬化促進剤、および変色防止剤からなる
エポキシ樹脂組成物を注型加熱成形することにより得ら
れる基板が光学記録媒体用基板として上記欠点をすべて
解消出来ることを見い出し先に出願した。
その後もこの方法につき更に性能の優れた基板を得る目
的で検討を重ねて来たが、検討の結果以下の改良点が必
要なことが判明した。即ち、（イ）表面硬度がｐｍと同
等程度であるため傷がつき易く、少くとも片面にノ・−
ドコートが必要である。
（ロ）ハードコート工程は１工程増えるととに加え均一
コートが非常に困難である。
（ハ）エポキシ樹脂であるため型表面との密着性が強く
逆に離型し難く、離型処理面の耐用回数が制約される。
等である。
〔発明の目的〕
本願発明者等はこれらエポキシ樹脂注型基板にかかわる
問題点を解決すべく鋭意検討を重ね、注型用型キャビテ
ィを形成するガラス板の内面を予め鉛筆硬度で４Ｈ以上
の硬化塗膜形成可能な紫外線硬化樹脂をコート硬化せし
めておき、このキャビティ内にエポキシ樹脂を注入、加
熱硬化せしめてエポキシ樹脂基板面に硬化コート層を転
写せしめるという方法を見い出し、問題点を一挙に解決
し本発明を成すに到ったものである。
〔発明の構成〕
本発明において用いられるエポキシ樹脂は常温で液状の
ものであればすべて適用出来液状ビスフェノールＡ系樹
脂、脂環族系エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂等の
樹脂が用いられる。
またこれらエポキシ樹脂を混合使用することは、本願発
明達成のために有効であり、特に脂環式エポキシ樹脂と
液状ビスフェノールＡ系樹脂の混合ｔ−ｊ：　、その混
合割合により得られる硬化物の屈折率を適宜調整するこ
とが出来る点で重要である。
また混合比率も重要であり混合比率と屈折率の関係は直
線関係を有しているという興味ある事実も詳細ガ研究に
よシ見い出している。光ディスク用基板としては、芳香
族系樹脂と脂環族系樹脂の比率が９：１〜１：９の範囲
が好ましく、芳香族系樹脂がこの範囲より多い場合は屈
折率が大きくなって１−まい、逆に脂環族系樹脂が多い
場合は屈折率が小さくなってしまう。また、ブロム化エ
ポキシ樹脂も適宜利用可能である。
本発明において用いられる硬化剤である酸無水物として
は液状エポキシ樹脂との相溶性が優れていればすべて適
用可能であるが、特にヘキサヒドロ無水フタル酸、テト
ラヒドロ無水フタール酸、メチルテトラヒドロ無水フタ
ール酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタール酸、
ポリアゼライン酸無水物等の脂肪族系又は脂環族系のも
のおよび無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリ
ット酸、無水ピロメリット酸等の不飽和脂肪族系又は芳
香族系のものとがあり硬化剤についても前記樹脂におけ
る場合と同様の理由から混合利用も有効であり、特に芳
香族系硬化剤と脂環族系硬化剤の組合わせが望ましい。
硬化剤では、芳香環濃度の高いもの程、高屈折率の硬化
物が得られる。
本発明に用いられる硬化促進剤としては２−エチル−４
−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−
ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類
、３級アミン類等があるがイミダゾール類が望ましい。
また変色防止剤は本発明において重要であり、光透過安
定性に寄与するものである。これら変色防止剤としては
２−６−ジターシャリ−ブチルフェノール等のヒンダー
ビフェノール類、有機スルフィド類、有機フォスファイ
ト類、高級脂肪酸塩等が単独、もしくは組合わせて使用
される。特に高温下での変色安定性を確保するため、こ
れらの併用効果は著しるしい場合がある。
また本願発明においてガラス面に硬化層を形成するため
の紫外線硬化樹脂はその硬化塗膜が鉛筆硬度で４Ｈ以上
になるものであればすべて使用可能であるがエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアク
リレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを
多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた紫外線硬化
樹脂系が好んで用いられる。
またガラス面に薄い硬化塗膜を形成する目的でこれら樹
脂系を溶剤に希釈して塗布硬化せしめる方法も適宜用い
られる方法である。これら樹脂の硬化物とガラス面との
密着強度は一般に弱いものであるが樹脂の選択によシ適
宜調節可能である。
なお、光開始剤については、透明樹脂基板の光透過特性
を留意すべきものであシ、該エポキシ樹脂基板において
は２００ｎｍ以下の波長光はほとんど透過しないため、
適当なものとして例えば２．２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル等
の比較的長波長領域での感度の良好な光開始剤またはそ
の組合せが好ましい。また、強じん性附与目的で、主成
分１００重量部にポリチオール化合物を２〜１０、好ま
しくは５重葉部程度添加することが出来る。１０重蓋部
を越える量の添加は、耐熱性、硬度、ガラス転移点等に
おいて好ましい結果が得られない。
さらに必要に応じ紫外線硬化樹脂系に安定剤、変色防止
剤等を添加しても良い。
次いで本願発明の製造方法につき述べる。
まず表面平滑性の良好な２枚のガラス板上に夫々紫外線
硬化樹脂をスピンナー法、ディップ法、コールコーター
法等の一般的な手法で塗布した後そのまままたは溶剤除
去後紫外光を照射して硬化せしめる。硬化層の厚みは５
〜１５μの膜厚が好ましく５μ以下の厚みの場合酸素禁
止効果によシ硬化不良になる危険性があり、これより１
５μ以上の場合、光学的にレーザー光の複屈折が懸念さ
れる。また該硬化層の屈折率は光学的見地から可及的に
エポキシ樹脂硬化物と近似していることが好ましい。
かくして得られた表面硬化層を有する２枚のガラス板を
処理面が内面になるように対向させ周辺部をシールして
キャビィティを形成する。
次いでキャビティ内にエポキシ樹脂組成物を注入して所
定時間加熱硬化せしめる。硬化終了後脱型を行うがこの
場合エポキシ樹脂と紫外線硬化層は強固に接着するため
ガラス界面で剥離する。従って硬化処理層は完全に基板
側に転写され、得られた基板は少くとも片面に優れたハ
ードコート層を有する基板となる。
以下に実施例を示す。
実施例１ 注型用ガラス板に下記のハードコート樹脂フェス ジペンタエリスリトールへキサアクリレート　　１００
重量部４′−イソプロピル−２−ヒトルキシ−２−メチ
ル−プロピオフェノン　　　　　　　　　　　　４重量
部イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　４００
ｉｆｌ’ｌｌトルエン　　　　　　　　　　　　　　　
　１００重量部レベリング剤　　　　　　　　　　　　
０４重量部をディッピング法で均一に塗布し、７０℃１
０分間乾燥後、８０　Ｗ　／　ｃｍの高圧水銀灯を高さ
１５ｃｍから２７秒照射し、ガラス板上に厚み５μ、ガ
ラス面とのハガレがなく、且つセロハンテープで容易に
剥離するハードコート層を形成し７た。
次に核ハードコートを形成したガラス板を２枚用い、ハ
ードコート層を対向させ、スペーサーで３周辺をシール
してキャビティとし下記のエポキシ樹脂 脂環式エポキシ （セロキサイド◆２０２１　ダイセル化工製）　　１０
０重蓋部１．５プロパンジオール　　　　　　　　　　
　　　３重量部メチルへキサヒドロフタル酸無水物　　
　　　　１２２］ｊニ−ｊｉ部安定剤　　　　　　　　
　１０重量部 １．８ジアザビシクロウンデカン　　　　　　　　　６
重針部を注入し、１００℃３時間硬化せしめた。
脱型後両面がガラス板面よジノ・−ドコート層が転写さ
れた光ディスク基板が得られた。その主な特性を第−表
に示す。
実施例２ 実施例１と同様にしてノ・−ドコート層を有するガラス
板を得、該ガラス板とノ・−ドコート層を有しないガラ
ス板を用い、キャビティを形成し、実施例１と同様にエ
ポキシ樹脂を注入し硬化させて片面のみにハードコート
層を有する光ディスク基板を得た。
該光ディスク基板の性能は、ハードコート層の面よシみ
れば実施例１と同様であった。
比較例１ ハードコート層のないガラス板を用いて、実施例と同様
なエポキシ樹脂を用い、ノ・−ドコート層のない光ディ
スク基板を得た。
この光ディスク基板の特性を第−表に示す。
比較例２ 比較例１で得られた光ディスク基板−Ｆに、実施例１の
ハードコート樹脂ワニスを直接にディッピング法で形成
させたが、ハードコート樹脂が硬化収縮をおこして剥離
が生じ、均一な密着性の良好なハードコート層は得られ
なかった。
第−表 、メ１基盤目セｐテープ剥離試験。
ヌ２注型板から光ディスク基板に切削加工した時の周辺
部の剥離、割れ等の外観。
３スチールウールで１００回ｊ１！擦した後の外観。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 二枚のガラス板により形成されるキャビティ内に脂環式
    エポキシ樹脂および／または芳香族系エポキシ樹脂、有
    機多塩基酸無水物、硬化促進剤および変色防止剤から成
    る組成物を注入し、次いで加熱硬化せしめて注型エポキ
    シ樹脂光ディスク基板を得る方法において、ガラス板の
    少くとも片面に鉛筆硬度で４Ｈ以上になる紫外線硬化樹
    脂の硬化物層をあらため形成した後注形を行ない該層を
    エポキシ樹脂硬化樹脂面に転写させ１段でハードコート
    層を有するエポキシ注型基板を得ることを特徴とする光
    ディスク基板の製造方法。
JP59137250A 1983-12-06 1984-07-04 光デイスク基板の製造方法 Pending JPS6116815A (ja)

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