JPS6082700A - ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 - Google Patents
ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置Info
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- JPS6082700A JPS6082700A JP58186883A JP18688383A JPS6082700A JP S6082700 A JPS6082700 A JP S6082700A JP 58186883 A JP58186883 A JP 58186883A JP 18688383 A JP18688383 A JP 18688383A JP S6082700 A JPS6082700 A JP S6082700A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0635—In radial cells
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技 術 分 野
金属ストリップの電気めつき波箔、とくにラジアルセル
型めっき槽を用いて、従来実用的に不可能であった程に
低いライン速度における高1に流密度めっきを可能とす
ること、に関連してこの明細占に述べる技術内容は、め
っき液の循環に供するノズル配置についての解明を基礎
として改良されたこの種のめつき装置内″を提供するも
のである。
型めっき槽を用いて、従来実用的に不可能であった程に
低いライン速度における高1に流密度めっきを可能とす
ること、に関連してこの明細占に述べる技術内容は、め
っき液の循環に供するノズル配置についての解明を基礎
として改良されたこの種のめつき装置内″を提供するも
のである。
背 景 技 術
ラジアルセル型めっき装;Fiは、大径の通電用回転ド
ラムをめっき液中にほぼ半周にわたってが漬し、金繰ス
トリップ(以下単にストリップという)を、該回転ドラ
ムの外向にやはりほぼ半周にわたり接触させ、その回転
と同期して走行させるIB」に、該ストリップに対して
半径方向の通電ギャップを隔てて設置した@極との間に
、該めっき液を介して通?比を行う電気めっき装置であ
る。
ラムをめっき液中にほぼ半周にわたってが漬し、金繰ス
トリップ(以下単にストリップという)を、該回転ドラ
ムの外向にやはりほぼ半周にわたり接触させ、その回転
と同期して走行させるIB」に、該ストリップに対して
半径方向の通電ギャップを隔てて設置した@極との間に
、該めっき液を介して通?比を行う電気めっき装置であ
る。
このめっき装置は、構成上ストリップの片面のみをめっ
きするのに好適であり、また通電ギャップすなわち通板
ストリップと陽極面との極間距離を小さくできるので、
めっき電力の無駄な消費が少くて済み、大電流による高
速めつきが可能である。
きするのに好適であり、また通電ギャップすなわち通板
ストリップと陽極面との極間距離を小さくできるので、
めっき電力の無駄な消費が少くて済み、大電流による高
速めつきが可能である。
−ffにこのfilj電気めっきにおいては、@枠とし
て不溶性電極を用いる場合と、めっきすべき金属を主成
分とする可溶性電極を用いる場合とがあるが、とくに後
者の可溶性陽極を使用する場合にはめっきすべき金属の
補給尋容易であり、また電極面での力゛ス発生が少いな
どの利点があるため、とりわけ大電流を投入する厚めつ
きに適した方式とされている。
て不溶性電極を用いる場合と、めっきすべき金属を主成
分とする可溶性電極を用いる場合とがあるが、とくに後
者の可溶性陽極を使用する場合にはめっきすべき金属の
補給尋容易であり、また電極面での力゛ス発生が少いな
どの利点があるため、とりわけ大電流を投入する厚めつ
きに適した方式とされている。
従来この方式では、第1図(A (b)の模式図に示す
ようにストリップlに対しめつき液を、めっき槽。
ようにストリップlに対しめつき液を、めっき槽。
2の底部の入口2′から、回転ドラム3へ向けて噴出さ
せ、回転ドラム3の外周に接触してその回転に随伴走行
するス) IJツブ1に対し、回転ドラム8の上半周に
面しその前後にて対をなす弓形の・陽極5との間隙に向
は下方から供給する。
せ、回転ドラム3の外周に接触してその回転に随伴走行
するス) IJツブ1に対し、回転ドラム8の上半周に
面しその前後にて対をなす弓形の・陽極5との間隙に向
は下方から供給する。
従って、めっき液の流れる方向は、ストリップ1の進入
側(以下ダウンパスという)では対向流となるが、スト
リップlの退出側(以下アップパスという)ではス)
IJツブ1の進行と並行流をなすことになる。
側(以下ダウンパスという)では対向流となるが、スト
リップlの退出側(以下アップパスという)ではス)
IJツブ1の進行と並行流をなすことになる。
さて一般に電気めっきにおいては、めっき電流密度が大
きい程、所要のめっきを高速度或いは小型の設備で得る
ことができるので好ましいとされている。しかし電流密
度が限界を昭えて過大な場合、ストリップ1の表面に樹
枝状の■L析を生じ、特にストリップ1の縁部で、゛電
流の過度集中によるか、Cけ又は黒ぶちと呼はれる欠陥
を発生する。
きい程、所要のめっきを高速度或いは小型の設備で得る
ことができるので好ましいとされている。しかし電流密
度が限界を昭えて過大な場合、ストリップ1の表面に樹
枝状の■L析を生じ、特にストリップ1の縁部で、゛電
流の過度集中によるか、Cけ又は黒ぶちと呼はれる欠陥
を発生する。
このような限界電流W;度は、めっき条件(液絹戊温度
など)によっても変化するが、ストリップlとめつき液
の相対速度がとくに大きな影幹を及ぼず。
など)によっても変化するが、ストリップlとめつき液
の相対速度がとくに大きな影幹を及ぼず。
従って第1図に示した従来のラジアルセル型めっき槽に
おいては、とくに低いライン速度となった操業領域で上
記並行流となるアップパスにて1・相対速度が低くなる
ため限界電流密度が低く、焼けを起し易いところに問題
があった。その−例を第2図に示す如く、ダウンパスで
は良好なめっきを得る条件の下でも、アップパスにおい
て焼けを生じ、そのために全供給電流を減少させ、又ラ
イン速度を下げて不利な操業する必要が停いられたので
ある。
おいては、とくに低いライン速度となった操業領域で上
記並行流となるアップパスにて1・相対速度が低くなる
ため限界電流密度が低く、焼けを起し易いところに問題
があった。その−例を第2図に示す如く、ダウンパスで
は良好なめっきを得る条件の下でも、アップパスにおい
て焼けを生じ、そのために全供給電流を減少させ、又ラ
イン速度を下げて不利な操業する必要が停いられたので
ある。
加えて近年来、耐食性に対する要求がより厳しくなると
ともに従来の単一金属めっきに代って、各種の合金めっ
きの実用化が推進されつつあり、たとえばZn −Ni
、 Zn −Feなどの2元系のみならず、Zn −N
i −Go 、 Zn −Ni −Orなどの多元糸め
っきも検討されている。
ともに従来の単一金属めっきに代って、各種の合金めっ
きの実用化が推進されつつあり、たとえばZn −Ni
、 Zn −Feなどの2元系のみならず、Zn −N
i −Go 、 Zn −Ni −Orなどの多元糸め
っきも検討されている。
これら合金めつきに際しては、合金成分の電析が微妙な
バランスに支配され、電流密度、液流速の変動が合金成
分比に影響するところが大きく、例えば従来のラジアル
セルでZn −Feめつきを行なった場合の一例を第3
図に示したように、めっき厚み方向にて、20%のかな
りの変動を生じることが認められている。またこのとき
アップパスに・おけるストリップ表面の流速ばらつきに
起因すると思われる、不安定な黒すじ横様がときに発生
し、外観を著しく損うことも経験された。
バランスに支配され、電流密度、液流速の変動が合金成
分比に影響するところが大きく、例えば従来のラジアル
セルでZn −Feめつきを行なった場合の一例を第3
図に示したように、めっき厚み方向にて、20%のかな
りの変動を生じることが認められている。またこのとき
アップパスに・おけるストリップ表面の流速ばらつきに
起因すると思われる、不安定な黒すじ横様がときに発生
し、外観を著しく損うことも経験された。
発 明 の 目 的
前述した従来のラジアルセルにおけるめっき欠陥を改善
して、低いライン速度の際であっても良好なめっきを的
確に得ることができる実用可能なラジアルセル型めっき
槽におけるカウンターフロー装置を提供することがこの
発明の目的である。
して、低いライン速度の際であっても良好なめっきを的
確に得ることができる実用可能なラジアルセル型めっき
槽におけるカウンターフロー装置を提供することがこの
発明の目的である。
発 明 の 構 成
上記の目的は、次の事項を骨子とする仕組みにより確実
に成就される。
に成就される。
ラジアルセル型めっき槽において、該めっき槽ノ底部に
てダウンパス側に開口部を有するボトムノズルを、また
アップパス側液面近傍にて先端を浸漬した開口部を有す
るトップノズルを、それぞれ備えることからなるカウン
ターフロー装置。
てダウンパス側に開口部を有するボトムノズルを、また
アップパス側液面近傍にて先端を浸漬した開口部を有す
るトップノズルを、それぞれ備えることからなるカウン
ターフロー装置。
この場合においてボトムノズルおよびトップノ・ズルが
、それらの開口部より噴出するめつき液の砿速度を、極
間において0゜2〜2 m/sとする能力をもち、また
ボトムノズルおよびトップノズルがそれらの開口部にお
けるめっき液噴出方向につき回転ドラムの接線に対し1
0度以内の配置であることがとくに好適である。
、それらの開口部より噴出するめつき液の砿速度を、極
間において0゜2〜2 m/sとする能力をもち、また
ボトムノズルおよびトップノズルがそれらの開口部にお
けるめっき液噴出方向につき回転ドラムの接線に対し1
0度以内の配置であることがとくに好適である。
またトップノズル先端部の浸漬深さは静止液面に対しマ
イナス1511ff以上が必要である。
イナス1511ff以上が必要である。
この発明の上記構成にて、回転ドラムとの接触下にその
回転に随伴してめっき液中に侵入しかつ液中から6を脱
するストリップのダウンバスについてはもちろん、アッ
プバスについても弓形電極との通電すき間における対向
流のめっき液循環が強制され得るため、前述した問題点
の悉くか解決され7するわけである。
回転に随伴してめっき液中に侵入しかつ液中から6を脱
するストリップのダウンバスについてはもちろん、アッ
プバスについても弓形電極との通電すき間における対向
流のめっき液循環が強制され得るため、前述した問題点
の悉くか解決され7するわけである。
以下この発明を図面により具体的に説明する。
第4図および第5図にボトムノズル6、トップノズル7
の一例を示し、第6図(a)、Φ) 、 (C)には、
これによりめっき液の循環系統を改良したカウンターフ
ロー装置を備えるラジアルセル型めっキ槽・を図解した
。
の一例を示し、第6図(a)、Φ) 、 (C)には、
これによりめっき液の循環系統を改良したカウンターフ
ロー装置を備えるラジアルセル型めっキ槽・を図解した
。
各ノズル6および7は、何れもストリップ1の通板の向
きと向い会って開口するスリットを先端l にもつダク
ト6a、7aを、ブレナム筒又はヘッダ6b、7bと連
通させ、ヘッダ6b、7bはそれぞれめっき液循環用ポ
ンプと接続する。図中6c、7cはダク)6a17&の
補強リブであり、また第5図のトップノズル7は、その
着脱用の継手7dをもつ例で示した。
きと向い会って開口するスリットを先端l にもつダク
ト6a、7aを、ブレナム筒又はヘッダ6b、7bと連
通させ、ヘッダ6b、7bはそれぞれめっき液循環用ポ
ンプと接続する。図中6c、7cはダク)6a17&の
補強リブであり、また第5図のトップノズル7は、その
着脱用の継手7dをもつ例で示した。
第6図において8.9はめつき液の循環用配管10.1
1はそのスリーブ継手であり、同図[有]) 、 (C
)に示した゛矢印α、βの向きにめっき液の循環流を圧
送してヘッダ6b、7b内に所定圧力を保持させること
により、ボトムノズル6およびトップノズル7の先端開
口から、ストリップlのダウンバスおよびアップバスの
双方に対しストリップ1の矢印rに示した通板方向と対
回流になるめっき液の流動を生じさせるものとし、一方
めっき槽2内の液レベルは、オーバーフロー堰12にて
一定に保持し、その溢流を楯壌用ポンプに導く。
1はそのスリーブ継手であり、同図[有]) 、 (C
)に示した゛矢印α、βの向きにめっき液の循環流を圧
送してヘッダ6b、7b内に所定圧力を保持させること
により、ボトムノズル6およびトップノズル7の先端開
口から、ストリップlのダウンバスおよびアップバスの
双方に対しストリップ1の矢印rに示した通板方向と対
回流になるめっき液の流動を生じさせるものとし、一方
めっき槽2内の液レベルは、オーバーフロー堰12にて
一定に保持し、その溢流を楯壌用ポンプに導く。
次に第7図(a) 、 (b)にボトムノズル6の変形
例を示し、この例では、アップパス側を通り抜けためっ
き液のボトムノズルν6からの噴流に帯同混入を防ぐ手
だてを講じて、トップノズル7におけると同様に、リフ
レッシュしためつき液を1ダウンパスに循環供給する。
例を示し、この例では、アップパス側を通り抜けためっ
き液のボトムノズルν6からの噴流に帯同混入を防ぐ手
だてを講じて、トップノズル7におけると同様に、リフ
レッシュしためつき液を1ダウンパスに循環供給する。
すなわちボトムノズ/I/6のダクト6aおよびヘッダ
6bをbiI後に仕切り壁6dにより2分して後半分に
アップバスに沿い、開口する吸込み口6eを開口させて
、帰戻用配管8′を介して排出させる。図中13は、ダ
ウンバスとアップバスの中間でストリップ1に対し、近
接配置したセパレータで、柔軟なたとえばブラシ又はス
ポンジ状とする。
6bをbiI後に仕切り壁6dにより2分して後半分に
アップバスに沿い、開口する吸込み口6eを開口させて
、帰戻用配管8′を介して排出させる。図中13は、ダ
ウンバスとアップバスの中間でストリップ1に対し、近
接配置したセパレータで、柔軟なたとえばブラシ又はス
ポンジ状とする。
この型式のボトムノズル6は、トップノズル7と同様な
めっき液流動をもたらす作用に加えて、弓形の陽極5に
たとえば不溶性アノードを用いたとき多量に発生すると
くにアップバス側におけるカスの除去に便宜である。
めっき液流動をもたらす作用に加えて、弓形の陽極5に
たとえば不溶性アノードを用いたとき多量に発生すると
くにアップバス側におけるカスの除去に便宜である。
第7図について説明をしたボトムノズA/6を用いたカ
ウンタフロー装置を有するラジアルセル型・めっき槽に
おける操業要領を第8図に示す。
ウンタフロー装置を有するラジアルセル型・めっき槽に
おける操業要領を第8図に示す。
ここに代表的な亜鉛めっき浴組成)
Zn O,i!、 200 g/l 、 KO,I!
300 g/lで浴温50℃の操秦条件の下において、
ボトムノズル6およびトップノズル7から流速0−1
m/s 、 0.2 n’s 。
300 g/lで浴温50℃の操秦条件の下において、
ボトムノズル6およびトップノズル7から流速0−1
m/s 、 0.2 n’s 。
1111/Sおよび2 m/sでめっき液を供給した際
における限界電流密度(A/dm2)に及はすストリッ
プ1のライン速度の影響について第9図に示し、パラメ
ーターにとっためっき液流速をあられす直線の上方領域
では、めつ誓σ11上に炉、けを生じることを示す。
における限界電流密度(A/dm2)に及はすストリッ
プ1のライン速度の影響について第9図に示し、パラメ
ーターにとっためっき液流速をあられす直線の上方領域
では、めつ誓σ11上に炉、けを生じることを示す。
めっき液の流速はo、2m/sより低いとき゛混流密度
を高くして高能率のめつき1に柴を行うことの要請をη
)′dだし得す、一方めっき液の流速がz m/sを超
えるような循環hVを?qるためには、あまりにも大容
散のポンプを必要とし設備コスト的に不利であるので、
0.2〜2 m/sの流速にすることが好ましい。
を高くして高能率のめつき1に柴を行うことの要請をη
)′dだし得す、一方めっき液の流速がz m/sを超
えるような循環hVを?qるためには、あまりにも大容
散のポンプを必要とし設備コスト的に不利であるので、
0.2〜2 m/sの流速にすることが好ましい。
つぎにHe含有率20%目標のZn 、−Fe!合金め
つきを、めっき付着量20 g/m”にて次の条件で・
行った。
つきを、めっき付着量20 g/m”にて次の条件で・
行った。
めっき条件
浴組成 Zn012200 g/l KCl800 g
/lFeCl21−4H20100g/l 浴 温 50°C 電流密度 10 0 A/dz2 R)られた合金層のFe含有率をめっき厚み方向の差に
ついて工MMAにより測定した結果、第1O図のように
ボトムノズル6およびトップノズル7の開口部における
めっき液の回転ドラム8の接靭に対する、噴出角度θが
±10°を超えるとめつき層表層から地鉄Qこ至る合金
めっき層中B’e含有率が20係より大幅に低減するこ
ととなり、均一な合金組成が得られず、これに反し±l
θ°以内の噴出角度では、はぼ均一なめつき合金組成が
得られた。
/lFeCl21−4H20100g/l 浴 温 50°C 電流密度 10 0 A/dz2 R)られた合金層のFe含有率をめっき厚み方向の差に
ついて工MMAにより測定した結果、第1O図のように
ボトムノズル6およびトップノズル7の開口部における
めっき液の回転ドラム8の接靭に対する、噴出角度θが
±10°を超えるとめつき層表層から地鉄Qこ至る合金
めっき層中B’e含有率が20係より大幅に低減するこ
ととなり、均一な合金組成が得られず、これに反し±l
θ°以内の噴出角度では、はぼ均一なめつき合金組成が
得られた。
以上側れの場合においても可溶性電極を用いるとき、複
数の弓形アノードを用意して、めつき槽内に回転ドラム
の母線に対しわずかに傾斜してボトムノズル6を挾んで
前後に対設される浸漬ブスバー上に乗せ、消耗に応じて
横送りすることによ・す、極間距離を補正維持できるよ
うにする慣例に従う場合のほか、いわゆるバスケットア
ノード方式としてもよく、この場合はバスケットを固定
できるので極間の補正の必要がなく、このバスケットを
ボトムノズルおよびトップノズルの取付は手段に兼用さ
せてもよい。
数の弓形アノードを用意して、めつき槽内に回転ドラム
の母線に対しわずかに傾斜してボトムノズル6を挾んで
前後に対設される浸漬ブスバー上に乗せ、消耗に応じて
横送りすることによ・す、極間距離を補正維持できるよ
うにする慣例に従う場合のほか、いわゆるバスケットア
ノード方式としてもよく、この場合はバスケットを固定
できるので極間の補正の必要がなく、このバスケットを
ボトムノズルおよびトップノズルの取付は手段に兼用さ
せてもよい。
ところで上記のラジアルセル型め?き槽を用いるめっき
ラインでは、その2基を1単位とする2単位で操柴され
ることが多く、その111>IJを第11図(a) 、
(b)に示すように、デフレフクロール4′ 。
ラインでは、その2基を1単位とする2単位で操柴され
ることが多く、その111>IJを第11図(a) 、
(b)に示すように、デフレフクロール4′ 。
4′および4′の助けをかりて、同図(a)の直行通板
Gこよる片面めっきと、同図(b)による迂回通板をも
ってする両(nIめつきとを選択することが必要となる
。この際後段側の各めつき槽2内における通板方向が反
転することになるので、ボトムノズル6′の噴射方向を
、またトップノズル7′については第11図の)の7′
の位置に配置を、それぞれ変更することが必要となり、
その都度脱着作業を行うことは煩しい。
Gこよる片面めっきと、同図(b)による迂回通板をも
ってする両(nIめつきとを選択することが必要となる
。この際後段側の各めつき槽2内における通板方向が反
転することになるので、ボトムノズル6′の噴射方向を
、またトップノズル7′については第11図の)の7′
の位置に配置を、それぞれ変更することが必要となり、
その都度脱着作業を行うことは煩しい。
そこでまずトップノズル7′については、第・12図に
後段側各めつき検量における事例をもって図解したよう
に、中間のデフレタロール4の軸受金14の下面にハン
ガーブラケット15を取付け、このハンガーブラケット
15のウェブにたとえば長@16のようなガイドを設け
、トップノズル7′をそのヘッダ7b′とともに支持す
るサポート17を上記ガイドに分って進退可動に取付け
1不使用時に仮想線のように退避させるようにすると便
利である。
後段側各めつき検量における事例をもって図解したよう
に、中間のデフレタロール4の軸受金14の下面にハン
ガーブラケット15を取付け、このハンガーブラケット
15のウェブにたとえば長@16のようなガイドを設け
、トップノズル7′をそのヘッダ7b′とともに支持す
るサポート17を上記ガイドに分って進退可動に取付け
1不使用時に仮想線のように退避させるようにすると便
利である。
またホトみノズル6′については、その1例を第13図
(〜、(b)に示すように、そのヘッダ6b′にダウン
バスおよびトップバスに面する両日ノズル開口A、Bを
用意し、それらの中間に吊下げた回転自在なフラップ1
8により、その仮想線に示した位ff’2との間の選択
切換えを行うことにより容易に対拠できる。なお図中1
9はフラップ18の支軸、2(Nj切換えレバーである
。
(〜、(b)に示すように、そのヘッダ6b′にダウン
バスおよびトップバスに面する両日ノズル開口A、Bを
用意し、それらの中間に吊下げた回転自在なフラップ1
8により、その仮想線に示した位ff’2との間の選択
切換えを行うことにより容易に対拠できる。なお図中1
9はフラップ18の支軸、2(Nj切換えレバーである
。
発 明 の 効 果
以上のとおり、この発明は、ボトムノズルおよ、びトッ
プノズルの適正な配置により、ラジアルセル型めっき槽
においてストリップと電極との間の極間すき間の全長に
わたって一様な対向流を発生させ、限界電流密度の大巾
fifな同上はもちろん、合金めっきを行うとき均質め
っきの突堤にも有利である。
プノズルの適正な配置により、ラジアルセル型めっき槽
においてストリップと電極との間の極間すき間の全長に
わたって一様な対向流を発生させ、限界電流密度の大巾
fifな同上はもちろん、合金めっきを行うとき均質め
っきの突堤にも有利である。
第1図(a) 、 (b)は、ラジアルセル型めっき装
置の従来例を示す中央断面図と、そのA −A II−
+面図、第2図は限界電流密度に及ぼすライン速度の影
特についてのダウンバスとアップバスの比較グラフ、 第3図は、合金めっき層の厚み方向におけるFe含有率
の変動を示す分布図であり、 第4図は、この発明に従うボトムノズルの配置図、 第5図は同じくトップノズルの配置i:I図、第6図(
a) 、 <b) 、 (0)はラジアルセル型めっき
槽の通板方向における断面図と幅方向中央断面図15よ
び同図(a)のA−A断面図、 第7図(a) 、 (b)はボトムノズルの変形例を示
す要1ηS 1iJi而図と、ノズルの前面を含む別な
断面図であり、 〜 第8図は第7図のボトムノズルを用いた場合のめっき液
循環系統図、 第9図は極間におけるめっき液流速をパラメータとして
限界11を流密度に及ばずライン速度の影響を示す比較
グラフ、 110図はノズルのめっき液噴出角度θが合金めっきの
(47さ方向におけるFe含仔率分布に及はす影9A+
を示す比較グラフであり、 第11図(a)、(b)は片面めっきと、両面めっきの
両挾・業における通板切替要領の説明図、第12図は後
段メッキ槽におけるトップノズルの待避要領を示す要部
の((11面図また第13図(a)。 (1))は噴射方向可変としたボトムノズルの中央断面
図とA−A断面図である。 2・・・めっき@ 6・・・ボトムノズル・7・・・ト
ップノズル。 第1図 (a) 第2図 0 50 100 ライン速度(tnp(7)) 第3図 φ層□414更20佑2−一磨鉄 第6 (a) 図 (b) (C) 第9図 ライン速度(fnP7n) 第1O図
置の従来例を示す中央断面図と、そのA −A II−
+面図、第2図は限界電流密度に及ぼすライン速度の影
特についてのダウンバスとアップバスの比較グラフ、 第3図は、合金めっき層の厚み方向におけるFe含有率
の変動を示す分布図であり、 第4図は、この発明に従うボトムノズルの配置図、 第5図は同じくトップノズルの配置i:I図、第6図(
a) 、 <b) 、 (0)はラジアルセル型めっき
槽の通板方向における断面図と幅方向中央断面図15よ
び同図(a)のA−A断面図、 第7図(a) 、 (b)はボトムノズルの変形例を示
す要1ηS 1iJi而図と、ノズルの前面を含む別な
断面図であり、 〜 第8図は第7図のボトムノズルを用いた場合のめっき液
循環系統図、 第9図は極間におけるめっき液流速をパラメータとして
限界11を流密度に及ばずライン速度の影響を示す比較
グラフ、 110図はノズルのめっき液噴出角度θが合金めっきの
(47さ方向におけるFe含仔率分布に及はす影9A+
を示す比較グラフであり、 第11図(a)、(b)は片面めっきと、両面めっきの
両挾・業における通板切替要領の説明図、第12図は後
段メッキ槽におけるトップノズルの待避要領を示す要部
の((11面図また第13図(a)。 (1))は噴射方向可変としたボトムノズルの中央断面
図とA−A断面図である。 2・・・めっき@ 6・・・ボトムノズル・7・・・ト
ップノズル。 第1図 (a) 第2図 0 50 100 ライン速度(tnp(7)) 第3図 φ層□414更20佑2−一磨鉄 第6 (a) 図 (b) (C) 第9図 ライン速度(fnP7n) 第1O図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L ラジアルセル型めっき槽において、該めっき槽の底
部にてダウンパス側に開口部を有するボトムノズルを、
またアツブノぐス側液面近傍にて失弧1を浸漬した開口
部を有するトップノズルを、それぞれ備えることを特徴
とするカウンターフロー装置(i ’。 区 ボトムノズルおよびトップノズルが、それらの開口
部より噴出するめつき液の線速度を、極間において0.
2〜2111/Sとする能力をもつものである1記載の
装に、t、 。 & ボトムノズルおよびトップノズルがそれらの開口部
におけるめっき液噴出方向につき11+’+1転ドラム
の接線に対し10度以内の傾斜配髄である・1、又は2
記載の装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58186883A JPS6082700A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 |
US06/627,394 US4500400A (en) | 1983-10-07 | 1984-07-03 | Counter flow device for electroplating apparatus |
DE8484304596T DE3462613D1 (en) | 1983-10-07 | 1984-07-05 | Counter flow device for electroplating apparatus |
EP84304596A EP0140474B1 (en) | 1983-10-07 | 1984-07-05 | Counter flow device for electroplating apparatus |
ES534120A ES8505420A1 (es) | 1983-10-07 | 1984-07-06 | Dispositivo de circulacion a contracorriente para un aparato de galvanoplastia |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58186883A JPS6082700A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6082700A true JPS6082700A (ja) | 1985-05-10 |
JPS6256960B2 JPS6256960B2 (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=16196346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58186883A Granted JPS6082700A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4500400A (ja) |
EP (1) | EP0140474B1 (ja) |
JP (1) | JPS6082700A (ja) |
DE (1) | DE3462613D1 (ja) |
ES (1) | ES8505420A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6398371U (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-25 | ||
KR100733370B1 (ko) * | 2001-07-12 | 2007-06-28 | 주식회사 포스코 | 전기도금시 스트립간 도금편차 발생 방지 장치 |
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IT1182818B (it) * | 1985-08-12 | 1987-10-05 | Centro Speriment Metallurg | Dispositivo a cella radiale per elettrodeposizione |
US4661213A (en) * | 1986-02-13 | 1987-04-28 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
FR2607153B1 (fr) * | 1986-05-05 | 1989-04-07 | Lorraine Laminage | Injecteur d'electrolyte a contre-courant pour une installation de traitement continu de surface |
LU86520A1 (fr) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | Delloye Matthieu | Procede d'electrozingage en continu d'une tole d'acier par voie electrolytique |
JPH08993B2 (ja) * | 1987-03-17 | 1996-01-10 | 川崎製鉄株式会社 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
NL8802353A (nl) * | 1988-09-23 | 1990-04-17 | Hoogovens Groep Bv | Werkwijze voor het eenzijdig elektrolytisch bekleden van een bewegende metaalband. |
JP2549557B2 (ja) * | 1989-03-14 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 電解処理装置 |
FR2653787B1 (fr) * | 1989-10-27 | 1992-02-14 | Lorraine Laminage | Installation et procede de revetement electrolytique d'une bande metallique. |
JPH0814037B2 (ja) * | 1990-09-11 | 1996-02-14 | 大正工業株式会社 | 電解処理装置 |
US5069762A (en) * | 1991-01-18 | 1991-12-03 | Usx Corporation | Appartaus for improved current transfer in radial cell electroplating |
FR2771757B1 (fr) * | 1997-12-03 | 1999-12-31 | Lorraine Laminage | Installation d'electrodeposition, electrode et organe d'appui pour cette installation et procede d'electrodeposition |
IT1303624B1 (it) * | 1998-07-22 | 2000-11-15 | Techint Spa | Dispositivo per elettrodeposizione a cella circonferenziale a flussidifferenziati. |
US8444841B2 (en) * | 2006-08-07 | 2013-05-21 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Partial plating method, a laser plating device, and a plated material |
CN108660501B (zh) * | 2017-03-31 | 2024-02-27 | 可能可特科技(深圳)有限公司 | 一种基于fpc电镀的电镀槽 |
CN112301394B (zh) * | 2020-10-30 | 2022-05-24 | 西北工业大学 | 一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔 |
DE102023103003A1 (de) | 2023-02-08 | 2024-08-08 | Westfälische Hochschule Gelsenkirchen Bocholt Recklinghausen, Körperschaft des öffentlichen Rechts | Vorrichtung für eine Beschichtungsapparatur zur Abscheidung von funktionellem Material |
Citations (2)
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Family Cites Families (8)
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US4064019A (en) * | 1974-09-03 | 1977-12-20 | Dixie Plating, Inc. | Continuous contact plater method |
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DE3108358C2 (de) * | 1981-03-05 | 1985-08-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von zu elektrisch leitenden Bändern, Streifen oder dgl. zusammengefaßten Teilen im Durchlaufverfahren |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP58186883A patent/JPS6082700A/ja active Granted
-
1984
- 1984-07-03 US US06/627,394 patent/US4500400A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-07-05 EP EP84304596A patent/EP0140474B1/en not_active Expired
- 1984-07-05 DE DE8484304596T patent/DE3462613D1/de not_active Expired
- 1984-07-06 ES ES534120A patent/ES8505420A1/es not_active Expired
Patent Citations (2)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0140474B1 (en) | 1987-03-11 |
US4500400A (en) | 1985-02-19 |
JPS6256960B2 (ja) | 1987-11-27 |
ES534120A0 (es) | 1985-05-16 |
EP0140474A1 (en) | 1985-05-08 |
ES8505420A1 (es) | 1985-05-16 |
DE3462613D1 (en) | 1987-04-16 |
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